專利名稱：盤裝置和頭懸架裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及諸如磁盤裝置的盤裝置和盤裝置所用的頭懸架裝置。
背景技術：
盤裝置，例如磁盤裝置，包括磁盤，設置在盒內；主軸馬達，支撐磁盤并使磁盤旋轉；磁頭，其在磁盤讀出/寫入信息；和支架裝置，支撐磁頭，使其可以相對于磁盤運動。支架裝置包括臂，該臂可以旋轉地被支撐；懸架，從臂延伸。磁頭安裝在懸架的延伸端。磁頭包括滑塊，安裝在懸架上；和頭部，設置在滑塊上。頭部包括再現元件，其執(zhí)行讀取操作；和錄入元件，其執(zhí)行寫入操作。
滑塊包括盤面對的表面，設置成面對磁盤的記錄表面。規(guī)定的頭載荷，指向磁盤的磁記錄層，通過懸架施加在滑塊上。當磁盤裝置運轉時，在旋轉的磁盤與滑塊之間生成一種空氣流，這是基于氣流流體潤滑原理，一種使滑塊從磁盤記錄表面懸浮起的力，作用在滑塊的盤面對的表面。通過使懸浮力與頭載荷平衡，滑塊保持懸浮狀態(tài)，在磁盤的記錄表面與滑塊之間所限定的區(qū)間，具有規(guī)定的懸浮高度。
在滑塊處于磁盤的任何徑向位置時，滑塊的懸浮量需要本質上相同。需要指出，磁盤的旋轉速度是恒定的，因此，處于滑塊下方的磁盤的線速度，隨滑塊的徑向位置不同而不同。由于磁頭的位置是由旋轉支架裝置決定的，斜交角(即氣流方向與滑塊中心線所限定的角)也隨著滑塊徑向位置的不同而變化。
在滑塊的設計中，需要通過適當地利用上述兩個隨磁盤徑向位置不同而變化的參數，根據滑塊所處磁盤徑向位置的不同，抑制滑塊懸浮量的變化。
在需要考慮使用環(huán)境變化的場合，甚至在氣壓降低的海拔環(huán)境，要求磁盤裝置平穩(wěn)運行。在只考慮因氣流流體潤滑而作用在滑塊盤面對的表面的正壓力，與頭負載之間的平衡而建造磁頭時，滑塊在懸浮量減小的位置平衡，或者在氣壓降低的環(huán)境下，由于氣流流體潤滑所生成的正壓力減小而與磁盤表面接觸。
例如日本專利公開號No.2001-283549公開的盤裝置具有負壓腔，該負壓腔在鄰近滑塊盤面對的表面的中心處形成。打算避免上述滑塊懸浮量損失的負壓腔，由一種槽所限定，該槽被一種在除空氣流出的方向以外的各個方向均將槽環(huán)繞的壁所限定。現有技術所公開的盤裝置建造成這樣，使滑塊的懸浮是基于負壓腔所生成的負壓力、頭載荷和正壓力之間的平衡。根據這種結構，在氣壓降低的環(huán)境下正壓力減小，但同時負壓也減小。因此，可以實現滑塊懸浮量的減小。
如上所述，通過適當設計滑塊盤面對的表面的不規(guī)則形狀，可以控制滑塊的懸浮量、滑塊的懸浮姿態(tài)、和在低壓環(huán)境下滑塊懸浮量的減小?；瑝K盤面對的表面的不規(guī)則形狀由一些槽限定，考慮到滑塊的制造成本，這些槽具有一種或兩種深度。
近年來，滑塊制造得愈來愈小。根據國際盤驅動器設備和材料協會(IDEMA)的規(guī)定，滑塊的尺寸已經標準化。根據尺寸大小，把滑塊稱為小滑塊(100％滑塊)、微滑塊(70％滑塊)、納滑塊(50％滑塊)、微微滑塊(30％滑塊)和毫微微滑塊(20％滑塊)。由于磁頭是通過一種薄膜處理工藝共同制造，具有更小尺寸的滑塊，使相同的晶片面積可能獲得更大數量的磁頭，從而制造成本可以降低。滑塊的小型化允許改進磁頭的性能，以跟蹤磁盤表面的不規(guī)則性。此外，頭致動器遠端部的質量減小，從而查找速度可以提高。
但是，如果隨著滑塊小型化而使滑塊的盤面對的表面的面積減小，會面臨下述問題1)磁頭的懸浮力減小，這使得滑塊不能支撐頭負載。結果磁頭與磁盤表面接觸。
2)如果滑塊不能支撐頭負載，磁頭的懸浮狀態(tài)會消失。
為了克服上述問題，過去習慣于隨著滑塊的小型化，減小頭負載。甚至在滑塊的小型化從微微滑塊減小到毫微微滑塊的場合，減小頭負載是近年來采用的主流措施。例如，可移動裝置的2.5英寸硬盤驅動器所用的毫微微滑塊，頭負載的上限為19.6毫牛(mN)(2克力(gf))。
但是。如果頭負載隨著滑塊小型化而減小，當沖擊施加在圓裝置上時，懸架和滑塊往往從磁盤跳起。當使跳起的滑塊返回時，滑塊可能碰撞磁盤，從而損壞所記錄的數據。因此，減小頭負載降低了盤裝置的抗沖擊性。
此外，如果滑塊的質量隨著滑塊的小型化而減小，可能改善滑塊的抗沖擊性。但是，當沖擊施加在滑塊上時，滑塊的跳躍力受懸架等效質量的極大影響。這就面臨這樣的情況，滑塊質量的減小對于滑塊抗沖擊性實際上簡直沒有貢獻。由此可見，頭負載隨滑塊小型化而減小，可能是降低滑塊抗沖擊性和降低盤裝置可靠性的一個因數。

發(fā)明內容
根據本發(fā)明的一個方面，提供了一種盤裝置，該盤裝置包括盤形記錄介質；驅動部，設置成具有支撐記錄介質并使其旋轉的形狀；頭，包括一種滑塊，該滑塊具有盤面對的表面，該盤面對的表面設置成面向記錄介質的一個表面，并具有這樣的形狀，使能在記錄介質旋轉時，在記錄介質表面與滑塊的盤面對的表面之間所生成的空氣流的作用下使頭懸?。活^部，安裝在滑塊上，設置成具有執(zhí)行向記錄介質記錄信息/從記錄介質讀出信息的形狀；頭懸架，支撐頭，可以相對于記錄介質運動，并施加頭負載于頭，頭負載指向記錄介質表面?；瑝K的盤面對的表面的尺寸不大于0.935毫米(mm)×0.77毫米(mm)，頭負載L(mN)和記錄介質的最低線速度A米/秒(m/s)具有下述關系L≥2.74×A+2.7.
根據本發(fā)明的另一方面，提供了盤裝置用的一種頭懸架，該盤裝置包括盤形記錄介質；和驅動部，該驅動部設置成具有支撐記錄介質并使其旋轉的形狀，頭懸架包括頭，包括一種滑塊，該滑塊具有盤面對的表面，該盤面對的表面設置成面向記錄介質的一個表面，并具有這樣的形狀，使能在記錄介質旋轉時，在記錄介質表面與滑塊的盤面對的表面之間所生成的空氣流的作用下使頭懸??；頭部，安裝在滑塊上，設置成具有執(zhí)行向記錄介質記錄信息/從記錄介質讀出信息的形狀；頭懸架，支撐頭部，可以相對于記錄介質運動，并施加頭負載于頭部，頭負載指向記錄介質表面。滑塊的盤面對的表面的尺寸不大于0.935(mm)×0.77(mm)，頭負載L(mN)和記錄介質的最低線速度A(m/s)具有下述關系L≥2.74×A+2.7.
對附圖的簡要說明


了本發(fā)明的實施例，這些附圖與技術特征一起并作為技術特征的一部分，連同上述一般性說明以及下面對實施例的詳細說明，用以闡述本發(fā)明的原理。
圖1為平面視圖，示出了根據本發(fā)明的一個實施例的硬盤驅動器(HDD)；圖2為圖1所示硬盤驅動器(HDD)所包括的磁頭部側視圖的放大圖；圖3為透視圖，示出了滑塊的盤面對的表面?zhèn)?，此滑塊包括在磁頭中；圖4為平面視圖，示出了滑塊的盤面對的表面；圖5為示意圖，示出了滑塊盤面對的表面上每一種連續(xù)式凸緣和分離式凸緣的縱橫比；圖6為曲線圖，示出了設有連續(xù)式凸緣的滑塊和設有分離式凸緣的滑塊中，每一種凸緣的縱橫比與所生成的力的關系；圖7為側視圖，示出了滑塊的構造；圖8為曲線圖，示出了盤的線速度與所生成的力之間的關系；和圖9為曲線圖，示出了使用微微滑塊的情況下，盤裝置的最低線速度與頭負載之間的關系。
對發(fā)明的詳細說明現對本發(fā)明的一個實施例參考附圖給予詳細說明，其中，本發(fā)明的盤裝置應用于硬盤驅動器(此后稱為HDD)。
如圖1所示，HDD包括一種頂面敞開的矩形箱式盒12，頂蓋(未示出)用數個螺釘緊固在盒12上以將盒12開口的頂部封閉。
安裝在盒12中的例如有兩個磁盤16(圖中只示出了單獨的一個磁盤16)，其用作記錄介質；主軸馬達18，其用作驅動部，支撐磁盤并使磁盤旋轉；數個磁頭，其將信息寫入磁盤或從磁盤讀出信息；支架裝置22，其支撐磁頭，使其可相對于磁盤運動；音頻線圈馬達(以后稱為VCM)24，其使支架裝置22旋轉，并確定支架裝置22的位置；斜坡加載裝置25，當磁頭運動至磁盤最外圓周表面時，該斜坡加載裝置夾持磁頭，使其處于離開磁盤的退出位置；和基片裝置21，例如具有頭集成電路(IC)。
印刷線路板(未示出)用螺釘緊固在盒12的底壁的外表面。印刷線路板通過基片裝置21控制主軸馬達18、音頻線圈馬達(VCM)24和磁頭的操作。
每一個磁盤16在其每一個上表面和下表面具有磁記錄層。兩個磁盤16安裝在主軸馬達18的轂盤(未示出)的外圓周表面，并通過夾緊彈簧17固定在轂盤上。結果，兩個磁盤16彼此以規(guī)定的間距同軸地疊放在轂盤上。如果驅動主軸馬達18，兩個磁盤16沿箭頭B所示方向按規(guī)定的速度旋轉，例如以4200轉/分(rpm)的速度旋轉。
支架裝置22包括軸承部26，安裝在盒12的底壁；數個臂32，從軸承部26延伸。臂32從軸承部26向相同方向延伸，這些臂平行于磁盤16且彼此相距一段規(guī)定距離定位。支架裝置22還包括可彈性變形的狹長片式懸架38。每一個懸架38用簧片制成。懸架38的近端通過點焊或粘接固定在臂32的尖部，且懸架38從臂32延伸。順便說一句，每一個懸架38可以與相應的臂32制成一體。臂32和懸架38一起共同構成頭懸架。同樣，頭懸架和磁頭一起共同構成頭懸架裝置。
如圖2所示，每一個磁頭40包括滑塊42，其本質上為矩形；頭部44，其記錄/再現信息，安裝在滑塊42的端面?；瑝K42被固定在萬向懸掛支架彈簧41上，該彈簧安裝在懸架38的遠端部。指向磁盤16表面的頭負載L，通過懸架38的彈性施加在每一個磁頭40上。
如圖1所示，支架裝置22包括支架框45，此支架框從軸承部26沿與臂32延伸方向相反的方向延伸。構成音頻線圈馬達(VCM)一部分的音頻線圈47，設置在支架框45上。支架框45用合成樹脂制成，以環(huán)繞音頻線圈47外周邊表面的形式，與音頻線圈制成一體。音頻線圈47設置在一對軛架49之間，該軛架固定在盒12上。此軛架49和固定在軛架之一上的一個磁鐵(未示出)，共同構成音頻線圈馬達(VCM)。當音頻線圈47供電時，支架裝置22繞軸承部26旋轉，并使磁頭40運動到磁盤16上所希望的磁道。
斜坡加載裝置25包括坡道51，安裝在盒12底壁上，設置在磁盤16之外；阻力塊53，從每一個懸架38的遠端延伸。當支架裝置22旋轉到達磁盤16之外的退出位置時，每一個阻力塊53，與在坡道51上制出的斜坡表面結合，于是，被沿傾斜的斜坡表面向上拉，以從磁盤上移出磁頭。
現在對磁頭40的結構給予詳細說明。如圖2至4所示，磁頭40包括形狀本質上為矩形棱柱體的滑塊42?；瑝K42具有盤面對的表面43，設置成面向磁盤16的表面?；瑝K42制成一種懸浮式滑塊，隨著磁盤的旋轉，在磁盤表面與滑塊42的盤面對的表面43之間生成的空氣流，使滑塊懸浮。在硬盤驅動器HDD運行時，滑塊42的盤面對的表面43定位成面向磁盤的表面，彼此間限定了規(guī)定的間隙?？諝饬鰿的方向等于磁盤16的旋轉方向B。磁頭40的頭部44，在滑塊42上處于空氣流C下游側的端面制出?；瑝K42以這樣的傾斜姿態(tài)懸浮，以使頭部44設置成最接近磁盤表面。順便說一句，頭部44包括一種記錄元件(未示出)和一種再現元件(未示出)，以將信息記錄入磁盤16或從磁盤再現信息。
如圖3和4所示，滑塊42的盤面對的表面43制成本質上為矩形，并具有第一軸線X和垂直于第一軸線X的第二軸線Y?；瑝K42設置成面向磁盤16的表面，使在硬盤驅動器(HDD)運行時，第一軸線X本質上與空氣流C的方向一致?；瑝K42制成毫微微滑塊。至于盤面對的表面43的尺寸，沿第一軸線X方向的長度D1為0.935mm或更短，沿第二軸線Y方向的寬度W1為0.77mm或更短。通常盤面對的表面43的尺寸為D10.85mm×W10.7mm。
在盤面對的表面43上制出臺階面50。臺階面50本質上制成U形，相對于空氣流C流動方向，上游一側為閉合狀態(tài)，而下游一側留出開口。為了保持磁頭40的傾斜角，在臺階面50制出前導墊52，以允許滑塊42由空氣膜支撐。前導墊52具有狹長形狀，沿第二軸線Y方向連續(xù)延伸，設置在滑塊42上相對于空氣流C的入流側。
對于在滑塊42處生成的懸浮力，進行了如下的比較分析，所比較分析的情況包括前導墊52制成沿第二軸線Y方向連續(xù)延伸；和前導墊52制成沿第二軸線Y方向分為兩部分。如圖5所示，在滑塊42的盤面對的表面上制出具有規(guī)定面積的前導墊，并使前導墊的縱橫比(長度與寬度之比)在1和4之間的范圍改變，對懸浮力進行比較。
圖6為曲線圖，示出了模擬的結果。如圖6所示，連續(xù)式凸緣生成的懸浮力大于分離式凸緣生成的懸浮力，其中縱橫比為2或更大。實驗數據明確地支持這樣的結論允許凸緣沿垂直于空氣流C的流動方向具有連續(xù)的形狀，懸浮力可以更有效地生成。換言之，實驗數據明確地支持這樣的結論特定形狀的凸緣，對于補償伴隨滑塊42的盤面對的表面小型化而出現的懸浮力減小，和保持滑塊的懸浮姿態(tài)是有效的。
前導墊52沿第二軸線Y方向的寬度W2，大于滑塊42盤面對的表面寬度D2的60％是理想的。在本實施例中，寬度W2設置為寬度W1的60％。為了允許前導墊52有效地具有空氣膜剛度，沿空氣流C流動方向，在前導墊52的上游側制出臺階面50是理想的。這就是，臺階面50在前導墊52的上游側制出，臺階面的長度D2，沿第一軸線X方向，設置成盤面對的表面43的長度D1的10％或更長。
前導墊52沿第一軸線X方向具有最小寬度部，且前導墊52從最小寬度部，沿空氣流C流動方向，向盤面對的表面43的下游側留出開口。從特定的結構，可以指望獲得臺階效應，而這種特定的結構，對于用較小的面積支撐大的頭負載L是有效的。
如圖3和4所示，在滑塊42的盤面對的表面中央部，制出由凹入部限定的負壓腔54。負壓腔54，沿空氣流C流動方向，設置在前導墊52的下游，并在滑塊42的盤面對的表面43，朝向下游側的端部留出開口。
如上所述，制出負壓腔54以獲得一個減壓部，該減壓部在前導墊52的下游側生成，從而形成一個生成大負壓的負壓腔。通過形成由凹入部所限定的負壓腔54，在硬盤驅動器(HHD)內所實現的所有斜交角，可以在滑塊42盤面對的表面43的中央部形成負壓。因此，在磁盤16的任何半徑方向的位置，滑塊42的滾動角可以保持恒定。
另一方面，如果在滑塊42入流側端所生成的負壓過高，就難于保持傾斜角，結果，磁頭40的懸浮姿態(tài)喪失。這樣，在滑塊42的盤面對的表面43上游側半區(qū)內，沿第一軸線X方向，負壓腔54所占據的區(qū)域54a，設置成滑塊42的盤面對的表面43半區(qū)的25％或更少。
如圖3和4所示，可以在臺階面50上制出兩個獨立的側墊56。這兩個側墊56均沿空氣流C流動方向設置在前導墊52的下游，相對于第二軸線Y設置在負壓腔54的兩側。通過制出側墊56，可以沿第二軸線Y在負壓腔54的兩側生成一種正壓。這樣生成的正壓與在滑塊42的盤面對的表面43中央部生成的負壓相對應。結果，可以抑制磁頭40在滾動方向的力矩。因此可以抑制磁頭40的滾動，并保持所希望的磁頭40懸浮姿態(tài)。
如圖7所示，滑塊42的盤面對的表面43可以制成弓弧形表面，這樣，盤面對的表面43向磁盤表面凸出，且沿第一軸線X方向的最大凸出高度不小于10納米(nm)。如果滑塊42的盤面對的表面43制成弓弧形，可以減小側墊56與磁盤表面之間的距離，以增加在側墊56處生成的空氣膜的剛度。甚至在不設置側墊56的情況下，可以相對于傾斜角減小滑塊的懸浮量，只要可以生成一個正壓和一個負壓。
在上述磁頭40中，滑塊42的盤面對的表面43是這樣獲得的，首先將滑塊42制成具有上述曲率的弓弧形表面，隨后通過蝕刻弓弧形表面以獲得凹入部、臺階面50、前導墊52、側墊56等等。
目前所使用的直徑2.5英寸的硬盤驅動器(HHD)中，在磁盤半徑方向14mm至30mm位置形成的記錄區(qū)，以4200rpm的旋轉速度使用，施加在微微滑塊上的頭負載為29.6mN(3gf)。目前所使用的直徑1.8英寸的硬盤驅動器(HHD)中，在磁盤半徑方向10mm至22mm位置形成的記錄區(qū)，以4200rpm的旋轉速度使用，施加在微微滑塊上的頭負載為24.5mN(2.5gf)。
由空氣膜剛度生成以支撐頭負載的力取決于磁盤圓周速度。如果圓周速度低，就不可能支撐大的頭負載。由空氣膜剛度生成的力，是在磁頭的滑塊內生成，此力本質上正比于圓周速度，如圖8所示。因此，在現有技術中，如果磁盤的圓周速度隨磁盤直徑減小而減小，頭負載降低。
在本發(fā)明的實施例中，頭負載L并不從微微滑塊所用的頭負載降低而是增高，盡管采用毫微微滑塊仍是如此。在硬盤驅動器(HHD)中，微微滑塊的頭負載L(mN)與最低線速度A(m/s)之間的關系可以用下式(1)表示L(mN)＝2.74×A(m/s)+12.5…(1)在式(1)中的斜率表示由于線速度的增加可以被支撐的頭負載的比例。更明確地說，在4200rpm-2.5英寸的硬盤驅動器(HHD)中，由于2.5英寸硬盤驅動器(HHD)的內磁道半徑為14(mm)，盤的最低線速度為6.15(m/s)。在4200rpm-1.8英寸的硬盤驅動器(HHD)中，由于1.8英寸硬盤驅動器(HHD)的內磁道半徑為10(mm)，盤的最低線速度為4.40(m/s)。
在具有直徑分別為2.5英寸和1.8英寸磁盤的盤驅動器中，分別以3gf(29.4mN)和2.5gf(24.5mN)的頭負載施加在滑塊上。如果將這些最低線速度和頭負載的點畫在線圖上，所獲得的是圖9所示的直線E。直線E的斜率為2.74。直線E的斜率表明硬盤驅動器(HHD)內最低線速度與適宜的頭微微滑塊之間的關系。上述公式(1)可以從這些數值獲得。
同時，在具有直徑2.5英寸磁盤的硬盤驅動器(HDD)中使用毫微微滑塊的情況下，從直線E的斜率可以獲得如圖9所示的直線D。直線d是通過平移變換將直線E與表示i2.5英寸硬盤驅動器(HDD)內最低線速度的點剛好重合獲得的。因此，19.6mN(2gf)的頭負載L與最低線速度A(m/s)的關系可以用下列公式(2)表示L(mN)＝2.74×A(m/s)+2.7 …(2)在本實施例中，毫微微滑塊被用作滑塊42，懸架38將下式給出的頭負載L(mN)施加在磁頭40上L(mN)≥2.74×A(m/s)+2.7式中A表示硬盤驅動器(HDD)內的最低線速度。
在上述結構的硬盤驅動器(HDD)中，滑塊42的臺階面50的高度設置為115nm，負壓腔表面的高度設置為1.1μm，在磁盤16內圓周徑向位置14mm處的頭負載L設置為29.4mN(3gf)，磁頭40的懸浮狀態(tài)分析為懸浮量14.8nm，傾斜角130(urad)。同時，其中在3,000m高度的大氣壓為0.7標準大氣壓(atm)，懸浮量分析為11.1nm。
根據上述結構的硬盤驅動器(HDD)和頭懸架裝置，甚至在使用包括具有不大于0.935mm×0.77mm面積的盤面對的表面的滑塊的情況下，可以實現足夠大的磁頭懸浮量，而不致減小頭負載。這就是說，可以使磁頭小型化以提高記錄密度。也可以改善磁頭的抗沖擊性。于是可以獲得一種低成本的硬盤驅動器(HDD)和抗沖擊性能極佳的頭懸架裝置，并能夠實現高精度記錄/再現。
另外的優(yōu)點與修改，對于本領域技術人員而言是容易實現的。因此，本發(fā)明就其更廣泛的方面而言，并不局限于在此所示出作為示例的實施例和所敘述的具體細節(jié)。因此，可以進行各種修改，只要不超出由所提權利要求及其等價物所限定的一般發(fā)明概念的精神和范圍。例如，硬盤驅動器(HDD)內所包括的磁盤的數量并不局限于2，而可以根據需要增加或減少。
權利要求
1.一種盤裝置，其包括盤形記錄介質；驅動部，其支撐記錄介質并使記錄介質旋轉；頭，其包括滑塊，其具有盤面對的表面，該盤面對的表面這樣定位，以面向記錄介質的一個表面，并使其具有這樣的形狀，該形狀能使借助于記錄介質旋轉生成的空氣流懸浮在記錄介質表面與滑塊盤面對的表面之間；和頭部，其安裝在滑塊上，以執(zhí)行入和出記錄介質的信息記錄/信息再現；和頭懸架，其支撐頭，以可相對于記錄介質運動，并對頭施加頭負載，頭負載指向記錄介質的表面；其特征在于滑塊的盤面對的表面的尺寸不大于0.935(mm)×0.77(mm)，頭負載L(mN)與記錄介質的最低圓周速度A(m/s)具有如下關系L≥2.74×A+2.7。
2.如權利要求1所述的盤裝置，其特征在于，滑塊的盤面對的表面具有第一軸線，其沿空氣流的流動方向延伸；和第二軸線，其垂直于第一軸線；滑塊包括負壓腔，其生成負壓，該負壓腔由在盤面對的表面中央部制出的凹入部限定；和前導墊，其在盤面對的表面制出，定位在負壓腔沿空氣流流動方向的上游側；和前導墊沿第二軸線方向連續(xù)延伸，前導墊沿第二軸線方向的寬度不小于盤面對的表面沿第二軸線方向寬度的60％。
3.如權利要求2所述的盤裝置，其特征在于，前導墊沿第一軸線方向具有最小的寬度部，并制成從最小寬度部向盤面對的表面沿空氣流流動方向的下游側開口的形狀。
4.如權利要求2所述的盤裝置，其特征在于，負壓腔在盤面對的表面的半區(qū)內所占據的面積不大于盤面對的表面一半面積的25％，該半區(qū)位于沿第一軸線方向空氣流的上游側。
5.如權利要求2所述的盤裝置，其特征在于，滑塊包括在盤面對的表面上制出的數個獨立的輔助墊，輔助墊設置在前導墊沿空氣流流動方向的下游側，并位于負壓腔沿第二軸線方向的兩側。
6.如權利要求1所述的盤裝置，其特征在于，滑塊的盤面對的表面制成弧形，使盤面對的表面的中央部向記錄介質的表面凸出，其沿第一軸線方向的最大凸出高度不小于10nm。
7.一種盤裝置使用的頭懸架裝置，該盤裝置包括盤形記錄介質；和驅動部，其支撐記錄介質并使記錄介質旋轉，該頭懸架裝置包括頭，其包括滑塊，其具有盤面對的表面，該盤面對的表面位于面向記錄介質的一個表面，并使其具有這樣的形狀，該形狀能使借助于記錄介質旋轉生成的空氣流懸浮在記錄介質表面與滑塊盤面對的表面之間；和頭部，其安裝在滑塊上，以執(zhí)行入和出記錄介質的信息記錄/信息再現；和頭懸架，其支撐頭，以可相對于記錄介質運動，并對頭施加頭負載，頭負載指向記錄介質的表面；其特征在于滑塊的盤面對的表面的尺寸不大于0.935(mm)×0.77(mm)，頭負載L(mN)與記錄介質的最低圓周速度A(m/s)具有如下關系L≥2.74×A+2.7。
8.如權利要求7所述的頭懸架裝置，其特征在于，滑塊的盤面對的表面具有第一軸線，其沿空氣流的流動方向延伸；和第二軸線，其垂直于第一軸線；滑塊包括負壓腔，其生成負壓，該負壓腔由在盤面對的表面中央部制出的凹入部限定；和前導墊，其在盤面對的表面制出，并位于負壓腔沿空氣流流動方向上游側；和前導墊沿第二軸線方向連續(xù)延伸，前導墊沿第二軸線方向的寬度不小于盤面對的表面沿第二軸線方向寬度的60％。
9.如權利要求8所述的頭懸架裝置，其特征在于，前導墊沿第一軸線方向具有最小的寬度部，并制成從最小寬度部向盤面對的表面沿空氣流流動方向的下游側開口的形狀。
10.如權利要求8所述的頭懸架裝置，其特征在于，負壓腔在盤面對的表面的半區(qū)所占據的面積不大于盤面對的表面一半面積的25％，該半區(qū)位于沿第一軸線方向空氣流的上游側。
11.如權利要求8所述的頭懸架裝置，其特征在于，滑塊包括在盤面對的表面上制出的數個獨立的輔助墊，輔助墊設置在前導墊沿空氣流流動方向的下游側，并位于負壓腔沿第二軸線方向的兩側。
12.如權利要求7所述的頭懸架裝置，其特征在于，滑塊的盤面對的表面制成弧形，使盤面對的表面的中央部向記錄介質的表面凸出，其沿第一軸線方向的最大凸出高度不小于10nm。
全文摘要
盤裝置的頭(40)包括一種滑塊(42)，該滑塊包括面向盤面(43)，該表面設置成面向記錄介質的表面(16)，并使其具有能借助于空氣流而懸浮在記錄介質表面(16)與滑塊盤面對的表面(43)之間的形狀?；瑝K的盤面對的表面的尺寸不大于0.935(mm)×0.77(mm)，頭負載L(mN)與記錄介質的最低圓周速度A(m/s)具有如下關系L≥2.74×A+2.7。
文檔編號G11B5/60GK1527287SQ200410001900
公開日2004年9月8日 申請日期2004年1月15日 優(yōu)先權日2003年1月31日
發(fā)明者吉田和弘, 伊藤淳, 佐佐木康貴, 康貴 申請人:株式會社東芝