專利名稱：磁光讀和寫系統(tǒng)的磁光頭及該磁光頭的制造方法
技術領域：
本發(fā)明涉及與一個磁場調(diào)制線圈有關的結構改進和安裝一個袖珍物鏡的磁光讀和寫系統(tǒng)的磁光頭，和該磁光頭的制造方法。
磁光讀和寫系統(tǒng)，通過磁場調(diào)制，將信息寫在磁光記錄介質上，并利用光學方法，從該介質上讀寫的信息。


圖1表示一個通常的磁光讀和寫系統(tǒng)。該磁光讀和寫系統(tǒng)包括一個可以相對于基座10擺動的轉臂21；一個給該轉臂21提供回轉驅動力的作動器23；一個固定在該轉臂21的一端上，可以依靠流體動力學性質浮起在一個磁光記錄介質1上，以掃描該介質的磁道的空氣支承滑座25；和一個安裝在該滑座25上，用光學方法從該磁光記錄介質上讀取信息的磁光頭30。磁光頭30包括一個用于將光點聚焦在該磁光記錄介質1上的物鏡31；和磁場調(diào)制用的線圈(沒有示出)。
參見圖2和圖3可看出，磁光讀和寫系統(tǒng)的通常的磁光頭30包括安裝在上述滑座25上，用于將入射的激光聚焦在該磁光記錄介質1上的物鏡31；安裝在該滑座25的一側上，與該滑座平行，位于該物鏡31和磁光記錄介質1的表面之間的二個磁極33和35；和分別卷繞在該磁極33和35周圍的第一個線圈37和第二個線圈39。該二個磁極33和35彼此隔開一段距離，以便使被該物鏡31聚焦的激光，通過它們之間的間隙。該第一個線圈37和第二個線圈39形成可使該磁光頭30將信息寫在該磁光記錄介質1上的水平磁場，該水平磁場的方向可根據(jù)流過該線圈37和39的電流方向而改變。
如上所述，通常的磁光頭30的結構是，該第一個線圈37和第二個線圈39卷繞在水平安裝在物鏡31下面的磁極33和35周圍。由于這樣的結構，限制了該磁光頭30的微型化；并且記錄密度和磁場附近的記錄性能也受到限制。另外，將第一個線圈37和第二個線圈39分別卷繞在磁極33和35周圍，從裝配特性，成本和生產(chǎn)率方面來看，也是效率不高的，從而使該磁光頭的大量生產(chǎn)比較困難。
為了解決上述問題，本發(fā)明的一個目的是要提供一種帶有利用半導體制造方法制成的薄膜式的，供磁場調(diào)制用的微型線圈的磁光讀和寫系統(tǒng)的磁光頭，及該磁光頭的制造方法；使得可以在避免裝配袖珍線圈的困難，和改善磁場附近的記錄性能的同時，使該磁光頭微型化。
根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供了一種可以利用磁場調(diào)制將信息寫在磁光記錄介質上，并用光學方法從該磁光記錄介質上讀取信息的一個磁光寫和讀系統(tǒng)的磁光頭，該磁光頭安裝在一個可依靠流體動力學性質(hydrodynamics)，在一個可在該磁光記錄介質上運動的滑動臂的末端，該磁光頭包括一個安裝在該滑動臂末端，用于將入射光聚焦在磁光記錄介質上，形成一個光點的透鏡；一個包括至少二個重疊的線圈層，和一個放在該二個線圈層之間，用于使該二個線圈層彼此電氣上絕緣的絕緣層的線圈；該二個重疊的線圈層為螺旋線結構的平面線圈，具有使該二個線圈層電氣上連接的電氣觸點；和一個放在該透鏡和線圈之間，用于使該線圈與透鏡的一側連接，面向該磁光記錄介質和用于使該二個線圈層與外部電源電氣上連接的連接件。
最好，該連接件為從線圈的最上面的一個線圈層突出出來的，用導電材料制成的焊料凸塊；該焊料凸塊用于與外部電源電氣上連接起來，該焊料凸塊通過加熱熔化，粘接在該透鏡上。該焊料凸塊是由錫-鉛(Sn-Pb)合金，銀-錫-鉛(Ag-Sn-Pb)合金和金-錫(Au-Sn)合金組成的組中選擇出的至少一種金屬合金制成的。
根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，提供了一種制造磁光頭的方法，可以利用磁場調(diào)制將信息寫在磁光記錄介質上，并用光學方法從該磁光記錄介質上讀取信息的一個磁光寫和讀系統(tǒng)的磁光頭，該磁光頭安裝在一個可依靠流體動力學性質，在一個可在該磁光記錄介質上運動的滑動臂的末端，該方法包括在一塊基片上形成一個犧牲層；在該犧牲層上形成一個包括至少二個線圈層和至少一個絕緣層的線圈；將該線圈和犧牲層上構圖，以形成一個通孔；在該線圈的最上面一個線圈層上，形成鍍覆模圖案，并將焊料涂敷在該鍍覆模圖案中，以形成焊料凸塊；準備一個具有向著磁光記錄介質突出一個預先確定的長度的發(fā)射部分的透鏡，該透鏡用于將入射光聚焦在該磁光記錄介質上，形成一個光點，并將具有預先確定的圖案的金屬薄膜，涂覆在該透鏡除了發(fā)射部分以外的底面上，形成一個導電的反光層；將該發(fā)射部分插入該通孔中，以便將該透鏡放在上述焊料凸塊上，再加熱該透鏡和焊料凸塊組件，使焊料凸塊熔化，將該透鏡與線圈焊接在一起；和除去該犧牲層，將該透鏡和線圈的組合件與上述基片分離。
最好，形成該線圈的工序包括在該犧牲層上形成一個鍍覆時用的籽晶層；在該籽晶層上沉積一模，至一個預先確定的厚度，并對該模層構圖，以形成鍍覆模圖案；將金屬鍍覆在該鍍覆模圖案中，形成具有預先確定厚度的一個線圈層；在該鍍覆模圖案和該線圈層上，形成一個絕緣層；和依次重復一次或多次形成該籽晶層，形成該鍍覆模圖案，形成該線圈層和形成絕緣層的工序，以形成重疊的多個線圈層；該重疊的多個線圈層中的每一個線圈層都是平面形的。
通過結合附圖，對優(yōu)選實施例進行的詳細說明，將可以更清楚地了解本發(fā)明的目的和優(yōu)點。其中圖1為通常的磁光讀和寫系統(tǒng)的示意性平面圖；圖2為磁光讀和寫系統(tǒng)的通常的磁光頭的正視圖；圖3為沿著圖2的Ⅲ-Ⅲ線所取的底視圖；圖4為根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實施例的、安裝在一個滑座上的磁光讀和寫系統(tǒng)的磁光頭的示意性正視圖；圖5為圖4所示的磁光頭的部分正視圖；圖6為圖5中的透鏡的示意性底視圖；圖7為圖4所示的磁光頭的線圈的分解透視圖；圖8A～8E為表示根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實施例的磁光讀和寫系統(tǒng)的磁光頭的制造方法的截面圖；和圖9A～圖9K為更詳細地表示根據(jù)本發(fā)明的磁光讀和寫系統(tǒng)的磁光頭線圈的制造的截面圖。
參見圖4和圖5，根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實施例的磁光讀和寫系統(tǒng)的磁光頭，安裝在可依靠流體動力學性質在磁光記錄介質100的表面上運動的一個空氣支承滑座(air-bearing slider)110上。該磁光頭包括一個用于將入射光在該磁光記錄介質100上聚焦，形成一個光點的透鏡120；一個固定在該透鏡120的一個表面上，面向該磁光記錄介質100的線圈140；和一個用于將線圈140和透鏡120連接起來，并使線圈140與一個外部電源電氣上連接的連接件160。
對于能在磁場附近的寫操作，該透鏡120將入射光聚焦在該磁光記錄介質100上，形成一個光點。當該磁光記錄介質100上的光點區(qū)域被加熱至該介質的居里點溫度或更高的溫度時，線圈140產(chǎn)生垂直磁場，并通過將磁光記錄介質磁化，而將信息記錄下來。通過發(fā)揮克耳(Kerr)效應，可使記錄的信息再現(xiàn)。換句話說，當該磁光記錄介質上的光點溫度降低至居里點溫度或更低的溫度時，根據(jù)在該介質上的磁化區(qū)域的磁光方向不同，入射光束的偏振方向改變，因此可從該介質上讀取信息。
為了實現(xiàn)這些功能，該透鏡120包括一個透光部分121，第一個反光部分123，第二個反光部分125，發(fā)射部分127和一個導電反光層129。該透光部分121作成凹面形狀，使入射光L可以發(fā)散式地透過。作為面對該透光部分121的一個平面的第一個反光部分123，將入射光L反射至靠近該透光部分121的第二個反光部分125上。該第二個反光部分125作成圍繞該透光部分121的一個凹鏡結構，使該凹鏡結構可將由第一個反光部分123反射來的入射光，再反射至該凹鏡的焦點上。該發(fā)射部分127作成從該第一個反光部分123的中心，向外伸長一個預先確定的長度的形式，可使從第二個反光部分125反射出來的聚焦的光透過，在磁光記錄介質100上形成一個光點。為了進行寫和讀的操作，該發(fā)射部分127在該磁光記錄介質100之上，與該介質隔開一個預先確定的距離。如圖6所示，在該第一個反光部分123上，形成分為至少二個部分129a和129b的導電的反光層(conductive reflectivelayer)129。該導電的反光層129通過熔化，粘接在上述連接件160上，可使電流從外部電源流至線圈140中。另外，該導電的反光層129可保證從第一個反光部分123發(fā)出的入射光，全部反射至第二個反光部分125上。
線圈140包括至少二個線圈層141和151，及一個放置在該二個線圈層中間的，使該二個線圈層141和151電氣上絕緣的絕緣層143。作為螺旋線結構的平面形線圈的該二個線圈層141和151，彼此通過電氣接點連接。
圖4和圖5表示一個雙層線圈結構。線圈140的第一和第二個線圈層141和151與絕緣層143的詳細結構，將參照圖7進行說明。參見圖7，該第一個線圈層141的結構，是圍繞著透鏡120的發(fā)射部分127，成在一個預先確定的距離內(nèi)，例如在反時針方向上的螺旋線的結構。該第一個線圈層141包括在其螺旋線結構的內(nèi)端上的第一個觸點141a；和圍繞該第一個線圈層141的圓周設置的第二個觸點141b。該第一個觸點141a和第二個觸點141b通過上述絕緣層143，與上述第二個線圈層151連接；并且還可以與上述導電的反光層129連接。第二個線圈層151重疊在第一個線圈層141上面。在第一和第二個線圈層之間，放置著絕緣層143。第二個線圈層151的結構是與第一個線圈層141的螺旋線方向相反的螺旋線結構。第二個線圈層151具有與上述第一個觸點141a連接的第三個觸點151a；和通過上述連接件160，與上述導電的反光層129連接的第四個觸點151b。另外，該第二個線圈層151具有一個圍繞其圓周的、與第二個線圈層151電氣上絕緣的連接部分153。該連接部分153與第一個線圈層141連接，可使電流從上述導電的反光層129流至第一個線圈層141。這樣，該導電的反光層129的一部分129b，通過該連接部分153與第二個觸點141b連接；而該導電的反光層129的另一部分129a，則與第四個觸點151b連接。結果，當電流通過導電的反光層129的一部分129b流入時，電流首先流過第一個線圈層141，然后通過上述第一個觸點141a和第三個觸點151a，流至第二個線圈層151中。在電流流過第二個線圈層151后，電流再通過上述第四個觸點151b，流至該導電的反光層129的另一部分129a中。
絕緣層143用于使第一個線圈層141和第二個線圈層151互相絕緣，同時又可使第一個線圈層141和第二個線圈層151電氣上連接。絕緣層143上有通孔143a和143b，可使上述第一個觸點141a和第三個觸點151a，以及第二個觸點141b和上述第二個線圈層上的連接部分153電氣上連接起來。
參見圖4和圖5可看出，最好上述透鏡120的發(fā)射部分127的長度，比線圈140和連接件160的總高度大，以防止當上述滑座在磁光記錄介質100上運動時，該線圈140與該磁光記錄介質100接觸。
最好，從該線圈140的最上層，例如，第二個線圈層151突出出來的該連接件160，作成由導電材料制成的焊料凸塊161的形式。該焊料凸塊在受熱熔化后，可使上述導電的反光層129和線圈140物理接觸，另外，還可使該導電的反光層129與第一個線圈層141和第二個線圈層151電氣上連接。作為該焊料凸塊161的材料，最好采用錫-鉛(Sn-Pb)合金，銀-錫-鉛(Ag-Sn-Pb)合金或金-錫(Au-Sn)合金。
該多個焊料凸塊161設置成可使上述第一個線圈層141和第二個線圈層151，單獨地與導電的反光層129的二個分開的部分129a和129b中的每一部分連接。又如圖5所示，在第二個線圈層151上作出一個安放上述焊料凸塊161的部分，該部分經(jīng)過電鍍，可以放置該焊料凸塊161。這樣，就形成了第二個線圈層151與該導電的反光層129的一個預先確定的接觸區(qū)域，并可使該導電的反光層的二個分開的部分129a和129b形成的電極互相隔開。然而，在通過這些工序形成的焊料凸塊161上，存在著天生的氧化物薄膜，這種氧化物薄膜熔化時，可削弱該焊料凸塊與透鏡120的粘接力。
考慮到這個缺點，該焊料凸塊161和透鏡120之間通過加熱熔化的連接是用無焊劑(fluxless)的回流焊接方法實現(xiàn)的。這時，加熱是沒有焊劑的高純度氮的氣氛中或真空中進行的。換句話說，在高純度的氮氣氛中或真空中加熱，可防止在高溫下，在該焊料凸塊161上形成氧化物薄膜，從而可增強與透鏡120的粘接力。
圖8A～圖8E為表示采用根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實施例的雙層線圈的一個磁光頭的制造方法的截面圖。
如圖8A所示，在制造磁光頭時，先準備一塊基片200，例如，一塊硅晶片，并在該基片200上形成一個犧牲層210。在該犧牲層210上形成包括多個線圈層，例如，二個線圈層，和放在該多個線圈層之間的一個絕緣層的線圈140以后，作出放入圖4所示的透鏡120的發(fā)射部分127的一個通孔220。這里，該通孔220是穿過該線圈140和犧牲層210作出的，以便使上述透鏡的發(fā)射部分127的長度，比該線圈140的高度大。
犧牲層210是由鈦(Ti)，鉻(Cr)或感光性樹脂制成的。如果選擇感光性樹脂作為犧牲層210的材料，其優(yōu)點是，犧牲層210容易清除。如果用Ti或Cr制成犧牲層210，則容易形成籽晶層(seed layer)230。這點將在后面說明。
然后，如圖8B所示，在該線圈140的最上一層，例如，第二個線圈層151(見圖7)上，形成一個鍍覆模圖案(plating mold pattern)，并將焊料鍍覆在該部分上，形成該焊料凸塊161。最好，該焊料凸塊161由Sn、Pb合金、Ag-Sn-Pb合金或Au-Sn合金制成。
然后，參見圖8C，準備上述具有一個向著磁光記錄介質100(見圖4)突出一個預先確定的長度，用以將入射光聚焦在磁光記錄介質100上，形成一個光點的發(fā)射部分127的透鏡120。然后，在面向線圈140，圍繞著該發(fā)射部分127區(qū)域的上述透鏡120的第一個反射部分123的外面，涂敷一層金屬薄膜。該金屬薄薄膜就形成上述導電的反光層129。
再如圖8D所示，將透鏡120的發(fā)射部分127插入上述通孔220中，使該透鏡120安放在上述焊料凸塊161上。然后，將該組件加熱，使得該焊料凸塊熔化后，將透鏡120與線圈140連接起來。這里，加熱熔化該焊料凸塊161，與透鏡120粘接的過程，是在高純度的氮氣氛或真空中，利用無焊藥的回流焊接方法進行的。在高純度氮的氣氛中或真空中加熱，可防止在高溫下，在該焊料凸塊161上形成氧化物薄膜，從而可改善與透鏡120的粘接強度。
最后，如圖8D所示，除去該犧牲層210，將該透鏡120和線圈140組件，與基片200分離，形成如圖8E所示結構的磁光頭。
參照圖8A說明的線圈140的形成過程，將更詳細地參照圖9A～圖9K進行說明。
參照圖9A，在基片200之上的犧牲層210上面，形成第一個籽晶層230。該第一個籽晶層230起到電鍍上述第一個線圈層141(見圖9C)時的一個電極的作用；并且是通過將一種導電性非常好的材料(例如，銅(Cu))，真空沉積在該犧牲層210上而形成的。如果犧牲層210是由感光性樹脂制成的，則最好在沉積第一個籽晶層230之前，在該犧牲層210上沉積一個Cr或Ti的粘接劑層215，以便增強與第一個籽晶層230的粘接強度。最好，使用Cr-Cu合金或Ti-Cu合金作為第一個籽晶層230的材料。
接著，如圖9B所示，根據(jù)第一個線圈層141所希望的形狀，對第一個籽晶層230構圖。換句話說，在第一個籽晶層230上作出圖案，以形成以后將在其中構成第一鍍覆模圖案240的第一個絕緣槽231。
再參見圖9C，將一個鍍覆模沉積在第一個籽晶圖案230′上，至一個預先確定的厚度，并且構圖為與第一個線圈層141的形狀相反。這樣，就完成了該第一鍍覆模圖案240。因為該第一籽晶圖案230′很薄，厚度只有大約1000(埃)，因此最好采用旋轉涂層法來沉積該鍍覆模，以保證模層的表面是平的。該第一鍍覆模圖案240由絕緣材料(例如感光性樹脂)制成。在這種情況下，對該第一鍍覆模圖案240構圖只用一次光刻工藝完成。
再參見圖9D，將一層預先確定厚度的金屬，電鍍在該第一鍍覆模圖案240中。該金屬就構成具有預先確定的線寬的螺旋線結構的上述第一個線圈層141。該第一個線圈層141是在大電流條件下比較耐用的較厚的金屬層，因此最好采用可形成這種較厚的金屬層的鍍覆技術。這時，可以使用電鍍方法和無電鍍的鍍層方法。
接著，加熱該第一鍍覆模圖案240。這個加熱過程可除去該第一鍍覆模圖案240上的剩余溶劑，并可將由溶劑造成的該第一鍍覆模圖案240的變形減至最小。作為該加熱過程的結果，該第一鍍覆模圖案240的高度降低，如圖9E所示?？紤]到這點，最好將該第一鍍覆模圖案240的高度作得比該第一個線圈層141的高度高些，如圖9D所示。例如，假設在加熱之后，該第一鍍覆模圖案240的高度，比其加熱前原來的高度減少70％，則可將該第一鍍覆模圖案240的高度作感比該第一個經(jīng)圈層141的高度高大約140％。這樣，在加熱以后，該第一鍍覆模圖案240的頂面240′，幾乎與第一個線圈層141的頂面在同一個高度水平上，如圖9E所示。
該加熱過程可利用一個爐子，一個平面加熱裝置，一個紫外線硬化裝置或電子束加熱裝置來完成。
接著，如圖9F所示，在該第一鍍覆模圖案240′和第一個線圈層141上，形成使第一個線圈層141和第二個線圈層151之間電氣上絕緣的絕緣層143(見圖9J)。該絕緣層143上有通孔143a和143b，可使該第一個線圈層141，通過其上面的第一個觸點141a和第二個觸點141b(見圖7)，與第二個線圈層151和導電的反光層129電氣上連接起來。最好，該絕緣層143由電介質材料，例如SiO2和Si3N4，或諸如感光性樹脂和聚酰亞胺一類的聚合物制成。
然后，如圖9G所示，在絕緣層143上形成第二個籽晶層250。該第二個籽晶層250在電鍍第二個線圈層151時起一個電極的作用；它是通過將導電性很好的材料(例如銅(Cu))，真空沉積在絕緣層143上而形成的。絕緣層143上的通孔143a和143b充滿導電材料，可使第一個線圈層141和第二個線圈層151，通過觸點電氣上連接起來。
然后，如圖9H所示，根據(jù)第二個線圈層151所希望的形狀，在第二個籽晶層250上構圖。換句話說，在該第二個籽晶層250上構圖，形成以后要其中構成第二鍍覆模圖案部分260(見圖9I)的第二個絕緣槽251。第二個籽晶層250由Cr-Cu合金或Ti-Cu合金制成，這些合金也可用于制造如上所述的第一個籽晶層230。
接著，參見圖9I所示，在該第二個籽晶層250的頂面250′上，沉積一個預先確定厚度的鍍覆模圖案，并在該鍍覆模部分上作出與第二個線圈層151的形狀相反的圖形，從而完成該第二鍍覆模圖案260。
再參見圖9J，在該第二鍍覆模圖案260上，電鍍一層預先確定厚度的金屬。該層金屬就構成帶有預先確定的線寬的螺旋線結構的第二個線圈層151。該第二個線圈層151為在大電流條件下較耐用的較厚的金屬層，因此，最好采用電鍍方法來形成這種較厚的金屬層。這時，可以使用電鍍方法和無電鍍的鍍層方法。
接著，加熱該第二鍍覆模圖案260。這個加熱過程可除在該第二鍍覆模圖案260上剩余的溶劑，將該溶劑造成的該第二鍍覆模圖案260的變形減至最小。該加熱過程使第二鍍覆模圖案260的高度降低，如圖9K所示。考慮到這點，最好將該第二鍍覆模圖案260的高度，作得比第二個線圈層151的高度高些(如圖9J所示)，以便使該第二個供電鍍使用的模型部分260的頂面260′，在加熱之后，幾乎與第二個線圈151的頂面在一個高度水平上。然后，去除A部分，形成一個可放入上述透鏡120的發(fā)射部分127(見圖8D)的通孔；這樣，就完成了線圈140的制造。
如上所述，在具有上述結構的根據(jù)本發(fā)明的磁光讀和寫系統(tǒng)的磁光頭中，利用焊料凸塊使薄膜式的微型線圈與一個透鏡結合，因此，容易進行裝配，線圈和透鏡之間的粘接強度高。另外，不需要另外的相互連接，因此可減少制造磁光頭的工序數(shù)目。
另外，采用薄膜式微型線圈，可以利用半導體制造方法，例如薄膜形成法和電鍍法，來制造袖珍磁光頭；這樣，可降低制造成本，提高生產(chǎn)率。
另外，用于制造磁光頭的線圈的方法可使每一個線圈層的頂面保持為平面。因此，在完成下面一個線圈層，和電鍍了上面一個線圈層的籽晶層之后，可以保持用于在該籽晶層上構圖的曝光系統(tǒng)的焦深，而不會降低圖案的分辨率。另外，還可防止上面一個線圈層的金屬籽晶層脫開的問題出現(xiàn)。這樣，可以在不同線圈層的螺旋線線條和空白區(qū)域上面，使不同線圈層之間的距離保持在所希望的范圍內(nèi)；因此，可以很容易地將多個薄膜層重疊成一個微型線圈結構。
上述線圈層還可以制作更多層，這里不再詳述。
雖然，本發(fā)明結合優(yōu)選實施例進行了說明，但技術熟練的人懂得，在不偏離所附權利要求書確定的本發(fā)明的精神和范圍的條件下，可作對其形式和細節(jié)作各種各樣的改變。
權利要求
1．一種可以利用磁場調(diào)制將信息寫在磁光記錄介質上，并用光學方法從該磁光記錄介質上讀取信息的一個磁光寫和讀系統(tǒng)的磁光頭，該磁光頭安裝在一個可依靠流體動力學性質，在一個可在該磁光記錄介質上運動的滑動臂的末端，該磁光頭包括一個安裝在該滑動臂末端，用于將入射光聚焦在磁光記錄介質上，形成一個光點的透鏡；一個包括至少二個重疊的線圈層，和一個放在該二個線圈層之間，用于使該二個線圈層彼此電氣上絕緣的絕緣層的線圈；該二個重疊的線圈層為螺旋線結構的平面線圈，具有使該二個線圈層電氣上連接的電氣觸點；和一個放在該透鏡和線圈之間，用于使該線圈與透鏡的一例連接，面向該磁光記錄介質和用于使該二個線圈層與外部電源電氣上連接的連接件。
2．如權利要求1所述的磁光頭，其中，該連接件為從線圈的最上面的一個線圈層突出出來的，用導電材料制成的焊料凸塊；該焊料凸塊用于與外部電源電氣上連接起來，該焊料凸塊通過加熱熔化，粘接在該透鏡上。
3．如權利要求2所述的磁光頭，其中，該焊料凸塊是由錫-鉛(Sn-Pb)合金，銀-錫-鉛(Ag-Sn-Pb)合金和金-錫(Au-Sn)合金組成的組中選擇出的至少一種金屬合金制成的。
4．如權利要求1所述的磁光頭，其中，該線圈的二個線圈層具有相同的螺旋線結構和螺旋線方向。
5．如權利要求1～4中任何一條所述的磁光頭，其中，該透鏡包括一個用于發(fā)散地透射入射光的透光部分；一個面向該透光部分，用于反射入射光的第一個反光部分；一個在該透光部分周圍形成的，用于反射被該第一個反光部分反射的入射光，使光線聚焦的第二個反光部分；一個從該第一個反光部分的中心向外伸出一個預先確定的長度，用于使被該第二個反光部分聚焦的光線透過的發(fā)射部分；和一個在該第一個反光部分的外側形成的，用于與外部電源電氣上連接的導電的反光層；該導電的反光層分成至少二個部分，并在熔化后與上述連接件連接。
6．如權利要求5所述的磁光頭，其中，該發(fā)射部分的長度，作得比該線圈的高度長些，以便當上述滑動臂在磁光記錄介質上運動時，可防止該線圈與磁光記錄介質接觸。
7．一種制造磁光頭的方法，該磁光頭用于一個磁光寫和讀系統(tǒng)，其可以利用磁場調(diào)制將信息寫在磁光記錄介質上，并用光學方法從該磁光記錄介質上讀取信息，該磁光頭安裝在一個可依靠流體動力學性質，在一個可在該磁光記錄介質上運動的滑動臂的末端，該方法包括在一塊基片上形成一個犧牲層；在該犧牲層上形成一個包括至少二個線圈層和至少一個絕緣層的線圈；將該線圈和犧牲層構圖，以形成一個通孔；在該線圈的最上面一個線圈層上，形成鍍覆模圖案，并將焊料鍍覆在該鍍覆模圖案中，以形成焊料凸塊；準備一個具有向著磁光記錄介質突出一個預先確定的長度的發(fā)射部分的透鏡，該透鏡用于將入射光聚焦在該磁光記錄介質上，形成一個光點，并將具有預先確定的圖案的金屬薄膜，涂覆在該透鏡除了發(fā)射部分以外的底面上，形成一個導電的反光層；將該發(fā)射部分插入該通孔中，以便將該透鏡放在上述焊料凸塊上，再加熱該透鏡和焊料凸塊組件，使焊料凸塊熔化，將該透鏡與線圈焊接在一起；和除去該犧牲層，將該透鏡和線圈的組合件與上述基片分離。
8．如權利要求7所述的方法，其中，形成該線圈的工序包括在該犧牲層上形成一個鍍覆時用的籽晶層；在該籽晶層上沉積一模，至一個預先確定的厚度，并對該模層構圖，以形成鍍覆模圖案；將金屬鍍覆在該鍍覆模圖案中，形成具有預先確定厚度的一個線圈層；在該鍍覆模圖案和該線圈層上，形成一個絕緣層；和依次重復一次或多次形成該籽晶層，形成該鍍覆模圖案，形成該線圈層和形成絕緣層的工序，以形成重疊的多個線圈層；該重疊的多個線圈層中的每一個線圈層都是平面形的。
9．如權利要求8所述的方法，在形成線圈層以后還包括，加熱上述鍍覆模圖案，以除去該鍍覆模圖案上的殘余溶劑，使該鍍覆模圖案耐熱。
10．如權利要求9所述的方法，其中，將該鍍覆模圖案的高度，作得比該線圈層的厚度大一個預先確定的量，使得在完成該鍍覆模圖案加熱后，該鍍覆模圖案的頂面，與該線圈層的頂面幾乎在同一個高度水平上。
11．如權利要求8～10中任何一條所述的方法，其中，該供電鍍時用的籽晶層由鉻-銅(Cr-Cu)合金或鈦-銅(Ti-Cu)合金制成。
12．如權利要求8～10中任何一條所述的方法，其中，該絕緣層是從由包括SiO2和Si3N4在內(nèi)的電介質材料，和包括感光性樹脂和聚酰亞胺在內(nèi)的聚合物組成的組中選出的至少一種材料制成的。
13．如權利要求7～10中任何一條所述的方法，其中，該犧牲層是從由鈦(Ti)、感光性樹脂和鉻(Cr)組成的組中選出的至少一種材料制成的。
14．如權利要求7～10中任何一條所述的方法，其中，該焊料凸塊是從由錫-鉛(Sn-Pb)合金、銀-錫-鉛(Ag-Sn-Pb)合金和金-錫(Au-Sn)合金組成的組中選出的至少一種金屬合金制成的。
15．如權利要求7～10中任何一條所述的方法，其中，該焊料凸塊與透鏡的粘接是用無焊藥的回流焊接法，在沒有焊藥的條件下，在氮的氣氛或真空中加熱來達到的。
全文摘要
一種磁場調(diào)制線圈結構經(jīng)過改進和帶有一個袖珍物鏡的磁光寫和讀系統(tǒng)的磁光頭,及該磁光頭的制造方法。該磁光頭包括:一個安裝在該滑動臂末端,用于將入射光聚焦在該磁光記錄介質上,形成一個光點的透鏡;一個包括至少二個重疊的線圈層,和一個放在該二個線圈層中間,用二使該二個線圈層電氣上互相絕緣的絕緣層的線圈,該二個重疊的線圈層為螺旋線結構的平面線圈,并具有使該二個線圈層電氣上連接起來的電氣觸點。
文檔編號G11B5/02GK1287356SQ00118759
公開日2001年3月14日 申請日期2000年6月26日 優(yōu)先權日1999年6月24日
發(fā)明者金云培, 李炳贊, 慎炯宰, 延哲誠, 李相勛, 辛宗佑 申請人:三星電子株式會社