專利名稱：基于磁頭的觸點(diǎn)壓力篩選頭的方法及測量觸點(diǎn)壓力的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及基于在磁盤驅(qū)動器中使用的觸點(diǎn)(contact)記錄型磁頭的觸點(diǎn)壓力來篩選(screen)頭的方法以及測量與磁盤有關(guān)的頭的觸點(diǎn)壓力的方法。
背景技術(shù)：
如日本專利申請公開No.8-249632中所述的那樣，目前已提供有觸點(diǎn)記錄型磁頭，它被用在磁盤驅(qū)動器中，并且當(dāng)與磁盤的表面接觸時，它將信息記錄在磁盤上或者從磁盤中再現(xiàn)信息。用于觸點(diǎn)記錄型磁頭的最重要的設(shè)計(jì)參數(shù)之一是磁頭和磁盤之間的觸點(diǎn)壓力。累積制造過程中的錯誤導(dǎo)致的離差(dispersion)和減壓條件下增加的觸點(diǎn)壓力來形成觸點(diǎn)壓力分布。設(shè)計(jì)該觸點(diǎn)壓力，以免分布的上限超過由磨損(wear)可靠性所確定的上限值，并且以免分布的下限值低于由觸點(diǎn)穩(wěn)定性所確定的下限值。然而，在制造包括磁頭的磁盤驅(qū)動器的工序中，由于許多原因，某些頭將明顯地背離觸點(diǎn)壓力分布是不可避免的。
在磁頭被設(shè)置在磁盤驅(qū)動器中之后，根據(jù)可能的傳統(tǒng)的觸點(diǎn)壓力測量方法，當(dāng)通過確定自動增益控制(AGC)的磁距等信號測量到提升起始壓力時，對整個驅(qū)動器增壓。通過這樣做，測量提升起始壓力，并且從其對大氣壓的依賴性中獲得在常壓下的觸點(diǎn)壓力。
然而，根據(jù)這種方法，對一些大型設(shè)備要求對整個單元實(shí)施分別增壓，在磁頭被設(shè)置在磁盤驅(qū)動器中之前不能測量觸點(diǎn)壓力。而且，如果磁頭的觸點(diǎn)壓力小于給定值，則該頭就不能與磁盤的表面接觸而進(jìn)行穩(wěn)定的滑動，從而可能引起磁距的波動等狀況。因此，極有可能通過檢查產(chǎn)生的異常信號等來檢測觸點(diǎn)壓力甚至包括在預(yù)傳送檢查過程中。然而，如果觸點(diǎn)壓力大于給定值，可能不對它進(jìn)行檢測，除非實(shí)施被延長的磨損檢測。因此，實(shí)際上，在預(yù)傳送檢查中無法檢測到殘品。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明正是考慮到這些情況作出的，并且其目的是提供基于觸點(diǎn)型記錄磁頭的觸點(diǎn)壓力來篩選頭的方法以及測量磁頭的觸點(diǎn)壓力的方法，由此能夠在被設(shè)置到磁盤驅(qū)動器中之前采用簡單的磁頭來測量磁頭和磁盤之間的觸點(diǎn)壓力，并且能夠在用于觸點(diǎn)記錄型磁頭的預(yù)傳送檢查中檢測并丟棄偏離可允許的觸點(diǎn)壓力分布的殘品。
為了達(dá)到以上目的，根據(jù)本發(fā)明的一個方面的基于觸點(diǎn)記錄型磁頭的觸點(diǎn)壓力的頭篩選方法，其特征在于，包括準(zhǔn)備頭萬向架組件，該頭萬向架組件具有懸架和磁頭，通過萬向簧片，該磁頭被支撐在懸架的遠(yuǎn)端部；使所述懸架的近端部支撐在檢查盤表面的給定安裝高度處、并且使磁頭與檢查盤的表面接觸，旋轉(zhuǎn)檢查盤；以及使檢查盤的旋轉(zhuǎn)頻率增加到給定值，檢測磁頭與檢查盤的表面相分離由此基于分離的特性篩選磁頭。
還有，根據(jù)本發(fā)明的另一方面的測量觸點(diǎn)記錄型磁頭的觸點(diǎn)壓力的方法，其特征在于，包括準(zhǔn)備頭萬向架組件，該頭萬向架組件具有懸架和磁頭，通過萬向簧片，該磁頭被支撐在懸架的遠(yuǎn)端部；使所述懸架的近端部支撐在檢查盤表面的給定安裝高度處、并且使磁頭與檢查盤的表面接觸，旋轉(zhuǎn)檢查盤；改變該懸架的安裝高度和檢查盤的旋轉(zhuǎn)頻率中的至少一個，以便將磁頭與檢查盤的表面分離；檢測磁頭與檢查盤的表面分離處該懸架的安裝高度和檢查盤的旋轉(zhuǎn)頻率中的至少一個；以及將已檢測的安裝高度和/或檢查盤的旋轉(zhuǎn)頻率轉(zhuǎn)換為磁頭的觸點(diǎn)壓力，由此測量該觸點(diǎn)壓力。
根據(jù)本發(fā)明，可以提供基于觸點(diǎn)記錄型磁頭的觸點(diǎn)壓力的頭篩選方法和觸點(diǎn)壓力測量方法，由此能夠在被設(shè)置在磁盤驅(qū)動器中之前，采用簡單的磁頭來測量磁頭和磁盤之間的觸點(diǎn)壓力，并且能夠在用于觸點(diǎn)記錄型磁頭的預(yù)傳送檢查中檢測并丟棄偏離可允許的觸點(diǎn)壓力分布的殘品。


此處所結(jié)合的并且構(gòu)成說明書的一部分的

了本發(fā)明的實(shí)施例，并且與以上給出的一般說明以及下面將給出的實(shí)施例的詳細(xì)說明一起，用來解釋本發(fā)明的原理。
圖1是示出具有參考觸點(diǎn)壓力的磁頭的觸點(diǎn)壓力旋轉(zhuǎn)頻率特性的圖；圖2是示出在改變頭的安裝高度之后所獲得的磁頭的觸點(diǎn)壓力旋轉(zhuǎn)頻率特性的圖；圖3是示出觸點(diǎn)記錄型磁頭的觸點(diǎn)壓力的上限和下限的圖；圖4是示出觸點(diǎn)記錄型磁頭的觸點(diǎn)壓力的分布的圖；圖5是示意性地示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的測量設(shè)備的側(cè)視圖；圖6是示出包括觸點(diǎn)記錄型磁頭的頭萬向架組件的側(cè)視圖；圖7是示出在測量具有比參考旋轉(zhuǎn)頻率小的觸點(diǎn)壓力的觸點(diǎn)記錄型磁頭中所使用的觸點(diǎn)壓力-旋轉(zhuǎn)頻率特性曲線和提升起始線的圖；圖8是示出在測量具有比參考旋轉(zhuǎn)頻率大的觸點(diǎn)壓力的觸點(diǎn)記錄型磁頭中所使用的觸點(diǎn)壓力-旋轉(zhuǎn)頻率特性曲線和提升起始線的圖；圖9是示出磁頭的觸點(diǎn)壓力-旋轉(zhuǎn)頻率特性和表示分離旋轉(zhuǎn)頻率的多條直線的圖。
具體實(shí)施例方式
現(xiàn)在參照附圖，將詳細(xì)描述一種體現(xiàn)本發(fā)明實(shí)施例的測量觸點(diǎn)記錄型磁頭的觸點(diǎn)壓力的方法，以及用于這種測量方法的觸點(diǎn)壓力測量設(shè)備。
首先描述測量觸點(diǎn)壓力的方法的基本原理。磁盤上的觸點(diǎn)記錄型磁頭的觸點(diǎn)壓力取決于磁盤的旋轉(zhuǎn)頻率。如果磁盤的旋轉(zhuǎn)頻率提高，則在該盤和該頭之間的溝槽內(nèi)所產(chǎn)生的空氣潤滑薄膜的壓力增加。于是，使頭產(chǎn)生一個向上提升方向的或使之與磁盤表面分離的力，以便該頭的觸點(diǎn)壓力相應(yīng)降低。因此，通過增加磁盤的旋轉(zhuǎn)頻率而使得磁頭和磁盤相分離，而當(dāng)磁盤以參考頻率運(yùn)轉(zhuǎn)時，該頭在磁盤表面正?；瑒?。當(dāng)設(shè)計(jì)該頭時，根據(jù)被分離的盤的旋轉(zhuǎn)頻率，以及事先通過計(jì)算所確定的觸點(diǎn)壓力-旋轉(zhuǎn)頻率特性，能夠計(jì)算對于以參考旋轉(zhuǎn)頻率進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的該盤的磁頭的觸點(diǎn)壓力。參考旋轉(zhuǎn)頻率是當(dāng)實(shí)際地將磁頭設(shè)置在磁盤驅(qū)動器中時所使用的磁盤的旋轉(zhuǎn)頻率。
觸點(diǎn)記錄型磁頭的觸點(diǎn)壓力具有與磁盤的安裝高度(此后稱作ZH)相關(guān)的屬性。如果ZH很小，則將頭施壓在盤上的懸架的力(懸掛負(fù)載)就增加，而所負(fù)載的狀態(tài)角度和初始安裝角度之間的差別減少。相應(yīng)地，在頭的重力中心周圍將頭的暴露端施壓在盤上的力矩降低，以便該頭的觸點(diǎn)壓力減少。對照于此，如果ZH很大，則觸點(diǎn)壓力增加。
由于通過利用這一特性使ZH從參考高度逐漸降低，所以能檢測磁頭和磁盤之間的分離。如果做到這一點(diǎn)，當(dāng)設(shè)計(jì)該頭時，就能夠根據(jù)安裝高度和事先通過計(jì)算所確定的觸點(diǎn)壓力-旋轉(zhuǎn)頻率特性來計(jì)算在參考安裝高度上的該頭的觸點(diǎn)壓力。
可以通過檢測再現(xiàn)信號特性值的變化來確定磁頭和磁盤之間的接觸和分離，該再現(xiàn)信號特性值包括例如來自該頭的再現(xiàn)信號輸出(此后稱作TAA)、信號半寬度(此后稱作PW50)等。尤其是，磁頭的再現(xiàn)信號特征值是根據(jù)該頭的狀態(tài)、被接觸者或被分離者來變化的，以便能通過這些變化檢測該頭的分離。
可替換地，可以通過確定來自聲發(fā)射(此后稱作AE)傳感器的輸出信號來檢測磁頭的分離，該傳感器被設(shè)置在懸架的安裝部分的附近，在懸架上承載磁頭。因?yàn)閬碜訟E傳感器的輸出信號是根據(jù)磁頭的狀態(tài)、被接觸者或被分離者而直接變化的，所以通過輸出信號的改變而能夠檢測該頭分離。
圖1示出了觸點(diǎn)記錄型磁頭的觸點(diǎn)壓力旋轉(zhuǎn)頻率屬性的例子，該磁頭被設(shè)計(jì)為采用150mgf的參考觸點(diǎn)壓力。它說明了當(dāng)改變磁盤的旋轉(zhuǎn)頻率時所引起的該頭的觸點(diǎn)壓力的變化。參考觸點(diǎn)壓力是對于用在磁盤驅(qū)動器中的磁盤的旋轉(zhuǎn)頻率(此后稱作參考旋轉(zhuǎn)頻率)的磁頭的觸點(diǎn)壓力。
在磁頭的這個例子中，用4200rpm的參考旋轉(zhuǎn)頻率所獲得的參考觸點(diǎn)壓力大約是150mgf。隨著旋轉(zhuǎn)頻率的增加，觸點(diǎn)壓力便不斷減少。與參考旋轉(zhuǎn)頻率或較高的旋轉(zhuǎn)頻率基序上呈線性關(guān)系。然而，為了當(dāng)觸點(diǎn)壓力為0時而使的磁頭與磁盤分離或從磁盤開始提升磁頭，該盤的旋轉(zhuǎn)頻率必需上升到好幾萬rpm，這是不實(shí)際的。
因此，應(yīng)使ZH小于參考高度，以便減少用于參考旋轉(zhuǎn)頻率的觸點(diǎn)壓力。通過這么做，就能夠用較低的旋轉(zhuǎn)頻率提升磁頭。具體而言，如果減少ZH，則觸點(diǎn)壓力以若干mgf/μm的速率來減少。因此，如果用被減少到幾十μm的ZH來安裝該頭，即使具有圖1中所示特征的磁頭也能夠用較低的旋轉(zhuǎn)頻率提升到磁盤以上。
圖2示出采用比參考高度小50μm的ZH的磁頭的觸點(diǎn)壓力-旋轉(zhuǎn)頻率特性。用于觸點(diǎn)壓力-旋轉(zhuǎn)頻率特性的ZH的靈敏度是2mgf/μm。如果將ZH降低50μm，則提升起始線向上平行移動50μm×2mgf/μm＝100mgf，其中該提升起始線在利用0觸點(diǎn)壓力來提升磁頭的觸點(diǎn)壓力上。如果該頭的實(shí)際觸點(diǎn)壓力等于參考觸點(diǎn)壓力，則在提升起始線1與特性曲線A的交點(diǎn)2上(大約12600rpm，此后稱作參考提升起始頻率)提升該頭。如果實(shí)際觸點(diǎn)壓力小于參考觸點(diǎn)壓力，則以低于參考提升起始頻率的旋轉(zhuǎn)頻率提升該頭。如果實(shí)際觸點(diǎn)壓力大于參考觸點(diǎn)壓力，則以高于參考提升起始頻率的旋轉(zhuǎn)頻率提升該頭。通過適當(dāng)?shù)剡x擇ZH，就可以在測量設(shè)備可允許的旋轉(zhuǎn)頻率范圍內(nèi)獲得良好的觸點(diǎn)測量范圍，并且能夠用相同的方法測量觸點(diǎn)壓力。
通常，借助于萬向簧片而將觸點(diǎn)記錄型磁頭安裝在懸架的遠(yuǎn)端部上，并且形成頭萬向架組件(此后稱作HGA)。在預(yù)傳送階段，HGA的磁頭的觸點(diǎn)壓力容易發(fā)生分散，該分散歸因于該頭和該懸架的安裝部分中的誤差、角度誤差、滑片的ABS表面上坡口深度中的誤差以及在制造過程中所引起的其它誤差。因此，根據(jù)基于以上所述原理的觸點(diǎn)壓力測量方法，當(dāng)測量其觸點(diǎn)壓力時，不需要將磁頭與HGA分離，并且能夠在預(yù)傳送階段篩選殘品。
現(xiàn)在參照圖3和4來描述觸點(diǎn)記錄型磁頭的觸點(diǎn)壓力設(shè)計(jì)。圖3說明了觸點(diǎn)記錄型磁頭的觸點(diǎn)壓力的設(shè)計(jì)思想。設(shè)計(jì)觸點(diǎn)壓力限定在上限值6和下限值7之間，并利用最小觸點(diǎn)壓力3以使得頭不能被激勵而混亂地運(yùn)作，這種混亂動作歸因于磁盤的波動運(yùn)動、制造中錯誤的分散4以及在減壓環(huán)境下觸點(diǎn)壓力的增量5。通過這么做，能夠確保磁盤驅(qū)動器的可靠性。上限和下限的值6和7采用下面的方式來確定。
(1)如此設(shè)置觸點(diǎn)壓力的上限值以便磁頭能夠享有一個長時間的很好的磨損可靠性。如果這個值太高，則該頭的保護(hù)膜就磨損得太快以致當(dāng)露出記錄/再現(xiàn)元件時會損壞該頭。
(2)如此設(shè)置觸點(diǎn)壓力的下限值以便頭能夠抵抗縱向激發(fā)力，該頭能夠抵抗縱向激發(fā)力是歸因于磁盤的很好的波動。
圖4示出了磁頭的觸點(diǎn)壓力分布的例子。觸點(diǎn)壓力具有所表示的分布，該分布包括可歸因于在制造過程中的誤差的分散。如果設(shè)計(jì)了該磁頭從而將觸點(diǎn)壓力分布約束在上限和下限的值6和7之間的范圍內(nèi)，則不可避免地會生產(chǎn)出殘品。如圖4中所示，殘品包括觸點(diǎn)壓力比上限值6大的產(chǎn)品8和觸點(diǎn)壓力比下限值7小的產(chǎn)品9。在觸點(diǎn)壓力小于下限值7的殘品9中，磁頭不能與磁盤接觸著進(jìn)行穩(wěn)定的滑動(或者重復(fù)地接觸和跳起)。因此，磁距上下波動以致阻礙了記錄和再現(xiàn)。因此，在傳送該設(shè)備之前，可以在檢查中以高可能性來檢測產(chǎn)品9。然而，在預(yù)傳送檢查中并不能容易地檢測具有比上限值6大的觸點(diǎn)壓力的殘品8。
根據(jù)本實(shí)施例的觸點(diǎn)壓力測量方法可以應(yīng)用于那些不可避免的殘品的檢測和在磁頭的傳送階段中的觸點(diǎn)壓力篩選。下面，連同測量設(shè)備一起詳細(xì)描述這種觸點(diǎn)壓力測量的方法。
如圖5中所示，如此構(gòu)造測量設(shè)備以致于其還能夠用作在磁頭檢查過程中的電特性檢查設(shè)備。該測量設(shè)備具有一個被置于底部10上的主軸電動機(jī)12。檢查盤14基本上是被水平地支撐，以用于在發(fā)動機(jī)12的軸上旋轉(zhuǎn)。支柱16被安裝在底部10上，并且支臂20依靠升力控制機(jī)構(gòu)18而被支撐在該柱上。該控制機(jī)構(gòu)18使該臂20能夠沿垂直方向上升和下降。
該臂20被裝配有HGA 24，該HGA 24提供有作為測量對象的觸點(diǎn)記錄型磁頭22。如圖5和6所示，HGA 24包括由薄彈簧片形成的拉伸懸架25、磁頭22以及臂28。磁頭22依靠萬向簧片26而被安裝在該懸架的遠(yuǎn)端部。在這種情況下，臂28被附加在該懸架的遠(yuǎn)端部。懸架25和臂28彼此可以被一體地形成。懸架25相對于臂28具有給定的固定傾斜度θ?；谶@個值，它產(chǎn)生壓力以便將觸點(diǎn)記錄型磁頭22壓在磁盤的表面上。
HGA 24設(shè)置在具有臂28的測量設(shè)備中，該臂28被安裝在支臂20上。觸點(diǎn)記錄型磁頭22與檢查盤14的表面相接觸。通過調(diào)整具有升力控制機(jī)構(gòu)18的支臂20的高度位置，能夠改變該盤14上面的HGA 24的安裝高度ZH。
測量設(shè)備還包括AE傳感器30、驅(qū)動器32和33、存儲器34、運(yùn)算部件36、監(jiān)視器38、控制單元40等。AE傳感器30安裝在支臂20上，并且測量來自該臂28的聲發(fā)射。驅(qū)動器32和33分別驅(qū)動升力控制機(jī)構(gòu)18和主軸發(fā)動機(jī)12。存儲器34存儲有磁頭22的觸點(diǎn)壓力旋轉(zhuǎn)頻率特性、觸點(diǎn)壓力安裝高度特性等。運(yùn)算部件36將被測量值、旋轉(zhuǎn)頻率以及安裝高度轉(zhuǎn)換為磁頭的觸點(diǎn)壓力。發(fā)動機(jī)38顯示測量結(jié)果。控制單元40控制整個測量設(shè)備的操作。來自磁頭22的再現(xiàn)輸出被提供給控制單元40的輸入。
一般，在用于磁頭的預(yù)傳送檢查過程中，磁頭的電特性，包括PW50和TAA都使用該測量設(shè)備進(jìn)行測量，并且按照所獲得的電特性明細(xì)表執(zhí)行磁頭篩選。在觸點(diǎn)記錄型磁頭的檢查中，在根據(jù)電特性篩選有缺陷的磁頭之后，基于觸點(diǎn)壓力，通過采用上述方法來篩選有缺陷的磁頭。下面是觸點(diǎn)壓力測量方法和有缺陷的磁頭篩選方法的說明。
首先，準(zhǔn)備具有要被測量的磁頭22的HGA 24，并且將HGA 24安裝在測量設(shè)備的支臂20上。假設(shè)磁頭22具有圖1中所示的觸點(diǎn)壓力-旋轉(zhuǎn)頻率特性。為簡單起見，這種特性被近似地表示為直線，并且觸點(diǎn)壓力的旋轉(zhuǎn)頻率靈敏度也就是它的傾斜度被假設(shè)為α。在這個例子中，給定α0.006mgf/rpm，并且這個α被事先存儲在存儲器34中。
隨后，在觸點(diǎn)壓力測量之前，依靠升力控制機(jī)構(gòu)18將HGA 24調(diào)整為參考安裝高度ZH。再以參考旋轉(zhuǎn)頻率來旋轉(zhuǎn)檢查盤14，并且測量磁頭22的電特性。用這種測量方法所獲得的磁矩的給定值，例如再現(xiàn)信號的半寬度PW50，被存儲在存儲器34中。然后，采用以下方式用兩個階段來測量觸點(diǎn)壓力。例如，在觸點(diǎn)壓力比參考觸點(diǎn)壓力小的磁頭上和觸點(diǎn)壓力比參考觸點(diǎn)壓力大的磁頭上進(jìn)行測量。
假設(shè)，測量設(shè)備的旋轉(zhuǎn)頻率的上限值是，例如，15000rpm，并且磁頭22如圖7所示那樣，如果磁頭22的觸點(diǎn)壓力小于參考觸點(diǎn)壓力，那么磁頭22被裝在檢查盤14上。其后，ZH被下降到點(diǎn)19，在該點(diǎn)19上，特性曲線A和上升起始線1之間的交點(diǎn)2與旋轉(zhuǎn)頻率的上限值(15000rpm)一致。ZH的減少量等于一個值，該值是根據(jù)觸點(diǎn)壓力安裝高度相關(guān)性以15000rpm除以83mgf的觸點(diǎn)壓力得到的。在這個計(jì)算中，將觸點(diǎn)壓力安裝高度相關(guān)性定為2mgf/μm。
在這種狀態(tài)下，由于按照磁頭22的在線輸出來測量再現(xiàn)信號的半寬度PW50，所以檢查盤14的旋轉(zhuǎn)頻率從參考旋轉(zhuǎn)頻率開始逐漸增加。當(dāng)半寬度PW50變得大于通過前述電特性測量所獲得的值時，推斷出，磁頭22與該盤14相分離或者從該盤14開始被提升了，并且然后該盤的旋轉(zhuǎn)頻率作為提升起始頻率被存儲在存儲器34中。
運(yùn)算部件36根據(jù)被檢測到的提升起始頻率而計(jì)算磁頭22的觸點(diǎn)壓力。該計(jì)算的基本公式為Fc＝(Rf-Rfn)×α+Fcn。
此處Fc是觸點(diǎn)壓力(mgf)；Rf，提升起始頻率(rpm)；Rfn，參考提升起始頻率(rpm，旋轉(zhuǎn)頻率，采用它，參考觸點(diǎn)壓力頭被提升至規(guī)定的ZH)；Fcn，參考觸點(diǎn)壓力(＝150mgf)；以及α，旋轉(zhuǎn)頻率靈敏度(＝0.006mgf/rpm)。
如果磁頭22開始以15000rpm被提升，那么，例如，F(xiàn)c為Fc＝(15000-15000)×0.006+150＝150mgf，以便使該頭22的觸點(diǎn)壓力很顯然地與150mgf的參考觸點(diǎn)壓力相一致。另一方面，如果磁頭22開始以10000rpm被提升，那么，F(xiàn)c為Fc＝(10000-15000)×0.006+150＝120mgf，以便該頭22的觸點(diǎn)壓力很顯然地小于150mgf的參考觸點(diǎn)壓力。
如果將檢查盤14的旋轉(zhuǎn)頻率從4200rpm的參考旋轉(zhuǎn)頻率改變?yōu)?5000rpm的上限旋轉(zhuǎn)頻率，那么觸點(diǎn)壓力的可測量范圍的下限就是Fc＝(4200-15000)×0.006+150＝85.2mgf，并且上限是150mgf的參考觸點(diǎn)壓力。如果被測量的觸點(diǎn)壓力不在上述范圍內(nèi)，則只需要調(diào)整事先設(shè)定的ZH的減少量。如果如此設(shè)定ZH以便使參考觸點(diǎn)壓力頭被提升20000rpm，則20000rpm處的觸點(diǎn)壓力為53mgf，從而ZH必須只被降低53(mgf)/2(mgf/μm)＝26.5μm。在這種情況下，觸點(diǎn)壓力的可測量范圍的下限為Fc＝(4200-20000)×0.006+150＝55.2mgf，并且上限為Fc＝(15000-20000)×0.006+150＝120mgf。
然后，如果磁頭22的觸點(diǎn)壓力大于參考觸點(diǎn)壓力，則該頭22就被裝在檢查盤14上。其后，降低ZH，以便用于150mgf的參考觸點(diǎn)壓力的特性曲線A與提升起始線1之間的交點(diǎn)21與上限值(15000rpm)相一致。ZH的減少量為150(mgf)/2(mgf/μm)＝75μm。
在這種狀態(tài)下，由于磁頭22的提升是通過改變來自該頭22的在線信號的半寬度PW50來進(jìn)行檢測的，所以檢查盤14的旋轉(zhuǎn)頻率從參考旋轉(zhuǎn)頻率開始以如前所述的相同方式被逐漸減少。然后，檢查盤的旋轉(zhuǎn)頻率作為提升起始頻率被存儲在存儲器34中。運(yùn)算部件36根據(jù)被檢測到的提升起始頻率計(jì)算磁頭22的觸點(diǎn)壓力。如在前述情況中所述，用于該計(jì)算的基本公式為Fc＝(Rf-Rfn)×α+Fcn，其中Rfn＝4200rpm。
如果磁頭22的提升起始頻率是10000rpm，則Fc為
Fc＝(10000-4200)×0.006+150＝184.8mgf，以便該頭22的觸點(diǎn)壓力很顯然地大于150mgf的參考觸點(diǎn)壓力。
如果檢查盤14的旋轉(zhuǎn)頻率是從4200rpm的參考旋轉(zhuǎn)頻率改變?yōu)?5000rpm的上限旋轉(zhuǎn)頻率，則觸點(diǎn)壓力的可測量范圍的下限為Fc＝(4200-4200)×0.006+150＝150mgf，并且上限為Fc＝(15000-4200)×0.006+150＝214.8mgf。
如果被測量的觸點(diǎn)壓力不在上述范圍內(nèi)，則只需要進(jìn)一步降低ZH。如果ZH被進(jìn)一步降低50μm，以便與參考安裝高度相比小125μm，那么，例如，相應(yīng)于該ZH的參考提升起始頻率為33(rpm)＝4200(rpm)-50(μm)/2(mgf/μm)/0.006(mgf/rpm)?？蓽y量范圍觸點(diǎn)壓力的下限為Fc＝(4200-4200)×0.006+150＝150mgf，并且上限為Fc＝(15000-33)×0.006+150＝239.8mgf。
根據(jù)該觸點(diǎn)壓力測量方法和以這種方式配置的設(shè)備，就能夠在磁盤驅(qū)動器裝設(shè)該設(shè)備之前簡單而穩(wěn)定地測量觸點(diǎn)記錄型磁頭的觸點(diǎn)壓力。能夠檢測到偏離可允許的觸點(diǎn)壓力分布的殘品，并且在對觸點(diǎn)記錄型磁頭的預(yù)傳送檢查過程中被丟棄。因此，殘品能夠被很快地被檢測到，并且產(chǎn)品的產(chǎn)量也能夠被改善。按照以上所述的測量方法和設(shè)備，并且通過在傳統(tǒng)的電特性測量之后或之前只增加一個過程，就能夠篩選有缺陷的磁頭。因此，能夠有效地執(zhí)行測量和篩選。
在不使用任何新的測量項(xiàng)目的情況下，通過改變再現(xiàn)信號的半寬度，能夠很容易地檢測磁頭從磁盤開始的分離或提升。同時，再現(xiàn)信號半寬度PW50對磁矩是極敏感的，從而能夠以高準(zhǔn)確性檢測磁頭的接觸和分離。磁頭的分離可以通過改變該頭的再現(xiàn)信號強(qiáng)度(TAA)來進(jìn)行檢測，也可以通過改變再現(xiàn)信號的半寬度進(jìn)行檢測。也是在這種情況下，能夠獲得如半寬度產(chǎn)品的相同的效果。還有，可以通過改變來自AE傳感器的輸出信號來檢測磁頭的分離，該AE傳感器被附加在HGA的安裝部分上。在這種情況下，在不使用該頭的電特性值的情況下也能夠檢測磁頭的接觸和分離。
采用以上所述的觸點(diǎn)壓力測量方法，能夠篩選具有過大和缺乏觸點(diǎn)壓力的磁頭，并且在預(yù)傳送檢查過程中更容易被丟棄。
在圖9中所示的觸點(diǎn)壓力旋轉(zhuǎn)頻率特性中，直線A被假設(shè)為表示具有參考觸點(diǎn)壓力的磁頭。在這種情況下，直線B表示具有比參考觸點(diǎn)壓力大的觸點(diǎn)壓力的磁頭，并且直線C表示具有比參考觸點(diǎn)壓力小的觸點(diǎn)壓力的磁頭。在后面的說明中，這些直線將被認(rèn)為是分離的直線。當(dāng)直線與參考旋轉(zhuǎn)頻率Rn相交時所獲得的觸點(diǎn)壓力的讀數(shù)分別表示觸點(diǎn)壓力值Fcn、Fcu以及Fcl。分離的觸點(diǎn)壓力分別用點(diǎn)Rsn、Rsl以及Rsu來表示，這些是為分離的直線A、B和C與橫坐標(biāo)軸的交點(diǎn)。
如果測量設(shè)備的可允許旋轉(zhuǎn)頻率的上限為15000rpm，則由于Rsu超過該上限而不能被測量。在這種情況下，只能對ZH作適當(dāng)調(diào)整。如果根據(jù)觸點(diǎn)壓力將ZH相應(yīng)地降低到40mgf，則橫坐標(biāo)的軸與分離的直線具有交點(diǎn)。在這種情況下，交點(diǎn)D表示分離的旋轉(zhuǎn)頻率。
現(xiàn)在參照圖9描述篩選方法。接下來描述的情況是當(dāng)不足的觸點(diǎn)壓力頭被篩選并且被丟棄時，要被篩選的觸點(diǎn)壓力是Fcl。由于被篩選的觸點(diǎn)壓力是Fc的情況是用直線C表示的，所以分離的旋轉(zhuǎn)頻率Rsl位于線C與Fc＝0的橫坐標(biāo)的軸之間的交點(diǎn)上。因此，當(dāng)該盤的旋轉(zhuǎn)頻率是Rsl時，具有Fcl或小于Fcl的觸點(diǎn)壓力的磁頭能夠通過丟棄那些與該盤相分離的磁頭進(jìn)行篩選。
另一方面，當(dāng)該盤的旋轉(zhuǎn)頻率達(dá)到分離的旋轉(zhuǎn)頻率Rsu時，通過只丟棄那些沒有分離的磁頭，就能夠篩選并丟棄過大觸點(diǎn)壓力頭，該旋轉(zhuǎn)頻率Rsu用要被篩選的觸點(diǎn)壓力(例如，Rcu)的分離的直線B與Fc＝0的軸之間的交點(diǎn)來表示。然而，如圖9中所示的例子，如果分離的直線與Fc＝0的軸之間的交點(diǎn)Rsu的值超過用于測量設(shè)備的最大可允許旋轉(zhuǎn)頻率，則通過減少用于適當(dāng)ZH的安裝高度，分離的旋轉(zhuǎn)頻率被限定為可允許的值或更低的值，如之前所提及的。因此，通過丟棄那些沒有分離的具有分離旋轉(zhuǎn)頻率的磁頭，能夠?qū)崿F(xiàn)篩選，其中該分離的旋轉(zhuǎn)頻率用橫坐標(biāo)的軸與分離的直線之間的交點(diǎn)表示，該橫坐標(biāo)的軸指示被適當(dāng)降低的ZH。
本發(fā)明并非直接限定為以上所述的實(shí)施例，并且在實(shí)施本發(fā)明的過程中，其部件可以被修改和具體化而不脫離本發(fā)明的范圍或精神。還有，通過適當(dāng)組合與前述實(shí)施例相關(guān)描述的多個部件，可以進(jìn)行多種發(fā)明。例如，按照以上所述實(shí)施例的一些部件可以被省略。還有，可以根據(jù)需要而組合不同實(shí)施例中的部件。
例如，根據(jù)用于測量設(shè)備的可允許旋轉(zhuǎn)頻率范圍、要被測量的觸點(diǎn)壓力的范圍等，可以以任意方式組合ZH的設(shè)定值和旋轉(zhuǎn)頻率的變化的范圍。可替換地，可以只采用改變的ZH或旋轉(zhuǎn)頻率來測量觸點(diǎn)壓力。例如，可以在不改變旋轉(zhuǎn)頻率的情況下只采用改變的ZH進(jìn)行該測量。如果所使用的設(shè)備不能接受ZH的連續(xù)改變，則只需要采用被固定在某一值的ZH來改變單獨(dú)的旋轉(zhuǎn)頻率。
權(quán)利要求
1.一種基于磁頭的觸點(diǎn)壓力來篩選觸點(diǎn)記錄型磁頭的方法，其特征在于包括準(zhǔn)備頭萬向架組件，該頭萬向架組件具有懸架和磁頭，通過萬向簧片，該磁頭被支撐在懸架的遠(yuǎn)端部；使所述懸架的近端部支撐在檢查盤表面的給定安裝高度處、并且使磁頭與檢查盤的表面接觸，旋轉(zhuǎn)檢查盤；以及使檢查盤的旋轉(zhuǎn)頻率增加到給定值，檢測磁頭與檢查盤的表面相分離，由此基于分離的特性篩選磁頭。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的篩選觸點(diǎn)記錄型磁頭的方法，其特征在于通過丟棄那些使用分離旋轉(zhuǎn)頻率而經(jīng)過分離的頭來篩選具有不足觸點(diǎn)壓力的磁頭，該分離旋轉(zhuǎn)頻率是由要被篩選的最小觸點(diǎn)壓力值、磁盤驅(qū)動器的盤旋轉(zhuǎn)頻率以及有關(guān)該盤的旋轉(zhuǎn)頻率的觸點(diǎn)壓力的屬性、或者較低的旋轉(zhuǎn)頻率來確定的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的篩選觸點(diǎn)記錄型磁頭的方法，其特征在于通過丟棄那些使用分離旋轉(zhuǎn)頻率沒有經(jīng)過分離的頭來篩選具有過大觸點(diǎn)壓力的磁頭，該分離旋轉(zhuǎn)頻率是由要被篩選的最大觸點(diǎn)壓力值、磁盤驅(qū)動器的盤旋轉(zhuǎn)頻率以及有關(guān)該盤的旋轉(zhuǎn)頻率的觸點(diǎn)壓力的屬性、或者較高的旋轉(zhuǎn)頻率來確定的。
4.根據(jù)權(quán)利要求1到3的任意一項(xiàng)的篩選觸點(diǎn)記錄型磁頭的方法，其特征在于檢測磁頭的分離包括檢測來自磁頭的再現(xiàn)信號，并且根據(jù)再現(xiàn)信號的半寬度的變化來檢測該分離。
5.根據(jù)權(quán)利要求1到3的任意一項(xiàng)的篩選觸點(diǎn)記錄型磁頭的方法，其特征在于檢測磁頭的分離包括檢測來自磁頭的再現(xiàn)信號，并且根據(jù)再現(xiàn)信號的強(qiáng)度的變化來檢測該分離。
6.根據(jù)權(quán)利要求1到3的任意一項(xiàng)的篩選觸點(diǎn)記錄型磁頭的方法，其特征在于檢測磁頭的分離包括檢測來自該懸架的近端部的聲發(fā)射信號，并且根據(jù)被檢測的聲發(fā)射信號的變化來檢測該分離。
7.一種測量觸點(diǎn)記錄型磁頭的觸點(diǎn)壓力的方法，其特征在于包括準(zhǔn)備頭萬向架組件，該頭萬向架組件具有懸架和磁頭，通過萬向簧片，該磁頭被支撐在懸架的遠(yuǎn)端部；使所述懸架的近端部支撐在檢查盤表面的給定安裝高度處、并且使磁頭與檢查盤的表面接觸，旋轉(zhuǎn)檢查盤；改變該懸架的安裝高度和檢查盤的旋轉(zhuǎn)頻率中的至少一個，以便將磁頭與檢查盤的表面分離；檢測磁頭與檢查盤的表面分離處該懸架的安裝高度和檢查盤的旋轉(zhuǎn)頻率中的至少一個；以及將已檢測的安裝高度和/或檢查盤的旋轉(zhuǎn)頻率轉(zhuǎn)換為磁頭的觸點(diǎn)壓力，由此測量該觸點(diǎn)壓力。
8.根據(jù)權(quán)利要求7的測量觸點(diǎn)記錄型磁頭的觸點(diǎn)壓力的方法，其特征在于檢測觸點(diǎn)記錄型磁頭的分離包括，當(dāng)磁頭安裝在磁盤中的參考安裝高度上以參考旋轉(zhuǎn)頻率旋轉(zhuǎn)磁盤時，隨著檢查盤之上的安裝高度被調(diào)節(jié)到小于參考安裝高度的適當(dāng)值，從參考旋轉(zhuǎn)頻率逐漸增加檢查盤的旋轉(zhuǎn)頻率。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8的測量觸點(diǎn)記錄型磁頭的觸點(diǎn)壓力的方法，其特征在于觸點(diǎn)記錄型磁頭的觸點(diǎn)壓力是根據(jù)事先獲得的旋轉(zhuǎn)頻率靈敏性、用于磁頭與檢查盤的表面的分離的安裝高度以及檢查盤的旋轉(zhuǎn)頻率來獲得的，該旋轉(zhuǎn)頻率靈敏性指示具有給定參考旋轉(zhuǎn)頻率的磁頭的觸點(diǎn)壓力和檢查盤的旋轉(zhuǎn)頻率之間的關(guān)系。
10.根據(jù)權(quán)利要求7或8的測量觸點(diǎn)記錄型磁頭的觸點(diǎn)壓力的方法，其特征在于檢測磁頭的分離包括檢測來自磁頭的再現(xiàn)信號，并且根據(jù)再現(xiàn)信號的半寬度的變化來檢測該分離。
11.根據(jù)權(quán)利要求7或8的測量觸點(diǎn)記錄型磁頭的觸點(diǎn)壓力的方法，其特征在于檢測磁頭的分離包括檢測來自磁頭的再現(xiàn)信號，并且根據(jù)再現(xiàn)信號的強(qiáng)度的變化來檢測該分離。
12.根據(jù)權(quán)利要求7或8的測量觸點(diǎn)記錄型磁頭的觸點(diǎn)壓力的方法，其特征在于檢測磁頭的分離包括檢測來自該懸架的近端部的聲發(fā)射信號，并且根據(jù)被檢測的聲發(fā)射信號的變化來檢測該分離。
全文摘要
準(zhǔn)備一個頭萬向架組件(24)，其中懸架(25)的近端部被支撐在檢查盤(14)的表面以上的給定的安裝高度，并且使頭懸架的磁頭(22)與檢查盤的表面相接觸。在這種狀態(tài)下，旋轉(zhuǎn)檢查盤，并且根據(jù)已改變的懸架的安裝高度和/或檢查盤的旋轉(zhuǎn)頻率，檢測磁頭與檢查盤的分離。該安裝高度和檢查盤的旋轉(zhuǎn)頻率被轉(zhuǎn)換為磁頭的觸點(diǎn)壓力，以便當(dāng)該頭與檢查盤表面相分離時測量觸點(diǎn)壓力。
文檔編號G11B21/24GK1607579SQ200410092198
公開日2005年4月20日 申請日期2004年8月6日 優(yōu)先權(quán)日2003年8月8日
發(fā)明者高橋干 申請人:株式會社東芝