專利名稱：在信息層中含有酞菁染料作為光吸收化合物的光學(xué)數(shù)據(jù)載體的制作方法
先有技術(shù)本發(fā)明涉及在信息層中含有至少一種酞菁染料作為光吸收化合物的可一次寫的光學(xué)數(shù)據(jù)載體，涉及其制造方法，還涉及通過旋涂法、蒸汽沉積法或者濺鍍法在聚合物基材，特別是在聚碳酸酯基材上涂布上述染料的方法。
使用特殊的光吸收物質(zhì)或其混合物的可一次寫的光學(xué)數(shù)據(jù)載體特別適用于用藍(lán)色激光二極管，特別是GaN或SHG激光二極管(360～460nm)操作的高密度可寫入光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器，和/或適用于用紅色(635～660nm)或紅外(780～830nm)激光二極管操作的DVD-R或CD-R。
近年來，可一次寫的光盤(CD-R，780nm)經(jīng)歷了巨大的數(shù)量增長，在技術(shù)上有了確定的體系。
下一代光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器-DVD近來已經(jīng)進(jìn)入了市場(chǎng)。通過使用更短波長的激光輻射(635～660nm)和更高的數(shù)值孔徑NA，可以提高存儲(chǔ)密度。在此情況下，可一次寫的格式就是DVD-R。
當(dāng)前，已經(jīng)開發(fā)了使用具有高激光功率的藍(lán)色激光二極管(基于GaN，JP-A-08 191,171或SHG(第二代諧波)JP-A-09 050,629)(360～460nm)的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)格式。因此，在這一代當(dāng)中也將使用可寫入光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器。可達(dá)到的存儲(chǔ)密度取決于激光斑在信息平面上的聚焦情況。這里光斑尺寸可用激光波長λ/NA來度量。NA是所用物鏡的數(shù)值孔徑。為了得到盡可能高的存儲(chǔ)密度，目標(biāo)是使用盡可能短的波長λ。目前，在半導(dǎo)體激光二極管的基礎(chǔ)上，390nm是可能的。
專利文獻(xiàn)敘述了同樣適用于CD-R和DVD-R系統(tǒng)的染料基可寫入光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器(JP-A 11 043,481和JP-A 10 181,206)。這里為了達(dá)到高的反射率和高的讀出信號(hào)調(diào)制高度，也為了達(dá)到足夠的寫入敏感度，利用了這樣一個(gè)事實(shí)，CD-R紅外波長780nm位于染料吸收峰長波側(cè)翼的底部(Flanke)，而DVD-R的紅色波長635nm或650nm位于該染料吸收峰短波側(cè)翼的底部(參見EP-A 519,395和WO-A00/09522)。在JP-A 02 557,335、JP-A 10 058,828、JP-A 06 336,086、JP-A 02 865,955、WO-A 09 917,284和US-A 5,266,699中，此概念擴(kuò)展到在吸收峰短波側(cè)翼的450nm工作波長區(qū)和在吸收峰長波側(cè)翼的紅色和紅外區(qū)。
除了上述光學(xué)性能以外，含有光吸收有機(jī)物質(zhì)的可寫入信息層必須具有盡可能無定形的形態(tài)，以保持在寫入或讀出的過程中噪音信號(hào)盡可能小。因此，特別優(yōu)選在通過由溶液中進(jìn)行旋涂，通過濺鍍或者通過蒸汽沉積涂布此物質(zhì)和/或在隨后在減壓下用金屬或者電介層進(jìn)行覆蓋的過程中進(jìn)行升華時(shí)避免光吸收物質(zhì)發(fā)生結(jié)晶。
含有光吸收物質(zhì)的無定形層應(yīng)優(yōu)選具有高的熱穩(wěn)定性，因?yàn)槿舴侨绱?，由濺鍍或蒸汽沉積涂布在光吸收信息層上的有機(jī)或無機(jī)材料的另外的層將由于擴(kuò)散而形成模糊的邊界，由此對(duì)反射率帶來不利的影響。再者，熱穩(wěn)定性不足的光吸收物質(zhì)在與聚合物載體的邊界會(huì)擴(kuò)散到聚合物載體中，一旦如此將又對(duì)反射率造成不良的影響。
在如上所述的高真空下濺鍍和/或沉積其它層的過程中，蒸汽壓太高的光吸收物質(zhì)可能會(huì)發(fā)生升華，這樣就將該層的厚度降低到所需值以下。這再次給反射率以不良的影響。
因此，本發(fā)明的目的是提供適當(dāng)?shù)幕衔?，它要滿足在可一次寫的光學(xué)數(shù)據(jù)載體中信息層中使用時(shí)的高要求(比如，光穩(wěn)定性、有利的信噪比、在基材上無損涂布等)，特別是在激光波長360～460nm的范圍內(nèi)高密度可寫入光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)格式中使用的要求。
意外地發(fā)現(xiàn)，特殊的光吸收酞菁化合物能夠特別好地滿足如上所述要求的性質(zhì)。酞菁在360～460nm的波長范圍顯示出很強(qiáng)的吸收，此波段對(duì)于激光，也就是所謂B帶或者Soret帶是很重要的。
因此，本發(fā)明提供一種光學(xué)數(shù)據(jù)載體，該載體包括優(yōu)選透明的基材，該基材任選地已涂布一層或幾層反射層，在該基材表面上涂布可寫入信息層，任選地涂布一層或幾層反射層和任選地涂布保護(hù)層或者其它基材或覆蓋層，它可以借助于藍(lán)色光線，優(yōu)選是激光，特別是波長360～460nm的光線，特別是380～420nm，很特別優(yōu)選是390～410nm的光線，或者借助于紅外光線，優(yōu)選是激光，特別是波長760～830nm的光線寫入和讀出，在此，該信息層含有光吸收化合物和任選的粘結(jié)劑，其特征在于，使用至少一種通式(I)的酞菁作為光吸收化合物
這里，Me是選自Si、Ge和Sn的雙軸向取代的金屬原子，Pc是未取代的酞菁，以及X1和X2各自獨(dú)立地表示鹵素，特別是氟、氯或溴。
在一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方案中，使用通式(I)的酞菁，其中X1和X2各自是氯。
這里，很特別優(yōu)選通式(Ia)、(Ib)、(Ic)和(Id)的酞菁 按照本發(fā)明使用的酞菁從比如Carl W.Dirk等的J.Am.Chem.Soc.1983，105，1539～1550中，作為制備導(dǎo)電聚合物的前體是已知的，可以如在那里的敘述制備。
它們?cè)瓌t上通過已知的方法制備，比如-在相應(yīng)金屬鹵化物存在下，通過從鄰苯二甲腈或氨基亞氨基異吲哚進(jìn)行環(huán)合成；-任選地，在適當(dāng)?shù)娜軇┍热邕拎ぶ?，將其與水反應(yīng)，形成通式(I)的酞菁，其中X1＝X2＝OH；-任選地，用其他所需的鹵化物取代軸向取代基X1＝X2＝鹵素；-任選地，通過與HX1/HX2反應(yīng)，用適當(dāng)?shù)柠u化物取代軸向取代基X1＝X2＝OH。
這些光吸收化合物能夠進(jìn)行熱轉(zhuǎn)變。熱轉(zhuǎn)變優(yōu)選在低于600℃的溫度下進(jìn)行。這樣的轉(zhuǎn)變可以是比如光吸收化合物發(fā)色中心分解或者化學(xué)變化。
所述的光吸收物質(zhì)保證處于未書寫狀態(tài)下光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器足夠高的反射率，以及在用聚焦的藍(lán)色光，特別是用激光，優(yōu)選用具有360～460nm波長的光線進(jìn)行點(diǎn)狀照射時(shí)，對(duì)于信息層熱降解有足夠高的吸收。通過由于在熱降解以后信息層光學(xué)性能改變而造成的入射光振幅反射率和相位的變化，得到在數(shù)據(jù)載體上寫入點(diǎn)和未寫入點(diǎn)之間的反差。
這意味著，優(yōu)選借助于具有360～460nm波長的激光就能夠?qū)鈱W(xué)數(shù)據(jù)載體進(jìn)行寫入和讀出。
同樣，優(yōu)選使具有間隔和幾何形狀的溝槽，與波長和數(shù)值孔徑相匹配，借助于紅外光線，特別是具有760～830nm波長的激光，能夠?qū)鈱W(xué)數(shù)據(jù)載體進(jìn)行寫入和讀出。
本發(fā)明進(jìn)一步提供通式(I)的酞菁作為在光學(xué)存儲(chǔ)介質(zhì)的信息層中光吸收化合物的應(yīng)用。
類似地，本發(fā)明提供通式(I)的酞菁在制造光學(xué)存儲(chǔ)介質(zhì)方面的應(yīng)用。優(yōu)選在該信息層中使用酞菁作為光吸收化合物。
在這些應(yīng)用中特別優(yōu)選使用的酞菁，基于使用的材料，其通式(I)酞菁的含量大于90wt％，特別是大于95wt％，特別優(yōu)選大于98wt％。
很特別優(yōu)選使用通式(Ia)的酞菁，其在X射線衍射圖中在以度(°)度量的2θ下的最大反射如下10.7，11.6，12.2，13.7，14.2，15.0，15.5，15.7，17.5，18.6，19.8，20.3，20.8，21.4，22.5，23.2，23.7，24.5，25.4，26.0，26.4，26.8，27.2，27.5，28.3，29.4，30.2，30.6，31.6，32.4，33.2，33.8，34.8，35.9，36.7同樣地，特別優(yōu)選通式(Ib)的酞菁，其在X射線衍射圖中在以度(°)度量的2θ下的最大反射如下10.6，11.4，11.8，12.3，13.9，14.6，15.3，15.5，17.4，18.4，19.7，20.5，22.3，22.7，23.0，23.4 24.0，24.5，25.5，26.0，26.8，27.4，28.0，29.1，29.6，31.4，33.5，34.5，35.3，35.7，37.3同樣地，特別優(yōu)選通式(Ic)的酞菁，其在X射線衍射圖中在以度(°)度量的2θ下的最大反射如下
8.5，9.4，10.6，12.3，13.1，13.9，15.2，16.0，16.5，16.9，17.5，18.1，19.0，19.4，20.1，20.7，22.4，23.1，23.5，24.2，24.9，26.6，27.7，28.3，28.7，29.4，30.1，30.8，31.7，33.0，34.0，35.0，35.5使用Siemens D 5000型粉末衍射儀，在Cu-Kα輻射的波長下的反射中記錄X射線衍射圖。
本發(fā)明進(jìn)一步提供通式(I)化合物顆粒狀固體制劑，其特征在于，該顆粒的平均顆粒度為0.5μm～10mm。
在顆粒固體制劑的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中，優(yōu)選其平均顆粒度為0.5～20μm，特別是1～10μm的那些(在后面稱之為細(xì)分散粉末)?？梢灾苽浔热缤ㄟ^研磨制備這樣的細(xì)分散粉末。
同樣地，優(yōu)選平均顆粒度50～300μm的顆粒固體制劑，在后面稱之為細(xì)結(jié)晶形式。
進(jìn)一步優(yōu)選的顆粒固體制劑，其平均顆粒度為50μm～10mm，優(yōu)選100μm～800μm，它們形成作為初級(jí)顆粒的附聚體或聚結(jié)體(Konglomerate)的顆粒狀體。這樣的顆粒狀體具有例如液滴狀、覆盆子狀、薄片狀或棒狀，在后面稱之為顆粒狀材料。
細(xì)結(jié)晶形式的顆粒度可以比如通過合成參數(shù)來確定。比如在30～60min的時(shí)間內(nèi)，通過例如迅速加熱將各個(gè)組分(在適當(dāng)溶劑中的鄰苯二甲腈或氨基亞氨基異吲哚和適當(dāng)?shù)慕饘冫u化物)的混合物加熱到反應(yīng)溫度，比如160～220℃，就優(yōu)選形成細(xì)分散形式。當(dāng)在反應(yīng)溫度，比如160～190℃下僅把金屬鹵化物加入到反應(yīng)混合物(在適當(dāng)溶劑中預(yù)先加入鄰苯二甲腈或氨基亞氨基異吲哚)中時(shí)，就得到類似的結(jié)果。通過例如緩慢地，比如在65～250min的時(shí)間內(nèi)將各個(gè)組分的混合物加熱到反應(yīng)溫度，比如160～220℃，優(yōu)選形成粗粒形式。
本發(fā)明的顆粒固體制劑優(yōu)選含有80～100wt％，優(yōu)選95～100wt％的酞菁；0.1～1.0wt％，優(yōu)選0.1～0.5wt％的殘留水分；0～10wt％的無機(jī)鹽；0～10wt％，優(yōu)選0～5wt％的其他添加劑，比如分散劑、表面活性劑和/或潤濕劑，這里在各種情況下，百分比都是以制劑為基礎(chǔ)的，所列各部分的總和為100％。
本發(fā)明的固體制劑優(yōu)選含有低的粉塵含量，是可流動(dòng)的，具有良好的儲(chǔ)存穩(wěn)定性。
此顆粒狀材料可以通過各種方法制備，比如通過噴霧干燥?；?、流化床噴霧造粒、流化床附聚造粒(Wirbelschicht-Aufbau-Granulation)或粉末流化床附聚。
優(yōu)選通過噴霧干燥的方法進(jìn)行造粒，可能的噴霧裝置特別包括旋狀盤式霧化器和單流體和雙流體噴嘴。優(yōu)選使用單流體噴嘴，特別是旋轉(zhuǎn)室噴嘴，它優(yōu)選在20～80bar的進(jìn)料壓力下操作。
噴霧干燥方法的入口和出口溫度取決于所需的殘留水分含量、取決于安全措施，也取決于經(jīng)濟(jì)上的考慮。入口溫度優(yōu)選120～200℃，特別是140～180℃，出口溫度優(yōu)選是40～80℃。
在制造顆粒狀材料時(shí)，一般地將染料濾餅任選地與助劑和添加劑一起放在攪拌容器中進(jìn)行強(qiáng)力混合。優(yōu)選在磨，比如球磨中粉碎懸浮液的晶體，使得得到細(xì)分散的可噴霧懸浮液。
在一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方案中，染料懸浮液是水懸浮液。造粒以噴霧干燥的方法進(jìn)行。
本發(fā)明進(jìn)一步提供像片狀、棒狀等的固體成形體，基于成形體，它含有優(yōu)選高于90wt％，特別高于95wt％，優(yōu)選高于98wt％的通式(I)的酞菁。加入到固體成形體中的其他添加劑可以是粘結(jié)劑。通式(I)的酞菁和粘結(jié)劑的總和優(yōu)選大于95wt％，優(yōu)選大于99wt％。
任選地在粘結(jié)劑存在下，可以比如通過給通式(I)的酞菁加壓來制造這樣的成形體，壓力為5～50bar，優(yōu)選10～20bar。
同樣地，本發(fā)明提供分散液，優(yōu)選提供水分散液，基于分散液，它含有優(yōu)選10～90wt％的通式(I)的金屬絡(luò)合物。適當(dāng)?shù)姆稚┦潜热缁诒┧狨?、尿烷或長鏈聚氧乙烯化合物的聚合物。適當(dāng)?shù)漠a(chǎn)品是比如來自Avecia公司的Solsperse 32000或Solsperse 38000。
本發(fā)明還提供用通式(I)的酞菁涂布基材的方法。這優(yōu)選通過旋涂、濺鍍或真空涂布(Vakuumbedampfung)來進(jìn)行。特別是，通過真空涂布或?yàn)R鍍，特別是真空涂布能夠涂布通式(Ia)、(Ib)、(Ic)和(Id)的酞菁。
通過濺鍍或真空涂布進(jìn)行涂布的原料是所有上述形式的通式(I)的酞菁，即細(xì)分散粉末、細(xì)結(jié)晶形式或顆粒狀材料、顆粒固體制劑、固體成形體和分散液。后者特別用來在表面上細(xì)分散地涂布酞菁，由此通過濺鍍或真空涂布可將它們涂布到基材上。
優(yōu)選為了進(jìn)行這些操作，酞菁的純度高于50％，特別優(yōu)選高于85％，很特別優(yōu)選高于90％，特別是高于95％，或者高于98％。
酞菁可以與互相混合，或者與具有類似光譜性能的其他染料混合。信息層除了酞菁外還可含有添加劑，比如粘結(jié)劑、潤濕劑、穩(wěn)定劑、稀釋劑和增敏劑以及其他組分。
本發(fā)明進(jìn)一步提供在基材上蒸汽沉積光吸收化合物以制造光學(xué)存儲(chǔ)介質(zhì)的設(shè)備，其特征在于，在低的背景壓力下通過加熱可以使染料蒸發(fā)，并將其沉積在基材上。背景壓力低于10-1Pa，優(yōu)選低于10-1Pa，特別優(yōu)選低于10-4Pa。優(yōu)選借助于電阻加熱或者借助于微波吸收來加熱染料。
本發(fā)明特別提供如上所述的光學(xué)數(shù)據(jù)載體，其中通式(I)的光吸收化合物任選地與如上所述的添加劑一起形成信息層，該信息層在光學(xué)上是無定形的。無定形意味著借助于光學(xué)顯微鏡觀察不到微晶，以X射線不能觀察到Bragg-反射，而只能產(chǎn)生無定形暈輪(Halo)。
除了信息層以外，在該光學(xué)數(shù)據(jù)載體中還可以具有其他的層，比如金屬層、介電層和保護(hù)層。金屬層和介電層的作用特別是調(diào)節(jié)反射率和熱吸收/保留性能(Wrmehaushalts)。根據(jù)激光波長不同，金屬可以是金、銀、鋁、合金等。介電層的例子是二氧化硅和氮化硅。保護(hù)層是比如可光固化的涂層、膠粘劑層和保護(hù)膜。
膠粘劑層可以是壓敏的。
壓敏膠粘劑層主要由丙烯酸膠粘劑組成。例如在專利JP-A 11-273,147中公開的Nitto Denko DA-8320或DA-8310可用于此目的。
光學(xué)數(shù)據(jù)載體可具有如下的層結(jié)構(gòu)(參見
圖1)透明基材(1)、任選的保擴(kuò)層(2)、信息層(3)、任選的保護(hù)層(4)、任選的膠粘劑層(5)、覆蓋層(6)。
光學(xué)數(shù)據(jù)載體的結(jié)構(gòu)優(yōu)選可包括-優(yōu)選透明的基材(1)，在其表面上涂布至少一層能夠借助于光線，優(yōu)選激光寫入的可光寫入的信息層(3)，任選地涂布保護(hù)層(4)，任選地涂布膠粘劑層(5)，和涂布透明的覆蓋層(6)。
-優(yōu)選透明的基材(1)，在其表面上涂布保護(hù)層(2)、至少一層能夠借助于光線，優(yōu)選激光寫入的信息層(3)，任選地涂布膠粘劑層(5)，和透明的覆蓋層(6)。
-優(yōu)選透明的基材(1)，在其表面上任選地涂布保護(hù)層(2)、至少一層能夠借助于光線，優(yōu)選激光寫入的的信息層(3)，任選地涂布保護(hù)層(4)，任選地涂布膠粘劑層(5)，和透明的覆蓋層(6)。
-優(yōu)選透明的基材(1)，在其表面上涂布至少一層能夠借助于光線，優(yōu)選激光寫入的信息層(3)，任選地涂布膠粘劑層(5)，和透明的覆蓋層(6)。
另外，此光學(xué)數(shù)據(jù)載體具有比如如下的層結(jié)構(gòu)(參見圖2)優(yōu)選透明的基材(11)、信息層(12)、任選地的反射層(13)、任選地的膠粘劑層(14)、另外的優(yōu)選透明的基材(15)。
另外，此光學(xué)數(shù)據(jù)載體具有比如如下的層結(jié)構(gòu)(參見圖3)優(yōu)選透明的基材(21)、信息層(22)、任選地的反射層(23)、保護(hù)層(24)。
另外，光學(xué)數(shù)據(jù)載體的結(jié)構(gòu)可以-包括多個(gè)信息層，它們優(yōu)選被適當(dāng)?shù)膶臃蛛x。這里特別優(yōu)選的分離層是可光固化的涂層、膠粘劑層、介電層或反射層。
本發(fā)明進(jìn)一步提供按照本發(fā)明的可借助于藍(lán)色光線，特別是激光，特別優(yōu)選是具有360～460nm波長的激光寫入的光學(xué)數(shù)據(jù)載體。
下面的實(shí)施例說明本發(fā)明的主題。
實(shí)施例實(shí)施例1
在高真空(壓力p≈2×10-5mbar)中，從電阻加熱的鉬舟中蒸發(fā)染料二氯硅酞菁(SiCl2Pc)，以大約5/s的速度沉積在預(yù)先開槽的聚碳酸酯基材上。層厚大約70nm。借助于注塑將預(yù)先開槽的聚碳酸酯基材制成盤。盤的直徑是120mm，厚度是0.6mm。在注塑方法中得到的槽結(jié)構(gòu)具有大約1μm間距的音軌，這里槽的深度和半深寬度是大約150nm和大約260nm。通過蒸汽沉積的方法在盤上涂布100nm的Ag，該盤以染料層作為信息載體。然后用旋涂的方法涂布可紫外線固化的丙烯酸類涂料，并借助于紫外燈將其固化。借助于構(gòu)筑在光學(xué)測(cè)試臺(tái)上的動(dòng)態(tài)寫入測(cè)試裝置對(duì)此盤進(jìn)行測(cè)試，該裝置包括產(chǎn)生線性偏振激光的GaN二極管激光器(λ＝405nm)、偏振敏感光束分束器、λ/4板(Plttchen)和數(shù)值孔徑NA＝0.65的可移動(dòng)懸掛集光透鏡(激勵(lì)透鏡(Aktuatorlinse))。借助于上述偏振敏感光束分束器從光路中取出(ausgekoppelt)盤的反射層反射的光線，并借助于象散透鏡聚焦到四象限檢出器上。在線性速度V＝5.24m/s和寫入功率Pw＝13mW下，測(cè)量出信噪比C/N＝25dB。這里寫入功率以脈沖序列的形式施加，用上述寫入功率Pw和讀出功率Pr＝0.44mW交替輻照分別1μs和4μs。該盤用該脈沖序列輻照直至其圍繞自身旋轉(zhuǎn)一次。然后以此產(chǎn)生的標(biāo)記用Pr＝0.44mW讀出，并測(cè)量上述的信噪比C/N。
實(shí)施例2 使用與實(shí)施例1類似的方法，通過蒸汽沉積在具有同樣厚度和槽結(jié)構(gòu)的盤上涂布45nm厚的二氯鍺酞菁染料層。使用同樣的光學(xué)設(shè)備和同樣的寫入策略(寫入功率Pw＝13mW，讀出功率Pr＝0.44mW)，在線性速度V＝4.19m/s測(cè)得信噪比C/N＝46dB。
使用下面實(shí)施例的酞菁類似于實(shí)施例1和實(shí)施例2的操作，這些酞菁顯示出可比擬的性能。
實(shí)施例3 使用與實(shí)施例1類似的方法，通過蒸汽沉積在具有同樣厚度和槽結(jié)構(gòu)的盤上涂布50nm厚的二氯錫酞菁染料層。使用同樣的光學(xué)設(shè)備和同樣的寫入策略(寫入功率Pw＝13mW，讀出功率Pr＝0.44mW)，在線性速度V＝4.19m/s測(cè)得信噪比C/N＝40dB。
實(shí)施例4 使用與實(shí)施例1類似的方法，通過蒸汽沉積在具有同樣厚度和槽結(jié)構(gòu)的盤上涂布60nm厚的二氟硅酞菁染料層。使用同樣的光學(xué)設(shè)備和同樣的寫入策略(寫入功率Pw＝13mW，讀出功率Pr＝0.44mW)，在線性速度V＝4.19m/s測(cè)得信噪比C/N＝43dB。
實(shí)施例5(制造片狀體)在10bar的壓力下，在一般用來制造紅外光譜儀用溴化鉀壓片的KBr壓機(jī)中，給170mg二氯硅酞菁(SiCl2Pc)(其結(jié)構(gòu)式見實(shí)施例1)加壓，形成小片狀體。其直徑1.2mm，厚度0.7～0.8mm。
用同樣的方法可以把通式(Ib)、(Ic)和(Id)的酞菁轉(zhuǎn)變?yōu)槠瑺铙w。
權(quán)利要求
1.包括優(yōu)選是透明的基材的光學(xué)數(shù)據(jù)載體，該基材任選地已被涂布一層或幾層反射層，在基材表面上涂布光可寫信息層，任選地涂布一層或幾層反射層和任選地涂布保護(hù)層或另外的基材或覆蓋層，它可借助于藍(lán)色光線，優(yōu)選是激光，特別優(yōu)選具有360～460nm，特別是380～420nm，很特別優(yōu)選是390～410nm波長的光線，或者借助于紅外光線，優(yōu)選是激光，特別優(yōu)選是具有760～830nm波長的光線寫入和讀出，其中該信息層含有光吸收化合物，任選地還含有膠粘劑，其特征在于，使用至少一種通式(I)的酞菁作為光吸收化合物 其中，Me是選自Si、Ge和Sn的雙軸向取代的金屬原子，Pc是未取代的酞菁，以及X1和X2各自獨(dú)立地表示鹵素，特別是氟、氯或溴。
2.如權(quán)利要求1的光學(xué)數(shù)據(jù)載體，其特征在于，通式I中的基團(tuán)X1和X2各自是氯。
3.如權(quán)利要求1的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器，其特征在于，該光吸收化合物相當(dāng)于至少一種通式(Ia)、(Ib)、(Ic)和(Id)的酞菁
4.通式(I)的酞菁在光學(xué)存儲(chǔ)介質(zhì)的信息層中作為光吸收化合物的用途 其中Me是選自Si、Ge和Sn的雙軸向取代的金屬原子，Pc是未取代的酞菁，以及X1和X2各自獨(dú)立地表示鹵素，特別是氟、氯或溴。
5.如下通式的酞菁用來制造光學(xué)存儲(chǔ)介質(zhì)的用途 其中Me是選自Si、Ge和Sn的雙軸向取代的金屬原子，Pc是未取代的酞菁，以及X1和X2各自獨(dú)立地表示鹵素，特別是氟、氯或溴。
6.如權(quán)利要求5或6的用途，其特征在于，基于使用的材料，使用的酞菁中通式(I)的酞菁含量高于90wt％，特別是高于95wt％，特別優(yōu)選高于98wt％。
7.通式(I)化合物的顆粒固體制劑，其特征在于，該顆粒的平均顆粒度為0.5μm～10mm。
8.如權(quán)利要求7的制劑，其特征在于，該制劑含有80～100wt％，優(yōu)選95～100wt％的酞菁；0.1～1.0wt％，優(yōu)選0.1～0.5wt％的殘留水分；0～10wt％的無機(jī)鹽；0～10wt％，優(yōu)選0～5wt％的其他添加劑，比如分散劑、表面活性劑和/或潤濕劑，這里在各種情況下，百分比各自以制劑為基礎(chǔ)的，所列各部分的總和為100％。
9.含有通式(I)酞菁的固體成形體，比如片狀體、棒狀物等，基于成形體，其含量優(yōu)選高于90wt％，特別高于95wt％，優(yōu)選高于98wt％， 其中，Me是選自Si、Ge和Sn的雙軸向取代的金屬原子，Pc是未取代的酞菁，以及X1和X2各自獨(dú)立地表示鹵素，特別是氟、氯或溴。
10.含有通式(I)的金屬絡(luò)合物的分散液，優(yōu)選是水分散液，基于分散液，其含量優(yōu)選為10～90wt％， 其中，Me是選自Si、Ge和Sn的雙軸向取代的金屬原子，Pc是未取代的酞菁，以及X1和X2各自獨(dú)立地表示鹵素，特別是氟、氯或溴。
11.用通式(I)的酞菁涂布基材的方法， 其中，Me是選自Si、Ge和Sn的雙軸向取代的金屬原子，Pc是未取代的酞菁，以及X1和X2各自獨(dú)立地表示鹵素，特別是氟、氯或溴。
12.如權(quán)利要求1的光學(xué)數(shù)據(jù)載體，它借助于藍(lán)色光線，特別是激光，特別優(yōu)選是具有360～460nm波長的激光寫入。
全文摘要
包括優(yōu)選是透明的基材的光學(xué)數(shù)據(jù)載體，任選在該基材上預(yù)先涂布一層或幾層反射層，在該基材表面上涂布可被光寫入的信息層，任選地涂布一層或幾層反射層和任選涂布保護(hù)層或另外的基材或者覆蓋層，它可借助于藍(lán)色光線，優(yōu)選是激光，或者借助于紅外光線，優(yōu)選是激光寫入和讀出。該信息層含有光吸收化合物，任選含有膠粘劑，其特征在于，使用至少一種通式(I)的酞菁染料作為光吸收化合物，其中，Me是選自Si、Ge和Sn的雙軸向取代的金屬原子；Pc是未取代的酞菁，以及X
文檔編號(hào)G11B7/244GK1545702SQ02816303
公開日2004年11月10日 申請(qǐng)日期2002年8月19日 優(yōu)先權(quán)日2001年8月22日
發(fā)明者H·伯內(nèi)斯, H 伯內(nèi)斯, F·K·布魯?shù)? 布魯?shù)? W·哈塞, 卓, R·哈根, 固贗忻啄, K·哈森雷克, 遣 , S·科斯特托米內(nèi), 仿 , P·蘭登伯格, 斯塔維茨, R·奧塞, T·索梅曼恩, J·W·斯塔維茨 申請(qǐng)人:拜爾化學(xué)品股份公司