專利名稱：新型吲哚苯乙烯鹽化合物及其在高密度記錄媒體的應(yīng)用的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于一種新型吲哚苯乙烯鹽化合物(indolestyrylcompounds)及其在高密度記錄媒體的應(yīng)用。
此外，光信息儲(chǔ)存媒體另一方面的研究目標(biāo)則為改變光記錄層所使用的有機(jī)染料，開發(fā)具有更優(yōu)良的光學(xué)性質(zhì)的染料。近幾年來，由于僅寫一次型光盤片(CD-R)具有價(jià)格便宜、燒寫速度快、攜帶方便及與個(gè)人計(jì)算機(jī)(PC)兼容性高等優(yōu)點(diǎn)而成為記錄媒體中的新寵兒。與此同時(shí)，它所使用的記錄層有機(jī)染料也成為爭(zhēng)相開發(fā)的重點(diǎn)，同時(shí)其發(fā)展也趨向于飽和的狀態(tài)。因此，發(fā)展配合更高密度的信息儲(chǔ)存媒體如記憶容量可達(dá)4.7GB的僅寫一次型DVD-R光盤片(Digital Versatile Disc)所使用的染料即成為目前研究的重點(diǎn)。由于高密度儲(chǔ)存媒體如DVD-R光盤片所使用的雷射波長(zhǎng)為650nm與CD-R光盤片所使用的雷射波長(zhǎng)780nm不同，以致于染料無(wú)法共享，所以重新設(shè)計(jì)開發(fā)高密度儲(chǔ)存媒體所使用的記錄層有機(jī)染料是勢(shì)在必行。
本發(fā)明的另一目的在于提供一種應(yīng)用這種吲哚苯乙烯鹽化合物染料的高密度信息儲(chǔ)存媒體，本發(fā)明利用這種吲哚苯乙烯鹽化合物染料形成高密度信息儲(chǔ)存媒體的記錄層。
為達(dá)上述目的，本發(fā)明提供一種新型吲哚苯乙烯鹽化合物(indolestyryl compounds)，具有化學(xué)式(I)結(jié)構(gòu)，以圖標(biāo)方式表示如下 在化學(xué)式結(jié)構(gòu)(I)中，R1、R2、R3、R4、R5和Y-分別代表聯(lián)結(jié)化學(xué)式結(jié)構(gòu)不同位置的基團(tuán)。其中R1為含1至8個(gè)碳(C1-C8)的烷基、苯環(huán)酯基團(tuán)(CH2C6H4CO2R6)、直鏈烷磺酸酯基(CH2)nSO3R7或直鏈烷酯基(CH2)nCO2R7；Y-可為四氰基-對(duì)奎諾二甲烷(TCNQ-，teteacyano-p-quinodimethane)、四氰乙烯(TCNE-，tetracyanoethylene)、過氯酸根(ClO4-)、六氟銻酸鹽(SbF6-)、六氟磷酸鹽(PF6-)、四氟硼酸鹽(BF4)和鹵素離子其中之一。
而R2和R3為相同或不同的基團(tuán)，可分別為氫原子、含1至8個(gè)碳(C1-C8)的烷基、含1至8個(gè)碳(C1-C8)的烷氧基及含1至8個(gè)碳(C1-C8)的烷酯基(-CO2R8)其中之一；以及，R2和R3亦可相連形成含氮雜環(huán)。
R4和R5為相同或不同的基團(tuán)，可分別為氫原子、含1至8個(gè)碳(C1-C8)的烷基、三氟甲基、烷氧基、羧基、硝基、酰胺基(CONR9R10)、磺酸基、磺酸酯基(SO3R11)、含1至8個(gè)碳的烷酯基和鹵素原子基團(tuán)組其中之一；此外，Y-的選擇需要配合R1，R1為含1至8個(gè)碳(C1-C8)的烷基時(shí)，Y-需選擇TCNQ-(teteacyano-p-quinodimethane)和TCNE-(tetracyanoetylene)其中之一；另外，當(dāng)R1選擇苯環(huán)酯基團(tuán)(CH2C6H4CO2R6)、直鏈烷磺酸酯基(CH2)nSO3R7及直鏈烷酯基(CH2)nCO2R7其中之一時(shí)，Y-選擇為四氰基-對(duì)奎諾二甲烷(TCNQ-，teteacyano-p-quinodimethane)、四氰乙烯(TCNE-，tetracyanoethylene)、過氯酸根(ClO4)、六氟銻酸鹽(SbF6-)、六氟磷酸鹽(PF6-)、四氟硼酸鹽(BF4)和鹵素離子其中之一。
當(dāng)新型吲哚苯乙烯鹽化合物(indolestyryl compounds)化學(xué)式中R1為直鏈烷酯基(CH2)nCO2R7時(shí)，R7為含1至8個(gè)碳的烷基或氟烷基(C2F4，CF3)。
當(dāng)新型吲哚苯乙烯鹽化合物的化學(xué)式的R4和R5為C1-C8的烷酯基(-CO2R8)時(shí)，R8可為含1至8個(gè)碳的烷基或氟烷基(C2F4，CF3)；R4和R5若為酰胺基(-CONR9R10)時(shí)，R9和R10可為相同或是不同的基團(tuán)，其中R9和R10可為氫原子或含1至6個(gè)碳的烷基；如R4和R5為磺酸酯基(-SO3R11)時(shí)，R11可為氫原子或含1至6個(gè)碳的烷基。上述基團(tuán)的選擇可分別適用于化學(xué)式(I)中。
此外，在制備本發(fā)明的新型吲哚苯乙烯鹽化合物的過程中需要進(jìn)行化合物(II)與化合物(III)的偶合反應(yīng)，在有機(jī)溶劑的環(huán)境下合成吲哚苯乙烯鹽化合物(indolestyryl compounds)。
本發(fā)明之新型吲哚苯乙烯鹽化合物的制備方法，為將化合物(II)與化合物(III)在有機(jī)溶劑的環(huán)境下進(jìn)行偶合反應(yīng)即可得到帶鹵素離子(X-)的吲哚苯乙烯鹽化合物(IV) 最后，如以下反應(yīng)式所示，取帶鹵素離子的吲哚苯乙烯鹽化合物(IV)與鋰、鈉和鉀其中之一鹽類化合物(LiY，NaY，KY)在有機(jī)溶劑中下進(jìn)行離子交換反應(yīng)即可得化學(xué)式(I)的新型化合物。 本發(fā)明新型吲哚苯乙烯鹽化合物，可以直接應(yīng)用于一般的DVD光盤片以及其它高密度信息儲(chǔ)存媒體的記錄層。
本發(fā)明提供的高密度可錄式光盤片包含有第一基板，該基板是具有溝槽的透明基板；記錄層，該記錄層由新型吲哚苯乙烯鹽化合物染料在第一基板表面形成；以及配置于記錄層上的反射層；第二基板，為具有溝槽的透明基板；再用貼合層貼合反射層與第二基板。
上述第一基板與第二基板分別為一具有溝軌(land)及溝槽(groove)的透明基板，其軌距(track pitch)為0.3微米至0.8微米(μm)，溝深(Groove depth)為70納米至200納米(nm)；基板材質(zhì)可為聚酯類、聚碳酸酯類(Polycarbonat，PC)、聚烯類等(PMMA、MCOC)。
其記錄層形成方式，可采用旋轉(zhuǎn)涂布、真空蒸鍍、噴布、滾壓涂布或含浸等方式，其中以旋轉(zhuǎn)涂布方式為最佳，形成的記錄層膜厚以70納米至250納米(nm)為最佳。
涂布用的有機(jī)溶劑可為含1至6個(gè)碳(C1-6)的醇類(alcohol)、含1至6個(gè)碳(C1-6)酮類(ketone)、含1至6個(gè)碳(C1-6)醚類(ether)、鹵素化合物環(huán)烷類及酰胺(amide)其中之一。其中，醇類可為甲醇(methanol)、乙醇(ethanol)、異丙醇(isopropanol)、二丙酮醇(diacetonalchol；DAA)、2，2，3，3-四氟丙醇(2，2，3，3-tetrafluoropropanol)、三氯乙醇(trichloroethanol)、2-氯乙醇(2-chloroethanol)、八氟戍醇(octafluoropentanol)、或六氟丁醇(hexafluorobutanol)；酮類可為丙酮(acetone)、甲基異丁酮(methyl isobutyl ketone；MIBK)、甲基乙基酮(methyl ethylketone，MEK)、或3-羥基-3-甲基-2-丁酮(3-hydroxy-3-methyl-2-butanone)；鹵素化合物可為氯仿(chloroform)、二氯甲烷(dichloromethane)、或1-氯丁烷(1-chlorobutane)；酰胺可為二甲基甲醯胺(dimethylformamide，DMF)、或二甲基乙酰胺(dimethylacetamide，DMA)；環(huán)烷類為甲基環(huán)己烷(Methylcyclohexane，MCH)。
此外，濺鍍于記錄層上的反射層材質(zhì)可為金、銀、鋁、硅、銅、銀鈦合金、銀鉻、銀銅等金屬或其合金材料；貼合第一基板與第二基板的方式可利用旋轉(zhuǎn)涂布法、網(wǎng)印、熱融膠法、雙面膠帶貼合法等。
本發(fā)明公開的新型吲哚苯乙烯鹽化合物，具有合成容易以及容易純化的特點(diǎn)。此外，本發(fā)明與一般可應(yīng)用于DVD光盤片染料的化合物相比價(jià)格較為低廉。新型吲哚苯乙烯鹽化合物所具有的R1側(cè)基可提升其結(jié)構(gòu)的光敏感度及極佳的對(duì)于光和熱的化學(xué)穩(wěn)定性。而且新型吲哚苯乙烯鹽化合物對(duì)于有機(jī)溶劑更具有極佳的溶解度利于光盤片的旋轉(zhuǎn)涂布制程。因此，將新型吲哚苯乙烯鹽化合物使用于高密度可錄式光盤片，以新型吲哚苯乙烯鹽化合物染料形成高密度可錄式光盤片的記錄層，與一般應(yīng)用于高密度信息儲(chǔ)存媒體染料的化合物相比價(jià)格較為低廉，可以達(dá)到降低成本的功效。并且可配合高密度可錄式光片所使用的較短波長(zhǎng)的雷射光，具有品質(zhì)穩(wěn)定的優(yōu)點(diǎn)。
圖2為使用新型吲哚苯乙烯鹽化合物染料的高密度可錄式光盤片的應(yīng)用實(shí)施例示意圖；圖3為本發(fā)明應(yīng)用實(shí)施例3的高密度可錄式光盤片反射率對(duì)波長(zhǎng)的光譜圖。
下面結(jié)合具體實(shí)施例及其附圖
對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說明。
將5克起始物(II)其R1為-CH2C6H4CO2CH3及2.4克化合物(III)其中R2、R3為相同的-C2H5，溶解于120ml乙醇中，并加熱至乙醇的回流溫度反應(yīng)11小時(shí)；待反應(yīng)完后，經(jīng)過濾烘干可得綠色固體結(jié)晶(A)，其化學(xué)式為(IV)，其中之R4和R5為氫原子＝H，X-為碘離子，反應(yīng)產(chǎn)率83％。經(jīng)物性分析后，測(cè)得化合物(A)的吸收波長(zhǎng)為566納米(UVmax＝566nm)。再將化合物(A)與不同的鋰、鈉和鉀離子化合物其中之一在有機(jī)溶劑中下進(jìn)行離子交換反應(yīng)，即可形成多種具有化學(xué)式(I)的新型化合物。以下列舉化合物(A)與不同化合物進(jìn)行的離子交換反應(yīng)所合成的新型化合物制作流程以及其性質(zhì)(1)取化合物(A)的固體結(jié)晶2.84克與六氟銻酸鈉(NaSbF6)1.5克溶于50毫升(ml)的乙醇中，并加熱回流以進(jìn)行離子置換，待反應(yīng)完后經(jīng)過濾烘干可得深綠色固體結(jié)晶的化合物(B，化學(xué)式I，R4、R5＝H，Y-＝SbF6-)，經(jīng)計(jì)算其反應(yīng)產(chǎn)率89％，經(jīng)物性分析后，測(cè)得化合物(B)的吸收波長(zhǎng)為566納米(UVmax＝566nm)，吸收系數(shù)(ε)＝1.09×105。(2)取化合物(A)的固體結(jié)晶2.84克與LiTCNQ 1.6克溶于50毫升(ml)的乙醇中，并加熱產(chǎn)生回流以進(jìn)行離子置換，待反應(yīng)完后經(jīng)過濾烘干可得金黃綠色固體結(jié)晶的化合物(C，化學(xué)式I，R4、R5＝H，Y-＝TCNQ-)，經(jīng)計(jì)算其反應(yīng)產(chǎn)率86％，經(jīng)物性分析后，測(cè)得化合物(C)的吸收波長(zhǎng)為566納米(UVmax＝566nm)，ε＝1.26×105。
實(shí)施例2同樣為合成具有化學(xué)式(I)的新型化合物，其中側(cè)基R1為-(CH2)4CO2CH3。
將9克具有化學(xué)式(II)的化合物及4.3克具有化學(xué)式(III)的化合物作為起始物，其中R1為-(CH2)4CO2CH3，R2、R3為相連成含氮雜環(huán)之 溶解于100毫升乙醇中，并加熱至乙醇的回流溫度反應(yīng)11小時(shí)；待反應(yīng)完后，經(jīng)過濾烘干可得綠色固體結(jié)晶的化合物(G，化學(xué)式IV，R4、R5＝H，X＝I-)，其反應(yīng)產(chǎn)率86％。經(jīng)物性分析后。測(cè)得化合物(G)的吸收波長(zhǎng)為557納米(UVmax＝557nm)。再將化合物(G)與不同的鋰、鈉和鉀的離子化合物其中之一在有機(jī)溶劑中下進(jìn)行離子交換反應(yīng)，即可形成多種具有化學(xué)式(I)的新型化合物。以下列舉化合物(G)與不同化合物進(jìn)行的離子交換反應(yīng)所合成的新型化合物的制備流程以及其性質(zhì)取化合物(G)的固體結(jié)晶2.5克與六氟銻酸鈉(NaSbF6)1.4克溶于50毫升(ml)的乙醇中，并加熱回流以進(jìn)行離子置換，待反應(yīng)完后經(jīng)過濾烘干可得深綠色固體結(jié)晶的化合物(H，化學(xué)式I，R4、R5＝H，Y-＝SbF6-)，經(jīng)計(jì)算其反應(yīng)產(chǎn)率93％，經(jīng)物性分析后，測(cè)得化合物(H)的吸收波長(zhǎng)為557納米(UVmax＝557nm)。
其中，本發(fā)明實(shí)施例1與實(shí)施例2所形成的化合物(A)與(G)系為具有碘離子的吲哚苯乙烯鹽化合物。然后再與各種鋰、鈉和鉀鹽類化合物于有機(jī)溶劑中進(jìn)行離子置換。待反應(yīng)完后經(jīng)過濾烘干即可得本發(fā)明的新型吲哚苯乙烯鹽化合物(B)、(C)、(D)、(E)、(F)和(H)。將各新型化合物的化學(xué)式與最大吸收波長(zhǎng)以表格方式表示，如表一所示表一為吲哚苯乙烯鹽化合物的化學(xué)式及最大吸收波長(zhǎng) 由本發(fā)明實(shí)施例所得的新型吲哚苯乙烯鹽化合物，再經(jīng)過適當(dāng)?shù)南♂尯吞幚淼牟襟E，即可應(yīng)用于高密度光盤片染料。并且可以通過混和一種以上的新型吲哚苯乙烯鹽化合物來得到高密度光盤片染料所需的性質(zhì)。
再進(jìn)一步，將新型吲哚苯乙烯鹽化合物使用于高密度可錄式光盤片的紀(jì)錄層。參照?qǐng)D2，其為使用新型吲哚苯乙烯鹽化合物染料的高密度可錄式光盤片的應(yīng)用實(shí)施例示意圖，包含有一第一基板10，為透明基板；一記錄層20，記錄層20由新型吲哚苯乙烯鹽化合物染料在第一基板10表面形成的；以及配置于記錄層20上的反射層30，反射層30涂布有樹脂保護(hù)層40；第二基板60，為透明基板；及一貼合層，貼合層50用于貼合樹脂保護(hù)層40與第二基板60。
其中，對(duì)于本發(fā)明所使用的具有如前述的化學(xué)式(I)結(jié)構(gòu)的新型吲哚苯乙烯鹽化合物，可配合不同的離子基團(tuán)加以組合。
實(shí)施例3使用新型吲哚苯乙烯鹽化合物染料于高密度可錄式光盤片的材料選擇及其制法可由本發(fā)明應(yīng)用實(shí)施例3得知。以下為本發(fā)明實(shí)施例3的制作步驟，其步驟包含有首先，取新型吲哚苯乙烯鹽化合物1.8g溶于2，2，3，3-四氟丙醇(2，2，3，3-tetrafluoropropanol)中，并配制成100g的溶液；再將此溶液利用涂布方式，涂布于第一基板10上；然后進(jìn)行烘干制程，在基板表面形成一層新型吲哚苯乙烯鹽化合物的記錄層20，厚度為70-250nm；于記錄層20上濺鍍金屬材料以形成反射層30，然后再涂布上一層樹脂保護(hù)層40；最后提供一第二基板，厚度為0.6mm，并將第二基板利用一貼合層與樹脂保護(hù)層40結(jié)合，即完成一高密度可錄式光盤片，厚度為120mm。
該高密度可錄式光盤片反射率對(duì)波長(zhǎng)的光譜圖，如圖3所示，在波長(zhǎng)為635納米(nm)至650納米(nm)，其反射率均大于45％。
其寫錄條件如下常線速度(Constant Linear Velocity；CLV)為3.5(米/秒)m/s、波長(zhǎng)為658納米(nm)、數(shù)值半徑(Numerical Aperture；NA)為0.6、寫錄功率為7-14毫瓦(mW)。
讀取條件如下常線速度(CLV)為3.5(米/秒)m/s、波長(zhǎng)為658納米(nm)、數(shù)值半徑(NA)為0.6、讀取功率為0.5-1.5毫瓦(mW)。表二即為本發(fā)明實(shí)施例在不同寫錄功率下的CNR值。
表二

由表二可看出當(dāng)寫錄功率在9mW以上時(shí)，其CNR值均可大于50dB。表示本發(fā)明實(shí)際應(yīng)用例所制作出的高密度光盤片具有敏感度高、光與熱的化學(xué)穩(wěn)定性好等優(yōu)點(diǎn)。
雖然本發(fā)明較佳實(shí)施例如上所述，然其并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉相關(guān)技術(shù)者，在不脫離本發(fā)明實(shí)質(zhì)內(nèi)容范圍內(nèi)，可能會(huì)對(duì)本發(fā)明技術(shù)方案稍作改動(dòng)而實(shí)施本發(fā)明，因此本發(fā)明的專利保護(hù)范圍須視本說明書所附的權(quán)利要求書為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種吲哚苯乙烯鹽化合物，其具有如下的化學(xué)結(jié)構(gòu)式 該化學(xué)結(jié)構(gòu)式的組成為R1選自含1至8個(gè)碳(C1-8)的烷基、苯環(huán)酯基團(tuán)(CH2C6H4CO2R6)、含1至8個(gè)碳(C1-8)的直鏈烷磺酸酯基(CH2)nSO3R7與直鏈烷酯基(CH2)nCO2R7所組成的基團(tuán)組其中之一；R2和R3分別為相同或不同的基團(tuán)，選自氫原子、含1至8個(gè)碳(C1-8)的烷基、含1至8個(gè)碳(C1-8)之烷氧基、含1至8個(gè)碳(C1-8)之烷酯基(-CO2R8)與R2和R3相連形成含氮雜環(huán)所組成的基團(tuán)組其中之一；R4和R5選自氫原子、含1至8個(gè)碳(C1-8)的烷基、三氟甲基、烷氧基、羧基、硝基、磺酸基、磺酸酯基(SO3R11)、酰胺基(CONR9R10)、含1至8個(gè)碳的烷酯基與鹵素原子所組成的基團(tuán)組其中之一；Y-選自四氰基-對(duì)奎諾二甲烷(TCNQ-)、四氰乙烯(TCNE-)過氯酸根(ClO4-)、六氟銻酸鹽(SbF6-)、六氟磷酸鹽(PF6-)、四氟硼酸鹽(BF4)和鹵素離子其中之一；其中當(dāng)R1為含1至8個(gè)碳(C1-8)之烷基時(shí)，Y-為四氰基-對(duì)奎諾二甲烷(TCNQ-)、四氰乙烯(TCNE-)所組成的基團(tuán)組其中之一。
2.如權(quán)利要求1所述的吲哚苯乙烯鹽化合物，其中R6選自含1至8個(gè)碳(C1-8)的烷基與氟烷基(C2F4、CF3)所組成的基團(tuán)組其中之一。
3.如權(quán)利要求1所述的吲哚苯乙烯鹽化合物，其中R7為含1至6個(gè)碳(C1-6)的烷基。
4.如權(quán)利要求1所述的吲哚苯乙烯鹽化合物，其中R4和R5為含1至8個(gè)碳(C1-8)的烷酯基(CO2R8)時(shí)，R8選自含1至8個(gè)碳(C1-C8)的烷基與氟烷基(C2F4、CF3)所組成的基團(tuán)組其中之一。
5.如權(quán)利要求1所述的吲哚苯乙烯鹽化合物，其中R4和R5為酰胺基(-CONR9R10)時(shí)，R9與R10為氫原子和含1至6個(gè)碳(C1-6)的烷基所組成的基團(tuán)組其中之一。
6.如權(quán)利要求1所述的吲哚苯乙烯鹽化合物，其中R4和R5為磺酸酯基(-SO3R11)時(shí)，R11為氫原子和含1至6個(gè)碳(C1-6)的烷基所組成的基團(tuán)組其中之一。
7.一種高密度可錄式光盤片，其包含有一第一基板，為透明基板；一記錄層，該記錄層系由權(quán)利要求1所述的一種吲哚苯乙烯鹽化合物形成于該第一基板表面；一反射層，配置于該記錄層上；一第二基板，為透明基板；及一貼合層，用以貼合該反射層與該第二基板。
8.如權(quán)利要求7所述的高密度可錄式光盤片，其中R6選自含1至8個(gè)碳(C1-8)的烷基與氟烷基(C2F4、CF3)所組成的基團(tuán)組其中之一。
9.如權(quán)利要求7所述的高密度可錄式光盤片，其中R7為含1至8個(gè)碳(C1-8)的烷基。
10.如權(quán)利要求7所述的高密度可錄式光盤片，其中R4和R5為含1至8個(gè)碳(C1-8)的烷酯基(CO2R8)時(shí)，R8系選自含1至8個(gè)碳(C1-8)的烷基與氟烷基(C2F4、CF3)所組成的基團(tuán)組其中之一。
11.如權(quán)利要求7所述的高密度可錄式光盤片，其中R4和R5為酰胺基(-CONR9R10)時(shí)，R9與R10為氫原子和含1至6個(gè)碳(C1-6)的烷基所組成的基團(tuán)組其中之一。
12.如權(quán)利要求7所述的高密度可錄式光盤片，其中R4和R5為磺酸酯基(-SO3R11)時(shí)，R11為氫原子和含1至6個(gè)碳(C1-6)的烷基所組成的基團(tuán)組其中之一。
13.如權(quán)利要求7所述的高密度可錄式光盤片，該第一基板與該第二基板為一具有溝軌及溝槽的透明基板，其軌距為0.3微米至0.8微米(μm)，溝深為70納米至200納米(nm)。
14.如權(quán)利要求7所述的高密度可錄式光盤片，其中該第一基板與該第二基板的材質(zhì)為聚酯類、聚碳酸酯類與聚烯類其中之一。
15.如權(quán)利要求7所述的高密度可錄式光盤片，其中該記錄層形成方式，是將該吲哚苯乙烯鹽化合物通過旋轉(zhuǎn)涂布、真空蒸鍍、噴布、滾壓涂布與含浸方法其中之一。
16.如權(quán)利要求7所述的高密度可錄式光盤片，其中該記錄層之膜厚為70納米至250納米(nm)。
17.如權(quán)利要求7所述的高密度可錄式光盤片，其中該記錄層的形成方式，是將吲哚苯乙烯鹽化合物溶于一有機(jī)溶劑再以旋轉(zhuǎn)涂布方法涂布于該第一基板表面。
18.如權(quán)利要求17所述的高密度可錄式光盤片，其中該有機(jī)溶劑為含1至6個(gè)碳(C1-6)的醇、含1至6個(gè)碳(C1-6)的酮、含1至6個(gè)碳(C1-6)的醚、鹵素化合物、環(huán)烷類及酰胺其中之一。
19.如權(quán)利要求18所述的高密度可錄式光盤片，其中所述的含1至6個(gè)碳(C1-6)的醇為甲醇、乙醇、異丙醇、二丙酮醇、2，2，3，3-四氟丙醇、三氯乙醇、2-氯乙醇、八氟戍醇、六氟丁醇其中之一。
20.如權(quán)利要求18所述的高密度可錄式光盤片，其中所述的1至6個(gè)碳(C1-6)的酮為丙酮、甲基異丁酮、甲基乙基酮與3-羥基-3-甲基-2-丁酮其中之一。
21.如權(quán)利要求18所述的高密度可錄式光盤片，其中該鹵素化合物為氯仿、二氯甲烷、及1-氯丁烷其中之一。
22.如權(quán)利要求18所述的高密度可錄式光盤片，其中該環(huán)烷類為甲基環(huán)己烷。
23.如權(quán)利要求18所述的高密度可錄式光盤片，其中該酰胺為二甲基甲酰胺、及二甲基乙酰胺其中之一。
24.如權(quán)利要求7所述的高密度可錄式光盤片，其中該反射層為金、銀、鋁、硅、銅、銀鈦合金、銀鉻合金、銀銅合金及其任意組合的合金其中之一。
25.如權(quán)利要求7所述的高密度可錄式光盤片，其中該貼合層的貼合方式為旋轉(zhuǎn)涂布法、網(wǎng)印、熱融膠法、雙面膠帶貼合法其中之一。
26.如權(quán)利要求7所述的高密度可錄式光盤片，其中該反射層的膜厚為50納米至200納米(nm)。
27.如權(quán)利要求7所述的高密度可錄式光盤片，其中更包含重疊復(fù)數(shù)個(gè)記錄層以及復(fù)數(shù)個(gè)反射層以形成一多層高密度可錄式光盤片。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種新型吲哚苯乙烯鹽化合物及其在高密度可錄式光盤片中的應(yīng)用。本發(fā)明利用一種新型吲哚苯乙烯鹽化合物染料形成高密度可錄式光盤片的記錄層，由于此新型吲哚苯乙烯鹽化合物合成容易且易純化，所以與一般應(yīng)用于高密度可錄式光盤片的化合物相比，價(jià)格較為低廉，可以達(dá)到降低成本的功效；此新型吲哚苯乙烯鹽化合物的特性為對(duì)于500納米至700納米之間的波長(zhǎng)有極大吸收，且具有高敏感度及對(duì)于光和熱的極佳的化學(xué)穩(wěn)定性，因此，以此新型吲哚苯乙烯鹽化合物形成高密度可錄式光盤片記錄層，可配合高密度可錄式光盤片所使用的波長(zhǎng)較短的雷射光，并且具有品質(zhì)穩(wěn)定的優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號(hào)G11B7/00GK1462744SQ0212203
公開日2003年12月24日 申請(qǐng)日期2002年5月28日 優(yōu)先權(quán)日2002年5月28日
發(fā)明者王心心, 廖文毅, 賴啟昌, 黃建喨, 蔡蕙冰, 顏春福, 楊忠烈, 鄭尊仁, 李明家 申請(qǐng)人:財(cái)團(tuán)法人工業(yè)技術(shù)研究院