專利名稱：具有波動標(biāo)題區(qū)的光記錄介質(zhì)、數(shù)據(jù)記錄方法及其裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光記錄介質(zhì)，更具體地是，涉及一種具有波動信號記錄在其上且用戶數(shù)據(jù)可以記錄在其上的波動軌道的光記錄介質(zhì)，以及數(shù)據(jù)記錄方法及其裝置。
光記錄介質(zhì)包括標(biāo)題(header)信息記錄在其上的標(biāo)題區(qū)，和用戶數(shù)據(jù)記錄在其上的用戶數(shù)據(jù)區(qū)。在2.65GB或4.7GB的DVD-RAM情況下，每個扇區(qū)包括128字節(jié)的標(biāo)題信息。在制造光盤基片時，將標(biāo)題信息記錄成預(yù)凹坑(pre-pits)形式。根據(jù)DVD-RAM規(guī)格，標(biāo)題區(qū)包括一用于鎖相環(huán)路(PLL)的可變頻率振蕩器(VFO)區(qū)域、一指定扇區(qū)號的物理識別數(shù)據(jù)(PID)區(qū)域以及一用于存儲ID錯誤檢測信息的ID錯誤檢測(IED)區(qū)域。標(biāo)題區(qū)設(shè)置在扇區(qū)的預(yù)定部分上。設(shè)置在記錄/再現(xiàn)裝置內(nèi)的拾取裝置可以基于記錄在標(biāo)題區(qū)上的信息輕易地識別扇區(qū)號、扇區(qū)類型以及紋間表面(land)或紋槽(groove)軌道。
隨著多媒體使用的快速發(fā)展，已經(jīng)提出了各種用于向光記錄介質(zhì)，如數(shù)字多用盤(DVD)上記錄更多信息的方法。例如，現(xiàn)有擴寬用戶數(shù)據(jù)可以記錄在其上的用戶數(shù)據(jù)區(qū)、減小記錄或再現(xiàn)激光的波長以及減小軌道間距的多種方法。


圖1是傳統(tǒng)光盤的示意圖。參照圖1，光盤上形成有對應(yīng)用戶數(shù)據(jù)記錄在其上的用戶數(shù)據(jù)區(qū)的紋間表面和紋槽。標(biāo)題信息以預(yù)凹坑形式記錄其上的標(biāo)題區(qū)3也設(shè)置在光盤上。
圖2A到2D示出傳統(tǒng)光盤的標(biāo)題區(qū)的示例。參照圖2A，記錄標(biāo)題信息的預(yù)凹坑設(shè)置在每個紋間表面和紋槽軌道的中部。換句話說，每個軌道確定了預(yù)凹坑。在這種結(jié)構(gòu)中，軌道和預(yù)凹坑設(shè)置在相同的圓周上，從而波動信號和標(biāo)題信息可以一次性記錄。然而，如果軌道密度增大以改善記錄密度的話，在標(biāo)題信息再現(xiàn)時可能會出現(xiàn)串?dāng)_。
參照圖2B，預(yù)凹坑設(shè)置在紋間表面軌道和紋槽軌道之間的邊界處。在這種結(jié)構(gòu)中，與圖2A的結(jié)構(gòu)相比較，即使軌道密度增大，也不會輕易發(fā)生串?dāng)_。另外，預(yù)凹坑可以記錄其上的區(qū)域變寬使得凹坑的寬度可以增大。換句話說，在信號再現(xiàn)方面，圖2B的結(jié)構(gòu)比圖2A的結(jié)構(gòu)更為優(yōu)選。然而，由于預(yù)凹坑設(shè)置在紋間表面軌道和紋槽軌道之間的邊界處，在記錄或再現(xiàn)期間，這種結(jié)構(gòu)易于被拾取裝置的尋軌偏移損壞。
參照圖2C，一組預(yù)凹坑設(shè)置在每個紋間表面或紋槽軌道的中部，從而在一個軌道內(nèi)的一組預(yù)凹坑與相鄰軌道內(nèi)另一組預(yù)凹坑不相鄰。于是，即使軌道密度增大，在相鄰軌道間串?dāng)_發(fā)生的可能性會很低。然而，由于預(yù)凹坑設(shè)置在每個軌道的中部，這種結(jié)構(gòu)對于尋軌錯誤不敏感，因此其難于進行靈敏的伺服控制。
圖2D所示的結(jié)構(gòu)用于目前的DVD-RAM中。一組預(yù)凹坑設(shè)置在紋間表面軌道和紋槽軌道之間的邊界上，使得在一條軌道內(nèi)的一組預(yù)凹坑不會與相鄰軌道內(nèi)的另一組預(yù)凹坑相鄰。于是可以減小串?dāng)_，并且可以達(dá)到靈敏的伺服控制。然而，在盤基片制造過程中，難于定位相鄰軌道間不相鄰的預(yù)凹坑。于是，構(gòu)成標(biāo)題區(qū)的多種元素的信號特性可能會彼此不一致。
在目前使用的DVD-RAM中，標(biāo)題面積與盤面積的比值達(dá)到每扇區(qū)5％。通過使這種額外量減至最小來增大用戶數(shù)據(jù)區(qū)，使用了具有雙數(shù)據(jù)可記錄側(cè)的雙層結(jié)構(gòu)。然而，在這種雙層結(jié)構(gòu)中，在數(shù)據(jù)記錄到上層時，記錄能量受到下層的物理外形影響。
為了得到改進，根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的預(yù)凹坑形式記錄的標(biāo)題區(qū)的物理外形施加在雙層結(jié)構(gòu)中記錄能量的影響被模擬并測量。
為了模擬反射光量，計算自每個反射鏡基片的反射光量、凹坑面積以及具有標(biāo)記的紋槽面積，如圖3A到3D所示?？紤]到雙層結(jié)構(gòu)中的下層和上層之間空間層的作用，透鏡采用了30μm的曲率。另外，在計算中考慮由穿過透鏡的激光束捕捉到的下層軌道數(shù)。
為了測量反射光量，設(shè)定如圖4A到4C所示的條件。在此，“L0”表示下層，而“L1”表示上層。反射膜1形成在上層L1之下。激光束聚焦在圖4A的反射鏡區(qū)上、圖4B的凹坑區(qū)上以及圖4C的紋槽區(qū)上(沒有標(biāo)記)。
圖5為示出從圖3A到4C獲得的結(jié)果的曲線。在根據(jù)模擬的計算中，軌道凹坑加倍以覆蓋如圖2A所示的結(jié)構(gòu)。對于具有標(biāo)記的紋槽區(qū)域，只考慮標(biāo)記部分和紋間表面或紋槽部分之間的反射率的不同。不考慮由于非結(jié)晶狀態(tài)和結(jié)晶狀態(tài)之間吸收率的不同而造成的有標(biāo)記部分的透射率的不同。
以下是試驗的輸入?yún)?shù)和其數(shù)值的列表。
表1
表2
根據(jù)模擬結(jié)果，透射率在反射鏡基片上減小很小，而在凹坑區(qū)和紋槽區(qū)的序列上減小很大。取決于軌道間距，透射率在凹坑區(qū)域減小4-7.5％，而在紋槽區(qū)域透射率減小7.5-28.5％。
凹坑區(qū)域所反射的光量在0.37μm的軌道間距處測量并減小0-4％。在紋槽區(qū)域情況下，測量值的減少小于計算值的減少?？赏茖?dǎo)出這種現(xiàn)象是由于在模擬中假設(shè)屏蔽角(wall degree)為90°而產(chǎn)生的，而實際的屏蔽角為0-60°，因此光的測量值比計算值大3％。
隨著軌道間距的減小，透射的光量在凹坑和紋槽區(qū)減小。在0.34μm(實際為0.34μm×2)軌道間距時獲得的測量值比在0.38μm(實際為0.38μm×2)軌道間距時獲得的基準(zhǔn)值小0-4％。然而，當(dāng)標(biāo)題區(qū)具有如圖2D所示的結(jié)構(gòu)時，可推導(dǎo)出透射的光量減小很小。在紋槽區(qū)域內(nèi)0.34μm軌道間距處透射的光量減小9.5％，而在0.30μm軌道間距處減小22％。當(dāng)軌道間距是0.34μm時，測量值比計算值小7.5％。
結(jié)果，可以推導(dǎo)出當(dāng)軌道間距是0.30μm且物鏡的NA為0.85時，在紋槽區(qū)域內(nèi)上層L1需要至少比下層L0大20％的記錄能量。換句話說，實現(xiàn)為預(yù)凹坑的標(biāo)題區(qū)不適于高密度記錄，且當(dāng)數(shù)據(jù)記錄到雙層結(jié)構(gòu)的上層時影響記錄能量。
為了解決上述問題，本發(fā)明的第一目的是提供一種具有不影響記錄能量的物理形狀光盤記錄介質(zhì)，以及一種數(shù)據(jù)記錄方法及其裝置。
本發(fā)明的第二目的是提供一種用于防止標(biāo)題區(qū)重復(fù)記錄而惡化的光記錄介質(zhì)，以及一種數(shù)據(jù)記錄方法及其裝置。
于是，為了達(dá)到本發(fā)明的上述目的，一方面，提供了一種包括波動信號記錄在其上的波動軌道的光記錄介質(zhì)，以及含有標(biāo)題信息的波動標(biāo)題信號記錄在其上的波動標(biāo)題軌道。
優(yōu)選地，波動標(biāo)題軌道和波動軌道彼此交替地設(shè)置。波動軌道為用戶數(shù)據(jù)所記錄并包括紋間表面軌道或紋槽軌道的用戶數(shù)據(jù)區(qū)。優(yōu)選地，波動信號具有單一頻率，且波動標(biāo)題信號具有比波動信號高的頻率并通過調(diào)制含有標(biāo)題信息的二進制數(shù)據(jù)獲得。優(yōu)選地是，調(diào)制由90°相移鍵控(QPSK)進行。更優(yōu)選地是，標(biāo)題信息包括地址信息。
為了達(dá)到本發(fā)明的目的，另一方面，提供了一種向包括波動信號記錄在其上的波動軌道和含有標(biāo)題信息的波動標(biāo)題信號記錄在其上的波動標(biāo)題軌道的記錄介質(zhì)記錄數(shù)據(jù)的方法。該方法包括用預(yù)定的記錄能量向波動軌道記錄數(shù)據(jù)的步驟(a)，以及用比記錄能量預(yù)定值低的穿過能量(passing power)穿過波動標(biāo)題軌道的步驟(b)。
優(yōu)選該方法還包括在步驟(b)之前探測波動標(biāo)題軌道的步驟(b0)。優(yōu)選的是，穿過能量與用于從記錄介質(zhì)再現(xiàn)數(shù)據(jù)的再現(xiàn)能量相同。優(yōu)選的是，波動標(biāo)題軌道和波動軌道彼此交替設(shè)置。優(yōu)選波動信號具有單一頻率，且波動標(biāo)題信號的頻率高于波動信號的頻率，并由含有標(biāo)題信息的二進制數(shù)據(jù)調(diào)制獲得。優(yōu)選調(diào)制由90°相移鍵控(QPSK)完成。更優(yōu)選標(biāo)題信息包括地址信息。
為了達(dá)到本發(fā)明的上述目的，在又一個方面，提供了一種將數(shù)據(jù)記錄到包括波動信號所記錄的波動軌道和含有標(biāo)題信息的波動標(biāo)題信號所記錄的波動標(biāo)題軌道的記錄介質(zhì)上的裝置。該裝置包括用于以預(yù)定的記錄能量向波動軌道記錄數(shù)據(jù)并以低于記錄能量預(yù)定值的穿過能量穿過波動標(biāo)題軌道的記錄單元。
優(yōu)選地，穿過能量與用于從記錄介質(zhì)再現(xiàn)數(shù)據(jù)的再現(xiàn)能量相同。優(yōu)選地，波動標(biāo)題軌道和波動軌道彼此交替地設(shè)置。優(yōu)選地，波動信號具有單一頻率，而波動標(biāo)題信號的頻率高于波動信號頻率的頻率，且其通過含有標(biāo)題信息的二進制數(shù)據(jù)調(diào)制而獲得。優(yōu)選地是調(diào)制由90°相移鍵控(QPSK)完成。更優(yōu)選地是，標(biāo)題信息包括地址信息。
本發(fā)明的上述目的和優(yōu)點將通過參照附圖對其優(yōu)選實施例的詳細(xì)描述而變得更清晰，在附圖中圖1是傳統(tǒng)光盤的示意圖；圖2A到2D示出傳統(tǒng)光盤的標(biāo)題區(qū)；圖3A到3D為模擬反射光量減少的示意圖；圖4A到4C為測量反射光量減少的示意圖；圖5是示出從圖3A到4C獲得的結(jié)果的曲線；圖6是本發(fā)明實施例光盤的示意圖；圖7是圖6的局部視圖；圖8是用于將用戶數(shù)據(jù)記錄到本發(fā)明實施例的圖6和7所示的光盤上的記錄裝置的方塊圖；圖9是本發(fā)明實施例的數(shù)據(jù)記錄方法的流程圖；以及圖10是用于解釋在本發(fā)明實施例數(shù)據(jù)記錄方法中的記錄能量和穿過能量之間關(guān)系的示意圖。
參照圖6，一作為精確尋軌記錄激光束的尋軌裝置的紋槽沿本發(fā)明實施例的光盤上的一軌道形成。對應(yīng)盤基片表面的紋間表面(land)存在于各紋槽之間。
一特定頻率的波動信號記錄到一紋槽軌道上和/或一紋間表面軌道上。波動信號是一種記錄輔助時鐘信號的裝置，用于在記錄或再現(xiàn)期間獲取同步信息。換句話說，波動信號用作提供系統(tǒng)時鐘的輔助信號。因此，波動信號具有不會影響為記錄/再現(xiàn)裝置設(shè)置的尋軌伺服機構(gòu)的頻段。根據(jù)DVD-RAM規(guī)格，用于在徑向?qū)ぼ壍乃欧l段約為10KHz，而在標(biāo)準(zhǔn)線速度下波動信號的頻段約為157KHz。用戶數(shù)據(jù)記錄到紋槽軌道和/或紋間表面軌道上。每個軌道分成用于管理的多個扇區(qū)。對應(yīng)每個扇區(qū)的標(biāo)題區(qū)6設(shè)置在每個軌道上。標(biāo)題信息記錄到每個標(biāo)題區(qū)6內(nèi)。標(biāo)題信息包括光盤的扇區(qū)信息和用于識別扇區(qū)的地址信息。
圖7是圖6的局部視圖。參照圖7，具有單一頻率的單一波動信號記錄到每個紋槽和紋間表面軌道上。允許改寫的一相位轉(zhuǎn)換層形成在紋槽和紋間表面軌道上，從而在記錄用戶數(shù)據(jù)期間形成標(biāo)記。這些標(biāo)記可以由稍后將描述的數(shù)據(jù)記錄裝置記錄。在一標(biāo)題區(qū)內(nèi)，軌道連續(xù)不斷從而其與相鄰的用戶數(shù)據(jù)區(qū)的紋槽或紋間表面相一致。含有標(biāo)題信息的波動標(biāo)題信號記錄到標(biāo)題區(qū)內(nèi)的軌道上。為了描述清楚起見，在用戶數(shù)據(jù)區(qū)內(nèi)的紋槽或紋間表面軌道稱為波動軌道，而在標(biāo)題區(qū)內(nèi)的軌道稱為波動標(biāo)題軌道。
記錄到波動標(biāo)題軌道上的波動標(biāo)題信號含有各種標(biāo)題信息。于是，波動標(biāo)題信號具有比記錄到波動軌道上的波動信號高的頻率。在此，波動標(biāo)題信號為雙相位調(diào)制信號。具體地說，波動標(biāo)題信號為90°相移鍵控(QPSK)信號。
在本發(fā)明的光記錄介質(zhì)上的標(biāo)題區(qū)構(gòu)造成波動標(biāo)題信號記錄在其上的波動標(biāo)題軌道，從而其物理外形比傳統(tǒng)的預(yù)凹坑所形成的標(biāo)題區(qū)域更均勻。于是，在數(shù)據(jù)記錄到雙層結(jié)構(gòu)中的上層時，很少發(fā)生已參照附圖3A到5所描述過的反射光量上的減小。
圖8是用于向圖6和7中所示的本發(fā)明實施例的光盤記錄用戶數(shù)據(jù)的記錄裝置的方塊圖。參照圖8，記錄裝置8包括一控制器80、一激光束發(fā)生器81、一電光(EO)調(diào)制器82以及一光記錄/探測單元83。
控制器80適當(dāng)控制激光束發(fā)生器81、EO調(diào)制器82以及光記錄/探測單元83，從而用戶數(shù)據(jù)可以記錄到光盤10上的用戶數(shù)據(jù)內(nèi)。
激光束發(fā)生器81振蕩激光束并然后減小被振蕩的激光束的噪聲以穩(wěn)定記錄能量。對于一記錄激光束，可以使用藍(lán)色激光束或紫外線激光束。通?？梢杂靡籄r離子激光器或一Kr激光器產(chǎn)生紫外線激光束。
EO調(diào)制器82在需要時調(diào)制穿過能量并放大光束的直徑，從而激光束可以完全入射到設(shè)置在光記錄/探測單元83內(nèi)的一物鏡(未示出)上。光記錄/探測單元83利用激光的最小寬度將數(shù)據(jù)記錄到光盤10上。
另外，光記錄/探測單元83探測用戶數(shù)據(jù)區(qū)或標(biāo)題區(qū)。標(biāo)題區(qū)可以由光記錄/探測單元83根據(jù)各種方法探測出。在一示例中，相位調(diào)制的波動信號記錄到鄰近標(biāo)題區(qū)的波動軌道上的預(yù)定區(qū)域上，并且探測出相位調(diào)制波動信號。以這種方法，相位調(diào)制的波動信號功能為指示標(biāo)題區(qū)的標(biāo)志。記錄在標(biāo)題區(qū)的相位調(diào)制波動信號可以為由二進制相移鍵控(BPSK)所調(diào)制的波動信號。在另一示例中，未記錄波動信號的反射鏡部分形成在鄰近標(biāo)題區(qū)的波動軌道上的預(yù)定部分。顯而易見的是，在這些傳統(tǒng)的用于探測標(biāo)題區(qū)的方法中，可以使用本發(fā)明的應(yīng)用于光記錄介質(zhì)的方法。
以下的描述涉及本發(fā)明的具有這種結(jié)構(gòu)的記錄裝置中的數(shù)據(jù)記錄方法。圖9是本發(fā)明一個實施例的數(shù)據(jù)記錄方法的流程圖。數(shù)據(jù)記錄在其上的光記錄介質(zhì)為參照圖6和7描述的光盤。數(shù)據(jù)記錄到光盤上的用戶數(shù)據(jù)區(qū)。
參照圖9，在步驟901中，控制器80控制光記錄/探測單元82，以用預(yù)定的記錄能量將數(shù)據(jù)記錄到用戶數(shù)據(jù)區(qū)內(nèi)的波動軌道上，從而用預(yù)定的記錄能量記錄數(shù)據(jù)。在步驟902中，當(dāng)標(biāo)題區(qū)被光記錄/探測單元82探測到時，控制器80控制記錄能量使其降低到再現(xiàn)能量，從而光記錄/探測單元83以再現(xiàn)能量穿過標(biāo)題區(qū)，而不記錄數(shù)據(jù)。換句話說，穿過能量為再現(xiàn)能量。在此，穿過能量可以從比記錄能量值低的各值中選取。
圖10是用于解釋在本發(fā)明實施例的記錄方法中記錄能量和穿過能量之間關(guān)系的示意圖。參照圖10，低頻率的單一波動信號記錄在用戶數(shù)據(jù)區(qū)內(nèi)形成的波動軌道上，而高頻(HF)的波動標(biāo)題信號記錄在標(biāo)題區(qū)內(nèi)形成的波動標(biāo)題軌道上。當(dāng)記錄裝置8在用戶數(shù)據(jù)區(qū)上記錄數(shù)據(jù)，即形成標(biāo)記時，記錄能量Pw從光記錄/探測單元83中輸出。當(dāng)記錄裝置8穿過標(biāo)題區(qū)時，從光記錄/探測單元83輸出穿過能量Pr。穿過能量Pr與低于記錄能量Pw的再現(xiàn)能量Pr相同。如上所述，由于當(dāng)記錄裝置穿過含有標(biāo)題信息的波動標(biāo)題信號記錄在其上的標(biāo)題區(qū)時，記錄能量Pw降低到再現(xiàn)能量Pr，即使重復(fù)記錄，在標(biāo)題區(qū)內(nèi)的波動標(biāo)題軌道上的相位也未改變，因此可以防止波動標(biāo)題信號的惡化。在此，取代再現(xiàn)能量Pr，記錄能量Pw可以改變?yōu)楸扔涗浤芰縋w低一預(yù)定值的能量。然而，使用再現(xiàn)能量Pr利于控制，這是由于在記錄/再現(xiàn)裝置中能量大小可以只用記錄能量Pw和再現(xiàn)能量Pr兩種模式來控制。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明，標(biāo)題區(qū)的物理外形均勻一致，因此形成了來自其的反射光量在記錄過程中不會降低的光記錄介質(zhì)、數(shù)據(jù)記錄方法及其裝置。另外，由于在數(shù)據(jù)記錄到本發(fā)明的光記錄介質(zhì)的同時，在標(biāo)題區(qū)內(nèi)記錄能量降低到再現(xiàn)能量，就抑制了標(biāo)題區(qū)內(nèi)相位的變化，因此可以基本上防止標(biāo)題區(qū)的惡化。
權(quán)利要求
1.一種光記錄介質(zhì)，包括一波動信號記錄在其上的波動軌道，以及一含有標(biāo)題信息的波動標(biāo)題信號記錄在其上的波動標(biāo)題軌道。
2.如權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì)，其特征在于，所述波動標(biāo)題軌道和所述波動軌道彼此交替地設(shè)置。
3.如權(quán)利要求2所述的光記錄介質(zhì)，其特征在于，所述波動軌道為用戶數(shù)據(jù)記錄在其上的用戶數(shù)據(jù)區(qū)，并包括紋間表面軌道或紋槽軌道。
4.如權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì)，其特征在于，所述波動信號具有單一頻率。
5.如權(quán)利要求4所述的光記錄介質(zhì)，其特征在于，所述波動標(biāo)題信號的頻率高于波動信號的頻率。
6.如權(quán)利要求5所述的光記錄介質(zhì)，其特征在于，所述波動標(biāo)題信號通過調(diào)制含有標(biāo)題信息的二進制數(shù)據(jù)獲得。
7.如權(quán)利要求6所述的光記錄介質(zhì)，其特征在于，調(diào)制由90°相移鍵控(QPSK)完成。
8.如權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì)，其特征在于，所述標(biāo)題信息包括地址信息。
9.一種向包括波動信號記錄在其上的波動軌道和含有標(biāo)題信息的波動標(biāo)題信號記錄在其上的波動標(biāo)題軌道的記錄介質(zhì)記錄數(shù)據(jù)的方法，所述方法包括以下步驟(a)用預(yù)定的記錄能量向波動軌道記錄數(shù)據(jù)，以及(b)用比記錄能量低一預(yù)定值的穿過能量穿過波動標(biāo)題軌道。
10.如權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，還包括在步驟(b)之前探測波動標(biāo)題軌道的步驟(b0)。
11.如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，穿過能量與用于從記錄介質(zhì)再現(xiàn)信息的再現(xiàn)能量相同。
12.如權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述波動標(biāo)題軌道和波動軌道彼此交替地設(shè)置。
13.如權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述波動信號具有單一頻率。
14.如權(quán)利要求13所述的方法，其特征在于，所述波動標(biāo)題信號的頻率高于波動信號的頻率。
15.如權(quán)利要求14所述的方法，其特征在于，所述波動標(biāo)題信號通過調(diào)制含有標(biāo)題信息的二進制數(shù)據(jù)而獲得。
16.如權(quán)利要求15所述的方法，其特征在于，調(diào)制由90°相移鍵控(QPSK)完成。
17.如權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述標(biāo)題信息包括地址信息。
18.一種將數(shù)據(jù)記錄到記錄介質(zhì)上的裝置，所述記錄介質(zhì)包括波動信號記錄在其上的波動軌道和含有標(biāo)題信息的波動標(biāo)題信號記錄在其上的波動標(biāo)題軌道，所述裝置包括用于以預(yù)定的記錄能量向波動軌道記錄數(shù)據(jù)并以低于記錄能量一預(yù)定值的穿過能量穿過波動標(biāo)題軌道的一記錄單元。
19.如權(quán)利要求18所述的裝置，其特征在于，所述穿過能量與用于從記錄介質(zhì)再現(xiàn)數(shù)據(jù)的再現(xiàn)能量相同。
20.如權(quán)利要求18所述的裝置，其特征在于，所述波動標(biāo)題軌道和波動軌道彼此交替地設(shè)置。
21.如權(quán)利要求18所述的裝置，其特征在于，所述波動信號具有單一頻率。
22.如權(quán)利要求21所述的裝置，其特征在于，所述波動標(biāo)題信號的頻率高于波動信號的頻率。
23.如權(quán)利要求22所述的裝置，其特征在于，所述波動標(biāo)題信號通過調(diào)制含有標(biāo)題信息的二進制數(shù)據(jù)而獲得。
24.如權(quán)利要求23所述的裝置，其特征在于，調(diào)制由90°相移鍵控(QPSK)完成。
25.如權(quán)利要求18所述的裝置，其特征在于，所述標(biāo)題信息包括地址信息。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種光記錄介質(zhì)和數(shù)據(jù)記錄方法及其裝置。光記錄介質(zhì)包括波動信號記錄在其上的波動軌道,以及含有標(biāo)題信息的波動標(biāo)題信號記錄在其上的波動標(biāo)題軌道。于是,標(biāo)題區(qū)的物理外形均勻一致,因此在數(shù)據(jù)記錄到介質(zhì)上時可以防止從光記錄介質(zhì)反射的光量減少。
文檔編號G11B27/19GK1361521SQ0111954
公開日2002年7月31日 申請日期2001年5月29日 優(yōu)先權(quán)日2000年12月26日
發(fā)明者李坰根, 樸仁植, 金倫基, 大塚達(dá)宏, 全鎮(zhèn)勛, 高禎完, 尹斗燮 申請人:三星電子株式會社