雙面透明導電性膜及其卷繞體、以及觸控面板的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供具有抗粘連性、同時反射率低、反射光的散射得到抑制而使觀察性良好的雙面透明導電性膜及其卷繞體、以及觸控面板。本發(fā)明的雙面透明導電性膜中，在基材膜的兩面，分別依次形成層疊有2層以上的光學調整層的光學調整層層疊體、以及透明導電層，在所述光學調整層層疊體中，所述各光學調整層分別具有不同的折射率，在所述基材膜與至少一方的所述光學調整層層疊體之間，形成有含有粒子的抗粘連層，所述抗粘連層具有平坦部、和起因于所述粒子的隆起部，從所述粒子的最頻粒徑的值中減去所述抗粘連層的平坦部的厚度的值而得的值大于所述光學調整層層疊體的厚度的值，所述光學調整層層疊體的厚度分別為60nm以上且250nm以下。
【專利說明】
雙面透明導電性膜及其卷繞體、以及觸控面板
技術領域
[0001] 本發(fā)明涉及雙面透明導電性膜及其卷繞體、以及觸控面板。
【背景技術】
[0002] 近年來，由于投影型靜電容量式觸控面板、矩陣型電阻膜式觸控面板能多點輸入 (多點觸控），因此操作性優(yōu)異，其需求急速上升。作為這樣的觸控面板的電極構件，提出了 在透明膜基材的兩面形成有透明導電性薄膜的雙面透明導電性膜。
[0003] 在如上的觸控面板中，使用具有圖案化了的透明導電層的雙面透明導電性膜。雖 然從可見光透射率的觀點考慮廣泛使用銦-錫復合氧化物(IT0)作為透明導電層的材料，但 由于其折射率高，因此在將含有IT0的透明導電層圖案化時，在透明導電層形成圖案的部分 (圖案形成部)和不存在透明導電層的部分(圖案開口部)產(chǎn)生圖案的觀察性的差異，從外部 觀察圖案時外觀會惡化、或產(chǎn)生色調。為了不使這樣的圖案引人注意，還提出過下述技術， 在雙面設置有透明導電層的雙面透明導電性膜中，在膜基材與透明導電層之間設置光學調 整層(專利文獻1)。
[0004] 現(xiàn)有技術文獻
[0005] 專利文獻
[0006] 專利文獻1:國際公開第2011/065032號

【發(fā)明內容】

[0007] 發(fā)明所要解決的問題
[0008] 在上述技術中，雖然在光學調整層的形成中采用了濺射等干式法，但從能夠進行 利用卷對卷方式的連續(xù)生產(chǎn)且可以實現(xiàn)成本降低的觀點考慮，優(yōu)選濕式涂敷法。但是，如果 是卷對卷方式，則相互重疊的膜彼此密合而變得不易剝離(所謂的粘連），根據(jù)情況有可能 在膜中產(chǎn)生斷裂或傷痕而使生產(chǎn)率降低。
[0009] 與此不同，為了抑制粘連，可以采用在膜基材上形成在表面形成有凹凸的抗粘連 層的對策。但是，若以濕式涂敷法在抗粘連層上形成光學調整層，則抗粘連層的隆起部由涂 布液掩埋，從而會無法發(fā)揮充分的抗粘連性。另外，在借助濕式涂敷法的形成中，涂布液會 隨著隆起部的傾斜向隆起部周邊的低的部分流延，在隆起部與涂布液流延到的部分產(chǎn)生光 學調整層的厚度的變化，其結果是，無法獲得所期望的光學設計，因此會產(chǎn)生反射光的散射 而損害觀察性。
[0010] 而且，近年來，以進一步提高顯示裝置整體的觀察性為目的，降低模塊的各構成構 件(蓋板玻璃、偏振板等)的反射率成為技術開發(fā)的潮流。為了響應該潮流，要求使具有透明 導電性膜的觸控面板的反射率更低。
[0011] 鑒于上述觀點，本發(fā)明的目的在于，提供具有抗粘連性、同時反射率低、反射光的 散射得到抑制而觀察性良好的雙面透明導電性膜及其卷繞體、以及觸控面板。
[0012] 用于解決問題的方法
[0013] 本發(fā)明人等為了解決所述問題進行了深入研究，結果發(fā)現(xiàn)，通過將抗粘連層的粒 子的粒徑和光學調整層的厚度設置為特定的關系，同時將光學調整層設為特定的層構成， 可以實現(xiàn)上述目的，從而完成了本發(fā)明。
[0014] 即，本發(fā)明為一種雙面透明導電性膜，在基材膜的兩面分別依次形成層疊有2層以 上的光學調整層的光學調整層層疊體、以及透明導電層，
[0015] 在各所述光學調整層層疊體中，所述各光學調整層具有不同的折射率，
[0016] 在所述基材膜與至少一方的所述光學調整層層疊體之間，形成有含有粒子的抗粘 連層，
[0017] 所述抗粘連層具有平坦部、和起因于所述粒子的隆起部，
[0018]從所述粒子的最頻粒徑的值中減去所述抗粘連層的平坦部的厚度的值而得的值 大于所述光學調整層層疊體的厚度的值，
[0019] 所述光學調整層層疊體的厚度分別為60nm以上且250nm以下。
[0020] 在該雙面透明導電性膜中，以能夠根據(jù)與形成于基材膜的兩面的透明導電層的關 系分別進行光學設計的方式在基材膜與各透明導電層之間設置了光學調整層，因此即使在 將透明導電層圖案化的情況下也難以使圖案引人注意，能夠抑制色調的產(chǎn)生而達成良好的 外觀。特別是，由于在基材膜的兩面采用了層疊有2層以上的折射率不同的光學調整層的光 學調整層層疊體，因此不僅可以抑制表面?zhèn)鹊姆瓷?，而且可以抑制背面?zhèn)鹊姆瓷?，可以降?作為透明導電性膜整體的反射率。
[0021] 此外，由于使從抗粘連層中所含的粒子的最頻粒徑的值中減去所述抗粘連層的平 坦部的厚度的值而得的值大于所述光學調整層的厚度的值，因此即使在利用濕式涂敷形成 光學調整層的情況下，也不會有掩埋抗粘連層的隆起部的情況，換言之，在光學調整層中也 會存在起因于下層的抗粘連層的隆起部的隆起，其結果是，可以發(fā)揮優(yōu)異的抗粘連性。
[0022] 如上所述，該雙面導電性膜中，通過采用層疊有2層以上的光學調整層的光學調整 層層疊體，實現(xiàn)了反射率的降低?？梢哉J為，在像這樣利用濕式涂敷形成2層以上的光學調 整層的情況下，與1層的情況相比涂布液向隆起部的周邊的流延變得明顯，隆起部周邊的光 學設計沒有得到滿足而產(chǎn)生反射光的散射。與之不同，該雙面透明導電性膜中，由于將各光 學調整層層疊體的厚度分別減薄到60nm以上且250nm以下，因此可以大幅度抑制由濕式涂 敷造成的形成各光學調整層時的涂布液向隆起部周邊的流延。由此，可以滿足隆起部周邊 的光學設計，從而可以抑制反射光的散射而實現(xiàn)良好的觀察性。
[0023] 此外，該雙面透明導電性膜即使在利用濕式涂敷形成光學調整層的情況下，也可 以維持抗粘連性及抑制反射光的散射，因此包括光學調整層的形成在內可以進行利用卷對 卷方式的連續(xù)生產(chǎn)，可以實現(xiàn)低成本的制造。
[0024] 所述光學調整層優(yōu)選為利用濕式涂敷形成的層。由此可以利用卷對卷方式來形成 光學調整層，從而可以有助于削減制造成本。
[0025] 該雙面透明導電性膜中，由于采用了特定的層結構，因此可以使反射率為1.2%以 下，可以發(fā)揮優(yōu)異的觀察性。
[0026] 從所述粒子的最頻粒徑的值(nm)中減去所述抗粘連層的平坦部的厚度(nm)的值 而得的值優(yōu)選為200nm以上且1200nm以下。通過將最頻粒徑與平坦部的厚度之差設為200nm 以上，可以防止利用濕式涂敷形成光學調整層時的抗粘連層的隆起部的消失而發(fā)揮抗粘連 性。另一方面，通過將上述差設為1200nm以下，可以將光學調整層的涂布液向隆起部周邊的 流延抑制為不會對觀察性造成影響的水平。
[0027] 優(yōu)選至少1層的所述光學調整層由含有有機成分和無機成分的有機無機復合材料 形成。通過在有機成分之外還復合地使用無機成分，就可以將含有有機無機復合材料的涂 布液的粘度有效地調整為適于濕式涂敷的范圍，并且可以有效地調整為能夠抑制向隆起部 周邊的流延的范圍。另外，由于無機成分的添加，使得光學調整層的光學特性的調整變得容 易，可以進一步降低透明導電性膜的反射率。
[0028] 但是判明，若利用有機無機復合材料形成光學調整層，則除了上述因涂布液向隆 起部周邊的流延而產(chǎn)生的反射光的散射以外，還會有產(chǎn)生小的突起狀的外觀不良的情況。 對此可以推測是因為，與產(chǎn)生上述的隆起部中的反射光的散射的機理相同，由于無機成分 的尺寸，而在光學調整層的表面產(chǎn)生凹凸。因而，優(yōu)選使所述無機成分的中值粒徑的值小于 所述光學調整層的厚度的值，抑制起因于無機成分的表面凹凸，從而抑制光散射。
[0029]所述透明導電層優(yōu)選被進行了圖案化，該雙面透明導電性膜優(yōu)選具有該透明導電 層形成圖案的圖案形成部、和不存在該透明導電層的圖案開口部。通過將透明導電層具體 地圖案化，可以特別合適地應用于靜電容量式的觸控面板。
[0030] 所述基材膜優(yōu)選含有環(huán)烯烴系樹脂。由此，可以進一步提高該雙面透明導電性膜 的透明性，可以實現(xiàn)良好的外觀。
[0031] 本發(fā)明中，還包括將該雙面導電性膜的長尺寸體卷繞成卷筒狀的雙面透明導電性 膜卷繞體。
[0032] 本發(fā)明中，還包括具備該雙面透明導電性膜的觸控面板。
【附圖說明】
[0033] 圖1是本發(fā)明的一個實施方式的雙面透明導電性膜的剖面示意圖。
[0034] 圖2是本發(fā)明的另一實施方式的雙面透明導電性膜的剖面示意圖。
[0035]圖3是示意性地表示透明導電層的圖案的一例的局部透視俯視圖。
[0036]圖4A是示意性地表示反射率的測定步驟的說明圖。
[0037]圖4B是示意性地表示反射率的測定步驟的說明圖。
【具體實施方式】
[0038]在參照附圖的同時，對本發(fā)明的一個實施方式說明如下。而且，圖中所示的形態(tài)并 非實際的尺寸比，為了說明的方便，有局部放大或縮小表示的部位。另外，表示本說明書中 的上下左右、表面和背面等位置關系的用語只是單純地用于使說明容易的用語，沒有任何 特定實際的具體構成的位置關系的意圖。
[0039] <雙面透明導電性膜>
[0040]圖1是示意性地表示本發(fā)明的雙面透明導電性膜的一個實施方式的剖面圖。雙面 透明導電性膜10中，在基材膜1的兩面，依次形成有含有粒子5的抗粘連層2a、2b(以下，也將 兩者統(tǒng)稱為"抗粘連層2"。）、光學調整層層疊體3a、3b (以下，也將兩者統(tǒng)稱為"光學調整層 層疊體3"。）、以及透明導電層4a、4b(以下，也將兩者統(tǒng)稱為"透明導電層4"。）。光學調整層 層疊體3a從靠近基材膜1的一側起具有層疊了光學調整層31a及光學調整層32a的2層結構。 光學調整層層疊體3b也具有相同的結構。
[0041]雖然圖1中抗粘連層2a、2b形成于基材膜1的兩面，然而也可以僅在基材膜1的上面 側或下面?zhèn)鹊娜我庖环叫纬煽拐尺B層。而且，對于抗粘連層2、光學調整層層疊體3、以及透 明導電層4的構成，在另一面?zhèn)纫部梢圆捎门c基材膜1的一面?zhèn)鹊臉嫵上嗤臉嫵?，因此?下主要對圖1的基材膜1的上面?zhèn)鹊臉嫵蛇M行說明。
[0042] 抗粘連層2a在表面具有平坦部21及隆起部22。隆起部22是因粒子5而形成。此處， 雙面透明導電性膜10中，從粒子5的最頻粒徑d的值中減去抗粘連層2a的平坦部21的厚度Ta 的值而得的值大于光學調整層層疊體3a的厚度To。在利用濕式涂敷形成光學調整層31a、 32a的情況下，抗粘連層2a的平坦部21由光學調整層31a、32a掩埋，隆起部22的高度被相對 地降低而會有抗粘連性降低或消失的情況。雙面透明導電性膜10中，由于以滿足特定的關 系的方式形成粒子5的最頻粒徑d、平坦部21的厚度Ta、以及光學調整層層疊體3a的厚度To， 因此即使在利用濕式涂敷形成光學調整層31a、32a時，也可以防止掩埋抗粘連層2a的隆起 部22的情況。其結果是，在光學調整層層疊體3a的表面也可以產(chǎn)生起因于隆起部22的隆起， 可以發(fā)揮良好的抗粘連性。而且，圖1中，圖示出具有最頻粒徑d的粒子5,但是只要不損害本 發(fā)明的作用效果，抗粘連層2a也可以含有具有最頻粒徑d以外的粒徑的粒子。
[0043]雙面透明導電性膜10中，通常將抗粘連層2a的厚度設為微米級，而與此相對，將光 學調整層層疊體3a及透明導電層4a的各厚度減薄為納米級，因此作為最外表面層的透明導 電層4a追隨光學調整層層疊體3a的隆起而具有隆起。圖1的基材膜1的下面?zhèn)纫蚕嗤?br>[0044] 雙面透明導電性膜10的反射率可以考慮對顯示模塊所要求的光學特性適當?shù)卦O 定，然而優(yōu)選為1.2 %以下，更優(yōu)選為1.0 %以下，進一步優(yōu)選為0.8 %以下。
[0045] 雙面透明導電性膜的霧度只要能夠確保所要求的透明性，就沒有特別限定，然而 優(yōu)選為5 %以下，更優(yōu)選為4 %以下，進一步優(yōu)選為3 %以下。而且，霧度的下限優(yōu)選為0 %，然 而由于最外表面層的隆起部等的存在，一般而言多為0.3%以上。
[0046] <基材膜>
[0047] 作為基材膜1，沒有特別限制，然而可以使用具有透明性的各種塑料膜。例如，作為 其材料，可以舉出聚酯系樹脂、乙酸酯系樹脂、聚醚砜系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚酰胺系樹 月旨、聚酰亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚降冰片烯系樹脂等聚環(huán)烯烴系樹脂、（甲基)丙烯酸 系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚偏二氯乙烯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚芳酯 系樹脂、聚苯硫醚系樹脂等。其中優(yōu)選為環(huán)烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚烯 烴系樹脂，特別優(yōu)選為環(huán)烯烴系樹脂。
[0048]基材膜1的厚度優(yōu)選為2~200wii的范圍內，更優(yōu)選為20~180wii的范圍內。若基材 膜1的厚度小于2mi，則基材膜1的機械強度不足，從而會使得將膜基材制成卷筒狀而連續(xù)地 形成光學調整層層疊體3及透明導電層4的操作變得困難。另一方面，若厚度大于200wn，則 會無法實現(xiàn)透明導電層4的耐擦傷性、作為觸控面板用的打點特性(打點特性)的提高。
[0049] 也可以對基材膜1的表面預先實施濺射、等離子體處理、電暈放電、火焰、紫外線照 射、電子束照射、化成、氧化等蝕刻處理或底涂處理，提高與形成于膜基材上的抗粘連層、光 學調整層等的密合性。另外，也可以在形成抗粘連層、光學調整層之前，根據(jù)需要利用溶劑 清洗或超聲波清洗等，對膜基材表面進行除塵、潔凈化。
[0050] <抗粘連層>
[0051 ] 如上所述，抗粘連層2在表面具有平坦部21和隆起部22。隆起部22因抗粘連層2中 所含的粒子5而形成。此時，對于從粒子5的最頻粒徑d的值中減去抗粘連層2a的平坦部21的 厚度Ta的值而得的值d - Ta，從抗粘連性及防止隆起部周邊的反射光散射的觀點考慮，優(yōu)選 為200nm以上且1200nm以下，更優(yōu)選為400nm以上且llOOnm以下，進一步優(yōu)選為600nm以上且 lOOOnm以下。若上述值d - Ta過小，則有可能無法獲得足夠的抗粘連性，若值d-Ta過大，則光 學調整層形成用的涂布液向隆起部22周邊的流延明顯，有可能產(chǎn)生反射光的散射而損害觀 察性。
[0052] 粒子的最頻粒徑d可以考慮最外表面層的隆起部的尺寸、與抗粘連層2的平坦部21 的厚度的關系等而適當?shù)卦O定，沒有特別限定。而且，從對雙面透明導電性膜賦予足夠的抗 粘連性、并且抑制隆起部周邊的反射光散射的觀點考慮，粒子的最頻粒徑優(yōu)選為700nm以上 且4000nm以下，更優(yōu)選為900nm以上且3000nm以下，進一步優(yōu)選為1 lOOnm以上且2500nm以 下。而且，本說明書中，所謂"最頻粒徑"，是指表示粒子分布的極大值的粒徑，通過使用流動 式粒子圖像分析裝置(Sysmex公司制、產(chǎn)品名"FPIA-3000S"），在規(guī)定條件下(鞘液：乙酸乙 酯、測定模式:HPF測定、測定方式:總粒子數(shù))進行測定而求出。測定試樣使用將粒子用乙酸 乙酯稀釋為1.0重量％、并使用超聲波清洗機均勻地分散而得的物質。
[0053] 抗粘連層2的平坦部21的厚度優(yōu)選以滿足上述值d - Ta的方式選擇，具體而言優(yōu)選 為500nm以上且3000nm以下，更優(yōu)選為700nm以上且2500nm以下，進一步優(yōu)選為900nm以上且 2000nm以下。若抗粘連層的平坦部的厚度過小，則上述值d - Ta相對地變大，從而不可能忽 視光學調整層的涂布液向隆起部周邊的流延，有可能引起光散射。另一方面，若抗粘連層的 平坦部的厚度過大，則上述值d - Ta相對地變小，在光學調整層的形成時隆起部被掩埋而使 抗粘連性有可能降低。而且，本說明書中，所謂抗粘連層的平坦部的厚度，是指抗粘連層的 平坦部的平均厚度。
[0054] 粒子可以是多分散粒子及單分散粒子的任意一種，然而若考慮隆起部的賦予的容 易性、眩目防止性，則優(yōu)選為單分散粒子。在單分散粒子的情況下，可以將粒子的粒徑與最 頻粒徑視為實質上相同。
[0055]抗粘連層中的粒子的含量優(yōu)選相對于樹脂組合物的固體成分100重量份為0.01~ 5重量份，更優(yōu)選為0.02~1重量份，進一步優(yōu)選為0.05~0.5重量份。若抗粘連層中的粒子 的含量小，則會有難以在抗粘連層的表面形成足以賦予抗粘連性的隆起部的趨勢。另一方 面，若粒子的含量過大，則會因粒子所致的光散射而使雙面透明導電性膜的霧度變高，會有 觀察性降低的趨勢。另外，若粒子的含量過大，則在抗粘連層的形成時(溶液的涂布時)產(chǎn)生 條紋，會有觀察性受損、透明導電層的電特性變得不均勻的情況。
[0056] (樹脂組合物）
[0057] 作為形成抗粘連層2的樹脂組合物，可以沒有特別限制地使用能夠實現(xiàn)粒子的分 散、作為抗粘連層形成后的被膜具有足夠的強度、有透明性的的組合物。作為所用的樹脂可 以舉出熱固型樹脂、熱塑型樹脂、紫外線固化型樹脂、電子束固化型樹脂、二液混合型樹脂 等，它們當中優(yōu)選可以利用紫外線照射的固化處理、以簡單的加工操作有效地形成光擴散 層的紫外線固化型樹脂。
[0058] 作為紫外線固化型樹脂，可以舉出聚酯系、丙烯酸系、氨基甲酸酯系、酰胺系、硅酮 系、環(huán)氧系等各種樹脂，包括紫外線固化型的單體、低聚物、聚合物等。優(yōu)選使用的紫外線固 化型樹脂例如可以舉出具有紫外線聚合性的官能團的樹脂，尤其是包含具有2個以上該官 能團、特別是具有3~6個該官能團的丙烯酸系的單體或低聚物成分的樹脂。另外，在紫外線 固化型樹脂中，配合有紫外線聚合引發(fā)劑。
[0059] 在樹脂層的形成材料中，除了所述材料以外，還可以使用流平劑、觸變劑、防靜電 干擾劑等添加劑。若使用觸變劑，則有利于微細凹凸形狀表面的突出粒子的形成。作為觸變 劑，可以舉出O.lMi以下的二氧化硅、云母等。這些添加劑的含量通常相對于紫外線固化型 樹脂100重量份為15重量份以下左右，優(yōu)選設為0.01~15重量份。
[0060] (粒子）
[0061] 作為抗粘連層2中所含的粒子，可以沒有特別限制地使用各種金屬氧化物、玻璃、 塑料等具有透明性的粒子。例如可以舉出二氧化硅、氧化鋁、二氧化鈦、二氧化鋯、氧化鈣等 無機系粒子、包含聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氨酯、丙烯酸系樹脂、丙烯酸一苯乙烯共 聚物、苯胍胺、三聚氰胺、聚碳酸酯等各種聚合物的交聯(lián)或未交聯(lián)的有機系粒子或硅酮系粒 子等。所述粒子可以適當?shù)剡x擇使用1種或2種以上，然而優(yōu)選有機系粒子。作為有機系粒 子，從折射率的觀點考慮，優(yōu)選丙烯酸系樹脂。
[0062](涂布組合物）
[0063] 形成抗粘連層時所用的涂布組合物含有上述的樹脂、粒子、以及溶媒。另外，涂布 組合物可以根據(jù)需要添加各種添加劑。作為這樣的添加劑，可以舉出防靜電干擾劑、增塑 劑、表面活性劑、抗氧劑、以及紫外線吸收劑等常用的添加劑。
[0064] 涂布組合物是通過將上述的樹脂及粒子根據(jù)需要與溶媒、添加劑、催化劑等混合 而制備。涂布組合物中的溶媒?jīng)]有特別限定，可以考慮所用的樹脂、成為涂裝的基底的部分 的材質及組合物的涂裝方法等適當?shù)剡x擇。作為溶媒的具體例，例如可以舉出甲苯、二甲苯 等芳香族系溶媒；甲乙酮、丙酮、甲基異丁基酮、環(huán)己酮等酮系溶媒;二乙醚、異丙醚、四氫呋 喃、二噁烷、乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、丙二醇單甲 醚、苯甲醚、苯乙醚等醚系溶媒；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸異丙酯、乙二醇二乙酸酯等酯系 溶媒;二甲基甲酰胺、二乙基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮等酰胺系溶媒；甲基溶纖劑、乙基溶 纖劑、丁基溶纖劑等溶纖劑系溶媒；甲醇、乙醇、丙醇等醇系溶媒;二氯甲烷、氯仿等鹵素系 溶媒等。這些溶媒可以單獨使用，另外也可以并用2種以上。這些溶媒當中，優(yōu)選使用酯系溶 媒、醚系溶媒、醇系溶媒及酮系溶媒。
[0065] 在涂布組合物中，優(yōu)選將粒子分散于溶液中。作為使粒子分散于溶液中的方法，可 以采用向樹脂組合物溶液中添加粒子并混合的方法、將預先分散于溶媒中的粒子添加到樹 脂組合物溶液中的方法等各種公知的方法。
[0066]涂布組合物的固體成分濃度優(yōu)選為1重量％~70重量％，更優(yōu)選為2重量％~50重 量％，最優(yōu)選為5重量％~40重量％。若固體成分濃度過低，則涂布后的干燥工序中抗粘連 層表面的隆起部的偏差變大，抗粘連層表面的隆起部變大的部分的霧度會升高。另一方面， 若固體成分濃度過大，則含有成分容易凝聚，其結果是，凝聚部分會顯在化而損害雙面透明 導電性膜的外觀。
[0067](涂布及固化）
[0068]抗粘連層是通過向基材上涂布上述的涂布組合物而形成。本實施方式中，在基材 的兩面進行涂布組合物向基材膜1上的涂布。而且，涂布組合物既可以直接涂布在基材膜1 上，也可以涂布在形成于基材膜1上的底涂層等上。
[0069 ]涂布組合物的涂布方法可以根據(jù)涂布組合物及涂裝工序的狀況適當?shù)剡x擇，例如 可以利用浸涂法、氣刀涂布法、淋涂法、輥涂法、繞線棒涂布法、凹版涂布法、模涂法或擠出 涂布法等進行涂布。
[0070] 在涂布好涂布組合物后，通過使涂膜固化，可以形成抗粘連層。在樹脂組合物為光 固化性的情況下，通過使用發(fā)出與需要對應的波長的光的光源照射光，可以使之固化。作為 所照射的光，例如可以使用曝光量為150mJ/cm 2以上的光、優(yōu)選為200mJ/cm2~1000J/cm2的 光。另外，該照射光的波長沒有特別限定，然而例如可以使用具有380nm以下的波長的照射 光等。而且，也可以在光固化處理時、或光固化處理后進行加熱。
[0071] 也可以對抗粘連層2的表面預先實施濺射、等離子體處理、電暈放電、火焰、紫外線 照射、電子束照射、化成、氧化等蝕刻處理或底涂處理，提高與形成于抗粘連層上的光學調 整層等的密合性。另外，也可以在形成光學調整層之前，根據(jù)需要利用溶劑清洗、超聲波清 洗等，對抗粘連層表面進行除塵、潔凈化。
[0072] <光學調整層層疊體>
[0073]在本實施方式的雙面透明導電性膜10中，在抗粘連層2與透明導電層4之間，以透 明導電層的密合性、反射特性的控制等為目的設有光學調整層層疊體3。光學調整層層疊體 3a具有從靠近基材膜1的一側起層疊有光學調整層31a及光學調整層32a的2層結構。光學調 整層31a及光學調整層32a具有彼此不同的折射率。光學調整層層疊體3a的層結構并不限定 于2層結構，也可以具有3層以上的層結構。
[0074] 光學調整層層疊體3a、3b的厚度各自獨立地為60nm以上且250nm以下即可，優(yōu)選為 70nm以上且200nm以下，更優(yōu)選為80nm以上且150nm以下。通過將光學調整層層疊體設為上 述范圍，可以大幅度抑制由濕式涂敷造成的各光學調整層的形成時的涂布液向隆起部周邊 的流延。由此，就可以滿足隆起部周邊的光學設計，可以抑制反射光的散射。若光學調整層 層疊體的厚度過小，則無法充分地控制反射特性，有可能損害透明導電性膜的觀察性。若光 學調整層層疊體的厚度過大，則涂布液的流延變得明顯，有可能產(chǎn)生反射光的散射。另外， 若以這樣的納米級別水平的厚度形成光學調整層層疊體，則光學調整層層疊體的透明導電 層4側的表面基本上會維持作為其基底層的抗粘連層2表面的隆起形狀。這樣，由于在透明 導電層4的表面也可以維持該隆起形狀，因此可以制成具有抗粘連性的雙面透明導電性膜。 [0075][光學調整層]
[0076] 雖然光學調整層31a及光學調整層32a具有彼此不同的折射率即可，然而從以更高 的水平控制反射特性而降低反射率的觀點考慮，優(yōu)選光學調整層31a的折射率高于光學調 整層32a的折射率。該情況下，光學調整層31a的折射率優(yōu)選為1.60以上且1.90以下，更優(yōu)選 為1.70以上且1.80以下。另外，光學調整層32a的折射率優(yōu)選為1.35以上且1.60以下，更優(yōu) 選為1.45以上且1.55以下。
[0077] 光學調整層可以利用有機成分、無機成分、以及含有有機成分和無機成分的有機 無機復合材料的任意一種形成。其中，優(yōu)選至少1層的光學調整層由含有有機成分和無機成 分的有機無機復合材料形成。通過除了有機成分以外還復合地使用無機成分，就可以將含 有有機無機復合材料的涂布液的粘度有效地調整為適于濕式涂敷的范圍，并且可以有效地 調整為能夠抑制向隆起部周邊的流延的范圍，從這一點考慮優(yōu)選。另外，由于無機成分的添 加，光學調整層的光學特性的調整變得容易，可以進一步降低透明導電性膜的反射率。
[0078] (有機成分）
[0079] 作為有機成分沒有特別限定，可以使用紫外線固化型樹脂、熱固型樹脂、熱塑性樹 脂等。從加工速度快、抑制對透明高分子基材1的熱損害的觀點考慮，特別優(yōu)選使用紫外線 固化型樹脂。
[0080] 作為這樣的紫外線固化型樹脂，例如可以使用由于光(紫外線)而發(fā)生固化的具有 丙烯酸酯基及甲基丙烯酸酯基的至少一方的基團的固化型化合物。作為固化型化合物，例 如可以舉出硅酮樹脂、聚酯樹脂、聚醚樹脂、環(huán)氧樹脂、氨基甲酸酯樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛 樹脂、聚丁二烯樹脂、聚硫醇多烯樹脂、多元醇等多官能化合物的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯 等低聚物或預聚物等。它們既可以單獨使用1種，也可以并用2種以上。
[0081] 作為有機無機復合材料的有機成分中所用的紫外線固化型樹脂，也可以除了上述 各成分以外還具有反應性稀釋劑。作為反應性稀釋劑，例如可以使用具有丙烯酸酯基及甲 基丙烯酸酯基的至少一方的基團的反應性稀釋劑。作為反應性稀釋劑的具體例，例如可以 使用日本特開2008 - 88309號公報中記載的反應性稀釋劑，包括單官能丙烯酸酯、單官能甲 基丙烯酸酯、多官能丙烯酸酯、多官能甲基丙烯酸酯等。作為反應性稀釋劑，優(yōu)選3官能以上 的丙烯酸酯、3官能以上的甲基丙烯酸酯。這是因為，可以使硬涂層的硬度優(yōu)異。作為其他反 應性稀釋劑，例如可以舉出丁二醇甘油醚二丙烯酸酯、異氰脲酸的丙烯酸酯、異氰脲酸的甲 基丙烯酸酯等。它們既可以單獨使用1種，也可以并用2種以上。
[0082](無機成分）
[0083] 有機無機復合材料除了電離輻射線固化型樹脂等有機成分以外，還含有無機成 分。作為無機成分，例如可以舉出氧化硅(二氧化硅）、氧化鈦、氧化鋁、氧化鋅、氧化錫、氧化 鋯等無機氧化物的微?；蛭⒎勰Ｋ鼈儺斨?，從控制硬涂層的折射率的觀點考慮，優(yōu)選氧化 娃(二氧化娃）、氧化鈦、氧化鋁、氧化鋅、氧化錫、氧化錯的微粒，特別優(yōu)選氧化娃。它們既可 以單獨使用1種，也可以并用2種以上。
[0084] 無機成分的中值粒徑的值優(yōu)選小于光學調整層的厚度的值。若利用有機無機復合 材料形成光學調整層，則會產(chǎn)生尺寸較小的突起狀的外觀不良。對此可以認為是由以無機 成分形成的光學調整層的表面凹凸所引起。因而，優(yōu)選使無機成分的中值粒徑的值小于所 述光學調整層的厚度的值，抑制起因于無機成分的表面凹凸，從而抑制光散射。
[0085]作為無機成分的具體的中值粒徑，優(yōu)選為50nm以下，更優(yōu)選為40nm以下，進一步優(yōu) 選為30nm以下。像這樣，若納米粒子的最頻粒徑小，則難以產(chǎn)生如上所述的可見光的散射， 并且即使在有機無機復合材料中的有機成分與納米粒子的折射率不同的情況下，也可以抑 制光學調整層的霧度大幅度增大。而且，雖然無機成分的中值粒徑的下限越小越好，然而從 防止凝聚而使分散性良好的觀點考慮，優(yōu)選為5nm以上。
[0086]而且，本說明書中，所謂"中值粒徑"，是指粒子分布的累積度數(shù)顯示為50%的粒徑 (d50)，無機成分的中值粒徑是通過將試樣用稀釋液稀釋到固體成分濃度1%，用動態(tài)光散 射式粒徑分布測定裝置(堀場制作所制、"LB - 500"）測定粒度分布而求出。稀釋液可以根據(jù) 無機成分的種類、無機成分的表面修飾的種類適當?shù)剡x擇。
[0087]無機氧化物納米粒子優(yōu)選利用含有聚合性不飽和基的有機化合物進行表面修飾。 該不飽和基與有機無機復合材料中的有機成分發(fā)生反應固化，因而可以提高硬涂層的硬 度。作為對無機氧化物納米粒子進行表面修飾的有機化合物中的聚合性不飽和基，例如優(yōu) 選（甲基）丙烯?；?、乙烯基、丙烯基、丁二烯基、苯乙烯基、乙炔基、肉桂?；?、馬來酸酯基、 丙烯酰胺基。另外，所述含有聚合性不飽和基的有機化合物也可以是在分子內具有硅醇基 的化合物或利用水解生成硅醇基的化合物。另外，含有聚合性不飽和基的有機化合物也優(yōu) 選為具有光感應性基團的化合物。
[0088]有機無機復合材料中的無機氧化物納米粒子的配合量優(yōu)選相對于電離輻射線固 化型樹脂等有機成分固體成分100重量份為50重量份~300重量份的范圍，更優(yōu)選為100重 量份~200重量份的范圍。通過將有機無機復合材料中的無機氧化物納米粒子的配合量設 為上述范圍，可以抑制光學調整層形成用的涂布液向隆起部周邊的流延，從而防止光的散 射。另外，例如也可以調整光學調整層的折射率。
[_9](添加劑）
[0090] 在光學調整層3的形成材料中，也可以還加入各種添加劑。作為添加劑，例如可以 使用用于使有機無機復合材料固化而形成光學調整層的聚合引發(fā)劑、流平劑、顏料、填充 劑、分散劑、增塑劑、紫外線吸收劑、表面活性劑、抗氧劑、觸變劑等。
[0091] 作為聚合引發(fā)劑，可以使用現(xiàn)有公知的光聚合引發(fā)劑。例如可以使用2,2 -二甲氧 基一2-苯基苯乙酮、苯乙酮、二苯甲酮、氧雜蒽酮、3-甲基苯乙酮、4一氯二苯甲酮、4，4' 一 二甲氧基二苯甲酮、苯偶姻丙醚、聯(lián)苯酰二甲基縮酮、^~小一四甲基一4,4'一二氰基二 苯甲酮、1 一（4 一異丙基苯基）一 2 -羥基一 2-甲基丙烷一 1 一酮、此外還有噻噸酮系化合物 等。
[0092] 作為流平劑，可以適當?shù)厥褂梅祷蚬柰档牧髌絼欢鼉?yōu)選為硅酮系的流 平劑。作為硅酮系流平劑，可以舉出聚二甲基硅氧烷、聚醚改性聚二甲基硅氧烷、聚甲基烷 基硅氧烷等。氟系或硅酮系的流平劑的添加量優(yōu)選相對于有機無機復合材料中的有機成分 的固體成分與無機成分的合計1 〇〇重量份在〇. 〇 1~5重量份的范圍內添加。
[0093] 光學調整層可以使用上述的材料，利用凹版涂布法或棒涂法、簾涂法、模涂法、旋 涂法、噴涂法、輥涂法等涂敷法等合適地形成。雖然如此所述優(yōu)選至少1層的光學調整層利 用涂敷法形成，然而作為剩下的光學調整層的形成法，也可以除了上述的涂敷法以外，還采 用真空蒸鍍法、濺射法、離子鍍法等。
[0094] 作為固化處理，例如可以例示出借助能量射線的照射的方法等。作為能量射線源， 例如可以使用高壓水銀燈、鹵素燈、氙燈、金屬鹵化物燈、氮激光器、電子束加速裝置、放射 性元素等射線源。對于能量射線源的照射量，作為紫外線波長365nm下的累計曝光量，優(yōu)選 為50~5000mJ/cm 2。在照射量小于50mJ/cm2的情況下，固化就會不充分，因此光學調整層3的 硬度降低。另外，若大于5000mJ/cm 2,則光學調整層3著色而使透明性降低。
[0095] <透明導電層>
[0096] 透明導電層4的構成材料沒有特別限定，適合使用選自銦、錫、鋅、鎵、鉬、鈦、硅、 鋯、鎂、鋁、金、銀、銅、鈀、鎢中的至少1種金屬的金屬氧化物。在該金屬氧化物中，根據(jù)需要， 也可以還含有上述組中所示的金屬原子。例如優(yōu)選使用含有氧化錫的氧化銦（IT0)、含有鉬 的氧化錫(AT0)等。
[0097] 透明導電層4的厚度沒有特別限制，然而為了制成使其表面電阻為IX 103Q/□以 下的具有良好的導電性的連續(xù)被膜，優(yōu)選將厚度設為l〇nm以上。若膜厚過厚，則會導致透明 性的降低等，因此優(yōu)選為15~35nm，更優(yōu)選為20~30nm的范圍內。若透明導電層4的厚度小 于15nm，則膜表面的電阻變高，并且難以成為連續(xù)被膜。另外，若透明導電層4的厚度大于 35nm，則會導致透明性的降低等。
[0098] 作為透明導電層4的折射率，在透明導電層4被圖案化的情況下，從不僅抑制圖案 形成部P與圖案開口部〇(參照圖2)的反射率差，而且抑制兩者的色調之差的觀點考慮，透明 導電層5的折射率優(yōu)選為1.85~2.1左右。
[0099] 透明導電層4的形成方法沒有特別限定，可以采用現(xiàn)有公知的方法。具體而言，例 如可以例示出真空蒸鍍法、濺射法、離子鍍法等干式工藝。另外，也可以根據(jù)所必需的膜厚 采用適當?shù)姆椒?。而且，若透明導電?是利用濺射法等干式工藝形成，則如圖1所示，透明 導電層4的表面基本上維持作為其基底層的抗粘連層2a(及光學調整層層疊體3)表面的平 坦部及隆起部的形狀。因而，即使在抗粘連層2上形成有光學調整層層疊體3及透明導電層4 的情況下，也可以合適地對透明導電層4表面賦予抗粘連性。
[0100] 透明導電層4根據(jù)需要可以實施加熱退火處理(例如在大氣氣氛下、在80~150 °C 實施30~90分鐘左右)而使之結晶化。通過使透明導電層結晶化，不僅透明導電層被低電阻 化，而且透明性及耐久性提高。通過在雙面透明導電性膜10中將抗粘連層2a的厚度設為上 述范圍，在加熱退火處理時也可以抑制卷曲的發(fā)生，處置性優(yōu)異。
[0101] 如圖2及3所示，透明導電層4也可以利用蝕刻等進行圖案化。圖2表示出透明導電 層4被圖案化了的雙面透明導電性膜10。但是，為了說明的方便，圖2中，省略了抗粘連層2中 所含的粒子及由其造成的隆起部，各層的厚度與圖1所示的樣子不同。圖2所示的雙面透明 導電性膜具有透明導電層4形成圖案的圖案形成部P、和被除去了透明導電層4的圖案開口 部0。在用于靜電容量式的觸控面板或矩陣式的電阻膜方式的觸控面板的雙面透明導電性 膜中，如圖3所示，優(yōu)選將透明導電層4a、4b以條紋狀圖案化，優(yōu)選透明導電層4a、4b形成彼 此正交的格子狀矩陣圖案。而且，雖然在圖3中圖示為圖案形成部P的寬度大于圖案開口部0 的寬度，然而本發(fā)明并不受該形態(tài)限制。
[0102] 如圖2及3所示，在雙面透明導電性膜10的透明導電層4a、4b被圖案化的情況下，根 據(jù)圖案形狀，在以俯視方式透視雙面透明導電性膜10時，有時會存在兩面的圖案形成部重 復的雙面圖案區(qū)域X、和一個面為圖案形成部且另一個面為圖案開口部的單面圖案區(qū)域Y (Y1及Y2)。此時，雙面圖案區(qū)域X的反射率與單面圖案區(qū)域Y的反射率之差A R的絕對值優(yōu)選 為1%以下，更優(yōu)選為0.5%以下。另外，雙面圖案區(qū)域X的反射色調P優(yōu)選滿足一 〇,更優(yōu)選滿足一8<b+<0,特別優(yōu)選滿足一5<b+<0。通過將反射率差AR的絕對值或反射 色調P設為上述范圍內，就可以抑制圖案觀察及色調（特別是黃色調）的產(chǎn)生，從而獲得外 觀更加良好的透明導電性膜。
[0103] 而且，本說明書中，所謂"反射率"表示的是CIE表色系統(tǒng)的D65光源的視感反射率 Y。另外，所謂"色調"，是JIS Z8729中規(guī)定的表色系統(tǒng)中的D65光源的值、al直、b* 值，"反射色調"是由反射光求出的色調。
[0104] -般而言，由于透明導電層由金屬氧化物形成，因此折射率高，表面的反射率高。 因而，在圖案形成部P與圖案開口部〇之間產(chǎn)生反射率差，從而有易于辨識圖案的趨勢。與此 相對，本發(fā)明中，通過在表背面的基材膜1與透明導電層4之間分別設置光學調整層層疊體， 而利用界面多重反射，借助干涉來消除透明導電層表面的反射光，降低圖案形成部P的反射 率。因而，圖案形成部P與圖案開口部0的反射率差被降低，圖案變得難以辨識。
[0105] <雙面透明導電性膜卷繞體>
[0106] 本實施方式中，可以將雙面透明導電性膜10制成長尺寸體，形成將其卷繞為卷筒 狀而成的雙面透明導電性膜卷繞體。雙面透明導電性膜的長尺寸片的卷繞體可以通過如下 操作形成，即，作為基材膜使用長尺寸片的卷筒狀卷繞體，將前述的抗粘連層、光學調整層、 以及透明導電層都利用卷對卷法來形成。在形成這樣的卷繞體時，可以在雙面透明導電性 膜的表面貼合具備弱粘合層的保護膜(隔片)后卷繞為卷筒狀，然而本實施方式的雙面透明 導電性膜由于抗粘連性得到改善，因此即使不使用保護膜也可以形成雙面透明導電性膜的 長尺寸片的卷繞體。即，通過賦予抗粘連性，可以抑制處置時在膜表面的傷痕的產(chǎn)生，并且 膜的卷繞性優(yōu)異，因此即使不在表面貼合保護膜，也容易獲得將長尺寸片卷繞為卷筒狀的 卷繞體。如此所述，本實施方式的雙面透明導電性膜由于可以不使用保護膜地形成長尺寸 片的卷繞體，因此在用于其后的觸控面板的形成等時的操作性優(yōu)異。另外，由于不需要作為 工序構件的保護膜，因而還有助于削減成本、減少廢棄物。
[0107] <觸控面板>
[0108] 雙面透明導電性膜10例如可以適用于靜電容量式、電阻膜方式等的觸控面板。特 別是，即使在透明導電層被圖案化的情況下，也可以將圖案形成部與圖案開口部的觀察性 的差異、特別是反射率之差抑制得較小，因此可以適用于像投影型靜電容量式的觸控面板、 或能夠進行多點輸入的電阻膜方式的觸控面板那樣具備以規(guī)定形狀圖案化了的透明導電 層的觸控面板。
[0109] 在觸控面板的形成時，可以在雙面透明導電性膜的一個或兩個主面夾隔著透明的 粘合劑層貼合玻璃、高分子膜等其他的基材等。透明基體可以由1片基體膜構成，也可以是2 片以上的基體膜的層疊體(例如夾隔著透明的粘合劑層層疊而成的層疊體）。另外，也可以 在貼合于雙面透明導電性膜的透明基體的外表面設置硬涂層。
[0110] 作為雙面透明導電性膜與基材的貼合中所用的粘合劑層，只要是具有透明性的物 質，就可以沒有特別限制地使用。具體而言，例如可以適當?shù)剡x擇使用以丙烯酸系聚合物、 硅酮系聚合物、聚酯、聚氨酯、聚酰胺、聚乙烯基醚、乙酸乙烯酯/氯乙烯共聚物、改性聚烯 烴、環(huán)氧系、氟系、天然橡膠、合成橡膠等橡膠系等的聚合物作為基礎聚合物的物質。特別是 從光學透明性優(yōu)異、顯示出適度的潤濕性、凝聚性及膠粘性等粘合特性、耐候性和耐熱性等 也優(yōu)異的方面考慮，優(yōu)選使用丙烯酸系粘合劑。
[0111] 在將上述的本發(fā)明的雙面透明導電性膜用于觸控面板的形成的情況下，觸控面板 形成時的處置性優(yōu)異。因而，可以高生產(chǎn)率地制造透明性及觀察性優(yōu)異的觸控面板。
[0112] [實施例]
[0113] 以下，使用實施例對本發(fā)明進行詳細說明，然而本發(fā)明只要不超出其主旨，就不限 定于以下的實施例。實施例中，只要沒有特別指出，帶有"份"的就是指"重量份"。
[0114] [實施例1]
[0115] 利用以下的步驟制作出圖1所示的形態(tài)的雙面透明導電性膜。首先，準備含有最頻 粒徑1.8wii(1800nm)的多個單分散粒子(綜研化學公司制、商品名"MX180TAN"）和粘結劑樹 脂(DIC公司制、商品名"UNIDIC RS29 - 120"）、且以乙酸乙酯作為溶媒的涂布組合物。粒子 的添加份數(shù)是相對于粘結劑樹脂100份為0.2份。然后，使用凹版涂布機，在厚度lOOwii的長 尺寸基材膜1(日本Zeon公司制、商品名"ZEONOR"）的兩面，以使干燥后的平坦部的厚度為 1. OMi(lOOOnm)的方式涂布上涂布組合物，在80 °C加熱1分鐘，由此使涂膜干燥。其后，通過 利用高壓水銀燈，照射累計光量250mJ/cm2的紫外線，而形成抗粘連層2a、2b。
[0116]然后，在兩面的抗粘連層2a、2b的表面，使用凹版涂布機，涂布作為有機無機復合 成分的折射率調整劑(JSR公司制、商品名"OPSTAR Z7412" ：作為無機成分含有中值粒徑 40nm的氧化鋯粒子的折射率為1.62的有機無機復合材料），在60°C加熱1分鐘，由此使涂膜 干燥。其后，通過利用高壓水銀燈，照射累計光量250mJ/cm 2的紫外線而實施固化處理，在兩 面形成厚度為85nm且折射率為1.62的光學調整層3 la、3 lb。繼而，在光學調整層3 la、3 lb的 表面，使用凹版涂布機涂布基于溶膠一凝膠法的熱固型的折射率調整劑(Colcoat公司制、 商品名"Colcoat PX"），在120°C加熱1分鐘，由此在兩面形成厚度為30nm且折射率為1.46的 光學調整層32a、32b，形成光學調整層層疊體3a、3b。
[0117]其后，將具有抗粘連層2a、2b及光學調整層層疊體3a、3b的長尺寸基材投入卷繞式 濺射裝置，在兩面的光學調整層層疊體3a、3b的表面，作為透明導電層4a、4b層疊厚20nm的 銦?錫氧化物層（在由氬氣98%和氧氣2%構成的0.4Pa的氣氛中、使用由氧化銦97重 量％-氧化錫3重量％構成的燒結體的濺射）。此時，上述的光學調整層、透明導電層以沿著 上述抗粘連層的平坦部及隆起部的方式層疊。由此制作出雙面透明導電性膜10。
[0118] [實施例2]
[0119] 準備含有最頻粒徑1.8_(1800nm)的多個單分散粒子(綜研化學公司制、商品名 "MX180TAN"）和粘結劑樹脂(DIC公司制、商品名"UNIDIC RS29 - 120"）、且以乙酸乙酯作為 溶媒的涂布組合物。粒子的添加份數(shù)是相對于粘結劑樹脂100份為0.2份。然后，在厚lOOwn 的長尺寸基材膜1(日本Zeon公司制、商品名"ZE0N0R"）的兩面，使用凹版涂布機，以使干燥 后的平坦部的厚度為l.Own(lOOOnm)的方式涂布上涂布組合物，在80°C加熱1分鐘，由此使 涂膜干燥。其后，通過利用高壓水銀燈，照射累計光量250mJ/cm 2的紫外線，而形成抗粘連層 2a、2b〇
[0120]然后，在兩面的抗粘連層2a、2b的表面，使用凹版涂布機，涂布作為有機無機復合 成分的折射率調整劑(JSR公司制、商品名"0PSTAR KZ6734" ：作為無機成分含有中值粒徑 40nm的氧化鋯粒子的折射率為1.74的有機無機復合材料），在60°C加熱1分鐘，由此使涂膜 干燥。其后，通過利用高壓水銀燈，照射累計光量250mJ/cm 2的紫外線而實施固化處理，在兩 面形成厚度為40nm且折射率為1.74的光學調整層3 la、3 lb。繼而，在光學調整層3 la、3 lb的 表面，使用凹版涂布機，涂布相對于作為有機成分的折射率調整劑(大阪有機化學公司制、 商品名"Viscoat 300"）100份含有作為無機成分的中值粒徑20nm的氧化硅粒子20重量份的 有機無機復合材料，在60°C加熱1分鐘，由此使涂膜干燥。其后，通過利用高壓水銀燈，照射 累計光量250mJ/cm 2的紫外線而實施固化處理，在兩面形成厚度為50nm且折射率為1.5的光 學調整層32a、32b，形成光學調整層層疊體3a、3b。
[0121]其后，將具有抗粘連層2a、2b及光學調整層層疊體3a、3b的長尺寸基材投入卷繞式 濺射裝置，在兩面的光學調整層層疊體3a、3b的表面，作為透明導電層4a、4b層疊厚20nm的 銦?錫氧化物層（在由氬氣98%和氧氣2%構成的0.4Pa的氣氛中、使用由氧化銦97重 量％-氧化錫3重量％構成的燒結體的濺射）。此時，上述的光學調整層、透明導電層以沿著 上述抗粘連層的平坦部及隆起部的方式層疊。由此制作出雙面透明導電性膜10。
[0122] [實施例3]
[0123] 除了將光學調整層31a中的無機成分的中值粒徑設為25nm以外，與實施例2相同地 制作出雙面透明導電性膜。
[0124] [實施例4]
[0125] 除了將抗粘連層2a、2b的平坦部的厚度設為1.5wn(1500nm)以外，與實施例2相同 地制作出雙面透明導電性膜。
[0126] [實施例5]
[0127] 除了將抗粘連層2a、2b的平坦部的厚度設為0.5wii(500nm)以外，與實施例2相同地 制作出雙面透明導電性膜。
[0128] [實施例6]
[0129] 除了將光學調整層31a、31b的厚度設為120nm、將光學調整層32a、32b的厚度設為 5nm以外，與實施例2相同地制作出雙面透明導電性膜。
[0130] [實施例7]
[0131] 除了將光學調整層31a、31b的厚度設為30nm、將光學調整層32a、32b的厚度設為 60nm以外，與實施例2相同地制作出雙面透明導電性膜。
[0132] [實施例8]
[0133] 除了將光學調整層31a、31b的厚度設為45nm、將光學調整層32a、32b的厚度設為 200nm以外，與實施例2相同地制作出雙面透明導電性膜。
[0134] [實施例9]
[0135] 除了將光學調整層31a、31b的厚度設為45nm、將光學調整層32a、32b的厚度設為 20nm以外，與實施例2相同地制作出雙面透明導電性膜。
[0136] [比較例1]
[0137] 除了將抗粘連層2a、2b的平坦部的厚度設為1.7wii(1700nm)以外，與實施例1相同 地制作出雙面透明導電性膜。
[0138] [比較例2]
[0139] 除了將光學調整層31a、31b的厚度設為20nm、將光學調整層32a、32b的厚度設為 25nm以外，與實施例2相同地制作出雙面透明導電性膜。
[0140][比較例3]
[0141] 除了將光學調整層31a、31b的厚度設為210nm、將光學調整層32a、32b的厚度設為 45nm以外，與實施例2相同地制作出雙面透明導電性膜。
[0142] [比較例4]
[0143] 除了未形成光學調整層32a、32b以外，與實施例1相同地制作出雙面透明導電性 膜。
[0144] [比較例5]
[0145] 除了將光學調整層31a、31b的厚度設為115nm、未形成光學調整層32a、32b以外，與 實施例1相同地制作出雙面透明導電性膜。
[0146] [評價]
[0147] 對實施例1~9及比較例1~5中得到的各個雙面透明導電性膜，進行了下述的評 價。將各評價結果表示于表1中。
[0148] <光學調整層的折射率>
[0149] 準備上述的光學調整層形成用的涂布液，依照JIS K7105測定針對該固化物的折 射率，作為光學調整層的折射率。具體而言，在未處理的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜（以下稱 作PET膜。）上使用棒涂機涂布形成用涂布液，在80°C干燥60分鐘。然后，使用高壓水銀燈照 射0.6J/cm 2的紫外線，使涂膜固化。將該操作反復進行2次而形成層疊有2層的固化膜的固 化物后，從PET膜上剝離固化物。對所得的固化物，使用阿貝折射儀，射入測定光(鈉 D線）而 以25.0± 1.0°C測定4次，將測定值的平均作為光學調整層的折射率nD25。
[0150] <各層的厚度>
[0151]抗粘連層、光學調整層及透明導電層的厚度是使用大塚電子(株)制的瞬間多重測 光系統(tǒng)"MCPD2000"（商品名），在膜的寬度方向對等間隔的5點進行測定，以所得的干涉光譜 的波形為基礎算出平均值而求出。
[0152] <粒子的最頻粒徑>
[0153]使用流動式粒子圖像分析裝置(Sysmex公司制、產(chǎn)品名"FPIA-3000S"），在規(guī)定條 件下(鞘液:乙酸乙酯、測定模式:HPF測定、測定方式:總粒子數(shù))進行測定。測定試樣是將粒 子用乙酸乙酯稀釋為1.0重量％、并使用超聲波清洗機均勻地分散而制備。
[0154] <無機成分的中值粒徑>
[0155] 將試樣用稀釋液(丙二醇單甲醚)稀釋為固體成分濃度1 %，通過用動態(tài)光散射式 粒徑分布測定裝置(堀場制作所制LB - 500)測定粒度分布而求出。
[0156] <反射率的測定>
[0157] 使用日立Hitec公司制的分光光度計"U-4100"（商品名）的積分球測定模式，將向 透明導電層的入射角設為2度，以波長5nm間隔測定波長380~780nm的區(qū)域的反射率，將這 些反射率的平均值作為雙面透明導電性膜的反射率。而且，所述測定如圖4A所示，在雙面透 明導電性膜1〇(樣品）的一方的透明導電層4b側用粘合劑11貼合黑色的丙烯酸類樹脂板13 而形成遮光層，在另一個面用粘合劑11貼合制作透明導電性膜時的基材膜1，在基本上沒有 來自樣品的背面的反射或來自背面?zhèn)鹊墓獾娜肷涞臓顟B(tài)下進行測定。由此得到反射率1。另 外，如圖4B所示，以僅將基材膜1用粘合劑11貼合于黑色的丙烯酸類樹脂板13的構成再次進 行反射率測定，得到反射率2。通過從反射率1中減去反射率2,而得到反射率的值。
[0158] <抗粘連性>
[0159] 利用指壓使平滑性高的膜（日本Zeon公司制、商品名"ZE0N0R膜ZF-16"）向所制作 出的雙面透明導電性膜的透明導電層表面壓接，基于以下的基準評價了粘貼程度。
[0160] (評價基準）
[0161] ◎:沒有發(fā)生粘貼
[0162] 〇:雖然一度發(fā)生粘貼，然而隨著時間的經(jīng)過，膜發(fā)生剝離
[0163] X :發(fā)生粘貼的膜保持原狀而不剝離
[0164] <反射光的散射的評價>
[0165] 對所制作出的雙面透明導電性膜在透射白色光的同時進行借助光學顯微鏡（50 倍)的目視檢查，基于以下的基準判定了反射光的散射的有無。
[0166] (評價基準）
[0167] ◎:完全看不到反射光的散射的水平
[0168] 〇:基本上看不到反射光的散射的水平
[0169] A:可以看到反射光的散射，然而是對觀察性沒有影響的水平
[0170] X :反射光的散射的影響強，是損害觀察性的水平
[0171] [表 1]
[0173] 實施例1~9的雙面透明導電性膜中，反射率得到降低，可以獲得良好的抗粘連性， 另外，可以獲得如下的結果，即，反射光的散射受到抑制而使外觀也良好，或者至少是對觀 察性沒有影響的水平。
[0174] 另一方面，比較例1中，雖然反射率及外觀良好，然而抗粘連性差。對此可以推測是 因為，抗粘連層的粒子的最頻粒徑d與平坦部的厚度Ta之差d - Ta過小，因光學調整層的形成 而將隆起部掩埋。比較例2中，雖然抗粘連性及外觀是沒有問題的水平，然而由于光學調整 層層疊體的厚度小于60nm而反射特性的控制不充分，因此反射率的值變大。比較例3中，雖 然反射率及抗粘連性良好，然而外觀不良。對此可以推測是因為，光學調整層的厚度過大而 使涂布液向隆起部周邊的流延變得明顯，隆起部周邊的光學設計受到破壞而產(chǎn)生光的散 射。比較例4及5中，由于僅形成1層光學調整層，因此無法控制雙面透明導電性膜的反射特 性，反射率變大。
[0175] 而且，實施例6及7中，雖然基本上看不到反射光的散射，然而可以看到被推測是起 因于光學調整層中的無機成分的尺寸小的突起狀的外觀不良。雖然它們對觀察性沒有影 響，然而為了避免它們，可以說優(yōu)選使無機成分的中值粒徑小于光學調整層的厚度。
[0176] 符號的說明
[0177] 1基材膜，2a、2b抗粘連層，3a、3b光學調整層層疊體，31&、3訃、32 &、3213光學調 整層，4a、4b透明導電層，5粒子，10雙面透明導電性膜，21平坦部，22隆起部，0圖案開 口部，P圖案形成部，Ta抗粘連層的厚度，To光學調整層層疊體的厚度，X雙面圖案區(qū)域， Y1、Y2單面圖案區(qū)域。
【主權項】
1. 一種雙面透明導電性膜， 在基材膜的兩面分別依次形成光學調整層層疊體和透明導電層，所述光學調整層層疊 體中層疊有2層以上的光學調整層， 在各所述光學調整層層疊體中，所述各光學調整層具有不同的折射率， 在所述基材膜與至少一方的所述光學調整層層疊體之間，形成有含有粒子的抗粘連 層， 所述抗粘連層具有平坦部、和起因于所述粒子的隆起部， 所述粒子的從最頻粒徑的值中減去所述抗粘連層的平坦部的厚度的值而得的值大于 所述光學調整層層疊體的厚度的值， 所述光學調整層層疊體的厚度分別為60nm以上且250nm以下。2. 根據(jù)權利要求1所述的雙面透明導電性膜，其中，所述光學調整層是利用濕式涂敷形 成的層。3. 根據(jù)權利要求1或2所述的雙面透明導電性膜，反射率為1.2%以下。4. 根據(jù)權利要求1~3中任一項所述的雙面透明導電性膜，其中，所述粒子的從最頻粒 徑的值中減去所述抗粘連層的平坦部的厚度的值而得的值為200nm以上且1200nm以下。5. 根據(jù)權利要求1~4中任一項所述的雙面透明導電性膜，其中，至少1層的所述光學調 整層由含有有機成分和無機成分的有機無機復合材料形成， 所述無機成分的中值粒徑的值小于所述光學調整層的厚度的值。6. 根據(jù)權利要求1~5中任一項所述的雙面透明導電性膜，其中，所述透明導電層被圖 案化，具有該透明導電層形成圖案的圖案形成部、和不存在該透明導電層的圖案開口部。7. 根據(jù)權利要求1~6中任一項所述的雙面透明導電性膜，其中，所述基材膜含有環(huán)烯 烴系樹脂。8. -種雙面透明導電性膜卷繞體，其將權利要求1~7中任一項所述的雙面導電性膜的 長尺寸體卷繞為卷筒狀。9. 一種觸控面板，其具備權利要求1~7中任一項所述的雙面透明導電性膜。
【文檔編號】B32B7/02GK105934735SQ201580005348
【公開日】2016年9月7日
【申請日】2015年1月29日
【發(fā)明人】橋本尚樹, 高田勝則, 豬飼和宏, 平岡慎哉, 倉本浩貴, 津野直樹, 梅本徹, 鷹尾寬行
【申請人】日東電工株式會社