專利名稱：：用于在存儲(chǔ)設(shè)備中阻尼盤振動(dòng)的裝置和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及在存儲(chǔ)設(shè)備中的、用于減小在這種存儲(chǔ)設(shè)備盤轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)的振動(dòng)的阻尼機(jī)械裝置。
背景技術(shù)：
：盤驅(qū)動(dòng)是一種重要的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)技術(shù)。讀寫頭直接和盤表面進(jìn)行通訊，該盤表面包含盤表面軌道上的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)。附圖1A介紹了典型的現(xiàn)有技術(shù)的硬盤驅(qū)動(dòng)器，它可以是一個(gè)大容量的盤驅(qū)動(dòng)器10。盤驅(qū)動(dòng)器10包含激勵(lì)器支架30，它又進(jìn)一步包括聲音線圈32(voicecoil)，激勵(lì)器軸40，懸架或者頭臂50(headarms)。滑動(dòng)器/頭單元60置于數(shù)據(jù)存儲(chǔ)盤12上。附圖1B介紹了典型的現(xiàn)有技術(shù)大容量盤驅(qū)動(dòng)器10。激勵(lì)器20包含帶有聲音線圈32，激勵(lì)器軸40，頭臂50和滑動(dòng)器/頭單元60的激勵(lì)器支架30。提供主軸馬達(dá)80用來(lái)旋轉(zhuǎn)盤12。自從20世紀(jì)80年代以來(lái)，大容量盤驅(qū)動(dòng)器10使用聲音線圈激勵(lì)器20將讀寫頭定位在特定的軌道上。頭固定在頭滑動(dòng)器60上，當(dāng)盤驅(qū)動(dòng)器10工作的時(shí)候，它向著遠(yuǎn)離旋轉(zhuǎn)盤12的表面12-1的方向滑動(dòng)一小段距離。通常對(duì)給定的盤表面12-1每個(gè)頭滑動(dòng)器有一個(gè)頭。在一個(gè)盤驅(qū)動(dòng)器上通常有多個(gè)頭，但由于經(jīng)濟(jì)上的原因，通常只有一個(gè)聲音線圈激勵(lì)器20用來(lái)對(duì)頭臂50進(jìn)行定位。聲音線圈激勵(lì)器20還由固定磁激勵(lì)器20構(gòu)成，它與由聲音線圈32感應(yīng)產(chǎn)生的時(shí)變電磁場(chǎng)相互作用，用來(lái)通過(guò)激勵(lì)器軸40產(chǎn)生杠桿作用。杠桿作用移動(dòng)頭臂50，以在特定的軌道上定位頭滑動(dòng)器單元60。激勵(lì)器支架30通常被認(rèn)為包含聲音線圈32、激勵(lì)器軸40、頭臂50和型鐵支架70。型鐵支架機(jī)械地將頭滑動(dòng)器60結(jié)合到激勵(lì)器支架50上。激勵(lì)器支架30可以和單頭臂50一樣少。單頭臂52可以和兩個(gè)頭滑動(dòng)器60和60A相連(如圖1B所示)。附圖1C介紹了現(xiàn)有技術(shù)的盤驅(qū)動(dòng)器10單盤片的橫斷面視圖。附圖1D介紹了現(xiàn)有技術(shù)的盤驅(qū)動(dòng)器10中雙盤片的橫斷面視圖。每個(gè)盤驅(qū)動(dòng)器10包含了一個(gè)盤基座100和封蓋110，它們將由主軸馬達(dá)80驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)的盤12封裝。讀寫頭定位誤差是失敗和性能降低的重要因素。定位誤差部分由盤抖動(dòng)引起。在旋轉(zhuǎn)過(guò)程中，當(dāng)盤折曲、振動(dòng)的時(shí)候，發(fā)生盤抖動(dòng)。一些盤抖動(dòng)的問(wèn)題是由于驅(qū)動(dòng)盤的馬達(dá)的不穩(wěn)定性引起的。這種類型的擺動(dòng)問(wèn)題通常由主軸馬達(dá)制造商聲明。在現(xiàn)有技術(shù)中做了很多嘗試以聲明盤振動(dòng)問(wèn)題。美國(guó)專利號(hào)6,239,943B1，題名為“硬盤驅(qū)動(dòng)擠壓膜阻尼”的專利指導(dǎo)嘗試聲明盤抖動(dòng)問(wèn)題。該專利中所述“主軸馬達(dá)……產(chǎn)生轉(zhuǎn)動(dòng)……單盤或多盤或者一堆盤……以如下方式安裝旋轉(zhuǎn)的底盤面或頂盤面(或二者)緊密地與盤驅(qū)動(dòng)器的鑄造表面相鄰。在殘留的氣隙中擠壓膜的作用提供了很大的盤振動(dòng)的阻尼……通常對(duì)于2英寸〔盤〕驅(qū)動(dòng)器使用的氣隙為0.004-0.006”〔英寸〕，對(duì)于3英寸〔盤〕驅(qū)動(dòng)器來(lái)說(shuō)使用的氣隙為0.006-0.010”英寸”(第2欄，第12-21行)?！案鶕?jù)所提出的理論……，由盤和底座之間的擠壓膜作用產(chǎn)生的阻尼不應(yīng)該是轉(zhuǎn)速的函數(shù)”(第5欄，第53-55行)?！霸趦蓚€(gè)盤系統(tǒng)中，只通過(guò)對(duì)底盤施加擠壓膜阻尼就可以取得頂盤振動(dòng)的大量減少。這一點(diǎn)相當(dāng)重要因?yàn)樵趯?shí)際設(shè)計(jì)中，對(duì)底盤之外的盤增加阻尼是很困難的?！?第5欄，第65行至第6欄，第2行)。盡管很多發(fā)明者都很尊重美國(guó)專利6,239,943，但是他們?cè)谠撐墨I(xiàn)的見解中也發(fā)現(xiàn)了一些不足。眾所周知，在訪問(wèn)旋轉(zhuǎn)盤表面的激勵(lì)器上讀寫頭的結(jié)合關(guān)系帶來(lái)了盤驅(qū)動(dòng)器操作上的成功。由于接近盤的旋轉(zhuǎn)速度，在一個(gè)讀寫頭部件和其激勵(lì)器上施加了相當(dāng)大的氣動(dòng)力。這些施加在激勵(lì)器上、讀寫頭上或者激勵(lì)器和讀寫頭上的很大的氣動(dòng)力并沒(méi)有在所引用的專利中說(shuō)明。同時(shí)也有很大的涉及旋轉(zhuǎn)速度的間隙距離，它們沒(méi)有在所引用的專利中予以解釋，同時(shí)，有很多發(fā)明者的試驗(yàn)數(shù)據(jù)表明用來(lái)減小軌道位置誤差的氣隙要比該專利和其他現(xiàn)有技術(shù)所述的要大一些。在聲學(xué)地和力學(xué)地物理系統(tǒng)中，從與波相關(guān)的現(xiàn)象的發(fā)展中獲得很多見識(shí)，但這些都沒(méi)有在所引用的專利中提到。增加的記錄密度和增加的主軸轉(zhuǎn)速是盤驅(qū)動(dòng)器工業(yè)中競(jìng)爭(zhēng)的主要因素。隨著記錄密度和主軸轉(zhuǎn)速的增加，頭定位精度和頭移動(dòng)的穩(wěn)定性也必須增加。然而，隨著主軸轉(zhuǎn)速的增加，氣流引發(fā)的振動(dòng)也增加了，這就導(dǎo)致頭滑動(dòng)器懸架的更大幅度的振動(dòng)，導(dǎo)致讀寫頭定位誤差。此外，作用在旋轉(zhuǎn)盤上的氣流引發(fā)的振動(dòng)會(huì)導(dǎo)致盤抖動(dòng)，它會(huì)促使軌道定位誤差。因此，減小氣流引起的振動(dòng)對(duì)于減小頭定位和讀寫誤差是十分重要的。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明包含減小氣動(dòng)力的阻尼機(jī)械裝置，該力作用在一個(gè)存儲(chǔ)設(shè)備中的至少一個(gè)旋轉(zhuǎn)的盤上。本發(fā)明取得了減小盤抖動(dòng)的效果，減小了激勵(lì)器支架周圍至少幾種氣流引起的振動(dòng)，因而減小了頭定位和讀寫誤差。一個(gè)或多個(gè)旋轉(zhuǎn)盤的盤表面旋轉(zhuǎn)速度會(huì)對(duì)盤旋轉(zhuǎn)于其中的空氣穴中的氣動(dòng)力產(chǎn)生相當(dāng)大的影響。這些氣動(dòng)力會(huì)施加在讀寫頭部件上、其激勵(lì)器上以及旋轉(zhuǎn)盤上，產(chǎn)生盤抖動(dòng)、頭定位誤差和讀寫誤差。在此將邊界層定義為固體表面附近相對(duì)于固體表面來(lái)說(shuō)幾乎沒(méi)有相對(duì)速度的空氣區(qū)域。這一區(qū)域由固體表面和空氣的摩擦作用產(chǎn)生。該區(qū)域的厚度近似和流體的粘度與表面速度的商的平方根成正比。氣動(dòng)理論說(shuō)明了下面的情況旋轉(zhuǎn)盤表面產(chǎn)生了旋轉(zhuǎn)的空氣邊界層。該邊界層的轉(zhuǎn)動(dòng)平行于盤表面的運(yùn)動(dòng)。固定表面，例如與旋轉(zhuǎn)盤表面相對(duì)的盤驅(qū)動(dòng)器空腔的基座或者封蓋也會(huì)產(chǎn)生一個(gè)邊界層。當(dāng)固定表面和盤表面之間的距離大于旋轉(zhuǎn)盤表面邊界層厚度的時(shí)候，與旋轉(zhuǎn)盤表面流動(dòng)方向相反會(huì)產(chǎn)生一股逆流。這股空氣逆流會(huì)施加在盤表面上，導(dǎo)致盤抖動(dòng)，也會(huì)施加在讀寫頭部件上，導(dǎo)致頭部件振動(dòng)。該空氣的逆流以及其它氣動(dòng)力，會(huì)引發(fā)盤抖動(dòng)、頭定位誤差和讀寫誤差。將密封盤外殼中的旋轉(zhuǎn)盤的物理系統(tǒng)視為形成聲學(xué)和機(jī)械振動(dòng)的共振空腔是很有用的。很多發(fā)明者的試驗(yàn)和仿真發(fā)現(xiàn)靠近旋轉(zhuǎn)盤、以比理論或者現(xiàn)有技術(shù)報(bào)告都大的距離提供一個(gè)阻尼表面可以減小這種空腔的共振頻率或者自然頻率。所發(fā)明的阻尼機(jī)械裝置包含與旋轉(zhuǎn)盤表面相鄰、阻尼表面和盤表面之間有一定距離或者氣隙的固定阻尼表面。對(duì)于等于或者小于邊界層厚度的氣隙，盤抖動(dòng)效果的改進(jìn)是顯著的。然而，在試驗(yàn)的條件下發(fā)明者們也看到很明顯的阻尼效果，這種條件下工作的盤驅(qū)動(dòng)器密封內(nèi)部的氣隙比理論或者現(xiàn)有技術(shù)中表明的值都大。阻尼機(jī)械裝置的阻尼表面和旋轉(zhuǎn)盤表面之間減小了的距離或者氣隙阻止了旋轉(zhuǎn)盤表面和阻尼表面之間空氣逆流的產(chǎn)生。氣隙也使得空氣逆流和作用在盤表面上、包括其激勵(lì)器在內(nèi)的讀寫頭部件上的其它氣動(dòng)力的影響最小化。這就減小了盤抖動(dòng)，改善了頭定位并且提高了盤驅(qū)動(dòng)器的整體性能。附圖1A介紹了典型的現(xiàn)有技術(shù)的硬盤驅(qū)動(dòng)器，它可能是一個(gè)大容量盤驅(qū)動(dòng)器10；附圖1B介紹了典型的現(xiàn)有技術(shù)的大容量盤驅(qū)動(dòng)器10；附圖1C介紹了現(xiàn)有技術(shù)盤驅(qū)動(dòng)器10的單盤的橫斷面視圖；附圖1D介紹了現(xiàn)有技術(shù)盤驅(qū)動(dòng)器10的雙盤的橫斷面視圖；附圖2A介紹了主軸馬達(dá)80和一個(gè)在盤上表面12和盤空腔的頂表面之間有氣流和在盤下表面12和盤空腔的底面之間也有氣流的盤12的橫斷面視圖；附圖2B介紹了由旋轉(zhuǎn)氣流產(chǎn)生的在外徑區(qū)域附近的強(qiáng)烈的動(dòng)力(或者壓力)圖，它導(dǎo)致盤振動(dòng)的產(chǎn)生；附圖2C介紹了在附圖2A的盤上表面12和盤空腔表面頂部之間的氣流狀況，它說(shuō)明了兩個(gè)獨(dú)立的邊界層的形成；附圖2D介紹了附圖2A的下盤表面12和盤空腔表面底部之間的氣流狀況，它說(shuō)明了只有一個(gè)邊界層的形成；附圖3介紹了以7200轉(zhuǎn)/分的轉(zhuǎn)速工作的3.5英寸傳統(tǒng)的兩個(gè)盤的盤驅(qū)動(dòng)器10的旋轉(zhuǎn)速度的盤振動(dòng)諧波；附圖4介紹了現(xiàn)有技術(shù)中公開的傳統(tǒng)的57,000道/英寸(TPI)的盤驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)中頭位置偏差信號(hào)(PES)譜，其被試驗(yàn)確定為非重復(fù)性振擺(Non-RepeatableRunOut)(NRRO)PES譜；附圖5介紹了支持本發(fā)明多種方面和使用單頭的薄盤驅(qū)動(dòng)器10的分解示意圖；附圖6介紹了附圖5中介紹的使用單頭的薄盤驅(qū)動(dòng)器10的頂視圖；附圖7介紹了根據(jù)本發(fā)明某些方面采用阻尼機(jī)械裝置120的盤驅(qū)動(dòng)器10的頂視圖，在阻尼表面(未畫出)在盤12第一盤表面的第一間隙內(nèi)的地方提供大于180度的徑向覆蓋；附圖8介紹了阻尼機(jī)械裝置120的某些優(yōu)選實(shí)施例的透視圖，它包含提供至少第一表面122的至少一個(gè)板極(plate)，當(dāng)裝在盤驅(qū)動(dòng)器10中的時(shí)候，該板在旋轉(zhuǎn)盤12的第一盤表面附近提供第一間隙，這一點(diǎn)可以從附圖11A-12A中進(jìn)一步看到；附圖9介紹了采用附圖7阻尼機(jī)械裝置120的可替代的實(shí)施例的盤驅(qū)動(dòng)器10的頂視圖，在阻尼表面(未畫出)處于盤12的第一盤表面的第一間隙內(nèi)的地方提供小于180度的徑向覆蓋；附圖10A和10B介紹了關(guān)于軌道位置誤差的試驗(yàn)結(jié)果，它們使用類似于附圖8和9中介紹的阻尼機(jī)械裝置120的氣流穩(wěn)定器，從離線伺服軌道寫裝置(offlineservotrackwritesetup)獲得；附圖11A和11B介紹了本發(fā)明單盤12盤驅(qū)動(dòng)器10的兩種可替換的優(yōu)選實(shí)施例的橫斷面視圖；附圖11C介紹了本發(fā)明雙盤12盤和14盤驅(qū)動(dòng)器10的一種優(yōu)選實(shí)施例的橫斷面視圖；附圖12A介紹了與附圖11A至11C相關(guān)的更詳細(xì)的橫斷面視圖；附圖12B介紹了關(guān)于附圖12A所示標(biāo)準(zhǔn)化間隙高度Gap1的振動(dòng)盤表面12阻尼系數(shù)的彈性聲學(xué)耦合效應(yīng)的理論結(jié)果；附圖12C介紹了關(guān)于附圖12A所示標(biāo)準(zhǔn)化的第一阻尼表面122的振動(dòng)盤表面12阻尼系數(shù)的彈性聲學(xué)耦合效應(yīng)的理論結(jié)果；附圖13A、13B和14分別介紹了在內(nèi)徑、中徑和外徑處試驗(yàn)確定的從0到1KHz激勵(lì)器振動(dòng)譜；附圖15A和15B分別介紹了關(guān)于附圖12A的Gap1為0.6mm和0.2mm的振動(dòng)盤表面12功率譜的彈性聲學(xué)耦合效果的試驗(yàn)結(jié)果；附圖16A和16B分別介紹了對(duì)于盤轉(zhuǎn)速為7200轉(zhuǎn)/分和5400轉(zhuǎn)/分的關(guān)于附圖12A的各種Gap1值的振動(dòng)盤表面12的功率譜的彈性聲學(xué)耦合效果的試驗(yàn)結(jié)果；附圖17介紹了關(guān)于振動(dòng)盤表面12位移頻率譜的彈性聲學(xué)耦合效果的試驗(yàn)結(jié)果，分別使用25mm徑向?qū)挾鹊淖枘釞C(jī)械裝置570和不使用阻尼機(jī)械裝置560；附圖18介紹了在傳統(tǒng)57,000道/英寸(TPI)盤驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)580和在使用降低30％PES的25mm阻尼機(jī)械裝置590的盤系統(tǒng)中頭位置偏差信號(hào)(PES)的譜，其被試驗(yàn)確定為非重復(fù)性振擺(Non-RepeatableRunOut)(NRRO)PES的譜；附圖19介紹了在傳統(tǒng)57,000道/英寸(TPI)盤驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)600和在采用各種徑向?qū)挾鹊淖枘釞C(jī)械裝置的盤系統(tǒng)中頭位置偏差信號(hào)(PES)的譜，其被試驗(yàn)確定為非重復(fù)性振擺(Non-RepeatableRunOut)(NRRO)PES的譜；附圖20介紹了在傳統(tǒng)57,000道/英寸(TPI)盤驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)600和在采用各種徑向?qū)挾鹊淖枘釞C(jī)械裝置的盤驅(qū)動(dòng)器中試驗(yàn)確定的頭位置偏差信號(hào)(PES)級(jí)；附圖21介紹了在傳統(tǒng)57,000道/英寸(TPI)盤驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)600和在采用各種覆蓋角和徑向?qū)挾葹橐挥⒋缁?5mm的阻尼機(jī)械裝置的盤系統(tǒng)中試驗(yàn)確定的頭位置偏差信號(hào)(PES)級(jí)；附圖22介紹了材料的擴(kuò)展和附圖2A和12A的分析用于本發(fā)明另外的優(yōu)選實(shí)施例；附圖23A-23E介紹了前面附圖中在阻尼機(jī)械裝置120中使用的極板的各種形狀、邊緣和材料。具體實(shí)施例方式一個(gè)或多個(gè)旋轉(zhuǎn)盤的盤表面旋轉(zhuǎn)速度，在一個(gè)或多個(gè)盤旋轉(zhuǎn)的空氣穴中可以對(duì)氣動(dòng)力產(chǎn)生很大的影響。這些氣動(dòng)力可以作用在讀寫頭部件上、其激勵(lì)器上以及旋轉(zhuǎn)盤上，產(chǎn)生頭定位和讀寫誤差以及盤抖動(dòng)。正如在簡(jiǎn)介中指出的，邊界層是在固體表面附近和固體表面基本上沒(méi)有相對(duì)速度的空氣區(qū)域。這一區(qū)域由固體表面和空氣之間的摩擦作用產(chǎn)生。這一區(qū)域的深度大體上與粘度與表面速度的商的平方根成正比。附圖2A介紹了主軸馬達(dá)80和一個(gè)盤12的橫斷面示意圖，氣流位于該盤上表面12-1和盤空腔頂表面之間，同時(shí)還有氣流位于該盤下表面12-2和盤空腔的底面之間。盤表面是以恒定轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)的。理論上，旋轉(zhuǎn)盤表面總是產(chǎn)生與盤表面的運(yùn)動(dòng)平行轉(zhuǎn)動(dòng)的空氣邊界層。固定的表面，諸如與旋轉(zhuǎn)盤表面相對(duì)的盤驅(qū)動(dòng)器空腔中的基座或封蓋，也會(huì)產(chǎn)生一個(gè)邊界層。當(dāng)固定表面和盤表面之間的距離大于旋轉(zhuǎn)盤表面邊界層的厚度時(shí)，從旋轉(zhuǎn)盤表面逆著流動(dòng)的方向會(huì)產(chǎn)生一股逆流。這股逆流會(huì)作用在盤表面上，導(dǎo)致盤振動(dòng)，也可能作用在讀寫頭部件上，導(dǎo)致頭部件振動(dòng)。盤旋轉(zhuǎn)越快，作用在讀寫頭部件和所附的激勵(lì)器上的氣動(dòng)作用就越大。附圖2A也可以對(duì)這種物理系統(tǒng)表現(xiàn)聲學(xué)和機(jī)械共振的傾向提供進(jìn)一步的認(rèn)識(shí)。將由工作硬盤驅(qū)動(dòng)器包圍的旋轉(zhuǎn)盤的物理系統(tǒng)視為形成聲學(xué)和機(jī)械振動(dòng)的共振腔是十分有用的。發(fā)明者的仿真和試驗(yàn)發(fā)現(xiàn)通過(guò)在旋轉(zhuǎn)盤附近比理論或者現(xiàn)有技術(shù)報(bào)告提到的更遠(yuǎn)的距離上提供一個(gè)阻尼表面，這種空腔的共振頻率或者自然頻率可以得到減小。附圖2B節(jié)選自2001年11月9日韓國(guó)Seoul，Yonsei大學(xué)信息存儲(chǔ)設(shè)備中心(CISD)舉行的HDD動(dòng)力學(xué)和振動(dòng)國(guó)際論壇中Dae-EunKim教授題名為“ResearchandDevelopmentIssuesinHDDTechnologyActivitiesofCISD(HDD技術(shù)研究和發(fā)展問(wèn)題CISD活動(dòng))”的報(bào)告，它介紹了由旋轉(zhuǎn)氣流產(chǎn)生的外徑區(qū)域附近的強(qiáng)烈的動(dòng)力(或壓力)視圖，這種力導(dǎo)致盤振動(dòng)的產(chǎn)生。在外徑附近的氣流，在盤12和14之間經(jīng)歷了不穩(wěn)定的周期性漩渦，導(dǎo)致共振諧波機(jī)械振動(dòng)(resonantharmonicmechanicalvibration)，使盤12和(或)盤14擺動(dòng)。此外，在由盤基座100和(或)封蓋110(在附圖1C和1D中看得最清楚)形成的密封區(qū)域附近，形成了有強(qiáng)湍流的氣體區(qū)域。附圖2C和2D進(jìn)一步討論這種現(xiàn)象。附圖2C介紹了盤表面和非旋轉(zhuǎn)表面之間典型的氣流，顯示了兩個(gè)獨(dú)立的邊界層的形成。在傳統(tǒng)的硬盤驅(qū)動(dòng)器中，流動(dòng)方式有多種二次流(secondaryflow)，在盤附近沿徑向向外，在外殼處向內(nèi)，它們控制著空氣流?？諝饬髟谕鈬浇洼S附近由軸向氣流連接。當(dāng)盤和固定表面間的間隙大于邊界層的厚度時(shí)，在內(nèi)部區(qū)域相當(dāng)數(shù)量的空氣和主氣流隔離開。隔離的空氣近似作為一個(gè)剛體以盤角速度的一半旋轉(zhuǎn)。這些流動(dòng)特征產(chǎn)生很大的漩渦并加速了盤傾斜效應(yīng)，這就產(chǎn)生了嚴(yán)重的位置偏差信號(hào)(PES)問(wèn)題。在涉及到徑向表面運(yùn)動(dòng)的情況下，邊界層通常按照與粘度與徑向速度(弧度/秒)的商的平方根成正比來(lái)計(jì)算。表1顯示了對(duì)每分鐘轉(zhuǎn)數(shù)(RPM)的邊界層厚度。附圖2C表明在一組盤的盤頂部區(qū)域存在大漩渦，該組盤或許只有一個(gè)盤。該漩渦產(chǎn)生一個(gè)機(jī)械力導(dǎo)致盤抖動(dòng)。在仿真中發(fā)現(xiàn)在旋轉(zhuǎn)盤表面附近，朝著其邊緣，氣流速度接近10米/秒。在邊界層的邊緣，離盤表面大約一個(gè)邊界層厚度的地方，氣流速度幾乎為0。此外從盤表面，由于和固定表面的摩擦作用形成逆流。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)消除與盤表面相鄰的漩渦可以改善機(jī)械穩(wěn)定性。通過(guò)產(chǎn)生一個(gè)相當(dāng)窄以至于二次流幾乎不存在的間隙，如附圖2D所示，氣流采用Couettee流動(dòng)模式，在外殼和盤之間幾乎是直線型切向速度剖面。因此，在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，阻尼機(jī)械裝置定位在與旋轉(zhuǎn)盤表面相鄰處，用來(lái)大大減少固定表面和旋轉(zhuǎn)盤表面之間的距離。位于阻尼機(jī)械裝置和盤表面之間的減小了的距離或者空氣間隙可以近似為旋轉(zhuǎn)盤的邊界層厚度。作為選擇，空氣間隙可以小于近似的邊界層厚度。在阻尼機(jī)械裝置和旋轉(zhuǎn)盤表面之間的減小了的距離或者空氣間隙可以阻止旋轉(zhuǎn)盤表面和固定表面之間空氣的逆流的產(chǎn)生。空氣間隙也可以使空氣逆流的作用和施加在盤表面和包含激勵(lì)器的讀寫頭部件上的其它氣動(dòng)力達(dá)到最小。這就可以減少盤抖動(dòng)并改善頭定位。當(dāng)空氣間隙是邊界層厚度更小的一部分時(shí)，可以進(jìn)一步改善頭定位并降低盤抖動(dòng)。附圖3曲線表示作為以7200轉(zhuǎn)/分的轉(zhuǎn)速工作的3.5英寸傳統(tǒng)雙盤盤驅(qū)動(dòng)器10(其結(jié)構(gòu)如附圖1D和2B中所示)的旋轉(zhuǎn)速度的盤振動(dòng)諧波，其中盤12和盤14是由流體動(dòng)力支撐馬達(dá)80驅(qū)動(dòng)的1.27mm厚鋁制盤。在頂盤外徑處軸向盤振動(dòng)的測(cè)量由激光多普勒速度儀來(lái)測(cè)量。垂直軸線表明在以米為單位從100皮米到100納米以對(duì)數(shù)刻度表示的外徑位移。在左邊圈出的尖峰表示旋轉(zhuǎn)速度的諧波，而右邊圈出的尖峰表示盤振動(dòng)模式。附圖4所示為一曲線，用來(lái)說(shuō)明在現(xiàn)有技術(shù)所公開的傳統(tǒng)57,000道/英寸(TPI)的盤驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)中試驗(yàn)確定為非重復(fù)性振擺(Non-RepeatableRunOut)(NRRO)PES譜的頭位置偏差信號(hào)(PES)譜。左側(cè)的軸線表示以納米為單位的NRRO譜，右側(cè)的軸線等效地表示NRROPES占軌道間距的百分比。軌跡跡線表明PES讀數(shù)在三個(gè)標(biāo)準(zhǔn)偏差內(nèi)，它大約是35.7納米或者軌道間距的百分之七。PES尖峰400是由漩渦流的吸附效應(yīng)(inducedeffect)所引起。在區(qū)域410內(nèi)的PES尖峰由盤振動(dòng)所引起。附圖3和附圖4表明了共振或者駐波現(xiàn)象。附圖3中盤振動(dòng)模式的共振頻率和附圖4區(qū)域402內(nèi)的PES尖峰有很高的關(guān)聯(lián)性。附圖5介紹了支持本發(fā)明多種方面和使用單頭的典型薄盤驅(qū)動(dòng)器10的分解示意圖。薄盤驅(qū)動(dòng)器優(yōu)選應(yīng)用在諸如多媒體娛樂(lè)中心或者置頂盒中。薄盤驅(qū)動(dòng)器最好只使用單頭，這樣可以進(jìn)一步減小基座100表面和盤12表面之間的間隙。在盤驅(qū)動(dòng)器中使用單頭可以降低制造成本并增加制造的可靠性。在附圖5所示的典型結(jié)構(gòu)中，驅(qū)動(dòng)器10包含印刷線路板部件102、盤驅(qū)動(dòng)器基座100、主軸馬達(dá)80、盤12、聲音線圈激勵(lì)器30、盤夾82(diskclamp)和盤驅(qū)動(dòng)器封蓋110。聲音線圈激勵(lì)器30還可以包括頭/滑動(dòng)器60上的單讀寫頭，并且盤驅(qū)動(dòng)器封蓋110還可以包括至少一個(gè)區(qū)域112，用來(lái)提供與盤12上表面接近的固定頂表面。附圖6介紹了附圖5中薄盤驅(qū)動(dòng)器10的頂視圖。需要注意的是當(dāng)裝配以及處于正常工作狀態(tài)時(shí)，區(qū)域112應(yīng)該在聲音線圈激勵(lì)器30的激勵(lì)器支架50和頭滑動(dòng)器60所經(jīng)過(guò)的區(qū)域之外。區(qū)域112可以提供一個(gè)無(wú)間隔的連接表面。區(qū)域112還可以提供簡(jiǎn)單連接的表面，而沒(méi)有任何穿孔或者孔。附圖7介紹了根據(jù)本發(fā)明的某些方面采用阻尼機(jī)械裝置120的盤驅(qū)動(dòng)器10的頂視圖，在阻尼表面(圖中未畫出)處在盤12第一盤表面的第一間隙內(nèi)的地方，它提供大于180度的徑向覆蓋。附圖8介紹了阻尼機(jī)械裝置120某些優(yōu)選實(shí)施例的透視圖，它包含提供至少一個(gè)第一表面122的至少一個(gè)極板，當(dāng)裝配在盤驅(qū)動(dòng)器10中時(shí)，在旋轉(zhuǎn)盤12的第一盤表面附近它提供第一間隙，從附圖11A-12A可以進(jìn)一步看到。需要注意的是本發(fā)明的各種實(shí)施例可以提供多于一個(gè)阻尼表面給其它盤表面，它們可以屬于或者不屬于其它盤。附圖9介紹了采用阻尼機(jī)械裝置120的可替代實(shí)施例的盤驅(qū)動(dòng)器10的頂視圖，在阻尼表面(未畫出)處于盤12表面的第一間隙內(nèi)的地方，它提供小于180度的徑向覆蓋。在一些實(shí)施例中，阻尼表面可能形成一個(gè)或多個(gè)極板。附圖7和9所示的阻尼表面每個(gè)最好形成被截切的圓環(huán)或者C形，它分別包含與主軸馬達(dá)相對(duì)的內(nèi)邊界140和與主軸馬達(dá)相背的輸出邊界142。阻尼表面還可以包含第一非徑向邊界144和第二個(gè)非徑向邊界146。在附圖23A-23E中介紹各種優(yōu)選的極板。在此阻尼機(jī)械裝置120又稱作盤阻尼器，盤阻尼設(shè)備，阻尼設(shè)備和氣流穩(wěn)定器。阻尼機(jī)械裝置120還可以包括遠(yuǎn)離旋轉(zhuǎn)軸的屏蔽或者壁墻，在附圖22進(jìn)一步討論的一些優(yōu)選的情況下，它剛性地連接在附圖8所示至少一個(gè)極板上。附圖10A和10B介紹了關(guān)于軌道位置誤差的試驗(yàn)結(jié)果，它使用類似于附圖8和附圖9中所介紹的阻尼機(jī)械裝置120的氣流穩(wěn)定器，從離線伺服軌道寫裝置獲得的。附圖10A中垂直軸線所示為軌道位置以微英寸為單位的均方根偏差。方框520所示為沒(méi)有阻尼機(jī)械裝置120的實(shí)驗(yàn)軌道位置誤差結(jié)果，它表明均方根誤差為0.056微英寸。方框522所示為采用阻尼機(jī)械裝置120的實(shí)驗(yàn)軌道位置誤差結(jié)果，它表明均方根誤差為0.036微英寸。附圖10B的垂直軸線所示為每微英寸的概率密度。水平軸線表明以微英寸為單位的軌道位置偏差。軌跡跡線524表明不使用阻尼機(jī)械裝置120時(shí)在各種位置偏差下的概率密度。軌跡跡線526表明使用阻尼機(jī)械裝置120的時(shí)候在各種位置偏差下的概率密度。附圖11A和11B介紹了本發(fā)明單盤12盤驅(qū)動(dòng)器10的兩種可替代實(shí)施例的橫斷面視圖。附圖11C介紹了本發(fā)明雙盤12盤和14盤驅(qū)動(dòng)器10的一個(gè)實(shí)施例的橫斷面視圖。附圖11A-11C介紹的阻尼機(jī)械裝置120可以包括一個(gè)極板，用來(lái)在第一間隙處緊靠第一盤12提供至少一個(gè)阻尼表面122。附圖11C介紹了阻尼機(jī)械裝置120，它還在第二個(gè)間隙處緊靠第二個(gè)盤14的地方提供第二個(gè)阻尼表面124。附圖12A更詳細(xì)介紹了與附圖11A-11C有關(guān)的阻尼機(jī)械裝置120和相鄰盤12和14的橫斷面視圖，特別是對(duì)附圖11B。阻尼機(jī)械裝置120包括通過(guò)附圖11A-11C中所示的空氣層Gap1獨(dú)立于盤12第一盤表面12-1的第一阻尼表面122。需要注意的是在附圖11A中，第一盤表面12-1是盤12的底盤表面。在附圖11B和11C中，第一盤表面12-2是盤12的底盤表面。阻尼機(jī)械裝置120還可以包括第二個(gè)阻尼表面124，在這種情況下它通過(guò)附圖11C和12A中所示的空氣層Gap2獨(dú)立于第二個(gè)盤14表面14-1。上述每個(gè)間隙至多是一個(gè)最好小于1mm的第一距離，每個(gè)間隙最好大于0.3mm。最好每個(gè)間隙在0.35mm和0.6mm之間。這些間隙的一個(gè)或者多個(gè)最好小于邊界層的厚度。在某些實(shí)施例中，這些間隙的一個(gè)或者多個(gè)最好小于邊界層厚度的一小部分。一些發(fā)明者通過(guò)盤12的彈性振動(dòng)波場(chǎng)和間隙中相鄰空氣介質(zhì)的聲音壓力波場(chǎng)之間的彈性聲音耦合效應(yīng)，來(lái)描述盤12振動(dòng)的阻尼，該間隙將第一盤表面12-1和第一阻尼表面122分開。這些發(fā)明者將彈性聲音耦合效應(yīng)定義為在盤12彈性振動(dòng)波場(chǎng)和位于第一盤表面12-1和第一阻尼表面122之間間隙內(nèi)的聲音壓力波場(chǎng)產(chǎn)生的耦合。這些發(fā)明者的試驗(yàn)結(jié)果指出空氣層間隙的聲音壓力波對(duì)盤12的彈性振動(dòng)波產(chǎn)生很強(qiáng)的阻尼力。發(fā)明者們還介紹了由盤14彈性振動(dòng)波場(chǎng)和間隙中相鄰空氣介質(zhì)的聲音壓力波場(chǎng)之間類似的彈性聲學(xué)耦合效應(yīng)產(chǎn)生的盤14振動(dòng)的阻尼，該間隙將第二盤表面14-1和第二阻尼表面124隔開。下面的表2所示為各附圖仿真或者試驗(yàn)的情況。附圖12B介紹了與附圖12A標(biāo)準(zhǔn)化間隙高度Gap1有關(guān)的振動(dòng)盤表面12阻尼系數(shù)的彈性聲音耦合效果的理論結(jié)果。無(wú)量綱單位的標(biāo)準(zhǔn)化間隙高度大約相應(yīng)于0到10的范圍。阻尼系數(shù)按照理論上振動(dòng)理論所定義方式定義。在粘性阻尼中，阻尼力與振動(dòng)體的速度成正比。粘性阻尼系數(shù)c表達(dá)為c＝-F/v，此處F是阻尼力，v是振動(dòng)物體的速度。負(fù)號(hào)表明阻尼力與振動(dòng)體速度的方向相反。附圖12C介紹了與附圖12A標(biāo)準(zhǔn)化第一阻尼表面122有關(guān)的振動(dòng)盤表面12阻尼系數(shù)的彈性聲學(xué)耦合效應(yīng)的理論結(jié)果。水平軸線所示為阻尼表面122面積對(duì)盤表面12面積放大10倍的比值，這可以從附圖7和9的頂視圖中更好地看到。附圖13A、13B和14分別介紹了在內(nèi)徑處、中徑處和外徑處試驗(yàn)測(cè)定的從0到1KHz的激勵(lì)器振動(dòng)譜，它使用激光多普勒振動(dòng)儀記錄以7200RPM旋轉(zhuǎn)的雙盤的3.5英寸盤驅(qū)動(dòng)器的激勵(lì)器的讀數(shù)得到。該激勵(lì)器是完全裝配的激勵(lì)器，它包括懸掛設(shè)備，頭萬(wàn)向接頭部件和四通道讀寫頭。軌跡跡線530和532所示分別為沒(méi)有阻尼機(jī)械裝置120和有阻尼機(jī)械裝置120的激勵(lì)器振動(dòng)頻率范圍。阻尼機(jī)械裝置120是一個(gè)如附圖7、8和11C所示的極板，它定位在離兩個(gè)盤12和14各自表面0.5mm的間隔內(nèi)。這個(gè)極板的徑向?qū)挾葹?/3英寸或大約17mm。尖峰534是在軌跡跡線530中大約258Hz的渦流聲波感應(yīng)激勵(lì)器共振，它在軌跡跡線532中幾乎完全消除了。尖峰536是在軌跡跡線530中大約346Hz的渦流聲波感應(yīng)激勵(lì)器共振，它在軌跡跡線532中幾乎完全消除了。消除這些共振尖峰對(duì)有關(guān)盤表面的激勵(lì)器的整體軌道定位能力是有利的。附圖15A和15B分別介紹了關(guān)于附圖12A中Gap1為0.6mm和0.2mm的振動(dòng)盤表面12功率譜的彈性聲音耦合效應(yīng)的試驗(yàn)結(jié)果。垂直軸線表示以米為單位以對(duì)數(shù)形式表示的外徑位移，它們的范圍是100皮米到100納米。發(fā)明者們認(rèn)為在區(qū)域540和550的尖峰歸因于盤振動(dòng)。當(dāng)間隙減小到0.2mm時(shí)，間隙為0.6mm的尖峰542變?yōu)榧夥?52。附圖16A和16B分別介紹了對(duì)于盤轉(zhuǎn)速為7200轉(zhuǎn)/分和5400轉(zhuǎn)/分的與附圖12A中各種Gap1值有關(guān)的振動(dòng)盤表面12功率譜的彈性聲學(xué)耦合效應(yīng)的試驗(yàn)結(jié)果。所報(bào)告的振動(dòng)數(shù)據(jù)是使用激光多普勒速度儀測(cè)量的頂部盤外徑處產(chǎn)生的軸向盤振動(dòng)。附圖17介紹了振動(dòng)盤表面12位移頻譜的彈性聲音耦合效應(yīng)的試驗(yàn)結(jié)果，分別使用徑向?qū)挾葹?5mm的阻尼機(jī)械裝置570和不使用阻尼機(jī)械裝置560。附圖18介紹了在傳統(tǒng)57,000道/英寸(TPI)盤驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)580和在采用25mm阻尼機(jī)械裝置590能降低30％PES的盤系統(tǒng)中頭位置偏差信號(hào)(PES)的譜，其被試驗(yàn)確定為非重復(fù)性振擺(Non-RepeatableRunOut)(NRRO)PES譜。左側(cè)的坐標(biāo)軸表示以納米為單位的NRROPES。右側(cè)的坐標(biāo)軸相應(yīng)地表示NRROPES占軌道間距的百分比。軌跡跡線580表明PES在三個(gè)標(biāo)準(zhǔn)差內(nèi)的讀數(shù)，大約為36納米或者相當(dāng)于軌道間距的7％。軌跡跡線590表明PES在三個(gè)標(biāo)準(zhǔn)差內(nèi)的讀數(shù)，大約24納米或者相當(dāng)于軌道間距的4.7％。附圖19介紹了在傳統(tǒng)57,000道/英寸(TPI)盤驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)600和在采用各種徑向?qū)挾鹊淖枘釞C(jī)械裝置的盤系統(tǒng)中頭位置偏差信號(hào)(PES)譜，其被試驗(yàn)確定為非重復(fù)性振擺(Non-RepeatableRunOut)(NRRO)PES的譜。來(lái)自25mm、17mm和12.5mm徑向?qū)挾鹊淖枘釞C(jī)械設(shè)備120的結(jié)果分別由軌跡跡線602、604和606表示。附圖20介紹了在傳統(tǒng)57,000道/英寸(TPI)盤驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)600和在采用各種徑向?qū)挾鹊淖枘釞C(jī)械裝置的盤驅(qū)動(dòng)器中試驗(yàn)確定的頭位置偏差信號(hào)(PES)級(jí)。在附圖19和20所介紹的試驗(yàn)中，一個(gè)數(shù)據(jù)軌道的間距是0.44微米。垂直軸表示三個(gè)標(biāo)準(zhǔn)差的PES級(jí)。方框600表明當(dāng)不采用阻尼機(jī)械設(shè)備時(shí)的試驗(yàn)結(jié)果。方框602、604和606表示當(dāng)采用徑向?qū)挾确謩e為一英寸、2/3英寸和半英寸的阻尼機(jī)械設(shè)備時(shí)的試驗(yàn)結(jié)果。阻尼機(jī)械裝置120是附圖23E所示的極板。試驗(yàn)結(jié)果表明25mm徑向?qū)挾鹊淖枘釞C(jī)械裝置具有最低的PES級(jí)，它支持了大寬度阻尼機(jī)械裝置比小寬度阻尼機(jī)械裝置能更多地減小PES的假設(shè)。附圖21介紹了在傳統(tǒng)57,000道/英寸(TPI)盤驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)600和在采用各種覆蓋角和徑向?qū)挾葹橐挥⒋缁?5mm的阻尼機(jī)械裝置的盤驅(qū)動(dòng)器中試驗(yàn)確定的頭位置偏差信號(hào)(PES)級(jí)。在這些試驗(yàn)中，一個(gè)數(shù)據(jù)軌道的間距是0.44微米。垂直軸表明三個(gè)標(biāo)準(zhǔn)差的PES級(jí)。方框600表明不采用阻尼機(jī)械裝置的試驗(yàn)結(jié)果。方框612、614和616表明當(dāng)阻尼機(jī)械裝置分別使用200度、130度和80度的覆蓋角時(shí)試驗(yàn)結(jié)果。附圖21所述的試驗(yàn)結(jié)果支持了大角度阻尼機(jī)械裝置比小角度阻尼機(jī)械裝置更能減小PES的假設(shè)。附圖22介紹了材料的擴(kuò)展和附圖2A和12A的分析用于本發(fā)明另外的優(yōu)選實(shí)施例。如附圖11A和12A所述，阻尼機(jī)械裝置120包含第一阻尼表面122，它通過(guò)附圖11A-11C所示的空氣層Gap1與盤12的第一盤表面12-1隔離。阻尼機(jī)械裝置120還包括第二阻尼表面124，在這種情況下，它通過(guò)空氣層Gap2與第一盤12的第二盤表面12-2隔離。阻尼機(jī)械裝置120包含“垂直平面”盤阻尼器，該盤阻尼器包含通過(guò)HGap1與盤12外緣12-3隔離的第一垂直表面130。在第一垂直表面130和盤12外緣之間的水平間隙，在空氣介質(zhì)中產(chǎn)生密封盤邊緣波場(chǎng)，有利于穩(wěn)定盤12。如附圖12A，Gap1-4中每個(gè)最多是一個(gè)最好小于1mm的第一距離。每個(gè)間隙還最好大于0.3mm。每個(gè)間隙最好在0.35mm至0.6mm之間。這些間隙的一個(gè)或者多個(gè)最好小于邊界層厚度。在某些實(shí)施例中，這些間隙的一個(gè)或者多個(gè)最好小于邊界層厚度的一小部分。本發(fā)明考慮使用盤封蓋110，以提供至少第一阻尼表面122作為阻尼機(jī)械裝置120的一部分，同時(shí)使用盤封蓋110提供第一垂直表面130。附圖22還介紹了包含第三阻尼表面126的阻尼機(jī)械裝置120，該表面通過(guò)第三間隙Gap3與屬于第二盤14的第三盤表面14-1隔離。阻尼機(jī)械裝置120還可以包括“垂直平面”盤阻尼器，該盤阻尼器包含通過(guò)HGap2與盤14外緣14-3分離的第二垂直表面132。在第二垂直表面132和盤14外緣14-3之間的水平間隙在空氣介質(zhì)中產(chǎn)生了密封盤邊緣波場(chǎng)，有利于穩(wěn)定盤14。阻尼機(jī)械裝置120還包括通過(guò)第四間隙Gap4與第四盤表面14-2分離的第四阻尼表面128。每個(gè)水平間隙至多是一個(gè)第二距離，它最好小于1mm。每個(gè)間隙最好大于0.3mm。每個(gè)間隙優(yōu)選在0.35mm和0.6mm之間。水平間隙的一個(gè)或者多個(gè)最好小于邊界層厚度。在某些實(shí)施例中，這些水平間隙的一個(gè)或者多個(gè)最好小于邊界層厚度的一小部分。本發(fā)明還考慮使用盤基座100，用于提供至少第四阻尼表面128作為阻尼機(jī)械裝置120的一部分，同時(shí)也使用盤基座100進(jìn)一步提供第二垂直表面132。附圖23A-23E介紹了前面附圖中阻尼機(jī)械裝置120中使用的極板的各種形狀、邊緣和材料。需要注意的是僅在附圖23E中畫出了邊界140-146以簡(jiǎn)化其它的附圖，但不意味著限制權(quán)利要求的范圍。附圖23A介紹了在邊界140，144和146上包含帶孔的尖銳的階梯邊緣(sharpstepedge)的鋁制極板120?？椎闹睆阶詈檬?mm以便最佳地減少激勵(lì)器振動(dòng)。附圖23B介紹了硬塑料最好是諸如LEXAN等聚碳酸酯(polycorbonate)材料的極板120，它包括在邊界140、144和146上的楔形邊緣。附圖23C介紹了硬塑料極板120，在邊界140、144和146上它包含尖銳的階梯邊緣。附圖23D介紹了鋁制極板120，在邊界140、144和146上它包含圓形斜面邊緣。附圖23E介紹了鋁制極板120，在邊界140、144和146上它包含尖銳的階梯形邊緣。在使用鋁制極板的實(shí)施例中，這些極板最好在一個(gè)或多個(gè)表面上包含加鋁(AluminumPlus)涂層。本發(fā)明還考慮到了如附圖23A-23E所示的極板，它們包括在激勵(lì)器和它的部件附近形成的用來(lái)阻止漩渦的指狀元件(finger)。前面各圖所示的采用阻尼機(jī)械裝置120的盤驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)也受益于噪音等級(jí)的降低。下面的表3介紹了對(duì)采用以7200轉(zhuǎn)/分旋轉(zhuǎn)的兩個(gè)盤的幾種盤驅(qū)動(dòng)器進(jìn)行的試驗(yàn)。這些試驗(yàn)使用了附圖23D中介紹的優(yōu)選阻尼機(jī)械裝置120，其間隙為0.5mm，徑向?qū)挾葹?/3英寸，或者17mm，覆蓋角為200度。上述實(shí)施例作為例子提供而并不是限制下面權(quán)利要求的范圍。權(quán)利要求1.一種盤驅(qū)動(dòng)器，包含多個(gè)盤，所述盤中的第一包含第一盤表面，所述盤中的第二個(gè)包含第二個(gè)盤表面；盤基座；激勵(lì)器，它提供一通信地連接到所述第一盤表面的讀寫頭部件以及一通信地連接到所述第二盤表面的第二讀寫頭部件，所述激勵(lì)器旋轉(zhuǎn)地與所述盤基座相連；與所述盤基座剛性連接的主軸馬達(dá)，所述主軸馬達(dá)提供的目的是沿著旋轉(zhuǎn)軸以工作轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)所述盤；阻尼機(jī)械裝置包含固定地連接在所述盤基座上的極板并且還包括第一阻尼表面，它通過(guò)第一間隙與所述第一盤表面關(guān)于所述盤的所述旋轉(zhuǎn)軸至少分離175度，在徑向?qū)挾壬详P(guān)于所述盤的所述旋轉(zhuǎn)軸至少分離16毫米；所述阻尼機(jī)械裝置還包括第二阻尼表面，它通過(guò)第二間隙與所述第二盤表面關(guān)于所述盤的所述旋轉(zhuǎn)軸至少分離175度，在徑向?qū)挾壬详P(guān)于所述盤的所述旋轉(zhuǎn)軸至少分離16毫米，其中包含所述第一間隙和所述第二間隙的間隙集中的每個(gè)部件最多是一個(gè)固定的距離；當(dāng)所述第一盤表面和第二盤表面以所述盤工作轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)時(shí)，用來(lái)減小作用在所述第一盤表面和所述第二盤表面上的氣動(dòng)力以穩(wěn)定所述盤表面的所述阻尼機(jī)械裝置；當(dāng)所述第一盤表面和第二盤表面以所述盤工作轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)時(shí)，用來(lái)減小作用在所述激勵(lì)器上氣動(dòng)力的所述阻尼機(jī)械裝置；與所述盤基座結(jié)合的盤封蓋，用來(lái)形成包含主軸馬達(dá)、所述多個(gè)盤、所述激勵(lì)器和所述阻尼裝置的外殼。2.權(quán)利要求1所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述工作轉(zhuǎn)速至少是每分鐘5400轉(zhuǎn)。3.權(quán)利要求2所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述工作轉(zhuǎn)速大于每分鐘5400轉(zhuǎn)。4.權(quán)利要求1所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中以所述工作轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)的所述盤從所述第一盤表面產(chǎn)生邊界層厚度，其中所述固定距離大約就是邊界層的厚度。5.權(quán)利要求4所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述固定距離小于所述邊界層厚度。6.權(quán)利要求1所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述極板由包含非除氣(non-outgassing)的硬塑料和金屬合金集合的至少一個(gè)部件組成，其中金屬合金包含大部分包含鋁、銅和鐵集合的部件。7.權(quán)利要求6所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中極板主要由鋁合金組成。8.權(quán)利要求7所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述極板包含一個(gè)涂層，它經(jīng)過(guò)處理用來(lái)抑制所述鋁合金的除氣。9.權(quán)利要求6所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述極板主要由所述還包含非除氣聚碳酸酯的非除氣硬塑料組成。10.權(quán)利要求1所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述第一盤包含所述第二盤表面30。11.權(quán)利要求1所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述盤簇中的成員包含第三盤表面；其中所述阻尼機(jī)械裝置還包括通過(guò)所述第三間隙與所述第三盤表面隔離的第三阻尼表面；其中所述間隙集還包括第三間隙。12.權(quán)利要求11所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述盤簇的成員包含第四盤表面；其中所述阻尼機(jī)械裝置還包括通過(guò)所述第四間隙與所述第四盤表面分離的第四阻尼表面；其中所述間隙集還包括所述第四間隙。13.權(quán)利要求1所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述盤簇還包括所述盤的第三個(gè)。14.權(quán)利要求1所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中與所述盤旋轉(zhuǎn)平面平行的所述第一阻尼表面的橫斷面包含具有內(nèi)環(huán)邊界和外環(huán)邊界的被截切的圓環(huán)；其中所述內(nèi)環(huán)邊界和外環(huán)邊界都是以所述盤的所述旋轉(zhuǎn)軸附近為中心的。15.權(quán)利要求14所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中與所述旋轉(zhuǎn)平面平行的所述第一阻尼表面的橫斷面是所述被截切的圓環(huán)。16.權(quán)利要求14所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述與所述旋轉(zhuǎn)平面平行的第一阻尼表面的所述橫斷面的內(nèi)邊界與所述內(nèi)環(huán)邊界是不同的。17.權(quán)利要求14所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述與所述旋轉(zhuǎn)平面平行的第一阻尼表面的所述橫斷面的外邊界與所述外環(huán)邊界是不同的。18.權(quán)利要求1所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述第一阻尼表面是相連的。19.權(quán)利要求18所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述第一阻尼表面是簡(jiǎn)單連接的。20.權(quán)利要求18所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述相連的第一阻尼表面包含至少一個(gè)孔。21.權(quán)利要求20所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述孔的直徑在1mm和6mm之間。22.權(quán)利要求1所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述極板包含與所述主軸馬達(dá)相對(duì)的內(nèi)邊界。23.權(quán)利要求22所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述內(nèi)邊界包含圓形的邊界；其中所述圓形的邊界接近由圓形圓圈、橢圓形圓圈、傾斜的圓圈(beveledrounding)、斜切圓圈和刀邊圓圈構(gòu)成的集合中至少一個(gè)部件。24.權(quán)利要求1所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述固定的距離最多是1mm。25.權(quán)利要求24所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中每個(gè)間隙集元素至少是0.35mm。26.權(quán)利要求25所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述固定的距離最多是0.6mm；并且其中所述間隙集元素中每個(gè)最少為0.35mm。27.一種盤驅(qū)動(dòng)器，包含至少一個(gè)包含第一盤表面的盤；至少一個(gè)激勵(lì)器，它提供讀寫頭組件，其可通信地連接到所述第一盤表面；以工作轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)所述至少一個(gè)盤的設(shè)備；用來(lái)阻尼和所述第一盤表面有關(guān)的所述激勵(lì)器的設(shè)備，所述阻尼設(shè)備包括用來(lái)提供第一阻尼表面的設(shè)備，該阻尼表面通過(guò)第一間隙與所述第一盤表面分離；當(dāng)所述至少一個(gè)盤以所述工作轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)時(shí)，用來(lái)減小作用在所述至少一個(gè)盤的所述第一盤表面上的氣動(dòng)力以穩(wěn)定所述至少一個(gè)盤的設(shè)備；以及當(dāng)所述至少一個(gè)盤以所述工作轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)時(shí)，用來(lái)減小作用在所述激勵(lì)器上的氣動(dòng)力的設(shè)備；其中間隙集中每個(gè)部件最多是固定的距離，所述間隙簇包含所述第一間隙。28.權(quán)利要求27所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述工作轉(zhuǎn)速至少是5400轉(zhuǎn)/分。29.權(quán)利要求27所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中以所述工作轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)的所述盤從所述第一盤表面產(chǎn)生了邊界層厚度；其中所述固定的距離大約是所述邊界層的厚度。30.權(quán)利要求29所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述固定的距離小于所述邊界層的厚度。31.權(quán)利要求27所述的盤驅(qū)動(dòng)器，還包括所述激勵(lì)器，它提供通信地連接到第二盤表面的第二讀寫頭部件。32.權(quán)利要求31所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述阻尼設(shè)備還包括通過(guò)第二間隙與所述第二盤表面分隔的第二阻尼表面；其中所述間隙集還包含所述第二間隙。33.權(quán)利要求32所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述第一盤包含所述第二盤表面。34.權(quán)利要求27所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述第一阻尼表面通過(guò)所述第一間隙與所述第一盤表面關(guān)于所述盤的所述旋轉(zhuǎn)軸分離至少175度。35.權(quán)利要求27所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述第一阻尼表面通過(guò)所述第一間隙與所述第一盤表面關(guān)于所述盤的所述旋轉(zhuǎn)軸在寬度上分離至少16mm。36.權(quán)利要求27所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述固定距離最多是1mm；并且所述間隙集元素中每個(gè)至少是0.35mm。37.一種盤驅(qū)動(dòng)器減小跟蹤定位誤差的方法，包括步驟將包含至少第一盤表面的至少一個(gè)盤以工作轉(zhuǎn)速進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，該盤與至少一個(gè)激勵(lì)器相關(guān)，激勵(lì)器是用來(lái)提供通信地連接到所述第一盤表面附近的讀寫頭部件；阻尼所述關(guān)于所述第一盤表面的激勵(lì)器，所述阻尼步驟包括步驟提供通過(guò)第一間隙與所述第一盤表面分隔的第一阻尼表面；根據(jù)與所述盤工作轉(zhuǎn)速和所述間隙集部件相關(guān)的氣流，減小作用在所述激勵(lì)器上的氣動(dòng)力；根據(jù)與所述盤工作轉(zhuǎn)速和所述間隙集部件相關(guān)的氣流，減小作用在所述第一盤表面上的氣動(dòng)力，用于穩(wěn)定所述第一盤表面；其中每個(gè)間隙集部件最多是一個(gè)固定的距離，所述間隙集包含所述第一間隙。38.權(quán)利要求37所述的方法，其中所述工作轉(zhuǎn)速至少為5400轉(zhuǎn)/分。39.權(quán)利要求37所述的方法，其中所述固定距離最多為1mm。40.權(quán)利要求37所述的方法，其中所述間隙集元素中每個(gè)最少為0.35mm。41.權(quán)利要求37所述的方法，其中所述第一阻尼表面通過(guò)第一間隙與所述第一盤表面關(guān)于所述盤旋轉(zhuǎn)軸分離至少175度。42.權(quán)利要求37所述的方法，其中所述第一阻尼表面通過(guò)第一間隙與所述第一盤表面關(guān)于所述盤旋轉(zhuǎn)軸在寬度上至少分離16mm。43.一種盤驅(qū)動(dòng)器，包含至少一個(gè)包含第一盤表面的盤；至少一個(gè)激勵(lì)器，它提供通信地連接到所述第一盤表面附近的讀寫頭部件；阻尼機(jī)械裝置，它提供通過(guò)第一間隙與第一盤表面分離的第一阻尼表面；其中所述至少一個(gè)盤以與所述阻尼裝置和所述激勵(lì)器相關(guān)的工作轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)；其中間隙集元素中每個(gè)最多是一個(gè)固定的距離；其中所述盤驅(qū)動(dòng)器還包括根據(jù)與所述盤工作轉(zhuǎn)速和所述間隙集元素相關(guān)的氣流，用來(lái)減少作用在所述激勵(lì)器上氣動(dòng)力的所述阻尼機(jī)械裝置；根據(jù)與所述盤工作轉(zhuǎn)速和所述間隙集元素相關(guān)的氣流，用來(lái)穩(wěn)定所述第一盤的阻尼機(jī)械裝置；其中所述間隙集包括所述第一間隙。44.權(quán)利要求43所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述工作轉(zhuǎn)速至少是5400轉(zhuǎn)/分。45.權(quán)利要求43所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述第一阻尼表面通過(guò)所述第一間隙與所述第一盤表面關(guān)于所述盤的所述旋轉(zhuǎn)軸分離至少180度。46.權(quán)利要求43所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述第一阻尼表面通過(guò)所述第一間隙與所述第一盤表面關(guān)于所述盤的所述旋轉(zhuǎn)軸分離至少200度。47.權(quán)利要求43所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述第一阻尼表面通過(guò)所述第一間隙與所述第一盤表面關(guān)于所述盤的旋轉(zhuǎn)軸在寬度上分離至少16mm。48.權(quán)利要求43所述的盤驅(qū)動(dòng)器，還包含盤基座；剛性連接在所述盤基座上的主軸馬達(dá)，所述提供的主軸馬達(dá)用來(lái)以工作轉(zhuǎn)速關(guān)于旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)所述盤；以及與所述盤基座相連的盤封蓋，用來(lái)形成包含主軸馬達(dá)、所述至少一個(gè)盤、所述激勵(lì)器和所述阻尼機(jī)械裝置的外殼。49.權(quán)利要求48的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述阻尼機(jī)械裝置在所述外殼的邊界上減小了噪聲。50.權(quán)利要求43所述的盤驅(qū)動(dòng)器，其中所述固定距離最多是1mm；以及其中所述間隙集元素的每一個(gè)至少是0.35mm。全文摘要?dú)鈩?dòng)力產(chǎn)生盤和激勵(lì)器振動(dòng)，導(dǎo)致存儲(chǔ)設(shè)備比如硬盤驅(qū)動(dòng)器中軌道定位偏差。本發(fā)明提供了各種阻尼機(jī)械裝置和阻尼方法，以減輕這些問(wèn)題。文檔編號(hào)G11B33/08GK1400600SQ0212629公開日2003年3月5日申請(qǐng)日期2002年5月10日優(yōu)先權(quán)日2001年5月10日發(fā)明者姜聲宇,金晟薰,格雷戈里·特蘭,文森特·古延,斯科特·特蘭,尼古萊伊·伊凡諾夫,約瑟夫·布拉格申請(qǐng)人:三星電子株式會(huì)社