專利名稱：用于信息存儲媒體的基片的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及使用磁盤、光盤、光磁盤等的信息存儲媒體的盤基片(下面稱為「用于信息存儲媒體的基片」。)及信息存儲媒體，尤其涉及用于玻璃制造的信息存儲媒體的基片以及使用了該信息存儲媒體用的基片的信息存儲媒體。
作為用于信息存儲媒體的基片，已知的有鋁基片、非晶形的玻璃基片(下面簡稱「玻璃基片」)、結晶化玻璃基片。用于這些信息存儲媒體基片中的玻璃基片與其他的用于信息存儲媒體的基片相比，容易達到高表面平整性的基片(表面光潔度Ra很小)，且具備耐薄板化及小型化的強度，同時重要的是擴大了市場占有率。
眾所周知，上述的玻璃基片中，通過其表面離子交換、化學回火了的化學回火玻璃基片。作為該化學回火玻璃基片含有60.0～70.0重量％的SiO2、0.5～14.0重量％的Al2O3、10.0～32.0重量％的堿金屬氧化物、1.0～15.0重量％的ZnO、1.1～14.0重量％的B2O3，是由線膨脹系數(shù)、壓縮強度及抗折強度分別為特定值以上的玻璃構成的基片。(參照特公平4-70262號公報)。
作為化學回火玻璃基片的材料，我們知道的有以下的(a)或(b)。
(a)含有55～60重量％的SiO2、10～18重量％的Al2O3、2～10重量％的ZrO2、2～5重量％的MgO、0.1～3重量％的BaO、12～15重量％的Na2O、2～5重量％的K2O、0～7重量％的P2O3、0.5～5重量％的TiO2，AL2O3和TiO2的合計重量為13～20重量％的玻璃(參照特開平1-167245號公報)。
(b)由64～70重量％的SiO2和14～20重量％的AL2O3和4～6重量％的Li2O和7～10重量％的Na2O和0～4重量％的MgO和0～1.5重量％的NrO2構成的玻璃(參照特公平6-76224號公報)。
可是，關于硬盤裝置，對于使用了光存儲媒體、光磁存儲媒體等的信息存儲媒體的其他存儲再生裝置，為了確保其領先地位，每天都在進行技術革新。其技術革新之一是磁盤的旋轉高速化。該旋轉高速化是為了提高存儲再生磁頭的存取速度的嘗試之一，以前5000～7000rpm的磁盤，今后有超過10000rpm的趨勢。
當然如上所述，雖然就磁盤尋求其旋轉高速化，但是，用以前的玻璃基片(用于信息存儲媒體的玻璃基片)，謀求所述的旋轉高速化，難以穩(wěn)定確保飛行高度(記錄再生時，磁頭與磁盤間的距離)。
本發(fā)明的第1目的在于提供一種容易得到可對應旋轉高速化的信息存儲媒體的用于信息存儲媒體的基片。
本發(fā)明的第2目的在于提供一種容易得到高存取速度的記錄再生裝置的信息存儲媒體。
本發(fā)明的第3目的在于提供一種可同時實現(xiàn)高楊氏系數(shù)(高縱彈性模量)和低飛行高度的信息存儲媒體。
本發(fā)明的第4目的在于提供一種由高楊氏系數(shù)，可抑制伴隨旋轉的振動的信息存儲媒體。
本發(fā)明人就在用以前的玻璃基片(用于信息存儲媒體的基片)謀求旋轉高速化時，難于穩(wěn)定確保飛行高度的原因，進行潛心研究的結果發(fā)現(xiàn)，當信息存儲媒體高速旋轉時，該信息存儲媒體由于共振等而變形，因此，穩(wěn)定確保飛行高度很困難。并且，發(fā)現(xiàn)可防止在信息存儲媒體高速旋轉時，由于共振等引起該信息存儲媒體的變形、理想的是提高用于信息存儲媒體的基片的楊氏系數(shù)。
作為具有高楊氏系數(shù)的用于信息存儲媒體的基片，有結晶化玻璃基片。但是，由于在結晶化玻璃基片中，根據(jù)結晶化的程度，能控制其強度及楊氏系數(shù)，因此如提高強度及楊氏系數(shù)則增加結晶的比例，其結果，達到用于信息存儲媒體的基片所要求的表面平整性(表面光潔度Ra)是很困難的。由此，即使用于結晶化玻璃基片在謀求所述旋轉高速化時，也難于穩(wěn)定、確保飛行高度。
本發(fā)明使用玻璃(非結晶質的玻璃)可得到能夠對應所述的旋轉高速化的用于信息存儲媒體的基片。本發(fā)明的用于信息存儲媒體的基片可分類成第1至第6種樣式，其中，第1至第4種樣式在楊氏系數(shù)及液相溫度點方面是共同的。按照第1至第6種樣式的用于各信息存儲媒體的基片，形成第1實施例，能夠達到上述第1目的。
(1)、一種用于信息存儲媒體的基片(以下，稱為「玻璃基片I」。)，其特征是，由楊氏系數(shù)為100Gpa以上，液相溫度為1350℃以下的玻璃構成的。
(2)、一種用于信息存儲媒體的基片(以下，稱為「玻璃基片III」。)，其特征是由作為玻璃成分至少含有TiO2及CaO，并且選定TiO2及CaO的含有量楊氏系數(shù)為100Gpa以上，液相溫度為1350℃以下那樣的所述TiO2及CaO的玻璃構成的。
(3)、一種用于信息存儲媒體的存儲板(以下，稱為「玻璃存儲板III」。)，其特征是由作為玻璃成分至少含有TiO2及CaO，選定TiO2及CaO的含有量楊氏系數(shù)為100GPa以上、液相溫度為1350℃以下，在可成形的溫度范圍內(nèi)，粘度是10泊以上的玻璃構成的。
(4)、一種用于信息存儲媒體的基片(以下，稱為「玻璃基片IV」。)，其特征是由作為玻璃成分包括TiO2，CaO，MgO及AL2O3同時，Na2O及Li2O中至少含有Li2O，選定所述各玻璃成分的含有量是楊氏系數(shù)為100Gpa以上，液相溫度為1350℃以下，在可成形的溫度范圍中的粘度是10泊以上，比重是3.5g/cm3以下的玻璃構成的。
(5)、一種用于信息存儲媒體的基片(以下，稱為「玻璃基片V」。)，其特征是由作為玻璃成分含有0.1～30克分子％的TiO2、1～45克分子％的CaO、以MgO和所述CaO的合量為5～40克分子％，Na2O和Li2O的合量為3～30克分子％，用含有不足0～15克分子％的Al2O3、含有35～65克分子％的SiO2的玻璃構成的。
(6)、一種用于信息存儲媒體的基片(以下，稱為「玻璃基片VI」。)，其特征是由上述的玻璃基片I至玻璃基片V的任一種或是化學回火其材料玻璃構成的。
另一方面，達到所述第2目的的本發(fā)明的信息存儲媒體是具有由上述玻璃基片I至玻璃基片VI任一種和在該玻璃基片上形成的記錄層。
而且，用本發(fā)明能夠得到與第1至第6樣式不同的，第7至第9樣式的用于信息存儲媒體的基片。即，第7樣式的用于信息存儲媒體的基片，作為必須成分，有Y2O3和TiO2共存，第8樣式的用于信息存儲媒體的基片使TiO2、Y2O3及ZrO2共存。還有，本發(fā)明的第9樣式的用于信息存儲媒體的基片，至少從由Er2O3、Nd2O3、Sm2O3、Eu2O3、Gd2O3、Tb2O3、Dy2O3、及Yb2O3構成的組群中選擇一種氧化物和包括TiO2。這些第7至第9的樣式的用于信息存儲媒體的基片構成本發(fā)明的實施例2。
關于本發(fā)明的實施例1及實施例2的用于信息存儲媒體的基片或媒體，具有在650℃以下，理想的是550℃以下的玻璃轉化溫度，該玻璃轉化溫度是較低的溫度。
這樣，比較低的玻璃轉化溫度可有效減輕化學回火處理時的損傷等。具體來說，化學回火時，通常玻璃基片浸漬在熔融鹽中?；瘜W回火中，熔融鹽保持比玻璃基片的玻璃化轉變溫度僅低100至150℃的溫度。但是，熔融鹽在500℃以上開始分解，該分解的熔融鹽損傷玻璃基片表面?？紤]到這一點，從防止玻璃基片上的損傷等的這一點出發(fā)，玻璃化轉變溫度在650℃以下，理想的最好是550℃以下。這樣，為了得到較低溫的玻璃化轉變溫度，添加Na2O、Li2O那樣的堿金屬氧化物成分，MgO、CaO那樣的堿土金屬氧化物成分。
下面，簡單說明附圖。


圖1表示楊氏系數(shù)與根據(jù)信息存儲媒體形成的盤的振動的關系。
下面說明關于本發(fā)明的第1實施形式的信息存儲媒體及用于存儲媒體的基片。
首先，說明關于本發(fā)明的第1實施形式的第1樣式的玻璃基片I。
本發(fā)明的玻璃基片I是由上述那樣的楊氏系數(shù)是100Gpa以上、液相溫度是1350℃以下的玻璃構成。這里，本發(fā)明所說的所謂「玻璃基片」是由實質不含結晶粒子的玻璃「的非結晶質的玻璃」構成的基片的意思，與所述的「玻璃基片」是含有結晶粒子的結晶化玻璃或是陶瓷玻璃，有實質的不同。
如前所述，在使薄板化的玻璃基片高速旋轉時，為防止該玻璃基片由共振等引起的變形，理想的是提高玻璃基片的楊氏系數(shù)。例如，使用直徑3.5英寸、厚度0.635mm(25密耳；該厚度是用于現(xiàn)在的磁盤的基片的一般厚度。)的玻璃基片制作的磁盤，使其在10000rpm旋轉時(以下，稱該情況為「情況A」。)、能夠穩(wěn)定確保該磁盤和記錄再生磁頭的飛行高度大致在1μm以下，從可抑制旋轉時的振動這一出發(fā)點來說，理想的是玻璃基片的楊氏系數(shù)在100Gpa以上。
還有，為了得到本發(fā)明所說的玻璃基片，在其制造過程中，有必要做到實質不折出結晶，為此，需要在玻璃的液相溫度以上進行在制造玻璃基片時，所進行的原料的熔解、成形、冷卻等的各工序。但是，若該液相溫度明顯高，則玻璃基片制造本體變得困難，就失去實用性。
從以上的觀點來看，在本發(fā)明的玻璃基片I使材料玻璃的楊氏系數(shù)為100Gpa以上，并且，使液相溫度為1350℃以下。理想的是該楊氏系數(shù)為105Gpa以上。而且，所述的液相溫度是1250℃以下更好，特別最好是1150℃以下。
還有，即使玻璃基片或是材料的玻璃的楊氏系數(shù)是100Gpa以上，用玻璃基片的比重除該楊氏系數(shù)的值(以下，稱為「比彈性率」。)是大致30×166Nm/kg以下，情況A的磁盤撓度最大容易超過2μm，其結果，穩(wěn)定確保飛行高度大致在1μm以下很困難。因此，本發(fā)明的玻璃基片I的比重最好大致在3.5g/cm3以下。在3.0g/cm3以下更好。雖然該比重越低越理想，但是，以硅酸鹽為基礎的玻璃其比重實質在2.1g/cm3以上。
另外，即使材料玻璃的液相溫度是1350℃以下，該材料玻璃的可成形的溫度范圍的粘度、即，液相溫度以上的溫度范圍的粘度明顯低，在向得到玻璃基片過程中所進行的成形工序提供玻璃融液時，不僅其流量的控制是困難的，也降低可成形形狀的自由度。因此，本發(fā)明的玻璃基片I的材料玻璃的所述粘度最好是大致10泊以上，30泊以上更好。
而且，在向磁盤、光盤、光磁盤等信息存儲媒體寫入信息時或者在更新該信息存儲媒體記錄的信息時，當然該信息存儲媒體通過夾板以在信息處理裝置內(nèi)的驅動電動機的主軸上，所固定的狀態(tài)旋轉，但是，這時，如信息存儲媒體的熱膨脹系數(shù)和所述的夾緊的熱膨脹系數(shù)明顯不同，則產(chǎn)生如下問題。
也就是說，在使信息存儲媒體旋轉時，由于驅動電動機的發(fā)熱，當然信息存儲媒體、主軸、夾板等的溫度急劇升溫到90℃左右，但是當信息存儲媒體的熱膨脹系數(shù)和所述的夾板的熱膨脹系數(shù)明顯不同，則由于所述的升溫是在信息存儲媒體和夾板之間弛緩產(chǎn)生，使信息存儲媒體產(chǎn)生變形和撓度，其結果，改變信息存儲媒體的數(shù)據(jù)記錄處(磁道)的位置，容易產(chǎn)生信息的寫入或是更新的錯誤。這樣的問題尤其成為3.5英寸那樣的大基片的問題。
因此，本發(fā)明的玻璃基片I的熱膨脹系數(shù)最好僅可近似所述的夾板的熱膨脹系數(shù)。由于所述的夾板是由一般的不銹鋼制作的，所以本發(fā)明的玻璃基片I的熱膨脹系數(shù)(意味著在100～300℃的平均熱膨系數(shù)。以下同樣。)理想的是大致7～14ppm/℃(7×10-6～14×10-6/℃)、更理想的是9～12ppm/℃(9×10-6～12×10-6/℃)，下面，說明關于本發(fā)明的玻璃基片II。
本發(fā)明的玻璃基片II如前所述，作為玻璃基片至少含有TiO2及CaO，是由選定楊氏系數(shù)為100Gpa以上、液相溫度為1350℃以下那樣的所述TiO2及CaO的含有量的玻璃構成。
這里，關于玻璃基片II的材料玻璃，設其楊氏系數(shù)為100Gpa以上、其液相溫度為1350℃以下，與所述的本發(fā)明的玻璃基片I的理由相同。關于這些物性的理想的范圍與所述的本發(fā)明的玻璃基片I的物性的理想范圍相同。
在得到楊氏系數(shù)高的玻璃中作為玻璃成分含有TiO2是合適的，楊氏系數(shù)高。在得到液相溫度低的玻璃中作為玻璃成分含有CaO是合適的。
為此，本發(fā)明的玻璃基片II，作為玻璃成分由至少含有TiO2及CaO的玻璃制作。TiO2及CaO的含有量，按照其他玻璃成分的種類及其含有量，適當選定得到楊氏系數(shù)為100Gpa以上、液相溫度為1350℃以下的玻璃。
與所述的本發(fā)明的玻璃基片I同樣的理由考慮，玻璃基片II的比重大致在3.5g/cm3以下是理想的，3.0g/cm3以下最好。同樣，玻璃基片II的熱膨脹系數(shù)大致為7～14ppm/℃(7×10-6～14×10-6/℃)是理想的，9～12ppm/℃(9×10-6～12×10-6/℃)為最好。
下面，說明有關本發(fā)明的玻璃基片III。如前所述，本發(fā)明的玻璃基片作為玻璃成分至少含有TiO2及CaO，并且由選定楊氏系數(shù)為100Gpa以上、液相溫度為1350℃以下，可成形的溫度范圍的粘度為10泊以上那樣的所述TiO2及CaO的含有量的玻璃構成。
這里，關于玻璃基片III的材料設其楊氏系數(shù)為100Gpa以上、其液相溫度為1350℃以下，其可成形的溫度范圍的粘度為10泊以上，與在本發(fā)明的玻璃基片1中說明的理由相同。關于這些物性的理想的范圍與在本發(fā)明的玻璃基片1中說明的該物性的理想的范圍相同。
另外，由至少含有TiO2及CaO的玻璃制作玻璃基片III，與所述的本發(fā)明的玻璃基片II的理由相同。TiO2及CaO的含有量按照其他的玻璃成分的種類及其含有量，適當選擇得到楊氏系數(shù)為100Gpa以上、液相溫度為1350℃以下、可成形溫度范圍的粘度為10泊以上的玻璃。
與所述的本發(fā)明的玻璃基片1的理由相同，玻璃基片III的比重大致在3.5g/cm3以下是理想的，在3.0g/cm3以下為更好。同樣，玻璃基片III的熱膨脹系數(shù)大致7～14ppm/℃(7×10-6～14×10-6/℃)是理想的、9～12ppm/℃(9×10-6～12×10-6/℃)更好。
下面，說明關于本發(fā)明的玻璃基片IV。
本發(fā)明的玻璃基片IV，如前所述那樣，由作為玻璃成分至少含有TiO2、CaO、MgO、Na2O、Li2O及Al2O3，選定楊氏系數(shù)為100Gpa以上、液相溫度在1350℃以下、可成形的溫度范圍的粘度為10泊以上，比重為3.5g/cm3以下那樣的所述各玻璃成分的含有量的玻璃構成。
這里，關于玻璃基片IV的材料玻璃設其楊氏系數(shù)為100GPa以上，其液相溫度為1350℃以下，其可成形的溫度范圍的粘度為10泊以上，比重為3.5g/cm3以下，與本發(fā)明的玻璃基片1的說明中的理由相同。關于這些物性的理想范圍與本發(fā)明的玻璃基片1的說明中所說的該物性的理想范圍相同。
如本發(fā)明的玻璃基片I的說明中所述的那樣，在TiO2是在得到楊系數(shù)高的玻璃中合適的玻璃成分，在CaO是在得到楊氏系數(shù)高、液相溫度低的玻璃中合適的玻璃成分。但是，CaO具有提高玻璃比重的作用。
MgO也是在得到楊氏系數(shù)高的玻璃的合適的玻璃成分，與CaO相比，同時具有提高液相溫度的作用。并且，MgO具有降低玻璃比重的作用。
Na2O雖然具有降低楊氏系數(shù)的作用，但是，是使玻璃的液相溫度明顯降低的玻璃成分，由于Na2O的存在，液相溫度的降低比該Na2O與TiO2共存時明顯。另外，Na2O即使得到熱膨脹系數(shù)大的玻璃也是有用的玻璃成分。
Li2O是在不降低楊氏系數(shù)，提高玻璃的熔解性中的合適的玻璃成分，并且，也是可通過化學回火增加強度的玻璃成分。
而且，雖然Al2O3是對楊氏系數(shù)的增減不起作用的玻璃成分，但是在謀求降低玻璃的液相溫度，抑制分相傾向，提高在作業(yè)溫度范圍內(nèi)的粘性及提高化學回火特性中是有效成分。
因此，本發(fā)明的玻璃基片IV，用含有至少上述6種成分的玻璃制作。這些6種類的玻璃成分分別的含有量是按照其他的玻璃成分(含有上述6種玻璃成分以外的玻璃成分。)的種類及其含有量，適當選定得到楊氏系數(shù)為100GPa以上、液相溫度為1350℃以下、可成形的溫度范圍的粘度是10泊以上、比重是3.5g/cm3以下的玻璃。
與所述的本發(fā)明的玻璃基片I的理由相同，玻璃基片IV的熱膨脹系數(shù)大致在7～14ppm/℃(7×10-6～14×10-6/℃)為理想的，在9～12ppm/℃(9×10-6～12×10-6/℃)這更好。
另外，上述的玻璃基片IV具有在650℃以下，理想的是550℃以下的玻璃化轉變溫度，該玻璃化轉變溫度是較低的溫度。這是當化學回火玻璃時使用的熔融鹽的溫度，保持由一般的玻璃化轉變溫度100～150℃以下的溫度。另一方面，熔融鹽在500℃以上開始分解鹽，對玻璃基片表面造成損傷。這樣，為了避開上述問題的玻璃化轉變溫度是理想的。
下面，說明關于本發(fā)明的玻璃基片V。
本發(fā)明的玻璃基片V，如前所述，作為玻璃成分，是由含有0.1～30克分子％的TiO2、1～45克分子％的CaO、MgO和CaO的合量為5～40克分子％、Na2O和Li2O的合量為3～30克分子％、不足0～15克分子％的Al2O3、35～65克分子％的SiO2的玻璃構成的。
在上述的組成中，CaO和MgO的合量希望在5～35克分子％范圍。在這種情況下，考慮玻璃基片的耐水性，希望SiO2在超過55克分子％，到65克分子％為止的范圍。并且，Al2O3也可不足5克分子％。
上述組成的玻璃是容易得到楊氏系數(shù)是100GPa以上，液相溫度是1350℃以下，可成形的溫度范圍的粘度是10泊以上，比重是3.5g/cm3的玻璃。
如前所述的TiO2是在得到楊氏系數(shù)高的玻璃方面的合適的玻璃成分，理想的是在得到楊氏系數(shù)為100GPa以上的玻璃，含有0.1％以上。但是，由于當其含有量超過30克分子％時，玻璃的耐失透性降低，難以得到液相溫度為1350℃以下的玻璃。
由于CaO是在得到楊氏系數(shù)高、液相溫度低的玻璃方面的合適的玻璃成分，理想的是得到楊氏系數(shù)在100GPa以上、液相溫度在1350℃以下的玻璃含有1克分子％以上是理想的。但是，若其含有量超過45克分子％，則玻璃化是困難的。
MgO是在得到楊氏系數(shù)高、比重低的玻璃方面的合適的玻璃成分，但是該MgO具有提高玻璃的液相溫度的作用。因此，含有MgO與CaO的合量為10～45克分子％是理想的，周時希望MgO是在0.5～40克分子％的范圍。總之，關于第1至第5樣式的玻璃基片含有CaO和MgO兩者。
Na2O雖然具有降低楊氏系數(shù)的作用，但是是使玻璃的液相溫度明顯降低的玻璃成分，由于Na2O的存在，液相溫度的降低比該Na2O與TiO2共存時明顯。因此，在較多含有TiO2時(例如，5克分子％以上)，特別是，含有該Na2O為理想。另外，Na2O是在得到熱膨脹系數(shù)大的玻璃方面也有用的玻璃成分。通過適當選定其含有量，可調(diào)整玻璃的熱膨脹系數(shù)。另一方面，Li2O是不降低楊氏系數(shù)，提高原料的熔解性方面的合適的玻璃成分，而且是可通過化學回火增強強度的玻璃成分。鑒于這些理由，NaO及Li2O含有3克分子％合量是理想的。但是，由于這些Na2O及Li2O的合量超過30克分子％和降低玻璃的化學耐久性，在得到在玻璃基片上形成磁記錄層的信息存儲媒體時，容易引起由玻璃基片向記錄層擴散堿離子等的問題。因此，Na2O及Li2O的合量在5～22克分子％范圍內(nèi)是理想的。
因Al2O3是對楊氏系數(shù)的增減無用的玻璃成分所以也可以不含有，但是，由于謀術玻璃的液相溫度的降低、分相傾向的抑制、在作業(yè)溫度范圍的粘性的提高及提高化學回火特性方面的有效的玻璃成分，也可根據(jù)需要含有。在含有Al2O3時，當其含有量超過15克分子％時，容易引起液相溫度的明顯上升、由于熔解性變差，生成未熔解物的問題。
SiO2是形成玻璃結構的成分，得到液相溫度是1350℃以下的玻璃含有35％以上克分子是理想的。但是，若其含有量超過65克分子％則得到具有100GPa以上楊氏系數(shù)的玻璃是困難的，SiO2的含有量為35～65克分子％更理想。SiO2是影響堿離子等的溶解析出的耐水性的成分，從耐水性方面來看，若為40～60克分子％則是有效果的。
與所述的本發(fā)明的玻璃基片I同樣的理由，由于玻璃基片V的楊氏系數(shù)是100GPa以上、液相溫度是1350℃以下，熱膨脹系數(shù)大致7～14ppm/℃(7×10-6～14×10-6/℃)是理想的，得到具有希望的物性的玻璃基片V那樣，在上述的范圍內(nèi)適當選定各玻璃成分的含有量。關于所述的物性的理想范圍，與在本發(fā)明的玻璃基片I的說明中所述的該物性的理想范圍相同。
作為玻璃基片V，理想的是使用玻璃成分為含有5～15克分子％的TiO2、4～20克分子％的CaO、MgO和所述CaO的合量為5～30克分子％、Na2O和Li2O的合量為5～22克分子％、0～8克分子％的Al2O3、40～60克分子％的SiO2的玻璃。
以上，說明了關于本發(fā)明的玻璃基片I～玻璃基片V，是由作為必須的玻璃成分含有TiO2的玻璃構成的玻璃基片，也就是說關于玻璃基片II、玻璃基片III、玻璃基片IV及玻璃基片V，也可由使用代替TiO2的一部分或是全部的過渡金屬氧化物(但是，鈦氧化物除外。)的玻璃制作。
作為該過渡金屬氧化物舉出從Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Ga、Ge、Y、Zr、Nb、Mo、La、Ce、Pr、Nd、Pn、Ev、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tn、Yb、Hf、Ta、W中選擇的至少1種氧化物。
也可從比這些過渡金屬氧化物稍微降低楊氏系數(shù)的Cu、V、Zn中選擇至少1種的氧化物。
在這些氧化物中，特別是Y2O3不提高比重可提高楊氏系數(shù)。這些氧化物的含有量是0.1～15克分子％，理想的是0.1～8克分子％。這些過渡金屬氧化物如TiO2為10克分子％以上，則楊氏系數(shù)的提高量/含有量稍低，因此，使TiO2在10克分子％以下共存是理想的。
但是，在所述的過渡金屬氧化物中，由于沒有象使玻璃的楊氏系數(shù)提高的那樣的效果，相反，有提高比重的效果，關于其含有量，按照其他的玻璃成分的種類及其含有量，適當選定達到目的的玻璃基片。作為過渡金屬氧化物使用ZrO2時，該ZrO2的含有量為10克分子％以下是理想的，在4克分子％以下更理想。作為過渡金屬氧化物當使用ZrO2時，其含有量在5克分子％以下時，稍微能夠降低液相溫度。
另外，本發(fā)明的玻璃基片I～玻璃基片V是不進行化學回火也能得到的，也可通過進行化學回火來得到。在進行化學回火(用低溫型離子交換法)時，化學回火前的玻璃作為玻璃成分含有SiO2和Al2O3合量為40克分子％以上、Li2O在3克分子％以上、Na2O與所述Li2O的合量為5克分子％以上、CaO和MgO合量在35克分子％以下是理想的。
在上述場合，通過化學回火，由于形成充分的壓縮應力層，含有40克分子％以上的SiO2是理想的，但是，該SiO2的一部分能夠通過Al2O3置換。因此，SiO2和Al2O3含有這些的合量為40～80克分子％是理想的。而且，SiO2和Al2O3的合量在44克分子％以上更理想。
Li2O及Na2O在進行化學回火中，是為了在玻璃中導入必要的Li+離子及Na+離子的成分，形成充分的壓縮應力層，含有3克分子％以上的Li2O，并且，含有Na2O和Li2O的合量在5克分子％以上是理想的。而且，為了抑制從玻璃基片溶解析出堿離子，堿離子的合量在22克分子％以下是理想的。
另一方面，雖然CaO和MgO是在玻璃的楊氏系數(shù)、液相溫度、調(diào)整可成形的溫度范圍的粘度等方面的有效的玻璃成分，但是、也是阻礙化學回火時的堿離子的移動的成分。因此，形成充分的壓縮應力層，CaO和MgO的合量為35克分子％以下是理想的。
下面，說明關于本發(fā)明的玻璃基片VI。
本發(fā)明的玻璃基片VI，如前所述，是由本發(fā)明的玻璃基片I～玻璃基片V的任一種或是化學回火了其材料玻璃的材料構成。
化學回火是得到耐沖擊性高的玻璃基片方面的通用的手段。例如，通過低溫離子交換法的化學回火，由作為化學回火玻璃規(guī)定的熔融鹽，也就是說，關于鉀和鈉的碳酸鹽、硝酸鹽或是這些的混合物構成，與作為化學回火的玻璃的轉化溫度Tg相比，能夠通過在大致保持低50～150℃的溫度的熔融鹽中浸漬來進行。另一方面，當熔融鹽超過500℃，開始分解，并開始損傷玻璃基片，因此，本發(fā)明的玻璃基片，具有650℃以下，理想的是550℃以下的玻璃化轉變溫度溫度。
以上說明的本發(fā)明的玻璃基片I～玻璃基片VI容易得到楊氏系數(shù)是100GPa以上和高(玻璃基片I～IV及玻璃基片VI)楊氏系數(shù)為100GPa以上的玻璃基片(玻璃基片V及玻璃基片VI)，并且，由于液相溫度是由1350℃以下的非結晶質的玻璃構成，容易得到能對應旋轉高速化的信息存儲媒體的玻璃基片。
具有以上優(yōu)點的本發(fā)明的玻璃基片I～玻璃基片VI特別適合作為磁盤用的基片，作為其他的光磁盤用的基片，或是作為光盤用的基片。
下面，說明關于本發(fā)明的信息存儲媒體。
本發(fā)明的信息存儲媒體如前所述，具有所述玻璃基片I～玻璃基片VI的任一種和在該玻璃基片上形成的記錄層。
這里，本發(fā)明的信息存儲媒體所說的「玻璃基片上形成的記錄層」，意味著通過直接在玻璃基片的表面或是要求的層上形成的單層結構或是多層結構的記錄層，該記錄層的材料及層的構成，按照希望的信息存儲媒體的種類，適當選擇作為磁記錄層、光磁記錄層、追記形記錄層、相變化記錄層等的功能。
上述的信息存儲媒體作為構成該信息存儲媒體的基片，如使用所述的本發(fā)明的玻璃基片I～玻璃基片VI的任一種為好，根據(jù)作為目的的信息存儲媒體的種類，與以往同樣，在基片及記錄層以外適當設置保護層、潤滑層等。而且，根據(jù)信息存儲媒體的種類，也有在2枚基片之間挾持記錄層的結構，關于這樣結構的信息存儲媒體，至少作為2枚基片其中之一，如使用所述的本發(fā)明的玻璃基片I～玻璃基片VI的任一種為好。
本發(fā)明的信息存儲媒體，由于構成該信息存儲媒體的基片是由所述的本發(fā)明的玻璃基片I～玻璃基片VI的任一種構成，容易對應信息存儲媒體的旋轉高速化。其結果，通過構成使用本發(fā)明的信息存儲媒體的存儲裝置(例如、用于個人計算機、服務員和顧客系統(tǒng)等的輔助存儲裝置等)，容易得到存取速度快的存儲再生裝置。
實施例下面說明關于本發(fā)明的實施例，但是本發(fā)明按照以下實施例，不受任何限制。還有，關于用下述的實施例分別得到的玻璃基片的壓縮應力層的厚度及各玻璃基片的物性，按以下所示方法求出。
1.壓縮應力層的厚度使用東芝公司生產(chǎn)的精密變形計(巴俾涅補償法)測定的。
2.物性(1).楊氏系數(shù)制作20×20×100mm的試料，將5MHz的超聲波在所述的試料中的傳播時的縱波速度(V1)和和橫波速度(Vs)用聲循環(huán)式音速測定裝置(超聲波工業(yè)公司制造的UVM-2)測定之后，根據(jù)下式求出。
楊氏系數(shù)＝(4G2-3G·V12·ρ)/(G-V12·ρ)G＝Vs2·ρρ試料的比重(g/cm3)(2).比彈性率通過用其比重除以試料的楊式系數(shù)求出。
(3).液相溫度將試料投入鉑制的容器在傾斜溫度爐內(nèi)放置30分之后，用光學顯微鏡觀察試料的表面及內(nèi)部有無結晶。然后，將不析出結晶的最低溫度作為液相溫度。
(4).粘度使用具有鉑制容器和鉑制回轉器的旋轉式粘性測定裝置，由熔解溫度范圍到液相溫度附近連續(xù)測定。
(5).玻璃化轉變溫度(Tg)用理學公司制造的熱機械分析裝置(TMA8140)用+4℃/分的升溫速度，測定了5mmφ×20mm的試料。還有，作為標準試料使用了SiO2。
(6).熱膨脹系數(shù)在玻璃化轉變溫度的測定時，一起測定了意味著在100～300℃的平均熱膨脹系數(shù)。
(7).表面光潔度(Ra)使用數(shù)字儀器公司的AFM NanoScope3A測定了的。
實施例1～實施例30首先，得到表1～表5所示的氧化物組成的玻璃那樣的，適當秤量硅石粉末、氫氧化鋁、氧化鋁、碳酸鋰、硫酸鋰、碳酸鈉、硝酸鈉、碳酸鈣、碳酸鎂、氧化鎂、氧化鈦、氧化鐵、氧化鎳、氧化釔、氧化鑭、氧化釹、氧化銅、氧化銻、亞砷酸等的玻璃原料，每實施例調(diào)合約100kg的混合物。
下面，使用容積為2升的熔解爐，和連接該熔解爐的容量30升的帶攪拌裝置的作業(yè)槽，和連接該作業(yè)槽的內(nèi)經(jīng)5～20mm的流出圓管的鉑制的氣氛加熱方式的間歇式熔解設備，調(diào)制如下的熔融玻璃。也就是說，將上述混合物投入熔解槽在1350～1450℃熔解，由作業(yè)槽攪拌、澄清，得到熔融玻璃。
得到的熔融玻璃，在稍微比液相溫度高的溫度下從流出用的圓管流出，用呈圓型(直徑100mm)的鑄鐵制造的金屬模(下型)接受熔融玻璃之后，用鑄鐵制造的上型迅速擠壓該熔融玻璃，然后退火，得到直徑約100mm、厚度1mm的圓盤狀物。這時，如按本發(fā)明的組成，在擠壓時由于液相溫度在1350℃以下，表面張力也高，能夠阻止流向周圍那樣的變形。擠壓之后的玻璃基片，對成形型的再現(xiàn)性好，在邊緣部分也不產(chǎn)生氣泡。
之后，對上述的圓盤狀物施以研削加工及研磨加工(使用氧化鈰拋光)，得到φ3.5英寸×0.635mm的呈圓盤狀的玻璃基片。
而且，關于除了實施例25及實施例26這兩個實施例之外，剩下的各實施例，進行以下的化學回火，得到作為目的的玻璃基片。
首先，調(diào)制NaNO3和KNO3重量比為6∶4那樣混合的混合鹽，加熱所述的混合鹽到比化學回火的玻璃基片的玻璃化轉變溫度(Tg)還低100℃的溫度，并得到溶融鹽后，作為化學回火，通過將玻璃基片在所述的溶融鹽中浸漬9小時，進行化學回火。
表1～表5表示如此得到的各玻璃基片的壓縮應力層的厚度(但是，在實施例25及實施例26得到的各玻璃基片除外)及各玻璃基片的物性。還有，關于楊氏系數(shù)、比彈性率、表面光潔性度(Ra)及比重，使用全部化學回火之后的玻璃試料來測定(但是，在實施例25及實施例26得到的各玻璃基片除外。)關于液相溫度、粘度、玻璃化轉變溫度及熱膨脹系數(shù)，使用不經(jīng)化學回火的玻璃試料測定。
比較例1秤量與在特開平1-167245號公報的實施例1記載的玻璃實質相同的組成(換算克分子％)的玻璃那樣的玻璃原料，在得到與上述實施例1～實施例30同樣的玻璃基片(化學回火前的玻璃板)之后，用上述實施例1～實施例30的同樣條件，化學回火該玻璃基片，得到作為目的的玻璃基片。
關于上述的玻璃基片，用表6表示實施例1～實施例30同樣求出的壓縮應力層的厚度、楊氏系數(shù)、比重、比彈性率及玻璃化轉變溫度的各值。
比較例2
秤量與在特公平6-76224號公報的實施例1記載的玻璃實質相同的組成(換算克分子％)的玻璃那樣的玻璃原料，在得到與上述實施例1～實施例30同樣的玻璃基片(化學回火前的玻璃板)之后，用上述實施例1～實施例30的同樣條件，化學回火該玻璃基片，得到作為目的的玻璃基片。
關于上述的玻璃基片，用表6表示實施例1～實施例30同樣求出的壓縮應力層的厚度、楊氏系數(shù)、比重、比彈性率及液相溫度的各值。
比較例3秤量與在特公平4-70262號公報的實施例1記載的玻璃(組成2的玻璃)實質相同的組成(換算克分子％)的玻璃那樣的玻璃原料，在得到與上述實施例1～實施例30同樣的玻璃基片(化學回火前的玻璃板)之后，用上述實施例1～實施例30的同樣條件，化學回火該玻璃基片，得到作為目的的玻璃基片。
關于上述的玻璃基片，用表6表示實施例1～實施例30同樣求出的壓縮應力層的厚度、楊氏系數(shù)、比重、比彈性率、熱膨脹系數(shù)及玻璃化轉變溫度的各值。
比較例4秤量與在特開平7-187711號公報的權利要求所述的玻璃實質同樣的組成(換算成克分子％)的玻璃那樣的玻璃原料，得到熔融物之后，按所述本發(fā)明的溫度及時間進行熱處理，得到結晶化玻璃。其后，將該結晶化玻璃與所述實施例1～實施例例30同樣加工，得到作為目的的玻璃基片。
關于上述的玻璃基片，在表6示出與實施例1～實施例30同樣求出的楊氏系數(shù)、比重、比彈性率及表面光潔度的各值。
如表1～表5所示那樣，用實施例1～實施例30得到的各玻璃基片，楊氏系數(shù)高為102～120GPa，表面光潔度(Ra)良好為3～5埃。而且，這些玻璃基片的材料玻璃的液相溫度比較低為1000～1230℃。因此，使用這些玻璃基片，例如制作了磁盤時，可推測能得到既使高速旋轉時，可穩(wěn)定、確保飛行高度大致在1μm以下的磁盤。
另一方面，用比較例1～比較例3得到的各玻璃基片，楊氏系數(shù)低為74～78GPa，而且，用比較例4得到的結晶化玻璃基片，表面光潔度(Ra)差為25埃。因此，使用這些玻璃基片或是結晶化基片時，例如，制作了磁盤時，可推測只能得到在高速旋轉時，穩(wěn)定、確保飛行高度大致在1μm以下是困難的磁盤。
由表1至表5明示的那樣，知道實施例1～30在包含35～65克分子％的SiO2、0～15克分子％Al2O3、3～30克分子％(Li2O+Na2O)、1～45克分子％的CaO、5～45克分子％(MgO+CaO)、0.1～30克分子％的TiO2的范圍內(nèi)。特別是，判明了(MgO+CaO)的量，希望5～35克分子％的范圍，并且，SiO2的量理想的是超過55克分子％，不超過65克分子％的范圍。
實施例31～實施例36使用在實施例25～實施例30得到的各玻璃基片，按以下要領制作了磁盤。
首先，為了防止磁頭和磁盤的吸附，用激光在各玻璃基片的降落地形成了網(wǎng)紋。
接著，在形成了網(wǎng)紋一側的玻璃基片表面上依次層積Cr基層、CoPtCrTa磁性層及碳保護層，得到磁盤。
關于上述那樣制作的各磁盤，將其裝在硬盤裝置上用1200rpm使其旋轉，在飛行高度為1μm以下，用MR磁頭進行記錄更新試驗時，任何磁盤都能夠進行正常的記錄更新。
下面，說明關于本發(fā)明的第2實施形式的用于信息存儲媒體的基片。這里，第2實施形式的用于信息存儲媒體的基片是根據(jù)上述的本發(fā)明的第7至第9的樣式。關于第7樣式的玻璃基片，也就是說，用于信息存儲媒體的基片，為了得到上述的楊氏系數(shù)及液相溫度，使Y2O3及TiO2共存，該基片稱為第2實施形式的玻璃基片I。具體來說，該第2實施形式的玻璃基片I具有增加SiO2、Al2O3、MgO和/或是CaO、及Li2O，含有Y2O3及TiO2的組分。
本發(fā)明的第8樣式的玻璃基片II具有增加SiO2、Al2O3、MgO和/或CaO及Li2O，含有Y2O3、TiO2及ZrO2的組分。
而且，本發(fā)明的第9樣式的玻璃基片III是從由Er2O3、Nd2O3、Sm2O3、Eu2O3、Gd2O3、Tb2O3、Dy2O3及Yb2O3組成的稀土類金屬氧化物群中至少選擇一種氧化物，同時含有TiO2。并且，可以判明通過、含有，在以SiO2、Al2O3、MgO和/或CaO及Li2O中只構成TiO2及ZrO2的組分是可得到的。這里，將該玻璃基片稱為第2實施形式的玻璃基片IV。上述的稀土類金屬氧化物也與過渡金屬氧化物同樣，雖然能夠提高楊氏系數(shù)，但也有提高比重的傾向，因此，當含有0～10克分子％左右的這些稀土類金屬氧化物是有效果的。
表7表示關于上述的玻璃基片1、II、III、及IV的實施例1～48?？梢耘忻髟诒?所示出的實施例1～48中，實施例1、2、3、4、5、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、21、22、24、25、29、36、37、及38含有Y2O3、TiO2及ZrO2，是第2實施形式的玻璃基片II，另外的實施例6、7、8、20、23、26、27、28、30、31、32、33、34、35、39及40含有Y2O3及TiO2，是第2實施形式的玻璃基片I。而且，實施例41～48含有TiO2和稀土類金屬氧化物，能夠容易理解是第2實施形式的玻璃基片III。
下面，參照表8，該8表示實施例49～63，這些實施例，能夠分成第2實施形式的玻璃基片I、II、III及IV。也就是說，實施例49、52、53、55、58、62及63任何一個都具有使TiO2及Y2O3共存的組成，判斷的是關于第2實施形式的玻璃基片I。另外，實施例50、54、55、56、57及59含有TiO2、Y2O3及ZrO2，判斷的是相當?shù)?實施形式的玻璃基片II。而且，僅含有TiO2及ZrO2的實施例61及62是第2實施形式的玻璃基片IV。
表8表示關于各實施例的壓縮應力層的厚度、粘度、比重、液相溫度、比彈性率、楊氏系數(shù)、玻璃化轉變溫度(Tg)、熱膨脹系數(shù)及表面光潔度。
由表7及表8明示的那樣，關于第2實施形式的實施例48～63具有包含45～65克分子％的SiO2、0～1 5克分子％的Al2O3、4～20克分子％Li2O、1～8克分子％的Na2O、3～30克分子％的(Li2O+Na2O)、0～21克分子％的CaO、0～22克分子％的MgO、4～40克分子％的(CaO+MgO)、0～16克分子％的Y2O3、1～15克分子％的TiO2及0～10克分子％的ZrO2組成。另外，不含有Y2O3的實施例41～48，從由Er2O3、Nd2O3、Sm2O3、Eu2O3、Gd2O3、Tb2O3、Dy2O3及Yb2O3構成的稀土類金屬氧化物群中選擇的至少一種氧化物含有5克分子％。
而且，為了測定堿離子的溶解析出量，在水中浸漬關于第1及第2實施形式的玻璃基片。在表9中，表示關于第1實施形式的實施例2、4、29、9、3及17，以及關于第2實施形式的實施例49及50的每直徑2.5英寸的盤及每單位面積的溶解析出量。如表9中明示的那樣，實施例9、13及17的溶解析出量比實施例2、4及29的溶解析出量少，這一點，也與實施例49和50同樣。這是表示，在增加SiO2的量的同時，有減少溶解析出量的傾向。
如表7及表8明示的那樣，關于第2實施形式的實施例1～63在具有100GPa以上的楊氏系數(shù)的同時，具有1350℃以下的液相溫度。
而且，關于第2實施形式的實施例16、17、20、23及31在規(guī)定的處理浴內(nèi)，用規(guī)定的離子交換溫度、使其化學回火，就被化學回火的玻璃基片測定了楊氏系數(shù)、玻璃化轉變溫度溫度(Tg)、表面光潔度及彎曲強度。表10表示其結果。
這里，參照圖1，說明信息存儲媒體，即說明盤的楊氏系數(shù)和振動的相關關系。在這里，表示使用以往基片的盤和關于本發(fā)明的信息記錄基片的盤。如更具體地說，盤A使用鋁基片，盤B使用SiO2基片，盤C及D是分別使用了所述比較例1及2示出的基片的例子。這些盤A、B、C及D都具有80GPa以下的楊氏系數(shù)。
另一方面，作為本發(fā)明的信息存儲基片，使用了表2～5所示出的實施例8、10、15、24及30所示的基片，使用這些基片構成了盤E8、10、15、24及30。
上述的各基片，具有3.5英寸的直徑，用10000rpm的速度旋轉，測定了該時的振動相對值。該場合，以往的盤中，在圖中用相對值顯示設盤A的振動為100時的其他的盤的振動。如圖所示那樣，關于楊氏系數(shù)為100GPa以上的本發(fā)明的實施例(表2～5的實施例8、10、15、24及30)的盤E8、10、15、24及30的振動如圖1所示那樣，與以往一般使用的鋁基片(A)形成的盤的振動相比較，能夠減小60％以下。還有，使用了其他的以往的基片的盤B、C、及D，對盤A.0的振動表示90％左右的振動是清楚的。因此，如本發(fā)明那樣，高楊氏系數(shù)的用于信息存儲媒體的基片，在構成了盤時，可減小振動，能夠使飛行高度穩(wěn)定。
如以上說明的那樣，本發(fā)明的用于信息存儲媒體的基片(玻璃基片)由于是容易得到的旋轉高速化應用的信息存儲媒體的用于信息存儲媒體的基片，因此通過制作使用該信息存儲媒體用的基片的信息存儲媒體，得到存儲容量大，存取速度快的記錄更新裝置是容易的。
表1
表2
表3
表4
表5
表6
表7-1.實施例玻璃及比較例玻璃成分(克分子％)
表7-2.實施例玻璃及比較例玻璃成分(克分子％) 表7-3.實施例玻璃及比較例玻璃成分(克分子％)
表7-4.實施例玻璃及比較例玻璃成分(克分子％)
表8-1
表8-2
表9
表10.化學強化玻璃的實施例和比較例
權利要求
1.一種用于信息存儲媒體的基片，其特征在于，是由楊氏系數(shù)為100GPa以上，液相溫度為1350℃以下的玻璃構成。
2.根據(jù)權利要求1所述的基片，其特征在于比重是在3.5g/cm3以下。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的基片，其特征在于，關于材料玻璃的可成形溫度區(qū)域的粘度是10泊以上。
4.根據(jù)權利要求1至權利要求3中的任一項所述的基片，其特征在于熱膨脹系數(shù)是7～14ppm/℃。
5.一種用于信息存儲媒體的基片，其特征在于，是由作為玻璃成分至少含有TiO2及CaO，并且選定楊氏系數(shù)為100GPa以上，液相溫度為1350℃以下那樣的所述TiO2及CaO的含有量的玻璃構成。
6.一種用于信息存儲媒體的基片，其特征在于，是由作為玻璃成分至少含有TiO2及CaO，并且、選定楊氏系數(shù)為100GPa以上，液相溫度為1350℃以下，可成形溫度范圍的粘度為10泊以上那樣的所述TiO2及CaO的含有量的玻璃構成。
7.一種用于信息存儲媒體的基片，其特征在于，是由作為玻璃成分，含有TiO2、CaO、MgO、Al2O3，同時至少含有LiO2及Na2O的LiO2，并且選定楊氏系數(shù)為100GPa以上，液相溫度為1350℃以下，可成形溫度范圍的粘度為10泊以上，比重為3.5g/cm3以下那樣的所述各玻璃成分的含有量的玻璃構成。
8.根據(jù)權利要求7所述的用于信息存儲媒體的基片，其特征在于含有Y2O3和ZrO2。
9.根據(jù)權利要求7或8所述的用于信息存儲媒體的基片，其特征在于玻璃化轉變溫度為650℃以下。
10.根據(jù)權利要求9所述的用于信息存儲媒體的基片，其特征在于玻璃化轉變溫度為550℃以下。
11.一種用于信息存儲媒體的基片，其特征在于，是由通過使Y2O3及TiO2共存，達到100GPa以上的楊氏系數(shù)、1350℃以下的液相溫度的玻璃成分而形成的。
12.一種用于信息存儲媒體的基片，其特征在于，在權利要求28中所述玻璃成分含有SiO2、Al2O3、MgO及CaO中的至少一種以及Li2O。
13.一種用于信息存儲媒體的基片，其特征在于，是由通過使Y2O3、TiO2及ZrO2共存，達到100GPa以上的楊氏系數(shù)、1350℃以下的液相溫度的玻璃成分而形成的。
14.一種用于信息存儲媒體的基片，其特征在于，在權利要求31中的所述玻璃成分含有SiO2、Al2O3、MgO及CaO中的至少一種以及Li2O。
15.一種用于信息存儲媒體的基片，其特征在于，從Er2O3、Nd2O3、Sm2O3、Eu2O3、Gd2O3、Tb2O3、Dy2O3、及Yb2O3構成的烯土類金屬氧化物中至少選擇的一種氧化物與TiO2同時含有，而且是由達到100GPa以上的楊氏系數(shù)、1350℃以下的液相溫度的玻璃成分而形成的。
16.一種用于信息存儲媒體的基片，其特征在于，在權利要求33中的至少所述一種氧化物含有5克分子％。
17.一種用于信息存儲媒體的基片，其特征在于，在權利要求34中的所述玻璃成分含有至少是SiO2、Al2O3、MgO及CaO的一種以及Li2O，而且不含Y2O3。
全文摘要
一種用于信息存儲媒體的基片是用楊氏系數(shù)為100GPa以上，液相溫度為1350℃以下的玻璃制造的。本發(fā)明的目的是謀求磁盤的旋轉高速化，克服使用以往的玻璃基片(用于信息存儲媒體的基片)存在的難于穩(wěn)定確保飛行高度的問題。
文檔編號G11B23/00GK1558398SQ20041005890
公開日2004年12月29日 申請日期1998年6月4日 優(yōu)先權日1997年6月5日
發(fā)明者鄒學祿, 橋本和明, 明 申請人:Hoya株式會社