專利名稱：光信息記錄方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種對光信息記錄介質(zhì)進行記錄的光信息記錄方法，特別涉及以14m/s以上的記錄線速度記錄信息的光信息記錄方法。
背景技術(shù)：
作為目前已知的光信息記錄介質(zhì)，可舉出可以用激光進行限一次的信息記錄的光信息記錄介質(zhì)(光盤)。該光盤也可稱為追記型CD(所謂CD-R)，其代表結(jié)構(gòu)通常被設(shè)置成在透明的圓盤狀基板上依次層壓由有機色素組成的記錄層、由金等金屬組成的光反射層、以及樹脂制保護層的形態(tài)。還有，在該CD-R上記錄信息時，通過向CD-R照射近紅外區(qū)域的激光(通常為780nm附近波長的激光)來完成，且記錄層的照射部分吸收其光而局部地升溫，并通過物理或者化學(xué)變化(例如，生成坑)而改變其光學(xué)特性，從而完成信息記錄。另一方面，信息的讀取(再現(xiàn))也是通過照射與記錄用的激光相同波長的激光來進行，通過檢測記錄層中的光學(xué)特性發(fā)生變化的部位(記錄部分)和沒有發(fā)生變化的部位(未記錄部分)的反射率的差異，讀取(再現(xiàn))信息。
近年來，對記錄密度更高的光信息記錄介質(zhì)的需求逐漸增多。針對于這種需求，提出了被稱為追記型數(shù)字通用視盤(所謂DVD-R)的光盤。該DVD-R中具有如下的結(jié)構(gòu)即，將兩塊設(shè)置有由色素組成的記錄層、通常都設(shè)在該記錄層上面的光反射層、以及根據(jù)需要而設(shè)的保護層的透明的圓盤狀基板，以該記錄層面朝內(nèi)側(cè)的狀態(tài)下用粘合劑貼合而成的結(jié)構(gòu)，或者將該光盤和具有與此相同的形狀的圓盤狀保護基板以該記錄層面朝內(nèi)側(cè)的狀態(tài)下用粘合劑貼合而成的結(jié)構(gòu)。在所述透明的圓盤狀基板上形成有與CD-R相比寬度窄至一半以下(0.74-0.8μm)的、用于跟蹤所照射的激光的導(dǎo)向槽(預(yù)置槽)。DVD-R上的信息記錄和再現(xiàn)可通過照射可見激光(通常為630nm-680nm范圍波長的激光)來進行，并由此可以進行比CD-R更高密度的記錄。
在這種DVD-R中，近年來對4倍速度以上(14m/s以上記錄線速度)的高速記錄的要求越來越高。已知在光信息記錄介質(zhì)中的最佳記錄功率大約與記錄速度的平方根成正比。例如，在4倍速度記錄中的最佳記錄功率約為1倍速度中的最佳記錄功率的2倍。這時，由于在短時間內(nèi)照射大量的能量，因此記錄速度越大，記錄坑部分的變形增大的傾向越強。如果記錄坑的變形大，則可獲得高調(diào)制度，再現(xiàn)信號的C/N也會變高，因此向相鄰磁道的信號泄漏也將會變大，即，存在所謂交調(diào)失真(cross talk)變大的問題。由于記錄密度越高磁道間距越短，所以該交調(diào)失真的影響也越大。
另外，如DVD-R那樣，當在記錄磁道之間的脊背部分形成有具有地址信號的預(yù)坑時，如果在記錄磁道中形成大的坑，則難以讀取地址信息，會成為LPP誤差的原因。
另一方面，作為解決交調(diào)失真問題的光信息記錄介質(zhì)，提出了將主要含有有機色素的記錄層的放熱峰規(guī)定在-10μV/mg以上、10μV/mg以下的光信息記錄介質(zhì)(例如，參考專利文獻1。)。但是，當該光信息記錄介質(zhì)以例如記錄線速度為14m/s以上的高速度進行記錄時，形成的記錄坑過大，存在所謂給相鄰磁道和脊背部分的地址信息的讀取帶來不良影響的問題。
專利文獻1特開平10-188341號公報發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明是鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題而提出的，并把實現(xiàn)以下目的作為課題。即，本發(fā)明的目的在于提供一種即使是在以14m/s以上的記錄線速度進行記錄的情況下LPP誤差也較小的光信息記錄方法。
解決上述課題的方法如下。即，一種光信息記錄方法，其特征在于，是在基板上具有含有色素的記錄層的光信息記錄介質(zhì)上以14m/s以上的記錄線速度記錄信息的光信息記錄方法，且上述色素是在氮氣流下進行差熱分析時具有吸熱峰的色素。
對于上述色素的吸熱峰的大小來說，優(yōu)選在10μVs/mg以上。
上述色素還可以具有放熱峰，這時，優(yōu)選吸熱量的總量大于放熱量的總量。
還可以把上述光信息記錄介質(zhì)的磁道間距設(shè)定為0.8μm以下，而且把通過記錄所形成的坑的最小坑長設(shè)定為0.5μm以下。
具體實施例方式
本發(fā)明的光信息記錄方法的特征在于，是在基板上具有含有色素的記錄層的光信息記錄介質(zhì)上以14m/s以上的記錄線速度記錄信息的光信息記錄方法，上述色素是在氮氣流下進行差熱分析時具有吸熱峰的色素。通過采用將具有吸熱峰的色素用于記錄層上的光信息記錄介質(zhì)，即使是在以記錄線速度為14m/s以上的高速度進行記錄的情況下，也不會形成必要尺寸以上的大坑，而且可以減小LPP誤差率。
下面，首先對本發(fā)明的光信息記錄方法中使用的光信息記錄介質(zhì)進行說明。
<光信息記錄介質(zhì)>
就本發(fā)明的光信息記錄方法中使用的光信息記錄介質(zhì)而言，它是DVD-R等可以寫入信息的追記型光信息記錄介質(zhì)。
例如，DVD-R等光信息記錄介質(zhì)是通過貼合兩塊基板(第1基板、第2基板)而形成的，并且至少在第1基板上形成有記錄層。另外，還優(yōu)選適當?shù)匦纬煞瓷鋵?、保護層等。還有，第2基板上既可以與第1基板相同地依次形成記錄層、反射層，也可以是被稱作保護基板(虛擬基板)的沒有形成層的結(jié)構(gòu)。
下面，以DVD-R等光信息記錄介質(zhì)為例，對本發(fā)明中的光信息記錄介質(zhì)的上述基板和各層進行說明。還有，層結(jié)構(gòu)和材料等僅僅用于舉例說明，本發(fā)明并不限于這些。
作為基板，可以任意選擇使用以往作為光信息記錄介質(zhì)的基板材料所使用的各種材料。
具體可以舉例為玻璃；聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸樹脂；聚氯乙稀、氯乙烯共聚物等氯乙烯類樹脂；環(huán)氧樹脂；無定形的聚烯烴；聚酯；鋁等金屬等，也可以根據(jù)需要將這些混合使用。
在上述材料中，從耐濕性、尺寸穩(wěn)定性和低價格等觀點出發(fā)，優(yōu)選聚碳酸酯、無定形的聚烯烴，特別優(yōu)選聚碳酸酯。另外，基板的厚度優(yōu)選為0.5-1.4mm。
在基板上，形成有跟蹤用的導(dǎo)向槽或者表示地址信號等信息的凹凸(預(yù)置槽)。預(yù)置槽的磁道間距優(yōu)選為0.35-0.9μm，更優(yōu)選為0.45-0.85μm，進一步優(yōu)選為0.5-0.8μm。另外，預(yù)置槽的深度(槽深)優(yōu)選為80-180nm，更優(yōu)選為100-170nm，進一步優(yōu)選為110-160nm。另外，預(yù)置槽的半寬值優(yōu)選為200-400nm，更優(yōu)選為230-380nm，進一步優(yōu)選為250-350nm。
在本發(fā)明的光信息記錄介質(zhì)的記錄層中，如上所述，由于使用了具有吸熱峰的色素，所以可以形成更小的坑，可以較小地設(shè)定磁道間距和最小坑長。因此，對于本發(fā)明的光信息記錄方法中的光信息記錄介質(zhì)來說，特別優(yōu)選的磁道間距為0.8μm以下，而且由記錄形成的坑的最小坑長為0.5μm以下。對于上述磁道間距來說，更優(yōu)選為0.80μm以下，進一步優(yōu)選為0.75μm以下。另外，上述最小坑長更優(yōu)選為0.50μm以下，進一步優(yōu)選為0.45μm以下。
另外，在設(shè)置有記錄層的一側(cè)的基板表面上，為了改善平面性、改善粘著力以及防止記錄層變質(zhì)等，也可以設(shè)置底涂層。對于底涂層的材料來說，可以舉例為，例如聚甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸·甲基丙烯酸共聚物、苯乙烯·馬來酸酐共聚物、聚乙烯醇、N-羥甲基丙烯酰胺聚合物、苯乙烯·乙烯基甲苯共聚物、氯磺化聚乙烯、硝化纖維素、聚氯乙稀、氯化聚烯烴、聚酯、聚酰亞胺、乙酸乙烯酯·氯乙烯共聚物、乙烯·乙酸乙烯酯共聚物、聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯等高分子物質(zhì)；以及硅烷偶合劑等表面改性劑。底涂層可以通過將上述物質(zhì)溶解或者分散于適當?shù)娜軇┎⒄{(diào)制為涂敷液后，使用旋涂、浸漬涂敷、擠壓涂敷等涂敷方法將該涂敷液涂敷在基板表面上而形成。底涂層的層厚一般設(shè)置在0.005-20μm范圍內(nèi)，優(yōu)選為0.01-10μm。

在本發(fā)明中，作為在記錄層中含有的色素，可以使用在氮氣流下進行差熱分析時具有吸熱峰的色素。
對于上述色素的吸熱峰的大小來說，優(yōu)選為10μVs/mg以上，更優(yōu)選為20μVs/mg以上，進一步優(yōu)選為30μVs/mg以上。對于吸熱峰的上限來說，優(yōu)選為100μVs/mg。由于上述色素的吸熱峰的大小在10μVs/mg以上，因此不會形成過大的坑，可以降低向相鄰磁道或脊部預(yù)置坑信號的信號泄漏，因此較為理想。
如上所述，在本發(fā)明中，使用的是具有吸熱峰的色素，但是該色素還可以具有放熱峰。這時，適合使用吸熱量的總量大于放熱量總量的色素。
另外，既可以單獨使用具有吸熱峰的色素，而在不損害本發(fā)明的效果的范圍內(nèi)，也可以與沒有吸熱峰的色素并用。當混合使用時，對于沒有吸熱峰的色素的含有率來說，優(yōu)選為5-50％，更優(yōu)選為10-40％。
作為可以在本發(fā)明中使用的色素，可以舉例為菁色素、酞菁色素、咪唑并喹喔啉類色素、吡喃鎓類·硫代吡喃鎓類色素、茂并芳庚鎓類(azulenium)色素、squalirium類色素、Ni、Cr等金屬絡(luò)鹽類色素、萘醌類色素、蒽醌類色素、靛酚類色素、靛苯胺類色素、三苯基甲烷類色素、部花青類色素、氧雜青類色素、胺鎓類·diimmonium類色素、以及亞硝基化合物。在這些色素之中，優(yōu)選菁色素、酞菁色素、茂并芳庚鎓類色素、squalirium類色素、氧雜青類色素以及咪唑并喹喔啉類色素。
作為用于形成記錄層的涂敷液中的溶劑，可以舉例為乙酸丁酯、乙酸溶纖劑等酯；甲乙酮、環(huán)己酮、甲基異丁基酮等酮；二氯甲烷、1，2-二氯乙烷、氯仿等氯化烴；二甲替甲酰胺等酰胺；環(huán)己烷等烴；四氫呋喃、乙醚、二噁烷等醚；乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、雙丙酮醇等醇；2，2，3，3-四氟丙醇等氟類溶劑；乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、丙二醇單甲醚等二醇醚類等?？紤]到使用的色素的溶解性，上述溶劑可以單獨使用或者適當并用二種以上。優(yōu)選的是2，2，3，3-四氟丙醇等氟類溶劑。還有，在涂敷液中既可以根據(jù)需要加入防褪色劑和粘合劑，也可以根據(jù)目的加入抗氧化劑、UV吸收劑、增塑劑、以及潤滑劑等各種添加劑。
作為防褪色劑的代表例，可以舉例為亞硝基化合物、金屬配位化合物、diimmonium鹽、胺鎓鹽。這些例子記載于例如特開平2-300288號、特開平3-224793號、以及特開平4-146189號等各公報中。
作為粘合劑例子，可以舉例為明膠、纖維素衍生物、葡聚糖、松香、橡膠等天然有機高分子物質(zhì)；以及聚乙烯、聚丙稀、聚苯乙烯、聚異丁烯等烴類樹脂；聚氯乙稀、聚偏氯乙烯、聚氯乙稀·聚乙酸乙烯酯共聚物等乙烯基類樹脂；聚丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸樹脂；聚乙烯醇；氯化聚乙烯；環(huán)氧樹脂；丁醛樹脂；橡膠衍生物；苯酚·甲醛樹脂等熱固化性樹脂的初期縮合物等合成有機高分子等。當使用粘合劑時，粘合劑的使用量一般相對于100質(zhì)量份色素為0.2-20質(zhì)量份，優(yōu)選0.5-10質(zhì)量份，更優(yōu)選1-5質(zhì)量份。
考慮到所使用的色素的溶解性，上述溶劑可以單獨使用或者組合二種以上使用。也可以根據(jù)目的向涂敷夜中再加入抗氧化劑、UV吸收劑、增塑劑、以及潤滑劑等各種添加劑。
對于涂敷方法來說，可以舉例為噴霧法、旋涂法、浸漬法、輥涂法、刀片法、刮刀輥法、絲網(wǎng)印刷法等。記錄層既可以是單層也可以是多層。另外，記錄層的層厚一般為20-500nm，優(yōu)選30-300nm，更優(yōu)選50-100nm。
另外，作為涂敷溫度，只要是在23-50℃的范圍內(nèi)就沒有問題，優(yōu)選24-40℃，更優(yōu)選25-37℃。
為了提高該記錄層的耐光性，記錄層中可以含有各種防褪色劑。
作為防褪色劑，一般使用單重態(tài)氧猝熄物(quencher)。作為單重態(tài)氧猝熄物，可以使用已經(jīng)公知的記載于專利說明書等出版物中的物質(zhì)。
作為其具體例子，可以舉例為特開昭58-175693號公報、特開昭59-81194號公報、特開昭60-18387號公報、特開昭60-19586號公報、特開昭60-19587號公報、特開昭60-35054號公報、特開昭60-36190號公報、特開昭60-36191號公報、特開昭60-44554號公報、特開昭60-44555號公報、特開昭60-44389號公報、特開昭60-44390號公報、特開昭60-54892號公報、特開昭60-47069號公報、特開昭63-209995號公報、特開平4-25492號公報、特公平1-38680號公報、特公平6-26028號公報等各公報、德國專利350399號說明書、以及日本化學(xué)會志1992年10月號第1141頁等中記載的物質(zhì)。
上述單重態(tài)氧猝熄物等防褪色劑的使用量相對于用于進行記錄的化合物量通常是0.1-50質(zhì)量％，優(yōu)選0.5-45質(zhì)量％，更優(yōu)選3-40質(zhì)量％，特別優(yōu)選5-25質(zhì)量％。
為了改善再現(xiàn)信息時的反射率，在記錄層上特別設(shè)置有反射層。作為反射層材料的光反射性物質(zhì)是對于激光的反射率高的物質(zhì)，作為其例，可以舉例為Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi等金屬和半金屬或者不銹鋼。在這些之中，優(yōu)選的是Cr、Ni、Pt、Cu、Ag、Au、Al和不銹鋼。這些物質(zhì)既可以單獨使用，也可以二種以上組合使用?；蛘咭部梢宰鳛楹辖鹗褂?。特別優(yōu)選Au、Ag或者其合金。反射層可以通過例如將上述的光反射性物質(zhì)蒸鍍、噴鍍或者離子電鍍在記錄層上而形成。反射層的層厚一般設(shè)定為10-800nm，優(yōu)選為20-500nm，更優(yōu)選50-300nm。
粘著層是形成在反射層和保護層或者保護基板之間的層。
對于構(gòu)成粘著層的粘合劑來說，優(yōu)選紫外線固化性樹脂，其中為了防止圓盤彎曲，優(yōu)選固化收縮率小的樹脂。作為這種紫外線固化性樹脂，可以舉例為例如大日本油墨化學(xué)工業(yè)(株)制造的“SD-640”、“SD-347”等UV固化性樹脂(UV固化性粘接劑)。另外，為了保持彈性，粘著層的厚度優(yōu)選為1-1000μm，更優(yōu)選5-500μm，特別優(yōu)選10-100μm。
下面列舉構(gòu)成粘著層的粘合劑的其它的例子。該粘合劑是可以通過放射線照射而固化的樹脂，在分子中具有兩個以上的放射線官能性的雙鍵，可以舉例為丙烯酸酯類、丙稀酰胺類、甲基丙烯酸酯類、甲基丙稀酰胺類、烯丙基化合物、乙烯基醚類、乙烯基酯類等。優(yōu)選的是2官能團以上的丙烯酸酯化合物、甲基丙烯酸酯化合物。
作為2官能團的具體例，可以使用以二丙烯酸乙二醇酯、二丙烯酸丙二醇酯、二丙烯酸丁二醇酯、二丙烯酸己二醇酯、二丙烯酸二甘醇酯、二丙烯酸三甘醇酯、二丙烯酸四甘醇酯、二丙烯酸新戊二醇酯、二丙烯酸三丙二醇酯、二甲基丙烯酸乙二醇酯、二甲基丙烯酸丙二醇酯、二甲基丙烯酸丁二醇酯、二甲基丙烯酸己二醇酯、二甲基丙烯酸二甘醇酯、二甲基丙烯酸三甘醇酯、二甲基丙烯酸四甘醇酯、二甲基丙烯酸新戊二醇酯、二甲基丙烯酸三丙二醇酯等為代表的使丙烯酸、甲基丙烯酸與脂肪族二醇加成而生成的物質(zhì)。
另外，也可以使用在聚乙二醇、聚丙二醇、聚四甲撐二醇等聚醚多元醇上加成丙烯酸、甲基丙烯酸而生成的聚醚丙烯酸酯、聚醚甲基丙烯酸酯，或在由公知的二元酸和二醇獲得的聚酯多元醇上加成丙烯酸、甲基丙烯酸而生成的聚酯丙烯酸酯、聚酯甲基丙烯酸酯。
還有，也可以使用在由公知的多元醇、二醇和聚異氰酸酯反應(yīng)而成的聚氨酯上加成丙烯酸、甲基丙烯酸的聚氨酯丙烯酸酯、聚氨酯甲基丙烯酸酯。
此外，也可以使用在雙酚A、雙酚F、氫化雙酚A、氫化雙酚F和這些化合物的環(huán)氧化物加成物上再加成丙烯酸、甲基丙烯酸的物質(zhì)，或者三聚異氰酸環(huán)氧化物變性二丙烯酸酯、三聚異氰酸環(huán)氧化物變性二甲基丙烯酸酯、三環(huán)癸烷二甲醇二丙烯酸酯、三環(huán)癸烷二甲醇二甲基丙烯酸酯等具有環(huán)狀結(jié)構(gòu)的物質(zhì)。
作為上述放射線，可以使用電子射線和紫外線。使用紫外線時必須向上述的化合物中加入光聚合引發(fā)劑。作為光聚合引發(fā)劑可以使用芳香族酮。對芳香族酮沒有特別限定，優(yōu)選具有通常被用作紫外線照射光源的汞燈的明線光譜且在254、313、865nm的波長下吸光系數(shù)比較大的物質(zhì)。作為其代表例子，可舉出乙酰苯、苯酰苯、苯偶因乙醚、芐基甲基縮酮、芐基乙基縮酮、苯偶因異丁基酮、羥基二甲基苯基酮、1-羥基環(huán)己基苯基酮、2，2-二乙氧基乙酰苯、Michler’s酮等，可以使用各種芳香族酮。另外，作為紫外線固化型粘著劑，市售的有預(yù)先加入了光引發(fā)劑的制品，這些也可以使用。作為紫外線光源，可以使用汞燈或者金屬鹵化物燈。對于該燈來說，可以使用20-300W/cm的燈，并照射0.1-20秒鐘?；搴蜔糸g的距離一般優(yōu)選為1-30cm。
作為電子射線加速器，可以采用掃描方式、二重掃描方式或者護梁方式。優(yōu)選的是比較廉價且可獲得大功率的護梁(curtain beam)方式。對于電子射線特性而言，加速電壓是100-1000kV，優(yōu)選150-300kV，吸收線量是0.5-20Mrad，優(yōu)選1-10Mrad。加速電壓為10kV以下時，能量的透過量不足，而如果超過1000kV，則用于聚合的能量效率會下降，成本方面不太理想。
保護層或者保護基板可防止水分的浸入和傷痕的產(chǎn)生。對于構(gòu)成保護層的材料來說，優(yōu)選紫外線固化樹脂、可見光固化樹脂、熱固化樹脂、二氧化硅等，其中優(yōu)選紫外線固化樹脂。對于該紫外線固化樹脂而言，可以舉例為，例如大日本油墨化學(xué)工業(yè)社制的“SD-640”等紫外線固化樹脂。另外，可以使用SD-347(大日本油墨化學(xué)工業(yè)社制)、SD-694(大日本油墨化學(xué)工業(yè)制)、SKCD1051(SKC社制)等。保護層的厚度優(yōu)選為1-200μm，更優(yōu)選50-150μm。
另外，對于保護層被用作激光光路的層結(jié)構(gòu)來說，需要具有透明性。在這里，所謂“透明性”是指透明至可使記錄光和再現(xiàn)光透過(透射比90以上)的程度。
保護層可以通過旋涂法形成。通過適用旋涂法，在形成保護層時可以避免給記錄層帶來損傷(色素的溶解、色素和保護層材料的化學(xué)反應(yīng)等)。從形成均勻的層和防止對記錄層的損傷的觀點出發(fā)，旋涂時的轉(zhuǎn)速優(yōu)選為50-8000rpm，更優(yōu)選為100-5000rpm。
還有，當在保護層中使用紫外線固化樹脂時，用旋涂法形成保護層后，通過用紫外線照射燈(金屬鹵化物燈)向該保護層上照射紫外線，可使紫外線固化樹脂固化。
另外，為了消除所形成的保護層厚度不均，也可以在使樹脂固化前適當進行放置一定時間等處理。
在DVD-R的情況下，層壓由紫外線固化樹脂等組成的粘著層和作為保護基板的基板(厚度約0.6mm，對于材質(zhì)來說與上述基板相同)，以代替保護層。
即，在形成反射層后，在盤上噴出紫外線固化樹脂(大日本油墨化學(xué)工業(yè)(株)制SD-640等)，例如，載置聚碳酸酯基板(厚度0.6mm)作為保護基板，并與旋涂時相同地以高轉(zhuǎn)速甩開紫外線固化樹脂，之后通過從基板上照射紫外線使紫外線固化樹脂固化，由此完成貼合。粘著層的厚度是20-60μm。
<光信息記錄方法>
利用本發(fā)明的光信息記錄方法在光信息記錄介質(zhì)上進行信息記錄的過程如下。首先，以規(guī)定的記錄線速度(14m/s以上)使未記錄的上述的光信息記錄介質(zhì)旋轉(zhuǎn)，同時通過物鏡照射激光等記錄用的光。通過照射該光，記錄層的色素會吸收該光而局部地升溫，通過生成所需的坑(pit)而改變其光學(xué)特性，從而記錄信息。
當形成1個坑時，激光的記錄波形既可以是脈沖列也可以是1個脈沖。重要的是相對于實際想要記錄的長度(坑的長度)的比例。
對于激光的脈沖幅來說，優(yōu)選為相對于實際想要記錄的長度的20-95％，更優(yōu)選30-90％，進一步優(yōu)選為35-85％。在這里，當記錄波形是脈沖列時，是指其總和在上述的范圍內(nèi)。
對于激光的功率來說，根據(jù)記錄線速度而不同，但是當記錄線速度為14m/s時，優(yōu)選為15.0-20.0mW，更優(yōu)選為16.5-19.5mW，進一步優(yōu)選為17.0-19.0mW。另外，當記錄線速度變成2倍時，激光功率的優(yōu)選范圍分別變?yōu)?1/2倍。
另外，為了提高記錄密度，拾波器(pick-up)中使用的物鏡的NA優(yōu)選為0.62以上，更優(yōu)選為0.65以上。
在本發(fā)明中，作為記錄光可以使用具有300-700nm范圍的振動波長的半導(dǎo)體激光。
在本發(fā)明中，把記錄線速度規(guī)定為14m/s(4倍速度)以上，但是優(yōu)選21m/s(6倍速度)以上，更優(yōu)選28m/s(8倍速度)以上。
實施例下面，根據(jù)實施例更加詳細地說明本發(fā)明，但是本發(fā)明并不限于以下的實施例。
通過注射模塑成形，將聚碳酸酯樹脂成形為具有螺旋狀凹槽(深130nm，寬300nm，磁道間距0.74μm)的厚0.6mm、直徑為120mm的基板。調(diào)制將進行下述的差熱分析時具有吸熱峰的1.2g下述色素A溶解于100ml 2，2，3，3-四氟戊醇而成的涂敷液，用旋涂法將該涂敷液涂敷在形成有凹槽的上述基板的表面上，從而形成記錄層。然后，在記錄層上噴鍍銀而形成膜厚約為150nm的反射層后，通過把紫外線固化樹脂用作粘合劑而與虛擬基板貼合，制作成光盤(光信息記錄介質(zhì))。
還有，色素A的吸熱峰的大小為149μVs/mg。
色素A[比較例1]除了代替色素A而使用進行下述的差熱分析時具有吸熱峰的下述色素B以外，與實施例1相同地制作光盤。
色素B[差熱分析]使用精工儀器社制的TG/DTA裝置，在以下的測量條件下進行測量。
測量環(huán)境氮氣流下(流量＝200ml/分鐘)基準未放入光盤的鋁容器測量溫度30-550℃升溫速度10℃/分鐘[評價]通過使用光盤驅(qū)動裝置(DDU1000，パルステツク工業(yè)(株)制，激光波長635nm，數(shù)值孔徑0.6)，并使線速度由3.5變化至28m/s，記錄8-16調(diào)制信號。記錄功率設(shè)定為各光盤速度偏差(jitter)最小的記錄功率值。然后，使用與記錄激光相同波長的激光進行再現(xiàn)，測量最佳記錄功率、調(diào)制度、記錄后的LPP誤差。結(jié)果示于表1中。
表1


由表1可知，當以3.5m/s的記錄線速度進行記錄時，對于實施例1和比較例1來說沒有大的差別，但是當以28m/s的記錄線速度進行記錄時，實施例1的LPP誤差遠遠小于比較例1。
根據(jù)本發(fā)明，可以提供即使是在以14m/s以上的記錄線速度進行記錄的情況下LPP誤差也較小的光信息記錄方法。
權(quán)利要求
1.一種光信息記錄方法，其特征在于，是在基板上具有含有色素的記錄層的光信息記錄介質(zhì)上以14m/s以上的記錄線速度記錄信息的光信息記錄方法，上述色素是在氮氣流下進行差熱分析時具有吸熱峰的色素。
2.如權(quán)利要求1所述的光信息記錄方法，其特征在于，上述色素的吸熱峰的大小在10μVs/mg以上。
3.如權(quán)利要求1或者2所述的光信息記錄方法，其特征在于，上述色素還具有放熱峰。
4.如權(quán)利要求3所述的光信息記錄方法，其特征在于，在上述色素中，吸熱量的總量大于放熱量的總量。
5.如權(quán)利要求1-4中任一項所述的光信息記錄方法，其特征在于，上述光信息記錄介質(zhì)的磁道間距為0.8μm以下，而且通過記錄形成的坑的最小坑長在0.5μm以下。
全文摘要
一種光信息記錄方法，是在基板上具有含有色素的記錄層的光信息記錄介質(zhì)上以14m/s以上的記錄線速度記錄信息的光信息記錄方法，上述色素是在氮氣流下進行差熱分析時具有吸熱峰的色素。上述色素的吸熱峰的大小優(yōu)選在10μ Vs/mg以上。根據(jù)本發(fā)明可以提供即使是在以14m/s以上的記錄線速度進行記錄的情況下LPP誤差也較小的光信息記錄方法。
文檔編號G11B7/24GK1573994SQ20041004921
公開日2005年2月2日 申請日期2004年6月2日 優(yōu)先權(quán)日2003年6月3日
發(fā)明者柴田路宏 申請人:富士膠片株式會社