專利名稱：磁盤裝置的控制裝置、方法、記錄媒體及檢查方法和裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及磁盤裝置，具體而言，涉及磁頭的位置推定和位置控制。本發(fā)明還涉及磁盤裝置的檢查方法。
在用作外部存儲裝置的磁盤裝置中，采用在記錄媒體上寫入伺服信息的方法控制磁頭位置。該方法的一種是扇區(qū)伺服方法。該方法根據(jù)設(shè)置在磁道數(shù)據(jù)區(qū)起始部的伺服扇區(qū)的位置信息使磁頭尋跡任意磁道。
伺服扇區(qū)的基本結(jié)構(gòu)，由檢測伺服扇區(qū)用的同步部分、寫有磁道的磁道號的磁道號部分、和寫有尋跡用脈沖串的脈沖串部分構(gòu)成。磁頭的尋跡利用磁頭檢測脈沖串信號來實現(xiàn)。因而，尋跡精度取決于脈沖串信號的檢測精度。也即，磁頭、磁記錄媒體產(chǎn)生的磁噪聲給尋跡精度帶來惡劣影響。因此，分離疊加在脈沖串信號上的噪聲以獲得正確的尋跡位置信息將成為課題。
本發(fā)明的目的著眼于解決上述課題。
本發(fā)明磁盤裝置的控制裝置，包含利用脈沖串信號檢測磁頭相對磁道寬度方向的磁頭位置的位置檢測器；檢測疊加在被檢測的檢測位置上噪聲大小的噪聲檢測手段；根據(jù)所述噪聲大小確定推定增益的增益確定手段；推定執(zhí)行裝置狀態(tài)的推定器。
本發(fā)明磁盤裝置的控制方法，包含(a)利用脈沖串信號檢測磁頭相對磁道寬度方向位置的步驟；(b)檢測疊加在磁頭位置上噪聲大小的步驟；(c)根據(jù)噪聲大小確定推定增益步驟；(d)推定執(zhí)行裝置狀態(tài)的步驟。
本發(fā)明磁盤裝置的記錄媒體存儲執(zhí)行上述磁盤控制方法的程序數(shù)據(jù)。
本發(fā)明磁盤裝置的檢查裝置，把磁頭位置控制用脈沖串信號的振幅值相加，算出相加后振幅值的平均值和分散值或標(biāo)準(zhǔn)偏差值，利用該分散值或標(biāo)準(zhǔn)偏差值檢查磁盤裝置。
本發(fā)明磁盤裝置的檢查方法，包含把磁頭位置控制用脈沖串信號的振幅值相加的步驟，和算出相加后振幅值的平均值和分散值或標(biāo)準(zhǔn)偏差值的步驟；并利用算出的分散值或標(biāo)準(zhǔn)偏差值檢查磁盤裝置。


圖1為本發(fā)明實施形態(tài)1中磁盤裝置的基本框圖。
圖2為本發(fā)明實施形態(tài)1中推定器的基本框圖。
圖3為本發(fā)明實施形態(tài)2中盤片裝置的控制裝置的基本框圖。
圖4A-4C為本發(fā)明伺服扇區(qū)的格式說明圖。
圖5為磁頭相對伺服扇區(qū)部分的位置和與再現(xiàn)的再現(xiàn)脈沖串信號關(guān)系的說明圖。
圖6為本發(fā)明實施形態(tài)1中噪聲測定及噪聲修正的流程圖。
圖7為本發(fā)明實施形態(tài)2中盤片裝置的控制信號算出的基本流程圖。
圖8為本發(fā)明實施形態(tài)2中盤片裝置的狀態(tài)推定的流程圖。
圖9為本發(fā)明實施形態(tài)3中磁盤裝置的檢查工序的流程圖。
(實施形態(tài)1)參照圖1、圖2、圖4A-4C說明本發(fā)明實施形態(tài)1。
圖1中，磁盤101由主軸電動機(未圖示)使其旋轉(zhuǎn)。
如圖4A所示，在磁盤101的記錄媒體部分400存在許多同心圓狀的磁道。各磁道附有磁道號。具體而言，最外周磁道401的號為“0”，最大的號附給最內(nèi)周磁道402。
如圖4B所示，各磁道中數(shù)據(jù)扇區(qū)(DATA)與伺服扇區(qū)(SW)交替構(gòu)成。
如圖4C所示，伺服扇區(qū)由以下部分構(gòu)成。
(1)記錄同步信號的同步部分401(2)記錄磁道號的磁道號部分402(3)記錄伺服扇區(qū)號的楔形(wedge)號部分403(4)檢測磁頭90的磁道寬度方向位置用的脈沖串部分404、405、406、407在各脈沖串部分404-407記錄著頻率不同的A脈沖串信號，B脈沖串信號，C脈沖串信號，和D脈沖串信號。
位置檢測器103由以下電路(未圖示)構(gòu)成。
(1)對磁頭90來的再現(xiàn)信號放大的磁頭放大器(2)將放大后的再現(xiàn)信號控制在一定振幅的AGC放大器(3)將AGC放大器的輸出信號變換為數(shù)字信號的2值化電路(4)根據(jù)2值化電路的輸出信號檢測伺服扇區(qū)的伺服扇區(qū)檢測電路(5)產(chǎn)生定時檢測伺服扇區(qū)中磁道號部分402、脈沖串部分404-407的檢測定時生成電路(6)利用2值化后的信號檢測磁道號和楔形號的磁道信息檢測電路(7)檢測放大后A、B、C、D脈沖串信號的振幅并將檢測到的信號VA、VB、VC、VD經(jīng)A/D變換后輸出的位置信號生成電路。而且，該位置信號生成電路利用變換為數(shù)字信號的脈沖串信號還輸出磁頭的磁道寬度方向的位置信息(POS)。
噪聲測定部分110在控制使得例如VA和VB的電平相等狀態(tài)下，測定VA和VB，并將該測定值相加。對每個伺服扇區(qū)都進(jìn)行如此處理。然后進(jìn)行統(tǒng)計處理，算出相加后的平均值，和作為噪聲大小的分散值。
增益確定部分111確定噪聲測定部分110算出的噪聲分散值對應(yīng)的推定位置增益(LC1)117，推定速度增益(LC2)118，推定偏差增益(LC3)。
下面說明圖2所示推定器106。
減法器210從磁頭位置(POS)減去模型(model)位置(XEP1)，算出推定誤差(ESTERR)220。
乘法器227將推定位置增益(LC1)乘以推定誤差(ESTERR)。加法器237通過將該乘法結(jié)果與模型位置(XEP1)相加，算出推定位置(XE1)。
乘法器228將推定位置增益(LC2)乘以推定誤差(ESTERR)。加法器238通過將該乘法結(jié)果與模型速度(XEP2)相加，算出推定速度(XE2)。
乘法器229將推定偏差增益(LC3)乘以推定誤差(ESTERR)。加法器239通過將該乘法結(jié)果與模型偏差(XEP3)相加，算出推定偏差(XE3)。
以下，對模型位置(XEP1)、模型速度(XEP2)、模型偏差(XEP3)及推定位置增益(LC1)、推定速度增益(LC2)、推定偏差增益(LC3)的計算進(jìn)行具體說明。
首先，說明求推定位置和推定速度的情況。利用下式(1)求模型位置XEP1、模型速度XEP2。
d(XEP)dt＝F*XEP+G*U(1)這里， 在采樣系統(tǒng)中，如果用離散時間系統(tǒng)的方程式表示式(1)，則構(gòu)成式(2)。
XEP(k+1)＝PHI*XEP(k)+GAMMA*U(K)(2)用式(2)中的PHI、GAMMA，從下面式(3)可求得推定位置增益(LC1)和推定速度增益(LC2)。 這里，LC=LC1LC2]]>式(3)中，R是噪聲測定部分110預(yù)測到的噪聲分散值矩陣，Q是疊加在控制輸入U上的噪聲分散值矩陣。
用上面求得的XEP1、XEP2、LC1及LC2和POS算出推定位置、推定速度。
但是，如果用上述方法算出推定位置、推定速度，則因模型與實際的執(zhí)行裝置間產(chǎn)生的模型誤差或干擾的影響，算出的值會產(chǎn)生偏差。下面說明考慮到該偏差的算法。
說明求模型位置(XEP1)、模型速度(XEP2)、模型偏差(XEP3)的情況。推定位置、推定速度、推定偏差分別設(shè)定為XE1、XE2、XE3，則此時利用式(4)求得XEP1、XEP2、XEP3。
d(XEP)dt＝F*XE+G*U(4)這里， XEXE1XE2XE3]]>在采樣控制系統(tǒng)中，用離散時間系統(tǒng)的方程表示式(4)，則構(gòu)成式(5)。
XEP(k+1)＝PHI*XE(k)+GAMMA*U(k)(5)此時，將導(dǎo)出的PHI、GAMMA用于下式(6)中算出XEP1、XEP2、及XEP3。
用下式(6)表示的算法算出推定位置XE1，模型位置XEP1，推定速度XE2，模型速度XEP2，推定偏差XE3，模型偏差XEP3。 推定偏差增益Lc3的初始值根據(jù)控制響應(yīng)的速度確定。之后，根據(jù)測定的噪聲大小設(shè)定在初始值的0.5倍至1.5倍的范圍內(nèi)。LC1、LC2用式(3)求得。
下面，具體說明噪聲測定部分110中的噪聲測定。
圖5示出磁頭相對伺服扇區(qū)的位置與此時再現(xiàn)的再現(xiàn)脈沖串信號間關(guān)系。
如圖5所示，脈沖串部分500、501、502、503相對于磁道520、521、522配置在圖5所示位置中。磁道520、521、522的磁道寬度為TW。脈沖串部分500、501、502、503分別記錄有A脈沖串信號、B脈沖串信號、C脈沖串信號、D脈沖串信號。
磁頭90根據(jù)磁道中磁道寬度方向位置再現(xiàn)脈沖串信號。磁頭90再現(xiàn)的脈沖串信號的振幅在位置檢測器中得到檢測。因此，對應(yīng)磁頭位置檢測到圖5所示的信號VA，VB，VC，VD。
圖6是本實施形態(tài)1中噪聲測定及噪聲大小修正的流程圖。下面，根據(jù)圖6中流程圖說明噪聲測定及其修正。
<步驟600>
控制磁頭90的位置使VA信號與VB信號的值相等。在這種狀態(tài)下，噪聲測定部分110對各伺服扇區(qū)測定VA信號與VB信號并將該值相加。然后算出各扇區(qū)求得的相加值的平均值和分散值。
<步驟601>
在偶數(shù)號的磁道中，控制磁頭90的位置使VA信號與VC信號相等。在該狀態(tài)下測定VA信號的值(ACHI)。
同樣在奇數(shù)號的磁道中，控制磁頭90的位置使VA信號與VC信號相等。在該狀態(tài)下測定VA信號的值(ACLO)。
ACHI與ACLO的差相當(dāng)于0.5磁道寬。
<步驟602>
進(jìn)行下面式(7)的運算，求得修正值(HOSEI)，用于對步驟600求得的分散值進(jìn)行修正。 其中，N為平均磁道寬度(TW)的比特數(shù)。
<步驟603>
步驟600求得的分散值除以式(7)求得的修正值。從而求得修正后的分散值(Noise)。
上面，講述了算出作為噪聲大小的分散值，但也可以算出標(biāo)準(zhǔn)偏差值作為噪聲大小。此時，式(7)中的HOSEI變成HOSEI＝N/GAIN。
(實施形態(tài)2)圖3為本發(fā)明實施形態(tài)2中盤片裝置的控制裝置的原理圖。圖3中，與實施形態(tài)1所示相同的構(gòu)成部分賦以相同標(biāo)號。因而省略其說明。如圖3所示，實施形態(tài)2在實施形態(tài)1的基礎(chǔ)上增加了如下構(gòu)成部分。
·從目標(biāo)位置(DESPOS)減去推定位置(XE1)的減法器300·將減法器300算得的結(jié)果乘以規(guī)定系數(shù)的乘法器310·對推定速度(XE2)乘以規(guī)定系數(shù)的乘法器312·對推定偏差(XE3)乘以規(guī)定系數(shù)的乘法器314·將乘法器310、312、314的乘法結(jié)果相加輸出控制信號(U)的加法器315借助上述結(jié)構(gòu)，驅(qū)動電路根據(jù)控制信號(U)驅(qū)動驅(qū)動機構(gòu)102中音圈電動機(VCM)。結(jié)果，控制磁頭90跟蹤規(guī)定的磁道。
下面，參照圖7和圖8說明控制信號算出的過程。
<步驟700>
檢測磁頭90檢測到的A、B、C、D脈沖串信號的振幅，對該振幅值進(jìn)行A/D變換，生成位置信號VA、VB、VC、VD。
根據(jù)位置信號VA、VB、VC、VD生成磁頭的磁道寬度方向的位置信息(POS)。正常記錄或再現(xiàn)時用VA與VB的差求得位置信息(POS)。
<步驟710>
該步驟由實施形態(tài)1中說明的圖6中步驟601-603構(gòu)成。其處理與實施形態(tài)1的相同，故省略其說明。
<步驟720>
根據(jù)實施形態(tài)1中說明的式(3)算出推定位置增益LC1，推定速度增益LC2。推定偏差LC3首先根據(jù)控制系統(tǒng)的響應(yīng)速度確定，然后設(shè)定成步驟710中測定的噪聲分散值對應(yīng)的規(guī)定值。
<步驟730>
步驟730是算出控制信號U的步驟。下面參照圖8詳細(xì)說明該步驟。
<步驟731>
這是算出推定模型位置XEP1、推定模型速度XEP2、推定模型偏差XEP3的步驟。具體而言，根據(jù)實施形態(tài)1中說明的式(6)算出。
<步驟732>
從磁頭位置POS減去XEP1，算出推定誤差ESTERR。
<步驟733>
將ESTERR乘以LC1，對該相乘結(jié)果加XEP1，算出推定位置(XE1)。
<步驟734>
將ESTERR乘以LC2，對該相乘結(jié)果加XEP2，算出推定位置(XE2)。
<步驟735>
將ESTERR乘以LC3，對該相乘結(jié)果加XEP3，算出推定位置(XE3)。
<步驟736>
從目標(biāo)位置DESPOS減去XE1，對該結(jié)果乘以常數(shù)K1。對XE2和XE3分別乘以常數(shù)K2和K3。然后將這些乘法結(jié)果相加，算出控制信號U。
K1、K2是決定于控制響應(yīng)速度的值。在本實施例中，K3取“1”。
以上，參照圖7、8說明了本發(fā)明盤片裝置的控制方法，然而，存儲執(zhí)行這些步驟的計算機程序的記錄媒體也包含在本發(fā)明中。
如上所述，本發(fā)明的磁盤控制裝置、方法、記錄媒體能夠正確檢測位置信息，當(dāng)記錄再現(xiàn)數(shù)據(jù)時，能相對目標(biāo)位置高精度移動磁頭加以尋跡。也即，在位置信號上疊加噪聲或驅(qū)使磁頭移動的執(zhí)行裝置中產(chǎn)生干擾情況下，也能高精度、穩(wěn)定地高速跟蹤控制磁頭。
(實施形態(tài)3)本實施形態(tài)涉及生產(chǎn)工序中磁盤裝置的檢查裝置和檢查方法。
本發(fā)明磁盤裝置的檢查裝置的結(jié)構(gòu)與實施形態(tài)2所示的圖3相同，故省略動作說明。
本實施形態(tài)中磁盤裝置的檢查裝置，利用實施形態(tài)1中說明的分散值或標(biāo)準(zhǔn)偏差值檢查裝置的性能。
下面，參照圖9說明磁盤裝置的檢查過程。
<步驟900>
該步驟由實施形態(tài)1中說明的步驟600-603構(gòu)成。這些處理與實施形態(tài)1的相同，省略其說明。
<步驟901>
當(dāng)步驟600求得的分散值或步驟603求得的修正過的分散值大于規(guī)定值(例如，平均值的5％)時，進(jìn)入步驟902。
分散值在規(guī)定值以下時，判斷為盤片裝置是合格品。然后結(jié)束檢查。
<步驟902>
檢查檢查履歷。
根據(jù)檢查結(jié)果作以下處理。
·在伺服扇區(qū)未改寫情況下，進(jìn)入步驟903。在步驟903改寫伺服扇區(qū)中信息，然后進(jìn)入步驟900。
·若伺服扇區(qū)已實施改寫，而盤片交換未實施情況下，進(jìn)入步驟903。此時，在步驟903交換磁盤101，并將新的位置信息記錄在伺服扇區(qū)。然后進(jìn)入步驟900。
·在伺服扇區(qū)的改寫和磁盤交換都完成的情況下，進(jìn)入步驟904。在步驟904實施磁頭90的交換后進(jìn)入步驟900。
·在伺服扇區(qū)的改寫、磁盤及磁頭交換都完成的情況下，判斷為不合格品，并結(jié)束檢查。
權(quán)利要求
1.一種磁盤裝置的控制裝置，所述磁盤裝置包含磁盤和執(zhí)行裝置，所述磁盤在圓周方向分割成多個數(shù)據(jù)區(qū)之間設(shè)有記錄磁道號和多個脈沖串信號的伺服扇區(qū)，所述執(zhí)行裝置驅(qū)動磁頭在所述磁盤上記錄再現(xiàn)數(shù)據(jù)，其特征在于，所述控制裝置包含利用所述脈沖串信號檢測所述磁頭相對磁道寬度方向位置的位置檢測器；檢測疊加在所述位置檢測器檢測到檢測位置上的噪聲大小的噪聲檢測手段；根據(jù)所述噪聲大小確定推定增益的增益確定手段；推定執(zhí)行裝置狀態(tài)的推定器。
2.如權(quán)利要求1所述的磁盤裝置的控制裝置，其特征在于，所述推定器包含所述執(zhí)行裝置的模型；算出作為所述位置檢測器檢測到的檢測位置與所述模型算出的模型位置的差的推定誤差的減法器。
3.如權(quán)利要求2所述的磁盤裝置的控制裝置，其特征在于，所述推定器將所述推定誤差乘以所述增益確定手段確定的推定位置增益，將所述推定誤差和推定位置增益相乘的結(jié)果與所述模型位置相加。
4.如權(quán)利要求2所述的磁盤裝置的控制裝置，其特征在于，所述推定手段將所述推定誤差乘以所述增益確定手段確定的推定速度增益，將所述推定誤差與推定速度增益相乘的結(jié)果與所述模型算出的模型速度相加。
5.如權(quán)利要求2所述的磁盤裝置的控制裝置，其特征在于，所述推定手段將所述推定誤差乘以所述增益確定手段確定的推定偏差增益，將所述推定誤差與推定偏差增益相乘的結(jié)果與所述模型算出的模型偏差相加。
6.如權(quán)利要求2所述的磁盤裝置的控制裝置，其特征在于，所述推定手段將所述推定誤差乘以所述增益確定手段確定的推定位置增益，將所述推定誤差和推定位置增益相乘的結(jié)果與所述模型位置相加，算出推定位置，將所述推定誤差乘以所述增益確定手段確定的推定速度增益，將所述推定誤差和推定速度增益相乘的結(jié)果與所述模型算出的模型速度相加，算出推定速度，將所述推定誤差乘以所述增益確定手段確定的推定偏差增益，將所述推定誤差和推定偏差增益相乘的結(jié)果與所述模型算出的模型偏差相加，算出推定偏差，按規(guī)定比率將所述推定位置、推定速度和推定偏差相加。
7.如權(quán)利要求1至6任一權(quán)利要求所述的磁盤裝置的控制裝置，其特征在于，所述噪聲測定手段將所述磁頭位置控制用的脈沖串信號的振幅相加，算出相加后的振幅值的平均值和偏差值，將所述偏差值作為所述噪聲大小。
8.如權(quán)利要求7所述的磁盤裝置的控制裝置，其特征在于，用磁頭位置檢測增益修正所述偏差值，將修正后的偏差值作為所述噪聲大小。
9.如權(quán)利要求8所述的磁盤裝置的控制裝置，其特征在于，將所述偏差值的分散值或標(biāo)準(zhǔn)偏差值作為所述噪聲大小。
10.一種磁盤裝置的檢查裝置，所述磁盤裝置包含磁盤和執(zhí)行裝置，所述磁盤在圓周方向分割成多個數(shù)據(jù)區(qū)之間設(shè)有記錄磁道號和多個脈沖串信號的伺服扇區(qū)，所述執(zhí)行裝置驅(qū)動磁頭在所述磁盤上記錄再現(xiàn)數(shù)據(jù)，其特征在于，所述檢查裝置把所述磁頭位置控制用脈沖串信號的振幅值相加，算出相加后振幅值的平均值和分散值或標(biāo)準(zhǔn)偏差值，利用該分散值或標(biāo)準(zhǔn)偏差值檢查磁盤裝置。
11.如權(quán)利要求10所述的磁盤裝置的檢查裝置，其特征在于，用磁頭位置檢測增益修正所述平均值和分散值。
12.一種磁盤裝置的控制方法，所述磁盤裝置包含磁盤和執(zhí)行裝置，所述磁盤在圓周方向分割成多個數(shù)據(jù)區(qū)之間設(shè)有記錄磁道號和多個脈沖串信號的伺服扇區(qū)，所述執(zhí)行裝置驅(qū)動磁頭在所述磁盤上記錄再現(xiàn)數(shù)據(jù)，其特征在于，包含(a)利用所述脈沖串信號檢測所述磁頭相對磁道寬度方向的磁頭位置的步驟；(b)檢測疊加在所述磁頭位置上噪聲大小的步驟；(c)根據(jù)所述噪聲大小確定推定增益步驟；(d)推定所述執(zhí)行裝置狀態(tài)的步驟。
13.如權(quán)利要求12所述的磁盤裝置的控制方法，其特征在于，其中，所述步驟(c)確定推定位置增益、推定速度增益和推定偏差增益，所述步驟(d)包含(d1)利用所述執(zhí)行裝置的模型算出模型位置、模型速度和模型偏差的步驟，(d2)算出作為所述磁頭位置與所述模型位置差的推定誤差的步驟，(d3)將所述推定誤差與所述推定位置增益相乘、將該相乘結(jié)果加上所述模型位置算出推定位置的步驟，(d4)將所述推定誤差乘以所述推定速度增益、將該相乘結(jié)果加上所述模型速度算出推定速度的步驟，(d5)將所述推定誤差乘以所述推定偏差增益、將該相乘結(jié)果加上所述模型偏差算出推定偏差的步驟，(d6)按規(guī)定比率將所述推定位置、推定速度和推定偏差相加的步驟。
14.一種磁盤裝置的檢查方法，所述磁盤裝置包含磁盤和執(zhí)行裝置，所述磁盤在圓周方向分割成多個數(shù)據(jù)區(qū)之間設(shè)有記錄磁道號和多個脈沖串信號的伺服扇區(qū)，所述執(zhí)行裝置驅(qū)動磁頭在所述磁盤上記錄再現(xiàn)數(shù)據(jù)，其特征在于，所述檢查方法包含把所述磁頭位置控制用脈沖串信號的振幅值相加的步驟，算出相加后振幅值的平均值和分散值或標(biāo)準(zhǔn)偏差值的步驟，利用該分散值或標(biāo)準(zhǔn)偏差值檢查所述磁盤裝置的步驟。
15.如權(quán)利要求14所述的磁盤裝置的檢查方法，其特征在于，用磁頭位置檢測增益修正所述分散值或標(biāo)準(zhǔn)偏差值。
16.一種記錄媒體，存儲有執(zhí)行磁盤裝置控制方法的計算機程序數(shù)據(jù)，所述磁盤裝置包含磁盤和執(zhí)行裝置，所述磁盤在圓周方向分割成多個數(shù)據(jù)區(qū)之間設(shè)有記錄磁道號和多個脈沖串信號的伺服扇區(qū)，所述執(zhí)行裝置驅(qū)動磁頭在所述磁盤上記錄再現(xiàn)數(shù)據(jù)，其特征在于，所存儲的程序數(shù)據(jù)記錄媒體包含(a)利用所述脈沖串信號檢測所述磁頭相對磁道寬度方向的磁頭位置的程序；(b)檢測疊加在所述磁頭位置上噪聲大小的程序；(c)根據(jù)所述噪聲大小確定推定增益的程序；(d)從所述執(zhí)行裝置的模型推定所述執(zhí)行裝置狀態(tài)的程序。
17.如權(quán)利要求16所述的記錄媒體，其特征在于，其中，所述程序(c)由確定推定位置增益、推定速度增益和推定偏差增益的程序構(gòu)成，所述程序(d)包含(d1)利用所述模型算出模型位置、模型速度和模型偏差的程序，(d2)算出作為所述磁頭位置與所述模型位置差的推定誤差的程序，(d3)將所述推定誤差與所述推定位置增益相乘、將該相乘結(jié)果加上所述模型位置算出推定位置的程序，(d4)將所述推定誤差乘以所述推定速度增益、將該相乘結(jié)果加上所述模型速度算出推定速度的程序，(d5)將所述推定誤差乘以所述推定偏差增益、將該相乘結(jié)果加上所述模型偏差算出推定偏差的程序，(d6)按規(guī)定比率將所述推定位置、推定速度和推定偏差相加的程序。
全文摘要
一種磁盤裝置的控制裝置、方法、記錄媒體及檢查方法和裝置,其特征在于,用噪聲測定部分110測定疊加在位置檢測部分103檢測到位置上的噪聲大小,用增益確定部111確定對應(yīng)所測定噪聲大小的推定位置增益。推定器106通過將邏輯算出的模型位置和將檢測位置與模型位置的差與推定位置增益相乘的結(jié)果相加,高精度算出推定位置。
文檔編號G11B21/10GK1346127SQ00137469
公開日2002年4月24日 申請日期2000年12月21日 優(yōu)先權(quán)日2000年10月3日
發(fā)明者高岡哲朗 申請人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會社