專利名稱：聚碳酸酯組合物、追記型光盤基板和盤以及制盤的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及質(zhì)量優(yōu)異的聚碳酸酯組成物，更詳細(xì)地說，本發(fā)明涉及到從根本上改進(jìn)耐靜電性能，并且色素涂覆性得以提高的聚碳酸酯組合物以及使用該組合物制得的追記型光盤基板和追記型光盤以及制備追記型光盤的方法。
背景技術(shù)：
聚碳酸酯是一種耐沖擊性等機(jī)械性能優(yōu)異并且透明性也很好的樹脂，廣泛應(yīng)用于各個(gè)領(lǐng)域。特別是作為聲盤、激光盤、光盤存儲(chǔ)器、光磁盤等利用激光進(jìn)行信息復(fù)制、補(bǔ)記改寫的光學(xué)信息存儲(chǔ)介質(zhì)中所用光學(xué)盤的應(yīng)用正在不斷發(fā)展。
一般采用使雙酚A和光氣在二氯甲烷溶劑中進(jìn)行反應(yīng)的界面聚合法作為工業(yè)上制備聚碳酸酯的方法，但是這種方法，必須使用在工業(yè)上難以處理的光氣和二氯甲烷，所以近年來已不采用這類化合物，而是采用雙酚A等芳香族二羥基化合物和二苯基碳酸酯等碳酸二酯為原料，在無溶劑條件下，進(jìn)行酯交換反應(yīng)(熔融聚合法)制備聚碳酸酯，并且這些方法中已有一部分實(shí)現(xiàn)了工業(yè)化(參考特開昭63-51429號、特開平2-153925號和特公平6-99552號公報(bào)等)。
用上述酯交換反應(yīng)制備的聚碳酸酯是用于制造小型盤(CD)的材料。但是，用美國專利第5,606,008號公布的酯交換反應(yīng)得到的聚碳酸酯制作的CD，其特征是易產(chǎn)生較高的負(fù)靜電荷(典型的＜-2.0kV)。在這種高的負(fù)靜電荷下，成型品容易吸塵，導(dǎo)致光盤的最終質(zhì)量降低。同時(shí)由于高靜電荷的原因，盤與盤之間互相吸在一起，在輸送過程中，例如由注塑成型機(jī)的輸送中，盤互相緊貼在一起，有時(shí)甚至?xí)?dǎo)致制備CD工序中止，或使某步漏掉。而且由于涂覆色素時(shí)的潤濕性增加，會(huì)產(chǎn)生涂覆不好的現(xiàn)象。特別是在盤表面旋轉(zhuǎn)涂覆可改寫基板的CD應(yīng)用當(dāng)中，為了使可改寫涂層均勻潤濕，必須要有較低的負(fù)靜電荷。
為了解決上述問題，公布了在采用酯交換法芳香族聚碳酸酯制備CD時(shí)抑制產(chǎn)生高負(fù)靜電負(fù)荷的方法。例如，在特開昭62-207358號和特開平11-279396號公報(bào)中，提出了在芳香族聚碳酸酯中添加防靜電劑的方法。
在美國專利6,022,943號中提出了一種嘗試方法，把相對于芳香族二羥基化合物的碳酸二酯的摩爾比設(shè)定得高于普通值，從而使末端OH基相對于所有末端基降低到10摩爾％以下。但是幾乎沒有添加防靜電劑的效果，即使減少末端OH基也不能解決問題，迫切希望有一種從根本上解決問題的方法。
發(fā)明概述本發(fā)明是為了解決上述老技術(shù)中的問題而研制的，本發(fā)明的目的在于提供一種聚碳酸酯組合物，它從根本上改良了用酯交換法得到的聚碳酸酯的耐靜電性。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種色素涂覆性好的追記型光盤用基板。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供耐靜電性得到改進(jìn)的追記型光盤。
本發(fā)明的目的還在于提供一種涂覆斑駁少，生產(chǎn)性高的制備追記型光盤的方法。
本發(fā)明者對用界面法得到的聚碳酸酯和用酯交換法得到的聚碳酸酯的不同點(diǎn)進(jìn)行了深入研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)在用界面法得到的聚碳酸酯中，在副產(chǎn)有總量為百分之幾(對聚碳酸酯的重量百分?jǐn)?shù)(重量％))的、以烷基酚取代原料雙酚A的兩個(gè)末端所得的線形1-5量體，界面法聚碳酸酯之所以具有防靜電性能，是由于其分子末端被烷基酚取代所得的低聚物的作用。于是發(fā)現(xiàn)用與該低聚物類似的化合物與熔融法聚碳酸酯混合可以得到具有防靜電性能的熔融法聚碳酸酯，達(dá)到了本發(fā)明的目的。
本發(fā)明的要點(diǎn)在于提供一種聚碳酸酯組合物，其特征是含有(a)用酯交換法得到的聚碳酸酯和(b)分子內(nèi)部具有酯鍵、碳酸酯鍵、酰胺鍵、尿烷鍵中的任意一種，并且分子末端含有被至少一個(gè)烷基取代的芳烴基化合物。
本發(fā)明的另一個(gè)要點(diǎn)在于提供一種聚碳酸酯組合物，其特征是含有(a)用酯交換法得到的聚碳酸酯和(b)下述通式(1A)所示的低聚物。 式(1A)(式(1A)中，G1表示氫原子或Ar1-Q2-CO-。Ar1表示具有至少一個(gè)烷基的芳烴基。G2表示-Q1-W1-Q2-H或Ar2-Q1-。Ar2表示具有至少一個(gè)烷基的芳烴基。Q1表示單鍵、-O-、或-NH-，Q2表示-O-、-NH-。W1表示碳數(shù)為6以上、50以下的二價(jià)基團(tuán)。n表示1～30的整數(shù))。
本發(fā)明的另一要點(diǎn)在于提供一種采用上述聚碳酸酯組合物的追記型光盤用基板。
本發(fā)明的另一要點(diǎn)還在于提供一種在上述光盤用基板上涂覆色素而制得的追記型光盤。
另外，本發(fā)明的其它要點(diǎn)還在于提供一種制備追記型光盤的方法，其特征是通過注塑成型把上述聚碳酸酯制成光盤用基板，然后用旋轉(zhuǎn)涂覆法在該基板上涂覆色素。
發(fā)明詳述以下具體說明本發(fā)明。
本發(fā)明耐靜電性優(yōu)異的聚碳酸酯組合物，其特征在于，含有(a)用酯交換法得到的聚碳酸酯，和(b)分子內(nèi)具有酯鍵、碳酸酯鍵、酰胺鍵、尿烷鍵中的任意一種，且在分子末端有被至少一個(gè)烷基取代的芳烴基，并且分子量為300～8000的化合物。
化合物(b)的特征是，在分子內(nèi)部具有對聚碳酸酯有較高親合性的部分，在分子末端具有對聚碳酸酯有較低親合性的部分。對聚碳酸酯有較高親合性的部分是化合物分子中的酯鍵、碳酸酯鍵、酰胺鍵、尿烷鍵，對聚碳酸酯有較低親合性的部分是被至少一個(gè)烷基取代的芳烴基。
本發(fā)明聚碳酸酯組合物可以發(fā)揮優(yōu)異耐靜電性效果的原因不一定十分明確，但可推斷如下。
可以認(rèn)為，用酯交換法得到的聚碳酸酯末端羥基的比例較高，有負(fù)帶電性變大的傾向，成分(b)的化合物分子末端有被烷基取代的芳烴基，它具有掩蓋負(fù)帶電性的效果。與作為本發(fā)明組合物主要成分的聚碳酸酯相比，化合物(b)的分子量低，而且由于被烷基取代的芳基的作用，在對組合物進(jìn)行成型時(shí)，有容易浸出到表面的傾向。并且，化合物(b)的分子中，同時(shí)具有與聚碳酸酯親合性較高的部分，因此它可以有效地保留在聚碳酸酯組合物成型品的表面部分。
化合物(b)的分子量為300～8000，優(yōu)選分子量400以上，更優(yōu)選分子量500以上。同時(shí)分子量優(yōu)選5000以下，更優(yōu)選3000以下。如果分子量小于上述范圍，在對組合物進(jìn)行成型時(shí)，化合物(b)很難保留在組合物之中，當(dāng)分子量大于上述范圍時(shí)，化合物(b)末端烷基取代芳烴基的作用將變得很小。
化合物(b)的分子中具有酯鍵、碳酸酯鍵、酰胺鍵、尿烷鍵，在同一分子內(nèi)，也可以具有兩種以上的這些鍵。同時(shí)也可以使用分別含有這些鍵的化合物的混合物。
設(shè)分子內(nèi)酯鍵、碳酸酯鍵、酰胺鍵、尿烷鍵的總數(shù)為k，那么分子量/k優(yōu)選150～1000，更優(yōu)選200～500。如果分子量/k在上述范圍內(nèi)，聚碳酸酯(a)與化合物(b)的親合性良好。
從制備的角度來看，化合物(b)優(yōu)選是在分子內(nèi)部含有重復(fù)單元和酯鍵、碳酸酯鍵、酰胺鍵或尿烷鍵的低聚物。也就是成分(b)的低聚物選自碳酸酯低聚物、酯低聚物、酰胺低聚物、尿烷低聚物。這些低聚物，分子中具有酯鍵、碳酸酯鍵、酰胺鍵、或尿烷鍵，由于這些鍵的作用，其與聚碳酸酯具有較高的親和性。作為含有酯鍵的低聚物可舉出，對苯二甲酸乙二醇酯低聚物、對苯二甲酸丁二醇酯低聚物等。作為含有碳酸酯鍵的低聚物可以舉出雙酚A碳酸酯低聚物。作為含有酰胺鍵的低聚物可以舉出己內(nèi)酰胺的低聚物、己二胺-己二酸的低聚物。具有尿烷鍵的低聚物有甲苯撐二異氰酸酯-丙二醇的低聚物等。
作為化合物(b)所使用的低聚物優(yōu)選使用下述通式(1A)所示的化合物。 式(1A)(式(1A)中，G1表示氫原子或Ar1-Q2-CO-。Ar1表示有至少一個(gè)烷基的芳烴基。G2表示-Q1-W1-Q2-H或Ar2-Q1-。Ar2表示具有至少一個(gè)烷基的芳烴基。Q1表示單鍵、-O-、或-NH-，Q2表示-O-或-NH-、W1表示碳數(shù)6以上、5 0以下的二價(jià)基團(tuán)。n表示1～30的整數(shù))。
在通式(1A)所表示的低聚物中，優(yōu)選通式(1B)所示的低聚物。 式(1B)(式(1B)中，G1表示氫原子或Ar1-O-CO-。Ar1表示被至少一個(gè)烷基取代的芳烴基。G2表示 式(2A)或Ar2-O-。Ar2表示被至少一個(gè)烷基取代的芳烴基。式(2A)中，W2為選自單鍵、碳數(shù)為1～8的亞烷基(alkylene)、碳數(shù)為2～8的(1，1)亞烷基(a1kylidene)、碳數(shù)為5～15的環(huán)亞烷基、碳數(shù)為5～15的環(huán)(1，1)亞烷基或-O-、-S-、-CO-、-SO-、-SO2-表示的二價(jià)基團(tuán)中的基團(tuán)，Y和Z表示鹵素或碳數(shù)為1～6的烴基。p和q為0～2的整數(shù)，Y與Z、p與q均可相同，也可不同的。n表示1～30的整數(shù))。
上式中，Ar1和Ar2表示具有至少一個(gè)烷基的芳烴基，作為芳烴基優(yōu)選苯基、萘基，更優(yōu)選苯基。作為烷基，優(yōu)選碳數(shù)為1～20的烷基。更優(yōu)選下式(5A)所示的基團(tuán)。 式(5A)(式(5A)中，R1～R5是各自獨(dú)立，是氫原子或碳數(shù)為1～20的烷基，但不包括R1～R5全部為氫原子的情況)。
上式(4)中，R1～R5是各自獨(dú)立的，表示氫原子或碳數(shù)為1～20的烷基，為了取得較好的耐靜電效果，R1～R5的碳數(shù)總量優(yōu)選在2以上，更優(yōu)選在3以上。從制備低聚物角度出發(fā)，R1～R5的碳數(shù)總量優(yōu)選在10以下。
作為至少有一個(gè)烷基的芳烴基，優(yōu)選烷基苯基、具體例有萊基、叔丁基苯基、異丙基苯基、1，3，5，7-四甲基辛基苯基，其中優(yōu)選叔丁基苯基，最優(yōu)選4-叔丁基苯基。
上式(1)中，n(單元重復(fù)數(shù))通常在30以下，優(yōu)選在28以下，更優(yōu)選在26以下。例如，用界面聚合法得到的低聚物中，通常得到的是重復(fù)數(shù)不同的混合物，本發(fā)明所用低聚物的數(shù)量平均的重復(fù)數(shù)(m)優(yōu)選在20以下，更優(yōu)選在15以下，特別優(yōu)選在10以下。
本發(fā)明聚碳酸酯組合物中化合物(b)的量，相對于(a)成分聚碳酸酯100重量份來說，一般是0.01～20重量份，優(yōu)選0.05～18重量份，更優(yōu)選0.1～16重量份。如果使用化合物(b)的量明顯少于上述范圍的聚碳酸酯組合物制備光學(xué)盤基板等的平板時(shí)，負(fù)的帶電壓升高，將超過-2.0kV，易吸附灰塵、并且涂覆色素時(shí)的潤濕性增加，容易產(chǎn)生色素涂覆不均勻的現(xiàn)象。當(dāng)使用化合物(b)的量明顯多于上述范圍的聚碳酸酯組合物制備光學(xué)盤基板等平板時(shí)，壓模上容易發(fā)生大量附著物，由于這個(gè)原因會(huì)造成制品盤表面沾上附著物的不良影響。
同時(shí)，低聚物(b)中單元重復(fù)數(shù)n比較小時(shí)，耐靜電性較高，所以在低聚物(b)中單元重復(fù)數(shù)為2～4的成分在組合物中的比例，相對于(a)成分聚碳酸酯100重量份來說，優(yōu)選0.02～15重量份，更優(yōu)選范圍是0.05～10重量份。
本發(fā)明(b)成分的化合物，可以用眾所周知的方法制備。其中，式(1B)所示的低聚物優(yōu)選用界面聚合法制備。如果采用界面聚合法，首先使芳香族二羥基化合物和光氣發(fā)生反應(yīng)，在成長的低聚物階段，使所需的重復(fù)單元和烷基酚化合物反應(yīng)，可以控制低聚物的單元重復(fù)數(shù)。這時(shí)可以通過適當(dāng)選擇所用鏈終止劑烷基酚化合物種類，使低聚物分子末端發(fā)生各種各樣的變化。
本發(fā)明中，作為在低聚物(b)分子末端引入烷基苯基所用的烷基酚有2-n-乙基苯酚、3-n-乙基苯酚、4-n-乙基苯酚、2-n-丙基苯酚、3-n-丙基苯酚、4-n-丙基苯酚、2-n-丁基苯酚、3-n-丁基苯酚、4-n-丁基苯酚、2-異丁基苯酚、3-異丁基苯酚、4-異丁基苯酚、2-t-丁基苯酚、3-t-丁基苯酚、4-t-丁基苯酚、2-n-戊基苯酚、3-n-戊基苯酚、4-n-戊基苯酚、3-n-己基苯酚、4-n-己基苯酚、2，3-二-t-丁基苯酚、2，4-二-t-丁基苯酚、2，5-二-t-丁基苯酚、3，4-二-t-丁基苯酚、3，5-二-t-丁基苯酚、2-n-十二烷基苯酚、3-n-十二烷基苯酚、4-n-十二烷基苯酚和1，3，5，7-四甲基辛基苯酚等。
在這些烷基酚中，從低聚物的制備和使用上考慮，優(yōu)選使用4-t-丁基苯酚和1，3，5，7-四甲基辛基苯酚，特別優(yōu)選4-t-丁基苯酚。
低聚物(b)的分子末端的前述通式(1A)或(1B)中的G1和G2是具有來自烷基酚的烷基苯基的基團(tuán)或是具有來自二羥基化合物的羥基中的一種，用于本發(fā)明的低聚物的分子末端，優(yōu)選烷基苯基占優(yōu)勢，具體講，就是相對于所有分子末端，烷基苯基的比例優(yōu)選在80摩爾％以上，更優(yōu)選在90摩爾％以上。這時(shí)低聚物(b)分子的兩個(gè)末端以烷基苯基作為主要成分。
本發(fā)明中特別優(yōu)選的分子兩末端為烷基苯基的低聚物如下式(4)所示。 式(4)(式(4)中，W為選自單鍵、碳數(shù)為1～8的亞烷基、碳數(shù)為2～8的(1，1)亞烷基、碳數(shù)為5～15的環(huán)亞烷基、碳數(shù)為5～15的環(huán)(1，1)亞烷基、或從-O-、-S-、-CO-、-SO-、-SO2-所示的二價(jià)基團(tuán)的基團(tuán)，Y和Z為鹵素或碳數(shù)為1～6的烴基、p和q為0～2的整數(shù)、Y和Z、p和q均可相同或不同，而且n表示1～30的整數(shù)，R1～R5各自獨(dú)立，為氫原子或碳數(shù)為1～20的烷基。但不包括R1～R5全部為氫原子的情況)。
在該聚碳酸酯中，添加特定量的以上述分子兩末端由烷基苯基構(gòu)成的低聚物為主要成分的化合物(b)制備光學(xué)盤基板等的平板時(shí)，光學(xué)盤基板等的平板的帶電壓值大于-2.0kV，不容易吸附灰塵，同時(shí)涂覆色素時(shí)的潤濕性降低，不容易產(chǎn)生色素涂覆不良的現(xiàn)象。另一方面如果采用不含特定量上述低聚物的聚碳酸酯制備光學(xué)盤基板等的平板，則光學(xué)盤基板等的平板的帶電壓值小于-2.0kV，容易吸附灰塵，而且涂覆色素時(shí)的潤濕性增加，容易產(chǎn)生色素涂覆不良的傾向。用本發(fā)明耐靜電性優(yōu)異的芳香族聚碳酸酯制備的光學(xué)盤基板等的平板的帶電壓的優(yōu)選范圍是-2～8kV、更優(yōu)選范圍是-1.5～7.5kV，特別優(yōu)選范圍是-1.0～7.0kV。
在此基礎(chǔ)上，該光盤基板等平板的水滴接觸角優(yōu)選78度以上，更優(yōu)選80度以上，特別優(yōu)選82度以上。光學(xué)盤基板等的平板的水滴接觸角在78度以上時(shí)，涂覆色素時(shí)的潤濕性降低，很難發(fā)生色素涂覆不均現(xiàn)象。相反如果水滴接觸角較小時(shí)，涂覆色素時(shí)的潤濕性增加，具有容易發(fā)生色素涂覆不均勻的傾向。
本發(fā)明上述聚碳酸酯組合物優(yōu)選還含有防靜電劑(c)，通過含有防靜電劑可以更進(jìn)一步提高耐靜電性效果。相對于聚碳酸酯100重量份，防靜電劑的含量優(yōu)選0.001～0.1重量份。更優(yōu)選0.005～0.09重量份。優(yōu)選的防靜電劑有聚氧乙烯脂肪酸酯類，例如聚氧乙烯山梨糖醇酐一月桂酸酯、聚氧乙烯一月桂酸酯、聚氧乙烯山梨糖醇酐硬脂酸酯、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯油醚或聚氧乙烯硬脂醚。其中，最優(yōu)選的防靜電劑是聚氧乙烯山梨糖醇酐一月桂酸酯。
本發(fā)明聚碳酸酯組合物是以聚碳酸酯(a)作為主成分，該聚碳酸酯可以以芳香族二羥基化合物和碳酸二酯作原料，在酯交換催化劑存在下，通過酯交換反應(yīng)得到。
作為聚碳酸酯原料所使用的芳香族二羥基化合物一般如下式(2B)所示。 式(2B)(式(2B)中，W2選自單鍵、碳數(shù)為1～8的亞烷基、碳數(shù)為2～8的(1，1)亞烷基、碳數(shù)為5～15的環(huán)亞烷基、碳數(shù)為5～15的環(huán)(1，1)亞烷基或-O-、-S-、-CO-、-SO-、-SO2-所示的二價(jià)基團(tuán)的基團(tuán)，Y和Z是鹵素或碳數(shù)為1～6的烴基、p和q為0～2的整數(shù)、Y和Z、p和q均可相同或不同)。
上述通式(2B)所示的芳香族二羥基化合物有雙(4-羥基二苯基)甲烷、2，2-雙(4-羥基苯基)丙烷、2，2-雙(4-羥基-3-甲基苯基)丙烷、2，2-雙(4-羥基-3-t-丁基苯基)丙烷、2，2-雙(4-羥基-3，5-二甲基苯基)丙烷、2，2-雙(4-羥基-3，5-二溴苯基)丙烷、4，4-雙(4-羥基苯基)庚烷、1，1-雙(4-羥基苯基)環(huán)己烷等雙酚；4，4′-二羥基聯(lián)苯、3，3′，5，5′-四甲基-4，4′-二羥基聯(lián)苯基等聯(lián)酚；雙(4-羥基苯基)砜、雙(4-羥基苯基)硫醚、雙(4-羥基苯基)醚、雙(4-羥基苯基)酮等，特別優(yōu)選2，2-雙(4-羥基苯基)丙烷(以下簡稱為“雙酚A”)。這些芳香族二羥基化合物，可以單獨(dú)使用，也可以混合使用兩種以上的混合物。
本發(fā)明所用的碳酸二酯如下式(3)所示。 式(3)(式(3)中，A和A′是碳數(shù)為1～18的脂肪族基或取代脂肪族基，或芳香族基或取代芳香族基，可相同，也可不同)。
上式(3)所示的碳酸二酯有二甲基碳酸酯、二乙基碳酸酯、二-t-丁基碳酸酯等碳酸二烷基化合物和二苯基碳酸酯等，優(yōu)選二苯基碳酸酯、取代二苯基碳酸酯，特別優(yōu)選二苯基碳酸酯。這些碳酸二酯可以單獨(dú)使用，也可以混合使用兩種以上的碳酸二酯。
本發(fā)明中，為了制備芳香族聚碳酸酯，特別使用雙酚A作為芳香族二羥基化合物，使用二苯基碳酸酯作為碳酸二酯，相對于雙酚A1摩爾來說，二苯基碳酸酯的用量最好是1.01～1.30摩爾，優(yōu)選1.02～1.20摩爾。如果該摩爾比小于1.001，則所制備的芳香族聚碳酸酯末端OH基增加，聚合物的熱穩(wěn)定性變差。同時(shí)如果該摩爾比大于1.3，則在相同條件下的酯交換反應(yīng)速度降低，很難制備所需分子量的芳香族聚碳酸酯。
本發(fā)明中，為了得到聚碳酸酯，要使用酯交換催化劑。通常使用堿金屬化合物和/或堿土類金屬化合物作為該催化劑，也可以輔助性配合使用堿性硼化物、堿性磷化合物、堿性銨化合物或胺系化合物等堿性化合物，但從物性角度和使用角度來看，優(yōu)選單獨(dú)使用堿金屬化合物和/或堿土類金屬化合物。
相對于芳香族二羥基化合物1摩爾來說，該催化劑的用量范圍優(yōu)選1×10-8～5×10-6摩爾，更優(yōu)選1×10-7～3×10-6摩爾，特別優(yōu)選2×10-7～2×10-6摩爾。如果用量少于此范圍，則得不到制備所需分子量、末端羥基量聚碳酸酯時(shí)所需的聚合活性，如果用量多于此范圍時(shí)，則聚合物色澤變差，支鏈較多，會(huì)影響聚合物的成型性。
作為堿金屬化合物有氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋰、氫氧化銫、碳酸氫鈉、碳酸氫鉀、碳酸氫鋰、碳酸氫銫、碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸鋰、碳酸銫、醋酸鈉、醋酸鉀、醋酸鋰、醋酸銫、硬脂酸鈉、硬脂酸鉀、硬脂酸鋰、硬脂酸銫、硼氫化鈉、硼氫化鉀、硼氫化鋰、硼氫化銫、硼苯基化鈉、硼苯基化鉀、硼苯基化鋰、硼苯基化銫、安息香酸鈉、安息香酸鉀、安息香酸鋰、安息香酸銫、磷酸氫二鈉、磷酸氫二鉀、磷酸氫二鋰、磷酸氫二銫、苯基磷酸二鈉、苯基磷酸二鉀、苯基磷酸二鋰、苯基磷酸二銫、鈉、鉀、鋰、銫的醇鹽、酚鹽、雙酚A的二鈉鹽、二鉀鹽、二鋰鹽、二銫鹽等。
堿土類金屬化合物有氫氧化鈣、氫氧化鋇、氫氧化鎂、氫氧化鍶、碳酸氫鈣、碳酸氫鋇、碳酸氫鎂、碳酸氫鍶、碳酸鈣、碳酸鋇、碳酸鎂、碳酸鍶、醋酸鈣、醋酸鋇、醋酸鎂、醋酸鍶、硬脂酸鈣、硬脂酸鋇、硬脂酸鎂、硬脂酸鍶等。
堿性硼化物的具體例有四甲基硼、四乙基硼、四丙基硼、四丁基硼、三甲基乙基硼、三甲基芐基硼、三甲基苯基硼、三乙基甲基硼、三乙基芐基硼、三乙基苯基硼、三丁基芐基硼、三丁基苯基硼、四苯基硼、芐基三苯基硼、甲基三苯基硼、丁基三苯基硼等的鈉鹽、鉀鹽、鋰鹽、鈣鹽、鋇鹽、鎂鹽或鍶鹽等等。
作為堿性磷化物有三乙基膦、三-n-丙基膦、三異丙基膦、三-n-丁基膦、三苯基膦、三丁基膦或季鏻鹽等。
作為堿性銨化合物有氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨、氫氧化四丙基銨、氫氧化四丁基銨、氫氧化三甲基乙基胺、氫氧化三甲基芐基銨、氫氧化三甲基苯基銨、氫氧化三乙基甲基銨、氫氧化三乙基芐基銨、氫氧化三乙基苯基銨、氫氧化三丁基芐基銨、氫氧化三丁基苯基銨、氫氧化四苯基銨、氫氧化芐基三苯基銨、氫氧化甲基三苯基銨、氫氧化丁基三苯基銨等等。
作為胺系化合物有4-氨基吡啶、2-氨基吡啶、N，N-二甲基-4-氨基吡啶、4-二乙基氨基吡啶、2-羥基吡啶、2-甲氧基吡啶、4-甲氧基吡啶、2-二甲基氨基咪唑、2-甲氧基咪唑、咪唑、2-巰基咪唑、2-甲基咪唑、氨基喹啉等。
酯交換反應(yīng)一般以兩階段以上的多階段工序?qū)嵤＞唧w講第一階段反應(yīng)是在9.3×104～1.33×103Pa的減壓條件下、在120～260℃、優(yōu)選在180～240℃的溫度條件下、反應(yīng)0.1～5小時(shí)、優(yōu)選反應(yīng)時(shí)間為0.1～3小時(shí)下反應(yīng)。接著邊提高反應(yīng)體系的減壓度邊提高反應(yīng)溫度，最終在低于133Pa的減壓條件下、240～320℃的溫度條件下進(jìn)行縮聚反應(yīng)。
反應(yīng)形式有分批式，連續(xù)式或分批式和連續(xù)式的組合反應(yīng)，所用裝置可以是槽式、管式或塔式反應(yīng)器中的任何一種。
本發(fā)明中，聚碳酸酯的粘度平均分子量的優(yōu)選范圍是12,000～20,000，更優(yōu)選范圍是13,000～19,000。如果粘度平均分子量太低，在強(qiáng)度上不能滿足實(shí)用要求；如果粘度平均分子量太高，則在成型性、光學(xué)特性方面，不能獲得很好的特性。
在本發(fā)明聚碳酸酯組合物中，發(fā)揮耐靜電作用的烷基取代的芳烴存在于化合物(b)中，在此基礎(chǔ)上，還可以在聚碳酸酯(a)的分子末端引入烷基取代的芳烴基。
在聚碳酸酯末端引入烷基取代芳烴基時(shí)，相對于所有的聚碳酸酯末端來說，烷基取代芳烴基的比例優(yōu)選在0.1摩爾％上，優(yōu)選在1摩爾％以上。組合物中低聚物的量較少以及低聚物末端的烷基取代芳烴基比例較少時(shí)，可以適當(dāng)選擇末端基的比例，增加聚碳酸酯末端烷基取代芳烴基的比例等。
為制備末端引入烷基取代芳烴基的聚碳酸酯，在使用上述芳香族二羥基化合物和碳酸二酯、在酯交換催化劑存在下進(jìn)行酯交換反應(yīng)時(shí)，可以使反應(yīng)體系中同時(shí)存在有下式(5B)所示的酚類和下式(6)所示的碳酸二酯類而得到。 式(5B)(式(5B)中，R1～R5是各自獨(dú)立的，分別表示氫原子或碳數(shù)為1～20的烷基。但是R1～R5并非全部為氫原子)。 式(6)(式(6)中，R6～R15表示氫原子或碳數(shù)為1～20的烷基，但R6～R15并非全部為氫原子)。
前述這些酚類或碳酸二酯類的添加，可以預(yù)先和上述原料一起添加，也可以反應(yīng)過程中添加，還可以在反應(yīng)結(jié)束時(shí)添加，不過在聚合物的固有粘度[η]不足0.2dl/g時(shí)添加比較好。如果聚合物的固有粘度[η]達(dá)到2.0dl/g以上，則隨著粘度上升，它們與聚合物的混合性和分散性變差，具有降低引入效率的傾向。更優(yōu)選在聚合物的固有粘度0.19dl/g以下時(shí)添加前述酚類或碳酸二酯類。
從引入效率的觀點(diǎn)來看，特別是上述通式(5B)所示的酚類，優(yōu)選在聚合物的固有粘度[η]0.03dl/g以上、小于0.2dl/g時(shí)添加。這是因?yàn)?，如果預(yù)先把酚類和上述原料一起添加進(jìn)去，伴隨酯交換過程，副產(chǎn)的芳香族羥基化合物和上述通式(5B)所示的酚類將被同時(shí)餾去，具有降低引入效率的傾向。因此優(yōu)選0.04dl/g以上、0.19dl/g以下。
作為制備本發(fā)明組合物的方法，可以用已知的方法進(jìn)行混合。例如可以選擇用螺帶式摻混機(jī)和超級混合機(jī)把上述低聚物和聚碳酸酯粉末分散混合后用擠出機(jī)等進(jìn)行熔融混煉的方法等。
本發(fā)明中，為了使酯交換催化劑鈍化，優(yōu)選添加在酸性化合物或其前體中添加磺酸化合物或其前體作為去活化劑，更具體講，特別優(yōu)選p-甲苯磺酸、p-甲苯磺酸甲酯、p-甲苯磺酸丁酯等。它們可以單獨(dú)使用，也可以把兩種以上組合使用。
而且根據(jù)需要還可以添加穩(wěn)定劑，紫外線吸收劑，脫模劑、著色劑等添加劑與樹脂進(jìn)行混煉。
本發(fā)明光盤用基板可以用已知方法對上述聚碳酸酯進(jìn)行注塑成型制備。而且該光盤用基板可用于作為聲盤、激光盤、光盤存儲(chǔ)器、光磁盤等利用激光進(jìn)行信息的復(fù)制、補(bǔ)記改寫的光學(xué)信息存儲(chǔ)介質(zhì)的追記型光盤用基板。
本發(fā)明追記型光盤是用上述芳香族聚碳酸酯的注塑成型制備的，并以形成有被稱為槽的呈同心圓狀排列的多個(gè)導(dǎo)槽的成型基板作為基本材料。在注塑成型時(shí)，預(yù)先刻在規(guī)定沖壓模上的亞微級大小的坑和槽的形狀，被如實(shí)轉(zhuǎn)印到圓盤狀透明成型基板的表面(本說明書中，稱為“信號面”)。
作為追記型光盤的代表例有，在上述成型基板上按照色素記錄層、反射層、保護(hù)層的順序?qū)雍蠘?gòu)成的CD-R型光盤，除此之外還有在上述基板上用粘合劑把由色素記錄層、反射層和根據(jù)需要設(shè)置的保護(hù)層組成的層合體和圓盤狀基板(空盤)貼合，并使記錄層在內(nèi)側(cè)從而形成的DVD-R型光盤以及用粘合劑將兩個(gè)上述層合體貼合，并使其記錄層均在內(nèi)側(cè)，從而形成的DVD-R型光盤。
本發(fā)明方法中，上述追記型光盤中進(jìn)行信號記錄和讀取的色素記錄層是通過在基板的信號面上直接涂覆色素形成的。
涂覆色素通常采用旋轉(zhuǎn)涂覆法，用把有機(jī)色素溶解在有機(jī)溶劑中形成色素溶液進(jìn)行涂覆，使色素溶液充滿成型基板信號面上形成的槽。旋轉(zhuǎn)涂覆法，一般采用由提供涂覆液的裝置(分散噴嘴)、旋轉(zhuǎn)頭、防止飛散的擋壁和排氣裝置構(gòu)成的旋轉(zhuǎn)涂覆裝置，按照下述順序?qū)嵤Ｊ紫劝殉尚突宸胖迷谛D(zhuǎn)頭上，接著邊用驅(qū)動(dòng)馬達(dá)使旋轉(zhuǎn)頭旋轉(zhuǎn)，邊從提供涂覆液裝置的噴嘴向在該基板的內(nèi)周表面、優(yōu)選向在距槽最內(nèi)側(cè)2～3mm內(nèi)側(cè)位置提供涂覆液。在離心力作用下，提供到基板上的涂覆液向外側(cè)呈放射狀流延，形成涂覆膜。旋轉(zhuǎn)涂覆操作中，在防止飛散擋壁的上方設(shè)置有開口部分(導(dǎo)入氣體的部分)，從該開口部分導(dǎo)入空氣等干燥氣體，使該氣體在該涂膜上通過，并從旋轉(zhuǎn)涂覆裝置的下方排出。在該氣體流通的作用下，從涂膜中除去溶劑，干燥涂膜。同時(shí)，根據(jù)需要，還可以把基板放入到被稱為烘箱的干燥爐中盡可能全部除去殘留溶劑。
追記型光盤，作為色素要選擇吸收范圍在激光波長范圍(300～850nm)的色素。具體有偶氮色素，花青色素、酞菁色素、天青(アズレニウム)色素、スクアリリウム色素、聚甲炔色素、吡喃鎓色素、硫代吡喃鎓色素、靛苯胺色素、萘醌色素、蒽醌色素、三烯丙基甲烷色素、胺鎓鹽色素、二酰亞胺鎓鹽(ジイモニウム)色素、偶氮系配位體化合物和金屬構(gòu)成的金屬螯合系色素、金屬絡(luò)合物等以及它們的混合物。優(yōu)選偶氮系、花青系、酞菁系中的任意一種有機(jī)色素。這些色素對信號的靈敏度高、易溶于溶劑、耐光性好，可以獲得高質(zhì)量的追記型光盤。
作為色素溶液用的有機(jī)溶劑具體有醋酸丁酯、乙酸溶纖劑等酯類、甲乙酮、環(huán)己酮、甲基異丁基酮等酮類，二氯甲烷、1，2-二氯乙烷、氯仿等氯代烴，二甲基甲酰胺等酰胺類、環(huán)己烷等烴類、四氫呋喃、乙醚、二噁烷等醚類、乙醇、n-丙醇、異丙醇、n-丁醇、雙丙酮醇等醇類，2，2，3，3-四氟丙醇等氟系溶劑、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、丙二醇單甲醚等二醇醚類等等?？紤]到對所用色素的溶解性，這些溶劑可以單獨(dú)使用，也可以適當(dāng)混合使用兩種以上的溶劑。優(yōu)選使用2，2，3，3-四氟丙醇、八氟戊醇、二丁基醚等氟系溶劑。
在色素記錄層表面還要用噴鍍法形成Ag和Au的反射膜，得到反射層，根據(jù)需要還要在反射層表面涂保護(hù)膜，形成保護(hù)層，得到形成有反射層和保護(hù)層的層合體。CD-R是由單板形成的，而DVD-R是把兩張上述基板貼合在一起形成的，所以可以達(dá)到高密度化。
實(shí)施例以下通過實(shí)施例和比較例說明本發(fā)明。在下述實(shí)施例和比較例中，得到的聚碳酸酯組合物和聚碳酸酯的物性以及評價(jià)按以下方法測定。
(1)粘度平均分子量(Mv)用烏伯洛德粘度計(jì)測量6g/l二氯甲烷溶液的固有粘度，通過下述計(jì)算式求出粘度平均分子量。
＝1.23×10-4(Mv)0.83(2)烷基苯基相對于低聚物中分子末端總數(shù)的比例取樣品0.02g溶解在0.4ml的氯仿中，在30℃下使用1H-NMR(日本電子公司制造，JNM-A1400)測定低聚物中的烷基苯氧基和末端羥基，將二者合在一起求出分子末端的總數(shù)，然后通過下列計(jì)算式求出低聚物中烷基苯氧基對分子末端總數(shù)的比例。烷基苯氧基的比例(摩爾％)＝(烷基苯氧基數(shù)/分子末端總數(shù))×100(3)低聚物的數(shù)量平均單元重復(fù)數(shù)(m)低聚物中，有N個(gè)單元重復(fù)數(shù)，設(shè)某單元重復(fù)數(shù)p在低聚物中的重量％為Mp，通過m＝(∑Np×Mp)/100求出m。
(4)相對于(a)成分聚碳酸酯100重量份的低聚物(b)的重量份數(shù)和單元重復(fù)數(shù)(n)為2～4的低聚物的總重量份數(shù)將所得聚碳酸酯組合物1g溶解在四氫呋喃10ml中，用反相色譜法測定。反相液體色譜法是使用四氫呋喃和水組成的混合溶劑作為洗提液，從四氫呋喃/水的比率為50/50開始，在1小時(shí)分級到100/0的條件下，在柱溫度為40℃下進(jìn)行測定。
檢測采用波長為270nm的UV檢測儀((株)島津制作所制造，SPD-6A)，定量是使用單元重復(fù)數(shù)(n)為1的低聚物的校正曲線，把各峰面積換算成單元重復(fù)數(shù)(n)為1的低聚物的重量，求出各低聚物的重量，再計(jì)算出相對于(a)成分聚碳酸酯100重量份的低聚物(b)的總量和單元重復(fù)數(shù)(n)為2～4的低聚物的總重量份數(shù)。
(5)帶電壓(kV)在用實(shí)施例和比較例方法制成成型基板后，馬上使用SK-200型靜電場儀(KEYENCE(株)制造)在距平板6.0cm處測定其耐電壓。
(6)水滴接觸角(度)和第(5)項(xiàng)測定帶電壓的情況一樣，成型后馬上在成型基板表面滴下超純水，用接觸角儀(點(diǎn)滴法協(xié)和科學(xué)株式會(huì)社制造)測定液滴的半徑r、高度h，計(jì)算接觸角。
θ＝2×tan-1(h/r)(7)色素涂覆斑駁的評定方法用光學(xué)顯微鏡從實(shí)施例和比較例所得光盤基板最內(nèi)側(cè)的正圓開始向內(nèi)側(cè)方向觀察凸出位置，在整個(gè)圓周上只要有0.5mm以上的凸出，即使只是一部分，也應(yīng)視作存在有涂覆斑駁。[實(shí)施例1]在具有冷凝器的不銹鋼制20立升的立式攪拌反應(yīng)裝置中加入雙酚A2283g(10.0摩爾)、二苯基碳酸酯2290g(10.7摩爾)、并加入0.01N氫氧化鈉0.7ml(相對于雙酚A1摩爾來說為7×10-6摩爾)作為催化劑，進(jìn)行氮?dú)庵脫Q。將該混合物在220℃下加熱40分鐘使原料單體熔融后，再于220℃/1.33×104Pa下反應(yīng)60分鐘、于240℃/2.00×103Pa下反應(yīng)60分鐘、在270℃/66.7Pa下反應(yīng)60分鐘。反應(yīng)結(jié)束后，用齒輪泵把反應(yīng)液輸送到雙螺桿擠出機(jī)中，添加p-甲苯磺酸丁酯(用量是催化劑氫氧化鈉的2倍摩爾)作為催化劑失活劑，再添加用界面聚合法得到的末端為4-t-丁基苯基苯氧基的低聚物(數(shù)量平均單元重復(fù)數(shù)m＝3)，其添加量相對于聚碳酸酯100重量份來說為0.5重量份，還要添加脫模劑硬脂酸單甘油酯0.02份，熱穩(wěn)定劑AS329(三壬苯基亞磷酸酯，旭電化工業(yè)(株)制)0.005份，并進(jìn)行混煉。
用切刀把由擠出機(jī)擠出的線料切斷造粒，得到粘度平均分子量為15,500的聚碳酸酯組合物。
(成型基板的制備)在下述條件下，對得到的聚碳酸酯組合物進(jìn)行注塑成型，得到成型基板。
成型機(jī)住友重機(jī)DISK3模具12cmφCD DVC用模具成型基板厚度1.2mm沖模的槽深160nm沖模的槽間距0.80μm成型機(jī)機(jī)筒的最高設(shè)定溫度360℃安裝有沖模側(cè)的模具設(shè)定溫度130℃注塑時(shí)間0.1秒冷卻時(shí)間7.0秒螺桿轉(zhuǎn)數(shù)360rpm螺桿直徑25mmφ合模壓力注塑、保壓時(shí)為20T，冷卻時(shí)為25T(色素涂覆)把偶氮類有機(jī)色素溶解在八氟戊醇中得到色素溶液，把該色素溶液涂覆到上述成型基板上。利用旋轉(zhuǎn)涂覆法進(jìn)行涂覆，使色素溶液充滿成型基板信號面上形成的槽。開始涂覆的位置是距槽最內(nèi)側(cè)圓周2mm內(nèi)側(cè)。最內(nèi)側(cè)圓周的涂覆轉(zhuǎn)數(shù)為100rpm，接著涂覆整個(gè)基板面，轉(zhuǎn)速為5000rpm。然后把基板放置到干燥烘箱中除去殘留溶劑，制成追記型光盤基板。
把對成型基板(涂覆色素前)的耐電壓、水滴接觸角和追記型光盤基板的色素涂覆斑駁的各項(xiàng)評定結(jié)果示于表2。
在實(shí)施例1，2和3中所用的低聚物，在整個(gè)低聚物內(nèi)，單元重復(fù)數(shù)n為1的低聚物份額為15重量％，單元重復(fù)數(shù)n為2的低聚物份額為20重量％，單元重復(fù)n為3的低聚物的份額為17重量％，單元重復(fù)數(shù)n為4的低聚物的份額為13重量％，單元重復(fù)數(shù)n為5的低聚物的份額為8重量％。其余低聚物的單元重復(fù)數(shù)n在6以上。將低聚物中烷基苯氧基的比例、低聚物的含量和低聚物單元重復(fù)數(shù)n為2～4的低聚物的總量示于表2。[實(shí)施例2]
相對于聚碳酸酯100重量份來說，添加實(shí)施例1中所用的末端為4-t-丁基苯基苯氧基的低聚物(數(shù)量平均單元重復(fù)數(shù)m＝3)1重量份，除此之外，進(jìn)行其它與實(shí)施例1相同的操作得到聚碳酸酯組合物。
把所得聚碳酸酯組合物的粘度平均分子量、低聚物中烷基苯氧基的比例、低聚物的含量和低聚物單元重復(fù)數(shù)n為2～4的低聚物的總量示于表2。并且采用與實(shí)施例1相同的方法用該組合物制作追記型光盤。成型基板(涂覆色素前)的耐電壓、水滴接觸角和追記型光盤基板的色素涂覆斑駁的各項(xiàng)評定結(jié)果示于表2。[實(shí)施例3]相對于聚碳酸酯100重量份來說，添加實(shí)施例中所用的末端為4-t-丁基苯基苯氧基的低聚物(數(shù)量平均單元重復(fù)數(shù)m＝3)5重量份，除此之外，進(jìn)行其它與實(shí)施例1相同的操作，制得聚碳酸酯組合物。
所得聚碳酸酯組合物的粘度平均分子量、低聚物中的烷基苯氧基的比例、低聚物的含量和低聚物單元重復(fù)數(shù)n為2～4的低聚物的總量示于表2。并且使用該組合物，按照與實(shí)施例1相同的方法制成追記型光盤。把成型基板(涂覆色素前)的耐電壓、水滴接觸角和追記型光盤基板的色素涂覆斑駁的各項(xiàng)評定結(jié)果示于表2。[實(shí)施例4]相對于聚碳酸酯100重量份來說，添加實(shí)施例1中所用的末端為4-t-丁基苯基苯氧基的低聚物(數(shù)量平均單元重復(fù)數(shù)m＝7)1重量份，除此之外，按照其它與實(shí)施例1相同的操作得到聚碳酸酯組合物。
所得聚碳酸酯組合物的粘度平均分子量、低聚物中的烷基苯氧基的比例，低聚物的含量和低聚物單元重復(fù)數(shù)n為2～4的低聚物總量示于表2。并且用該組合物，按照與實(shí)施例1相同的方法制成追記型光盤。把成型基板(涂覆色素前)的耐電壓、水滴接觸角和追記型光盤基板的色素涂覆斑駁的各項(xiàng)評定結(jié)果示于表2。[實(shí)施例5]相對于聚碳酸酯100重量份來說，添加實(shí)施例1中所用的末端為4-t-丁基苯基苯氧基的低聚物(數(shù)量平均單元重復(fù)數(shù)m＝10)1重量份。除此之外，進(jìn)行與實(shí)施例1相同的操作制成聚碳酸酯組合物。
所得聚碳酸酯組合物的粘度平均分子量、低聚物中的烷基苯氧基的比例、低聚物的含量及低聚物單元重復(fù)數(shù)n為2～4的低聚物的總量示于表2。并且使用該組合物，按照與實(shí)施例1相同的方法制成追記型光盤。把成型基板(涂覆色素前)的耐電壓、水滴接觸角和追記型光盤基板的涂覆斑駁的各項(xiàng)評定結(jié)果示于表2。[實(shí)施例6]在具有冷凝器的不銹鋼20立升立式攪拌反應(yīng)裝置中加入雙酚A2283g(10.0摩爾)、二苯基碳酸酯2290g(10.7摩爾)、再加入0.01N氫氧化鈉0.7ml(相對于雙酚A1摩爾來說，為7×10-6摩爾)，并進(jìn)行氮?dú)庵脫Q。在220℃用40分鐘時(shí)間使該混合物原料單體熔融，然后于220℃/1.33×104Pa下反應(yīng)60分鐘、于240℃/2.00×103Pa下反應(yīng)60分鐘、于270℃/66.7Pa下反應(yīng)60分鐘。反應(yīng)結(jié)束后，用齒輪泵將反應(yīng)物輸送到雙螺桿擠出機(jī)中，再添加p-甲苯磺酸丁酯(添加量為催化劑氫氧化鈉的2倍摩爾量)作為催化劑失活劑來說，還添加相對于100重量份聚碳酸酯的、用界面聚合法得到的末端為4-t-丁基苯基苯氧基的低聚物(數(shù)量平均單元重復(fù)數(shù)m＝3)0.5重量份、防靜電劑諾尼翁(ノニオン)LT221(聚氧乙烯山梨糖醇酐一月桂酸酯，日本油脂(株)制造)0.005份、脫模劑硬脂酸單甘油脂0.02份、熱穩(wěn)定劑AS329(三壬苯基亞磷酸酯、旭電化工業(yè)(株)制)0.005份，并進(jìn)行混煉。
用切刀把從擠出機(jī)擠出的線料切斷造粒，結(jié)果得到粘度平均分子量為15,400的聚碳酸酯組合物。把所得聚碳酸酯組合物的粘度平均分子量、低聚物中的烷基苯氧基比例、低聚物的含量和低聚物單元重復(fù)數(shù)n為2～4的低聚物的總量示于表2。并且，用與實(shí)施例1相同的方法把該組合物制成追記型光盤。把成型基板(涂覆色素前)的耐電壓、水滴接觸角和追記型光盤基板的色素涂覆斑駁的各項(xiàng)評定結(jié)果示于表2。[實(shí)施例7]相對于100重量份聚碳酸酯，添加實(shí)施例6中所用的諾尼翁LT221(聚氧乙烯山梨糖醇酐一月桂酸酯)0.03重量份，除此之外，按照其它與實(shí)施例6相同的方法得到聚碳酸酯組合物。
所得聚碳酸酯組合物的粘度平均分子量、低聚物中烷基苯氧基的比例、低聚物的含量和低聚物單元重復(fù)數(shù)n為2～4的低聚總量示于表2。并且，按照與實(shí)施例1相同的方法用該組合物制成追記型光盤。把成型基板(涂覆色素前)的耐電壓、水滴接觸角和追記型光盤基板的色素涂覆斑駁的各項(xiàng)評定結(jié)果示于表2。[實(shí)施例8]相對于100重量份聚碳酸酯，添加實(shí)施例6中所用的諾尼翁LT221(聚氧乙烯山梨糖醇一月桂酸酯)0.06重量份，除此之外，按照與實(shí)施例6相同的方法制成聚碳酸酯組合物。
所得聚碳酸酯組合物的粘度平均分子量、低聚物中的烷基苯氧基比例、低聚物含量和低聚物單元重復(fù)數(shù)n為2～4的低聚物的總量示于表2。并且，用與實(shí)施例1相同的方法用該組合物制成追記型光盤。把成型基板(涂覆色素前)的耐電壓、水滴接觸角和追記型光盤基板的色素涂覆斑駁的各項(xiàng)評定結(jié)果示于表2。[比較例1]除了不添加低聚物和防靜電劑諾尼翁LT221以外，按照其它與實(shí)施例1相同的方法制得聚碳酸酯。
所得聚碳酸酯組合物的粘度平均分子量、低聚物中的烷基苯氧基的比例、低聚物的含量和低聚物單元重復(fù)數(shù)n為2～4的低聚物的總量示于表2。并且，用與實(shí)施例1相同的方法用該組合物制成追記型光盤。并把成型基板(涂覆色素前)的耐電壓、水滴接觸角和追記型光盤基板色素涂覆斑駁的各項(xiàng)評定結(jié)果示于表2。


用本發(fā)明聚碳酸酯組合物制備的追記型光盤基板和追記型光盤的耐靜電性能從根本上得到改進(jìn)，并且還可以提高色素涂覆性。
權(quán)利要求
1.一種聚碳酸酯組合物，其特征在于含有(a)用酯交換法制得的聚碳酸酯和(b)分子內(nèi)含有酯鍵、碳酸酯鍵、酰胺鍵、尿烷鍵中的任意一種、分子末端具有被至少一個(gè)烷基取代的芳烴基、并且分子量在300～8000的化合物。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚碳酸酯組合物，其中，所述化合物(b)為下式(1A)所示的化合物， 式(1A)(式(1A)中，G1表示氫原子或Ar1-Q2-CO-。Ar1表示被至少一個(gè)烷基取代的芳烴基，G2表示-Q1-W1-Q2-H或Ar2-Q1-，Ar2表示被至少一個(gè)烷基取代的芳烴基，Q1表示單鍵、-O-或-NH-，Q2表示-O-或-NH-，W1表示碳數(shù)6以上、50以下的二價(jià)基團(tuán)，n表示1～30的整數(shù))。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚碳酸酯組合物，其中，前述化合物(b)為下式(1B)所示的化合物， 式(1B)(式(1B)中，G1表示氫原子或Ar1-O-CO-，Ar1表示被至少一個(gè)烷基取代的芳烴基，G2表示 式(2A)或Ar2-O-，式中，Ar2表示至少被一個(gè)烷基取代的芳烴基，通式(2)中，W2表示單鍵、碳數(shù)為1～8的亞烷基、碳數(shù)為2～8的(1，1)亞烷基、碳數(shù)為5～15的環(huán)亞烷基、碳數(shù)為5～15的環(huán)(1，1)亞烷基或選自-O-、-S-、-CO-、-SO-、-SO2-表示的二價(jià)基團(tuán)的基團(tuán)，Y和Z表示鹵素或碳數(shù)為1～6的烴基，p和q為0～2的整數(shù)、Y與Z、p與q均可以相同的或不同，n表示1～30的整數(shù))。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的聚碳酸酯組合物，其中，所述Ar1和Ar2為下式(5A)所示的基團(tuán)， 式(5A)(式(5A)中，R1～R5是各自獨(dú)立的，表示氫原子或碳數(shù)為1～20的烷基，但是不包括R1～R5全部為氫原子的情況)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的聚碳酸酯組合物，其中，所述Ar1和Ar2為叔丁基苯基。
6.根據(jù)權(quán)利要求2～5任意一項(xiàng)所述的聚碳酸酯組合物，其中，化合物(b)的總分子末端中，用至少一個(gè)烷基取代的芳烴基的比例大于80摩爾％。
7.根據(jù)權(quán)利要求2～6中任意一項(xiàng)所述的聚碳酸酯組合物，其中，在所述式(1A)或(1B)中，數(shù)量平均重復(fù)單元數(shù)(m)為20以下。
8.根據(jù)權(quán)利要求1～7中任意一項(xiàng)所述的聚碳酸酯組合物，其中，相對于聚碳酸酯(a)100重量份，化合物(b)的含量為0.01～20重量份。
9.根據(jù)權(quán)利要求1～7中任意一項(xiàng)所述的聚碳酸酯組合物，其中，相對于聚碳酸酯(a)100重量份，化合物(b)內(nèi)，所述式(1A)或(1B)中重復(fù)單元數(shù)n為2～4的低聚物含量為0.02～15重量份。
10.根據(jù)權(quán)利要求2～9中任意一項(xiàng)所述的聚碳酸酯組合物，其中，化合物(b)是用界面聚合法聚合得到的化合物。
11.根據(jù)權(quán)利要求1～10中任意一項(xiàng)所述的聚碳酸酯組合物，其中，還進(jìn)一步含有防靜電劑(c)。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的聚碳酸酯組合物，其中，防靜電劑是聚氧乙烯脂肪酸酯類。
13.根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的聚碳酸酯組合物，其中，相對于聚碳酸酯100重量份，防靜電劑的含量為0.001～0.1重量份。
14.一種追記型光盤用基板，其是采用權(quán)利要求1～13中任意一項(xiàng)所述的聚碳酸酯組合物。
15.一種追記型光盤，它是在權(quán)利要求14所述的光盤基板上涂覆色素制成的。
16.一種追記型光盤的制造方法，其特征是，將權(quán)利要求1～13中任意一項(xiàng)所述的聚碳酸酯組合物注塑成型得到追記型光盤用基板，然后采用旋轉(zhuǎn)涂覆法在該基板上涂覆色素。
全文摘要
提供耐靜電性、色素涂覆性都很好的聚碳酸酯組合物及使用該組合物的追記型光盤基板和追記型光盤。聚碳酸酯組合物，其特征在于含有(a)用酯交換法得到的聚碳酸酯和(b)分子內(nèi)部具有酯鍵、碳酸酯鍵、酰胺鍵、尿烷鍵中的一種，并且分子末端具有用至少一個(gè)烷基取代的芳烴基，并且分子量為300～8000的化合物。
文檔編號G11B7/258GK1414035SQ0214712
公開日2003年4月30日 申請日期2002年10月22日 優(yōu)先權(quán)日2001年10月22日
發(fā)明者宮本正昭, 田山貴郎, 內(nèi)村龍次, 井上敏光, 東重夫, 上田昌哉 申請人:三菱化學(xué)株式會(huì)社