專利名稱：光盤用盒的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于收容具有基板以及薄于該基板的透光層而成的大容量的光盤的光盤用盒以及光記錄介質(zhì)。
背景技術(shù)：
光盤通過(guò)使激光的波長(zhǎng)變短，使物鏡的數(shù)值孔徑NA變大，從而可以提高記錄密度、實(shí)現(xiàn)記錄容量的增大。另一方面，激光的波長(zhǎng)越短，物鏡的數(shù)值孔徑越大，就越有產(chǎn)生彗形像差而降低信息的記錄·再生精度的趨勢(shì)，但通過(guò)使透光層的厚度變薄，能夠確保相對(duì)于光盤的傾斜(彎曲)的余量，而維持信息的記錄·再生精度。
近年來(lái)，為了實(shí)現(xiàn)記錄容量的大幅增加，使用405nm左右的短波長(zhǎng)的藍(lán)紫激光的同時(shí)數(shù)值孔徑提高到0.85左右，為了對(duì)應(yīng)于此，在厚度為1.1mm左右的基板上形成比基板薄的0.1mm左右的透光層的結(jié)構(gòu)的光盤引人注意(例如，參照J(rèn)P特開(kāi)2003-85836號(hào)公報(bào))。
該類型的光盤例如，在射出成形的基板上通過(guò)旋轉(zhuǎn)涂覆法形成透光層來(lái)制造。就這樣，基板和透光層不僅厚度不同，制作方法等也不一樣，所以產(chǎn)生材料也不同的情況。
另外，由于該類型的光盤記錄密度高，塵埃、損傷等易影響信息的記錄、讀取精度，所以有時(shí)使用薄的箱狀體的盒。在盒上具有用于對(duì)光盤的信息傳遞的開(kāi)口部，以在收容光盤的狀態(tài)下可以裝填在記錄、再生裝置的方式構(gòu)成。另外，用于傳遞信息的開(kāi)口部之外，有時(shí)還具有用于對(duì)光盤的印刷或光盤的裝卸的開(kāi)口部。
在這里，由于該類型的光盤是將材質(zhì)以及厚度不同的基板與透光層組合在一起的結(jié)構(gòu)，所以隨著短時(shí)間內(nèi)的急劇的溫度變化，具有易發(fā)生彎曲的問(wèn)題。例如，若將在冬季置于屋外，冷卻到與戶外溫度接近的溫度的光盤裝填到通過(guò)通電被加熱的攝像機(jī)等，則光盤的環(huán)境溫度在數(shù)秒內(nèi)上升數(shù)十℃，有時(shí)會(huì)產(chǎn)生彎曲。還有，若將在夏季置于屋外，加熱到與戶外溫度接近的溫度的光盤裝填到置于冷氣室內(nèi)而被冷卻的記錄·再生裝置等中，則光盤的環(huán)境溫度在數(shù)秒內(nèi)下降數(shù)十℃，有時(shí)會(huì)產(chǎn)生彎曲。由于彎曲越大，信息的記錄、讀取錯(cuò)誤越容易發(fā)生，所以需要將彎曲抑制在規(guī)定的限制值內(nèi)。
對(duì)此，例如，通過(guò)在基板中的透光層的相反側(cè)的面形成線膨脹系數(shù)與透光層相同的層等的改善，可以將彎曲抑制在規(guī)定的限制值內(nèi)。
但是，即使將光盤單體的彎曲抑制在規(guī)定的限制值內(nèi)，若將光盤收入到盒內(nèi)，有時(shí)也會(huì)在光盤上產(chǎn)生大于規(guī)定的限制值的彎曲。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明鑒于以上問(wèn)題，其目的是提供一種收容具有基板以及薄于基板的透光層而成的光盤，并可以將其彎曲抑制在規(guī)定的限制值內(nèi)的光盤用盒。
發(fā)明人對(duì)即使將光盤單體的彎曲抑制在規(guī)定的限制值內(nèi)，若將光盤收入到盒內(nèi)，也在光盤上產(chǎn)生大于規(guī)定的限制值的彎曲的原因反復(fù)進(jìn)行研究的結(jié)果，找出在短時(shí)間環(huán)境溫度急劇變化的情況，在收容在盒中的狀態(tài)下，光盤的溫度分布比光盤單體的狀態(tài)更不均勻，由此彎曲變大。
例如，若僅用單側(cè)具有開(kāi)口部的盒收容光盤，則周圍溫度急劇變化時(shí)，光盤中的開(kāi)口部側(cè)的面的溫度比較快地接近周圍的溫度，而相反側(cè)面的溫度稍慢地靠近周圍的溫度。即，暫時(shí)光盤的溫度分布在厚度方向上不均勻，由此有時(shí)產(chǎn)生超出容許值的彎曲。
另外，即使是在兩側(cè)具有開(kāi)口部的盒，如果兩開(kāi)口部的開(kāi)口面積之差很大，同樣光盤的溫度分布暫時(shí)在厚度方向上變得不均勻，有時(shí)產(chǎn)生超出容許值的彎曲。
另外，光盤一旦裝填在記錄、再生裝置就會(huì)被夾緊，但由于與卡盤機(jī)構(gòu)接觸的中心附近部分更容易熱傳遞，所以快速接近記錄、再生裝置的溫度。即，光盤的溫度分布暫時(shí)在徑向上變得不均勻，由此有時(shí)產(chǎn)生超出容許值的彎曲。
本發(fā)明鑒于以上意見(jiàn)，在盒上具有即使環(huán)境溫度變化，光盤的溫度分布的偏差可以抑制到較小的適合的開(kāi)口部，而使盒內(nèi)光盤的彎曲限在規(guī)定的容許值內(nèi)。
即，通過(guò)以下發(fā)明解決上述問(wèn)題。
(1)一種光盤用盒，其特征在于，其為用于收容具有基板以及薄于基板的透光層而成的光盤的薄的箱狀體，厚度方向的一側(cè)閉塞的同時(shí)，在另一側(cè)具有開(kāi)口部，且該開(kāi)口部的開(kāi)口面積是上述光盤的面積的1/4以上、小于1/2。
(2)一種光盤用盒，其特征在于，其為用于收容具有基板以及薄于基板的透光層而成的光盤的薄的箱狀體，在厚度方向的兩側(cè)具有開(kāi)口部，且上述厚度方向的一側(cè)開(kāi)口部以及另一側(cè)開(kāi)口部的開(kāi)口面積全都是上述光盤的面積的1/4以上。
(3)如(2)的光盤用盒，其特征在于，上述厚度方向的一側(cè)開(kāi)口部的開(kāi)口面積與另一側(cè)開(kāi)口部的開(kāi)口面積之比大于1/4小于4。
(4)如(2)的光盤用盒，其特征在于，上述厚度方向的一側(cè)開(kāi)口部的開(kāi)口面積與另一側(cè)的開(kāi)口部的開(kāi)口面積之比大于1/2小于2。
(5)如上述(2)～(4)的任意項(xiàng)的光盤用盒，其特征在于，上述厚度方向的一側(cè)開(kāi)口部與另一側(cè)開(kāi)口部在厚度方向形成為對(duì)稱的形狀。
(6)如上述(2)～(5)的任意項(xiàng)的光盤用盒，其特征在于，上述厚度方向的至少一側(cè)開(kāi)口部由多個(gè)開(kāi)口孔構(gòu)成。
(7)如(6)的光盤用盒，其特征在于，上述開(kāi)口部形成為網(wǎng)狀。
(8)如上述(2)～(7)的任意項(xiàng)的光盤用盒，其特征在于，具有用于開(kāi)關(guān)上述厚度方向的一側(cè)開(kāi)口部的第一快門，以及用于開(kāi)關(guān)另一側(cè)開(kāi)口部的第二快門。
(9)如(8)的光盤用盒，其特征在于，上述第一快門和上述第二快門以聯(lián)動(dòng)開(kāi)關(guān)的方式構(gòu)成。
(10)如上述(1)～(9)的任意項(xiàng)的光盤用盒，其特征在于，上述開(kāi)口部由用于上述光盤以及外部磁頭間的信息傳遞的信息傳遞用開(kāi)口孔和用于通氣的通氣用開(kāi)口孔構(gòu)成。
(11)一種光記錄介質(zhì)，其特征在于，具有上述(1)～(10)的任意項(xiàng)所記載的光盤用盒，以及收容在該光盤用盒的光盤。


圖1是示意表示本發(fā)明第一實(shí)施方式的光記錄介質(zhì)的結(jié)構(gòu)的側(cè)剖面圖。
圖2是同一光記錄介質(zhì)的仰視圖。
圖3是示意表示本發(fā)明第二實(shí)施方式的光記錄介質(zhì)的結(jié)構(gòu)的側(cè)剖面圖。
圖4是同一光記錄介質(zhì)的仰視圖。
圖5是同一光記錄介質(zhì)的俯視圖。
圖6是示意表示本發(fā)明第三實(shí)施方式的光記錄介質(zhì)的結(jié)構(gòu)的側(cè)剖面圖。
圖7是同一光記錄介質(zhì)的俯視圖。
圖8是示意表示本發(fā)明第四實(shí)施方式的光記錄介質(zhì)的結(jié)構(gòu)的側(cè)剖面圖。
圖9是同一光記錄介質(zhì)的俯視圖。
圖10是示意表示本發(fā)明第五實(shí)施方式的光記錄介質(zhì)的結(jié)構(gòu)的側(cè)剖面圖。
圖11是同一光記錄介質(zhì)的俯視圖。
圖12是示意表示本發(fā)明第六實(shí)施方式的光記錄介質(zhì)的結(jié)構(gòu)的側(cè)剖面圖。
圖13是同一光記錄介質(zhì)的仰視圖。
圖14是示意表示本發(fā)明第七實(shí)施方式的光記錄介質(zhì)的結(jié)構(gòu)的側(cè)剖面圖。
圖15是同一光記錄介質(zhì)的仰視圖。
圖16是表示本發(fā)明的實(shí)施例的各光記錄介質(zhì)的光盤的好壞的圖表。
具體實(shí)施例方式
以下，參照附圖對(duì)本發(fā)明的最佳實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)的說(shuō)明。
圖1是示意表示本發(fā)明第一實(shí)施方式的光記錄介質(zhì)10的結(jié)構(gòu)的側(cè)剖面圖，圖2是同一光記錄介質(zhì)的仰視圖。
光記錄介質(zhì)10具有光盤16，其具有基板12以及薄于基板12的透光層14而成；光盤用盒18，其用于收容光盤16；光盤用盒18的結(jié)構(gòu)上具有特征。
對(duì)于光盤16的結(jié)構(gòu)由于與以往相同所以省略說(shuō)明。
光盤用盒18的特征在于其為大致正方形的薄的箱狀體，在其厚度方向的一側(cè)閉塞的同時(shí)，另一側(cè)為了光盤16以及外部磁頭(省略圖示)之間的信息傳遞，具有用于使光盤16的透光層14向外部露出的開(kāi)口部20，開(kāi)口部20的開(kāi)口面積是光盤16的面積的約(1/4以上且比1/2小)1/3。
開(kāi)口部20具體的說(shuō)是略U字形，以半圓形的一端與光盤16位于同心的方式，從光盤用盒18背面的中心附近形成到前端(圖1、2中的右端)。
此外圖1中的附圖標(biāo)記22表示記錄、再生裝置(省略圖示)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。
下面，對(duì)光記錄介質(zhì)10的作用進(jìn)行說(shuō)明。
若將光記錄介質(zhì)10裝填到記錄、再生裝置，則在光記錄介質(zhì)16的中心附近部分接觸驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)22。
如果裝填前的光記錄介質(zhì)10的溫度與記錄、再生裝置內(nèi)部的溫度之差小，則裝填前后的光盤16的溫度變化小，溫度分布也保持均一，光盤16不會(huì)產(chǎn)生大的彎曲。
對(duì)此，如果裝填前的光記錄介質(zhì)10的溫度與記錄、再生裝置內(nèi)部的溫度之差大，則光盤16的溫度以接近記錄、再生裝置內(nèi)部的溫度的方式變化很大。
光盤16的中心附近部分，主要通過(guò)與驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)22直接進(jìn)行傳熱而迅速接近記錄、再生裝置的內(nèi)部溫度。
另一方面，光盤16的其他部分(比中心附近部分靠近徑向外側(cè)的部分)的溫度變化，主要通過(guò)空氣傳熱，因此比中心附近部分稍遲些接近記錄、再生裝置的內(nèi)部溫度，但開(kāi)口部20具有光盤16的面積的約(1/4以上的)1/3的開(kāi)口面積，因此相對(duì)于中心附近部分的溫度變化沒(méi)有大幅推遲，其他部分的溫度也靠近記錄、再生裝置的內(nèi)部溫度。因此，光盤16的溫度分布在徑向沒(méi)有很大的偏差。
另外，開(kāi)口部20是略U字形狀，僅一部分光盤16向外部露出，但由于光盤16旋轉(zhuǎn)，而整體暴露在空氣中，所以圓周方向的溫度分布均一。
另外，由于光盤用盒18的一側(cè)閉塞，相對(duì)于暴露在較多的空氣中的透光層14側(cè)，與光盤16中的透光層14的相反側(cè)接觸的空氣少，溫度變化稍微延遲，但開(kāi)口部20的開(kāi)口面積是光盤16的面積的約(小于1/2)1/3，限制與透光層14側(cè)接觸的空氣的量，因此光盤16的溫度分布不能在厚度方向產(chǎn)生很大的偏差。
即，光記錄介質(zhì)10的溫度分布在徑向、圓周方向、厚度方向中的任意方向都不會(huì)產(chǎn)生很大的偏差，在光盤16不能產(chǎn)生超出容許值的彎曲。
下面，對(duì)本發(fā)明的第二實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。
圖3是示意表示本第二實(shí)施方式的光記錄介質(zhì)30的結(jié)構(gòu)的側(cè)剖面圖，圖4是同一光記錄介質(zhì)的仰視圖，圖5是同一光記錄介質(zhì)的俯視圖。
光記錄介質(zhì)30的特征在于相對(duì)上述第一實(shí)施方式的光記錄介質(zhì)10，光盤用盒32具有厚度方向一側(cè)的上述開(kāi)口部20同時(shí)，在厚度方向的另一側(cè)開(kāi)口的開(kāi)口部34，且上述開(kāi)口部20以及開(kāi)口部34的開(kāi)口面積都是上述光盤16的面積的1/4以上。
此外，光記錄介質(zhì)30的特征在于，開(kāi)口部20的開(kāi)口面積與開(kāi)口部34的開(kāi)口面積之比約為(大于1/4，小于4)1/3。
對(duì)于其他的結(jié)構(gòu)由于與上述光記錄介質(zhì)10相同，所以標(biāo)上與圖1和圖2相同的附圖標(biāo)記省略說(shuō)明。
具體的說(shuō)，開(kāi)口部34為由比光盤16稍大的圓弧和該圓弧的后端(圖5中左端)附近的直線狀的弦構(gòu)成的形狀，具有與光盤16的面積大致相等的開(kāi)口面積。
另外，光盤16可以插入到開(kāi)口部34，光記錄介質(zhì)30以可將光盤16從光盤用盒32取出的方式構(gòu)成。此外，也可以從開(kāi)口部34對(duì)光盤16進(jìn)行印刷。
下面，對(duì)光記錄介質(zhì)30的作用進(jìn)行說(shuō)明。
若將光記錄介質(zhì)30裝填到記錄、再生裝置，則在光盤16的中心附近部分與驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)22接觸。
如果裝填前的光記錄介質(zhì)30的溫度與記錄、再生裝置的內(nèi)部溫度之差小，則裝填前后的光盤16的溫度變化小，溫度分布保持均一，不會(huì)在光盤16上產(chǎn)生大的彎曲。
對(duì)此，如果記錄、再生裝置的內(nèi)部溫度與光記錄介質(zhì)30的溫度之差大，則光盤16的溫度以接近記錄、再生裝置的內(nèi)部溫度的方式變化很大。
光盤用盒32具有開(kāi)口部34以及開(kāi)口部20，光盤16的兩面，暴露在光盤用盒32之外(記錄、再生裝置內(nèi)的)的空氣中。此外，光盤用盒32的開(kāi)口部34比開(kāi)口部20的開(kāi)口面積大，只這一點(diǎn)光盤16中的透光層14的相反側(cè)比透光層14側(cè)暴露在更多的空氣中，但由于開(kāi)口部20的開(kāi)口面積與開(kāi)口部34的開(kāi)口面積之比為約(大于1/4，小于4)1/3，所以在光盤16兩面上的傳熱差被限制到很小，光盤16的溫度分布在厚度方向不會(huì)有很大的偏差。
開(kāi)口部34的一部分成為弦，而光盤16的一部分沒(méi)露出，但光盤16旋轉(zhuǎn)，光盤16整體暴露在空氣中，因此溫度分布在圓周方向不會(huì)有很大的偏差。此外，對(duì)于開(kāi)口部20也相同。
另外，光盤16的中心附近，由于與驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)22接觸而易傳熱，中心附近部分的溫度比較迅速地接近記錄、再生裝置的內(nèi)部溫度，光盤16的其他部分通過(guò)空氣而傳熱，但由于開(kāi)口部20以及開(kāi)口部34都具有光盤16的面積的1/4以上的開(kāi)口面積，所以相對(duì)于中心附近部分的溫度變化不會(huì)大幅延遲，其他部分的溫度也接近記錄、再生裝置的內(nèi)部溫度。因此，光盤16的溫度分布在徑向不會(huì)有很大的偏差。
即，光記錄介質(zhì)30的光盤16的溫度分布在徑向、圓周方向、厚度方向的任意方向不會(huì)產(chǎn)生很大的偏差，而在光盤16不會(huì)產(chǎn)生超出容許值的彎曲。
下面，對(duì)本發(fā)明的第三實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。
圖6是示意表示本第三實(shí)施方式的光記錄介質(zhì)40的結(jié)構(gòu)的側(cè)剖面圖。圖7是同一光記錄介質(zhì)的俯視圖。
光記錄介質(zhì)40，相對(duì)于上述第二實(shí)施方式的特征在于，光盤用盒42的厚度方向的一側(cè)的上述開(kāi)口部20和另一側(cè)的開(kāi)口部44沿厚度方向形成為對(duì)稱的形狀。對(duì)于其他結(jié)構(gòu)由于與上述第二實(shí)施方式相同所以省略說(shuō)明。
這樣，由于具有在厚度方向上對(duì)稱的開(kāi)口部20和開(kāi)口部44，所以即使在短時(shí)間內(nèi)環(huán)境溫度急速變化，光盤16的厚度方向的溫度分布的偏差也被限制到很微小，而可以將光盤16的彎曲抑制在微小的值。
此外，光記錄介質(zhì)40適合作為在兩面具有透光層以及記錄層的兩面記錄型的光盤用盒。
下面，對(duì)本發(fā)明的第四實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。
圖8是示意表示本第四實(shí)施方式的光記錄介質(zhì)50的結(jié)構(gòu)的側(cè)剖面圖，圖9是同一光記錄介質(zhì)的俯視圖。
光記錄介質(zhì)50，相對(duì)于上述第二實(shí)施方式的特征在于，在光盤用盒52的厚度方向的一側(cè)具有與上述第二實(shí)施方式相同的開(kāi)口部20，另一側(cè)的開(kāi)口部54由多個(gè)(本第四實(shí)施方式為2個(gè))的開(kāi)口孔56、58構(gòu)成。對(duì)于其他的結(jié)構(gòu)由于與第二實(shí)施方式相同所以省略說(shuō)明。
此外，合并了開(kāi)口孔56的開(kāi)口面積和開(kāi)口孔58的開(kāi)口面積的開(kāi)口部54的合計(jì)開(kāi)口面積是光盤16的面積的1/4以上、1/2以下，開(kāi)口部54的合計(jì)開(kāi)口面積與開(kāi)口部20的開(kāi)口面積之比大于1/2且小于2。
這樣，通過(guò)將開(kāi)口部54由多個(gè)開(kāi)口孔56、58構(gòu)成，可以提高開(kāi)口部的設(shè)計(jì)自由度，用于減低光盤16的彎曲適合的開(kāi)口部?jī)H此可以容易地設(shè)置。此外，按照對(duì)光盤的印刷等的目的設(shè)計(jì)也容易。進(jìn)而，將開(kāi)口部54分割成多個(gè)開(kāi)口孔56、58，即使開(kāi)口部54的開(kāi)口面積大，各開(kāi)口孔56、58的開(kāi)口面積也小，因此可以得到減低向光盤用盒52內(nèi)的塵埃等的侵入的效果。
下面，對(duì)本發(fā)明的第五實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。
圖10是示意表示本第五實(shí)施方式的光記錄介質(zhì)60的結(jié)構(gòu)的側(cè)剖面圖，圖11是同一光記錄介質(zhì)60的俯視圖。
光記錄介質(zhì)60，相對(duì)于上述第四實(shí)施方式的特征在于，在光盤用盒62的厚度方向的一側(cè)具有與上述第二實(shí)施方式相同的開(kāi)口部20，將另一側(cè)的開(kāi)口部64形成為網(wǎng)狀。對(duì)于其他的結(jié)構(gòu)由于與上述第二實(shí)施方式相同省略說(shuō)明。
此外網(wǎng)狀開(kāi)口部64的合計(jì)開(kāi)口面積是光盤16的面積的1/4以上、1/2以下，開(kāi)口部64的合計(jì)開(kāi)口面積與開(kāi)口部20的開(kāi)口面積之比大于1/2且小于2。
這樣，通過(guò)將開(kāi)口部64形成為網(wǎng)狀，比上述第四實(shí)施方式更可以減低向光盤用盒52內(nèi)的塵埃等的侵入。
下面，對(duì)本發(fā)明的第六實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。
圖12是示意表示本第六實(shí)施方式的光記錄介質(zhì)70的結(jié)構(gòu)的側(cè)剖面圖，圖13是同一光記錄介質(zhì)的仰視圖。
光記錄介質(zhì)70，相對(duì)于上述第二實(shí)施方式的特征在于，在光盤用盒72的厚度方向的一側(cè)的開(kāi)口部74由(與上述開(kāi)口部20相同形狀的)用于信息傳遞的信息傳遞用開(kāi)口孔76和通氣用開(kāi)口孔78構(gòu)成。此外，在厚度方向的另一側(cè)具有與上述第二實(shí)施方式相同的開(kāi)口部34。對(duì)于其他結(jié)構(gòu)也由于與上述第二實(shí)施方式相同所以省略說(shuō)明。
合并了信息傳遞用開(kāi)口孔76的開(kāi)口面積和通氣用開(kāi)口孔78的開(kāi)口面積的開(kāi)口部74的合計(jì)開(kāi)口面積是光盤16的面積的1/4以上、1/2以下，開(kāi)口部74的合計(jì)的開(kāi)口面積與開(kāi)口部30的開(kāi)口面積之比大于1/4、小于4。
這樣，通過(guò)將開(kāi)口部74由信息傳遞用開(kāi)口孔76和通氣用開(kāi)口孔78構(gòu)成，可以提高開(kāi)口部的設(shè)計(jì)的自由度，僅此可以容易設(shè)置適于減低光盤16的彎曲的開(kāi)口部。此外，通過(guò)將開(kāi)口部74由信息傳遞用開(kāi)口孔76和通氣用開(kāi)口孔78構(gòu)成，從而即使開(kāi)口部74的開(kāi)口面積很大，信息傳遞用開(kāi)口孔76、通氣用開(kāi)口孔78的開(kāi)口面積還是很小，也可以得到減低向光盤用盒72內(nèi)的塵埃等的侵入的效果。此外，如果將通氣用開(kāi)口孔以上述第五實(shí)施方式的方式形成為網(wǎng)狀，則可以進(jìn)一步抑制塵埃等的侵入。
下面，對(duì)本發(fā)明的第七實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。
圖14是示意表示本第七實(shí)施方式的光記錄介質(zhì)80的結(jié)構(gòu)的側(cè)剖面圖，圖15是同一光記錄介質(zhì)80的俯視圖。
光記錄介質(zhì)80，相對(duì)于上述第三實(shí)施方式的特征在于，在光盤用盒82具有用于開(kāi)關(guān)厚度方向的一側(cè)的開(kāi)口部20的第一快門84和用于開(kāi)關(guān)另一側(cè)的開(kāi)口部44的第二快門86；這些第一快門84和第二快門86以連動(dòng)開(kāi)關(guān)的方式構(gòu)成。對(duì)于其他結(jié)構(gòu)也由于與上述第三實(shí)施方式相同所以省略說(shuō)明。
第一快門84是板狀體，沿光盤用盒82的厚度方向的一側(cè)面配置一對(duì)。這一對(duì)第一快門84通過(guò)被銷88可自由旋轉(zhuǎn)地支持而相互接近·分離，由此變得可以自由開(kāi)關(guān)開(kāi)口部20。
第二快門86也是與第一快門84相同形狀的板狀體，沿光盤用盒82的厚度方向的另一側(cè)的面配置一對(duì)。此外，第二快門86也被銷88可自由旋轉(zhuǎn)地支持，由此與第一快門84聯(lián)動(dòng)而相互接近·分離，而變得可自由開(kāi)關(guān)開(kāi)口部44。
這樣，通過(guò)具有第一快門84和第二快門86，從而可以確實(shí)的防止向光盤用盒82內(nèi)的塵埃等的侵入的效果。進(jìn)而，由于第一快門84和第二快門86聯(lián)動(dòng)地進(jìn)行開(kāi)關(guān)，所以開(kāi)口部20的開(kāi)口面積和開(kāi)口部44的開(kāi)口面積可以經(jīng)常保持相等，由此，可以將伴隨周邊溫度的變化的光盤16的彎曲可靠地抑制到微小的值。
此外，在僅具有第一快門或第二快門的任意一方的情況，也可以得到減低向光盤用盒內(nèi)的塵埃等的侵入的一定效果是不言而喻的。
(實(shí)施例)制作光盤用盒的開(kāi)口部的開(kāi)口面積不同的多個(gè)種類的光記錄介質(zhì)，而測(cè)定光盤的彎曲。
具體的說(shuō)，相對(duì)于光盤的面積，光盤用盒的開(kāi)口部的開(kāi)口面積為0％、17％、25％、33％、50％、75％、100％，制作在厚度方向的兩側(cè)或單側(cè)形成各開(kāi)口面積的開(kāi)口部的多個(gè)種類的光盤用盒。在這些光盤用盒收容同樣的光盤而制作出光記錄介質(zhì)。
將這些光記錄介質(zhì)的周圍的溫度從-10℃急劇變化到+55℃，通過(guò)公知的測(cè)定方法測(cè)定各光記錄介質(zhì)內(nèi)的光盤的彎曲角。
測(cè)定方法具體地說(shuō)，使用彎曲角測(cè)定器(Keyence公司制，LA-2000)，在離光盤的透光層側(cè)的面中的外周2mm(離中心58mm)的位置與軸方向平行地照射激光，將入射光的光軸和反射光的光軸之差作為彎曲角α(deg)進(jìn)行測(cè)定。此外，將完全沒(méi)有彎曲的情況的光盤的假想面和測(cè)定部位的面所成角設(shè)為θ(deg)，則α與θ的關(guān)系為α＝2θ。
表1表示相對(duì)于各光記錄介質(zhì)的光盤的面積的厚度方向的一側(cè)的開(kāi)口部的開(kāi)口面積的比例A(％)、另一側(cè)的開(kāi)口部的開(kāi)口面積的比例B(％)、A以及B的比A/B和光盤的彎曲角α之間的關(guān)系。
表1

另外，圖16是將橫軸設(shè)為A，縱軸設(shè)為B，光盤的彎曲角α為0.5(deg)以下的特別良好的光記錄介質(zhì)用●表示，大于0.5(deg)且小于0.7(deg)的良好的光記錄介質(zhì)用○表示，大于0.7(deg)的不理想的光記錄介質(zhì)以×進(jìn)行識(shí)別而表示的圖表。
由表1以及圖16可知，相對(duì)于光盤的面積的厚度方向的一側(cè)的開(kāi)口部的開(kāi)口面積的比例A(％)，另一側(cè)的開(kāi)口部的開(kāi)口面積的比例B(％)都在25％(1/4)以上，且，A/B大于1/4且小于4的光記錄介質(zhì)將彎曲角α限制在0.7(deg)以下為良好。
還有可知，A、B都在25％(1/4)以上，且A/B大于1/2小于2的光記錄介質(zhì)將彎曲角α大致限制在0.5(deg)以下為良好。
進(jìn)而可知，如果A、B全都大于50％(1/2)，則能夠使彎曲角度α在0.5(deg)以下可靠地收納，且特別良好。
另外，可知如果即使厚度方向的一側(cè)閉塞，另一側(cè)的開(kāi)口面積的(相對(duì)于光盤的面積)的比例，也在25％(1/4)以上且50％(1/2)以下，則彎曲角α在0.7(deg)以下為良好。
還有，在上述第一～第六實(shí)施方式中，開(kāi)口部都作為平時(shí)開(kāi)口的結(jié)構(gòu)，但本發(fā)明不僅限定于此，如上述第七實(shí)施方式，也可以是在厚度方向的單側(cè)或兩側(cè)具有快門的結(jié)構(gòu)。此外，由于光盤16是在單側(cè)具有透光層的單面記錄型，所以僅在厚度方向的單側(cè)的開(kāi)口部設(shè)置快門的情況最好是在透光層的開(kāi)口部設(shè)置快門。
另外，在上述第一～第七實(shí)施方式中，光盤16是在厚度方向的一側(cè)具有透光層的單面記錄型，但本發(fā)明不僅限定于此，收容兩面記錄型的光盤的光盤用盒也可適用本發(fā)明。
產(chǎn)業(yè)上利用的可能性如以上說(shuō)明，根據(jù)本發(fā)明，可以得到下述的出色的效果即使將具有基板以及薄于基板的透光層的光盤收容到光盤用盒，也可以將其彎曲抑制在規(guī)定的限制值內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種光盤用盒，其特征在于，其為薄的箱狀體且用于收容具有基板以及薄于該基板的透光層而成的光盤，厚度方向的一側(cè)閉塞的同時(shí)，在另一側(cè)具有開(kāi)口部，且該開(kāi)口部的開(kāi)口面積為上述光盤的面積的1/4以上并小于1/2。
2.一種光盤用盒，其特征在于，其為薄的箱狀體且用于收容具有基板以及薄于該基板的透光層而成的光盤，在厚度方向的兩側(cè)具有開(kāi)口部，且上述厚度方向的一側(cè)開(kāi)口部以及另一側(cè)開(kāi)口部的任意一個(gè)的開(kāi)口面積都在上述光盤的面積的1/4以上。
3.如權(quán)利要求2所述的光盤用盒，其特征在于，上述厚度方向的一側(cè)開(kāi)口部的開(kāi)口面積與另一側(cè)開(kāi)口部的開(kāi)口面積之比大于1/4并小于4。
4.如權(quán)利要求2所述的光盤用盒，其特征在于，上述厚度方向的一側(cè)開(kāi)口部的開(kāi)口面積與另一側(cè)開(kāi)口部的開(kāi)口面積之比大于1/2并小于2。
5.如權(quán)利要求2至4中任意一項(xiàng)所述的光盤用盒，其特征在于，上述厚度方向的一側(cè)開(kāi)口部與另一側(cè)開(kāi)口部在厚度方向形成為對(duì)稱的形狀。
6.如權(quán)利要求2至4中任意一項(xiàng)所述的光盤用盒，其特征在于，上述厚度方向的至少一側(cè)開(kāi)口部由多個(gè)開(kāi)口孔構(gòu)成。
7.如權(quán)利要求5所述的光盤用盒，其特征在于，上述厚度方向的至少一側(cè)開(kāi)口部由多個(gè)開(kāi)口孔構(gòu)成。
8.一種光記錄介質(zhì)，其特征在于，具有權(quán)利要求1至4中任意一項(xiàng)所記載的光盤用盒，以及收容在該光盤用盒的光盤。
9.一種光記錄介質(zhì)，其特征在于，具有權(quán)利要求5所記載的光盤用盒，以及收容在該光盤用盒的光盤。
10.一種光記錄介質(zhì)，其特征在于，具有權(quán)利要求6所記載的光盤用盒，以及收容在該光盤用盒的光盤。
11.一種光記錄介質(zhì)，其特征在于，具有權(quán)利要求7所記載的光盤用盒，以及收容在該光盤用盒的光盤。
全文摘要
本發(fā)明提供一種收容具有基板以及薄于該基板的透光層而成的光盤，并且可以將其彎曲抑制到規(guī)定的限制值內(nèi)的光盤用盒。光盤用盒(32)具有厚度方向的一側(cè)開(kāi)口部(20)以及另一側(cè)開(kāi)口部(34)，這些開(kāi)口面積全都是光盤(16)的面積的1/4以上。另外，開(kāi)口部(20)的開(kāi)口面積與開(kāi)口部(34)的開(kāi)口面積之比大于1/4且小于4。
文檔編號(hào)G11B23/03GK1799098SQ20048001527
公開(kāi)日2006年7月5日 申請(qǐng)日期2004年6月2日 優(yōu)先權(quán)日2003年6月5日
發(fā)明者山田孝司, 小卷壯, 山家研二 申請(qǐng)人:Tdk股份有限公司