技術特征：

1.一種陰影校正方法，其特征在于，包括：

2.根據權利要求1所述的陰影校正方法，其特征在于，第一多項式模型與第二多項式模型內，僅設置次數為偶數的函數項。

3.根據權利要求1所述的陰影校正方法，其特征在于，校正系數模型為：

4.根據權利要求1所述的陰影校正方法，其特征在于，校正系數模型的標定過程包括：

5.根據權利要求1所述的陰影校正方法，其特征在于，在擬合得到校正系數模型內的剩余參數的過程中，損失函數為非線性優(yōu)化算法。

6.根據權利要求1所述的陰影校正方法，其特征在于，若已標定校正系數模型的成像模組內鏡頭光軸和/或像距發(fā)生改變，則所述陰影校正方法還包括：

7.根據權利要求6所述的陰影校正方法，其特征在于，所述坐標轉換模型包括：

8.一種陰影校正系統(tǒng)，其特征在于，包括：

9.一種電子設備，其特征在于，包括處理器、通信接口、存儲器和通信總線，其中，處理器，通信接口，存儲器通過通信總線完成相互間的通信；

10.一種計算機可讀存儲介質，其特征在于，計算機可讀存儲介質內存儲有計算機程序，計算機程序被處理器執(zhí)行時實現權利要求1-7任一項所述的陰影校正方法。

技術總結
本申請公開了一種陰影校正方法、系統(tǒng)、電子設備和存儲介質，涉及圖像處理領域。該方法包括：獲取待校正圖像；基于預先標定的校正系數模型，計算待校正圖像中每一像素的校正系數；校正系數模型由基于像素水平方向上坐標的第一多項式模型與基于像素垂直方向上坐標的第二多項式模型相乘得到；其中，第一多項式模型的自變量為像素與光心點在水平方向的坐標差值；第二多項式模型的自變量為像素與光心點在垂直方向的坐標差值；光心點表示鏡頭光軸對應的像素點；基于校正系數，校正像素的像素值，得到校正后的圖像?；谏鲜鎏幚恚行嵘绥R頭陰影校正的效果。同時，利用多項式模型構成的校正系數模型所需存儲空間較小，可以適用于硬件端。

技術研發(fā)人員：張光宇,楊晨飛,邵云峰,曹桂平,董寧
受保護的技術使用者：合肥埃科光電科技股份有限公司
技術研發(fā)日：
技術公布日：2025/1/6