專利名稱：光學(xué)拾取器的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光學(xué)拾取器的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置。
背景技術(shù)：
通常，盤片驅(qū)動(dòng)器是通過將光線發(fā)射到作為記錄介質(zhì)的盤片上而在其上記錄信息或再現(xiàn)其上的信息。盤片驅(qū)動(dòng)器包括其上放置盤片的轉(zhuǎn)臺(tái)，使轉(zhuǎn)臺(tái)旋轉(zhuǎn)的芯軸馬達(dá)，以及向盤片表面發(fā)射光線來實(shí)現(xiàn)記錄和再現(xiàn)的光學(xué)拾取器。
然而，從光學(xué)拾取器發(fā)射的光必須垂直地入射至盤片記錄表面，以形成精確的光點(diǎn)。如果光的入射方向傾斜，就不能在盤片上形成精確的光點(diǎn)。這樣在記錄和再現(xiàn)時(shí)就會(huì)產(chǎn)生誤差。因此，為了在預(yù)期的盤片軌跡上形成精確的光點(diǎn)，光必須垂直地入射至盤片記錄表面。使光垂直地入射至盤片記錄表面的調(diào)整被稱為傾斜調(diào)整或偏斜調(diào)整。典型地，物鏡驅(qū)動(dòng)裝置控制物鏡在聚焦方向和跟蹤方向的位置，因此光束精確聚焦在盤片記錄表面的預(yù)期軌跡上。然而，物鏡驅(qū)動(dòng)裝置通過在物鏡和盤片記錄表面之間保持恒定的距離來保持光點(diǎn)焦點(diǎn)，并能控制使光點(diǎn)沿循預(yù)期的軌跡，但它并不直接控制光線相對(duì)于盤片記錄表面的入射角度。因此，為了更加精確地進(jìn)行記錄和再現(xiàn)，就需要物鏡驅(qū)動(dòng)裝置具有一種能夠動(dòng)態(tài)調(diào)節(jié)傾斜度的功能。
為滿足上述需要，如圖1和2所示，曾有人建議在傳統(tǒng)的光學(xué)拾取器的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置中引入動(dòng)態(tài)的傾斜調(diào)整機(jī)構(gòu)。圖示的光學(xué)拾取器是物鏡驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，其包括聚焦和跟蹤調(diào)整機(jī)構(gòu)、及傾斜調(diào)整機(jī)構(gòu)，聚焦和跟蹤調(diào)整機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)安裝有物鏡1的托板2沿著聚焦方向A和跟蹤方向B運(yùn)動(dòng)，傾斜調(diào)整機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)托板2沿著傾斜方向C運(yùn)動(dòng)。
聚焦和跟蹤調(diào)整機(jī)構(gòu)的典型結(jié)構(gòu)包括一個(gè)聚焦線圈3，一個(gè)跟蹤線圈4和一個(gè)磁體8。這樣，聚焦和跟蹤調(diào)整機(jī)構(gòu)通過控制流經(jīng)聚焦線圈3和跟蹤線圈4中的電流產(chǎn)生用以驅(qū)動(dòng)托板2的電磁力。附圖標(biāo)記5表示一根支承托板2相對(duì)于支架6移動(dòng)的線。
傾斜調(diào)整機(jī)構(gòu)包括插入基座10上的凸起16a和16b中的鋼絲17a和17b，環(huán)繞凸起16a和16b的傾斜線圈15a和15b，以及安裝在托板2上與鋼絲17a和17b相對(duì)的傾斜磁體14a和14b。這樣，鋼絲17a和17b根據(jù)傾斜線圈15a和15b中的電流方向而被磁化。鋼絲17a和17b與傾斜磁體14a和14b之間的磁力作用沿著傾斜方向C驅(qū)動(dòng)托板2。
在上述結(jié)構(gòu)中，由于傾斜調(diào)整機(jī)構(gòu)的構(gòu)成元件，如傾斜線圈15a和15b是安裝在基座10的附加空間中的，與聚焦和跟蹤調(diào)整機(jī)構(gòu)的空間相隔開，很難使物鏡驅(qū)動(dòng)裝置結(jié)構(gòu)緊湊。而且，由于相對(duì)來說本身較重的傾斜磁體14a和14b安裝在作為驅(qū)動(dòng)部分的托板2上，所以驅(qū)動(dòng)部分的重量大導(dǎo)致響應(yīng)速度降低。因此，需要建立一種在盤片和光學(xué)拾取器之間可以實(shí)現(xiàn)精確的物鏡驅(qū)動(dòng)控制和傾斜控制的結(jié)構(gòu)。

發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述以及其它的一些問題，本發(fā)明提供了一種無需增大裝置尺寸或驅(qū)動(dòng)部分的重量就能平穩(wěn)地控制物鏡驅(qū)動(dòng)的光學(xué)拾取器中的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，光學(xué)拾取器的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置包括基座，裝在基座上的支架，物鏡安裝在其上的托板，彈性地支承能相對(duì)于支架移動(dòng)的托板的彈性支承體，一對(duì)安裝在基座上彼此相對(duì)的磁性部件，以及安裝在托板處以位于磁性部件之間的線圈組件，所述線圈組件包括聚焦線圈、跟蹤線圈和傾斜線圈。


為了更清楚地描述本發(fā)明的上述特征，我們將結(jié)合附圖詳細(xì)描述其中的優(yōu)選實(shí)施方案，其中圖1是一個(gè)傳統(tǒng)的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置透視圖；圖2是對(duì)圖1中的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的分解透視圖；
圖3是根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的透視圖；圖4是對(duì)圖3中的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的分解透視圖；圖5是用于解釋圖3中的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置在聚焦方向上驅(qū)動(dòng)過程的視圖；圖6是用于解釋圖3中的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置在傾斜方向上驅(qū)動(dòng)過程的視圖；圖7是用于解釋圖3中的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置在跟蹤方向上驅(qū)動(dòng)過程的視圖；圖8是圖3中的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的線圈組件的一個(gè)示例的透視圖；圖9A至圖10B是圖3中物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的頂蓋示例的示意圖；圖11是圖3中的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置內(nèi)部軛件和外部軛件的另一個(gè)示例透視圖；以及圖12是圖11中基座的詳細(xì)透視圖。
具體實(shí)施例方式
參見圖3和圖4，支架110位于基座100上。安裝有物鏡130的托板120被多根能相對(duì)于支架110彈性地移動(dòng)的線140支承著。一對(duì)外部軛件180安裝在基座100上，而一對(duì)磁體150安裝在外部軛件180上以相互面對(duì)。線圈組件160安裝在托板120的重心處并處于磁體150之間。
每個(gè)磁體150都極化為兩極。磁體150以同極相對(duì)方式放置。放置在磁體150之間的線圈組件160包括垂直疊置的傾斜線圈162和聚焦線圈161以及附著在傾斜線圈162和聚焦線圈161的側(cè)面以面對(duì)磁體150的跟蹤線圈163。也就是說，與分散排布的傳統(tǒng)線圈不一樣，所述線圈裝于一個(gè)線圈組件160中，并位于磁體150之間，這樣就節(jié)省了安裝空間。
另外，設(shè)置了頂蓋170，該頂蓋包括頂部軛件171，其從線圈組件160的上部通過接觸外部軛件180的頂端而與該外部軛件180磁性連接；和內(nèi)部軛件172，其從頂部軛件171延伸以穿過疊置的聚焦線圈161和傾斜線圈162的中心，并且與基座100接合。頂蓋170具有將在磁體150之間產(chǎn)生的磁力線匯聚向線圈組件160的作用。
在上述結(jié)構(gòu)中，假定沿聚焦方向驅(qū)動(dòng)托板120。例如，當(dāng)如圖5所示電流通過聚焦線圈161時(shí)，通過與磁體150產(chǎn)生的磁力線相互作用，在向上的方向上產(chǎn)生電磁力。當(dāng)然，如果電流朝著相反的方向，則在相反的方向上產(chǎn)生電磁力。然而在本發(fā)明中，對(duì)電磁力的產(chǎn)生起作用的聚焦線圈161的有效長(zhǎng)度是傳統(tǒng)技術(shù)中的有效長(zhǎng)度的兩倍。也就是說，如圖1所示的傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)中，由于聚焦線圈3僅有一邊位于磁體8之間，在另一邊流動(dòng)的電流并不用來起控制作用。比較之下，如圖5所示，在根據(jù)本發(fā)明的結(jié)構(gòu)中，由于整個(gè)線圈組件160放置在極化為兩個(gè)極的磁體150之間，分別面對(duì)磁體150的聚焦線圈161的前后兩側(cè)作為有效線圈起作用。因此，提供同樣的電流的情況下能獲得相當(dāng)高的控制靈敏度。另外，由于頂蓋170的內(nèi)部軛件172能向線圈組件160匯聚磁力線，控制靈敏度進(jìn)一步提高了。也就是說，如果沒有內(nèi)部軛件172，則從各磁體150的N極到S極產(chǎn)生的磁力線和通過聚焦線圈160的非有效線圈部分的磁力線增強(qiáng)，控制的效率降低了。但是如果像本發(fā)明中那樣安裝內(nèi)部軛件172，則磁力線匯聚至通過有效線圈的方向上，且其它不必要的分量減弱，這樣控制的靈敏度能進(jìn)一步提高。這樣盡管不同的線圈都并入了一個(gè)線圈組件160中，并安置在一個(gè)狹小的空間里，起控制作用的有效長(zhǎng)度卻比傳統(tǒng)技術(shù)中提高了。
其次，當(dāng)沿傾斜方向驅(qū)動(dòng)托板120時(shí)，如圖6所示電流被提供給傾斜線圈162。這樣，通過與磁體150相互作用，在該圖的左邊沿向上的方向產(chǎn)生電磁力，而在該圖右邊沿向下的方向產(chǎn)生電磁力，這樣使托板120沿傾斜方向旋轉(zhuǎn)。要在相反的方向上旋轉(zhuǎn)托板120，可提供反方向的電流。在這種情況下可見，線圈的有效長(zhǎng)度增加了。即，在傳統(tǒng)技術(shù)中，如圖2所示，每個(gè)傾斜線圈15a和15b一側(cè)置于作為磁性部件的磁體14a和14b與鋼絲17a和17b之間。而本發(fā)明中由于傾斜線圈162面對(duì)磁體150的前后兩面都作為有效線圈，因此控制靈敏度就能被提高。
另外，利用由流過跟蹤線圈163的電流與磁體150之間相互作用產(chǎn)生的電磁力實(shí)現(xiàn)跟蹤控制。這樣，當(dāng)如圖7所示電流流過跟蹤線圈163時(shí)，通過與磁體150相互作用，在圖中向左的方向上產(chǎn)生電磁力。如果電流方向相反，則在相反的方向上形成電磁力。由此電磁力驅(qū)動(dòng)托板120實(shí)現(xiàn)了跟蹤控制。這種情況下，由于分別附著在疊置的聚焦線圈161和傾斜線圈162兩側(cè)面的跟蹤線圈163的垂直面用作與極化磁體150發(fā)生作用的有效線圈，與圖1所示的跟蹤線圈4安裝在聚焦線圈3的一側(cè)的傳統(tǒng)技術(shù)相比，線圈的有效長(zhǎng)度增加了。因此跟蹤控制的控制靈敏度就能被提高。
在本發(fā)明中，由于聚焦線圈161、傾斜線圈162和跟蹤線圈163都合并入線圈組件160中，并且安裝在磁體150之間的有限空間中，所以能大量地減少安裝空間。而且，盡管安裝空間有限，各個(gè)線圈用于控制的線圈有效長(zhǎng)度卻增加了，這樣使控制靈敏度得到提高。
在以上描述的優(yōu)選實(shí)施例中，線圈組件160的結(jié)構(gòu)是，聚焦線圈161疊置在傾斜線圈162的上下側(cè)，而跟蹤線圈163附著在這些線圈的兩側(cè)表面上。圖8所示的結(jié)構(gòu)與上述結(jié)構(gòu)不同，聚焦線圈161只被安裝在傾斜線圈162的上邊或下邊，跟蹤線圈163附著在這些線圈的兩側(cè)表面上。
另外，頂蓋170的結(jié)構(gòu)可被修改成多種形狀，如圖9A至10A所示。也就是說，盡管在圖3所示的優(yōu)選實(shí)施例中的頂蓋170包括頂部軛件171和內(nèi)部軛件172，它卻還可以進(jìn)一步包括部分外部軛件173a，如圖9A和9B所示。在這種情況下，基板100a上的第一部分外部軛件180a支承著磁體150a，并且當(dāng)頂蓋170a的一個(gè)內(nèi)部軛件172a與基座100a接合時(shí)，從頂蓋170a的頂部軛件171a延伸出的第二部分外部軛件173a與基座100a的第一部分外部軛件180a相接合以支承磁體150a。
更進(jìn)一步，如圖10A和10B所示，內(nèi)部軛件180b位于基座100b上，頂蓋170b上設(shè)置有固定著磁體150b的頂部軛件171b和外部軛件172b，這樣頂蓋170b與基座100b接合。在任何情況下，采用被極化為兩極的磁體150、150a、150b，以便能夠與位于一對(duì)極化磁體之間的有限小空間內(nèi)的線圈組件160一起產(chǎn)生十分有效的控制靈敏度。
圖11是圖3中的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置內(nèi)部軛件和外部軛件的另一個(gè)示例的透視圖，而圖12是圖11中基座的詳細(xì)透視圖。
參見圖11，基座100c上設(shè)置有一個(gè)支架110a，其上安裝有物鏡130的托板120a被多根線140支承著，所述線140能相對(duì)于支架110a彈性地移動(dòng)。一個(gè)線圈組件160安裝在托板120a的重心處。
參見圖12，在基座110c上設(shè)置有一對(duì)外部軛件180c，一對(duì)內(nèi)部軛件172c，一個(gè)連接軛件171c。連接軛件171c將成對(duì)的外部軛件180c和成對(duì)的內(nèi)部軛件1 72c連接起來。雖然沒有顯示出來，成對(duì)的外部軛件180c，成對(duì)的內(nèi)部軛件172c和連接軛件171c可以并入一個(gè)軛組件170c中，并且與基座100c結(jié)合。然而，更優(yōu)選的方案是成對(duì)的外部軛件180c、成對(duì)的內(nèi)部軛件172c和連接軛件171c與基座110c一起形成一個(gè)整體，如圖12所示。作為本發(fā)明的一個(gè)方面，成對(duì)的外部軛件180c和成對(duì)的內(nèi)部軛件172c可以由基座110c向上彎折的部分形成。這里，為了使成對(duì)的內(nèi)部軛件172c的寬度最大，優(yōu)選地，利用不需要落料(blacking)的切縫技術(shù)彎曲基座110c的彎折部分。因此，當(dāng)成對(duì)的外部軛件180c，成對(duì)的內(nèi)部軛件172c，連接軛件171c和基座110c形成一體時(shí)，就比包括頂蓋170、170a或170b的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置需要更少的部件。而且，物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的高度也能夠進(jìn)一步減小。如圖11所示，一對(duì)磁體150安裝于一對(duì)外部軛件180c之間。線圈組件160放置在成對(duì)的磁體150之間，而成對(duì)的內(nèi)部軛件172c被放置在線圈組件160的中心處。
參見圖3至圖8，在上述描述的結(jié)構(gòu)中，在有限空間中每個(gè)線圈用于控制的線圈有效長(zhǎng)度更長(zhǎng)了，從而使控制靈敏度提高了。
如上所述，本發(fā)明的光學(xué)拾取器的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置有如下優(yōu)點(diǎn)其一，由于需要用于改變物鏡位置的線圈，如聚焦線圈、傾斜線圈和跟蹤線圈都并入一單個(gè)的線圈組件中，并位于一對(duì)磁體之間，所以安裝空間小，使所述裝置緊湊。
其二，通過適當(dāng)?shù)仄ヅ錁O化為兩極的磁體和線圈組件，延長(zhǎng)了線圈的有效長(zhǎng)度，控制靈敏度就能得到提高。
其三，由于線圈組件中的各線圈被設(shè)置成與極化為兩極的磁體發(fā)生作用，就不像傳統(tǒng)技術(shù)中那樣需要一個(gè)額外的磁體用于傾斜線圈，這樣使驅(qū)動(dòng)部分的重量變輕。
其四，一對(duì)外部軛件、一對(duì)內(nèi)部軛件、一個(gè)連接軛件、以及一個(gè)基座能夠形成為一單個(gè)的整體，這樣物鏡驅(qū)動(dòng)裝置只需要很少數(shù)量的元件，而且物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的高度也能夠減少。
權(quán)利要求
1.一種用于光學(xué)拾取器的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，包括基座；裝在基座上的支架；物鏡安裝在其上的托板；彈性地支承能相對(duì)于支架移動(dòng)的托板的彈性支承體；一對(duì)安裝在基座上彼此相對(duì)的磁性部件；以及安裝在托板處以位于磁性部件之間的線圈組件，所述線圈組件包括聚焦線圈、跟蹤線圈和傾斜線圈。
2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中在線圈組件中，傾斜線圈和聚焦線圈放置在線圈組件的上部和下部，而跟蹤線圈附著在傾斜線圈和聚焦線圈的側(cè)表面上。
3.如權(quán)利要求1所述的裝置，還包括一對(duì)位于基座上的外部軛件，其用于固定支承磁性部件；以及頂蓋，其包括通過穿過線圈組件中心以固定在基座上的內(nèi)部軛件，和從線圈組件接觸所述外部軛件的頂端的頂部軛件。
4.如權(quán)利要求1所述的裝置，還包括與基座接合的頂蓋，包括位于線圈組件上方的頂部軛件和一對(duì)外部軛件，所述外部軛件設(shè)置成使得磁性部件固定于所述頂部軛件的兩端側(cè)；和位于基座上的內(nèi)部軛件，其穿過線圈組件的中心。
5.如權(quán)利要求1所述的裝置，還包括基座上的第一部分外部軛件，其固定支承部分磁性部件；以及頂蓋，其與基座接合，并包括通過穿過線圈組件的中心而固定在基座上的內(nèi)部軛件，位于線圈組件上方的頂部軛件，和從頂部軛件延伸出來的第二部分外部軛件，所述第二部分外部軛件與所述第一部分外部軛件接合，形成固定支承磁性部件的一個(gè)整體外部軛件。
6.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中線圈組件安裝在所述托板的重心處。
7.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中固定支承所述成對(duì)的磁性部件的一對(duì)外部軛件、穿過線圈組件中心的一對(duì)內(nèi)部軛件、連接所述外部軛件與內(nèi)部軛件下部的連接軛件設(shè)置在基座上。
8.如權(quán)利要求7所述的裝置，其中所述外部軛件、內(nèi)部軛件、連接軛件和基座形成一體。
全文摘要
一種光學(xué)拾取器的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，包括基座，裝在基座上的支架，物鏡安裝在其上的托板，彈性地支承能相對(duì)于支架移動(dòng)的托板的彈性支承體，一對(duì)安裝在基座上彼此相對(duì)的磁性部件，以及安裝在托板處以位于磁性部件之間的線圈組件，所述線圈組件包括聚焦線圈、跟蹤線圈和傾斜線圈。這樣，由于需要用來改變物鏡位置的線圈被并入一單個(gè)的線圈組件中，并位于一對(duì)磁體之間，安裝空間小，從而使該裝置緊湊。而且，通過適當(dāng)?shù)仄ヅ錁O化為兩極的磁體和線圈組件，延長(zhǎng)了線圈的有效長(zhǎng)度，從而使控制靈敏度得到提高。
文檔編號(hào)G11B7/09GK1495734SQ03158618
公開日2004年5月12日 申請(qǐng)日期2003年8月24日 優(yōu)先權(quán)日2002年8月24日
發(fā)明者鄭永民, 金光, 金大煥, 李鎮(zhèn)源 申請(qǐng)人:三星電子株式會(huì)社