專(zhuān)利名稱(chēng)：磁復(fù)制用主載體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及磁復(fù)制用主載體，該主載體用于從載有信息的主載體向從屬媒體進(jìn)行磁復(fù)制的磁復(fù)制方法中。
在磁記錄媒體中，一般希望能記錄的媒體是所謂的高速存貯器，它能隨著信息量的增加記錄多種信息，容量大價(jià)格便宜，最好能在短時(shí)間內(nèi)讀出必要的地方。以眾所周知的高密度軟盤(pán)為例，為了發(fā)揮其大容量，在狹窄的磁道幅度范圍內(nèi)正確地進(jìn)行磁頭掃描，能以高S/N比值再生信號(hào)的所謂跟蹤伺服技術(shù)承擔(dān)著大部分任務(wù)。在盤(pán)的1周中，把間隔的跟蹤用伺服信號(hào)、地址信息信號(hào)、再生時(shí)標(biāo)信號(hào)等作為所謂的預(yù)先格式進(jìn)行記錄。
磁頭通過(guò)讀取這種預(yù)先格式信號(hào)校正自身的位置就能設(shè)定在正確的磁道上移動(dòng)?，F(xiàn)在被制作的預(yù)先格式是使用專(zhuān)用伺服記錄裝置逐張光盤(pán)并逐個(gè)磁道記錄制成。
不過(guò)，由于伺服記錄裝置價(jià)高且預(yù)先格式制作時(shí)間長(zhǎng)，所以，這種制造成本中工藝占大部分，人們希望能降低其成本。
雖然也有人提出每個(gè)磁道不寫(xiě)入預(yù)先格式而利用磁復(fù)制的方法。例如，特開(kāi)昭63-183623、特開(kāi)平10-40544和特開(kāi)平10-269566介紹的復(fù)制技術(shù)。不過(guò)，在上述以往技術(shù)中，實(shí)際上并沒(méi)有公開(kāi)具體的措施，特別是在復(fù)制時(shí)附加的磁場(chǎng)條件和產(chǎn)生磁場(chǎng)的具體裝置構(gòu)成等實(shí)際形態(tài)是完全不明確的。
例如，在特開(kāi)昭63-183623和特開(kāi)平10-40544公報(bào)中，磁復(fù)制用主載體表面是具有在基板表面上形成相應(yīng)于信息信號(hào)的凹凸形狀，至少在凹凸形狀的凸表面上形成有強(qiáng)磁性薄膜，把該磁復(fù)制用主載體表面與形成有強(qiáng)磁性薄膜或強(qiáng)磁性粉涂布層的片狀或盤(pán)狀磁記錄媒體表面接觸，有時(shí)還附加再生交流偏置磁場(chǎng)或直流磁場(chǎng)，提供通過(guò)激發(fā)構(gòu)成凸表面的強(qiáng)磁性材料激發(fā)把與凹凸形狀對(duì)應(yīng)著的磁化圖形記錄在磁記錄媒體上的方法。
在這種方法中，通過(guò)使預(yù)先格式化時(shí)的主載體凸形表面密接磁記錄媒體即從屬媒體的同時(shí)，激發(fā)構(gòu)成凸部的強(qiáng)磁性材料，所以，這種方法是在從屬媒體上形成預(yù)先格式的復(fù)制方法，能靜靜地進(jìn)行記錄而不用對(duì)磁復(fù)制用主載體和從屬媒體的相對(duì)位置進(jìn)行變化，能進(jìn)行正確的預(yù)先格式記錄，并且，記錄所需的時(shí)間也是極短的。
在磁記錄媒體上記錄伺服信號(hào)中使用磁復(fù)制方法的情況下，經(jīng)過(guò)3.5型磁記錄媒體(直徑為3.5英寸)或2.5型磁記錄媒體(直徑為2.5英寸)的整個(gè)面積，在主載體的任意位置處都必須高精度配制形成1um單位以下的伺服圖形。并且，因各個(gè)伺服圖形能用信息編號(hào)表示，所以，必須能制作完全不同的圖形形狀。
上述類(lèi)型的微小圖形雖然能根據(jù)半導(dǎo)體·磁頭的石印技術(shù)來(lái)制作，但由于這種技術(shù)縮小原圖的精度要求高，每次曝光中能制作的圖形范圍只能限定在2cm的角度范圍內(nèi)。在制作大面積圖形的情況下，雖然能夠重復(fù)記錄這種2cm角圖形形成范圍，但由于只能制作同一圖形，不能用于伺服記錄方式中來(lái)形成前述完全不同的圖形。
在磁復(fù)制方法中，前述主載體能與從屬媒體密接著進(jìn)行磁復(fù)制，在反復(fù)的磁復(fù)制中，承載有信息的圖形面形狀磨損降低復(fù)制精度，或灰塵介入損傷都會(huì)縮短壽命，必須要更換主載體。因此，希望主載體制造容易且成本低。但在主載體基板上高精度曝光等形成每付微小圖形時(shí)煩瑣的質(zhì)量管理不利于質(zhì)量穩(wěn)定性和降低生產(chǎn)成本。
鑒于這些問(wèn)題，本發(fā)明的目的是提供價(jià)格便宜、制作簡(jiǎn)單的磁復(fù)制用主載體。
本發(fā)明的磁復(fù)制用主載體，是具有與復(fù)制信息相應(yīng)的凹凸形狀的磁復(fù)制用主載體，其特征在于該主載體是由金屬盤(pán)構(gòu)成的，該金屬盤(pán)的制作是把涂布有光致抗蝕劑膜的圓板進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)的同時(shí)對(duì)應(yīng)著信息照射調(diào)節(jié)好的激光或電子束，該光致抗蝕劑膜顯影后在有凹凸的原盤(pán)上進(jìn)行電鍍，去掉金屬模體后進(jìn)行最終剝離。
本發(fā)明的另一種磁復(fù)制用主載體，是具有與復(fù)制的信息對(duì)應(yīng)著的凹凸形狀的磁復(fù)制用主載體，其特征在于該磁復(fù)制用主載體是金屬盤(pán)構(gòu)成的，該金屬盤(pán)的制作是把涂布有光致抗蝕劑膜的圓板進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)的同時(shí)，對(duì)應(yīng)著信息照射調(diào)節(jié)好的激光或電子束，該光致抗蝕劑膜顯影后，對(duì)具有凹凸的第1原盤(pán)進(jìn)行電鍍，剝離第1原盤(pán)后對(duì)第2原盤(pán)進(jìn)行電鍍，去掉金屬模體后進(jìn)行最終剝離。
本發(fā)明還有一種磁復(fù)制用主載體，是具有與復(fù)制的信息對(duì)應(yīng)著的凹凸形狀的磁復(fù)制用主載體，其特征在于該磁復(fù)制用主載體是金屬盤(pán)構(gòu)成的，該金屬盤(pán)的制作是把涂布有光致抗蝕劑膜的圓板進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)的同時(shí)，對(duì)應(yīng)著信息照射調(diào)節(jié)好的激光或電子束，該光致抗蝕劑膜顯影后，對(duì)帶有凹凸的第1原盤(pán)進(jìn)行電鍍，剝離第1原盤(pán)后對(duì)第2原盤(pán)壓付上樹(shù)脂液進(jìn)行硬化或進(jìn)行電鍍，剝離第2原盤(pán)后對(duì)第3原盤(pán)進(jìn)行電鍍，去掉金屬模體后進(jìn)行最終剝離。
本發(fā)明還有一種磁復(fù)制用主載體，是具有與復(fù)制的信息對(duì)應(yīng)著的凹凸形狀的磁復(fù)制用主載體，其特征在于該磁復(fù)制用主載體是金屬盤(pán)構(gòu)成的，該金屬盤(pán)的制作是把涂布有光致抗蝕劑膜的圓板進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)的同時(shí)，對(duì)應(yīng)著信息照射調(diào)節(jié)好的激光或電子束，該光致抗蝕劑膜顯影的同時(shí)進(jìn)行蝕刻處理，形成了凹凸后對(duì)除去了光致抗蝕劑膜且?guī)в邪纪沟脑P(pán)進(jìn)行電鍍，去掉金屬模體后進(jìn)行最終剝離。
本發(fā)明還有一種磁復(fù)制用主載體，是具有與復(fù)制的信息對(duì)應(yīng)著的凹凸形狀的磁復(fù)制用主載體，其特征在于該磁復(fù)制用主載體是金屬盤(pán)構(gòu)成的，該金屬盤(pán)的制作是把涂布有光致抗蝕劑膜的圓板進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)的同時(shí)，對(duì)應(yīng)著信息照射調(diào)節(jié)好的激光或電子束，該光致抗蝕劑膜顯影的同時(shí)進(jìn)行蝕刻處理，形成了凹凸后對(duì)除去光致抗蝕劑膜且?guī)в邪纪沟牡?原盤(pán)壓付樹(shù)脂液進(jìn)行硬化或進(jìn)行電鍍，剝離第1原盤(pán)后對(duì)第2原盤(pán)進(jìn)行電鍍，去掉金屬模體后進(jìn)行最終剝離。
本發(fā)明還有一種磁復(fù)制用主載體，是具有與復(fù)制的信息對(duì)應(yīng)著的凹凸形狀的磁復(fù)制用主載體，其特征在于該磁復(fù)制用主載體是金屬盤(pán)構(gòu)成的，該金屬盤(pán)的制作是把涂布有光致抗蝕劑膜的圓板進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)的同時(shí)，對(duì)應(yīng)著信息照射調(diào)節(jié)好的激光或電子束，該光致抗蝕劑膜顯影的同時(shí)進(jìn)行蝕刻處理，形成了凹凸后對(duì)除去光致抗蝕劑膜且?guī)в邪纪沟牡?原盤(pán)壓付樹(shù)脂液進(jìn)行硬化或進(jìn)行電鍍，剝離第1原盤(pán)后給第2原盤(pán)壓付樹(shù)脂液進(jìn)行硬化或進(jìn)行電鍍，剝離第2原盤(pán)后對(duì)第3原盤(pán)進(jìn)行電鍍，去掉金屬模體后進(jìn)行最終剝離。
前述圓板是玻璃或石英；前述金屬盤(pán)的主成分為Ni；前述凹凸深度為80nm-800nm，最好為150nm-600nm。
在去掉前述模體后的金屬盤(pán)凹凸形狀上設(shè)置有軟磁性層；在前述金屬盤(pán)凹凸形狀和軟磁性層之間設(shè)置有非磁性層；前述軟磁性層的厚度為50nm-500nm，最好為150nm-400nm；在最上層設(shè)置有類(lèi)似金剛石碳的保護(hù)膜。
前述凹凸形狀在半徑方向上是長(zhǎng)的，這種凹凸形狀半徑長(zhǎng)度為0.3-20um，圓周長(zhǎng)為0.2-5um，可以選擇這個(gè)范圍內(nèi)的半徑方向?yàn)殚L(zhǎng)型的形狀作為承載伺服信號(hào)信息的形狀。
前述電鍍適用于包括無(wú)電解電鍍、電鑄、濺噴、離子電鍍各種金屬成膜法。
使用前述的磁復(fù)制用主載體的磁復(fù)制方法，是使承載有主載體信息的面和從屬媒體表密接并附加復(fù)制用磁場(chǎng)來(lái)進(jìn)行的。例如，使用磁復(fù)制用主載體和接受復(fù)制的從屬媒體，該磁復(fù)制用主載體是由金屬盤(pán)構(gòu)成的，該金屬盤(pán)是由具有與上述信息相應(yīng)的凹凸形狀的強(qiáng)磁性金屬制作的，或者該金屬盤(pán)的凹凸形狀表面部分中形成有軟磁性層，預(yù)備著的從屬媒體磁化時(shí)沿磁道方向進(jìn)行初期直流磁化，使前述主載體與前述初期直流磁化了的從屬媒體密接，在與該從屬媒體面的初期直流磁化方向近相反的方向中附加復(fù)制用磁場(chǎng)進(jìn)行磁復(fù)制。
前述金屬盤(pán)的凹凸形狀相應(yīng)于激光或電子束照射圖形既可以是正狀圖形也可以是反狀圖形，也就是說(shuō)，即使凹凸反向，在磁復(fù)制工序中如果使初期磁化和復(fù)制用磁場(chǎng)方向相反，也能得到相同的磁復(fù)制圖形。
根據(jù)上述發(fā)明，由于磁復(fù)制用主載體是由金屬盤(pán)構(gòu)成的，該金屬盤(pán)具有與信息相對(duì)應(yīng)著的凹凸形狀，所以能按規(guī)定的精度且低成本地制作必要的主載體，從而在磁記錄媒體上對(duì)伺服信號(hào)類(lèi)的信息信號(hào)進(jìn)行磁復(fù)制。特別是采用電鍍能從1個(gè)原盤(pán)多次制作同樣的金屬盤(pán)，對(duì)應(yīng)著磁復(fù)制次數(shù)依次交換主載體，能進(jìn)行質(zhì)量穩(wěn)定的磁復(fù)制。
當(dāng)前述主載體金屬盤(pán)的主成分為Ni時(shí)，硬度、成型性、耐用性等良好。以前述金屬盤(pán)Ni為主成分為例，由于它是強(qiáng)磁性的，用這種金屬盤(pán)雖能進(jìn)行磁復(fù)制，但設(shè)置上復(fù)制特性的良好軟磁性層更好。在這種情況下，為了斷絕對(duì)金屬盤(pán)的磁性影響，最好在金屬盤(pán)和軟磁性層之間設(shè)置非磁性層。在非磁性情況下，金屬盤(pán)必須能夠設(shè)置具有復(fù)制特征的良好軟磁性層。在最上層設(shè)置上類(lèi)似金剛石碳保護(hù)膜，就能從提高了接觸耐用性的主載體向從屬媒體上進(jìn)行多次磁復(fù)制。
下面結(jié)合附圖進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明

圖1是本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例磁復(fù)制方法示意圖；圖2是表示主載體形態(tài)的剖面圖；圖3是本發(fā)明實(shí)施例中主載體金屬盤(pán)第1制作工藝順序示意圖；圖4是主載體金屬盤(pán)第2制作工藝順序示意圖；圖5是主載體金屬盤(pán)第3制作工藝順序示意圖；圖6是主載體金屬盤(pán)第4制作工藝順序示意圖；圖7是主載體金屬盤(pán)第5制作工藝順序示意圖；圖8是主載體金屬盤(pán)第6制作工藝順序示意圖。
以下，詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施例。圖1是表示使用了本發(fā)明主載體的磁復(fù)制方法的示意圖，(a)是在一定方向中附加磁場(chǎng)對(duì)從屬媒體進(jìn)行直流磁化的工序；(b)是把主載體與從屬媒體密接著在相反方向中附加磁場(chǎng)的工序；(c)是分別表示磁復(fù)制后狀態(tài)圖。圖2是表示主載體其他形態(tài)的斷面圖；圖3-圖8表示各種主載體金屬盤(pán)制作工序圖。
下面概述磁復(fù)制方法。首先，如圖1(a)所示，最初在從屬媒體2上在磁道方向的一定方向中附加初期靜磁場(chǎng)Hin進(jìn)行預(yù)定直流磁化(直流消磁)。隨后，如圖1(b)所示，把該從屬媒體2的磁復(fù)制面與主載體3的金屬盤(pán)31的信息承載面密接，該信息承載面是在金屬盤(pán)31的微小凹凸形狀(半徑方向即磁道的寬度方向上為長(zhǎng)凹凸形狀)中覆蓋上軟磁性層32構(gòu)成的，在從屬媒體2的磁道方向中附加上與前述初期磁場(chǎng)Hin反向的復(fù)制磁場(chǎng)Hdu進(jìn)行磁復(fù)制。結(jié)果，如圖1(c)所示，在從屬媒體2的磁復(fù)制面(磁道)上，與主載體3信息承載面密布凸部和凹部空間形成的圖形相應(yīng)的信息被進(jìn)行磁復(fù)制記錄。這種磁復(fù)制方法的詳細(xì)說(shuō)明，參照特愿平11-117800號(hào)記載的內(nèi)容。
上述主載體3即使在金屬盤(pán)31凹凸形狀是與圖1正狀圖形相反凹凸?fàn)畹姆礌顖D形情況下，也能在上述反向上根據(jù)初期磁場(chǎng)Hin方向和復(fù)制磁場(chǎng)Hdu方向?qū)ν瑯拥男畔⑦M(jìn)行磁復(fù)制記錄。
在金屬盤(pán)31由Ni等構(gòu)成強(qiáng)磁性體的情況下，只有金屬盤(pán)31，既使不覆蓋前述軟磁性層32在該金屬盤(pán)31中就可以進(jìn)行磁復(fù)制，但設(shè)置上復(fù)制特性良好的軟磁性層32就能更好地進(jìn)行磁復(fù)制。金屬盤(pán)31為非磁性體的情況下必須要設(shè)置軟磁性層32。
在由強(qiáng)磁性金屬構(gòu)成的金屬盤(pán)31上覆蓋上軟磁性層32的情況下，為了斷絕對(duì)金屬盤(pán)31的磁性的影響，如圖2所示，最好在金屬盤(pán)31和軟磁性層32之間能設(shè)置非磁性層33。也就是說(shuō)，圖2中的主載體3，在具有與前述同樣凹凸形狀的金屬盤(pán)31上覆蓋非磁性層33后，在該非磁性層33上覆蓋上軟磁性層32，并且在最上層覆蓋著類(lèi)似金剛石碳(DLC)保護(hù)膜34。最上層的DLC保護(hù)膜34提高了接觸耐用性就能進(jìn)行多次磁復(fù)制，在圖1的情況下，希望也能在最上層有這種覆蓋。在DLC保護(hù)膜34的下層也可以利用濺噴等形成Si膜。
根據(jù)圖3(a)-(d)對(duì)磁復(fù)制用主載體3的金屬盤(pán)31的第1制作工序進(jìn)行陳述。首先，如(a)所示，在表面光滑的圓板10(玻璃或石英板)上采用噴涂等涂布光致抗蝕液形成光致抗蝕劑膜11，在把具有該光致抗蝕劑膜11的圓板10轉(zhuǎn)動(dòng)的同時(shí)，對(duì)應(yīng)于伺服信號(hào)照射調(diào)節(jié)好的激光L(或電子束，以下實(shí)施例相同)，把圓板10整個(gè)光致抗蝕劑膜11上規(guī)定的預(yù)先格式圖形，如相當(dāng)于各磁道中從轉(zhuǎn)動(dòng)中心沿半徑方向線(xiàn)狀延伸的伺服信號(hào)的圖形，在對(duì)應(yīng)圓周上各結(jié)構(gòu)的部分中曝光。隨后，對(duì)(b)所示光致抗蝕劑膜11進(jìn)行顯影處理，除去曝光部分，得到具有由光致抗蝕劑膜11構(gòu)成凹凸形狀的原盤(pán)12(第1原盤(pán))。
其次，隨著前述原盤(pán)12表面的凹凸形狀形成，如(c)所示，在該表面上電鍍處理形成的薄銀鍍層13上進(jìn)行電鑄，去掉金屬模體后形成具有正狀凹凸形狀的金屬盤(pán)31A。如(d)所示，把具有規(guī)定厚度的金屬盤(pán)31A剝離原盤(pán)12。
上述金屬盤(pán)31A表面的凹凸形狀是使前述原盤(pán)12的凹凸形狀反轉(zhuǎn)形成的，在磁記錄媒體整體的任意位置中都可以制作um單位以下精度的圖形?？梢园堰@種金屬盤(pán)31A原樣作為磁復(fù)制用主載體3，也可以在這種金屬盤(pán)31A的凹凸形狀上覆蓋上相應(yīng)必要的非磁性層33、軟磁性層32、保護(hù)膜34后作為磁復(fù)制用主載體3。
圖4(a)-(f)表示第2制作工序。在(a)和(b)圓板10上形成光致抗蝕劑膜11，用激光L進(jìn)行圖形曝光、顯影處理，形成具有光致抗蝕劑膜11凹凸形狀的第1原盤(pán)12與圖3是相同的。接著，如(c)所示，在第1原盤(pán)12表面的凹凸形狀上電鍍的銀鍍層13上實(shí)施電鑄，制作成具有正狀凹凸形狀的第2原盤(pán)14。如(d)所示，剝離第2原盤(pán)14，在該第2原盤(pán)14表面的凹凸形狀上進(jìn)行(e)所示的電鍍，去掉金屬模體后形成具有反狀凹凸形狀的金屬盤(pán)31B。如(f)所示，把形成有規(guī)定厚度的金屬盤(pán)31B剝離第2原盤(pán)14。
上述金屬盤(pán)31B表面凹凸形狀和前述第1原盤(pán)12的凹凸形狀同是反狀的，可以把該金屬盤(pán)31B原樣作為磁復(fù)制用主載體3，也可以在這種金屬盤(pán)31B的凹凸形狀上覆蓋上相應(yīng)必要的非磁性層33、軟磁性層32、保護(hù)膜34后作為磁復(fù)制用主載體3。在這種金屬盤(pán)31B構(gòu)成的主載體3上，前述初期磁場(chǎng)Hin和復(fù)制磁磁場(chǎng)Hdu采用與圖1(b)的反向，就能磁復(fù)制成與圖1(c)相同圖形。
圖5(a)-(h)表示第3制作工序。如(a)-(d)所示，第1原盤(pán)12的凹凸形成以及第2原盤(pán)14的制作與圖4相同。接著，如(e)所示，可以對(duì)第2原盤(pán)14表面的凹凸形狀進(jìn)行電鍍，也可以附加樹(shù)脂液進(jìn)行硬化，制作具有反狀凹凸形狀的第3原盤(pán)15。如(f)所示，把形成有規(guī)定厚度的第3原盤(pán)15剝離第2原盤(pán)14。隨后，如(g)所示，在第3原盤(pán)15表面的凹凸形狀上進(jìn)行電鍍，去掉金屬模體后形成具有反狀凹凸形狀的金屬盤(pán)31C。如(h)所示，把形成有規(guī)定厚度的金屬盤(pán)31C剝離第3原盤(pán)15。
上述金屬盤(pán)31C表面凹凸形狀是與圖3中金屬盤(pán)31A相同的反向圖形，它可以原樣作為磁復(fù)制用主載體3，也可以在凹凸形狀上覆蓋上相應(yīng)必要的非磁性層33、軟磁性層32、保護(hù)膜34后作為磁復(fù)制用主載體3。
根據(jù)圖6(a)-(f)對(duì)第4制作工序進(jìn)行陳述。首先，如(a)所示，在表面光滑圓板10(玻璃或石英板)上采用噴涂等涂布光致抗蝕液形成光致抗菌素蝕膜11，在把具有該光致抗蝕劑膜11的圓板10轉(zhuǎn)動(dòng)的同時(shí)，相應(yīng)于伺服信號(hào)照射調(diào)節(jié)好的激光L(或電子束，以下實(shí)施例相同)，把圓板10整個(gè)光致抗蝕劑膜11上規(guī)定的預(yù)先格式圖形曝光。隨后，如(b)所示，對(duì)光致抗蝕劑膜11進(jìn)行顯影處理，除去曝光部分，采用蝕刻工藝對(duì)除去了光致抗蝕劑膜11的圓板部分進(jìn)行蝕刻，如(c)所示，形成與曝光圖形對(duì)應(yīng)的穴10a。隨后，除去剩余的光致抗蝕劑膜11，如(d)所示，得到具有由穴10a構(gòu)成凹凸形狀的原盤(pán)20(第1原盤(pán))。
其次，隨著前述原盤(pán)20表面的凹凸形狀形成，在該表面上采用(e)所示電鍍處理形成的薄銀鍍層13上進(jìn)行電鑄，去掉金屬模體后形成具有反狀圖形的金屬盤(pán)31D。如(f)所示，把形成具有規(guī)定厚度的金屬盤(pán)31D剝離原盤(pán)20。
上述金屬盤(pán)31D表面的凹凸形狀是使前述原盤(pán)20的凹凸形狀反轉(zhuǎn)形成的與前述圖3金屬盤(pán)31A相同的形狀，在磁記錄媒體整體的任意位置中都可以制作um單位以下精度的圖形?？梢园堰@種金屬盤(pán)31D原樣作為磁復(fù)制用主載體3，也可以在凹凸形狀上覆蓋上相應(yīng)必要的非磁性層33、軟磁性層32、保護(hù)膜34后作為磁復(fù)制用主載體3。
圖7(a)-(h)表示第5制作工藝。在(a)-(d)所示圓板10上形成光致抗蝕劑膜11、用激光L進(jìn)行圖形曝光、顯影處理、用蝕刻形成具有凹凸形狀的第1原盤(pán)20均與圖6相同。隨后，如(e)所示，在第1原盤(pán)20表面凹凸形狀上進(jìn)行電鍍(銀鍍層13形成時(shí)進(jìn)行電鑄)，或附加上樹(shù)脂液進(jìn)行硬化，制作具有反狀凹凸形狀的第2原盤(pán)14。如(f)所示，剝離第2原盤(pán)14，在該第2原盤(pán)14表面的凹凸形狀上進(jìn)行(g)所示的電鍍，去掉金屬模體后，形成具有反狀凹凸形狀的金屬盤(pán)31E。如(h)所示，把形成具有規(guī)定厚度的金屬盤(pán)31E剝離原盤(pán)14。
上述金屬盤(pán)31E表面的凹凸形狀是與前述第1的原盤(pán)20的凹凸形狀相同的反狀，與前述金屬盤(pán)31B相同，可以把這種金屬盤(pán)31E原樣作為磁復(fù)制用主載體3，也可以在凹凸形狀上覆蓋上相應(yīng)必要的非磁性層33、軟磁性層32、保護(hù)膜34后作為磁復(fù)制用主載體3。在由這種金屬31E構(gòu)成的磁記錄主載體3中，把前述初期磁場(chǎng)Hin和復(fù)制磁磁場(chǎng)Hdu和圖1(b)所述那樣作為反向，進(jìn)行與圖1(c)相同圖形的磁復(fù)制。
圖8(a)-(j)表示第6制作工藝。(a)-(f)所示第1原盤(pán)20凹凸形狀的形成及第2原盤(pán)14的制作均與圖7相同。隨后，如(g)所示，在第2原盤(pán)14表面凹凸形狀上進(jìn)行電鍍，或附加上樹(shù)脂液進(jìn)行硬化，制作具有反狀凹凸形狀的第3原盤(pán)15。如(h)所示，把形成了具有規(guī)定厚度的第3原盤(pán)15剝離第2原盤(pán)14。隨后，如(i)所示，在第3原盤(pán)15表面的凹凸形狀上進(jìn)行電鍍，去掉金屬模體后，形成具有反狀凹凸形狀的金屬盤(pán)31F。如(j)所示，把形成具有規(guī)定厚度的金屬盤(pán)31F剝離第3原盤(pán)15。
上述金屬盤(pán)31F表面的凹凸形狀是與圖6中的金屬盤(pán)31D相同的反狀圖形，可以把這種金屬盤(pán)31F原樣作為磁復(fù)制用主載體3，或者在這種金屬盤(pán)31F的凹凸形狀上覆蓋上相應(yīng)必要的非磁性層33、軟磁性層32、保護(hù)膜34后作為磁復(fù)制用主載體3。
作為金屬盤(pán)31的材料，可以使用Ni或Ni合金，制作這種金屬盤(pán)31的前述電鍍能適用于包括無(wú)電解電鍍、電鑄、濺噴、離子電鍍各種金屬成膜法。金屬盤(pán)31凹凸形狀的深度(凸起高度)可以在80nm-800nm范圍內(nèi)，最好為150nm-600nm。這種凹凸形狀在作為伺服信號(hào)的情況下，其半徑方向制作成長(zhǎng)型的。例如，半徑方向的長(zhǎng)度為0.3-20um，圓周長(zhǎng)為0.2-5um，在這個(gè)范圍內(nèi)，可以選擇半徑方向?yàn)殚L(zhǎng)型形狀承載伺服信號(hào)。
前述軟磁性層32的形成是采用真空蒸發(fā)法、噴涂法、離子電鍍法等真空成膜措施、電鍍等使磁性材料成膜的。作為軟磁性材料層32的磁性材料可以使用Co、Co合金(CoNi、CoNiZr、CoNbTaZr等)、Fe、Fe合金(FeCo、FeCoNi、FeNiMo、FeAlSi、FeAl、FeTaN)、Ni、Ni合金(NiFe)。最好是使用FeCo、FeCoNi。軟磁性層32的厚度可以在50nm-500nm范圍內(nèi)，最好為150nm-400nm。
在軟磁性層32的下層作為基層設(shè)置的非磁性層34的材料，可以使用Cr、CrTi、CoCr、CrTa、CrMo、NiAl、Ru、C、Ti、Al、Mo、W、Ta、Nb等。這種非磁性層34在金屬盤(pán)31為強(qiáng)磁性體的情況下可以抑制信號(hào)等級(jí)的劣化。
在軟磁性層32上可以設(shè)置DLC等保護(hù)膜，也可設(shè)置潤(rùn)滑劑層。最好能具有保護(hù)膜為5-30nmDLC膜和潤(rùn)滑劑層。在軟磁性層32和保護(hù)膜34之間，也可以設(shè)置Si等密接強(qiáng)化層，潤(rùn)滑劑在與從屬媒體2接觸過(guò)程中對(duì)產(chǎn)生的偏離進(jìn)行校正時(shí)，防止因磨擦損傷等引起的耐用性下降。
下面，對(duì)從屬媒體2進(jìn)行陳述。作為從屬媒體2使用涂布型的磁記錄媒體或金屬薄膜型磁記錄媒體。作為涂布型的磁記錄媒體可以例舉有高密度軟盤(pán)等市購(gòu)記錄媒體。對(duì)于金屬薄膜型磁記錄媒體來(lái)說(shuō)，首先作為磁性材料可以使用Co、Co合金(CoPtCr、CoCr、CoPtCrTa、CoPtCrNbTa、CoCrB、CoNi等)、Fe、Fe合金(FeCo、FePt、FeCoNi)。這些材料雖然磁通密度大，在與從屬媒體相同的方向(在表面內(nèi)記錄的話(huà)為表面內(nèi)方向，垂直記載的話(huà)為垂直方向)中磁性各向異性，但因能進(jìn)行清晰地復(fù)制，所以，可以使用。由于在磁性材料下部(支持體上)增加有必要的磁性各向異性，可以設(shè)置非磁性基層。必須使磁性層具有適合的晶格結(jié)構(gòu)和光柵常數(shù)。為此，使用Cr、CrTi、CoCr、CrTa、CrMo、NiAl、Ru等。
下面，說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例1-5的主載體及比較實(shí)施例1的主載體，其特性評(píng)價(jià)結(jié)果列于表1中。
在表1中，為了對(duì)磁復(fù)制后的信號(hào)級(jí)別進(jìn)行確認(rèn)，把磁復(fù)制后從屬媒體中磁顯影液[西庫(kù)瑪海開(kāi)密卡陸(シグマハィケミカル)公司生產(chǎn)的西庫(kù)瑪一卡(シグマ-カ)-Q]稀釋10倍滴在從屬媒體上，干燥、顯影后對(duì)磁復(fù)制信號(hào)端的變動(dòng)量進(jìn)行評(píng)價(jià)。在顯微鏡下放大1000倍觀測(cè)10個(gè)視野，采用5點(diǎn)法(5點(diǎn)為最明確型，1點(diǎn)為最不明確型，0點(diǎn)為不能評(píng)價(jià)型)對(duì)明確程度進(jìn)行評(píng)價(jià)。進(jìn)行了1000次磁復(fù)制后，進(jìn)行同樣的評(píng)價(jià)。
實(shí)施例1實(shí)施例1的主載體是根據(jù)前述第1制作工藝(參照?qǐng)D3)形成的，在表面粗度Ra為0.8nm的合成石英圓板上涂布預(yù)焙后的光致抗蝕劑膜厚度為200nm。用激光發(fā)生裝置在光致抗蝕劑膜上進(jìn)行曝光，用堿性顯影液對(duì)圖形顯影。在此，圖形在半徑為20mm-40mm的位置范圍內(nèi)，以寬度為0.5um等間隔設(shè)置放射線(xiàn)，線(xiàn)間隔在半徑為20mm位置處為0.5um。洗凈光致抗蝕劑膜表面后，進(jìn)行焙燒制作成原盤(pán)。在其實(shí)施薄銀電鍍后，把Ni電鍍層設(shè)置為厚300um，把剝離原盤(pán)的金屬盤(pán)作為磁復(fù)制用主載體。使用這種主載體進(jìn)行磁復(fù)制的結(jié)果中，在1次及1000次的復(fù)制后，也能得到復(fù)制良好的圖形。
實(shí)施例2實(shí)施例2的主載體是根據(jù)前述第4制作工藝(參照?qǐng)D6)形成的，與實(shí)施例1相同，針對(duì)涂布光致抗蝕劑膜且用激光使圖形曝光顯影處理的圓板，進(jìn)行反應(yīng)性離子蝕刻的深度為200nm，除去剩余的光致抗蝕劑膜制作成原盤(pán)。在其上設(shè)置Ni電鍍層，把剝離原盤(pán)的金屬盤(pán)作為磁復(fù)制用主載體。使用這種主載體進(jìn)行磁復(fù)制的結(jié)果中，在1次及1000次的復(fù)制后，也能得到與實(shí)施例1同等程度良好的復(fù)制圖形。
實(shí)施例3實(shí)施例3的主載體是在實(shí)施例2中制作的金屬盤(pán)上用FeNi50at％構(gòu)成的厚度為200nm的軟磁性層成膜后作為磁復(fù)制用主載體的。軟磁性層成膜條件是使用阿聶陸帕(ァネルバ)公司生產(chǎn)的730H型濺噴裝置采用直流濺噴法，制作溫度為25℃,Ar氣壓為4×10-4Pa，投入電力為3W/cm2。使用這種主載體進(jìn)行磁復(fù)制的結(jié)果中，可以具有軟磁性層，能得到比沒(méi)有軟磁性層的實(shí)施例1和2更好的復(fù)制圖形。
實(shí)施例4實(shí)施例4的主載體是在實(shí)施例2中制作的金屬盤(pán)上用由Cr構(gòu)成的厚度為300nm的非磁性層成膜后，采用與實(shí)施例3相同的工藝使FeNi50at％成膜為厚200nm軟磁性層后作為磁復(fù)制主載體的。使用這種主載體進(jìn)行磁復(fù)制的結(jié)果中，因在非磁性層上設(shè)有軟磁性層，能得到比實(shí)施例1、2和3更好的復(fù)制圖形。
實(shí)施例5實(shí)施例5的主載體是在實(shí)施例4制作的主載體上濺噴1nmSi后，采用CVD法覆蓋上5nm的DLC保護(hù)膜后作為磁復(fù)制用主載體的。使用這種主載體進(jìn)行磁復(fù)制的結(jié)果中，由于DLC保護(hù)膜提高了耐磨性，即使進(jìn)行1000次的磁復(fù)制也能保持初期良好的復(fù)制效果。
比較實(shí)施例1比較實(shí)施例1的主載體是把實(shí)施例1的主載體金屬盤(pán)換成硅基板，在該基板上設(shè)置與實(shí)施例2相同的軟磁性層，接著在其上涂布光致抗蝕劑膜，使用掩膜對(duì)與實(shí)施例1相同的圖形進(jìn)行曝光、顯影處理后，進(jìn)行蝕刻部分除去軟磁性層后，除去剩余的光致抗蝕劑膜。使用這種主載體進(jìn)行磁復(fù)制的結(jié)果中，第1次復(fù)制得到的復(fù)制圖形為不明確型，第1000次復(fù)制的圖形是無(wú)法評(píng)價(jià)型。
表權(quán)利要求
1.磁復(fù)制用主載體，具有與復(fù)制的信息對(duì)應(yīng)著的凹凸形狀，其特征在于該磁復(fù)制用主載體是金屬盤(pán)構(gòu)成的，該金屬盤(pán)的制作是把涂布有光致抗蝕劑膜的圓板進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)的同時(shí)，對(duì)應(yīng)著信息照射調(diào)節(jié)好的激光或電子束，該光致抗蝕劑膜顯影后，對(duì)帶有凹凸的原盤(pán)進(jìn)行電鍍，去掉金屬模體后進(jìn)行最終剝離。
2.磁復(fù)制用主載體，具有與復(fù)制的信息對(duì)應(yīng)著的凹凸形狀，其特征在于該磁復(fù)制用主載體是金屬盤(pán)構(gòu)成的，該金屬盤(pán)的制作是把涂布有光致抗蝕劑膜的圓板進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)的同時(shí)，對(duì)應(yīng)著信息照射調(diào)節(jié)好的激光或電子束，該光致抗蝕劑膜顯影后，對(duì)具有凹凸的第1原盤(pán)進(jìn)行電鍍，剝離第1原盤(pán)后對(duì)第2原盤(pán)進(jìn)行電鍍，去掉金屬模體后進(jìn)行最終剝離。
3.磁復(fù)制用主載體，具有與復(fù)制的信息對(duì)應(yīng)著的凹凸形狀，其特征在于該磁復(fù)制用主載體是金屬盤(pán)構(gòu)成的，該金屬盤(pán)的制作是把涂布有光致抗蝕劑膜的圓板進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)的同時(shí)，對(duì)應(yīng)著信息照射調(diào)節(jié)好的激光或電子束，該光致抗蝕劑膜顯影后，對(duì)帶有凹凸的第1原盤(pán)進(jìn)行電鍍，剝離第1原盤(pán)后對(duì)第2原盤(pán)壓付上樹(shù)脂液進(jìn)行硬化或進(jìn)行電鍍，剝離第2原盤(pán)后對(duì)第3原盤(pán)進(jìn)行電鍍，去掉金屬模體后進(jìn)行最終剝離。
4.磁復(fù)制用主載體，具有與復(fù)制的信息對(duì)應(yīng)著的凹凸形狀，其特征在于該磁復(fù)制用主載體是金屬盤(pán)構(gòu)成的，該金屬盤(pán)的制作是把涂布有光致抗蝕劑膜的圓板進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)的同時(shí)，對(duì)應(yīng)著信息照射調(diào)節(jié)好的激光或電子束，該光致抗蝕劑膜顯影的同時(shí)進(jìn)行蝕刻處理，形成了凹凸后對(duì)除去了光致抗蝕劑膜且?guī)в邪纪沟脑P(pán)進(jìn)行電鍍，去掉金屬模體后進(jìn)行最終剝離。
5.磁復(fù)制用主載體，具有與復(fù)制的信息對(duì)應(yīng)著的凹凸形狀，其特征在于該磁復(fù)制用主載體是金屬盤(pán)構(gòu)成的，該金屬盤(pán)的制作是把涂布有光致抗蝕劑膜的圓板進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)的同時(shí)，對(duì)應(yīng)著信息照射調(diào)節(jié)好的激光或電子束，該光致抗蝕劑膜顯影的同時(shí)進(jìn)行蝕刻處理，形成了凹凸后對(duì)除去光致抗蝕劑膜且?guī)в邪纪沟牡?原盤(pán)壓付樹(shù)脂液進(jìn)行硬化或進(jìn)行電鍍，剝離第1原盤(pán)后對(duì)第2原盤(pán)進(jìn)行電鍍，去掉金屬模體后進(jìn)行最終剝離。
6.磁復(fù)制用主載體，具有與復(fù)制的信息對(duì)應(yīng)著的凹凸形狀，其特征在于該磁復(fù)制用主載體是金屬盤(pán)構(gòu)成的，該金屬盤(pán)的制作是把涂布有光致抗蝕劑膜的圓板進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)的同時(shí)，對(duì)應(yīng)著信息照射調(diào)節(jié)好的激光或電子束，該光致抗蝕劑膜顯影的同時(shí)進(jìn)行蝕刻處理，形成了凹凸后對(duì)除去光致抗蝕劑膜且?guī)в邪纪沟牡?原盤(pán)壓付樹(shù)脂液進(jìn)行硬化或進(jìn)行電鍍，剝離第1原盤(pán)后給第2原盤(pán)壓付樹(shù)脂液進(jìn)行硬化或進(jìn)行電鍍，剝離第2原盤(pán)后對(duì)第3原盤(pán)進(jìn)行電鍍，去掉金屬模體后進(jìn)行最終剝離。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6之一所述的磁復(fù)制用主載體，其特征在于前述圓板是玻璃或石英。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-7之一所述的磁復(fù)制用主載體，其特征在于前述電鍍的主成分是Ni。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-8之一所述的磁復(fù)制用主載體，其特征在于前述凹凸深度為80nm-800nm。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-9之一所述的磁復(fù)制用主載體，其特征在于在去掉前述模體后的金屬盤(pán)凹凸形狀上設(shè)置有軟磁性層。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的磁復(fù)制用主載體，其特征在于在前述金屬盤(pán)凹凸形狀和軟磁性層之間設(shè)置有非磁性層。
12.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的磁復(fù)制用主載體，其特征在于前述軟磁性層的厚度為50nm-500nm。
13.根據(jù)權(quán)利要求1-12之一所述的磁復(fù)制用主載體，其特征在于在最上層設(shè)置有類(lèi)似金剛石碳的保護(hù)膜。
14.根據(jù)權(quán)利要求1-13之一所述的磁復(fù)制用主載體，其特征在于前述凹凸形狀在半徑方向上是長(zhǎng)的。
全文摘要
本發(fā)明涉及具有凹凸形狀的主載體,該主載體制作簡(jiǎn)易、成本低、精度好,它用于把伺服信號(hào)類(lèi)信息信號(hào)磁復(fù)制在磁記錄媒體上的磁復(fù)制方法中。該主載體是由金屬盤(pán)31A構(gòu)成的,金屬盤(pán)的制作是把涂布有光致抗蝕劑膜11的圓板轉(zhuǎn)動(dòng)的同時(shí),對(duì)應(yīng)于信息照射調(diào)節(jié)好的激光或電子束,光致抗蝕劑膜11顯影后,在具有凹凸的原盤(pán)上進(jìn)行電鍍,去掉金屬模體后進(jìn)行最終剝離。金屬盤(pán)31A是采用Ni為主成分電鍍制作的,在表面上設(shè)置相應(yīng)必要的軟磁性層32。
文檔編號(hào)G11B5/84GK1313587SQ0110371
公開(kāi)日2001年9月19日 申請(qǐng)日期2001年2月8日 優(yōu)先權(quán)日2000年3月10日
發(fā)明者長(zhǎng)尾信, 渡辺清一, 西川正一 申請(qǐng)人:富士膠片株式會(huì)社