專利名稱：光盤裝置以及光盤裝置的訪問方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光盤裝置。更具體地，本發(fā)明涉及一種光盤裝置以及一種在光頭訪問過程中能實(shí)現(xiàn)可靠訪問且同時(shí)避開未記錄區(qū)域的光盤裝置訪問方法。
背景技術(shù)：
近年來，已經(jīng)開發(fā)諸如DVD(數(shù)字多功能盤)的光盤，并且它們是眾所周知的。在此種光盤裝置等中，要求高度的操作可靠性或可用性等。
對(duì)于此種光盤裝置的實(shí)例，在日本專利申請(qǐng)?zhí)卦S公開號(hào)2000-251271所描述的光盤裝置中，公開了以下技術(shù)。在雙層盤的層間跳轉(zhuǎn)的情況下，如果目標(biāo)地址位置在比當(dāng)前地址位置更靠?jī)?nèi)的圓周上，就執(zhí)行尋道操作，直到找到相同記錄層上與目標(biāo)地址位置相對(duì)應(yīng)的徑向位置。然后，執(zhí)行層間跳轉(zhuǎn)，并到達(dá)目標(biāo)地址位置。另一方面，在目標(biāo)地址位置處于比當(dāng)前地址位置更靠外的圓周的情況下，在當(dāng)前地址位置執(zhí)行層間跳轉(zhuǎn)，然后，執(zhí)行對(duì)于目標(biāo)地址位置的尋道操作。
換句話說，在再現(xiàn)型光盤中，已開發(fā)具有多層的光盤，并已流行開來。相似地，根據(jù)增加在光盤中所記錄數(shù)據(jù)的容量的要求，已提出一種在一側(cè)上具有多個(gè)記錄層的記錄型光盤。在光盤由此具有多個(gè)記錄層的情況下，為了使每個(gè)記錄層的反射率基本上維持恒定，必須增加更淺記錄層的透射率。結(jié)果，要被維持恒定的反射率減小，并且，光盤被制作成使每層的反射率基本等于此低反射率。因而，多種信號(hào)的信號(hào)電平降低，并且信噪比降低。
另一方面，根據(jù)盤的特性，在記錄層中，未記錄區(qū)域與記錄區(qū)域的反射率不同。盤特性包括兩種特性反射率因數(shù)據(jù)記錄而減小的特性，如在DVD-RAM等中；以及，反射率因此種記錄而增加的特性。通常，此反射率的變化大于2倍或1/2。在記錄區(qū)域R和未記錄區(qū)域M之間的邊界區(qū)域中，此反射率的變化影響多種信號(hào)。具體而言，在要求精確伺服的情況下，此變化的影響有可能導(dǎo)致大的干擾。
因而，與在常規(guī)再現(xiàn)型光盤裝置中一樣，在為了訪問存儲(chǔ)區(qū)上的特定目標(biāo)位置而執(zhí)行層間跳轉(zhuǎn)時(shí)，如果在雙層盤中各記錄層的中軸不對(duì)準(zhǔn)，層間跳轉(zhuǎn)目的地可以是未記錄區(qū)域M。在此種情況下，出現(xiàn)這樣的問題光盤受邊界區(qū)域或信號(hào)電平的影響，并且伺服狀態(tài)變得不穩(wěn)定，其中，所述信號(hào)電平取決于跳轉(zhuǎn)后處于不穩(wěn)定狀態(tài)的區(qū)域。
此外，在記錄型光盤中，為了記錄/再現(xiàn)信息，要求從記錄/再現(xiàn)請(qǐng)求發(fā)生時(shí)刻到記錄/再現(xiàn)操作開始時(shí)刻的響應(yīng)時(shí)間很快。由于根據(jù)記錄區(qū)域R和未記錄區(qū)域M而要求不同的調(diào)節(jié)，因此相信，只經(jīng)過要求最小調(diào)節(jié)的記錄區(qū)域R的訪問方法是穩(wěn)定的。然而，與在常規(guī)裝置中一樣，根據(jù)用最短距離連接當(dāng)前地址位置到目標(biāo)地址位置的矩形訪問方法，不能保證已用最短距離執(zhí)行層間跳轉(zhuǎn)的區(qū)域總是記錄區(qū)域。因而，有這樣的問題當(dāng)經(jīng)過未記錄區(qū)域M時(shí)，伺服狀態(tài)變得不穩(wěn)定。
另外，如果因在訪問發(fā)生時(shí)的失控或軌道偏差或者因聚焦偏差而在未記錄區(qū)域M中無意地發(fā)生聚焦，如上所述，根據(jù)記錄區(qū)域R和未記錄區(qū)域M，信號(hào)電平不同。因而，不能執(zhí)行軌道引入操作，并且不能平穩(wěn)地執(zhí)行恢復(fù)到記錄區(qū)域R的操作。
換句話說，如上所述，在常規(guī)光盤裝置中，當(dāng)指示光頭訪問記錄區(qū)域時(shí)，有以下情況當(dāng)用最短距離訪問目標(biāo)位置時(shí)，經(jīng)過其反射率等與記錄區(qū)域R中的不同的未記錄區(qū)域M。因而，出現(xiàn)伺服狀態(tài)變得不穩(wěn)定的問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的實(shí)施例是提供一種光盤裝置以及用于該光盤裝置的訪問方法，此方法在光頭的訪問過程中檢測(cè)光盤上的記錄區(qū)域和未記錄區(qū)域分布，并且進(jìn)行可靠的訪問，同時(shí)避開未記錄區(qū)域。
為了解決以上問題，提出了本發(fā)明。本發(fā)明致力于一種光盤裝置，其中包括向具有記錄層的光盤發(fā)射激光并接收反射光以執(zhí)行記錄處理和再現(xiàn)處理之一的光頭；基于光頭所接收的反射光而檢測(cè)光盤上記錄區(qū)域和未記錄區(qū)域分布的檢測(cè)單元；以及控制單元，此單元基于檢測(cè)單元所檢測(cè)的記錄區(qū)域和未記錄區(qū)域分布，控制所述光頭以便訪問光盤的記錄層的目標(biāo)位置，同時(shí)避開未記錄區(qū)域。
在根據(jù)本發(fā)明的光盤裝置中，與常規(guī)裝置不同，事先檢測(cè)光盤上的記錄區(qū)域R和未記錄區(qū)域M分布，而不是用最短距離訪問目標(biāo)位置。基于此分布來控制光頭訪問目標(biāo)位置，同時(shí)避開未記錄區(qū)域M。例如，這避免因?qū)娱g跳轉(zhuǎn)到其中反射率等彼此不同的未記錄區(qū)域M而使伺服狀態(tài)變得不穩(wěn)定的故障，能實(shí)現(xiàn)光頭迅速而可靠的訪問。
圖1為示出根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的光盤裝置的配置實(shí)例的框圖；圖2為當(dāng)從入射面觀察根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的光盤裝置的光盤時(shí)的視圖；圖3為示出在根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的光盤裝置中的光頭附近配置的透視圖；圖4為在根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的光盤裝置中的光頭的光學(xué)系統(tǒng)的配置圖；圖5為示出根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的相同層中的訪問方法實(shí)例的光盤剖視圖；圖6為示出根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的具有層間跳轉(zhuǎn)的訪問方法實(shí)例的光盤剖視圖；圖7為示出根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的具有層間跳轉(zhuǎn)的訪問方法另一實(shí)例的光盤剖視圖；圖8為示出根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的具有層間跳轉(zhuǎn)的訪問方法另一實(shí)例的光盤剖視圖；圖9為示出根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的具有層間跳轉(zhuǎn)的訪問方法另一實(shí)例的光盤剖視圖；圖10為示出根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的具有層間跳轉(zhuǎn)的簡(jiǎn)單訪問方法實(shí)例的光盤剖視圖；圖11為示出根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例，在發(fā)生失控狀態(tài)的情形下的訪問方法實(shí)例的光盤剖視圖；圖12為用于解釋根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的訪問方法的流程圖；圖13為示出根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的具有層間跳轉(zhuǎn)的訪問方法實(shí)例的光盤剖視圖；圖14為示出根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例，根據(jù)具有平面部分和槽部分的光盤的訪問方法實(shí)例的光盤視圖；圖15為示出根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的光盤裝置的配置實(shí)例的框圖；圖16為用于解釋根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的訪問方法的流程圖；圖17為用于解釋根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的訪問方法的流程圖；圖18為示出根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例，根據(jù)具有平面部分和槽部分的光盤的訪問方法另一實(shí)例的光盤視圖；圖19為示出根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例，根據(jù)具有平面部分和槽部分的光盤的訪問方法另一實(shí)例的光盤視圖；以及圖20為用于解釋根據(jù)本發(fā)明的從失控狀態(tài)恢復(fù)的過程的流程圖。
具體實(shí)施例方式
以下結(jié)合附圖描述根據(jù)本發(fā)明的光盤裝置以及光盤裝置訪問方法的優(yōu)選實(shí)施例。
<根據(jù)本發(fā)明的光盤裝置>
描述根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的光盤裝置的配置。圖1為示出根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的光盤裝置的實(shí)例的框圖。圖2為示出根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的光盤的實(shí)例的框圖。圖3為示出光盤裝置的光頭等的布置的配置圖。圖4為光盤裝置的光頭的配置圖。在此，結(jié)合如圖2所示的在一側(cè)上具有兩個(gè)記錄層的光盤裝置中的訪問過程進(jìn)行描述，其中，記錄處理應(yīng)用于其中設(shè)置單螺旋槽結(jié)構(gòu)101的光盤上，每個(gè)記錄層的信息軌道能從內(nèi)周到外周連續(xù)地進(jìn)行記錄。
用于根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的光盤裝置的處理的光盤D是可重寫媒體，包括作為圖2所示記錄層的相變記錄層。此光盤為具有第一記錄層3和第二記錄層4的記錄媒體，在所述記錄層中，用根據(jù)本發(fā)明的光盤裝置所具有的物鏡5聚集的光執(zhí)行信息記錄/再現(xiàn)。主軸電機(jī)2轉(zhuǎn)動(dòng)光盤D。主軸電機(jī)控制電路31控制主軸電機(jī)2。更準(zhǔn)確地說，控制電機(jī)2，以使其轉(zhuǎn)速具有適用于訪問控制電路18所指定的訪問位置的值，其中，轉(zhuǎn)速由旋轉(zhuǎn)角編碼器30檢測(cè)。光盤D由光盤裝置所具有的主軸電機(jī)2進(jìn)行旋轉(zhuǎn)控制。具體地，在執(zhí)行信息記錄時(shí)，采用維持旋轉(zhuǎn)線速度恒定的ZCLV(分區(qū)恒定線速度)方案等。
此外，光頭10向光盤的預(yù)定記錄層發(fā)射預(yù)定波長(zhǎng)的激光，由此執(zhí)行記錄(標(biāo)記形成)。此記錄例如通過標(biāo)記長(zhǎng)度記錄方案來執(zhí)行，此方案在記錄標(biāo)記的邊緣上具有信息。從設(shè)置在光頭10上的激光源發(fā)射的激光被校準(zhǔn)為平行光，然后，平行光經(jīng)光學(xué)部件(未示出)入射到光學(xué)校正機(jī)構(gòu)8。此光學(xué)校正機(jī)構(gòu)8通過中繼透鏡或液晶部件執(zhí)行像差校正，從而，例如在記錄層上形成的光點(diǎn)不具有球面像差。由此光學(xué)像差校正機(jī)構(gòu)8校正的光束經(jīng)上升鏡7而進(jìn)一步入射到物鏡5，并且在光盤D的預(yù)定信息記錄表面上形成光點(diǎn)。另一方面，在信息記錄表面上反射的光束再次經(jīng)上升鏡7而部分地入射到光電檢測(cè)器9。此光電檢測(cè)器9通過分為多個(gè)的檢測(cè)單元的光電轉(zhuǎn)換而檢測(cè)與在信息記錄表面上聚焦的光點(diǎn)的目標(biāo)位置有關(guān)的位置誤差。位置誤差包括用于形成光點(diǎn)的聚焦位置誤差、軌道位置誤差、傾斜度誤差以及球面像差，其中，所述光點(diǎn)相對(duì)于信息記錄表面而聚焦。
在信息記錄表面上形成用于執(zhí)行信息記錄/再現(xiàn)的信息軌道。獲得光盤徑向上相對(duì)于此目標(biāo)軌道的位置偏差，作為軌道位置誤差。傾斜度誤差是在物鏡5所發(fā)射的光束的光軸與光盤D的法線之間的偏移角。如果此偏移角較大，就在光點(diǎn)中發(fā)生彗形差并且光點(diǎn)質(zhì)量下降。最后，球面像差是以相同方式使光點(diǎn)的斑點(diǎn)質(zhì)量下降的像差。當(dāng)物鏡5所聚焦的波面與球面存在偏差時(shí)，發(fā)生此像差。
在光盤裝置中，借助使用光電檢測(cè)器9和差分電路11等的定位誤差檢測(cè)電路19而檢測(cè)以上各種位置誤差，與各個(gè)定位誤差相應(yīng)的控制操作量由補(bǔ)償控制器20計(jì)算，從而形成正確的光點(diǎn)，并且控制操作量分別輸入到光學(xué)校正機(jī)構(gòu)控制電路21、聚焦機(jī)構(gòu)控制電路22、精確定位機(jī)構(gòu)控制電路23、粗定位機(jī)構(gòu)控制電路17、以及傾斜度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)控制電路24。在這些控制電路的每一個(gè)中，控制光學(xué)像差校正機(jī)構(gòu)8、物鏡定位機(jī)構(gòu)6以及粗定位機(jī)構(gòu)12，基于輸入的控制操作量而驅(qū)動(dòng)它們，從而在目標(biāo)位置上正確地形成光點(diǎn)。此外，差分電路11的輸出提供給相對(duì)位移計(jì)算器13和速度檢測(cè)部分15，計(jì)算基準(zhǔn)速度產(chǎn)生電路14和速度檢測(cè)電路15的輸出，經(jīng)過放大器16而提供給粗定位機(jī)構(gòu)控制電路17。然后，所提供的輸出控制驅(qū)動(dòng)粗定位機(jī)構(gòu)12。
訪問控制電路18連接到上述的粗定位機(jī)構(gòu)控制電路17和補(bǔ)償控制器20，并控制訪問過程。訪問控制電路18控制主軸電機(jī)控制電路31，電路31又控制主軸電機(jī)2。因而，主軸電機(jī)2被控制來轉(zhuǎn)動(dòng)光盤D，從而當(dāng)開始訪問操作時(shí)，讀取將被訪問的目標(biāo)軌道的地址。進(jìn)一步地，此訪問控制電路18由控制全部操作的系統(tǒng)控制器25控制。此系統(tǒng)控制器25進(jìn)一步連接到記錄信息管理部分26和訪問目標(biāo)設(shè)置電路27。記錄信息管理部分26檢測(cè)和管理光盤D的區(qū)域分布，如記錄區(qū)域R、未記錄區(qū)域M和可記錄區(qū)域K等。與常規(guī)裝置不同，訪問目標(biāo)設(shè)定電路27通過設(shè)定將要被訪問的位置而根據(jù)狀態(tài)來確定最佳訪問方法，以便避開未記錄區(qū)域M，而不是用最短距離來訪問目標(biāo)位置，其中，未記錄區(qū)域M造成下面詳細(xì)描述的不穩(wěn)定操作。
除了光頭10的此種驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)配置之外，光盤裝置還具有以下配置記錄處理系統(tǒng)、再現(xiàn)處理系統(tǒng)和控制系統(tǒng)(未示出)。換句話說，此光盤裝置具有數(shù)據(jù)再現(xiàn)電路，作為連接到光頭10的再現(xiàn)處理系統(tǒng)的電路；激光控制電路，作為記錄處理系統(tǒng)的電路并控制光頭10中所含半導(dǎo)體二極管的光發(fā)射；以及用于與CPU、存儲(chǔ)區(qū)域RAM或ROM以及外部裝置等進(jìn)行數(shù)據(jù)通信的接口電路，其中，CPU是用于管理這些操作的控制部分的組成部件。
此外，圖3示出根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的光盤裝置的配置的實(shí)例。圖4示出根據(jù)本發(fā)明的光盤裝置的光頭10的詳細(xì)光學(xué)系統(tǒng)配置。在這些圖中，從激光源28發(fā)射的激光由光學(xué)校正機(jī)構(gòu)8使用中繼透鏡進(jìn)行光學(xué)調(diào)節(jié)。此外，為了使返回光從光盤D前進(jìn)到誤差信號(hào)檢測(cè)系統(tǒng)，使用半棱鏡29。
<第一實(shí)施例>
根據(jù)第一實(shí)施例，在用于具有一個(gè)或多個(gè)記錄層的光盤的光盤裝置中，提供一種光盤裝置以及一種光盤裝置訪問方法，當(dāng)訪問光盤上的目標(biāo)位置時(shí)，基于事先檢測(cè)的記錄區(qū)域R和未記錄區(qū)域M分布而提供最佳的訪問方法，同時(shí)避開造成不穩(wěn)定操作的未記錄區(qū)域M。圖5-11均為示出光盤裝置中光頭的訪問方法實(shí)例的視圖。圖12為用于解釋光頭的訪問過程的流程圖，此過程包括光盤裝置的層間跳轉(zhuǎn)。
(根據(jù)本發(fā)明的光頭訪問方法的原理)根據(jù)本發(fā)明，在具有記錄層的記錄光盤中，根據(jù)記錄區(qū)域R和未記錄區(qū)域M，反射率等明顯不同。因而，如果經(jīng)過未記錄區(qū)域M來訪問目標(biāo)位置，伺服有可能不穩(wěn)定。從而，基于事先檢測(cè)的記錄區(qū)域R和未記錄區(qū)域M等的分布，經(jīng)過記錄區(qū)域R等來訪問目標(biāo)位置，同時(shí)避開未記錄區(qū)域M。此外，當(dāng)訪問目標(biāo)地址時(shí)，在記錄處理的情況下，在許多情形下要訪問未記錄區(qū)域M的起始位置。因而，設(shè)定第二目標(biāo)位置來取代直接訪問目標(biāo)位置，其中，第二目標(biāo)位置例如與目標(biāo)位置相距兩個(gè)或多個(gè)軌道。在光頭已經(jīng)移動(dòng)到此位置之后，在本來的目標(biāo)位置執(zhí)行追蹤。使用此方法，避免因未記錄區(qū)域M的影響而引起的不穩(wěn)定伺服，實(shí)現(xiàn)迅速而可靠的訪問。
換句話說，具體地，在具有低-高特性的媒體中，未記錄區(qū)域M的反射率為10％或更低。另一方面，記錄區(qū)域R的反射率為20％或更多。在此情況下，如果執(zhí)行用于在記錄區(qū)域R和未記錄區(qū)域M之間的邊界附近形成光點(diǎn)的伺服操作，以未記錄區(qū)域M的低反射率反射的反射波成分就進(jìn)入以記錄區(qū)域R的高反射率反射的成分。因而，發(fā)生故障，如偏移到將要應(yīng)用伺服操作的中立位置的未記錄區(qū)域M一側(cè)。在中立位置因而偏移到未記錄區(qū)域M一側(cè)的情況下，由于此偏移而建立所謂的正反饋狀態(tài)，此狀態(tài)進(jìn)一步受到未記錄區(qū)域的強(qiáng)烈影響，在此，伺服有可能是不穩(wěn)定的。因而，為了特別避免在低-高媒體中較為顯著的不穩(wěn)定伺服狀態(tài)，在避開未記錄區(qū)域M的同時(shí)訪問目標(biāo)位置，或者，通過提供兩階段的目標(biāo)位置而執(zhí)行穩(wěn)定的訪問過程。
如圖5-11所示，記錄光盤至少可分為已記錄的不可記錄區(qū)域，即記錄區(qū)域R；作為未記錄區(qū)域M并可在其中執(zhí)行記錄的可記錄區(qū)域；以及作為可記錄區(qū)域K并且盡管已執(zhí)行一次記錄但可執(zhí)行刪除處理的可記錄區(qū)域。在根據(jù)本發(fā)明的訪問方法中，特別檢測(cè)未記錄區(qū)域M的分布，并且基于此檢測(cè)而避免出錯(cuò)。
(用于識(shí)別未記錄區(qū)域和可記錄區(qū)域的方法)以下模式被認(rèn)為是用于識(shí)別未記錄區(qū)域M和可記錄區(qū)域K的方法。
模式1未記錄區(qū)域其中晶態(tài)或非晶態(tài)均勻的區(qū)域。
記錄區(qū)域和可記錄區(qū)域其中晶態(tài)和非晶態(tài)以共存方式分布的區(qū)域。
模式2未記錄區(qū)域其中反射率均勻的區(qū)域。
記錄區(qū)域和可記錄區(qū)域其中反射率不同的區(qū)域以共存方式分布的區(qū)域，以及其中平均反射率高于或低于以上反射率均勻區(qū)域的反射率的區(qū)域。
模式3未記錄區(qū)域其中染料均勻分布并且反射率均勻的區(qū)域。
記錄區(qū)域和可記錄區(qū)域其中部分染料膜變化且反射率互相不同的狀態(tài)以共存方式分布的區(qū)域。
模式4未記錄區(qū)域其中光點(diǎn)的反射面為平坦和均勻的區(qū)域。
記錄區(qū)域和可記錄區(qū)域具有不規(guī)則性的區(qū)域，其中，上述平坦部分變形。
(訪問方法的實(shí)例)在根據(jù)本發(fā)明的光盤裝置中，在目標(biāo)位置上形成光點(diǎn)，并且如上所述記錄一系列信息。然而，在向系統(tǒng)控制器25提出新記錄一系列信息的請(qǐng)求的情況下，光頭10對(duì)光盤D上的目標(biāo)位置執(zhí)行訪問過程。以下至少舉例說明圖5-11所述的情形。
(訪問一個(gè)記錄層)如圖5所示的訪問方法表示在一個(gè)記錄層4上進(jìn)行訪問的情形。在當(dāng)前跟蹤的軌道被定義為點(diǎn)P并且目標(biāo)軌道被定義為點(diǎn)A的情況下，第一臨時(shí)目標(biāo)軌道設(shè)定為點(diǎn)B。希望點(diǎn)A處的軌道與點(diǎn)B處的軌道設(shè)定得相互之間距離大于或等于2個(gè)軌道且小于或等于10個(gè)軌道。因而，當(dāng)將要訪問的目標(biāo)軌道設(shè)定在具有未記錄區(qū)域M的記錄層中時(shí)，通過訪問目標(biāo)設(shè)定電路27的操作來設(shè)定臨時(shí)目標(biāo)軌道點(diǎn)B，而不是進(jìn)行正常的訪問以便對(duì)目標(biāo)軌道執(zhí)行訪問操作。在光頭10已移動(dòng)到此位置之后，在本來的目標(biāo)位置點(diǎn)A上執(zhí)行追蹤，由此實(shí)現(xiàn)逐步和可靠的訪問操作，而不受未記錄區(qū)域M的影響。
在此，用圖1所示的配置詳細(xì)描述用于在圖5所示一個(gè)記錄層3中執(zhí)行的訪問方法的操作。
首先，通過訪問控制電路18臨時(shí)性地解除用于執(zhí)行定位控制的軌道定位控制，基于定位誤差檢測(cè)電路19所檢測(cè)的軌道位置誤差信號(hào)而開始訪問操作。當(dāng)此軌道定位控制已經(jīng)解除并且控制操作量從各個(gè)控制電路輸入到粗定位機(jī)構(gòu)12或精確定位機(jī)構(gòu)6時(shí)，光點(diǎn)開始在光盤徑向上移動(dòng)。盡管因此移動(dòng)而發(fā)生軌道位置誤差(跟蹤誤差)，但用此位置誤差信號(hào)來控制訪問操作。同時(shí)，開始訪問操作，主軸電機(jī)控制電路31控制主軸電機(jī)2，以便當(dāng)光頭到達(dá)目標(biāo)軌道時(shí)，電機(jī)2獲得預(yù)置轉(zhuǎn)速。
在訪問控制電路18中，軌道位置誤差信號(hào)由相對(duì)位移計(jì)算器13二進(jìn)制化，并且對(duì)因此二進(jìn)制化的信號(hào)計(jì)數(shù)，從而可識(shí)別訪問所經(jīng)過的信息軌道的數(shù)量。在訪問控制電路18中，事先從作為訪問目標(biāo)的信息軌道的地址和用于開始訪問的信息軌道的地址計(jì)算將要訪問的信息軌道的數(shù)量。從目標(biāo)訪問的數(shù)量減去途經(jīng)軌道的數(shù)量，可計(jì)算剩余軌道的數(shù)量。對(duì)于因此計(jì)算的剩余軌道數(shù)量，訪問控制電路18從基準(zhǔn)速度產(chǎn)生電路14產(chǎn)生目標(biāo)速度，在電路14中，目標(biāo)運(yùn)動(dòng)速度已被定義為基準(zhǔn)值。另一方面，當(dāng)信息軌道的間隔被二進(jìn)制化的軌道位置誤差信號(hào)的上升脈沖的時(shí)間間隔分割時(shí)，可檢測(cè)在經(jīng)過每個(gè)軌道時(shí)的運(yùn)動(dòng)速度。此檢測(cè)由速度檢測(cè)器15來執(zhí)行。比較檢測(cè)器16比較以上目標(biāo)速度和被檢測(cè)速度，從而，被檢測(cè)速度跟隨以上目標(biāo)速度。然后，差值被放大，輸入到粗定位機(jī)構(gòu)控制電路17中。
此外，根據(jù)目標(biāo)軌道和光點(diǎn)之間的位置關(guān)系，以上差值經(jīng)訪問控制電路18而輸入到精確定位機(jī)構(gòu)控制電路23中，以驅(qū)動(dòng)精確定位機(jī)構(gòu)6。當(dāng)光點(diǎn)即將到達(dá)目標(biāo)軌道時(shí)，訪問控制電路18再次關(guān)閉軌道位置誤差控制系統(tǒng)。然后，補(bǔ)償控制器20計(jì)算用于驅(qū)動(dòng)精確定位機(jī)構(gòu)的控制操作量，以便消除軌道位置誤差，并向精確定位機(jī)構(gòu)控制電路23提供計(jì)算量。隨后，實(shí)際到達(dá)的目標(biāo)軌道的地址由系統(tǒng)的信號(hào)處理系統(tǒng)讀取。然而，在此地址與目標(biāo)信息軌道的地址基本相同時(shí)，終止對(duì)臨時(shí)目標(biāo)軌道點(diǎn)B的訪問操作。隨后，通過用于保持跟蹤狀態(tài)的跟蹤操作而不是訪問尋道操作，光頭從點(diǎn)B移動(dòng)到點(diǎn)A。此時(shí)，主軸電機(jī)控制電路31控制主軸電機(jī)2，以使其轉(zhuǎn)速?gòu)狞c(diǎn)A的預(yù)置值變化到點(diǎn)B的預(yù)置值。
在以上訪問操作過程中，控制電路20通過使用定位誤差檢測(cè)電路19檢測(cè)到的信號(hào)如軌道位置誤差信號(hào)的幅度值，向光學(xué)校正機(jī)構(gòu)控制電路輸出用于調(diào)節(jié)的控制操作量。然后，此電路通過驅(qū)動(dòng)光學(xué)校正機(jī)構(gòu)而搜索最佳的校正點(diǎn)。所獲得的用于調(diào)節(jié)的控制操作量為一個(gè)值，如在訪問過程中根據(jù)Vc′＝Vc+ΔV而相對(duì)于控制操作量Vc的值Vc′，這里，ΔV指當(dāng)在預(yù)定范圍內(nèi)確定絕對(duì)值且適當(dāng)轉(zhuǎn)換符號(hào)時(shí)所獲得的值。
因諸如缺陷的影響而還未有意記錄的區(qū)域或者不能執(zhí)行記錄的區(qū)域被定義為未記錄區(qū)域M。
(具有層間跳轉(zhuǎn)的訪問1)其次，如圖6所示的訪問方法表示在多個(gè)記錄層中執(zhí)行層間跳轉(zhuǎn)且同時(shí)避開未記錄區(qū)域M的情形。在當(dāng)前跟蹤的軌道被定義為點(diǎn)P并且目標(biāo)軌道被定義為點(diǎn)A的情況下，第一臨時(shí)目標(biāo)軌道被設(shè)定為點(diǎn)B。希望設(shè)定點(diǎn)A處的軌道和點(diǎn)B處的軌道之間相距大于或等于2個(gè)軌道且小于或等于10個(gè)軌道。
另一方面，用于層間跳轉(zhuǎn)的第二臨時(shí)目標(biāo)軌道被設(shè)定為點(diǎn)C。在另一記錄層3中與之相應(yīng)的第三臨時(shí)目標(biāo)軌道被設(shè)定為點(diǎn)C′。希望設(shè)定點(diǎn)B和點(diǎn)C之間相距大約0.1mm或更大。當(dāng)因而在具有未記錄區(qū)域M的記錄層中設(shè)定將要訪問的目標(biāo)軌道時(shí)，由訪問目標(biāo)設(shè)定電路27設(shè)定臨時(shí)目標(biāo)軌道，并且與對(duì)目標(biāo)軌道執(zhí)行訪問操作的一般訪問操作不同地是，實(shí)現(xiàn)逐步的訪問操作。
以此方式，以點(diǎn)P，C′，C，B和A的降序進(jìn)行訪問，由此還對(duì)具有多個(gè)記錄層3和4并具有未記錄區(qū)域M的光盤執(zhí)行訪問操作，同時(shí)只經(jīng)過記錄區(qū)域R且避開未記錄區(qū)域M。因而，可執(zhí)行穩(wěn)定的訪問操作。當(dāng)光頭從點(diǎn)C′跳轉(zhuǎn)到點(diǎn)C時(shí)，控制主軸電機(jī)2首先獲得點(diǎn)C′的預(yù)置速度，隨后獲得點(diǎn)C的預(yù)置速度。如果點(diǎn)C′和C與光盤D中心的距離幾乎相同，就希望控制電機(jī)2以對(duì)點(diǎn)C′和C的相同速度旋轉(zhuǎn)。
(具有層間跳轉(zhuǎn)的訪問2)如圖7所示的訪問方法表示在多個(gè)記錄層中執(zhí)行層間跳轉(zhuǎn)且同時(shí)避開未記錄區(qū)域M的情形。此訪問方法還表示在當(dāng)前記錄層3中也存在未記錄區(qū)域M的情形。同樣在此情形中，以與圖6所示訪問方法相同的方式進(jìn)行訪問。換句話說，在記錄信息管理部分26中，確定臨時(shí)目標(biāo)軌道點(diǎn)C′，C和B不在未記錄區(qū)域M中，并且以點(diǎn)P，C′，C，B和A的降序進(jìn)行訪問，從而可執(zhí)行穩(wěn)定的訪問操作。
(具有層間跳轉(zhuǎn)的訪問3)如圖8所示的訪問方法表示在多個(gè)記錄層中執(zhí)行層間跳轉(zhuǎn)且同時(shí)相似地避開未記錄區(qū)域M的情形。此訪問方法還表示在當(dāng)前記錄層3中不移動(dòng)就執(zhí)行層間跳轉(zhuǎn)的情形。換句話說，在記錄信息管理部分26中，當(dāng)確定圖中的點(diǎn)C′處于未記錄區(qū)域M中并且記錄層4中與形成當(dāng)前光點(diǎn)的軌道點(diǎn)P相應(yīng)的軌道點(diǎn)D處于記錄區(qū)域R中時(shí)，對(duì)點(diǎn)D執(zhí)行層間跳轉(zhuǎn)并移動(dòng)到記錄層4中的第一臨時(shí)目標(biāo)軌道點(diǎn)B。然后，對(duì)目標(biāo)位置點(diǎn)A執(zhí)行追蹤，由此實(shí)現(xiàn)可靠的訪問操作，此操作不受未記錄區(qū)域M的影響。
(具有層間跳轉(zhuǎn)的訪問4)如圖9所示的訪問方法表示在多個(gè)記錄層中執(zhí)行層間跳轉(zhuǎn)且同時(shí)相似地避開未記錄區(qū)域M的情形。此訪問方法表示通過在當(dāng)前記錄層3中沿前進(jìn)方向移動(dòng)而執(zhí)行層間跳轉(zhuǎn)并且通過再次沿前進(jìn)方向移動(dòng)而對(duì)目標(biāo)位置執(zhí)行追蹤的情形。換句話說，在記錄信息管理部分26中，確定圖中的點(diǎn)C′處于未記錄區(qū)域M中，并且，訪問目標(biāo)設(shè)定電路27確定以點(diǎn)P，D′，D，B和A的降序進(jìn)行訪問。在圖6或圖7的情形中，在記錄層3中的第一移動(dòng)在與前進(jìn)方向相反的方向上。相比之下，此實(shí)例的特征在于第一移動(dòng)在前進(jìn)方向上。
(使用流程圖描述操作在相同記錄層中的訪問方法)現(xiàn)在，使用圖12的流程圖來詳細(xì)描述在圖5所示的相同記錄層中進(jìn)行的訪問方法。在圖12的流程圖中，首先，在系統(tǒng)控制器25接收信息記錄請(qǐng)求的情況下(ST11)，系統(tǒng)控制器25檢查是否包含與將要記錄的信息的容量有關(guān)的信息。在此檢查結(jié)果中發(fā)現(xiàn)將要記錄的信息容量的情況下，過程前進(jìn)到下一步驟，查閱與記錄信息的容量有關(guān)的信息。在下一步驟中，圖1的記錄信息管理部分26檢查可在當(dāng)前形成光點(diǎn)的記錄層中進(jìn)行記錄的記錄區(qū)域，即，可記錄區(qū)域K的容量和位置以及未記錄區(qū)域M的容量和位置(ST12)，并進(jìn)一步檢查可在另一記錄層中記錄的信息記錄區(qū)域K的剩余區(qū)域和位置，即未記錄區(qū)域M的容量和位置(ST13)。
然后，訪問目標(biāo)設(shè)定電路27通過用兩個(gè)被檢查的記錄層上的信息來確定/選擇其中應(yīng)記錄信息的記錄層以及目標(biāo)軌道位置(ST14)。同時(shí)，在未記錄區(qū)域M存在于將要訪問的記錄層中的情況下，或者尤其在未記錄區(qū)域M的附近進(jìn)行訪問或?qū)ξ从涗泤^(qū)域M執(zhí)行記錄的情況下，訪問目標(biāo)設(shè)定電路27在目標(biāo)記錄層中設(shè)定第一臨時(shí)目標(biāo)軌道(點(diǎn)B)。另外，在確定將要訪問的記錄層與當(dāng)前記錄層不同時(shí)，此設(shè)定電路27在目標(biāo)記錄層中設(shè)定第二臨時(shí)目標(biāo)軌道(點(diǎn)C)并在當(dāng)前記錄層中設(shè)定第三臨時(shí)目標(biāo)軌道(點(diǎn)C′)，以便開始訪問操作。
與圖5中的情形相同，以這樣的方式，作為選擇記錄層和選擇/設(shè)定目標(biāo)軌道和臨時(shí)目標(biāo)軌道的結(jié)果，確定在其上形成光點(diǎn)的當(dāng)前層中執(zhí)行記錄。在未記錄區(qū)域M存在于當(dāng)前記錄層中并在未記錄區(qū)域M中執(zhí)行記錄的情況下，首先執(zhí)行對(duì)第一臨時(shí)目標(biāo)軌道(點(diǎn)B)的訪問操作。在訪問操作中，控制主軸電機(jī)2，以獲得用于臨時(shí)目標(biāo)軌道的預(yù)置轉(zhuǎn)速(ST15)。在讀取地址并終止訪問的階段中，執(zhí)行對(duì)目標(biāo)軌道(點(diǎn)A)的訪問操作(ST16)，并且開始信息記錄(ST17)。在ST16中對(duì)目標(biāo)軌道的訪問操作中，由于第一臨時(shí)目標(biāo)軌道設(shè)定為用相對(duì)較短的距離來實(shí)現(xiàn)訪問操作，因此，該訪問操作可通過使用精確定位機(jī)構(gòu)6的軌道跳轉(zhuǎn)所導(dǎo)致的訪問來實(shí)現(xiàn)，或通過維持追蹤狀態(tài)來實(shí)現(xiàn)。
(使用流程圖描述操作具有層間跳轉(zhuǎn)的訪問方法)現(xiàn)在，結(jié)合以下訪問操作描述在未記錄區(qū)域M不存在于當(dāng)前層中的情形(圖6)時(shí)的操作，在此訪問操作中，當(dāng)在圖12流程圖的記錄層選擇(ST14)中確定在與其上形成光點(diǎn)的記錄層不同的記錄層中執(zhí)行記錄時(shí)，訪問記錄目標(biāo)層的預(yù)定記錄起始位置。
在此訪問方法中，與上述相同記錄層中的訪問方法一樣，由訪問目標(biāo)設(shè)定電路27設(shè)定第一臨時(shí)目標(biāo)軌道(點(diǎn)B)，并且同時(shí)設(shè)定第二臨時(shí)目標(biāo)軌道(點(diǎn)C)和第三臨時(shí)目標(biāo)軌道(點(diǎn)C′)(ST18)。在未記錄區(qū)域M不存在于當(dāng)前記錄層中的情況下，或者，在記錄信息管理部分確定在訪問操作的路徑上不經(jīng)過未記錄區(qū)域M的情況下，在遠(yuǎn)離第一臨時(shí)目標(biāo)軌道(點(diǎn)B)的記錄區(qū)域一側(cè)上設(shè)置第二臨時(shí)目標(biāo)軌道(點(diǎn)C)。在記錄信息管理部分26中計(jì)算當(dāng)前層中基本與此第二臨時(shí)目標(biāo)軌道地址相對(duì)應(yīng)的地址。進(jìn)一步地，具有計(jì)算地址的當(dāng)前記錄層的軌道由訪問目標(biāo)設(shè)定電路27確定為第三臨時(shí)目標(biāo)軌道(點(diǎn)C′)。
隨后，沿著圖12的流程圖執(zhí)行訪問第三臨時(shí)目標(biāo)軌道(點(diǎn)C′)的操作(ST19)。此外，在讀取地址并終止訪問的階段中，然后執(zhí)行層間跳轉(zhuǎn)(ST20)，并且執(zhí)行聚焦引入動(dòng)作(ST21)、軌道引入動(dòng)作(ST22)以及各種伺服調(diào)節(jié)操作。在此訪問操作中，控制主軸電機(jī)2，以分別獲得對(duì)于點(diǎn)C和C′的兩個(gè)不同預(yù)置速度。
由于在已解除軌道定位控制之后此層間跳轉(zhuǎn)可被控制作為聚焦定位操作的一部分，因此，可通過由補(bǔ)償控制器20向聚焦機(jī)構(gòu)控制電路22提供控制操作量，而實(shí)現(xiàn)層間跳轉(zhuǎn)。如果從當(dāng)前記錄層中與記錄目標(biāo)層的預(yù)定記錄位置相對(duì)應(yīng)的軌道執(zhí)行層間跳轉(zhuǎn)，此跳轉(zhuǎn)到達(dá)記錄目標(biāo)層的預(yù)定記錄位置附近，并且執(zhí)行聚焦引入動(dòng)作，以便執(zhí)行聚焦定位控制。此時(shí)，在與層間跳轉(zhuǎn)的同時(shí)，光學(xué)校正機(jī)構(gòu)控制電路21調(diào)節(jié)光學(xué)校正機(jī)構(gòu)，以便形成相對(duì)于記錄目標(biāo)層的正確光點(diǎn)。結(jié)果，由于可對(duì)記錄目標(biāo)層執(zhí)行聚焦定位控制，因此，基于軌道定位誤差檢測(cè)電路19檢測(cè)到的軌道位置誤差來執(zhí)行軌道定位控制。通過此軌道定位控制而相對(duì)于可引入的信息軌道來對(duì)光點(diǎn)進(jìn)行軌道定位，使得有可能讀取地址。盡管讀取引入軌道的地址，但此地址不總是與第二臨時(shí)目標(biāo)軌道(點(diǎn)C)一致。從此地址讀取結(jié)果計(jì)算到記錄起始位置的距離，并且在上述相同記錄層中執(zhí)行訪問操作，從而，執(zhí)行訪問第一臨時(shí)目標(biāo)軌道(點(diǎn)B)的操作(ST23)。在執(zhí)行軌道引入動(dòng)作(ST24)并確認(rèn)可以成功地訪問第一臨時(shí)目標(biāo)軌道(點(diǎn)B)之后，執(zhí)行訪問目標(biāo)軌道(點(diǎn)A)的操作(ST25)，如短距離跳轉(zhuǎn)，并終止訪問操作，以便開始信息記錄(ST26)。
在ST25的訪問目標(biāo)軌道(點(diǎn)A)的操作中，設(shè)定第一臨時(shí)目標(biāo)軌道(點(diǎn)B)，以確保用相對(duì)較短的距離進(jìn)行訪問操作，這與先前實(shí)施例相同。因而，該訪問操作可通過使用精確定位機(jī)構(gòu)6的軌道跳轉(zhuǎn)或通過維持追蹤狀態(tài)來實(shí)現(xiàn)。
(簡(jiǎn)單訪問方法)圖10所示訪問方法是一種簡(jiǎn)單而實(shí)用的訪問方法。在圖10中，在其上形成當(dāng)前光點(diǎn)(點(diǎn)P)的記錄層4中存在未記錄區(qū)域M并且在其中存在將被記錄的軌道點(diǎn)A的目標(biāo)記錄層3中不存在未記錄區(qū)域M的情形下，提供一種用于在此位置直接執(zhí)行層間跳轉(zhuǎn)的訪問方法。換句話說，忽略設(shè)置第三臨時(shí)目標(biāo)軌道(點(diǎn)C′)的步驟(ST19)，并且首先執(zhí)行到記錄目標(biāo)層3的層間跳轉(zhuǎn)(ST20)。隨后，在記錄目標(biāo)層3中，忽略設(shè)置第一臨時(shí)目標(biāo)軌道(點(diǎn)B)的步驟(ST23)，并且執(zhí)行訪問目標(biāo)軌道(點(diǎn)A)的操作。
因而，只在以上情形下忽略臨時(shí)目標(biāo)軌道(如點(diǎn)C、C′、B等)，并且立即進(jìn)行訪問，從而，如果還設(shè)置記錄信息管理部分26和訪問目標(biāo)設(shè)定電路27，就通過總是經(jīng)過記錄區(qū)域R而對(duì)具有多個(gè)記錄層且具有未記錄區(qū)域M的光盤執(zhí)行訪問操作，使得有可能執(zhí)行更迅速更穩(wěn)定的訪問操作。
(失控狀態(tài)的恢復(fù)過程)圖11示出在以下情形中的處理方法，此情形為已經(jīng)因訪問過程中的失控或軌道偏差以及聚焦偏差等而無意地在未記錄區(qū)域M內(nèi)形成光點(diǎn)。如圖11所示，與附圖中點(diǎn)P的情形一樣，由于訪問操作過程中的某個(gè)干擾而可能在未記錄區(qū)域M內(nèi)無意地發(fā)生跟蹤。在某些情形下，即使在恒定的跟蹤伺服狀態(tài)下也發(fā)生此種情況。
換句話說，在圖20所示流程圖中，在記錄/再現(xiàn)操作(ST71)中已檢測(cè)到失控狀態(tài)(ST74)的情形下，此狀態(tài)由定位誤差檢測(cè)電路19檢測(cè)。換句話說，例如，在檢測(cè)出聚焦定位誤差信號(hào)的振幅變化或軌道定位誤差信號(hào)的變化以便確定被檢測(cè)變化為未記錄區(qū)域M的情形(ST72)下，或者，在被檢測(cè)變化由返回光信號(hào)確定為未記錄區(qū)域M的情形(ST73)下，檢測(cè)未記錄區(qū)域M中的失控狀態(tài)(ST75)。然后，在執(zhí)行除聚焦定位之外的各種伺服操作之前，粗定位機(jī)構(gòu)12使光頭10本身沿內(nèi)周方向移動(dòng)(ST76)。
因而光頭沿內(nèi)周方向移動(dòng)，從而有可能使光點(diǎn)移動(dòng)到圖11的記錄區(qū)域R。到記錄區(qū)域R的移動(dòng)相似地由定位誤差檢測(cè)電路19檢測(cè)。注意，根據(jù)光盤D中心到從其中讀取地址的軌道的距離，控制主軸電機(jī)2的轉(zhuǎn)速。另外，即使在光點(diǎn)通過此移動(dòng)過程而移動(dòng)到最內(nèi)周的情形下，如果確定未成功地到達(dá)記錄區(qū)域R，也執(zhí)行用于改變記錄層的層間跳轉(zhuǎn)，以便處理它(ST76、ST77)。在引入光頭定位控制(ST78)之后，過程返回到記錄或再現(xiàn)操作(ST79)。
當(dāng)已經(jīng)以此方式無意地到達(dá)未記錄區(qū)域M時(shí)，執(zhí)行向內(nèi)周一側(cè)的引入動(dòng)作或相關(guān)跳轉(zhuǎn)，由此迅速地從未記錄區(qū)域M逃脫而不使伺服狀態(tài)不穩(wěn)定，并有可能實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的操作。
通過使用表示沒有從信號(hào)處理系統(tǒng)發(fā)送數(shù)據(jù)的信息，而確定已經(jīng)無意地到達(dá)未記錄區(qū)域M。
以上對(duì)訪問記錄操作請(qǐng)求的操作進(jìn)行了描述。訪問再現(xiàn)操作請(qǐng)求的操作可以相似地執(zhí)行。
另外，在本實(shí)施例的情況下，當(dāng)檢測(cè)到失控狀態(tài)時(shí)，根據(jù)與其上形成光點(diǎn)的層的記錄方案有關(guān)的信息，光頭10自身被粗定位機(jī)構(gòu)12移動(dòng)的方向相應(yīng)地切換到內(nèi)周一側(cè)或外周一側(cè)，并且控制此方向以便總是到達(dá)記錄區(qū)域R或可記錄區(qū)域K。
<第二實(shí)施例>
根據(jù)第二實(shí)施例，提供一種光盤裝置以及一種光盤裝置訪問方法，其中，此方法處理具有第一實(shí)施例的特征且具有多個(gè)記錄層的光盤，所述光盤具有軌道結(jié)構(gòu)，其中至少一個(gè)記錄層沿從外周一側(cè)到內(nèi)周一側(cè)的方向執(zhí)行記錄處理。圖13為示出根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的具有層間跳轉(zhuǎn)的訪問方法實(shí)例的光盤剖視圖。
在根據(jù)第二實(shí)施例處理的光盤中，多個(gè)記錄層中的至少一個(gè)沿從外周一側(cè)到內(nèi)周一側(cè)的方向執(zhí)行記錄處理。圖13所示光盤在一側(cè)上具有兩個(gè)記錄層，并且其軌道結(jié)構(gòu)設(shè)置為槽結(jié)構(gòu)，其中，記錄層3沿從內(nèi)周到外周的方向執(zhí)行記錄處理，此方向與通常方向一樣，并且記錄層4具有用于沿外周到內(nèi)周的方向執(zhí)行記錄處理的軌道結(jié)構(gòu)。
在用于對(duì)具有此種盤結(jié)構(gòu)的光盤執(zhí)行記錄/再現(xiàn)的光盤裝置中，圖12流程圖所示光盤結(jié)構(gòu)和訪問處理程序與根據(jù)第一實(shí)施例的相同，因此忽略其描述。第二實(shí)施例的特征在于第二記錄層4的軌道結(jié)構(gòu)設(shè)置為從外周到內(nèi)周的可記錄結(jié)構(gòu)，從而，在點(diǎn)A的外周一側(cè)設(shè)置第一臨時(shí)目標(biāo)軌道(點(diǎn)B)，并且相似地在點(diǎn)A的外周一側(cè)設(shè)置第二臨時(shí)目標(biāo)軌道(點(diǎn)C)和第三臨時(shí)目標(biāo)軌道(點(diǎn)C′)。
在第二實(shí)施例中，在常規(guī)裝置內(nèi)，如果從內(nèi)周一側(cè)執(zhí)行層間跳轉(zhuǎn)，就經(jīng)常發(fā)生到未記錄區(qū)域M的跳轉(zhuǎn)，并且不穩(wěn)定的伺服狀態(tài)是不可避免的。然而，在根據(jù)本發(fā)明的訪問方法中，有可能進(jìn)行總是經(jīng)過記錄區(qū)域R的訪問。從而，提供一種能基于穩(wěn)定的伺服操作而實(shí)現(xiàn)可靠訪問過程的光盤裝置以及光盤裝置訪問方法。
<第三實(shí)施例>
根據(jù)第三實(shí)施例，提供一種光盤裝置以及一種光盤裝置訪問方法，其中，此方法處理具有第一實(shí)施例的特征且具有多個(gè)記錄層的光盤，至少一個(gè)記錄層具有由平面部分和槽部分組成的軌道結(jié)構(gòu)。圖14為示出根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的訪問方法實(shí)例的光盤視圖，此訪問方法根據(jù)具有平面部分和槽部分的光盤。圖15為示出根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的光盤裝置的配置實(shí)例的框圖。圖16和圖17為用于解釋根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的訪問方法的流程圖。圖18和圖19各為示出根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的訪問方法另一實(shí)例的光盤視圖，此訪問方法根據(jù)具有平面部分和槽部分的光盤。
如圖14所示，由根據(jù)第三實(shí)施例的光盤裝置處理的光盤在一面上具有兩個(gè)記錄層。此光盤為具有由槽部分102和平面部分103組成的軌道結(jié)構(gòu)的光盤。
另外，根據(jù)第三實(shí)施例的光盤裝置具有與第一實(shí)施例基本相同的結(jié)構(gòu)，并省略共用部分的描述。對(duì)于平面部分和槽部分，極性轉(zhuǎn)換電路28由系統(tǒng)控制器25可操作性地控制，極性轉(zhuǎn)換電路28是新增加的，用于在平面部分和槽部分之間執(zhí)行轉(zhuǎn)換。信息記錄或再現(xiàn)操作具有與第一實(shí)施例相同的目的，并且借助圖16和圖17的流程圖描述包括在槽部分和平面部分之間進(jìn)行轉(zhuǎn)換處理的過程。
在記錄光盤中設(shè)置槽部分和平面部分的情形下，通常首先對(duì)槽部分102進(jìn)行記錄，然后對(duì)平面部分103進(jìn)行記錄?，F(xiàn)在，借助首先如上所述對(duì)槽部分執(zhí)行記錄操作的情形的實(shí)例來描述第三實(shí)施例。
如果首先對(duì)槽部分執(zhí)行記錄，根據(jù)其記錄狀態(tài)的程度，由根據(jù)本發(fā)明的光盤裝置處理的光盤可大致分為以下情形整個(gè)平面部分為未記錄區(qū)域M并在槽部分的一部分中進(jìn)行記錄，如圖18所示；完成對(duì)整個(gè)槽部分的記錄并且未記錄區(qū)域M存在于平面部分的一部分中，如圖19所示。
使用圖16和圖17的流程圖來詳細(xì)描述此訪問過程。在圖16和圖17中，當(dāng)首先發(fā)生記錄或再現(xiàn)請(qǐng)求時(shí)(ST31)，通過圖15中記錄信息管理部分26的工作而檢測(cè)其上當(dāng)前形成光點(diǎn)的各個(gè)平面部分和槽部分的未記錄區(qū)域M、記錄區(qū)域R和可記錄區(qū)域K(ST32)。其次，檢測(cè)其上未形成光點(diǎn)的各個(gè)平面部分和槽部分的未記錄區(qū)域M、記錄區(qū)域R和可記錄區(qū)域K(ST33)。然后，如果用于執(zhí)行記錄處理的層假設(shè)為其上當(dāng)前形成光點(diǎn)的層(ST34)，就判斷目標(biāo)是槽部分還是平面部分(ST35)，如圖17所示。
如果目標(biāo)是槽部分，就只對(duì)槽部分進(jìn)行訪問，因?yàn)椴鄄糠謩澐譃橛涗泤^(qū)域R和未記錄區(qū)域M，并且希望整個(gè)平面部分是未記錄區(qū)域M。換句話說，判斷當(dāng)前目標(biāo)是否為平面部分(ST36)。當(dāng)目標(biāo)是平面部分時(shí)，通過極性轉(zhuǎn)換電路28的工作，極性從圖18的起始位置(點(diǎn)Z)轉(zhuǎn)換到內(nèi)周處的槽部分(ST37)。然后，設(shè)定第一臨時(shí)目標(biāo)軌道(點(diǎn)Y)，并且移動(dòng)光點(diǎn)(ST38)。然后，執(zhí)行訪問最終目標(biāo)軌道(點(diǎn)X)的操作(ST39)，從而終止訪問(ST40)。
在步驟ST36中，如果當(dāng)前目標(biāo)為槽部分，就只對(duì)槽部分進(jìn)行訪問，而不改變極性。在光點(diǎn)已經(jīng)移動(dòng)到第一臨時(shí)目標(biāo)軌道(點(diǎn)Y)(ST41)之后，執(zhí)行對(duì)目標(biāo)軌道(點(diǎn)X)的跟蹤(ST42)，從而終止訪問(ST43)。
此外，結(jié)合在步驟ST35中確定目標(biāo)為平面部分的情形進(jìn)行描述。當(dāng)確定目標(biāo)為平面部分時(shí)，希望整個(gè)槽部分是容易移動(dòng)的記錄區(qū)域R，并且平面部分為記錄區(qū)域R和未記錄區(qū)域M。從而，經(jīng)過具有記錄區(qū)域R的槽部分進(jìn)行訪問，在記錄區(qū)域R中操作是穩(wěn)定的。
如果光點(diǎn)(點(diǎn)V)存在于當(dāng)前平面部分中(ST50)，就立即轉(zhuǎn)換極性，并且當(dāng)前光點(diǎn)移動(dòng)到槽部分的光點(diǎn)(點(diǎn)U)處，對(duì)槽部分易于進(jìn)行訪問(ST51)。然后，在槽部分中設(shè)定第三臨時(shí)目標(biāo)軌道(點(diǎn)Y)，并且移動(dòng)光點(diǎn)(ST52)。此外，通過記錄信息管理部分26的工作，極性轉(zhuǎn)換到在內(nèi)周處的平面部分(ST53)。設(shè)定轉(zhuǎn)換后的光點(diǎn)位置為第二臨時(shí)目標(biāo)軌道(ST53)。隨后，光點(diǎn)被追蹤到最終目標(biāo)軌道(點(diǎn)W)(ST54)，并且當(dāng)光點(diǎn)到達(dá)最終目標(biāo)軌道時(shí)終止訪問(ST55)。以此方式，光點(diǎn)從點(diǎn)U經(jīng)點(diǎn)V和Y到達(dá)點(diǎn)W。
此外，結(jié)合記錄層與當(dāng)前層不同并且在圖16流程圖的步驟ST34中執(zhí)行層間跳轉(zhuǎn)的情形進(jìn)行描述。如果明顯是在步驟ST34中在與當(dāng)前層不同的層中執(zhí)行記錄，就從記錄信息管理部分26檢測(cè)當(dāng)前記錄層的地址(ST60)，此地址與記錄層中用于記錄的記錄區(qū)域的邊界區(qū)域相對(duì)應(yīng)。在記錄信息管理部分26中，與以上第一實(shí)施例的情形相同，從在步驟ST32和步驟ST33中檢測(cè)到的每個(gè)記錄層的記錄區(qū)域R和未記錄區(qū)域M分布，來確定不經(jīng)過未記錄區(qū)域M的穩(wěn)定的可訪問地址。然后，對(duì)以上當(dāng)前地址進(jìn)行訪問(ST61)。隨后，執(zhí)行到記錄層的層間跳轉(zhuǎn)(ST62)。此外，執(zhí)行聚焦引入動(dòng)作(ST63)，并執(zhí)行軌道引入動(dòng)作(ST64)。然后，如圖17所示，根據(jù)目標(biāo)是否為槽部分或者當(dāng)前位置是在槽部分或是平面部分中而執(zhí)行訪問過程。
如以上結(jié)合流程圖所述，同樣在用于光盤裝置的光盤具有平面部分和槽部分的情形中，執(zhí)行訪問，同時(shí)避開伺服不穩(wěn)定的未記錄區(qū)域M，由此實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定迅速的訪問過程，此情形與第一實(shí)施例和第二實(shí)施例的情形相同。具體地，在槽部分具有槽部分比平面部分更早進(jìn)行記錄的軌道結(jié)構(gòu)的情形中，首先經(jīng)過其上分布穩(wěn)定的記錄區(qū)域R的槽部分進(jìn)行訪問。
在此，槽部分是軌道結(jié)構(gòu)上相對(duì)于光入射而凸出的一部分，而平面部分是軌道結(jié)構(gòu)上凹進(jìn)的一部分。以上第三實(shí)施例借助首先記錄槽部分的實(shí)例進(jìn)行描述，但本發(fā)明也可應(yīng)用于首先記錄平面部分的情形中。在此情形中，通過用平面部分替換槽部分，以上訪問過程能實(shí)現(xiàn)具有相似操作和有利效果的訪問過程，反之亦然。
(簡(jiǎn)單訪問)此外，在未記錄區(qū)域M存在于當(dāng)前層中并且在訪問目標(biāo)層中不存在未記錄部分的情形中，即使目標(biāo)地址位于不同層的平面部分或槽部分中，也可以使用以下方法首先執(zhí)行從當(dāng)前層到訪問目標(biāo)層的層間跳轉(zhuǎn)，然后用在以上流程圖中所述的訪問方法進(jìn)行訪問。
本領(lǐng)域中技術(shù)人員可根據(jù)上述的各個(gè)實(shí)施例來實(shí)現(xiàn)本發(fā)明。此外，本領(lǐng)域中技術(shù)人員容易對(duì)這些實(shí)施例發(fā)明出各種變更例。即使本領(lǐng)域技術(shù)人員不具有創(chuàng)造能力，本發(fā)明也可應(yīng)用于各種實(shí)施例。從而，本發(fā)明包括不與上述原理和新特征相矛盾的廣泛范圍，并且不局限于以上實(shí)施例。
如以上詳細(xì)描述的，根據(jù)本發(fā)明，提供一種光盤裝置以及一種光盤裝置訪問方法，此方法在訪問操作過程中不經(jīng)過未記錄區(qū)域M就可實(shí)現(xiàn)快速而穩(wěn)定的訪問操作。
權(quán)利要求
1.一種光盤裝置，特征在于包括向具有記錄層的光盤發(fā)射激光并接收反射光以執(zhí)行記錄處理和再現(xiàn)處理之一的光頭；基于光頭所接收的反射光而檢測(cè)光盤上記錄區(qū)域和未記錄區(qū)域分布的檢測(cè)單元；以及控制單元，此單元基于檢測(cè)單元所檢測(cè)的記錄區(qū)域和未記錄區(qū)域分布，控制所述光頭以便訪問光盤的記錄層的目標(biāo)位置，同時(shí)避開未記錄區(qū)域。
2.如權(quán)利要求1所述的光盤裝置，特征在于控制單元在目標(biāo)位置之前設(shè)定第二目標(biāo)位置，將光頭移動(dòng)到此位置，然后追蹤到目標(biāo)位置。
3.如權(quán)利要求1所述的光盤裝置，特征在于當(dāng)光盤具有多個(gè)記錄層并且目標(biāo)位置在與第一記錄層不同的第二記錄層中時(shí)，其中所述光頭當(dāng)前定位于第一記錄層上，控制單元執(zhí)行層間跳轉(zhuǎn)，同時(shí)避開未記錄區(qū)域。
4.如權(quán)利要求1所述的光盤裝置，特征在于在光盤具有多個(gè)記錄層并且目標(biāo)位置在與第一記錄層不同的第二記錄層中的情形下，其中，所述光頭當(dāng)前定位于第一記錄層上，以及在當(dāng)前訪問位置上執(zhí)行層間跳轉(zhuǎn)時(shí)會(huì)對(duì)第二記錄層的未記錄區(qū)域進(jìn)行訪問的情形下，控制單元將光頭移動(dòng)到第一記錄層中與第二記錄層中不存在未記錄區(qū)域的位置相對(duì)應(yīng)的位置上，然后，光頭以層間方式進(jìn)行跳轉(zhuǎn)而移動(dòng)到目標(biāo)位置。
5.如權(quán)利要求1所述的光盤裝置，特征在于在光盤具有多個(gè)記錄層并且目標(biāo)位置在與第一記錄層不同的第二記錄層中的情形下，其中，所述光頭當(dāng)前定位于第一記錄層上，以及在當(dāng)前訪問位置上執(zhí)行層間跳轉(zhuǎn)時(shí)會(huì)對(duì)第二記錄層的未記錄區(qū)域進(jìn)行訪問的情形下，控制單元將光頭移動(dòng)到第一記錄層中與第二記錄層中不存在未記錄區(qū)域的位置相對(duì)應(yīng)的位置上，光頭以層間方式跳轉(zhuǎn)并到達(dá)第二記錄層中不存在未記錄區(qū)域的位置上，此外，在目標(biāo)位置之前設(shè)定第二目標(biāo)位置，并且，光頭移動(dòng)到此位置，以追蹤到目標(biāo)位置。
6.如權(quán)利要求1所述的光盤裝置，特征在于當(dāng)光盤具有多個(gè)堆疊的記錄層，并且檢測(cè)單元檢測(cè)出在其上當(dāng)前定位光頭的第一記錄層中存在未記錄區(qū)域以及在與第一記錄層不同的第二記錄層中存在目標(biāo)位置時(shí)，控制單元在執(zhí)行到第二記錄層的層間跳轉(zhuǎn)之后對(duì)目標(biāo)位置進(jìn)行訪問，而不在第一記錄層中移動(dòng)光頭。
7.如權(quán)利要求1所述的光盤裝置，特征在于當(dāng)檢測(cè)單元檢測(cè)出光頭當(dāng)前定位在未記錄區(qū)域上時(shí)，控制單元控制光頭引入到比光頭更靠?jī)?nèi)周一側(cè)的記錄區(qū)域。
8.如權(quán)利要求1所述的光盤裝置，特征在于當(dāng)光盤的記錄層為從外周到內(nèi)周進(jìn)行記錄的層時(shí)，在訪問目標(biāo)位置的過程中，控制單元在目標(biāo)位置的外周一側(cè)上設(shè)定第二目標(biāo)位置，將光頭移動(dòng)到此位置，然后追蹤到目標(biāo)位置。
9.如權(quán)利要求1所述的光盤裝置，特征在于當(dāng)光盤的記錄層具有平面部分和槽部分時(shí)，在訪問目標(biāo)位置的過程中，控制單元根據(jù)平面部分和槽部分的記錄方向，在目標(biāo)位置之前設(shè)定第二目標(biāo)位置，將光頭移動(dòng)到此位置，然后追蹤到目標(biāo)位置。
10.一種光盤裝置，特征在于包括向具有記錄層的光盤發(fā)射激光束并接收反射光以執(zhí)行記錄處理和再現(xiàn)處理之一的光頭；以及控制單元，此單元在目標(biāo)位置之前設(shè)定第二目標(biāo)位置以便使光頭訪問光盤記錄層的目標(biāo)位置，將光頭移動(dòng)到此位置，然后追蹤到目標(biāo)位置。
11.一種用于光盤裝置的訪問方法，特征在于包括向具有記錄層的光盤發(fā)射激光并接收反射光，由此基于光頭所接收的反射光而檢測(cè)光盤上的記錄區(qū)域和未記錄區(qū)域分布，以便執(zhí)行記錄處理和再現(xiàn)處理之一；以及基于所檢測(cè)到的記錄區(qū)域和未記錄區(qū)域分布，控制所述光頭以便訪問光盤記錄層的目標(biāo)位置，同時(shí)避開未記錄區(qū)域。
12.如權(quán)利要求11所述的光盤裝置訪問方法，特征在于對(duì)所述光頭的控制在目標(biāo)位置之前設(shè)定第二目標(biāo)位置，將光頭移動(dòng)到此位置，然后追蹤到目標(biāo)位置。
13.如權(quán)利要求11所述的光盤裝置訪問方法，特征在于當(dāng)光盤具有多個(gè)記錄層并且目標(biāo)位置在與第一記錄層不同的第二記錄層中時(shí)，對(duì)所述光頭的控制執(zhí)行層間跳轉(zhuǎn)，同時(shí)避開未記錄區(qū)域，其中，所述光頭當(dāng)前定位于第一記錄層上。
14.如權(quán)利要求11所述的光盤裝置訪問方法，特征在于在光盤具有多個(gè)記錄層并且目標(biāo)位置在與第一記錄層不同的第二記錄層中的情形下，其中，所述光頭當(dāng)前定位于第一記錄層上，以及在當(dāng)前訪問位置上執(zhí)行層間跳轉(zhuǎn)時(shí)會(huì)對(duì)第二記錄層的未記錄區(qū)域進(jìn)行訪問的情形下，對(duì)所述光頭的控制將光頭移動(dòng)到第一記錄層中與第二記錄層中不存在未記錄區(qū)域的位置相對(duì)應(yīng)的位置上，執(zhí)行光頭的層間跳轉(zhuǎn)，然后追蹤到目標(biāo)位置。
15.如權(quán)利要求11所述的光盤裝置訪問方法，特征在于在光盤具有多個(gè)記錄層并且目標(biāo)位置在與第一記錄層不同的第二記錄層中的情形下，其中，所述光頭當(dāng)前定位于第一記錄層上，以及在當(dāng)前訪問位置上執(zhí)行層間跳轉(zhuǎn)時(shí)會(huì)對(duì)第二記錄層的未記錄區(qū)域進(jìn)行訪問的情形下，對(duì)所述光頭的控制將光頭移動(dòng)到第一記錄層中與第二記錄層中不存在未記錄區(qū)域的位置相對(duì)應(yīng)的位置上，對(duì)光頭執(zhí)行層間跳轉(zhuǎn)并到達(dá)第二記錄層中不存在未記錄區(qū)域的位置上，此外，對(duì)所述光頭的控制在目標(biāo)位置之前設(shè)定第二目標(biāo)位置，移動(dòng)光頭到此位置，然后追蹤到目標(biāo)位置。
16.如權(quán)利要求11所述的光盤裝置訪問方法，特征在于當(dāng)光盤具有多個(gè)堆疊的記錄層，并且檢測(cè)出在其上當(dāng)前定位光頭的第一記錄層中存在未記錄區(qū)域以及檢測(cè)出在與第一記錄層不同的第二記錄層中存在目標(biāo)位置時(shí)，對(duì)所述光頭的控制在執(zhí)行到第二記錄層的層間跳轉(zhuǎn)之后對(duì)目標(biāo)位置進(jìn)行訪問，而不在第一記錄層中移動(dòng)光頭。
17.如權(quán)利要求11所述的光盤裝置訪問方法，特征在于當(dāng)檢測(cè)出光頭當(dāng)前定位在未記錄區(qū)域上時(shí)，對(duì)所述光頭的控制使光頭被引入到比光頭更靠?jī)?nèi)周一側(cè)的記錄區(qū)域。
18.如權(quán)利要求11所述的光盤裝置訪問方法，特征在于當(dāng)光盤的記錄層為從外周到內(nèi)周進(jìn)行記錄的層時(shí)，在訪問目標(biāo)位置的過程中，對(duì)所述光頭的控制在目標(biāo)位置的外周一側(cè)上設(shè)定第二目標(biāo)位置，將光頭移動(dòng)到此位置，然后追蹤到目標(biāo)位置。
19.如權(quán)利要求11所述的光盤裝置訪問方法，特征在于當(dāng)光盤的記錄層為從外周到內(nèi)周進(jìn)行記錄的層時(shí)，并且當(dāng)檢測(cè)出光頭當(dāng)前定位在未記錄區(qū)域上時(shí)，根據(jù)記錄層的記錄方案，對(duì)所述光頭的控制使光頭被引入到比光頭更靠?jī)?nèi)周一側(cè)或更靠外周一側(cè)的記錄區(qū)域。
20.如權(quán)利要求11所述的光盤裝置訪問方法，特征在于當(dāng)光盤的記錄層具有平面部分和槽部分時(shí)，在訪問目標(biāo)位置的過程中，對(duì)所述光頭的控制根據(jù)平面部分和槽部分的記錄方向，在目標(biāo)位置之前設(shè)定第二目標(biāo)位置，將光頭移動(dòng)到此位置，然后追蹤到目標(biāo)位置。
21.一種用于光盤裝置的訪問方法，特征在于包括當(dāng)使向具有記錄層的光盤發(fā)射激光并接收反射光以執(zhí)行記錄處理和再現(xiàn)處理之一的光頭訪問光盤的記錄層的目標(biāo)位置時(shí)，在目標(biāo)位置之前設(shè)定第二目標(biāo)位置，使光頭移動(dòng)到此位置，然后控制光頭以追蹤到目標(biāo)位置。
全文摘要
提供一種具有記錄信息管理部分(26)和訪問目標(biāo)設(shè)定電路(27)的光盤裝置，其中，記錄信息管理部分(26)基于光頭(10)所接收的反射光而檢測(cè)記錄區(qū)域R和未記錄區(qū)域M的分布；訪問目標(biāo)設(shè)定電路(27)基于檢測(cè)到的區(qū)域分布而確定光頭的訪問目標(biāo)，以便訪問光盤的記錄層的目標(biāo)位置，同時(shí)避開未記錄區(qū)域M。由于在只經(jīng)過記錄區(qū)域R的同時(shí)進(jìn)行訪問，因此使伺服操作得以穩(wěn)定。
文檔編號(hào)G11B7/00GK1475997SQ0315242
公開日2004年2月18日 申請(qǐng)日期2003年7月30日 優(yōu)先權(quán)日2002年7月30日
發(fā)明者米澤実, 米 申請(qǐng)人:株式會(huì)社東芝