專利名稱：光學(xué)拾波器及盤驅(qū)動(dòng)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光學(xué)拾波器及盤驅(qū)動(dòng)裝置，更詳細(xì)地，本發(fā)明涉及一種光學(xué)拾波器和設(shè)有該光學(xué)拾波器的盤驅(qū)動(dòng)裝置，其中該光學(xué)拾波器包括物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，其中一可移動(dòng)滑塊由一固定滑塊所支撐，利用設(shè)于可移動(dòng)滑塊和固定滑塊之間的支撐彈簧來實(shí)現(xiàn)支撐，該可移動(dòng)滑塊沿著聚焦方向、跟蹤方向以及傾斜方向這三方向移動(dòng)。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有一種盤驅(qū)動(dòng)裝置(例如光盤和磁光盤)，該裝置用于將信息信號記錄和復(fù)制到盤狀記錄介質(zhì)上，以及從盤狀記錄介質(zhì)記錄和復(fù)制信息信號。這種盤驅(qū)動(dòng)裝置上設(shè)有光學(xué)拾波器，該光學(xué)拾波器沿著上述盤狀記錄介質(zhì)的徑向方向移動(dòng)以便輻射激光束到盤狀記錄介質(zhì)上。
該光學(xué)拾波器上設(shè)有物鏡驅(qū)動(dòng)裝置。聚焦調(diào)節(jié)是由該物鏡驅(qū)動(dòng)裝置通過沿著聚焦方向移動(dòng)由可移動(dòng)滑塊所保持的物鏡實(shí)現(xiàn)的，該聚焦方向就是該可移動(dòng)滑塊相對于固定滑塊接近到該盤狀記錄介質(zhì)的記錄表面的方向，或者是從記錄表面上撤回的方向。另外，跟蹤調(diào)節(jié)是由一物鏡驅(qū)動(dòng)裝置通過沿著跟蹤方向移動(dòng)物鏡實(shí)現(xiàn)的，該跟蹤方向基本上為盤狀記錄介質(zhì)的徑向，因此，該光學(xué)拾波器聚集將要通過物鏡輻射到盤狀記錄介質(zhì)上激光束點(diǎn)到該盤狀記錄介質(zhì)的記錄磁道上。
如上所述，該光學(xué)拾波器通過利用物鏡驅(qū)動(dòng)裝置來實(shí)現(xiàn)跟蹤調(diào)節(jié)和聚焦調(diào)節(jié)。然而，近年來為了改善激光束點(diǎn)到記錄磁道上的跟蹤性，人們研究了一種所謂的“三軸激勵(lì)器”的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置。該三軸激勵(lì)器也能夠在發(fā)生旋轉(zhuǎn)盤狀記錄介質(zhì)的表面振動(dòng)等發(fā)生時(shí)執(zhí)行調(diào)節(jié)，該調(diào)節(jié)是通過除了聚焦調(diào)節(jié)和跟蹤調(diào)節(jié)這兩軸向調(diào)節(jié)外使得該可移動(dòng)滑塊與盤狀記錄介質(zhì)的記錄介質(zhì)相傾斜而實(shí)現(xiàn)的。
這種所謂的三軸激勵(lì)器物鏡驅(qū)動(dòng)裝置包括一種這樣的部件，該部件通過利用多個(gè)線圈體沿著聚焦方向、跟蹤方向以及傾斜方向這三方向移動(dòng)可移動(dòng)滑塊，其中線圈體的每個(gè)線圈體是由聚焦線圈、跟蹤線圈和傾斜線圈制成一體(例如見專利文獻(xiàn)1)。
另外，例如所謂的三軸激勵(lì)器物鏡驅(qū)動(dòng)裝置還包括一種這樣的部件，該部件是通過利用由聚焦線圈和跟蹤線圈制成一體的線圈體將可移動(dòng)滑塊沿著聚焦方向和跟蹤方向移動(dòng)，且該部件通過利用與聚焦線圈和跟蹤線圈相獨(dú)立設(shè)置的多個(gè)傾斜線圈將可移動(dòng)滑塊沿著傾斜方向移動(dòng)(例如見專利文獻(xiàn)2)。
日本專利申請公開號為No.Hei 10-261233。
日本專利申請公開號為No.2001-110075。

發(fā)明內(nèi)容
然而，由于彼此具有不相同功能的聚焦線圈、跟蹤線圈和傾斜線圈這三種線圈被制成于上述傳統(tǒng)的專利文獻(xiàn)1中所示的光學(xué)拾波器的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置中，所以對于該物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的操作變得復(fù)雜。另外，由于聚焦線圈被分別分成多個(gè)部分，所以在聚焦操作時(shí)存在靈敏性降低的可能。
另一方面，由于傳統(tǒng)的如專利文獻(xiàn)2所示的光學(xué)拾波器的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置中傾斜線圈、聚焦線圈和跟蹤線圈獨(dú)立設(shè)置，所以，操作控制得以簡化。然而，需要多個(gè)傾斜線圈和多個(gè)與傾斜線圈相對置的傾斜磁體，這樣物鏡驅(qū)動(dòng)裝置存在增加部件數(shù)量和增大尺寸的問題。
因此，在本發(fā)明光學(xué)拾波器和盤驅(qū)動(dòng)裝置中，目的在于克服上述問題以獲得操作控制的簡化以及小型化等。
為解決上述問題，本發(fā)明的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置和盤驅(qū)動(dòng)裝置分別設(shè)有作為物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的組件，該組件包括一固定滑塊，一可移動(dòng)滑塊，一支承彈簧，一聚焦線圈，一跟蹤線圈，一傾斜線圈，一第一磁體以及一第二磁體。該固定滑塊固定在移動(dòng)基座上，該可移動(dòng)滑塊沿著聚焦、跟蹤和傾斜方向移動(dòng)，其中該聚焦方向是指該移動(dòng)滑塊相對于該固定滑塊接近到盤狀記錄介質(zhì)的記錄表面的方向或從該記錄表面撤回的方向，跟蹤方向大體上為盤狀記錄介質(zhì)的徑向，傾斜方向?yàn)槔@著垂直于聚焦方向和跟蹤方向這兩個(gè)方向的軸線的旋轉(zhuǎn)方向，且該可移動(dòng)滑塊將物鏡保持。該支撐彈簧將固定滑塊和可移動(dòng)滑塊彼此相連。當(dāng)移動(dòng)滑塊沿著聚焦方向運(yùn)行時(shí)，給聚焦線圈通電，當(dāng)可移動(dòng)滑塊沿著跟蹤方向運(yùn)行時(shí)，給跟蹤線圈通電，給跟蹤線圈通電，當(dāng)可移動(dòng)滑塊沿著傾斜方向運(yùn)行時(shí)，給傾斜線圈通電。第一磁體與聚焦線圈和跟蹤線圈一起構(gòu)成第一磁路，第二磁體與傾斜線圈一起構(gòu)成第二磁路，且第二磁體設(shè)置成使得該第二磁體被插入傾斜線圈中的狀態(tài)。在該物鏡驅(qū)動(dòng)裝置中，物鏡和第二磁體獨(dú)立地設(shè)置在垂直于聚焦方向和跟蹤方向這兩個(gè)方向的方向上，第二磁體具有N極和S極，在跟蹤方向上，上述N、S極在并列位置被極化，與設(shè)置于其間的第二磁體在跟蹤方向上彼此對置的傾斜線圈的部分分別形成為用于沿著傾斜方向移動(dòng)可移動(dòng)滑塊的傾斜驅(qū)動(dòng)部分。
因此，在本發(fā)明的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置和盤驅(qū)動(dòng)裝置中，傾斜線圈與聚焦線圈、跟蹤線圈獨(dú)立設(shè)置，用于傾斜驅(qū)動(dòng)的第二磁體設(shè)置在傾斜線圈的內(nèi)部。
本發(fā)明的光學(xué)拾波器設(shè)置有沿著設(shè)于盤工作臺(tái)上的盤狀記錄介質(zhì)的徑向移動(dòng)的移動(dòng)基座，以及設(shè)于該移動(dòng)基座上的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置。物鏡驅(qū)動(dòng)裝置包括一固定滑塊，一可移動(dòng)滑塊，一支承彈簧，一聚焦線圈，一跟蹤線圈，一傾斜線圈，一第一磁體以及一第二磁體。該固定滑塊固定在移動(dòng)基座上，該可移動(dòng)滑塊沿著聚焦、跟蹤和傾斜方向移動(dòng)，其中該聚焦方向是指該移動(dòng)滑塊相對于該固定滑塊接近到盤狀記錄介質(zhì)的記錄表面的方向或從該記錄表面撤回的方向，跟蹤方向大體上為盤狀記錄介質(zhì)的徑向，傾斜方向?yàn)槔@著垂直于聚焦方向和跟蹤方向這兩個(gè)方向的軸線旋轉(zhuǎn)的方向，且該可移動(dòng)滑塊將物鏡保持。該支撐彈簧將固定滑塊和可移動(dòng)滑塊彼此相連。當(dāng)移動(dòng)滑塊沿著聚焦方向運(yùn)行時(shí)，給聚焦線圈通電，當(dāng)可移動(dòng)滑塊沿著跟蹤方向運(yùn)行時(shí)，給跟蹤線圈通電，當(dāng)可移動(dòng)滑塊沿著傾斜方向運(yùn)行時(shí)，給傾斜線圈通電。第一磁體與聚焦線圈和跟蹤線圈一起構(gòu)成第一磁路，第二磁體與傾斜線圈一起構(gòu)成第二磁路，且第二磁體設(shè)置成使得該第二磁體被插入傾斜線圈中的狀態(tài)。在該物鏡驅(qū)動(dòng)裝置中，物鏡和第二磁體獨(dú)立地設(shè)置在垂直于聚焦方向和跟蹤方向這兩個(gè)方向的方向上，第二磁體具有N極和S極，在跟蹤方向上，上述N、S極在并列位置被極化，與設(shè)置于其間的第二磁體在跟蹤方向上彼此對置的傾斜線圈的部分分別形成為用于沿著傾斜方向移動(dòng)可移動(dòng)滑塊的傾斜驅(qū)動(dòng)部分。
這樣，因?yàn)橛糜趫?zhí)行聚焦驅(qū)動(dòng)和跟蹤驅(qū)動(dòng)的第一磁路和用于執(zhí)行傾斜驅(qū)動(dòng)的第二磁路彼此獨(dú)立形成，從而簡化了操作控制，且改善了在聚焦操作時(shí)的靈敏度。
另外，因?yàn)榫哂蠳、S極的且在跟蹤方向上在并列位置被極化的第二磁體設(shè)置成使得該第二磁體插入到傾斜線圈中的狀態(tài)，所以傾斜線圈內(nèi)的空間內(nèi)部可被有效地用作第二磁體的設(shè)置空間，從而在空間程度實(shí)現(xiàn)小型化。
在本發(fā)明的另一方面，聚焦線圈設(shè)置在物鏡和第二磁體之間，可移動(dòng)滑塊設(shè)計(jì)成使得當(dāng)聚焦線圈通電時(shí)，由于第二磁體的漏通量橫穿過聚焦線圈，該可移動(dòng)滑塊在傾斜方向傾斜，另外，設(shè)置第二磁體的N極和S極的位置，以使得因當(dāng)聚焦線圈通電時(shí)由于第二磁體的漏通量引起的移動(dòng)滑塊的傾斜可與因?yàn)楸P狀記錄介質(zhì)的變形而引起的記錄表面的傾斜方向處于同一個(gè)方向，因此，在傾斜驅(qū)動(dòng)時(shí)利用第二磁路進(jìn)行的可移動(dòng)滑塊的驅(qū)動(dòng)量得以減小，從而操作控制變得較簡單，且較少電力消耗。
另外，因?yàn)槠渲杏傻诙怕穲?zhí)行的傾斜驅(qū)動(dòng)的方向與其中該可移動(dòng)滑塊因第二磁體的漏通量的影響而傾斜的方向相同，所以由第二磁路產(chǎn)生的力和因第二磁體的漏通量的影響而產(chǎn)生的力彼此不是阻力，從而提高聚焦驅(qū)動(dòng)和傾斜驅(qū)動(dòng)的操作的可靠性。
本發(fā)明的盤驅(qū)動(dòng)裝置為一個(gè)設(shè)有盤工作臺(tái)和光學(xué)拾波器的盤驅(qū)動(dòng)裝置，其中在該盤工作臺(tái)上安裝有盤狀記錄介質(zhì)，該光學(xué)拾波器將激光束通過物鏡輻射到安裝于盤工作臺(tái)上的盤狀記錄介質(zhì)上。該光學(xué)拾波器包括一移動(dòng)進(jìn)入到安裝于盤工作臺(tái)上的盤狀記錄介質(zhì)的徑向的移動(dòng)基座以及設(shè)于該移動(dòng)基座上的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置。該物鏡驅(qū)動(dòng)裝置包括一固定滑塊，一可移動(dòng)滑塊，一支承彈簧，一聚焦線圈，一跟蹤線圈，一傾斜線圈，一第一磁體以及一第二磁體。該固定滑塊固定在移動(dòng)基座上，該可移動(dòng)滑塊沿著聚焦、跟蹤和傾斜方向移動(dòng)，其中該聚焦方向是指該移動(dòng)滑塊相對于該固定滑塊接近到盤狀記錄介質(zhì)的記錄表面的方向或從該記錄表面撤回的方向，跟蹤方向大體上為盤狀記錄介質(zhì)的徑向，傾斜方向?yàn)槔@著垂直于聚焦方向和跟蹤方向這兩個(gè)方向的軸線的旋轉(zhuǎn)方向，且該可移動(dòng)滑塊將物鏡保持。該支撐彈簧將固定滑塊和可移動(dòng)滑塊彼此相連。當(dāng)可移動(dòng)滑塊沿著聚焦方向運(yùn)行時(shí)，給聚焦線圈通電，當(dāng)可移動(dòng)滑塊沿著跟蹤方向運(yùn)行時(shí)，給跟蹤線圈通電，當(dāng)可移動(dòng)滑塊沿著傾斜方向運(yùn)行時(shí)，給傾斜線圈通電。第一磁體與聚焦線圈和跟蹤線圈一起構(gòu)成第一磁路，第二磁體與傾斜線圈一起構(gòu)成第二磁路，且第二磁體設(shè)置成使得該第二磁體插入到傾斜線圈中的狀態(tài)。在該物鏡驅(qū)動(dòng)裝置中，物鏡和第二磁體獨(dú)立地設(shè)置在垂直于聚焦方向和跟蹤方向這兩個(gè)方向的方向上，第二磁體具有N極和S極，在跟蹤方向上，上述N、S極在并列位置被極化，與設(shè)置于其間的第二磁體在跟蹤方向上彼此對置的傾斜線圈的部分分別形成為用于沿著傾斜方向移動(dòng)可移動(dòng)滑塊的傾斜驅(qū)動(dòng)部分。
這樣，因?yàn)橛糜趫?zhí)行聚焦驅(qū)動(dòng)和跟蹤驅(qū)動(dòng)的第一磁路和用于執(zhí)行傾斜驅(qū)動(dòng)的第二磁路彼此獨(dú)立形成，從而簡化了操作控制，且改善了在聚焦操作時(shí)的靈敏度。
另外，因?yàn)榫哂蠳、S極的且在跟蹤方向上在并列位置被極化的第二磁體設(shè)置成使得該第二磁體插入到傾斜線圈中的狀態(tài)，所以傾斜線圈內(nèi)的空間可被有效地用作第二磁體的設(shè)置空間，從而在空間程度實(shí)現(xiàn)小型化。
在本發(fā)明的另一方面，聚焦線圈設(shè)置在物鏡和第二磁體之間，可移動(dòng)滑塊設(shè)計(jì)成當(dāng)聚焦線圈通電時(shí)，由于第二磁體的漏通量穿過聚焦線圈，該可移動(dòng)滑塊在傾斜方向傾斜，另外，設(shè)置第二磁體的N極和S極的位置，以使得當(dāng)聚焦線圈通電時(shí)由于第二磁體的漏通量引起的移動(dòng)滑塊的傾斜可與由于盤狀記錄介質(zhì)的變形而引起的記錄表面的傾斜方向處于同一個(gè)方向，因此，在傾斜驅(qū)動(dòng)時(shí)利用第二磁路進(jìn)行的可移動(dòng)滑塊的驅(qū)動(dòng)量得以減小，從而可實(shí)現(xiàn)操作控制變得較簡單，且較少電力消耗。
另外，因?yàn)槠渲杏傻诙怕穲?zhí)行的傾斜驅(qū)動(dòng)的方向與其中該可移動(dòng)滑塊因第二磁體的漏通量的影響而傾斜的方向相同，所以由第二磁路產(chǎn)生的力和因第二磁體的漏通量的影響而產(chǎn)生的力彼此不是阻力，從而提高聚焦驅(qū)動(dòng)和傾斜驅(qū)動(dòng)的操作的可靠性。


圖1和圖2-5一起表示出本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，其中圖1為盤驅(qū)動(dòng)裝置的示意性透視圖；圖2為物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的放大透視圖；圖3為物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的放大平面圖；圖4為物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的放大后視圖，其中沒有表示出固定滑塊；
圖5用于說明物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的可移動(dòng)滑塊的運(yùn)行狀態(tài)。
具體實(shí)施例方式
下面，參照附圖對本發(fā)明的光學(xué)拾波器及盤驅(qū)動(dòng)裝置的最佳實(shí)施例予以說明。
一盤驅(qū)動(dòng)裝置1由其所需的部件和機(jī)構(gòu)形成，所有上述部件和機(jī)構(gòu)均設(shè)置在一個(gè)外殼2中(見圖1)，一個(gè)圖中未示的盤插入口形成于該外殼2上。
一個(gè)圖中未示的底盤設(shè)于該外殼2內(nèi)，一個(gè)盤工作臺(tái)3固定在與該底盤相連的主軸馬達(dá)的馬達(dá)軸上。
多個(gè)平行的導(dǎo)軸4與底盤相連，該底盤上支撐有由圖中未示出的進(jìn)給馬達(dá)轉(zhuǎn)動(dòng)的導(dǎo)螺桿5。
一個(gè)光學(xué)拾波器6包括一移動(dòng)基座7，其上設(shè)有所需的光學(xué)部件；以及設(shè)于該移動(dòng)基座7上的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置8。形成于移動(dòng)基座7的兩端上的軸承部分7a和7b分別被導(dǎo)軸4可滑動(dòng)地支撐(見圖1)。一個(gè)圖中未示的設(shè)于移動(dòng)基座7上的螺母與該導(dǎo)螺桿5相螺接。當(dāng)該導(dǎo)螺桿5被該進(jìn)給馬達(dá)驅(qū)動(dòng)時(shí)，沿著與導(dǎo)螺桿5的旋轉(zhuǎn)方向相同的方向進(jìn)給該螺母，然后，該光學(xué)拾波器6被移動(dòng)到設(shè)在盤工作臺(tái)3上的盤狀記錄介質(zhì)100的徑向。
該物鏡驅(qū)動(dòng)裝置8包括一基座部件9；一固定滑塊10；以及一移動(dòng)到該固定滑塊10的可移動(dòng)滑塊11。(見圖2-4)該基座部件9的每個(gè)部件均由磁性金屬材料一體地形成。該基座部件9由連接到移動(dòng)基座7的基座部分9a和經(jīng)彎曲以分別垂直地設(shè)置在基座部分9a的前端和后端上的磁軛部分9b組成。
第一磁體12分別與磁軛部分9b的彼此相對置的表面相連。
一個(gè)第二磁體13與基座部分9a的后端相連。該第二磁體13形成為沿著垂直方向延伸的方棒形，且在右和左方向上或跟蹤方向上被極化以獲得N極和S極。
該固定滑塊10固定在移動(dòng)基座7上，且包括設(shè)置在固定滑塊10的后端上的分別位于上部、下部、右部以及左部的四個(gè)彈簧連接部分10a。一個(gè)電路板14連接到固定滑塊10的后表面上，該電路板14與圖中未示的供電線路相連。
每個(gè)支承彈簧15的一端與固定滑塊10的彈簧連接部分10a相連，上述每個(gè)支承彈簧15的一端與連接于固定滑塊10上的電路板14相連。用于聚焦驅(qū)動(dòng)或跟蹤驅(qū)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)電流從供電線路經(jīng)由電路板14供到支承彈簧15。
該可移動(dòng)滑塊11由位于其前側(cè)的透鏡接頭部分16和位于其后側(cè)的磁路部分17組成，其中該透鏡接頭部分16和磁路部分17均為一體地形成。
兩個(gè)彈簧連接凸出部分16a分別設(shè)置在透鏡接頭部分16的左側(cè)和右側(cè)上。該兩個(gè)彈簧連接凸出部分16a分別分成上部一個(gè)和下部一個(gè)。每個(gè)支承彈簧15的另一端與每個(gè)彈簧連接凸出部分16a相連。因此，該可移動(dòng)滑塊11與該固定滑塊10利用支承彈簧15相連以被保持在空中。
磁路部分17中形成有從上側(cè)向下側(cè)穿過磁路部分17的安裝孔17a。在磁路部分17的后端的中央部分沿著右和左的方向上形成有線圈接頭部分17b。
一個(gè)物鏡18與透鏡接頭部分16的頂面相連以便在那里得以固定。
一個(gè)線圈體19與磁路部分17相連。該線圈體19由聚焦線圈20和與該聚焦線圈20相連的多個(gè)跟蹤線圈21形成。
該聚焦線圈20大體上呈方柱形，從左到右距離長，其軸向與上下方向相一致。該跟蹤線圈21分別形成為薄環(huán)狀，其軸向與前后方向相一致，位于右和左側(cè)上的該跟蹤線圈21彼此平行地與聚焦線圈20的前表面相連。該線圈體19與磁路部分17的內(nèi)周邊面相連且設(shè)置于安裝孔17a中。當(dāng)線圈體19與磁路部分17相連時(shí)，在線圈體19的前側(cè)上形成有空間。
基座部件9的磁軛部分9b和與該磁軛部分9b相連的第一磁體12被插入到磁路部分17的第一磁體12a中以便設(shè)置在其中。該第一磁體12彼此對置設(shè)置，同時(shí)該第一磁體12的一部分位于聚焦線圈20和設(shè)于第一磁體12和該聚焦線圈20之間的跟蹤線圈21的前側(cè)。
基座部件9的基座部分9a和磁軛部分9b、第一磁體12、聚焦線圈20以及跟蹤線圈21構(gòu)成用于沿著聚焦方向或跟蹤方向移動(dòng)可移動(dòng)滑塊11的第一磁路22。
將驅(qū)動(dòng)電流從供電線路經(jīng)由電路板14和與固定滑塊10相連的支承彈簧15供給每個(gè)聚焦線圈20和跟蹤線圈21。
當(dāng)驅(qū)動(dòng)電流流經(jīng)聚焦線圈20時(shí)，根據(jù)流經(jīng)聚焦線圈20的驅(qū)動(dòng)電流的方向而產(chǎn)生一個(gè)預(yù)定方向的推力。該可移動(dòng)滑塊11相對于該固定滑塊10以圖2和圖4中所示的F-F方向即聚焦方向被移動(dòng)，其中，該聚焦方向?yàn)樵摽梢苿?dòng)滑塊11向安裝于盤工作臺(tái)3上的盤狀記錄介質(zhì)100的記錄表面接近的方向或從該記錄表面撤退的方向。
當(dāng)給跟蹤線圈21供給驅(qū)動(dòng)電流時(shí)，根據(jù)流經(jīng)跟蹤線圈21的驅(qū)動(dòng)電流的方向而產(chǎn)生一個(gè)預(yù)定方向的推力。該可移動(dòng)滑塊11相對于該固定滑塊10以圖2-圖4中所示的T-T方向即跟蹤方向被移動(dòng)，其中，該跟蹤方向大體上為安裝于盤工作臺(tái)3上的盤狀記錄介質(zhì)100的徑向方向。
一個(gè)傾斜線圈23與磁路部分17的線圈接頭部分17b相連。該傾斜線圈23大體上呈正方形的柱體且具有沿著上下方向的軸向。分開設(shè)置在傾斜線圈23的左側(cè)和右側(cè)的傾斜線圈23的部分分別形成為用于執(zhí)行傾斜驅(qū)動(dòng)的傾斜驅(qū)動(dòng)部分23a和傾斜驅(qū)動(dòng)部分23b。
與基座部件9的基座部分9a相連的第二磁體13插入到傾斜線圈23的內(nèi)部以便設(shè)置在其中。這樣，傾斜線圈23和第二磁體13構(gòu)成用于沿著傾斜方向移動(dòng)可移動(dòng)滑塊11的第二磁路24。
將驅(qū)動(dòng)電流經(jīng)由例如柔性印刷線路板或絞合線等(圖中未示)從供電線路供給傾斜線圈23。
當(dāng)給傾斜線圈23供給驅(qū)動(dòng)電流時(shí)，根據(jù)流經(jīng)傾斜線圈23的驅(qū)動(dòng)電流的方向而產(chǎn)生一個(gè)預(yù)定方向的推力。該可移動(dòng)滑塊11相對于該固定滑塊10以圖2和圖4中所示的R-R方向即傾斜方向被移動(dòng)，其中，該傾斜方向?yàn)槔@著與聚焦方向和跟蹤方向相正交的軸線旋轉(zhuǎn)的方向。
當(dāng)沿著聚焦方向、跟蹤方向或傾斜方向移動(dòng)可移動(dòng)滑塊11時(shí)，該支承彈簧15發(fā)生彈性變形。
當(dāng)盤工作臺(tái)3因如上所述設(shè)于盤驅(qū)動(dòng)裝置1中的主軸馬達(dá)的旋轉(zhuǎn)而旋轉(zhuǎn)時(shí)，安裝于該盤工作臺(tái)3上的該盤狀記錄介質(zhì)100發(fā)生旋轉(zhuǎn)，同時(shí)該光學(xué)拾波器6沿著盤狀記錄介質(zhì)100的徑向發(fā)生移動(dòng)。從而執(zhí)行盤狀記錄介質(zhì)100的記錄操作或復(fù)制操作。
當(dāng)在記錄或復(fù)制操作中給聚焦線圈20供給驅(qū)動(dòng)電流時(shí)，該物鏡驅(qū)動(dòng)裝置8的可移動(dòng)滑塊11相對于該固定滑塊10以圖2和圖4中所示的聚焦方向即F-F方向被移動(dòng)，執(zhí)行聚焦調(diào)節(jié)以便從設(shè)于移動(dòng)基座7上的圖中未示的半導(dǎo)體激光中發(fā)射出的激光束點(diǎn)通過物鏡18輻射而聚集在盤狀記錄介質(zhì)100的記錄磁道上。另外，當(dāng)給跟蹤線圈21供給驅(qū)動(dòng)電流時(shí)，該物鏡驅(qū)動(dòng)裝置8的可移動(dòng)滑塊11相對于該固定滑塊10以圖2-圖4中所示的跟蹤方向即T-T方向被移動(dòng)，執(zhí)行跟蹤調(diào)節(jié)以便從半導(dǎo)體激光中發(fā)射出的激光束點(diǎn)通過物鏡18輻射而聚集在盤狀記錄介質(zhì)100的記錄磁道上。
在盤狀記錄介質(zhì)100的記錄操作和復(fù)制操作中，除了上述的聚焦和跟蹤調(diào)節(jié)之外，還同時(shí)執(zhí)行傾斜調(diào)節(jié)。通過移動(dòng)可移動(dòng)滑塊11，同時(shí)沿著圖2和4中所示的R-R方向旋轉(zhuǎn)執(zhí)行該傾斜調(diào)節(jié)，以使得當(dāng)發(fā)生因盤狀記錄介質(zhì)100的熱變形彎曲而引起的記錄表面的傾斜、旋轉(zhuǎn)期間盤狀記錄介質(zhì)100的表面振動(dòng)等時(shí)，在流經(jīng)傾斜線圈23的傾斜驅(qū)動(dòng)部分23a和傾斜驅(qū)動(dòng)部分23b的電流而產(chǎn)生的力以及第二磁體13的磁通量的作用下，該可移動(dòng)滑塊11跟隨著該盤狀記錄介質(zhì)100。
例如，當(dāng)以平面中所示順時(shí)針方向(圖3中的S1方向)流動(dòng)的電流被供給傾斜線圈23中，該第二磁體13如圖4所示被極化成N極和S極的場合下，在位于一側(cè)上的傾斜驅(qū)動(dòng)部分23a中產(chǎn)生一向上的動(dòng)力，在位于另一側(cè)上的傾斜驅(qū)動(dòng)部分23b中產(chǎn)生一向下的動(dòng)力。這樣，該可移動(dòng)滑塊11沿著R1方向移動(dòng)。相反，當(dāng)以平面中所示逆時(shí)針方向(圖3中的S2方向)流動(dòng)的電流被供給傾斜線圈23中時(shí)，在位于一側(cè)上的傾斜驅(qū)動(dòng)部分23a中產(chǎn)生一向下的動(dòng)力，在位于另一側(cè)上的傾斜驅(qū)動(dòng)部分23b中產(chǎn)生一向上的動(dòng)力。這樣，該可移動(dòng)滑塊11沿著R2方向移動(dòng)。
如上所述，因?yàn)橛糜趫?zhí)行聚焦驅(qū)動(dòng)和跟蹤驅(qū)動(dòng)的該第一磁路22以及用于執(zhí)行傾斜驅(qū)動(dòng)的該第二磁路24在物鏡驅(qū)動(dòng)裝置8中是彼此獨(dú)立設(shè)置的，所以，可簡化操作控制。另外，因?yàn)榫劢咕€圈20設(shè)計(jì)成僅為一個(gè)，所以，聚焦操作時(shí)的靈敏度得以提高。
另外，因?yàn)檠刂櫡较虿⑿械貥O化成N極和S極的該第二磁體13被插入到設(shè)于物鏡驅(qū)動(dòng)裝置8的傾斜線圈23內(nèi)以便設(shè)置在其中，傾斜線圈23內(nèi)的空間可被有效地用作第二磁體13的安裝空間，從而，可實(shí)現(xiàn)物鏡驅(qū)動(dòng)裝置8的小型化。
因?yàn)榈诙朋w13的設(shè)置靠近物鏡驅(qū)動(dòng)裝置8的聚焦線圈20，所以，當(dāng)可移動(dòng)滑塊11沿著聚焦方向移動(dòng)時(shí)，該可移動(dòng)滑塊11受到來自第二磁體13的漏通量的影響。也就是說，當(dāng)電流流經(jīng)該聚焦線圈20時(shí)，該可移動(dòng)滑塊11沿著聚焦方向移動(dòng)，向右側(cè)或左側(cè)的電流流經(jīng)位于聚焦線圈20的后側(cè)上的部分20a。此時(shí)，因第二磁體13(該第二磁體13以橫過部分20a的方式操作)的漏通量P(見圖3)的影響，在部分20a處產(chǎn)生一向上或向下的動(dòng)力。
例如，當(dāng)電流以順時(shí)針方向(如平面內(nèi)所示)流經(jīng)聚焦線圈20時(shí)，該可移動(dòng)滑塊11依照聚焦驅(qū)動(dòng)向上移動(dòng)，電流沿著向右的方向(圖3中所示的Q2方向)流經(jīng)聚焦線圈20的部分20a。此時(shí)，盤狀記錄介質(zhì)100處于彎曲狀態(tài)，在該狀態(tài)中，因表面振動(dòng)等原因盤狀記錄介質(zhì)100的外周緣部分向上發(fā)生位移(該狀態(tài)在圖5中是以雙點(diǎn)劃線來表示的)。因此，該可移動(dòng)滑塊11被第二磁路24以傾斜方式驅(qū)動(dòng)到這樣的方向(圖4中的R2方向)，即其中位于盤狀記錄介質(zhì)100的外圓周側(cè)上的部分被向上移動(dòng)，以及位于盤狀記錄介質(zhì)100的內(nèi)圓周側(cè)上的部分被向下移動(dòng)，以便跟隨盤狀記錄介質(zhì)100的彎曲方向。
當(dāng)電流流經(jīng)聚焦線圈20的部分20a時(shí)，如上所述因第二磁體13的漏通量的影響而在部分20a處產(chǎn)生一動(dòng)力。此時(shí)，在物鏡驅(qū)動(dòng)裝置8中，如此設(shè)置第二磁體13的極化狀態(tài)，以便漏通量的影響限于該方向，即該可移動(dòng)滑塊11沿著R2的方向移動(dòng)。也就是說，設(shè)置該第二磁體13以便其N極設(shè)于左側(cè)，其S極設(shè)于右側(cè)。在部分20a的左側(cè)部分(位于盤狀記錄介質(zhì)100的內(nèi)圓周側(cè)上的部分)產(chǎn)生向下的動(dòng)力，在部分20a的右側(cè)部分(位于盤狀記錄介質(zhì)100的外圓周側(cè)上的部分)產(chǎn)生向上的動(dòng)力。該可移動(dòng)滑塊11沿著圖4和5中所示的R2方向(圖5中的雙點(diǎn)劃線所示)傾斜以便跟隨盤狀記錄介質(zhì)100的彎曲方向。
相反，當(dāng)電流沿著逆時(shí)針方向(如平面中所示)流經(jīng)聚焦線圈20時(shí)，該可移動(dòng)滑塊11依照聚焦驅(qū)動(dòng)向上移動(dòng)，電流經(jīng)聚焦線圈20的部分20a流向左側(cè)(圖3中所示的Q1方向)。此時(shí)，盤狀記錄介質(zhì)100處于彎曲狀態(tài)，在該狀態(tài)中，因表面振動(dòng)等原因，盤狀記錄介質(zhì)100的外周緣部分向下發(fā)生位移(該狀態(tài)在圖5中是以虛線來表示的)。因此，該可移動(dòng)滑塊11被第二磁路24以傾斜方式驅(qū)動(dòng)到這樣的方向(圖4中的R1方向)，即其中位于盤狀記錄介質(zhì)100的外圓周側(cè)上的部分被向下移動(dòng)，以及位于盤狀記錄介質(zhì)100的內(nèi)圓周側(cè)上的部分被0向上移動(dòng)，以便跟隨盤狀記錄介質(zhì)100的彎曲方向。
此時(shí)，因?yàn)樵摰诙朋w13設(shè)置成使其N極設(shè)于左側(cè)，其S極設(shè)于右側(cè)。在部分20a的左側(cè)部分(位于盤狀記錄介質(zhì)100的內(nèi)圓周側(cè)上的部分)產(chǎn)生向上的動(dòng)力，在部分20a的右側(cè)部分(位于盤狀記錄介質(zhì)100的外圓周側(cè)上的部分)產(chǎn)生向下的動(dòng)力。從而，該可移動(dòng)滑塊11沿著圖4和5中所示的R1方向(圖5中的虛線所示)傾斜，以便跟隨盤狀記錄介質(zhì)100的彎曲方向。
順便提及，如果物鏡驅(qū)動(dòng)裝置8設(shè)置成當(dāng)電流以順時(shí)針的方向(如平面中所示)流經(jīng)該聚焦線圈20時(shí)，該可移動(dòng)滑塊11可依照聚焦驅(qū)動(dòng)而向下移動(dòng)，以及當(dāng)電流以逆時(shí)針的方向(如平面中所示)流經(jīng)該聚焦線圈20時(shí)，該可移動(dòng)滑塊11可依照聚焦驅(qū)動(dòng)而向上移動(dòng)。然后，設(shè)置該第二磁體13以使得左側(cè)上具有S極，右側(cè)上具有N極。因此，同樣在這種情況下，第二磁體13的漏通量的影響施加在可移動(dòng)滑塊11上以便類似于上述場合而沿著盤狀記錄介質(zhì)100的彎曲方向傾斜該可移動(dòng)滑塊11。
如上所述，在物鏡驅(qū)動(dòng)裝置8中，當(dāng)電流流經(jīng)聚焦線圈20時(shí)，第二磁體13的漏通量的影響施加在可移動(dòng)滑塊11上，以便沿著盤狀記錄介質(zhì)100的彎曲方向傾斜該可移動(dòng)滑塊11。
因此，在傾斜驅(qū)動(dòng)時(shí)在該第二磁路24的作用下進(jìn)行的該可移動(dòng)滑塊11的驅(qū)動(dòng)量得以減少，可實(shí)現(xiàn)使操作控制較容易且降低電力消耗。
另外，因?yàn)槔玫诙怕?4的傾斜驅(qū)動(dòng)的方向與第二磁體13的由于漏通量的影響產(chǎn)生的可移動(dòng)滑塊11的傾斜方向相同，所以，由第二磁路24產(chǎn)生的力和由第二磁體13的漏通量產(chǎn)生的力彼此不是阻力，可提高聚焦驅(qū)動(dòng)操作和傾斜驅(qū)動(dòng)操作的可靠性。
順便提及，在上述中，所謂的移動(dòng)線圈型物鏡驅(qū)動(dòng)裝置8(其中該可移動(dòng)滑塊11上設(shè)有聚焦線圈20、跟蹤線圈21以及傾斜線圈23)是作為范例來描述的。然而，本發(fā)明所涉及的范圍不限于移動(dòng)線圈型物鏡驅(qū)動(dòng)裝置8，本發(fā)明也可涉及到所謂的移動(dòng)磁型物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，其中一固定滑塊上設(shè)有一聚焦線圈、一跟蹤線圈或一傾斜線圈，一移動(dòng)滑塊上設(shè)有與上述那些線圈相對應(yīng)的磁體。
另外，在上述中，描述的情形是聚焦方向假定為上下方向，跟蹤方向假定為左右方向。然而，上述的這些方向是為方便起見作為例子出現(xiàn)的，該方向不特別地限于這些方向。
作為用于實(shí)施上述發(fā)明的最佳實(shí)施例的各個(gè)部件的具體形式和結(jié)構(gòu)都僅為用于實(shí)施本發(fā)明的實(shí)施例，本發(fā)明的范圍不應(yīng)當(dāng)解釋成限于上述的形式和結(jié)構(gòu)。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)拾波器，包括沿著安裝于盤工作臺(tái)上的盤狀記錄介質(zhì)的徑向移動(dòng)的移動(dòng)基座以及設(shè)于該移動(dòng)基座上的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，其中該物鏡驅(qū)動(dòng)裝置包括一固定在該移動(dòng)基座上的固定滑塊；一沿著聚焦、跟蹤和傾斜方向移動(dòng)的可移動(dòng)滑塊，其中該聚焦方向是指該可移動(dòng)滑塊相對于該固定滑塊接近到盤狀記錄介質(zhì)的記錄表面的方向或從該記錄表面撤回的方向，跟蹤方向大體上為盤狀記錄介質(zhì)的徑向，傾斜方向?yàn)槔@著垂直于聚焦方向和跟蹤方向這兩個(gè)方向的軸線的旋轉(zhuǎn)方向，且該可移動(dòng)滑塊將物鏡保持；一將該固定滑塊和該可移動(dòng)滑塊彼此相連的支承彈簧；一聚焦線圈，當(dāng)該可移動(dòng)滑塊沿著聚焦方向運(yùn)行時(shí)，給該聚焦線圈通電；一跟蹤線圈，當(dāng)該可移動(dòng)滑塊沿著跟蹤方向運(yùn)行時(shí)，給該跟蹤線圈通電；一傾斜線圈，當(dāng)該可移動(dòng)滑塊沿著傾斜方向運(yùn)行時(shí)，給該傾斜線圈通電；一第一磁體，該第一磁體與該聚焦線圈和該跟蹤線圈一起構(gòu)成第一磁路；一第二磁體，第二磁體與該傾斜線圈一起構(gòu)成第二磁路，且第二磁體設(shè)置成使得該第二磁體插入到傾斜線圈中的狀態(tài)，其中該物鏡和該第二磁體獨(dú)立地設(shè)置在垂直于聚焦方向和跟蹤方向這兩個(gè)方向的方向上，該第二磁體具有N極和S極，在跟蹤方向上，上述N、S極在并列位置被極化，以及與設(shè)置于其間的第二磁體在跟蹤方向上彼此對置的傾斜線圈的部分分別形成為用于沿著傾斜方向移動(dòng)可移動(dòng)滑塊的傾斜驅(qū)動(dòng)部分。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)拾波器，其中該聚焦線圈設(shè)置在該物鏡和該第二磁體之間，該可移動(dòng)滑塊設(shè)計(jì)成當(dāng)聚焦線圈通電時(shí)，由于該第二磁體的漏通量橫穿過聚焦線圈，該可移動(dòng)滑塊在傾斜方向傾斜，設(shè)置第二磁體的N極和S極的位置，以使得當(dāng)聚焦線圈通電時(shí)由于第二磁體的漏通量引起的可移動(dòng)滑塊的傾斜可與由于盤狀記錄介質(zhì)的變形而引起的記錄表面的傾斜方向處于同一個(gè)方向。
3.一種盤驅(qū)動(dòng)裝置，其配備有盤工作臺(tái)和光學(xué)拾波器，其中在該盤工作臺(tái)上安裝有盤狀記錄介質(zhì)，該光學(xué)拾波器將激光束通過物鏡輻射到安裝于盤工作臺(tái)上的盤狀記錄介質(zhì)上，其中該光學(xué)拾波器包括一沿著安裝于該盤工作臺(tái)上的盤狀記錄介質(zhì)的徑向移動(dòng)的移動(dòng)基座；以及一安裝于該移動(dòng)基座上的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，該物鏡驅(qū)動(dòng)裝置包括一固定在該移動(dòng)基座上的固定滑塊；一沿著聚焦、跟蹤和傾斜方向移動(dòng)的可移動(dòng)滑塊，其中該聚焦方向是指該可移動(dòng)滑塊相對于該固定滑塊接近到盤狀記錄介質(zhì)的記錄表面的方向或從該記錄表面撤回的方向，跟蹤方向大體上為盤狀記錄介質(zhì)的徑向，傾斜方向?yàn)槔@著垂直于聚焦方向和跟蹤方向這兩個(gè)方向的軸線的旋轉(zhuǎn)方向，且該可移動(dòng)滑塊將物鏡保持；一將該固定滑塊和該可移動(dòng)滑塊彼此相連的支承彈簧；一聚焦線圈，當(dāng)該可移動(dòng)滑塊沿著聚焦方向運(yùn)行時(shí)，給該聚焦線圈通電；一跟蹤線圈，當(dāng)該可移動(dòng)滑塊沿著跟蹤方向運(yùn)行時(shí)，給該跟蹤線圈通電；一傾斜線圈，當(dāng)該可移動(dòng)滑塊沿著傾斜方向運(yùn)行時(shí)，給該傾斜線圈通電；一第一磁體，該第一磁體與該聚焦線圈和該跟蹤線圈一起構(gòu)成第一磁路；一第二磁體，第二磁體與該傾斜線圈一起構(gòu)成第二磁路，且第二磁體設(shè)置成使得該第二磁體插入到傾斜線圈中的狀態(tài)，其中該物鏡和該第二磁體獨(dú)立地設(shè)置在垂直于聚焦方向和跟蹤方向這兩個(gè)方向的方向上，該第二磁體具有N極和S極，在跟蹤方向上，上述N、S極在并列位置被極化，以及與設(shè)置于其間的第二磁體在跟蹤方向上彼此對置的傾斜線圈的部分分別形成為用于沿著傾斜方向移動(dòng)可移動(dòng)滑塊的傾斜驅(qū)動(dòng)部分。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的盤驅(qū)動(dòng)裝置，其中該聚焦線圈設(shè)置在該物鏡和該第二磁體之間，該可移動(dòng)滑塊設(shè)計(jì)成當(dāng)聚焦線圈通電時(shí)，由于該第二磁體的漏通量橫穿過聚焦線圈，該可移動(dòng)滑塊在傾斜方向傾斜，設(shè)置第二磁體的N極和S極的位置，以使得當(dāng)聚焦線圈通電時(shí)由于第二磁體的漏通量引起的可移動(dòng)滑塊的傾斜可與由于盤狀記錄介質(zhì)的變形而引起的記錄表面的傾斜方向處于同一個(gè)方向。
全文摘要
為簡化操作控制以及實(shí)現(xiàn)裝置的小型化，本發(fā)明提供一種物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，該裝置包括一固定滑塊，一保持物鏡的可移動(dòng)滑塊，一用于連接該固定滑塊和可移動(dòng)滑塊的支承彈簧，一聚焦線圈，一跟蹤線圈，一傾斜線圈，一構(gòu)成第一磁路的第一磁體以及一構(gòu)成第二磁路且設(shè)置成插入到傾斜線圈內(nèi)的第二磁體。物鏡和第二磁體沿著垂直于聚焦、跟蹤方向的方向獨(dú)立地設(shè)置。第二磁體在跟蹤方向上被并列地極化成N極和S極。與設(shè)置于其間的第二磁體在跟蹤方向上彼此對置的傾斜線圈的部分形成為用于沿著傾斜方向移動(dòng)可移動(dòng)滑塊的傾斜驅(qū)動(dòng)部分。
文檔編號G11B7/095GK1585007SQ200410057850
公開日2005年2月23日 申請日期2004年8月19日 優(yōu)先權(quán)日2003年8月19日
發(fā)明者大熊英生 申請人:索尼株式會(huì)社