專利名稱：伺服寫入方法和具有伺服控制系統(tǒng)的盤驅(qū)動器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種盤驅(qū)動器，并尤其涉及一種磁頭定位精確度提高的伺服寫入技術(shù)。
背景技術(shù)：
近來在以硬盤驅(qū)動器為代表的盤驅(qū)動器領(lǐng)域中，盤驅(qū)動器在記錄密度方面有急劇的增長以迎合人們對其大容量和減小尺寸的需求。
在盤驅(qū)動器中，通常通過增加形成在盤介質(zhì)上的數(shù)據(jù)磁道的記錄密度(TPI每英寸的磁道數(shù))來提高盤介質(zhì)的記錄密度。這一點通過提高磁頭的定位精確度得以實現(xiàn)。
磁頭精確定位需要改進用于磁頭定位控制的伺服控制系統(tǒng)和用于記錄伺服數(shù)據(jù)以進行磁頭定位控制的伺服磁道寫入技術(shù)。
在伺服控制系統(tǒng)中，磁頭根據(jù)其從盤介質(zhì)讀出的伺服數(shù)據(jù)定位到盤介質(zhì)的目標位置。
伺服磁道寫入技術(shù)是一項通常利用專門用于該技術(shù)的伺服磁道寫入器(STW)在盤介質(zhì)上的特定區(qū)域(伺服區(qū))精確寫入伺服數(shù)據(jù)的技術(shù)。
STW存在的問題是磁頭的偏斜角抹去相鄰磁道的伺服數(shù)據(jù)，造成抹除區(qū)。在STW和盤驅(qū)動器中，一般磁頭裝載在旋動致動器上并構(gòu)造成在盤介質(zhì)的徑向?qū)さ馈?br> 偏斜角是磁頭相對于盤介質(zhì)上數(shù)據(jù)磁道的傾角絕對值。出現(xiàn)抹除區(qū)是因為寫入頭磁間隙的一端伸向相鄰的磁道。
STW通常在盤介質(zhì)上以1/2或1/3磁道間隔移動伺服頭的同時寫入伺服數(shù)據(jù)。因而抹除區(qū)變得更容易出現(xiàn)并導(dǎo)致記錄在盤介質(zhì)上的伺服數(shù)據(jù)的信號質(zhì)量下降。而且如果盤介質(zhì)的TPI增大，則抹除區(qū)占數(shù)據(jù)磁道的比例也增大，這導(dǎo)致抹除區(qū)的不利作用變大。
在盤驅(qū)動器領(lǐng)域，利用垂直磁記錄法的驅(qū)動器近來作為一項進一步提高記錄密度的技術(shù)得到發(fā)展。垂直磁記錄式盤驅(qū)動器采用單極型頭作為記錄頭。即使利用這種單極型頭，也會由于上述的偏斜角產(chǎn)生抹除區(qū)。
還提出了一種減小上述由于磁頭的偏斜角所致的抹除區(qū)的方法(見日本專利申請JP2000-268516和2001-189062)。
根據(jù)上述申請中所述的方法，通過從盤介質(zhì)的最外半徑到介質(zhì)徑向上的0°偏斜角位置使磁頭尋道而寫入伺服數(shù)據(jù)。換言之，單獨地選擇性地執(zhí)行各項操作。
在上述申請的方法中，因為盤介質(zhì)上產(chǎn)生的所有抹除區(qū)被蓋寫，所以可以刪除抹除區(qū)。但是，沒有伺服數(shù)據(jù)可以記錄在接近偏斜角為0°位置的區(qū)域上，由此產(chǎn)生不能用作數(shù)據(jù)磁道的區(qū)域。
在垂直磁記錄法中，已經(jīng)確認，抹除區(qū)可以通過設(shè)計一種設(shè)計單極型頭的磁極的方法而減小。換言之，因為抹除區(qū)的寬度正比于磁極的厚度，所以可以通過使磁極變薄而減小抹除區(qū)。但如果磁極變薄，則磁極的面積減小，從而降低記錄頭的記錄能力。
有另一種通過漸縮磁頭使之成為梯形而減小抹除區(qū)的方法。但在此方法中，被大大削尖的磁頭減小了磁極的面積并因而降低了記錄頭的記錄能力。從實際方面考慮，也不容易制造大大削尖的梯形頭。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種能夠防止盤介質(zhì)上出現(xiàn)抹除區(qū)并提高磁頭定位精度的盤驅(qū)動器。
盤驅(qū)動器包括一個從/向旋轉(zhuǎn)的盤介質(zhì)讀出/寫入數(shù)據(jù)的磁頭；一個包括所述磁頭的致動器，在盤介質(zhì)的徑向旋轉(zhuǎn)以將磁頭移向目標位置；和一個控制器，根據(jù)磁頭從盤介質(zhì)讀出的伺服數(shù)據(jù)控制致動器，以將磁頭定位到目標位置。
所述的盤介質(zhì)包括大量具有伺服區(qū)和數(shù)據(jù)區(qū)的數(shù)據(jù)磁道。當(dāng)磁頭在盤介質(zhì)的外徑和內(nèi)徑中一個的數(shù)據(jù)區(qū)上記錄數(shù)據(jù)時，傾斜度不同于所述數(shù)據(jù)的伺服數(shù)據(jù)被記錄在外徑和內(nèi)徑之一的伺服區(qū)上。


在說明書中構(gòu)成本說明書一部分的附解說明了本發(fā)明的實施例，并且與上述一般性描述及下面將要對實施例進行的詳細描述一起解釋本發(fā)明的原理，其中圖1A到1C是描述根據(jù)本發(fā)明實施例的伺服寫入法的示意圖；圖2是根據(jù)本發(fā)明實施例的伺服磁道寫入器的主要部分框圖；圖3是根據(jù)本發(fā)明實施例描繪讀寫頭偏斜角示意圖；圖4是根據(jù)本發(fā)明實施例的盤驅(qū)動器的主要部分框圖；圖5是根據(jù)本發(fā)明實施例的盤驅(qū)動器的外視圖；圖6A和6B是描述根據(jù)本發(fā)明實施例造成抹除區(qū)的因素的示意圖；和圖7A和7B是描述根據(jù)本發(fā)明實施例的垂直磁記錄法中造成抹除區(qū)的因素的示意圖。
具體實施例方式
下面參考附圖描述本發(fā)明的實施例。
本實施例針對垂直磁記錄型盤驅(qū)動器。如圖4和5所示，驅(qū)動器主體的外殼(不包括頂蓋)10包括一個包括盤介質(zhì)(以下簡稱為盤)11的驅(qū)動機構(gòu)，一個主軸電機(SPM)12和一個致動器14。圖5是圖4中所示盤驅(qū)動器的外視圖。
致動器14有一個磁頭13并通過音圈電機(VCM)15的驅(qū)動力在盤的徑向在盤11上方移動。例如，磁頭13由單極頭的記錄頭和GMR元件的讀取頭構(gòu)成，它們安裝在單個浮動塊上。盤11例如是一種兩層盤，包括垂直磁記錄型記錄磁層和夾在記錄磁層和基片之間的軟磁層。
外殼10中還組合了一個電路板16。電路板16包括一個經(jīng)傳遞讀寫信號的撓性印刷電纜(FPC)連結(jié)到磁頭13的預(yù)放大電路。另一個電路板有一個微處理器(CPU)400，該微處理器實現(xiàn)一個伺服控制器用于執(zhí)行磁頭定位控制。
盤11有一個伺服區(qū)100，伺服區(qū)100上記錄伺服數(shù)據(jù)。在包含在盤驅(qū)動器制造過程中的伺服寫入步驟中，后面將要說明的伺服磁道寫入(STW)將伺服數(shù)據(jù)寫到盤11上。伺服控制器400根據(jù)磁頭13的讀取頭讀出的伺服數(shù)據(jù)控制致動器14將磁頭13定位到目標位置。
STW 20是一個專門用于在盤介質(zhì)11上寫入伺服數(shù)據(jù)的裝置，如圖2所示。STW 20包括一個伺服頭21和一個用于將伺服頭210定位到盤介質(zhì)11上的致動機構(gòu)211。STW 20還包括一個用于定位伺服頭210以通過伺服頭210將伺服數(shù)據(jù)寫入到盤介質(zhì)11上的機構(gòu)。
(伺服寫入法)下面將參考圖1A到1C、3、6A、6B、7A和7B描述本發(fā)明實施例的伺服寫入法。
在該伺服寫入法中，如圖2所示的具有伺服頭210的STW 20在盤介質(zhì)11上沿其徑向?qū)懭胨欧?shù)據(jù)。STW 20還寫入伺服數(shù)據(jù)，使得徑向的伺服區(qū)100以規(guī)律的間隔分布在盤介質(zhì)11的圓周方向，如圖4所示。通過STW 20被寫入伺服數(shù)據(jù)的盤介質(zhì)11連結(jié)到盤驅(qū)動器的SPM 12。
參見圖3，STW 20在促使伺服頭210在盤介質(zhì)11的徑向(箭頭30)例如從最內(nèi)半徑到最外半徑尋道的同時寫入伺服數(shù)據(jù)。
雖然伺服頭210在盤介質(zhì)11的中間半徑上尋道，但寫入到伺服區(qū)100的伺服數(shù)據(jù)的傾斜度(偏斜角，skew angle)幾乎為0°，如圖1B所示。換言之，由STW 20記錄的伺服數(shù)據(jù)和由盤驅(qū)動器的磁頭13記錄在數(shù)據(jù)區(qū)110上的數(shù)據(jù)(用戶數(shù)據(jù))之間的相對角度幾乎是0°。寫入到伺服區(qū)100的伺服數(shù)據(jù)的傾斜度對應(yīng)于數(shù)據(jù)磁道中的磁轉(zhuǎn)變的傾斜度，并代表數(shù)據(jù)被寫入到數(shù)據(jù)磁道中的數(shù)據(jù)區(qū)110時相對于數(shù)據(jù)傾斜度的角度。
另一方面，當(dāng)伺服頭210從盤介質(zhì)11的中間半徑向外徑尋道時，其偏斜角一般地從0°單調(diào)增大。當(dāng)伺服頭210從盤介質(zhì)11的內(nèi)徑向其中間半徑尋道時，其偏斜角從初始值單調(diào)地減小并在中間半徑處變?yōu)榱?。從開始在內(nèi)徑寫入伺服數(shù)據(jù)到中間半徑，沒有蓋寫操作導(dǎo)致抹除區(qū)。例如如圖1C所示，在盤介質(zhì)11的內(nèi)徑中不會出現(xiàn)抹除區(qū)。
相反，當(dāng)伺服頭從中間半徑向外徑如上所述地尋道時，從中間半徑到在外徑中結(jié)束寫入伺服數(shù)據(jù)，將出現(xiàn)抹除區(qū)。因此在本實施例中，如圖1A所示，執(zhí)行伺服寫入操作，使得伺服頭210的偏斜角(θ2)變得小于盤驅(qū)動器的磁頭13在外徑中結(jié)束伺服數(shù)據(jù)寫入時的偏斜角(θ1)。換言之，寫入到伺服區(qū)100的伺服數(shù)據(jù)的傾角(θ2)變得小于數(shù)據(jù)區(qū)110的數(shù)據(jù)(用戶數(shù)據(jù))的傾角(θ1)，其中數(shù)據(jù)區(qū)110中通過盤驅(qū)動器的磁頭13被寫入伺服數(shù)據(jù)。
簡言之，根據(jù)本實施例的伺服寫入法，可以通過相對減小伺服頭210在盤介質(zhì)外徑的一個位置處的偏斜角來防止抹除區(qū)的出現(xiàn)，在該位置，偏斜角會在盤介質(zhì)的徑向變大。
在本實施例的盤驅(qū)動器中，盤介質(zhì)11上除中間半徑以外的內(nèi)外半徑中，伺服區(qū)100中的伺服數(shù)據(jù)的傾角與數(shù)據(jù)區(qū)110中的數(shù)據(jù)(用戶數(shù)據(jù))的傾角不同，如圖1A、1C所示。另一方面，避免了抹除區(qū)的出現(xiàn)并且將伺服數(shù)據(jù)可靠地記錄在包含于內(nèi)外半徑之中的伺服區(qū)100中。因此，在磁頭定位控制時磁頭13的記錄頭可以可靠地從伺服區(qū)100中讀出伺服數(shù)據(jù)，由此提高了磁頭定位精度。
在根據(jù)本實施例的伺服寫入法中，伺服頭210在盤介質(zhì)11的徑向、例如從最內(nèi)半徑到最外半徑尋道的同時寫入伺服數(shù)據(jù)。相反，伺服頭210在盤介質(zhì)11的徑向、例如從最外半徑到最內(nèi)半徑尋道的同時寫入伺服數(shù)據(jù)。在此情況下，當(dāng)伺服頭210從盤介質(zhì)11的中間半徑到內(nèi)徑尋道時，如果伺服頭210的偏斜角單調(diào)地增大，則通過相對減小內(nèi)徑上偏斜角變大的位置處的偏斜角而防止抹除區(qū)的發(fā)生。
下面將參考圖6A、6B、7A和7B描述本實施例的伺服寫入法的優(yōu)點。
參見圖6A和6B，伺服頭包括導(dǎo)磁極(leading pole)61和后磁極(trailing pole)62。伺服頭利用寫入間隙63的泄漏磁通量在后磁極62的后沿64處記錄伺服數(shù)據(jù)。圖6A表示位于數(shù)據(jù)磁道(磁道寬度為TW)中心的后沿64。在圖6A中，WWW表示相對于磁道寬度TW的寫入寬度(或伺服數(shù)據(jù)寬度)。
如圖6A所示，如果磁頭的偏斜角為0°，則后磁極62的后沿64位于數(shù)據(jù)磁道的中心，如同其前沿。因而在兩沿之間沒有記錄位置的差異，并且在后沿64處執(zhí)行最后記錄。
當(dāng)磁頭的偏斜角為θ，如圖6B所示，則前沿不位于數(shù)據(jù)磁道的中心，即使后沿位于其中。為此，在前沿的磁道寬度方向的一個端部65處記錄的數(shù)據(jù)在后沿64處不被蓋寫而被保留。偏斜角θ意味著發(fā)生足夠抹除區(qū)時的角度。
因為實際上所述沿的記錄能力很低，所以很難正確地記錄數(shù)據(jù)；但有可能前面記錄的信號被抹去，從而降低了伺服數(shù)據(jù)的信號質(zhì)量。被抹去前面記錄的信號的區(qū)域稱作抹除區(qū)。為了防止相鄰磁道的數(shù)據(jù)被抹去，必須將抹除區(qū)的數(shù)量減到最小。
如果磁頭的偏斜角與上述一樣大，則出現(xiàn)的問題是在盤介質(zhì)的邊緣產(chǎn)生抹除區(qū)，從而當(dāng)伺服數(shù)據(jù)被記錄在盤介質(zhì)上時降低伺服數(shù)據(jù)的信號質(zhì)量。偏斜角越大，抹除區(qū)越大。
相反，如果伺服頭的偏斜角簡單地減小，則可以防止伺服數(shù)據(jù)抹除區(qū)的發(fā)生。但是如果盤驅(qū)動器磁頭的偏斜角，則沒有伺服數(shù)據(jù)可以被正確地讀出。因此，STW的伺服頭的偏斜角被減小，從而減少抹除區(qū)，而盤驅(qū)動器磁頭的偏斜角設(shè)置得較大。因此在盤驅(qū)動器中，甚至在盤介質(zhì)的磁頭偏斜角變大的內(nèi)外徑中也可以正確地讀出伺服數(shù)據(jù)。結(jié)果是磁頭13可以高精度地在盤介質(zhì)上定位。
單極型頭是一種應(yīng)用到垂直磁記錄法的記錄頭。如圖7A所示，單極型頭利用主磁極(后磁極)71的整個表面記錄數(shù)據(jù)。在此情況下，同樣，如果偏斜角θ較大，如圖7B所示，則當(dāng)主磁極71的沿72位于數(shù)據(jù)磁道的中心時，其反向沿73伸向相鄰的磁道而蓋寫該磁道上的伺服數(shù)據(jù)。
上述蓋寫從發(fā)生的機理上講不同于抹除區(qū)，但對于過去記錄的信號的影響來講基本上相同。因此，可以通過在數(shù)據(jù)磁道中將數(shù)據(jù)的傾斜度設(shè)置為大于伺服數(shù)據(jù)(磁化翻轉(zhuǎn))的傾斜度而可靠地讀出伺服數(shù)據(jù)。簡言之，可以有效地構(gòu)造垂直磁記錄型盤驅(qū)動器，使得STW的伺服頭和盤驅(qū)動器的磁頭13在偏斜角上彼此不同，并且在徑向在伺服數(shù)據(jù)的末端伺服頭的偏斜角變得小于盤驅(qū)動器的磁頭13的偏斜角。由此可以提高磁頭定位精度。
如以上詳細的敘述，本實施例主要針對一種盤驅(qū)動器，該驅(qū)動器防止在盤介質(zhì)上記錄伺服數(shù)據(jù)時盤介質(zhì)上出現(xiàn)抹除區(qū)并提高磁頭定位精度。具體地說，使STW的伺服頭和盤驅(qū)動器的磁頭的偏斜角彼此不同，并且使記錄在盤介質(zhì)伺服區(qū)上的伺服數(shù)據(jù)和記錄在數(shù)據(jù)區(qū)上的數(shù)據(jù)彼此的傾斜度不同。
換言之，盤驅(qū)動器磁頭的偏斜角與用于記錄伺服數(shù)據(jù)的伺服頭的偏斜角相互獨立地設(shè)置。因而避免了在寫入伺服數(shù)據(jù)時出現(xiàn)抹除區(qū)。出現(xiàn)伺服數(shù)據(jù)的傾斜度與通過磁頭寫入的數(shù)據(jù)的傾斜度不同的區(qū)域；但在讀出伺服數(shù)據(jù)時可以防止伺服數(shù)據(jù)信號質(zhì)量的下降。因此，本發(fā)明的盤驅(qū)動器在磁頭定位精度方面比現(xiàn)有盤驅(qū)動器有所提高。
本領(lǐng)域的技術(shù)人員很容易得到其它的優(yōu)點和改型。因此，本發(fā)明的范圍不限于在此給出的具體細節(jié)和代表性實施例。在不脫離本發(fā)明由所附的權(quán)利要求及其等效方案限定的范圍和實質(zhì)的前提下可以做各種改型。
權(quán)利要求
1.一種盤驅(qū)動器，其特征在于包括一個從/向旋轉(zhuǎn)的盤介質(zhì)(11)讀出/寫入數(shù)據(jù)的磁頭(13)；一個包括所述磁頭的致動器(14)，在盤介質(zhì)的徑向旋轉(zhuǎn)以將所述磁頭移向目標位置；和一個控制器(400)，根據(jù)磁頭從盤介質(zhì)讀出的伺服數(shù)據(jù)控制致動器，以將所述磁頭定位到目標位置，其中，所述盤介質(zhì)(11)包括許多具有數(shù)據(jù)區(qū)和伺服區(qū)的數(shù)據(jù)磁道，當(dāng)所述磁頭在盤介質(zhì)的外半徑和內(nèi)半徑之一中的數(shù)據(jù)區(qū)上記錄數(shù)據(jù)時，將其傾斜度不同于所述數(shù)據(jù)的傾斜度的伺服數(shù)據(jù)記錄到所述外半徑和內(nèi)半徑之一的伺服區(qū)上。
2.如權(quán)利要求1所述的盤驅(qū)動器，其特征在于傾斜度幾乎與記錄在數(shù)據(jù)區(qū)上的數(shù)據(jù)的傾斜度相等的伺服數(shù)據(jù)被記錄在包含于盤介質(zhì)中間半徑中的數(shù)據(jù)磁道中的伺服區(qū)上。
3.如權(quán)利要求1所述的盤驅(qū)動器，其特征在于傾斜度為0°并幾乎與記錄在數(shù)據(jù)區(qū)上的數(shù)據(jù)的傾斜度相等的伺服數(shù)據(jù)被記錄在包含于盤介質(zhì)中間半徑中的數(shù)據(jù)磁道中的伺服區(qū)上，并且傾斜度小于記錄在數(shù)據(jù)區(qū)上的數(shù)據(jù)的傾斜度的伺服數(shù)據(jù)被記錄在包含于外半徑中的數(shù)據(jù)磁道中的伺服區(qū)上。
4.如權(quán)利要求1所述的盤驅(qū)動器，其特征在于傾斜度為0°并幾乎與記錄在數(shù)據(jù)區(qū)上的數(shù)據(jù)的傾斜度相等的伺服數(shù)據(jù)被記錄在包含于盤介質(zhì)中間半徑中的數(shù)據(jù)磁道中的伺服區(qū)上，并且傾斜度小于記錄在數(shù)據(jù)區(qū)上的數(shù)據(jù)的傾斜度的伺服數(shù)據(jù)被記錄在包含于內(nèi)半徑中的數(shù)據(jù)磁道中的伺服區(qū)上。
5.如權(quán)利要求1所述的盤驅(qū)動器，其特征在于通過伺服磁道寫入器將伺服數(shù)據(jù)記錄到盤介質(zhì)的伺服區(qū)上，其中伺服磁道寫入器具有一個伺服頭，伺服頭設(shè)置的偏斜角θ2不同于所述磁頭的偏斜角θ1。
6.如權(quán)利要求1所述的盤驅(qū)動器，為垂直磁記錄型盤驅(qū)動器，有一個作為記錄頭的單極型頭。
7.一種應(yīng)用到盤驅(qū)動器的伺服寫入方法，其中盤驅(qū)動器包括一個從/向旋轉(zhuǎn)的盤介質(zhì)讀出/寫入數(shù)據(jù)的磁頭和一個將所述的磁頭移到目標位置的致動器，該方法的特征在于利用一個偏斜角θ2不同于所述磁頭偏斜角θ1的伺服頭；和以不同于由磁頭以θ1的偏斜角記錄在數(shù)據(jù)區(qū)上的數(shù)據(jù)的傾斜度的傾斜度記錄伺服數(shù)據(jù)，以將磁頭定位到盤介質(zhì)的每個數(shù)據(jù)磁道中的伺服區(qū)上。
8.如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于傾斜度為0°并幾乎與記錄在數(shù)據(jù)區(qū)上的數(shù)據(jù)的傾斜度相等的伺服數(shù)據(jù)被伺服頭記錄在盤介質(zhì)中間半徑中的伺服區(qū)上，并且傾斜度小于記錄在數(shù)據(jù)區(qū)上的數(shù)據(jù)的傾斜度的伺服數(shù)據(jù)被伺服頭記錄在盤介質(zhì)外半徑中的伺服區(qū)上。
9.如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于傾斜度為0°并幾乎與記錄在數(shù)據(jù)區(qū)上的數(shù)據(jù)的傾斜度相等的伺服數(shù)據(jù)被伺服頭記錄在盤介質(zhì)中間半徑中的伺服區(qū)上，并且傾斜度小于記錄在數(shù)據(jù)區(qū)上的數(shù)據(jù)的傾斜度的伺服數(shù)據(jù)被伺服頭記錄在盤介質(zhì)內(nèi)半徑中的伺服區(qū)上。
10.如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于伺服頭設(shè)置在專用于將伺服數(shù)據(jù)記錄在盤介質(zhì)上的伺服磁道寫入器中，并且伺服磁道寫入器具有一個伺服頭，該伺服頭設(shè)置的偏斜角θ2不同于所述磁頭的偏斜角θ1。
11.如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于伺服磁道寫入器利用一個具有不同于盤驅(qū)動器的所述磁頭的偏斜角θ1的較小偏斜角θ2的伺服頭，在將伺服頭從盤介質(zhì)的最內(nèi)半徑移到中間半徑并再從中間半徑移到最外半徑的同時寫入伺服數(shù)據(jù)，并且執(zhí)行伺服寫入操作，使得伺服數(shù)據(jù)對應(yīng)于伺服頭偏斜角θ2的傾斜度變得小于用戶數(shù)據(jù)的對應(yīng)于所述磁頭偏斜角θ1的傾斜度。
12.如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于所述盤驅(qū)動器是一種具有作為記錄頭的單極型頭的垂直磁記錄型盤驅(qū)動器。
全文摘要
本發(fā)明涉及伺服寫入方法和具有伺服控制系統(tǒng)的盤驅(qū)動器。在一種盤驅(qū)動器中，盤介質(zhì)包括其上記錄伺服數(shù)據(jù)的伺服區(qū)(100)和其上記錄數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)區(qū)(110)。在每個數(shù)據(jù)磁道，例如盤介質(zhì)的外徑中，記錄在伺服區(qū)(100)上的伺服數(shù)據(jù)的傾斜度θ2小于記錄在數(shù)據(jù)區(qū)(110)上的數(shù)據(jù)的傾斜度θ1。
文檔編號G11B21/10GK1505003SQ200310118698
公開日2004年6月16日 申請日期2003年11月28日 優(yōu)先權(quán)日2002年11月29日
發(fā)明者矢野耕司 申請人:株式會社東芝