專利名稱：光盤設(shè)備和光盤設(shè)備的干擾學(xué)習(xí)方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于學(xué)習(xí)光盤的干擾的光盤設(shè)備。具體來說，本發(fā)明涉及一種光盤設(shè)備以及光盤設(shè)備的干擾學(xué)習(xí)方法，該方法用于通過降低學(xué)習(xí)期間的伺服增益執(zhí)行可靠的干擾學(xué)習(xí)。
背景技術(shù)：
最近，已經(jīng)開發(fā)出了諸如DVD(數(shù)字通用光盤)之類的光盤設(shè)備，并為人們所熟知。在這樣的光盤設(shè)備中，需要更顯著地改進(jìn)操作可靠性。
作為這樣的光盤設(shè)備的一個(gè)示例，在日本專利申請(qǐng)公開出版號(hào)8-77589和9-50303中，說明了一種具有穩(wěn)定控制系統(tǒng)的光盤設(shè)備，該系統(tǒng)用于獲取一個(gè)周期之前的誤差信號(hào)和當(dāng)前誤差信號(hào)之間的關(guān)聯(lián)，當(dāng)這種關(guān)聯(lián)強(qiáng)時(shí)，增大控制系統(tǒng)的增益，或者，當(dāng)關(guān)聯(lián)弱時(shí)降低控制系統(tǒng)的增益，以便不響應(yīng)諸如外部振動(dòng)之類的損害或灰塵和周期性干擾之外的成分。
同樣，在日本專利申請(qǐng)公開出版號(hào)11-86309中，說明了一種學(xué)習(xí)補(bǔ)償器，該補(bǔ)償器包括隨著旋轉(zhuǎn)數(shù)而變化的信號(hào)發(fā)生器電路，學(xué)習(xí)補(bǔ)償器生成用于學(xué)習(xí)的時(shí)間，從而能夠在具有可變旋轉(zhuǎn)數(shù)的光盤設(shè)備中實(shí)現(xiàn)即使旋轉(zhuǎn)數(shù)改變而時(shí)間延遲仍保持恒定的學(xué)習(xí)。
在這些參考專利文獻(xiàn)中說明的現(xiàn)有技術(shù)中，分別使用了重復(fù)學(xué)習(xí)設(shè)備以學(xué)習(xí)隨著光盤旋轉(zhuǎn)生成的干擾成分以便以一種前饋方式補(bǔ)償該成分。
然而，在這些干擾學(xué)習(xí)過程中，存在這樣的問題與控制增益相比較，干擾值比較小，從而無法充分地學(xué)習(xí)。
此外，在光盤設(shè)備具有可變旋轉(zhuǎn)數(shù)的情況下，由于干擾抑制率隨著頻率而變化，定位誤差量隨著頻率而變化，因此，存在無法獲得準(zhǔn)確的干擾值的問題。
此外，在記錄類型的光盤設(shè)備中，由于光盤反射率隨著在目標(biāo)光盤中是否記錄了信息而不同，即，隨著是記錄區(qū)域還是未記錄區(qū)域而不同，因此，控制系統(tǒng)的增益經(jīng)常變化是不可避免的。因此，在記錄類型的光盤中無法獲得準(zhǔn)確的干擾值。
換句話說，在常規(guī)光盤設(shè)備中，由于光盤中的干擾信息值相對(duì)比較小，干擾值受到伺服控制的增益或者光盤的旋轉(zhuǎn)數(shù)的變化的影響。此外，對(duì)于記錄類型的光盤，干擾值還受到記錄區(qū)域和未記錄區(qū)域之間的反射率差異的影響。因此，存在無法執(zhí)行準(zhǔn)確干擾信息的學(xué)習(xí)過程的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目標(biāo)是提供一種光盤設(shè)備和光盤設(shè)備的干擾學(xué)習(xí)方法，以便以逐步的方式降低干擾信息學(xué)習(xí)過程中的服務(wù)控制的補(bǔ)償增益，從而進(jìn)行準(zhǔn)確的干擾學(xué)習(xí)。
為了解決上述問題，提供了根據(jù)本發(fā)明的光盤設(shè)備，其特征在于，包括光學(xué)頭，用于通過使用物鏡向光盤發(fā)出激光束并接收反射光，從而執(zhí)行記錄過程和再現(xiàn)過程中的一個(gè)過程，位置控制部分，用于基于來自光學(xué)頭的檢測(cè)信號(hào)通過補(bǔ)償增益對(duì)光學(xué)頭和物鏡中的至少一個(gè)進(jìn)行位置控制，干擾學(xué)習(xí)部分，用于調(diào)整位置控制部分的補(bǔ)償增益，使用光學(xué)頭檢測(cè)光盤的干擾信息，并將其作為學(xué)習(xí)干擾信息來存儲(chǔ)。
在根據(jù)本發(fā)明的光盤設(shè)備中，如上所述，在光學(xué)頭或物鏡的控制過程中補(bǔ)償增益以逐步的方式降低到這樣的程度，以便控制伺服不會(huì)偏離，從而可以準(zhǔn)確地檢測(cè)細(xì)微的干擾信息，而不會(huì)受到帶有補(bǔ)償增益的控制太大的影響。因此，提供了一種光盤設(shè)備和光盤設(shè)備的干擾學(xué)習(xí)方法，通過使用準(zhǔn)確地檢測(cè)到學(xué)習(xí)干擾信息來執(zhí)行跟蹤控制或焦距控制，能夠進(jìn)行準(zhǔn)確的跟蹤控制或焦距控制，克服光盤特定的每一周期的干擾，即，光盤偏心或軸向跳轉(zhuǎn)。


圖1是顯示根據(jù)本發(fā)明的第一個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備的配置示例的方框圖；圖2是顯示根據(jù)本發(fā)明的第一個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備的另一個(gè)配置示例的方框圖；圖3是顯示根據(jù)本發(fā)明的第一個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備中的光學(xué)頭的物鏡和光盤之間的關(guān)系的圖表；圖4是顯示根據(jù)本發(fā)明的第一個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備中的光學(xué)頭的光學(xué)系統(tǒng)的配置圖表；圖5是顯示根據(jù)本發(fā)明的第一個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備的另一個(gè)配置示例的方框圖；圖6是用于說明根據(jù)本發(fā)明的第一個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備的干擾學(xué)習(xí)過程的流程圖；圖7是說明根據(jù)本發(fā)明的第一個(gè)實(shí)施例的伺服增益和相位之間的關(guān)系的圖形；圖8是用于詳細(xì)說明根據(jù)本發(fā)明的第一個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備中的跟蹤干擾的干擾學(xué)習(xí)過程的流程圖；圖9是用于詳細(xì)說明根據(jù)本發(fā)明的第一個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備中的聚焦干擾的干擾學(xué)習(xí)過程的流程圖；圖10是說明根據(jù)本發(fā)明的第一個(gè)實(shí)施例的伺服增益和相位之間的關(guān)系的圖形；圖11是顯示根據(jù)本發(fā)明的第一個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備中的相位調(diào)整器的配置示例的方框圖；圖12是顯示根據(jù)本發(fā)明的第二個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備中的光點(diǎn)示例的圖表；圖13是顯示根據(jù)本發(fā)明的第二個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備中的用于從學(xué)習(xí)干擾信息中消除記錄區(qū)域/未記錄區(qū)域所產(chǎn)生的影響的增益調(diào)整器的配置示例的方框圖；圖14是顯示根據(jù)本發(fā)明的第二個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備中的用于從學(xué)習(xí)干擾信息中消除記錄區(qū)域/未記錄區(qū)域所產(chǎn)生的影響的增益調(diào)整器的配置示例的方框圖；圖15是顯示在根據(jù)本發(fā)明的第二個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備中從學(xué)習(xí)干擾信息中消除記錄區(qū)域/未記錄區(qū)域所產(chǎn)生的影響的增益調(diào)整器的過程的圖形；圖16是顯示在根據(jù)本發(fā)明的第三個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備中使用學(xué)習(xí)干擾信息進(jìn)行跳轉(zhuǎn)判斷的配置示例的方框圖；圖17是用于說明在根據(jù)本發(fā)明的第三個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備中使用學(xué)習(xí)干擾信息的跳轉(zhuǎn)過程的流程圖；圖18是用于說明在根據(jù)本發(fā)明的第三個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備中使用有關(guān)偏心的學(xué)習(xí)干擾信息的跳轉(zhuǎn)過程的圖形和時(shí)間圖；圖19是用于說明在根據(jù)本發(fā)明的第三個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備中使用有關(guān)軸向跳轉(zhuǎn)的學(xué)習(xí)干擾信息的跳轉(zhuǎn)過程的圖形和時(shí)間圖；圖20是用于說明在根據(jù)本發(fā)明的第三個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備中使用有關(guān)偏心的學(xué)習(xí)干擾信息和有關(guān)軸向跳轉(zhuǎn)的學(xué)習(xí)干擾信息的跳轉(zhuǎn)過程的圖形和時(shí)間圖；圖21是用于說明在根據(jù)本發(fā)明的第三個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備中使用有關(guān)偏心的學(xué)習(xí)干擾信息和有關(guān)軸向跳轉(zhuǎn)的學(xué)習(xí)干擾信息的層間跳轉(zhuǎn)過程的流程圖；圖22是用于說明在根據(jù)本發(fā)明的第三個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備中使用有關(guān)軸向跳轉(zhuǎn)的學(xué)習(xí)干擾信息執(zhí)行傾斜調(diào)整的過程的圖形和時(shí)間圖；圖23是顯示在根據(jù)本發(fā)明的第三個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備中使用學(xué)習(xí)干擾信息和非恒定干擾信息獲取和應(yīng)用伺服操作的配置示例的方框圖；圖24是用于說明在根據(jù)本發(fā)明的第三個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備中使用學(xué)習(xí)干擾信息和非恒定干擾信息獲取和應(yīng)用伺服操作的流程圖；以及圖25是顯示在根據(jù)本發(fā)明的第四個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備中對(duì)應(yīng)于伺服增益的增大的相位補(bǔ)償?shù)膱D形。
具體實(shí)施例方式
下面將參考附圖詳細(xì)描述根據(jù)本發(fā)明的光盤設(shè)備的優(yōu)選的實(shí)施例。
<根據(jù)本發(fā)明的光盤設(shè)備>
下面將就根據(jù)本發(fā)明的第一個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備的配置進(jìn)行描述。圖1是顯示根據(jù)本發(fā)明的第一個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備的配置示例的方框圖。圖2是顯示根據(jù)本發(fā)明的第一個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備的另一個(gè)配置示例的方框圖。圖3是顯示光學(xué)頭的物鏡和光盤之間的關(guān)系的圖表。圖4是光學(xué)頭的光學(xué)系統(tǒng)的配置圖表。圖5是顯示根據(jù)本發(fā)明的第一個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備的另一個(gè)配置示例的方框圖。
將由本發(fā)明的第一個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備處理的光盤“d”是包括相變記錄層作為記錄層的可重寫類型的光盤或只再現(xiàn)光盤，如圖2所示。此光盤是一個(gè)具有第一記錄層3和第二記錄層4的記錄介質(zhì)，在其中通過根據(jù)本發(fā)明的光盤設(shè)備具有的物鏡5聚焦的光束進(jìn)行信息記錄/再現(xiàn)。光盤“d”由光盤設(shè)備具有的主軸電機(jī)2旋轉(zhuǎn)地進(jìn)行控制。具體來說，在進(jìn)行信息記錄時(shí)，使用ZCLV(分區(qū)恒定線速度)方案等等來使旋轉(zhuǎn)線速度保持恒定。
此外，在圖1所示的根據(jù)本發(fā)明的光盤設(shè)備中，光學(xué)頭10向光盤的預(yù)先確定的記錄層發(fā)出具有預(yù)先確定的波長(zhǎng)的激光束，從而執(zhí)行記錄(標(biāo)記形成)。此記錄是通過具有有關(guān)記錄標(biāo)記的邊緣的信息的標(biāo)記長(zhǎng)度記錄方案進(jìn)行的。從光學(xué)頭10上提供的激光源發(fā)出的激光經(jīng)過校準(zhǔn)成為平行光，以通過光學(xué)元件(未顯示)入射到光學(xué)校正機(jī)構(gòu)8。此光學(xué)校正機(jī)構(gòu)8通過中繼透鏡或液晶元件執(zhí)行象差校正，以便在記錄層中形成的光點(diǎn)沒有球面象差。經(jīng)過此光學(xué)象差校正機(jī)構(gòu)8校正的光束進(jìn)一步通過上升鏡7入射到物鏡5以在光盤“d”的預(yù)先確定的信息記錄面上形成光點(diǎn)。另一方面，從信息記錄面上反射的光束部分地再次通過上升鏡7入射到光檢測(cè)器9。此光檢測(cè)器9通過分成許多單元的檢測(cè)元件的光電轉(zhuǎn)換來檢測(cè)與聚焦在信息記錄面上的光點(diǎn)的目標(biāo)位置有關(guān)的位置誤差。此位置誤差包括用于形成與信息記錄面有關(guān)的聚焦的光點(diǎn)的焦點(diǎn)位置誤差，信息槽位置誤差、傾斜誤差和球面象差。
在信息記錄面上形成用于執(zhí)行信息記錄/再現(xiàn)的信息槽。與此目標(biāo)槽有關(guān)的光盤徑向中的位置偏差就是信息槽位置誤差。傾斜誤差是物鏡5發(fā)出的光束的光軸和光盤“d”的法線之間的偏移角。如果此角比較大，就會(huì)在光點(diǎn)中發(fā)生彗形象差，從而光點(diǎn)質(zhì)量就會(huì)降低。最后，球面象差是同樣也會(huì)降低光點(diǎn)的質(zhì)量的象差，是由于物鏡5聚焦的波面與球面發(fā)生偏離而產(chǎn)生的。
在光盤設(shè)備中，上述各種位置誤差是通過定位誤差檢測(cè)電路16并使用光檢測(cè)器10、微分電路11等等檢測(cè)的。然后，由補(bǔ)償控制器20計(jì)算對(duì)應(yīng)于相應(yīng)的定位誤差的控制操作量，以便形成適當(dāng)?shù)墓恻c(diǎn)。然后，控制操作量分別被輸入到光學(xué)校正機(jī)構(gòu)控制電路21、焦距機(jī)構(gòu)控制電路22、準(zhǔn)確定位機(jī)構(gòu)控制電路23、粗定位機(jī)構(gòu)控制電路15和傾斜調(diào)整機(jī)構(gòu)控制電路24。
這些控制電路分別控制光學(xué)校正機(jī)構(gòu)8、物鏡定位機(jī)構(gòu)6和粗定位機(jī)構(gòu)12的驅(qū)動(dòng)，以便在目標(biāo)位置正確地形成光點(diǎn)。然后，微分電路11的輸出被提供到速度檢測(cè)器13和定位誤差檢測(cè)電路16，后者的輸出被提供到記錄/未記錄判斷電路31。速度檢測(cè)器13的輸出被提供到放大器14，然后輸入到粗定位機(jī)構(gòu)控制電路15。粗定位機(jī)構(gòu)控制電路15控制粗定位機(jī)構(gòu)12的驅(qū)動(dòng)。
然后，定位誤差檢測(cè)電路16的輸出被提供到加法判斷電路17和系統(tǒng)控制器30，而系統(tǒng)控制器30控制總體操作。加法判斷電路17的判斷輸出被提供到干擾學(xué)習(xí)控制器19和增益調(diào)整器18。此外，干擾學(xué)習(xí)控制器19連接到干擾學(xué)習(xí)存儲(chǔ)設(shè)備25，并由系統(tǒng)控制器30進(jìn)行控制。增益調(diào)整器18的輸出被提供到補(bǔ)償控制器20，在此根據(jù)調(diào)整的控制增益執(zhí)行焦距控制、跟蹤控制、傾斜控制等等。然后，與主軸電機(jī)2同軸的旋轉(zhuǎn)角編碼器26的輸出分別被提供到干擾學(xué)習(xí)控制器19和干擾學(xué)習(xí)存儲(chǔ)設(shè)備25。
此外，用于根據(jù)增益調(diào)整器18調(diào)整的增益調(diào)整相位的相位調(diào)整器50由系統(tǒng)控制器30進(jìn)行控制，以調(diào)整增益調(diào)整器18的增益的相位。
除光學(xué)頭10的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的這樣的配置之外，光盤設(shè)備還具有記錄過程系統(tǒng)、再現(xiàn)過程系統(tǒng)和控制系統(tǒng)的配置(未顯示)。換句話說，此光盤設(shè)備具有數(shù)據(jù)再現(xiàn)電路，該電路是連接到光學(xué)頭10的再現(xiàn)過程系統(tǒng)的電路，激光控制電路，該電路是記錄過程系統(tǒng)的電路，它控制光學(xué)頭10中包含的半導(dǎo)體激光二極管的光發(fā)射，接口電路，該電路與CPU、作為存儲(chǔ)區(qū)域的RAM或ROM以及外部設(shè)備等等進(jìn)行數(shù)據(jù)通信，CPU是控制這些操作的控制部分的組成元件。
此外，圖2還顯示了干擾學(xué)習(xí)控制器19的配置示例。此控制器具有時(shí)間間隔計(jì)數(shù)器54，該計(jì)數(shù)器接收旋轉(zhuǎn)角編碼器26的輸出，向其提供計(jì)數(shù)器的輸出的學(xué)習(xí)系數(shù)設(shè)置電路55，和向其提供設(shè)置電路的輸出的增益校正器53。此外，干擾學(xué)習(xí)控制器19進(jìn)一步具有濾波電路51，該電路接收來自增益調(diào)整器18的輸出和學(xué)習(xí)系數(shù)設(shè)置電路55的輸出，臨時(shí)存儲(chǔ)電路52，該電路接收濾波電路51的輸出，以及增益校正器53，該校正器接收存儲(chǔ)電路52的輸出。此外，臨時(shí)存儲(chǔ)電路52連接到干擾學(xué)習(xí)存儲(chǔ)設(shè)備25，并與其交換學(xué)習(xí)干擾信息。
此外，圖3還顯示了根據(jù)本發(fā)明的第一個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備中的光學(xué)頭的物鏡和光盤之間的關(guān)系。圖4顯示了根據(jù)本發(fā)明的光盤設(shè)備中的光學(xué)頭10的詳細(xì)的光學(xué)系統(tǒng)配置。在圖3中，光盤“d”在一面上具有兩個(gè)信息記錄層3和4。每一個(gè)信息記錄層的信息槽都具有單螺旋凹槽結(jié)構(gòu)64，能夠連續(xù)地從內(nèi)周邊記錄到外周邊。這里顯示了來自物鏡5的激光形成的主光點(diǎn)61和子光點(diǎn)62和63。此外，在圖4中，從激光源28發(fā)出的激光被光學(xué)校正機(jī)構(gòu)使用中繼透鏡8以光學(xué)方法進(jìn)行調(diào)整。此外，使用了一個(gè)半棱鏡29以便將反射光從光盤“d”傳播到誤差信號(hào)檢測(cè)系統(tǒng)。
<第一個(gè)實(shí)施例>
第一個(gè)實(shí)施例是本發(fā)明的基本實(shí)施例，提供了一種光盤設(shè)備，用于降低光盤的干擾學(xué)習(xí)過程中的焦距控制或跟蹤控制的補(bǔ)償增益，從而準(zhǔn)確地檢測(cè)細(xì)微的干擾。圖6是用于說明根據(jù)本發(fā)明的第一個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備的干擾學(xué)習(xí)過程的流程圖。圖7是說明伺服增益和相位之間的關(guān)系的圖形。圖8是用于詳細(xì)說明跟蹤干擾的干擾學(xué)習(xí)過程的流程圖。圖9是用于詳細(xì)說明焦距干擾的干擾學(xué)習(xí)過程的流程圖。圖10是說明伺服增益和相位之間的關(guān)系的圖形。圖11是用于說明根據(jù)本發(fā)明的第一個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備中的相位調(diào)整器的配置示例的方框圖。(根據(jù)本發(fā)明的干擾學(xué)習(xí)過程的概述)下面將概述根據(jù)本發(fā)明的干擾學(xué)習(xí)過程。根據(jù)本發(fā)明的干擾學(xué)習(xí)過程具有焦距干擾學(xué)習(xí)和跟蹤干擾學(xué)習(xí)兩個(gè)方面。執(zhí)行這兩個(gè)學(xué)習(xí)過程之后，可以基于獲得的焦距學(xué)習(xí)干擾信息和跟蹤學(xué)習(xí)干擾信息執(zhí)行基于干擾信息的準(zhǔn)確的焦距控制或跟蹤控制。然而，即使執(zhí)行了這兩個(gè)干擾學(xué)習(xí)過程的任何一個(gè)，也能實(shí)現(xiàn)基于學(xué)習(xí)的干擾信息的準(zhǔn)確的控制，并不總是需要同時(shí)執(zhí)行這兩個(gè)過程。
此外，原則上，最好是根據(jù)本發(fā)明的干擾學(xué)習(xí)在光盤設(shè)備沒有執(zhí)行記錄過程和再現(xiàn)過程時(shí)執(zhí)行。然而，這并不意味著，干擾學(xué)習(xí)無法與記錄過程和再現(xiàn)過程同時(shí)執(zhí)行。
現(xiàn)在，將就跟蹤干擾學(xué)習(xí)過程在焦距干擾學(xué)習(xí)過程之后執(zhí)行的情況進(jìn)行描述。當(dāng)光盤“d”被插入光盤設(shè)備之后，通過驅(qū)動(dòng)物鏡定位機(jī)構(gòu)執(zhí)行用于檢測(cè)焦距誤差信號(hào)的焦距搜索操作，然后獲得用于任意信息記錄層的焦距定位。在此焦距定位控制執(zhí)行之后，干擾學(xué)習(xí)控制器在焦距方向起作用。
現(xiàn)在，將就使用本發(fā)明的干擾學(xué)習(xí)控制器的干擾信息的學(xué)習(xí)順序進(jìn)行描述。一般而言，在光盤被插入之后，光學(xué)頭10被立即定位在光盤的內(nèi)周邊。在光學(xué)頭被定位在內(nèi)周邊的狀態(tài)下，在沒有立即請(qǐng)求信息記錄/再現(xiàn)操作的情況下，根據(jù)下列順序執(zhí)行學(xué)習(xí)焦距方向的干擾信息的過程。
在焦距方向的學(xué)習(xí)干擾信息的過程是由增益調(diào)整器18和補(bǔ)償控制器20通過降低定位控制系統(tǒng)的增益(具體來說，光盤旋轉(zhuǎn)數(shù)的附近的增益)來執(zhí)行的。此時(shí)依據(jù)干擾狀態(tài)判斷要降低的增益。在光學(xué)頭受控制而被定位在內(nèi)周邊的狀態(tài)下，導(dǎo)致焦距定位控制的干擾的軸向跳轉(zhuǎn)沒有比較大的干擾，因此可以將增益降低到比較小的增益。然而，此時(shí)，需要將增益設(shè)置到一個(gè)值以便焦距定位不偏離。只要建立了干擾比較小的理想狀態(tài)，便可以至少在光盤旋轉(zhuǎn)頻率的附近將增益降低到抑制率大約為60dB的控制系統(tǒng)。
此時(shí)，由于在常規(guī)焦距定位控制系統(tǒng)中光盤旋轉(zhuǎn)頻率附近的抑制率被設(shè)置為大約80dB，因此，增益被設(shè)置為大約1/10。此調(diào)整是由增益調(diào)整器18通過重復(fù)地執(zhí)行將設(shè)置增益設(shè)置為大約70％的工作來獲得的。結(jié)果，通過將此工作重復(fù)六次，獲得1/10的增益，定位誤差被增加到大約10倍。然而，在確認(rèn)焦距定位誤差在預(yù)先確定的值范圍之內(nèi)的同時(shí)判斷此降低的極限。在超過預(yù)先確定的值的情況下，增益限制停止。
在增益如此降低的狀態(tài)下，濾波電路51傳遞低通頻率頻率成分，具體來說，只傳遞旋轉(zhuǎn)周期的干擾成分。此干擾成分是按主軸電機(jī)2上提供的旋轉(zhuǎn)角編碼器26的輸出時(shí)序采樣的，并輸入和存儲(chǔ)在臨時(shí)存儲(chǔ)電路52中。此采樣過程以旋轉(zhuǎn)角編碼器26的精度執(zhí)行。濾波電路51的濾波特征由學(xué)習(xí)系數(shù)設(shè)置電路55基于時(shí)間間隔計(jì)數(shù)器54中的信息進(jìn)行自適應(yīng)調(diào)整，時(shí)間間隔計(jì)數(shù)器54測(cè)量旋轉(zhuǎn)角編碼器26的輸出的時(shí)間間隔。具體來說，當(dāng)編碼器輸出的時(shí)間間隔增大時(shí)，就可以判斷光盤旋轉(zhuǎn)頻率降低，以便濾波器截止頻率還設(shè)置到一個(gè)較低的值。此外，同時(shí)，在學(xué)習(xí)系數(shù)設(shè)置電路55中，就時(shí)間間隔計(jì)數(shù)器54測(cè)量的光盤旋轉(zhuǎn)頻率是否比物鏡定位機(jī)構(gòu)6的主諧振頻率ω0高進(jìn)行判斷。
由于存儲(chǔ)在此臨時(shí)存儲(chǔ)電路52中的干擾信息是作為旋轉(zhuǎn)角編碼器26的輸出的采樣的值獲得的，如果旋轉(zhuǎn)角編碼器具有光盤每旋轉(zhuǎn)一周輸出12個(gè)脈沖的分辨率，則編碼器存儲(chǔ)12個(gè)數(shù)據(jù)項(xiàng)。存儲(chǔ)在此臨時(shí)存儲(chǔ)電路52中的干擾信息被特別分成用于判斷干擾相位的相位信息和振幅信息。作為對(duì)應(yīng)于光盤旋轉(zhuǎn)一周的軸向跳轉(zhuǎn)干擾信息，增益調(diào)整器18的值和光盤旋轉(zhuǎn)頻率(主軸電機(jī)2的旋轉(zhuǎn)數(shù))的值一起存儲(chǔ)在干擾學(xué)習(xí)存儲(chǔ)設(shè)備25中。
如此，利用根據(jù)本發(fā)明的干擾學(xué)習(xí)控制器19，通過降低定位控制系統(tǒng)改進(jìn)了靈敏度，并存儲(chǔ)干擾信息，如此可以以比較高的精度存儲(chǔ)干擾信息。
在如上所述學(xué)習(xí)了焦距方向的干擾信息之后，執(zhí)行跟蹤方向的干擾信息的學(xué)習(xí)過程。在提供了焦距控制的狀態(tài)下，當(dāng)執(zhí)行縮回任意信息槽的操作時(shí)，信息槽定位控制系統(tǒng)進(jìn)入其操作狀態(tài)。在此狀態(tài)下，與焦距控制系統(tǒng)的情況相同，補(bǔ)償控制器20的增益，具體來說，當(dāng)分別提供低通補(bǔ)償濾波器時(shí)的低通補(bǔ)償濾波器的增益被增益調(diào)整器18以逐步的方式降低。在確認(rèn)信息槽定位誤差在預(yù)先確定的值范圍之內(nèi)的同時(shí)判斷此降低的極限。如果超過了預(yù)先確定的值，則增益調(diào)整停止，與焦距干擾學(xué)習(xí)的情況相同，執(zhí)行跟蹤干擾信息的學(xué)習(xí)過程。由于該情況下的操作與焦距干擾信息學(xué)習(xí)的情況相同，這里將省略詳細(xì)說明。
此外，在目標(biāo)光盤具有許多信息記錄層的情況下，對(duì)于相應(yīng)的信息記錄層分別執(zhí)行跟蹤方向的干擾信息的學(xué)習(xí)過程。
在如上所述的焦距方向的干擾信息學(xué)習(xí)過程已經(jīng)在光盤的內(nèi)周邊執(zhí)行的情況下，可以使用在外周邊同樣執(zhí)行焦距控制干擾信息的學(xué)習(xí)過程的配置。在這種情況下，可以基于在內(nèi)周邊和外周邊學(xué)習(xí)到的干擾信息用算術(shù)方法估計(jì)任意的徑向位置的焦距干擾信息。
在上文中給出了具有單螺旋凹槽結(jié)構(gòu)的光盤的描述，但在對(duì)于具有凸起和凹槽結(jié)構(gòu)的光盤學(xué)習(xí)干擾信息的情況下，可以根據(jù)完全相同的順序進(jìn)行學(xué)習(xí)。
(基于學(xué)習(xí)干擾信息的控制操作)
如上所述獲得的學(xué)習(xí)干擾信息在設(shè)置了基于干擾學(xué)習(xí)的控制補(bǔ)償模式的情況下被用作用于監(jiān)視臨時(shí)存儲(chǔ)電路52所學(xué)習(xí)的干擾信息的信息。存儲(chǔ)在此臨時(shí)存儲(chǔ)電路52中的，并作為旋轉(zhuǎn)角編碼器26的輸出的采樣的值獲得的干擾信息，被通過增益校正器53與光盤“d”的旋轉(zhuǎn)同步輸出。下面將就此監(jiān)視操作和在設(shè)置了干擾控制補(bǔ)償模式的情況下增益校正器53的操作進(jìn)行描述。
首先，在設(shè)置了基于干擾學(xué)習(xí)的控制補(bǔ)償模式的情況下，增益調(diào)整器18被設(shè)置在本質(zhì)上應(yīng)該設(shè)置的高增益。在描述焦距控制系統(tǒng)中的學(xué)習(xí)控制操作時(shí)，此時(shí)焦距定位誤差是作為比較小的值獲得的，由定位誤差檢測(cè)電路16檢測(cè)到，并輸入到加法判斷電路17。另一方面，穿過加法判斷電路17的定位誤差量被輸入到增益調(diào)整器18。此光盤的一周之前的定位誤差量是通過濾波電路51按旋轉(zhuǎn)角編碼器的輸出時(shí)序采樣的，并存儲(chǔ)在臨時(shí)存儲(chǔ)電路52中。在干擾控制補(bǔ)償模式下，存儲(chǔ)在此臨時(shí)存儲(chǔ)電路52中的光盤的一周之前的干擾信息由加法判斷電路17通過增益校正器53相加。在干擾學(xué)習(xí)控制模式下，干擾學(xué)習(xí)控制是根據(jù)此順序進(jìn)行的。
此時(shí)，旋轉(zhuǎn)角編碼器的輸出時(shí)間間隔由時(shí)間間隔計(jì)數(shù)器54進(jìn)行測(cè)量。在判斷此測(cè)量的時(shí)間間隔是作為不同于存儲(chǔ)在干擾學(xué)習(xí)存儲(chǔ)設(shè)備25中的時(shí)間間隔的一個(gè)值獲得的情況下，判斷光盤旋轉(zhuǎn)數(shù)已經(jīng)改變，以便輸入到加法判斷電路17的干擾信息的增益由增益校正器53進(jìn)行校正。這種校正操作是基于關(guān)于光盤旋轉(zhuǎn)頻率相對(duì)于以前存儲(chǔ)的物鏡定位機(jī)構(gòu)6的主諧振頻率ω0是大還是小的判斷進(jìn)行的。在判斷光盤旋轉(zhuǎn)頻率較大的情況下，基于測(cè)量的旋轉(zhuǎn)頻率ωd和定位機(jī)構(gòu)的主諧振頻率ω0之間的關(guān)系作為cd2/ω02倍數(shù)獲得的一個(gè)值通過與以前的增益值相加來進(jìn)行校正。另一方面，在判斷光盤旋轉(zhuǎn)頻率低于主諧振頻率ω0的情況下，則不進(jìn)行增益校正。
此外，這里，可以提供一種光盤設(shè)備，以在對(duì)應(yīng)于每一旋轉(zhuǎn)頻率的許多區(qū)域分別存儲(chǔ)學(xué)習(xí)干擾信息，同時(shí)它使用學(xué)習(xí)干擾信息，有選擇地從對(duì)應(yīng)于每一旋轉(zhuǎn)頻率的區(qū)域讀取學(xué)習(xí)干擾信息，以便進(jìn)行增益控制。
(旋轉(zhuǎn)信息檢測(cè)器)此外，在圖1所示的光盤設(shè)備中，可以提供一個(gè)檢測(cè)器41，用于檢測(cè)數(shù)據(jù)信號(hào)中的旋轉(zhuǎn)信息，而不是如圖5所示的旋轉(zhuǎn)角編碼器26。這種旋轉(zhuǎn)信息檢測(cè)器41從光學(xué)頭10檢測(cè)到的檢測(cè)信號(hào)中檢測(cè)旋轉(zhuǎn)信息，干擾學(xué)習(xí)控制器19或干擾學(xué)習(xí)存儲(chǔ)設(shè)備25在此旋轉(zhuǎn)信息給定的時(shí)間進(jìn)行干擾信息學(xué)習(xí)。由于可以不提供編碼器26，機(jī)械負(fù)擔(dān)可以降低，部件的成本也可以降低。
(根據(jù)本發(fā)明的干擾學(xué)習(xí)過程的流程圖)現(xiàn)在，將使用三個(gè)流程圖進(jìn)一步詳細(xì)描述上述干擾學(xué)習(xí)過程的操作。圖6是用于說明根據(jù)本發(fā)明的第一個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備的干擾學(xué)習(xí)過程的流程圖。圖7是說明伺服增益和相位之間的關(guān)系的圖形。圖8是用于詳細(xì)說明跟蹤干擾的干擾學(xué)習(xí)過程的流程圖。圖9是用于詳細(xì)說明焦距干擾的干擾學(xué)習(xí)過程的流程圖。
下面將通過流程圖概述根據(jù)本發(fā)明的干擾學(xué)習(xí)過程。在圖6的流程圖中，當(dāng)從系統(tǒng)端發(fā)出諸如暫停模式之類的等待指令時(shí)(ST1)時(shí)，設(shè)置用于開始干擾學(xué)習(xí)的模式(ST2)。在設(shè)置了進(jìn)行此干擾學(xué)習(xí)的此模式之后，首先學(xué)習(xí)有關(guān)跟蹤干擾的信息(ST3)，就目標(biāo)光盤是否為雙層光盤進(jìn)行判斷(ST4)。-在目標(biāo)光盤是單層光盤的情況下，所學(xué)習(xí)到的跟蹤干擾信息與有關(guān)學(xué)習(xí)過程中的光盤旋轉(zhuǎn)頻率的信息一起存儲(chǔ)(ST5)。此外，在目標(biāo)光盤是雙層光盤的情況下，所學(xué)習(xí)到的跟蹤干擾信息作為有關(guān)對(duì)應(yīng)的層的跟蹤干擾信息存儲(chǔ)在對(duì)應(yīng)于在其中進(jìn)行了此學(xué)習(xí)過程的那一層的存儲(chǔ)區(qū)域(ST10)。
此后，在連續(xù)地進(jìn)行焦距干擾信息學(xué)習(xí)的情況下，跟蹤控制被關(guān)閉，建立了不提供跟蹤控制的狀態(tài)(ST6)。在此狀態(tài)下，學(xué)習(xí)焦距干擾信息(ST7)，焦距干擾信息與有關(guān)學(xué)習(xí)過程中的光盤旋轉(zhuǎn)頻率的信息記錄在一起(ST8)，干擾學(xué)習(xí)過程結(jié)束(ST9)。
在執(zhí)行干擾學(xué)習(xí)過程時(shí)光盤旋轉(zhuǎn)頻率記錄在一起的的原因是，如圖7所示，跟蹤和焦距控制系統(tǒng)的開路特征是每一個(gè)都具有隨頻率不同而不同的增益。因此，在光盤以一個(gè)比定位傳動(dòng)器的主諧振頻率ω0高的頻率(例如，圖中的ωd)旋轉(zhuǎn)的情況下，需要根據(jù)上述旋轉(zhuǎn)頻率執(zhí)行學(xué)習(xí)干擾信息的補(bǔ)償。
(根據(jù)本發(fā)明的跟蹤干擾學(xué)習(xí)過程和焦距干擾學(xué)習(xí)過程的流程圖)下面將參考圖8和圖9的流程圖詳細(xì)描述上述跟蹤干擾學(xué)習(xí)過程和焦距干擾學(xué)習(xí)過程。
在圖8的流程圖所示的跟蹤干擾學(xué)習(xí)過程中，當(dāng)首先開始學(xué)習(xí)時(shí)(ST11)，禁止信息槽跳轉(zhuǎn)，建立起與信息槽一致的跟蹤模式，同時(shí)，執(zhí)行已知干擾的消除過程(ST12)。已知干擾表示由嵌入在光盤中的地址信息所引起的干擾。執(zhí)行上述過程是為了消除諸如信息槽跳轉(zhuǎn)或地址信息干擾之類的頻率同步的偏心干擾之外的信息。在執(zhí)行此過程之后，增益調(diào)整器18降低跟蹤伺服增益(ST13)。
然后，在增益降低的此狀態(tài)下，由相位調(diào)整器50在控制帶寬附近調(diào)整一些kHz的相位補(bǔ)償，以便穩(wěn)定地維護(hù)一個(gè)相位余量(ST14)。如圖10所示，由增益調(diào)整器18降低的增益(實(shí)線)在-180度附近具有一個(gè)表示其相位(下面的圖形中的虛線)的值，相位余量被消除，從而導(dǎo)致不穩(wěn)定的運(yùn)轉(zhuǎn)。這里，由相位調(diào)整器50執(zhí)行對(duì)應(yīng)于增益降低的相位補(bǔ)償，從而可以在維護(hù)相位余量的同時(shí)只降低DC增益。
當(dāng)如此由相位調(diào)整器50執(zhí)行相位調(diào)整時(shí)，可以采樣到預(yù)先確定的時(shí)間的定位誤差信號(hào)的最大值和最小值(ST15)。最好是通過光盤的一周或多周執(zhí)行此采樣，但也可以設(shè)置1/2周的采樣，以便縮短測(cè)量時(shí)間。如此，可以測(cè)量到定位誤差信號(hào)的最大值和最小值。此時(shí)，如果跟蹤控制偏離，則增益被過度地降低。在此情況下，再次增大增益，再次調(diào)整相位調(diào)整器50(ST17)，執(zhí)行跟蹤控制的縮回(ST16)，以便再次測(cè)量定位誤差信號(hào)的最大值和最小值。在此測(cè)量時(shí)段內(nèi)，當(dāng)確認(rèn)跟蹤控制沒有偏離(ST18)時(shí)，就定位誤差信號(hào)的最大值或最小值的絕對(duì)值是否超過預(yù)先確定的范圍進(jìn)行判斷(ST19)。如果判斷超過了預(yù)先確定的范圍，則判斷是否符合可以以高S/N比檢測(cè)干擾信息的條件。最好是用于執(zhí)行此判斷的預(yù)先確定的范圍被設(shè)置為大約可以作為定位誤差信號(hào)獲得的最大值的1/4到1/2。
根據(jù)這樣的流程圖中顯示的過程，干擾信息是在以高S/N比檢測(cè)跟蹤干擾的條件下學(xué)習(xí)的(ST20)。在此跟蹤干擾學(xué)習(xí)過程中，在跟蹤控制偏離的情況下(ST21)，過程返回到步驟(ST17)，再次增大增益，再次進(jìn)行學(xué)習(xí)。如果跟蹤控制沒有偏離，則跟蹤干擾學(xué)習(xí)結(jié)束(ST22)。
同樣，根據(jù)如圖9所示的流程圖學(xué)習(xí)焦距干擾信息。換句話說，在焦距干擾學(xué)習(xí)過程中，當(dāng)如圖9的流程圖所示首先開始學(xué)習(xí)時(shí)(ST30)，執(zhí)行已知干擾的消除過程(ST31)。在執(zhí)行此過程之后，增益調(diào)整器18降低焦距伺服增益(ST32)。
然后，在增益降低的此狀態(tài)下，由相位調(diào)整器50在控制帶寬附近調(diào)整一些kHz的相位補(bǔ)償?shù)膮?shù)，以便穩(wěn)定地維護(hù)一個(gè)相位余量(ST33)。
當(dāng)由相位調(diào)整器50執(zhí)行相位調(diào)整時(shí)，可以采樣到預(yù)先確定的時(shí)間的定位誤差信號(hào)的最大值和最小值(ST34)。最好是通過光盤的一周或多周執(zhí)行此采樣，但也可以設(shè)置1/2周的此采樣，以便縮短測(cè)量時(shí)間。如此，可以測(cè)量到定位誤差信號(hào)的最大值和最小值。此時(shí)，如果焦距控制偏離，則增益被過度地降低。在此情況下，再次增大增益，再次調(diào)整相位調(diào)整器50(ST36)，執(zhí)行焦距控制的縮回(ST35)，以便再次測(cè)量定位誤差信號(hào)的最大值和最小值。
在此測(cè)量時(shí)段內(nèi)，當(dāng)確認(rèn)焦距控制沒有偏離(ST37)時(shí)，就定位誤差信號(hào)的最大值或最小值的絕對(duì)值是否超過預(yù)先確定的范圍進(jìn)行判斷(ST38)。如果判斷超過了預(yù)先確定的范圍，則判斷是否符合可以以高S/N比檢測(cè)干擾信息的條件。最好是用于執(zhí)行此判斷的預(yù)先確定的范圍被設(shè)置為大約可以作為定位誤差信號(hào)獲得的最大值的1/4到1/2。
根據(jù)這樣的流程圖中顯示的過程，干擾信息是在以高S/N比檢測(cè)焦距干擾的條件下學(xué)習(xí)的(ST39)。在此焦距干擾學(xué)習(xí)過程中，在焦距控制偏離的情況下(ST40)，過程返回到步驟(ST36)，再次增大增益，再次進(jìn)行學(xué)習(xí)。如果焦距控制沒有偏離，則焦距干擾學(xué)習(xí)結(jié)束(ST41)。
相位調(diào)整器50的上述操作可以用具有如圖11所示的可變?cè)鲆娴臄?shù)字濾波器結(jié)構(gòu)獲得。一般而言，相位補(bǔ)償器由數(shù)字濾波器構(gòu)成，并常常被配置為串聯(lián)。
在圖11中，相位調(diào)整器50用增益元件72、73和75獲得預(yù)先確定的相位補(bǔ)償。改變之后的增益特性的相位補(bǔ)償器被設(shè)置由其他增益元件72、74和75獲得。這里，改變更換增益元件77、78和79，從而可以在改變?cè)鲆嬷笃椒€(wěn)地將預(yù)先確定的相位補(bǔ)償特征改變?yōu)樽罴训南辔谎a(bǔ)償特征。在此改變期間，可變?cè)鲆嬖?7和78互補(bǔ)地彼此更換。當(dāng)一個(gè)元件被設(shè)置為“1”時(shí)，另外一個(gè)元件被更改為“0”。此外，還根據(jù)可變?cè)鲆嬖?7和78中的變化調(diào)整可變?cè)鲆嬖?9。
<第二個(gè)實(shí)施例>
第二個(gè)實(shí)施例提供了這樣一種光盤設(shè)備，它具有增益調(diào)整器，用于補(bǔ)償記錄類型的光盤中的記錄區(qū)域和未記錄區(qū)域之間的反射率差異所產(chǎn)生的干擾信息變化。圖12是顯示根據(jù)本發(fā)明的第二個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備中的光點(diǎn)示例的圖表。圖13和圖14分別是顯示用于從學(xué)習(xí)干擾信息中消除記錄區(qū)域/未記錄區(qū)域所產(chǎn)生的影響的增益調(diào)整器的配置示例的方框圖。圖15是顯示從學(xué)習(xí)干擾信息中消除記錄區(qū)域/未記錄區(qū)域所產(chǎn)生的影響的增益調(diào)整器的過程的圖形。
在記錄類型的光盤中，，在記錄層的未記錄區(qū)域和記錄區(qū)域，反射率隨光盤特性而不同。有兩種光盤特性，即，數(shù)據(jù)記錄降低反射率的特性，如DVD-RAM等等，和這樣的記錄增大反射率的特性。這種反射率的變化一般大于其本身的兩倍或一半。現(xiàn)在，將描述記錄增大反射率的情況。在圖15所示的上面的圖形中，增益在未記錄區(qū)域完全比較小，增益在記錄區(qū)域完全比較大。如此，如圖15的下面的圖形所示，包括干擾信息的位置誤差信號(hào)“a”(虛線)在未記錄區(qū)域比較小，在記錄區(qū)域比較大。
位置誤差信號(hào)“a”通過根據(jù)第二個(gè)實(shí)施例的如圖13和圖14所示的增益調(diào)整器11a和11b的工作進(jìn)行校正，從而作為位置誤差信號(hào)“b”(實(shí)線)，未記錄區(qū)域和記錄區(qū)域所造成的影響被消除。如此，作為一個(gè)只表示干擾成分的信號(hào)產(chǎn)生位置誤差信號(hào)“b”，可以基于準(zhǔn)確的學(xué)習(xí)干擾信息執(zhí)行可靠的控制操作。
如圖12所示，根據(jù)本發(fā)明的光盤設(shè)備的光檢測(cè)器9由用于進(jìn)行跟蹤誤差檢測(cè)的兩部分PD(光檢測(cè)器)9a和用于進(jìn)行焦距誤差檢測(cè)的兩部分PD 9b構(gòu)成。
(焦距誤差的補(bǔ)償過程)首先，將描述用于進(jìn)行焦距誤差檢測(cè)的PD 9a的輸出補(bǔ)償過程。如圖13所示的增益調(diào)整器11a具有用于執(zhí)行補(bǔ)償過程的下列配置。換句話說，由從光檢測(cè)器9b接收信號(hào)的增益元件101和102執(zhí)行IV轉(zhuǎn)換，然后，經(jīng)過轉(zhuǎn)換的信號(hào)被通過加法器電路103和微分電路104輸入到可變?cè)鲆嬖M105。從可變?cè)鲆嬖M105輸出的加法信號(hào)和微分信號(hào)被插入到AD轉(zhuǎn)換器106和107。具體來說，加法信號(hào)的AD轉(zhuǎn)換結(jié)果被進(jìn)一步輸入到增益變化判斷電路108。
此增益變化判斷電路108的作用是監(jiān)視加法信號(hào)的平均值，檢測(cè)如圖15所示的增益變化，根據(jù)該變化改變可變?cè)鲆嬖M中的增益。通過這樣的操作，作為位置誤差信號(hào)“b”(實(shí)線)產(chǎn)生焦距位置誤差信號(hào)“a”(FEM)(虛線)用于執(zhí)行焦距控制，并消除未記錄區(qū)域和記錄區(qū)域所造成的影響。從而，作為一個(gè)只表示干擾成分的信號(hào)產(chǎn)生位置誤差信號(hào)“b”，可以基于準(zhǔn)確的學(xué)習(xí)干擾信息執(zhí)行可靠的控制操作。
(跟蹤誤差的補(bǔ)償過程)同樣，就用于進(jìn)行跟蹤誤差檢測(cè)的PD 9a而論，隨記錄或未記錄狀態(tài)而產(chǎn)生的增益改變可以通過如圖14所示的增益調(diào)整器11b進(jìn)行補(bǔ)償。在跟蹤誤差檢測(cè)中，通過使用三個(gè)兩部分PD的算術(shù)過程獲得誤差信號(hào)。換句話說，在用于執(zhí)行跟蹤誤差補(bǔ)償過程的增益調(diào)整器11b中，如圖14所示，從第一個(gè)兩部分PD 9a1中的微分信號(hào)和第二個(gè)兩部分PD 9a2和第三個(gè)兩部分PD 9a3中的相應(yīng)的PD的微分信號(hào)通過算術(shù)運(yùn)算獲得誤差信號(hào)。此時(shí)，第二個(gè)PD 9a2或第三個(gè)PD 9a3大大地受到光盤的記錄狀態(tài)的影響。
如圖12所示，這是因?yàn)槿齻€(gè)跟蹤PD檢測(cè)到的光點(diǎn)在被錯(cuò)位之后被分別焦距在光點(diǎn)61、62和63，在記錄區(qū)域和未記錄區(qū)域之間的邊界區(qū)域形成了光點(diǎn)62或光點(diǎn)63。
為了避免這樣的隨光盤記錄狀態(tài)產(chǎn)生的增益變化的影響，跟蹤誤差信號(hào)的增益調(diào)整器11b通過從光檢測(cè)器9b接收信號(hào)的增益元件113和114執(zhí)行IV轉(zhuǎn)換，與焦距誤差信號(hào)的情況相同。然后，經(jīng)過轉(zhuǎn)換的信號(hào)被通過加法器電路118和微分電路119輸入到增益元件組105。然后，由增益判斷電路126基于加法器118獲得的信號(hào)檢測(cè)增益變化，根據(jù)檢測(cè)結(jié)果調(diào)整可變?cè)鲆嬖M105，從而調(diào)整到AD轉(zhuǎn)換器的輸入以防止飽和。
同時(shí)，就兩部分PD增益平衡在記錄區(qū)域和未記錄區(qū)域之間的邊界的影響下發(fā)生變化的PD 9a2或PD 9a3的信號(hào)而論，對(duì)可變?cè)鲆嬖?22和123或可變?cè)鲆嬖?24和125的值進(jìn)行調(diào)整，以便調(diào)整增益平衡。
具體來說，在從光檢測(cè)器9a2和9a3接收信號(hào)的增益元件111、112、115和116執(zhí)行IV轉(zhuǎn)換之后，穿過可變?cè)鲆嬖M105和AD轉(zhuǎn)換器的兩部分PD的相應(yīng)的信號(hào)被平均電路進(jìn)行平均處理，增益變化判斷電路127或增益變化判斷電路130將平均結(jié)果彼此進(jìn)行比較。這里，當(dāng)判斷兩部分PD的輸出中的任何一個(gè)是偏心的時(shí)候，由校正電路128或校正電路129對(duì)AD轉(zhuǎn)換器通過可變?cè)鲆嬖M105轉(zhuǎn)換來自微分電路117和120的輸出所獲得的信號(hào)進(jìn)行校正。如有必要，由可變?cè)鲆嬖?22和123或可變?cè)鲆嬖?24和125根據(jù)增益判斷電路127和增益判斷電路130執(zhí)行微調(diào)。
如此，根據(jù)第二個(gè)實(shí)施例的具有增益調(diào)整器11a和11b的光盤設(shè)備消除了光盤的記錄區(qū)域和未記錄區(qū)域之間的物理性質(zhì)的差異所產(chǎn)生的變化因素。如圖15的下面的圖形所示，位置誤差信號(hào)“a”被補(bǔ)償為由準(zhǔn)確的干擾成分所引起的位置誤差信號(hào)“b”，而無變化，從而可以執(zhí)行適當(dāng)?shù)母蓴_學(xué)習(xí)。同時(shí)，可以獲得準(zhǔn)確的誤差信號(hào)，如此實(shí)現(xiàn)了穩(wěn)定的焦距控制或跟蹤控制。
<第三個(gè)實(shí)施例>
第三個(gè)實(shí)施例提供了這樣一種光盤設(shè)備，它能夠使用根據(jù)第一個(gè)實(shí)施例和第二個(gè)實(shí)施例獲得的學(xué)習(xí)干擾信息執(zhí)行控制過程。圖16是顯示使用學(xué)習(xí)干擾信息進(jìn)行跳轉(zhuǎn)判斷的配置示例的方框圖。圖17是用于說明使用學(xué)習(xí)干擾信息的跳轉(zhuǎn)過程的流程圖。圖18是用于說明使用有關(guān)偏心的學(xué)習(xí)干擾信息的跳轉(zhuǎn)過程的圖形和時(shí)間圖。圖19是用于說明使用有關(guān)軸向跳轉(zhuǎn)的學(xué)習(xí)干擾信息的跳轉(zhuǎn)過程的圖形和時(shí)間圖。圖20是用于說明使用有關(guān)偏心的學(xué)習(xí)干擾信息和有關(guān)軸向跳轉(zhuǎn)的學(xué)習(xí)干擾信息的跳轉(zhuǎn)過程的圖形和時(shí)間圖。圖21是用于說明使用有關(guān)偏心的學(xué)習(xí)干擾信息和有關(guān)軸向跳轉(zhuǎn)的學(xué)習(xí)干擾信息的層間跳轉(zhuǎn)過程的流程圖。圖22是用于說明使用有關(guān)軸向跳轉(zhuǎn)的學(xué)習(xí)干擾信息執(zhí)行傾斜調(diào)整的過程的圖形和時(shí)間圖。圖23是顯示使用學(xué)習(xí)干擾信息和非恒定干擾信息獲取和應(yīng)用伺服操作的配置示例的方框圖。圖24是用于說明使用學(xué)習(xí)干擾信息和非恒定干擾信息獲取和應(yīng)用伺服操作的流程圖。
根據(jù)第三個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備基于由第一個(gè)實(shí)施例和第二個(gè)實(shí)施例中顯示的光盤設(shè)備獲得的學(xué)習(xí)干擾信息對(duì)光學(xué)頭和物鏡中的至少一個(gè)進(jìn)行位置控制。這就基于準(zhǔn)確的干擾信息以比較高的精度實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的位置控制。
在下面顯示的根據(jù)第三個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備中，就基于學(xué)習(xí)干擾信息的跳轉(zhuǎn)過程、基于學(xué)習(xí)干擾信息的光盤的傾斜調(diào)整，以及基于學(xué)習(xí)干擾信息獲取和利用諸如缺陷之類的非恒定干擾信息的過程進(jìn)行進(jìn)一步的描述。
(應(yīng)用于跳轉(zhuǎn)時(shí)間)在根據(jù)第三個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備中，如圖16所示，通過提供跳轉(zhuǎn)判斷電路56來給出跳轉(zhuǎn)時(shí)間。換句話說，提供了跳轉(zhuǎn)判斷電路56，以連接到系統(tǒng)控制器30，從干擾學(xué)習(xí)存儲(chǔ)設(shè)備25獲得學(xué)習(xí)干擾信息。然后，基于獲得的信息向準(zhǔn)確定位機(jī)構(gòu)控制電路23、焦距機(jī)構(gòu)控制電路22提供跳轉(zhuǎn)時(shí)間，從而獲得最佳的跳轉(zhuǎn)時(shí)間。
(信息槽跳轉(zhuǎn))下面將使用圖17的流程圖描述使用學(xué)習(xí)干擾信息的信息槽跳轉(zhuǎn)過程。首先，當(dāng)接收到跳轉(zhuǎn)指令時(shí)(ST51)，就指令是內(nèi)周邊跳轉(zhuǎn)指令還是外周邊跳轉(zhuǎn)指令進(jìn)行判斷(ST52)。在內(nèi)周邊跳轉(zhuǎn)的情況下，設(shè)置在穩(wěn)定地執(zhí)行內(nèi)周邊跳轉(zhuǎn)的情況下的干擾狀態(tài)的推薦值(ST53)。此后，在一個(gè)光盤旋轉(zhuǎn)周期獲得所學(xué)習(xí)到的干擾信息(ST54)。當(dāng)確認(rèn)干擾信息在上述干擾狀態(tài)的推薦值范圍之內(nèi)時(shí)(ST55)，應(yīng)用跳轉(zhuǎn)脈沖(ST56)。
換句話說，在圖18所示的有關(guān)偏心的干擾信息的圖形中，最佳的跳轉(zhuǎn)時(shí)間是具有其最小的干擾變化的時(shí)間，以便確保穩(wěn)定的跳轉(zhuǎn)。就從內(nèi)周邊跳轉(zhuǎn)到外周邊而論，在該圖的(a)中的時(shí)間圖的圖形中，最好是時(shí)間T1是具有最穩(wěn)定的干擾變化的時(shí)間，并且在此時(shí)間執(zhí)行跳轉(zhuǎn)。
換句話說，在該圖的(a)中的圖形中，最好是判斷此時(shí)間的干擾信息的值的預(yù)先確定的范圍是表示干擾臨時(shí)超過預(yù)先確定的推薦值(A)和干擾縮小并到達(dá)預(yù)先確定的第二個(gè)值(B)的范圍中的起始位置的時(shí)間。
同樣，就從外周邊跳轉(zhuǎn)到內(nèi)周邊而論，在該圖的(b)中的時(shí)間圖的圖形中，最好是時(shí)間T2是具有最穩(wěn)定的干擾變化的時(shí)間，并且在此時(shí)間執(zhí)行跳轉(zhuǎn)，從而可以進(jìn)行最穩(wěn)定的跳轉(zhuǎn)。
在圖17的流程圖中，在步驟ST52中發(fā)出外周邊跳轉(zhuǎn)指令的情況下，設(shè)置在穩(wěn)定地執(zhí)行外周邊跳轉(zhuǎn)的情況下的干擾狀態(tài)的推薦值(ST57)。此后，在一個(gè)光盤旋轉(zhuǎn)周期獲得所學(xué)習(xí)到的干擾信息(ST58)。當(dāng)確認(rèn)干擾信息在上述干擾狀態(tài)的推薦值范圍之內(nèi)時(shí)(ST59)，應(yīng)用跳轉(zhuǎn)脈沖(ST60)。
在跳轉(zhuǎn)不成功的情況下(ST61)，從信息槽縮回重新啟動(dòng)操作(ST62)。在跳轉(zhuǎn)成功的情況下，跳轉(zhuǎn)過程結(jié)束(ST63)。
(層間跳轉(zhuǎn))與上述信息槽跳轉(zhuǎn)的情況相同，在雙層光盤的情況下，通過使用學(xué)習(xí)干擾信息還可以穩(wěn)定地執(zhí)行層間跳轉(zhuǎn)。就層間跳轉(zhuǎn)而論，通過使用如圖19所示的有關(guān)軸向跳轉(zhuǎn)的學(xué)習(xí)干擾信息來判斷時(shí)間，或者通過使用如圖20所示的有關(guān)軸向跳轉(zhuǎn)的信息和有關(guān)偏心的學(xué)習(xí)干擾信息這兩個(gè)項(xiàng)目來判斷層間跳轉(zhuǎn)時(shí)間。
下面將使用如圖21所示的用于說明使用有關(guān)偏心的學(xué)習(xí)干擾信息和有關(guān)軸向跳轉(zhuǎn)的學(xué)習(xí)干擾信息的層間跳轉(zhuǎn)過程的流程圖來描述使用學(xué)習(xí)干擾信息的層間跳轉(zhuǎn)。如果在雙層光盤的情況下發(fā)出層間跳轉(zhuǎn)指令(ST71)，則一個(gè)人基于焦距學(xué)習(xí)干擾信息(有關(guān)軸向跳轉(zhuǎn)的學(xué)習(xí)干擾信息)等待(ST72)，判斷是否建立實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的層間跳轉(zhuǎn)的位置(ST73)。
換句話說，在圖19的(a)中，表示干擾值C和干擾值D之間的時(shí)段的起始位置的時(shí)間T3，是有關(guān)軸向跳轉(zhuǎn)的干擾信息改變最小的，是來自淺層跳到深層的最佳時(shí)間。此外，在該圖的(b)中，同樣，時(shí)間T4是從深層跳到淺層的最佳時(shí)間。
然后，在步驟ST73中的判斷之后，一個(gè)人基于有關(guān)作為跳轉(zhuǎn)目的地的記錄層的信息槽學(xué)習(xí)干擾信息而等待(ST74)。然后，判斷是否到達(dá)實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的信息槽縮回的位置(ST75)在符合這兩個(gè)條件的時(shí)間執(zhí)行層間跳轉(zhuǎn)(ST76)。
在圖20中，在(a)中基于有關(guān)軸向跳轉(zhuǎn)的學(xué)習(xí)干擾信息考慮時(shí)間以及層間跳轉(zhuǎn)之后的信息槽拉入控制時(shí)，判斷時(shí)間T5，以便獲得在層間跳轉(zhuǎn)之后用于信息槽縮回的最佳時(shí)間T6。在此時(shí)間T5執(zhí)行層間跳轉(zhuǎn)。
就層間跳轉(zhuǎn)而論，并不總是必須在符合焦距和信息槽時(shí)間的時(shí)間跳轉(zhuǎn)。因此，甚至在基于有關(guān)軸向跳轉(zhuǎn)的學(xué)習(xí)干擾信息的時(shí)間執(zhí)行層間跳轉(zhuǎn)時(shí)，即在圖19的時(shí)間T3或T4，實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的層間跳轉(zhuǎn)。
(對(duì)光盤面傾斜調(diào)整的應(yīng)用)下面將進(jìn)一步描述使用學(xué)習(xí)干擾信息對(duì)光盤進(jìn)行傾斜調(diào)整的過程。在圖22中，在干擾學(xué)習(xí)存儲(chǔ)設(shè)備25和補(bǔ)償控制器20之間新提供了干擾微分設(shè)備57，它是一個(gè)旁路濾波器，還提供了光盤傾斜誤差信號(hào)檢測(cè)電路58。
換句話說，在圖22中，通過由微分或HPF(高通濾波器)通過干擾微分設(shè)備57的工作執(zhí)行對(duì)應(yīng)于微分的算術(shù)運(yùn)算，存儲(chǔ)在干擾學(xué)習(xí)存儲(chǔ)設(shè)備25中的有關(guān)軸向跳轉(zhuǎn)的干擾學(xué)習(xí)信息被轉(zhuǎn)換為微分值。這里，一個(gè)周期的微分值表示光盤的傾斜。此信號(hào)可以由光盤傾斜誤差信號(hào)檢測(cè)電路58處理，以作為運(yùn)轉(zhuǎn)量輸入到傾斜調(diào)整機(jī)構(gòu)控制電路。這就使用學(xué)習(xí)干擾信息實(shí)現(xiàn)了光盤的有效的傾斜調(diào)整。
(對(duì)非恒定干擾檢測(cè)的應(yīng)用)下面將就對(duì)由缺陷、指紋等等所引起的非恒定干擾的檢測(cè)以及使用學(xué)習(xí)干擾信息對(duì)這種非恒定干擾的控制操作進(jìn)行描述。在圖23所示的光盤設(shè)備中，在干擾學(xué)習(xí)存儲(chǔ)設(shè)備25和系統(tǒng)控制器30之間提供了學(xué)習(xí)干擾比較電路59。根據(jù)如圖24所示的流程圖執(zhí)行過程，從而實(shí)現(xiàn)非恒定干擾的檢測(cè)并基于這種檢測(cè)結(jié)果進(jìn)行控制。
換句話說，在圖24所示的流程圖中，在伺服運(yùn)轉(zhuǎn)期間已經(jīng)發(fā)現(xiàn)了一個(gè)存在非恒定干擾的區(qū)域。如果當(dāng)前區(qū)域是一個(gè)存在非恒定干擾的區(qū)域(ST82)，則只基于干擾學(xué)習(xí)存儲(chǔ)設(shè)備25中存儲(chǔ)的學(xué)習(xí)干擾信息對(duì)光學(xué)頭10或物鏡5進(jìn)行伺服控制，而不必使用圖1的定位誤差檢測(cè)電路16的定位誤差信號(hào)(ST87)。這樣能實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的伺服控制，而不會(huì)與非恒定干擾造成任何混淆。
在不存在非恒定干擾區(qū)域的情況下或者在步驟ST82中不存在有關(guān)非恒定干擾區(qū)域的信息的情況下，在預(yù)先確定的時(shí)段內(nèi)獲得混入當(dāng)前光盤的干擾信息，同時(shí)應(yīng)用控制(ST83)。由圖23的學(xué)習(xí)干擾比較電路59將如此獲得的干擾信息與干擾學(xué)習(xí)存儲(chǔ)設(shè)備25中存儲(chǔ)的干擾信息進(jìn)行比較。然后，當(dāng)判斷不同的信號(hào)作為干擾而混入時(shí)(ST84)，判斷不同的干擾信息是否為諸如缺陷之類的非恒定干擾(ST85)。此外，在不同的干擾信息的區(qū)域已經(jīng)過去的情況下(ST86)，已經(jīng)發(fā)生了這種非恒定干擾的區(qū)域與光盤旋轉(zhuǎn)周期同步存儲(chǔ)。有關(guān)存在這種非恒定干擾的區(qū)域的信息(時(shí)間)用于前面的步驟ST82中。當(dāng)在下一個(gè)光盤周期建立這種區(qū)域(時(shí)間)時(shí)，只使用所學(xué)習(xí)到的干擾信息進(jìn)行控制，從而提供了一種功能以便避免非恒定干擾的混合(ST88)。
此外，如果獲得的干擾信息與步驟ST84中的學(xué)習(xí)干擾信息相同，由來自定位誤差檢測(cè)電路16的定位誤差信號(hào)進(jìn)一步執(zhí)行伺服控制，并使用學(xué)習(xí)干擾信息進(jìn)行補(bǔ)償(ST89)，伺服控制繼續(xù)(ST90)。然后，在預(yù)先確定的時(shí)段之后，過程返回到步驟ST81，在此重復(fù)非恒定干擾的檢測(cè)并使用檢測(cè)結(jié)果進(jìn)行控制。
通過這樣做，可以提供這樣的一種光盤設(shè)備，它能夠消除定位誤差檢測(cè)信號(hào)中的諸如缺陷之類的非恒定干擾信息，而非恒定干擾信息不應(yīng)該用于進(jìn)行位置控制，從而實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定而可靠的焦距控制或跟蹤控制。
<第四個(gè)實(shí)施例>
第四個(gè)實(shí)施例提供了這樣一種光盤設(shè)備，它能夠在補(bǔ)償增益改變時(shí)根據(jù)補(bǔ)償增益的變化執(zhí)行相位調(diào)整，從而確保了穩(wěn)定的運(yùn)轉(zhuǎn)。圖25是顯示在根據(jù)本發(fā)明的第四個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備中對(duì)應(yīng)于伺服增益的增大的相位補(bǔ)償?shù)膱D形。
根據(jù)第四個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備是這樣的一種光盤，在伺服控制的補(bǔ)償增益改變的情況下，由圖23的相位調(diào)整器50根據(jù)這種改變執(zhí)行相位調(diào)整，從而確保穩(wěn)定的伺服運(yùn)轉(zhuǎn)，而不會(huì)產(chǎn)生伺服偏離。換句話說，如在根據(jù)第一個(gè)實(shí)施例的光盤設(shè)備中，在補(bǔ)償增益如圖25的上面的圖形所示的實(shí)線所示的那樣增大的情況下，以及在補(bǔ)償增益以逐步的方式降低的情況下，相位余量丟失，由于這種丟失而進(jìn)行相位調(diào)整，因而可以建立適當(dāng)?shù)南辔挥嗔?。這就可以確保穩(wěn)定的伺服運(yùn)轉(zhuǎn)。
那些精通本技術(shù)的人可以根據(jù)如上所述的各種實(shí)施例來實(shí)現(xiàn)本發(fā)明。此外，那些精通本技術(shù)的人可以輕松地對(duì)這些實(shí)施例進(jìn)行各種修改。即使它們沒有進(jìn)行發(fā)明的能力，本發(fā)明也可以應(yīng)用于各種實(shí)施例。因此，本發(fā)明涵蓋了與所說明的原理和新穎的特點(diǎn)不相矛盾的廣泛的范圍，并且不僅限于上述實(shí)施例。
如上文所詳細(xì)描述的，根據(jù)本發(fā)明，提供了一種光盤和光盤設(shè)備的干擾學(xué)習(xí)方法，其中，干擾學(xué)習(xí)是在定位控制系統(tǒng)的補(bǔ)償增益縮小的狀態(tài)下進(jìn)行的，從而可以準(zhǔn)確地檢測(cè)細(xì)微的干擾信息，并基于準(zhǔn)確的學(xué)習(xí)干擾信息以比較高的精度實(shí)現(xiàn)控制操作。
權(quán)利要求
1.一種光盤設(shè)備，其特征在于包括光學(xué)頭，用于通過使用物鏡向光盤發(fā)出激光束并接收反射光，從而執(zhí)行記錄過程和再現(xiàn)過程中的一個(gè)過程；位置控制部分，用于基于來自光學(xué)頭的檢測(cè)信號(hào)，根據(jù)補(bǔ)償增益對(duì)光學(xué)頭和物鏡中的至少一個(gè)進(jìn)行位置控制；以及干擾學(xué)習(xí)部分，用于調(diào)整位置控制部分的補(bǔ)償增益，使用光學(xué)頭檢測(cè)光盤的干擾信息，并將其作為學(xué)習(xí)干擾信息來存儲(chǔ)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤設(shè)備，其特征在于進(jìn)一步包括焦距機(jī)構(gòu)控制部分，用于基于焦距補(bǔ)償增益控制安裝在光學(xué)頭上的物鏡的位置，從而控制激光的焦距，其中，位置控制部分基于來自光學(xué)頭的檢測(cè)信號(hào)判斷和提供將被提供到焦距機(jī)構(gòu)控制部分的焦距補(bǔ)償增益，以及干擾學(xué)習(xí)部分調(diào)整焦距補(bǔ)償增益，并使用光學(xué)頭檢測(cè)和存儲(chǔ)光盤的干擾信息。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤設(shè)備，其特征在于進(jìn)一步包括信息槽位置控制部分，用于基于根據(jù)目標(biāo)信息槽的跟蹤補(bǔ)償增益控制光學(xué)頭的位置，其中，干擾學(xué)習(xí)部分調(diào)整跟蹤補(bǔ)償增益，并使用光學(xué)頭檢測(cè)和存儲(chǔ)光盤的干擾信息。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤設(shè)備，其特征在于位置控制部分進(jìn)一步包括焦距機(jī)構(gòu)控制部分，用于基于焦距補(bǔ)償增益控制安裝在光學(xué)頭上的物鏡的位置，從而控制激光的焦距；以及信息槽位置控制部分，用于基于根據(jù)目標(biāo)信息槽的跟蹤補(bǔ)償增益控制光學(xué)頭的位置，其中，干擾學(xué)習(xí)部分調(diào)整焦距補(bǔ)償增益和跟蹤補(bǔ)償增益，并使用光學(xué)頭檢測(cè)和存儲(chǔ)光盤的干擾信息。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤設(shè)備，其特征在于，干擾學(xué)習(xí)部分以逐步的方式在控制部分的光學(xué)頭和物鏡中的至少一個(gè)的位置控制操作的范圍內(nèi)降低補(bǔ)償增益，并使用光學(xué)頭檢測(cè)和存儲(chǔ)光盤的干擾信息。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤設(shè)備，其特征在于進(jìn)一步包括相位調(diào)整器，用于當(dāng)干擾學(xué)習(xí)部分降低位置控制部分的補(bǔ)償增益時(shí)根據(jù)降低的程度調(diào)整補(bǔ)償增益的相位。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤設(shè)備，其特征在于，在光盤設(shè)備沒有執(zhí)行記錄過程和再現(xiàn)過程時(shí)，干擾學(xué)習(xí)部分進(jìn)行干擾學(xué)習(xí)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤設(shè)備，其特征在于，干擾學(xué)習(xí)部分根據(jù)與以預(yù)先確定的旋轉(zhuǎn)數(shù)旋轉(zhuǎn)光盤的主軸電機(jī)同軸的編碼器的輸出的時(shí)間存儲(chǔ)干擾信息。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤設(shè)備，其特征在于，干擾學(xué)習(xí)部分具有一個(gè)檢測(cè)器，用于基于來自光學(xué)頭的信號(hào)輸出檢測(cè)旋轉(zhuǎn)信息，并以此旋轉(zhuǎn)信息所給出的時(shí)間進(jìn)行干擾信息的學(xué)習(xí)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤設(shè)備，其特征在于，干擾學(xué)習(xí)部分還在對(duì)應(yīng)于干擾信息的預(yù)先確定的旋轉(zhuǎn)數(shù)的區(qū)域中存儲(chǔ)光盤的干擾信息。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤設(shè)備，其特征在于進(jìn)一步包括增益調(diào)整器電路，用于接收由光學(xué)頭檢測(cè)到的檢測(cè)信號(hào)以獲得其平均值，并根據(jù)平均值增大或縮小檢測(cè)信號(hào)。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤設(shè)備，其特征在于進(jìn)一步包括增益調(diào)整器電路，用于接收由光盤檢測(cè)到的檢測(cè)信號(hào)以獲得其平均值，當(dāng)平均值等于或小于第一預(yù)先確定的值時(shí)增大檢測(cè)信號(hào)，當(dāng)平均值等于或大于第二預(yù)先確定的值時(shí)縮小檢測(cè)信號(hào)，以便避免由光盤的記錄區(qū)域和未記錄區(qū)域之間的物理性質(zhì)的差異所造成的影響。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤設(shè)備，其特征在于，位置控制部分基于由干擾學(xué)習(xí)部分存儲(chǔ)的學(xué)習(xí)干擾信息進(jìn)行光學(xué)頭和物鏡中的至少一個(gè)的位置控制。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤設(shè)備，其特征在于，位置控制部分控制光學(xué)頭，以便當(dāng)光學(xué)頭跳到目標(biāo)信息槽時(shí)，使用基于由干擾學(xué)習(xí)部分存儲(chǔ)的學(xué)習(xí)干擾信息確定的時(shí)間。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤設(shè)備，其特征在于，位置控制部分基于由干擾學(xué)習(xí)部分存儲(chǔ)的學(xué)習(xí)干擾信息控制安裝在光學(xué)頭上的物鏡的傾斜。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤設(shè)備，其特征在于進(jìn)一步包括學(xué)習(xí)干擾比較電路，在干擾學(xué)習(xí)部分存儲(chǔ)了學(xué)習(xí)干擾信息之后，該電路基于來自光學(xué)頭的檢測(cè)信號(hào)接收定位誤差信號(hào)，并將定位誤差信號(hào)的值與學(xué)習(xí)干擾信息的值進(jìn)行比較，同時(shí)由位置控制部分基于學(xué)習(xí)干擾信息對(duì)光學(xué)頭和物鏡中的至少一個(gè)進(jìn)行位置控制，其中，在學(xué)習(xí)干擾比較電路判斷這些值彼此不同的情況下，位置控制部分判斷在光盤中存在非恒定干擾，并只基于學(xué)習(xí)干擾信息對(duì)光學(xué)頭和物鏡中的至少一個(gè)進(jìn)行位置控制。
17.一種光盤設(shè)備，其特征在于包括光學(xué)頭，用于通過使用物鏡向光盤發(fā)出激光并接收反射光，從而執(zhí)行記錄過程和再現(xiàn)過程中的一個(gè)過程；位置控制部分，用于基于來自光學(xué)頭的檢測(cè)信號(hào)，根據(jù)補(bǔ)償增益對(duì)光學(xué)頭和物鏡中的至少一個(gè)進(jìn)行位置控制；以及增益調(diào)整器，用于調(diào)整位置控制部分的補(bǔ)償增益；以及相位調(diào)整器，用于根據(jù)增益調(diào)整器的補(bǔ)償增益的調(diào)整來調(diào)整補(bǔ)償增益的相位。
18.一種光盤設(shè)備的干擾學(xué)習(xí)方法，其特征在于包括基于來自光學(xué)頭的檢測(cè)信號(hào)，根據(jù)補(bǔ)償增益對(duì)光學(xué)頭和物鏡中的至少一個(gè)進(jìn)行位置控制，光學(xué)頭用于通過使用物鏡向光盤發(fā)出激光并接收反射光，從而執(zhí)行記錄過程和再現(xiàn)過程中的一個(gè)過程；以及調(diào)整位置控制中的補(bǔ)償增益，使用光學(xué)頭檢測(cè)光盤的干擾信息，并將其作為學(xué)習(xí)干擾信息來存儲(chǔ)。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的光盤設(shè)備的干擾學(xué)習(xí)方法，其特征在于，接收由光學(xué)頭檢測(cè)到的檢測(cè)信號(hào)以獲得其平均值，并根據(jù)平均值增大或縮小檢測(cè)信號(hào)。
20.根據(jù)權(quán)利要求18所述的光盤設(shè)備的干擾學(xué)習(xí)方法，其特征在于，位置控制部分基于學(xué)習(xí)干擾信息對(duì)光學(xué)頭和物鏡中的至少一個(gè)進(jìn)行位置控制。
全文摘要
一種光盤設(shè)備包括位置控制部分(15、20、21、22、23)，用于基于來自光學(xué)頭(10)的檢測(cè)信號(hào)對(duì)光學(xué)頭和物鏡中的至少一個(gè)進(jìn)行位置控制，干擾學(xué)習(xí)部分(18、19、20)，用于在伺服控制不會(huì)偏離的范圍內(nèi)縮小位置控制部分的補(bǔ)償增益，檢測(cè)光盤的干擾信息，并將其作為學(xué)習(xí)干擾信息來存儲(chǔ)。由于信息不會(huì)受補(bǔ)償增益的影響，因此可以可靠地學(xué)習(xí)到細(xì)微的干擾信息。
文檔編號(hào)G11B21/10GK1475992SQ0315242
公開日2004年2月18日 申請(qǐng)日期2003年7月30日 優(yōu)先權(quán)日2002年7月30日
發(fā)明者米澤実, 米 申請(qǐng)人:株式會(huì)社東芝