)或刮刀涂布(blade coating)等方式。當然，第一遮蔽結(jié)構(gòu)3亦不限定于油墨材料，第一遮蔽結(jié)構(gòu)3亦可為其他具遮蔽效果的材料。第一遮蔽結(jié)構(gòu)3主要是用以遮蔽設(shè)置于遮蔽區(qū)21內(nèi)，并相較于第一遮蔽結(jié)構(gòu)3位于遠離用戶的一側(cè)的電子組件，由于該些電子組件不適于被用戶所見，藉由第一遮蔽結(jié)構(gòu)3將其遮蔽，可提升使用者的觀賞效果。在實際應(yīng)用上，第一遮蔽結(jié)構(gòu)3除了具有遮蔽功能外，亦可使得遮蔽區(qū)21顯示出不同的色彩效果，以滿足實際產(chǎn)品的設(shè)計需求。
[0056]由于不同的色彩效果需求，第一遮蔽結(jié)構(gòu)3可采用前述非黑色或淺色的絕緣材料，上述這些材料的分子對溫度及環(huán)境較為敏感，容易因為環(huán)境溫度或接觸氧氣或接觸藥液而發(fā)生變質(zhì)異色的問題。而本實施例藉由在第一遮蔽結(jié)構(gòu)3遠離基板2之表面設(shè)置致密結(jié)構(gòu)4，以防止第一遮蔽結(jié)構(gòu)3特別是第一遮蔽結(jié)構(gòu)3的該表面發(fā)生變質(zhì)異色的問題。
[0057]具體的，致密結(jié)構(gòu)4是由致密度高且耐高溫的材料所形成，通常為一透明鍍膜層，其材料例如為二氧化硅(Si02)、氮氧化硅(S1N)、或二氧化硅(Si02)與五氧化二鈮(Nb205)的混和物。需要說明的是，致密結(jié)構(gòu)4的高致密度和耐高溫的特性是相對第一遮蔽結(jié)構(gòu)3而言，致密結(jié)構(gòu)4的致密度大于第一遮蔽結(jié)構(gòu)3的致密度，具體的，致密結(jié)構(gòu)4的致密度大于等于0.74，在后續(xù)制程中能阻隔氧氣或藥液滲入第一遮蔽結(jié)構(gòu)3，使第一遮蔽結(jié)構(gòu)3發(fā)生變質(zhì)異色。耐高溫是指致密結(jié)構(gòu)4本身能耐受溫度影響而不變質(zhì)。例如當?shù)谝徽诒谓Y(jié)構(gòu)3材料為白色油墨時，致密結(jié)構(gòu)4可采用二氧化硅鍍膜層，由于二氧化硅鍍膜層具有致密度高及耐高溫的特性，因此可減少甚至避免白色油墨表面接觸氧氣、藥液或受到溫度影響，白色油墨的組份發(fā)生變質(zhì)，進而避免第一遮蔽結(jié)構(gòu)3發(fā)生變質(zhì)異色(如黃化)的現(xiàn)象。致密結(jié)構(gòu)4可藉由派鍍法(sputtering)、蒸鍍法(evaporat1n)或其他制程方式形成于第一遮蔽結(jié)構(gòu)3上，其厚度可約為40奈米至60奈米，較佳為45奈米至55奈米，以達到阻隔氧氣、藥液和溫度的作用，同時兼顧觸控面板輕薄之優(yōu)點。雖然致密結(jié)構(gòu)4于本實施例中為單層結(jié)構(gòu)，但于其他實施例中，致密結(jié)構(gòu)4亦可為雙層或多層結(jié)構(gòu)，以達到更好的防止第一遮蔽結(jié)構(gòu)3變質(zhì)異色的功效。
[0058]圖2A至圖2C為圖1B所示之觸控面板之其它實施態(tài)樣的示意圖，首先，圖2A所示的觸控面板與圖1B所示的觸控面板之間的差異在于，圖2A所示的致密結(jié)構(gòu)4更進一步覆蓋第一遮蔽結(jié)構(gòu)3的側(cè)面，特別是覆蓋第一遮蔽結(jié)構(gòu)3鄰近于可視區(qū)22的側(cè)面。詳言之，致密結(jié)構(gòu)4除了覆蓋第一遮蔽結(jié)構(gòu)3遠離基板2的表面，例如圖2A所示為下表面，更進一步的致密結(jié)構(gòu)4沿著第一遮蔽結(jié)構(gòu)3鄰近于可視區(qū)22的側(cè)面延伸覆蓋至基板2的表面。而圖2B所示的觸控面板與圖2A所示的觸控面板之間的差異在于，圖2B所示的致密結(jié)構(gòu)4更進一步覆蓋可視區(qū)22，即致密結(jié)構(gòu)4覆蓋第一遮蔽結(jié)構(gòu)3遠離基板2的表面、第一遮蔽結(jié)構(gòu)3鄰近可視區(qū)22的側(cè)面及基板2位于可視區(qū)22的表面，如此可平緩第一遮蔽結(jié)構(gòu)3與基板2之間的段差，可更利于后續(xù)其它結(jié)構(gòu)(例如后文的觸控感應(yīng)結(jié)構(gòu))的設(shè)置。圖2C所示的觸控面板與圖2B所示的觸控面板之間的差異在于，圖2C所示的致密結(jié)構(gòu)4更進一步覆蓋第一遮蔽結(jié)構(gòu)3遠離于可視區(qū)22的側(cè)面，詳言之，致密結(jié)構(gòu)4除了覆蓋第一遮蔽結(jié)構(gòu)3遠離基板2的表面、第一遮蔽結(jié)構(gòu)3鄰近可視區(qū)22的側(cè)面及基板2位于可視區(qū)22的表面，更進一步的，致密結(jié)構(gòu)4沿著第一遮蔽結(jié)構(gòu)3遠離于可視區(qū)22的側(cè)面延伸至基板2的表面，即致密結(jié)構(gòu)4更覆蓋第一遮蔽結(jié)構(gòu)3遠離可視區(qū)22的側(cè)面。前述圖2A至圖2C對應(yīng)實施例中，致密結(jié)構(gòu)4更完整地覆蓋第一遮蔽結(jié)構(gòu)3的表面和側(cè)面，以對第一遮蔽結(jié)構(gòu)3的各表面形成保護，達到更佳的防止變質(zhì)異色的功效。在圖2B和圖2C中，因致密結(jié)構(gòu)4有覆蓋可視區(qū)22，致密結(jié)構(gòu)4較佳為透明材料形成，例如為透明的二氧化硅(Si02)材料或其它致密度高的透明材料，例如為氮氧化硅(S1N)、或二氧化硅(Si02)與五氧化二鈮(Nb205)的混和物，然，本發(fā)明不以上述材料為限制。
[0059]圖3A為本發(fā)明另一較佳實施例的一種觸控面板Ia的上視圖，而圖3B為圖3A沿虛線BB’的剖面圖。請同時參照圖3A及圖3B所示，本實施例的觸控面板Ia與上述實施例大致相同，其差異在于觸控面板Ia更包含一觸控感應(yīng)結(jié)構(gòu)5。特別說明的是，于此基板2、第一遮蔽結(jié)構(gòu)3及致密結(jié)構(gòu)4之相關(guān)配置是以圖2B所示之態(tài)樣為例。
[0060]在本實施例中，觸控感應(yīng)結(jié)構(gòu)5包含一電極結(jié)構(gòu)51以及多個引線52。電極結(jié)構(gòu)51位于可視區(qū)22，且部分延伸至遮蔽區(qū)21的致密結(jié)構(gòu)4上，在本實施中，電極結(jié)構(gòu)51與基板2分別位于致密結(jié)構(gòu)4的相異兩側(cè)。電極結(jié)構(gòu)51可采用濺鍍法(sputter)或化學(xué)氣相沉積法(chemical vapor deposit1n method)沉積導(dǎo)電材料后，并利用微影蝕刻技術(shù)(photolithography)將導(dǎo)電材料圖案化后形成于致密結(jié)構(gòu)4表面。引線52設(shè)置于致密結(jié)構(gòu)4上，且電性連接于電極結(jié)構(gòu)51。引線52位于遮蔽區(qū)21，以被第一遮蔽結(jié)構(gòu)3遮蔽而不被使用者所見。另外，電極結(jié)構(gòu)51在本實施例中是以包含雙軸向相互交錯的橫向電極和縱向電極為例說明，但本發(fā)明電極結(jié)構(gòu)51可不限定為單軸向或雙軸向，亦不限定其形狀及材料，其較佳系采用透明導(dǎo)電材料。透明導(dǎo)電材料可例如是氧化銦錫(indium tinoxide ;IT0)、氧化銦鋅(indium zinc oxide ;IZ0)、氧化錦錫(cadmium tin oxide ;CT0)、氧化招鋅(aluminum zinc oxide ;AZ0)、氧化銦錫鋅(indium tin zinc oxide ;ITZ0)、氧化鋅(zinc oxide ;ZnO)、氧化錦(cadmium oxide ;CdO)、氧化銦嫁鋅(indium gallium zincoxide ;InGaZnO)、氧化銦嫁鋅儀(indium gallium zinc magnesium oxide ;InGaZnMgO)、氧化銦嫁儀(indium gallium magnesium oxide ；InGaMgO)或氧化銦嫁招(indium galliumaluminum oxide ；InGaAlO)等材料。而引線52的配置也可依據(jù)實際需求做調(diào)整，同樣不作限制，其材料可例如是金、銀、銅、鎳、鋁、鉻、或前述之合金或任意組合。
[0061]在本實施例中，電極結(jié)構(gòu)51的材料是以氧化銦錫為例，其厚度約為30奈米至50奈米之間。如圖3B所示，由于電極結(jié)構(gòu)51從可視區(qū)22的位置延伸至遮蔽區(qū)21時必須爬坡，因此當電極結(jié)構(gòu)51是由例如氧化銦錫等脆度較高的材料形成，且當致密結(jié)構(gòu)4位于遮蔽區(qū)21的部份與位于可視區(qū)22的部份的段差較大時，容易發(fā)生斷裂的問題。而圖4A為本發(fā)明再一較佳實施例的一種觸控面板Ib的上視圖，圖4B為圖4A沿虛線CC’的剖面圖，與3A及圖3B不同的地方在于，在本實施例中，電極結(jié)構(gòu)51設(shè)置于可視區(qū)22之內(nèi)，而引線52設(shè)置于致密結(jié)構(gòu)4上且部分延伸至可視區(qū)22，以與可視區(qū)22內(nèi)的電極結(jié)構(gòu)51電性連接。由于電極結(jié)構(gòu)51毋需爬坡，可避免電極結(jié)構(gòu)51爬坡斷裂的問題，加上引線52多是以金屬材料制成，其延展性較佳，較不易發(fā)生斷裂問題。另外，引線52至少位于可視區(qū)22的部份可采用低反射率或透明導(dǎo)電材料制作，以降低被人眼可視的問題。
[0062]在圖3B及圖4B中，由于是在形成第一遮蔽結(jié)構(gòu)3后，先設(shè)置致密結(jié)構(gòu)4再設(shè)置電極結(jié)構(gòu)51，使得致密結(jié)構(gòu)4早于電極結(jié)構(gòu)51先形成，加上致密結(jié)構(gòu)4是設(shè)置于第一遮蔽結(jié)構(gòu)3遠離基板2之表面，使第一遮蔽結(jié)構(gòu)3在形成電極結(jié)構(gòu)51的制程(如濺鍍和微影蝕刻制程)中，可被致密結(jié)構(gòu)4保護及隔絕，進而避免第一遮蔽結(jié)構(gòu)3受溫度、氧氣或藥液影響而產(chǎn)生變質(zhì)異色的問題，以維持原先的色彩效果需求。
[0063]圖5為本發(fā)明又一較佳實施例的一種觸控面板Ic的示意圖，本實施例的觸控面板Ic與前述實施例(圖3B，觸控面板Ia)大致相同，其不同的地方在于，觸控面板Ic在致密結(jié)構(gòu)4與引線52之間更包含一第二遮蔽結(jié)構(gòu)6，第二遮蔽結(jié)構(gòu)6對應(yīng)設(shè)置于遮蔽區(qū)21。第二遮蔽結(jié)構(gòu)6的材料可為黑色