Ogs觸摸屏及其制作方法、顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示領(lǐng)域，尤其涉及一種OGS觸摸屏及其制作方法、顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]由于一體式觸控(OneGlass Solut1n，0GS)觸摸屏具有輕、薄、透光性好等特點，OGS技術(shù)漸漸成為觸控產(chǎn)業(yè)的主導技術(shù)方向。
[0003]目前，一體化觸控觸摸屏中的搭橋結(jié)構(gòu)主要分為ITO(氧化銦錫)橋和金屬橋兩種方式，其中，由于采用金屬橋的產(chǎn)品相比采用ITO橋的產(chǎn)品在制作時可以節(jié)省一道Mask(掩膜)工藝，因此能夠有效降低制作成本，但是對于采用金屬橋的產(chǎn)品，由于金屬本身的光澤度較高，使得其中的金屬橋極易可見，嚴重影響產(chǎn)品外觀體驗效果。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004](一)要解決的技術(shù)問題
[0005]本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是:如何降低OGS觸摸屏中金屬橋的可見性。
[0006](二)技術(shù)方案
[0007]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明的技術(shù)方案提供了一種OGS觸摸屏，包括襯底基板以及設(shè)置在所述襯底基板上的金屬橋，所述襯底基板朝向所述金屬橋的表面在對應所述金屬橋的區(qū)域為凹凸不平狀。
[0008]優(yōu)選地，還包括遮光層、透明電極層、第一覆蓋層和第二覆蓋層，所述透明電極層、所述第一覆蓋層、所述金屬橋、所述第二覆蓋層依次設(shè)置在所述襯底基板上。
[0009]優(yōu)選地，還包括遮光層、覆蓋層和透明電極層，所述金屬橋、所述覆蓋層、所述透明電極層依次設(shè)置在所述襯底基板上。
[0010]優(yōu)選地，所述襯底基板為玻璃基板。
[0011]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明還提供了一種顯示裝置，包括上述的OGS觸摸屏。
[0012]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明還提供了一種OGS觸摸屏的制作方法，包括:
[0013]在襯底基板的上表面形成凹凸不平狀的區(qū)域；
[0014]在所述凹凸不平狀的區(qū)域形成金屬橋。
[0015]優(yōu)選地，所述襯底基板為玻璃基板，采用酸腐蝕工藝在所述襯底基板的上表面形成凹凸不平狀的區(qū)域。
[0016]優(yōu)選地，采用酸腐蝕工藝在所述襯底基板的上表面形成凹凸不平狀的區(qū)域之前還包括:在所述襯底基板的下表面上貼附抗酸膜。
[0017]優(yōu)選地，還包括在所述襯底基板上形成遮光層、透明電極層、第一覆蓋層和第二覆蓋層，所述透明電極層、所述第一覆蓋層、所述金屬橋、所述第二覆蓋層依次設(shè)置在所述襯底基板上。
[0018]優(yōu)選地，還包括在所述襯底基板上形成遮光層、覆蓋層和透明電極層，所述金屬橋、所述覆蓋層、所述透明電極層依次設(shè)置在所述襯底基板上。
[0019](三)有益效果
[0020]本發(fā)明提供的OGS觸摸屏，通過在對應金屬橋的位置處將襯底基板的表面形成凹凸不平狀，使得從襯底基板一側(cè)入射的光能夠在金屬橋的位置發(fā)生漫反射，進而提高金屬橋的消影效果，降低金屬橋的可見性。
【附圖說明】
[0021 ]圖1是本發(fā)明實施方式提供的一種OGS觸摸屏的示意圖；
[0022]圖2是本發(fā)明實施方式提供的另一種OGS觸摸屏的示意圖；
[0023]圖3是本發(fā)明實施方式提供的在襯底基板的表面形成凹凸不平狀的區(qū)域的示意圖。
【具體實施方式】
[0024]下面結(jié)合附圖和實施例，對本發(fā)明的【具體實施方式】作進一步詳細描述。以下實施例用于說明本發(fā)明，但不用來限制本發(fā)明的范圍。
[0025]本發(fā)明實施方式提供了一種OGS觸摸屏，包括襯底基板以及設(shè)置在所述襯底基板上的金屬橋，其中，所述襯底基板朝向所述金屬橋的表面在對應所述金屬橋的區(qū)域為凹凸不平狀。
[0026]本發(fā)明實施方式提供的OGS觸摸屏，通過在對應金屬橋的位置處將襯底基板的表面形成凹凸不平狀，使得從襯底基板一側(cè)入射的光能夠在金屬橋的位置發(fā)生漫反射，進而提高金屬橋的消影效果，降低金屬橋的可見性。
[0027]例如，上述的襯底基板可以為玻璃基板，通過采用酸腐蝕工藝可以將該襯底基板的表面形成凹凸不平狀。
[0028]參見圖1，圖1是本發(fā)明實施方式提供的一種OGS觸摸屏的示意圖，該OGS觸摸屏包括襯底基板10，襯底基板10的表面上設(shè)置有遮光層(BM)ll、第一覆蓋層(0C層)13、金屬橋14和第二覆蓋層(0C層)15以及用于形成觸摸電容的透明電極層12，其中，透明電極層12、第一覆蓋層13、金屬橋14、第二覆蓋層15依次設(shè)置在襯底基板10上，其中，襯底基板10朝向金屬橋14的表面在對應金屬橋14的區(qū)域為凹凸不平狀；
[0029]在本實施方式中，通過在對應金屬橋14的位置處將襯底基板10的表面設(shè)為凹凸不平狀，使得從襯底基板10—側(cè)入射的光能夠在金屬橋14的位置發(fā)生漫反射，從而有效降低金屬橋表面光澤的可見性，此外，還可以有效增大透明電極層12、第一覆蓋層13與襯底基板1的接觸面積，提尚在襯底基板上的附著力；
[0030]優(yōu)選地，為降低制作工藝難度，可以將襯底基板朝向金屬層的表面全部設(shè)為凹凸不平狀；
[0031]其中，在本實施方式中，遮光層11、第一覆蓋層13、金屬橋14和第二覆蓋層15(0C層)以及透明電極層12的具體形狀圖案可以根據(jù)具體情況進行設(shè)置，本發(fā)明不對其具體形狀圖案作限定。
[0032]參見圖2，圖2是本發(fā)明實施方式提供的另一種OGS觸摸屏的示意圖，該OGS觸摸屏包括襯底基板20，襯底基板20的表面上設(shè)置有遮光層(BM層)21、金屬橋22、覆蓋層(0C層)23和用于形成觸摸電容的透明電極層24，其中，金屬橋22、覆蓋層23、透明電極層24依次設(shè)置在襯底基板10上，襯底基板20朝向金屬橋22的表面在對應金屬橋22的區(qū)域為凹凸不平狀；
[0033]在本實施方式中，通過在對應金屬橋22的位置處將襯底基板20的表面設(shè)為凹凸不平狀，使得從襯底基板20—側(cè)入射的光能夠在金屬橋22的位置發(fā)生漫反射，從而有效降低金屬橋表面光澤的可見性，此外，還可以有效增大金