專利名稱：圖形繪圖裝置、信息記錄媒體的制造方法及母盤制造方法
技術領域：
本發(fā)明涉及繪制形成信息記錄媒體制造用的凹凸圖形用的曝光圖形的圖形繪圖裝置、以及利用該圖形繪圖裝置繪制的曝光圖形形成的凹凸圖形來制造信息記錄媒體制造用母盤和信息記錄媒體的制造方法。
背景技術：
當前，對HDD等磁記錄重放裝置的高密度記錄的要求越來越高，另一方面作為它的一種實現(xiàn)方法，正研究利用狹窄軌道來提高道密度。但是，在利用該方法以力圖實現(xiàn)高密度紀錄時，必須在磁記錄媒體上形成能夠實現(xiàn)正確跟蹤伺服的高精度伺服圖形。現(xiàn)實情況下，一般是通過磁頭對每一道進行磁記錄以形成伺服圖形。在這種情況下，隨著越來越高密度化(道數(shù)增加)，在伺服圖形記錄時因磁頭定位精度低而引起伺服圖形精度低的情況越來越明顯，再加上伺服圖形的記錄(形成)所需要的時間越來越長。因此磁記錄重放裝置的制造成本上漲。作為解決這些問題的方法，提出了將預先高精度形成的伺服圖形對磁記錄媒體的記錄膜通過磁的方法一次轉印的方法、以及在記錄膜上一次形成同樣是高精度的作為伺服圖形的物理凹凸的方法等。
具體來說，作為制造對磁記錄媒體的記錄膜將伺服圖形等通過磁的方法一次轉印用的信息載體的方法，有在特開2000-207738號公報所揭示的利用電子束曝光裝置繪制形成伺服圖形等用的曝光圖形來制造信息載體的方法。在該制造方法中，如該公報的圖2所示，首先在非磁性基體11上形成的強磁性薄膜12上，利用真空蒸鍍法蒸鍍Au等重金屬，形成重金屬膜。然后形成抗蝕劑膜，以覆蓋成膜的重金屬膜之后，利用光刻法等形成由抗蝕劑膜構成的規(guī)定圖形(掩模)。然后，用形成的圖形利用干法刻蝕法等來腐蝕重金屬膜，通過這樣在強磁性薄膜12上形成曝光位置參照標記21、21…及圖形中心標記22。然后，在強磁性薄膜12上涂布電子束感光性抗蝕劑13，以覆蓋形成的曝光位置參照標記21、21…及圖形中心標記22。通過這樣，制成被繪圖試樣87。
然后，如該公報的圖1所示，將被繪圖試樣87放置在電子束繪圖裝置81上。這時，一面驅動XY平臺88，一面利用電子槍82輸出電子束83，并利用電子檢測器89檢測它的反射電子，通過這樣檢測出被繪圖試樣87的圖形中心標記22的位置。然后，驅動氣動主軸馬達80，使被繪圖試樣87僅旋轉規(guī)定角度后，再次檢測出圖形中心標記22的位置，通過這樣，計算利用氣動主軸馬達80的被繪圖試樣87的旋轉中心與圖形中心標記22的位置偏移量。然后，利用電子束繪圖裝置81對電子束感光性抗蝕劑13繪制信息載體(信息記錄媒體)制造用的圖形。具體來說，一面利用氣動主軸馬達80使被繪圖試樣87旋轉，一面利用電子槍82輸出電子束83，照射被繪圖試樣87的電子束感光性抗蝕劑13。這時，由于照射的電子束83利用曝光位置參照標記21產生反射，因此通過利用電子檢測器89來檢測該反射電子，能夠檢測出電子束83通過曝光位置參照標記21的瞬間(電子束83的照射位置與曝光位置參照標記21重合的瞬間)。
另外，在該電子束繪圖裝置81中，以電子束83通過曝光位置參照標記21的時刻為基準，根據(jù)繪圖對象的圖形形狀，對電子束83輸出進行照射關閉控制，通過這樣繪制圖形的一部分。這時，根據(jù)被繪圖試樣87的旋轉中心與中心標記22的位置偏移量，利用電子束偏轉器85對電子束83的照射位置進行微調。另外，在被繪圖試樣87旋轉一圈之后，驅動XY平臺88，使被繪圖試樣87(氣動主軸馬達80)僅移動電子束83的光點直徑，繼續(xù)進行上述的繪圖處理。通過在遍及被繪圖試樣87的全部表面上進行這樣的繪圖工藝，就對電子束感光性抗蝕劑13繪制信息載體制造用的圖形。然后，對電子束感光性抗蝕劑13進行顯影處理，通過這樣除去電子束83的非照射部分，形成凹凸圖形，用該凹凸圖形作為掩模，對強磁性薄膜12進行腐蝕，通過這樣如該公報的圖3所示，形成薄膜圖形17，完成母信息載體。
特開2000-207738號公報(第8-10頁、圖1-3)但是，發(fā)明者研究了以往的電子束繪圖裝置81，結果發(fā)現(xiàn)了以下那樣的問題。即，在該以往的電子束繪圖裝置81中，是利用電子檢測器89檢測出電子束83的照射位置與曝光位置參照標記21重合的瞬間，以該檢測的瞬間為基準，對電子束83的輸出進行照射關閉控制，通過這樣在電子束感光性抗蝕劑13上的所希望的位置繪制所希望的圖形。因而，必須在圖形繪圖對象的被繪圖試樣87上預先形成曝光位置參照標記21、21…。為此，對于以往的電子束繪圖裝置81存在的問題是，由于采用在被繪圖試樣87上形成曝光位置參照標記21、21…的工序，因此母信息載體(信息記錄媒體)的制造成本上漲。
本發(fā)明正是鑒于有關的問題而提出的，主要目的在于提供能夠降低信息記錄媒體制造成本的圖形繪圖裝置、信息記錄媒體制造用母盤的制造方法及信息記錄媒體的制造方法。

發(fā)明內容
能達到上述目的的本發(fā)明有關的圖形繪圖裝置，包括能夠放置在其表面形成為了形成信息記錄媒體制造用的凹凸圖形的樹脂層的基材并使該基材旋轉而構成的旋轉機構、沿著利用該旋轉機構形成的所述基材的旋轉面使該旋轉機構移動的移動機構、根據(jù)在所述旋轉機構內部生成的內部信號及對該旋轉機構的旋轉驅動信號的某一個信號生成與所述基材的旋轉同步的基準信號的基準信號生成部、向所述樹脂層輸出繪圖用束的束輸出部、以及控制所述旋轉機構和所述移動機構同時控制利用所述束輸出部的所述繪圖用束的輸出及輸出停止時刻的控制部，能夠在所述樹脂層上繪制構成形成所述凹凸圖形用的同心圓狀圖形，所述束輸出部能夠輸出其有效繪圖寬度比構成所述曝光圖形的各圖形的寬度及長度要窄的所述繪圖用束而構成，所述控制部通過交替多次進行部分繪圖處理及繪圖位置改變處理，在所述樹脂層上繪制所述曝光圖形，所述部分繪圖處理是在利用所述基準信號生產部輸出所述基準信號時，在僅待機了預先規(guī)定的待機時間之后，控制所述束輸出部，使所述繪圖用束輸出，在所述樹脂層上繪制所述圖形的寬度方向的一部分，所述繪圖位置改變處理是將利用該部分繪圖處理進行的所述一部分繪圖位置，向接近利用所述旋轉機構產生的所述基材旋轉中心的方向及從該規(guī)定中心離開的方向的某一個規(guī)定的方向一側在所述有效繪圖寬度的范圍內改變。另外，本發(fā)明中的所謂“圖形的寬度”意思是指沿相對基材的旋轉中心的接近或離開方向的圖形的尺寸，所謂“圖形的長度”，意思是指沿基材的旋轉方向的圖形的尺寸。
另外，本發(fā)明有關的圖形繪圖裝置，包括能夠放置在其表面形成為了形成信息記錄媒體制造用的凹凸圖形的樹脂層的基材并使該基材旋轉而構成的旋轉機構、沿著利用該旋轉機構形成的所述基材的旋轉面使該旋轉機構移動的移動機構、根據(jù)在所述旋轉機構內部生成的內部信號及對該旋轉機構的旋轉驅動信號的某一個信號生成與所述基材的旋轉同步的基準信號的基準信號生成部、向所述樹脂層輸出繪圖用輸導束輸出部、以及控制所述旋轉機構及所述移動機構同時控制所述束偏轉部產生的所述繪圖用束的偏轉方向而且控制利用所述束輸出部的所述繪圖用束的輸出及輸出停止時刻的控制部，能夠在所述樹脂層上繪制構成形成所述凹凸圖形用的同心圓狀曝光圖形，所述束輸出部能夠輸出其有效繪圖寬度比構成所述曝光圖形的各圖形的寬度及長度要窄的所述繪圖用束而構成，所述控制部通過進行繪圖處理，在所述樹脂層上繪制所述曝光圖形，所述繪圖處理是在利用所述基準信號生成部輸出所述基準信號時，在僅待機了預先規(guī)定的待機時間之后，控制所述束輸出部，使所述繪圖用束輸出，同時控制所述束偏轉部，沿要繪圖的所述圖形的寬度方向使所述繪圖用束往復運動，來繪制該圖形。
在這種情況下，最好能夠繪制構成包含跟蹤伺服用的伺服圖形及數(shù)據(jù)記錄用的數(shù)據(jù)道圖形的至少一種圖形的所述曝光圖形。另外，在本說明中，一個伺服圖形假設由多個四邊形的圖形(標記點)而構成。
另外，最好能夠繪制構成對前述至少一種圖形附加預先規(guī)定的斜角的所述曝光圖形。
再有，最好構成所述基準信號生成部，使得在所述旋轉機構使所述基材旋轉一圈的期間中輸出多次所述基準信號。
另外，最好能夠繪制構成包含跟蹤伺服用的多個伺服圖形區(qū)內的伺服圖形的所述曝光圖形，構成所述基準信號生成部，使得在所述旋轉機構使所述基材旋轉一圈的期間內輸出該基材的每旋轉一圈應該繪制所述伺服圖形的所述伺服圖形區(qū)數(shù)量的所述基準信號。另外，在本說明書中，將繪制一個伺服圖形的區(qū)域稱為伺服圖形區(qū)。
另外，本發(fā)明有關的信息記錄媒體制造用母盤的制造方法，采用所述圖形繪圖裝置在所述樹脂層上繪制所述曝光圖形之后，對該樹脂層進行規(guī)定的處理，形成所述凹凸圖形，使用該形成的凹凸圖形并對該凹凸圖形進行轉印，制造信息記錄媒體制造用母盤。
另外，本發(fā)明有關的信息記錄媒體的制造方法，使用信息記錄媒體制造用母盤的制造方法的信息記錄媒體制造用母盤上被形成的凹凸圖形、對該凹凸圖形進行轉印，制造信息記錄媒體。
另外，本發(fā)明有關的信息記錄媒體的制造方法，是采用所述圖形繪圖裝置在作為所述基材的信息記錄媒體用中間體上形成所述樹脂層上繪制所述曝光圖形之后，對該樹脂層進行規(guī)定的處理，形成所述凹凸圖形，利用該形成的凹凸圖形制造信息記錄媒體。
根據(jù)本發(fā)明有關的圖形繪圖裝置，由于通過交替多次進行在輸出基準信號時僅待機了預先規(guī)定的待機時間之后使繪圖用束輸出來繪制圖形的寬度方向的一部分的部分繪圖處理、以及改變利用部分繪圖處理進行的繪圖位置的繪圖位置改變處理，在樹脂層上繪制曝光圖形，能夠不需要對基材形成基準位置確定用標記等，因此能夠降低信息記錄媒體制造用的凹凸圖形的制造成本。因而，能夠降低使用該凹凸圖形制造的信息記錄媒體制造用母盤及使用信息記錄媒體制造用母盤制造的信息記錄媒體的制造成本。另外，由于僅通過適當改變設定直到使繪圖用束輸出之前的待機時間，能夠繪制附加所希望的斜角的圖形，因此能夠制造可正確讀取各伺服圖形等的信息的記錄媒體。再有，由于不需要基準位置確定用標記，因此例如在采用該圖形繪圖裝置繪制制造信息記錄媒體制造用母盤用的曝光圖形時，能不需要形成中心位置確定用標記、以及使中心位置確定用標記與基材旋轉中心一致的處理，結果能夠正確而且容易地繪制曝光圖形。
另外，根據(jù)本發(fā)明有關的圖形繪圖裝置，由于通過執(zhí)行在輸出基準信號時僅待機了預先規(guī)定的待機時間之后使繪圖用束輸出同時沿要繪圖的圖形的寬度方向使繪圖用束往復運動來繪制圖形的繪圖處理，在樹脂層上繪制曝光圖形，能夠不需要對基材形成基準位置確定用標記等，因此能夠降低信息記錄媒體制造用母盤及使用信息記錄媒體制造用母盤制造的信息記錄媒體的制造成本。另外，由于僅通過適當改變設定使繪圖用束往復運動的方向，能夠繪制附加所希望的斜角的圖形，因此能夠制造可正確讀取各伺服圖形等的信息記錄媒體。再有，由于不需要基準位置確定用標記，因此例如在采用該圖形繪圖裝置繪制制造信息記錄媒體制造用母盤用的曝光圖形時，能夠不需要形成中心位置確定用標記、以及使中心位置確定用標記與基材旋轉中心一致的處理，結構能夠正確而且容易地繪制曝光圖形。
再有，根據(jù)本發(fā)明有關的圖形繪圖裝置，通過繪制包含伺服圖形及數(shù)據(jù)道圖形的至少一種圖形的曝光圖形，能夠制造可正確記錄重放的信息記錄媒體。
另外，根據(jù)本發(fā)明有關的圖形繪圖裝置，通過繪制附加的預先規(guī)定的斜角的曝光圖形來進行制造，能夠制造在該盤片外圈部及盤片內圈部可正確讀取各伺服圖形等的信息記錄媒體。
再有，根據(jù)本發(fā)明有關的圖形繪圖裝置，通過在使基材旋轉一圈的期間內基準信號生成部輸出多次基準信號，與例如基材每旋轉一圈僅輸出一次基準信號的結構相比，從各基準信號輸出的時刻起到開始伺服圖形等的繪圖的時刻為止的時間要縮短，結果對基材的每一圈能夠分別正確繪制應該繪制的伺服圖形等。
另外，根據(jù)本發(fā)明有關的圖形繪圖裝置，由于通過在使基材旋轉1圈的期間內基準信號生成部僅輸出應該繪制伺服圖形的伺服圖形區(qū)數(shù)量的基準信號，能夠根據(jù)各自對應輸出的基準信號輸出，決定對于全部伺服圖形的繪圖開始時刻，因此對基材的每一圈能夠更正確繪制應該繪制的伺服圖形等。
另外，根據(jù)本發(fā)明有關的信息記錄媒體制造用母盤的制造方法，由于通過對利用上述圖形繪圖裝置繪制了曝光圖形的樹脂層進行規(guī)定的處理，使用該形成的凹凸圖形并對該凹凸圖形進行轉印，制造信息記錄媒體制造用母盤，這樣進行制造，能夠不需要對基材形成基準位置確定用標記等，因此能夠降低信息記錄媒體制造用原盤的制造成本。在這種情況下，通過繪制對構成各伺服圖形區(qū)內的伺服圖形的每個圖形附加預先規(guī)定的斜角的曝光圖形來進行制造，能夠制造可制成在盤片外圈部及盤片內圈部可正確讀取各伺服圖形等的信息記錄媒體的信息記錄媒體制造用母盤。另外，在利用上述繪圖裝置繪制曝光圖形時，通過對構成一個伺服圖形區(qū)內的伺服圖形的各圖形進行部分繪圖處理結束之后，對與接著應該繪制伺服圖形的伺服圖形區(qū)之間形成的數(shù)據(jù)道圖形進行部分繪圖處理，能夠一次繪制伺服圖形及數(shù)據(jù)道圖形。因而，能夠制造一次可形成高精度的伺服圖形及數(shù)據(jù)記錄用的數(shù)據(jù)道圖形的信息記錄媒體制造用母盤。
另外，根據(jù)本發(fā)明有關的信息記錄媒體的制造方法，由于通過采用上述的信息記錄媒體制造用母盤，形成與利用上述圖形繪圖裝置繪制的曝光圖形相對應的凹凸圖形，而降低信息記錄媒體制造用母盤的制造成本，因此能夠降低信息記錄媒體的制造成本。另外，通過使用具有對該盤片外圈部分及盤片內圈部分所對應部位的各伺服圖形附加斜角的凹凸圖形的信息記錄媒體制造用母盤，能夠正確讀取各伺服圖形等。在這種情況下，在利用上述繪圖裝置繪制曝光圖形時，通過對構成一個伺服圖形區(qū)內的伺服圖形的各圖形進行部分繪圖處理結束之后，對與接著應該繪制伺服圖形的伺服圖形區(qū)之間形成的數(shù)據(jù)道圖形進行部分繪圖處理，來制造信息記錄媒體制造用母盤，能夠一次繪制伺服圖形及數(shù)據(jù)道圖形。因此，能夠一次形成附加所希望的斜角的高精度的伺服圖形及數(shù)據(jù)記錄用的數(shù)據(jù)道圖形。
另外，根據(jù)本發(fā)明有關的信息記錄媒體的制造方法，由于通過對信息記錄媒體用中間體上形成的樹脂層利用上述圖形繪圖裝置繪制曝光圖形之后進行規(guī)定的處理，利用這樣形成的凹凸圖形來進行制造，與檢測出基準位置特定用標記等開始圖形繪制的方法相比，能夠不需要對信息記錄媒體用中間體形成基準位置特定用標記等，因此能夠降低信息記錄媒體的制造成本。在這種情況下，通過繪制對構成各伺服圖形區(qū)內的伺服圖形的每個圖形附加預先規(guī)定的斜角的曝光圖形來進行制造，能夠制造在盤片外圈部及盤片內圈部可正確讀取各伺服圖形等的信息記錄媒體。另外，在繪制曝光圖形時，由于通過對構成一個伺服圖形的各圖形進行部分繪圖處理結束之后，對與接著應該繪制的伺服圖形之間形成數(shù)據(jù)道圖形進行部分繪圖處理，能夠一次繪制伺服圖形及數(shù)據(jù)道圖形，因此能夠一次形成高精度的伺服圖形及數(shù)據(jù)記錄用的數(shù)據(jù)道圖形。


圖1所示為繪圖裝置1的構成方框圖。
圖2為利用繪圖裝置1繪制曝光圖形P的繪圖對象即基材10的剖視圖。
圖3為利用由繪圖裝置1繪制的曝光圖形P而制造的磁記錄媒體15的平面示意圖。
圖4所示為基材10上繪制的曝光圖形P的一個例子的圖形。
圖5為利用繪圖裝置1進行的繪圖處理20的流程圖。
圖6為利用繪圖裝置1在盤片外圈部OD繪制的曝光圖形P的圖形。
圖7為利用繪圖裝置1在盤片中間部MD繪制的曝光圖形P的圖形。
圖8為利用繪圖裝置1在盤片外內部ID繪制的曝光圖形P的圖形。
圖9為將利用繪圖裝置1繪制了曝光圖形P的基材10進行顯影而形成凹凸圖形P1的狀態(tài)的剖視圖。
圖10為制成在凹凸圖形P1上依次形成成膜層11a及電解鎳層11b的壓印模11的狀態(tài)的剖視圖。
圖11所示為使用壓印模11利用壓印法制造磁記錄媒體15的工序的中間體15m及壓印模11的剖視圖。
圖12為將壓印模11的凹凸圖形P1向樹脂層15c轉印狀態(tài)的中間體15m的剖視圖。
圖13為采用形成了凹凸圖形P2的樹脂層15c作為掩模對磁性層15b進行腐蝕狀態(tài)的磁記錄媒體15的剖視圖。
圖14為利用繪圖裝置1的其它繪圖方法在盤片外圈部OD繪制的曝光圖形P的圖形。
圖15為利用繪圖裝置1的其它繪圖方法在盤片中間部MD繪制的曝光圖形P的圖形。
圖16為利用繪圖裝置1的其它繪圖方法在盤片內圈部ID繪制的曝光圖形P的圖形。
圖17為利用繪圖裝置1的另外的其它繪圖方法在盤片外圈部分OD繪制的曝光圖形P的圖形。
1電子束繪圖裝置2X-Y移動機構3轉盤4束發(fā)生器5關閉控制部6束成形器7束偏轉器8控制部9存儲部10基材10a硅晶片10b樹脂層11壓印模15磁記錄媒體15c樹脂層15m中間體20繪圖處理DP繪圖順序數(shù)據(jù)EB電子束H記錄重放頭P曝光圖形P1～P4凹凸圖形
PDO、PDM、PDI數(shù)據(jù)道圖形PSO、PSM、PSI伺服圖形PSO1、PSO2……，PSM1、PSM2……，PSI1、PSI2……圖形PSO11、PSO12……，PSM11、PSM12……，PSI11、PSI12……繪圖區(qū)S1基準信號θI、θO斜角具體實施方式
以下參照附圖，說明本發(fā)明有關的圖形繪圖裝置、信息記錄媒體制造用母盤的制造方法及信息記錄媒體的制造方法的最佳形態(tài)。
首先參照附圖，說明電子束繪圖裝置1的構成。
電子束繪圖裝置(以下也稱為“繪圖裝置”)1相當于本發(fā)明的圖形繪圖裝置，如圖1所示，具有X-Y移動機構2、轉盤3、束發(fā)生部4、關閉控制部5、束成形部6、束偏轉器7、控制部8及存儲部9，它是利用束發(fā)生部4輸出電子束EB(本發(fā)明的曝光用束的一個例子)、能夠在基材10上繪制信息記錄媒體制造用的曝光圖形P(參照圖4)而構成。在這種情況下，基材10是制造壓印模11(本發(fā)明的信息記錄媒體制造用母盤的一個例子，參照圖11)，如圖2所示，在圓板狀硅晶片10a的表面形成樹脂層10b(作為一個例子，是涂布具有電子束感光性的負型抗蝕劑而形成的抗蝕劑層)。在這種情況下，樹脂層10b的厚度作為一個例子是規(guī)定為100nm左右。
另外，使用基材10制成的壓印模11是制造圖3所示的離散道型磁記錄媒體15(本發(fā)明的信息記錄媒體的一個例子)用的母盤，如后所述，將利用繪圖裝置1在樹脂層10b上繪制的曝光圖形P進行顯影、再通過將這樣形成的凹凸圖形P1(參照圖9)進行轉印而制成。再有，使用壓印模11制造的磁記錄媒體15與使磁記錄媒體15旋轉的電動機、和對磁記錄媒體15進行記錄數(shù)據(jù)的記錄重放的記錄重放頭H(形成記錄頭及重放頭的懸浮頭滑塊)等一起，裝入殼體內(未圖示)，構成磁記錄裝置(硬盤驅動器)。在這種情況下，采用如圖3所示的結構，即在該磁記錄裝置中，一面以旋轉中心O15為中心，使磁記錄媒體15沿箭頭B的方向旋轉，一面以擺動中心OH為中心，使臂A沿箭頭C的方向擺動，通過這樣使記錄重放頭H向磁記錄媒體15上的規(guī)定半徑位置移動，對磁記錄媒體15進行記錄數(shù)據(jù)的記錄重放。
在這種情況下，如圖3中用實線所示，在記錄重放頭H位于磁記錄媒體15的盤片中間部MD的中間道MT上的在軌狀態(tài)下，相對于記錄重放頭H的寬度方向平行線段與相對于中間道MT的寬度方向平行的線段中間互相平行。另外，如該圖中點劃線所示，在記錄重放頭H位于盤片外圈部OD的外圈道OT上的軌狀態(tài)下，相對于記錄重放頭H的寬度方向平行的線段與相對于外圈道OT的寬度方向平行的線段之間產生斜角θO。另外，如該圖中雙點劃線所示，在記錄重放頭H位于盤片內圈部ID的內圈道IT上的在軌狀態(tài)下，相對于記錄重放頭H的寬度方向平行的線段與相對于內圈道IT的寬度方向平行的線段之間產生斜角θI在這種情況下，在該磁記錄媒體15中，如后所述，利用磁性層上形成的凹凸圖形，形成能夠確定位于形成同心圓狀的各道上用的脈沖串(burst)圖形、道編號及扇區(qū)(伺服圖形區(qū))編號等各種信息的伺服圖形。因而，為了能夠正確讀取構成伺服圖形的各圖形，必須考慮在磁記錄媒體15的盤片外圈部OD及盤片內圈部ID存在的斜角θO及θI，使得各圖形的寬度方向的邊與記錄重放頭H的讀取寬度方向在磁記錄媒體15的整個表面(整個區(qū)域)分別一致。具體來說，如圖4所示，關于中間道MT、MT……的伺服圖形PSM、PSM……，通過分別形成近似矩形的各圖形PSM1、PSM2……，能夠使各圖形PSM1、PSM2……的寬度方向的邊與記錄重放頭H的讀取寬度方向一致。
與上不同的是，關于外圈道OT、OT……的伺服圖形PSO、PSO……，為了使各圖形PSO1、PSO2……的寬度方向的邊與記錄重放頭H的讀取寬度方向一致，必須對各圖形PSO1、PSO2……附加斜角θO，分別形平行四邊行。另外，關于內圈道IT、IT……的伺服圖形PSI、PSI……，為了使各圖形PSI1、PSI2……的寬度方向的邊與記錄重放頭H的讀取寬度方向一致，必須對各圖形PSI1、PSI2……附加斜角θI，分別形成平行四邊形。另外，在磁記錄媒體15中，作為一個例子，對于1道(磁記錄媒體15的每一圈)規(guī)定有200處伺服圖形區(qū)，在各伺服圖形區(qū)內分別形成一個伺服圖形，在磁記錄媒體15旋轉1圈期間，通過記錄重放頭H讀取200處的伺服圖形，進行跟蹤伺服控制。
另外，X-Y移動機構2相當于本發(fā)明的移動機構，沿著利用轉盤3而旋轉的基材10的旋轉面使轉盤3移動。轉盤3相當于本發(fā)明的旋轉機構，能夠放置基材10而構成，在控制部8的控制下使基材10旋轉，使得繪圖速度成為恒定的線速度(作為一個例子是230mm/s)。另外，轉盤3相當于本發(fā)明的基準信號生成部，根據(jù)在其內部與盤的旋轉同步生成的信號(作為一個例子是每一圈產生36000個脈沖的脈沖信號，即本發(fā)明的內部信號)，生成與基材10的旋轉同步的基準信號S1，(作為一個例子是在使基材10旋轉一圈的期間內輸出200次磁記錄媒體15每旋轉一圈的伺服圖形區(qū)的數(shù)量)的基準信號。束發(fā)生部4與關閉控制部5一起構成本發(fā)明的束輸出部，生成并輸出在基材10的樹脂層10b上繪制曝光圖形P用的電子束EB。關閉控制部5根據(jù)控制部8的控制，對利用束發(fā)生部4的電子束EB的輸出進行照射/關閉控制。束成形部6具有束成形透鏡及孔眼(未圖示)等，將束發(fā)生部4輸出的電子束EB成形(形成小直徑)，使得其有效繪圖寬度作為一個例子達到30nm左右。在這種情況下，如圖6所示，在用該繪圖裝置1繪制例如伺服圖形PSO的圖形PSO1時，照射其有效繪圖寬度比圖形PSO1的寬度要窄的電子束EB(作為一個例子，其有效繪圖寬度為圖形PSO1寬度的1/8左右的電子束EB)，分8次繪制圖形PSO1。另外，關于數(shù)據(jù)道圖形PSO等(參照圖6)，由于其道寬TW比伺服圖形PSO等的寬度要窄，因此分4次照射上述的電子束EB進行繪圖。束偏轉器7根據(jù)控制部8的控制，使利用束成形部6成形的電子束EB產生偏轉，改變對樹脂層10b的照射位置。
控制部8控制X-Y移動機構2，使基材10與轉盤子一起移動，同時控制轉盤3，使基材10旋轉。另外，控制部8根據(jù)轉盤3(基準信號生成部)輸出的基準信號S1，控制束發(fā)生器4，關閉控制部5及束偏轉器7，通過這樣對利用轉盤3旋轉的基材10的樹脂層10b的規(guī)定位置照射電子束EB。存儲部9存儲能夠確定對基材10應該繪制的曝光圖形P的繪圖順序的繪圖順序數(shù)據(jù)DP。在這種情況下，繪圖順序數(shù)據(jù)DP中記錄有從基準信號S1輸出之后對關閉控制部5能夠確定每個伺服圖形到開始電子束EB照射為止的待機時間的信息、以及能夠確定構成各伺服圖形的各圖形沿道方向的長度(即利用關閉控制部5對電子束EB進行ON控制的時間)的數(shù)據(jù)。
下面參照

利用繪圖裝置1在基材10上繪制曝光圖形P的方法。
首先，使樹脂層10b的形成面向上，將基材10放置在轉盤3上。然后，控制部8開始圖5所示的繪圖處理20。在該繪圖處理20中，控制部8首先控制轉盤3，使基材10旋轉，使得在規(guī)定的繪圖位置(半徑位置)達到所希望的繪圖速度(線速度)(步驟21)。然后，控制部8控制X-Y移動機構2，使基材10與轉盤3一起沿其半徑方向移動，通過這樣進行定位，使得對基材10的曝光圖形P的繪圖開始位置位于束發(fā)生部4的正下方(步驟22，以下將該移動處理也稱為“半徑方向的定位”)。在這種情況下，利用該繪圖裝置1，作為一個例子是從磁記錄媒體15的盤片外圈部OD所對應的部位開始繪制曝光圖形P。因而，控制部8控制X-Y移動機構2，進行半徑方向的定位，使得基材10的外圈部位于束發(fā)生部4的正下方。然后，控制部8監(jiān)視由轉盤3是否輸出了基準信號S1(步驟23)，同時在輸出基準信號S1時，根據(jù)繪圖順序數(shù)據(jù)DP，判斷是否經(jīng)過了一直到開始繪制繪圖對象的伺服圖形PSO為止的待機時間(步驟24)。
具體來說，如圖6所示，利用該繪圖裝置1在繪制例如伺服圖形PSO中的圖形PSO1時，對將該圖形PSO1沿其寬度方向分割的繪圖區(qū)域PSO11～PSO18的8個區(qū)域的每個區(qū)域進行繪圖。因而，控制部8根據(jù)存儲部9存儲的繪圖順序數(shù)據(jù)DP，首先控制束偏轉器7，使得電子束EB對樹脂層10b的照射位置為箭頭O1所示的位置，同時僅在待機從基準信號S1輸出的時刻t0到開始繪制繪圖區(qū)域PSO11的時刻t11s到來為止的時間t1w(本發(fā)明的待機時間的一個例子)之后，使關閉控制部5開始電子束EB的照射/關閉控制(電子束的輸出及停止輸出的控制)(步驟25)。另外，在該圖中，圖中所示的雖然是使電子束EB的照射位置沿箭頭01～08的方向移動，但實際上是通過使基材10從該圖的右邊向左邊移動(旋轉)，而使電子束EB的照射位置對基材10產生相對移動。然后，控制部8僅在使電子束EB的輸出開始之后到結束繪圖區(qū)域PSO11的繪圖的時刻t11e到來為止的時間t11on內，使關閉控制部5輸出電子束EB之后，在時刻t11e到來的時刻使關閉控制部5停止電子束EB的輸出。通過這樣，繪圖區(qū)域PSO11的繪圖結束。
然后，控制部8根據(jù)繪圖順序數(shù)據(jù)DP，僅在待機直到開始繪制圖形PSO2的繪圖區(qū)域PSO21的時刻t12s到來為止的時間t11off之后，在時刻t12s到來的時刻使關閉控制部5開始電子束EB的輸出，在時刻t12e到來的時刻使關閉控制部5停止電子束EB的輸出。通過這樣，繪圖區(qū)域PSO21的繪圖結束。然后，控制部8對于圖形PSO3、PSO4……(參照圖4)，也同樣繪制最初的繪圖區(qū)域(本發(fā)明的部分繪圖處理)。然后，控制部8在一個伺服圖形區(qū)內的伺服圖形PSO(及數(shù)據(jù)道圖形PDO)的部分繪圖結束的時刻，判斷基材10每旋轉一圈(每一圈)應該繪制的各伺服圖形PSO、PSO……的各繪圖區(qū)域的繪圖是否已經(jīng)結束(步驟26)，在判斷為沒有結束時(判斷為還存在應該繪圖的各伺服圖形PSO、PSO……時)，返回步驟23，監(jiān)視基準信號S1的輸出。這時，在由轉盤3輸出基準信號S1時，控制部8與對于上述的伺服圖形PSO的繪圖處理相同，繪制沒有開始繪圖的伺服圖形PSO的圖形PSO1、PSO2……的繪圖區(qū)域PSO11、PSO21……。
另外，在基材10每旋轉一圈應該繪制的各繪圖區(qū)域的繪圖結束時(步驟26)，控制部8判斷基材10上應該繪制的整個曝光圖形P的繪圖是否已經(jīng)結束(步驟27)，在判斷為沒有結束時，判斷不驅動X-Y移動機構2而利用束偏轉器7使電子束EB偏轉是否能夠繪制接下來的各繪圖區(qū)域(步驟28)。這時，在判斷為能夠繪制時，控制部8根據(jù)存儲部9存儲的繪圖順序數(shù)據(jù)DP，控制束偏轉器7，使得電子束EB對樹脂層10b的照射位置為圖6中的箭頭O2所示的位置(步驟29，本發(fā)明的繪圖位置改變處理的一個例子)。另外，在該例子中，是采用通過束偏轉器7產生的偏轉來改變電子束EB的照射位置的結構，但不一定必須用束偏轉器7，也可以采用通過X-Y移動機構2使轉盤3(基材10)的移動來改變電子束EB的照射位置的結構。在采用該結構時，執(zhí)行前述的步驟22以代替上述的步驟28及29。
然后，控制部8僅在待機從利用轉盤3輸出基準信號S1的時刻t0到開始繪制繪圖區(qū)域PSO12的時刻t21s到來為止的時間t2w(本發(fā)明的待機時間的其它一個例子)之后，使關閉控制部5開始電子束EB的照射/關閉控制(步驟25)。接著，控制部8僅在使電子束EB的輸出開始之后到結束繪圖區(qū)域PSO12的繪圖的時刻t21e到來為止的時間t21on內，使關閉控制部5輸出電子束EB之后，在時刻t21e到來的時刻使關閉控制部5停止電子束EB的輸出。通過這樣，繪圖區(qū)域PSO12的繪圖結束。
在這種情況下，存儲部9存儲的繪圖順序數(shù)據(jù)DP中，記錄有使基材10的第二圈中基準信號S1輸出之后到開始繪制繪圖區(qū)域PSO12的時刻t21s為止的時間t2w比基材10的第一圈中基準信號s1輸出之后到開始繪制繪圖區(qū)域PSO11的時刻t11s為止的時間t1w要短時間t0的信息。在這種情況下，關于時間t0，它是考慮到前述的斜角θO的存在而規(guī)定的，使得連接繪圖區(qū)域PSO11的繪圖開始位置與繪圖區(qū)域PSO12的繪圖開始位置的線段相對于在外圈道OT上的記錄重放頭H的寬度方向平行。因而，如圖6所示，根據(jù)該繪圖順序數(shù)據(jù)DP而繪制的繪圖區(qū)域PSO12與繪圖區(qū)域PSO11相比，向跟前移動了時間t0的期間內基材10移動的距離(更靠近基準信號S1輸出的時間t0的束發(fā)生部4正下方的位置一側)進行繪圖。其結果，繪圖區(qū)域PSO11與PSO12產生與斜角θO相對應的位置偏移。
然后，控制部8進行圖形PSO2的繪圖區(qū)域PSO22的繪圖。在這之后，控制部8對于圖形PSO3、PSO4…(參照圖4)也同樣，繪制第二個繪圖區(qū)域(本發(fā)明的部分繪圖處理)。然后，控制部8在一個伺服圖形區(qū)內的伺服圖形PSO(及數(shù)據(jù)道圖形PDO)的部分繪圖結束時刻，判斷基材10每旋轉一圈應該繪制的各伺服圖形PSO、PSO…的各繪圖區(qū)域的繪圖是否已經(jīng)結束(步驟26)，在判斷為沒有結束時，返回步驟23，監(jiān)視基準信號S1的輸出。另外，在由轉盤3輸出基準信號S1時，控制部8與對于上述的伺服圖形PSO的繪圖處理相同，繪制繪圖區(qū)域PSO12、PSO22…。將這一連串的部分繪圖處理(步驟23～29)在基材10例如旋轉8圈之后連續(xù)重復執(zhí)行。
另外，利用該繪圖裝置1在對于構成伺服圖形PSO的各圖形的寬度方向一部分(在上述例子中的繪圖區(qū)域PSO13、PSO23…等)的繪圖處理結束之后，對于與接著應該繪制伺服圖形PSO的伺服圖形區(qū)之間形成的數(shù)據(jù)道圖形PDO(參照圖6)的道寬TW的一部分進行繪圖處理。在這種情況下，關于數(shù)據(jù)道圖形PDO的繪圖處理，是與伺服圖形PSO等的繪圖處理相同，如后所述，伺服圖形PSO的繪圖與數(shù)據(jù)道圖形PDO的繪圖是交替連續(xù)進行。通過這樣，在各圖形PSO1、PSO2…的繪圖區(qū)域PSO18、PSO28…的繪圖結束時，對于第一道的各伺服圖形PSO、PSO…及數(shù)據(jù)道圖形PDO、PDO…的繪圖結束。以下為了容易理解本發(fā)明，主要對于伺服圖形的繪圖處理進行說明。
然后，控制部8對于第二道(比各伺服圖形PSO、PSO…的繪圖已經(jīng)結束的道更內圈一側的道)的各伺服圖形PSO、PSO進行繪圖的情況下，在判斷為利用束偏轉器7使電子束EB的偏轉難以繪制各繪圖區(qū)域PSO11、PSO21…時(步驟28)，就控制X-Y移動機構2進行半徑方向的定位(步驟22，本法發(fā)明的繪圖位置改變處理的其它一個例子)。在這之后，控制部8通過重復進行上述步驟23～29的一連串處理，來對于第二道繪制各伺服圖形PSO、PSO…及數(shù)據(jù)道圖形PDO、PDO…。另外，控制部8對于第三道及以后的各道也同樣，繪制各伺服圖形PSO、PSO…及數(shù)據(jù)道圖形PDO、PDO…。在這種情況下，繪圖順序數(shù)據(jù)DP中記錄有越是內圈側的道，前述的時間to越短的數(shù)據(jù)。因而，對于繪制的伺服圖形PSO、PSO…，越是內圈側的道，對圖形PSO1、PSO2…所附加的斜角θO越小。
另外，在對于與中間道MT相對應的道繪制伺服圖形PSM、PSM…時，檢測由轉盤3是否輸出了基準信號S1(步驟23)，同時在輸出基準信號S1時，根據(jù)繪圖順序數(shù)據(jù)DP，判斷是否經(jīng)過了一直到開始繪制圖對象的伺服圖形PSM為止的待機時間(步驟24)。具體來說，如圖7所示，控制部8首先控制束偏轉器7，使得電子束EB對樹脂層10b的照射位置為箭頭M1所示的位置，同時僅在待機從基準信號S1輸出的時刻to到開始繪制繪圖區(qū)域PSM11的時刻t11s到來為止的時間t1w(本發(fā)明的待機時間的一個例子)之后，使關閉控制部5開始電子束EB的關閉控制(步驟25)。然后，控制部8僅在使電子束EB的輸出開始之后到結束繪圖區(qū)域PSM11的繪圖的時刻t11e到來為止的時間t11on內，使關閉控制部5與輸出電子束EB之后，在時刻t11e到來的時刻使關閉控制部5停止電子束EB的輸出。通過這樣，繪圖區(qū)域PSM11的繪圖結束。
然后，控制部8根據(jù)繪圖順序數(shù)據(jù)DP，繪制圖形PSM2的繪圖區(qū)域PSM21。同樣，控制部8對于圖形PSM3、PSM4…(參照圖4)也相同，繪制最初的繪圖區(qū)域(本發(fā)明的部分繪圖處理)。然后，控制部8判斷基材10每旋轉一圈應該繪制的各伺服圖形PSM、PSM…的各繪圖區(qū)域的繪圖是否已經(jīng)結束，在每旋轉一圈應該繪制的各繪圖區(qū)域的繪圖結束時(步驟26)，判斷基材上應該繪制的整個曝光圖形P的繪圖是否已經(jīng)結束(步驟27)。另外，在判斷為整個曝光圖形的繪圖沒有結束時，控制部8判斷利用束偏轉器7使電子束EB偏轉是否能夠繪制接下來的各繪圖區(qū)域(步驟28)。在判斷為能夠繪制時，則控制束偏轉器7，使得電子束EB對樹脂層10b的照射位置為箭頭M2所示的位置(步驟29，本發(fā)明的繪圖位置改變處理的一個例子)。
然后，控制部8僅在待機從利用轉盤3輸出基準信號S1的時刻t0到開始繪制繪圖區(qū)域PSM12的時刻t11s到來為止的時間t1w之后，使關閉控制部5開始電子束EB的照射關閉控制(步驟25)。在這種情況下，在進行伺服圖形PSM的繪圖時，由于不需要附加斜角θO及θI，因此控制部僅待機與繪制繪圖區(qū)域PSM11時待機的時間t1w相同的時間。開始繪制繪圖區(qū)域PSM12。同樣，在繪制繪圖區(qū)域PSM22之后，控制部8對于圖形PSM3、4…(參照圖4)也相同，繪制第二個繪圖區(qū)域(本發(fā)明的部分繪圖處理)。然后，控制部8在一個伺服圖形區(qū)內的伺服圖形PSM的部分繪圖結束時刻，判斷基材10每旋轉一圈應該繪制的各伺服圖形PSM、PSM…的各繪圖區(qū)域的繪圖是否已經(jīng)結束(步驟26)，在判斷為沒有結束時，返回步驟23，監(jiān)視基準信號S1的輸出。另外，在由轉盤3輸出基準信號S1時，控制部8與對于上述的伺服圖形PSM的繪圖處理相同，繪制繪圖區(qū)域PSM12、PSM22…。將這一連串大部分繪圖處理(步驟23～29)在基材10旋轉8圈之間連續(xù)重復執(zhí)行，通過這樣各圖形PSM1、PSM2…的繪圖區(qū)域PSM18、PSM28…的繪圖結束，對于與中間道MT對應的道的各伺服圖形PSM、PSM…及數(shù)據(jù)道圖形PDM、PDM…的繪圖結束。
另外，控制部8對于與盤片內圈部ID的內圈道IT相對應的各道也相同，繪制伺服圖形PSI、PSI…。具體來說，如圖2所示，控制部8根據(jù)存儲部9存儲的繪圖順序數(shù)據(jù)DP，首先控制束偏轉器7，使得電子束EB對樹脂層10b的照射位置為箭頭I所示的位置，同時僅在待機從基準信號S1輸出的時刻t0到開始繪制繪圖區(qū)域PSI11的時刻t11s到來為止的時間t1w(本發(fā)明的待機時間的一個例子)之后，使關閉控制部5開始電子束EB的照射關閉控制(步驟25)。然后，控制部8僅在使電子束EB的輸出開始之后到結束繪圖區(qū)域PSI11的繪圖的時刻t11e到來為止的時間t11on內，使關閉控制部5輸出電子束EB之后，在時刻t11e到來的時刻使關閉控制部5停止電子束EB的輸出。通過這樣，繪圖區(qū)域PSI11的繪圖結束。
然后，控制部8根據(jù)繪圖順序數(shù)據(jù)DP，僅在待機直到開始繪制圖形PSI2的繪圖區(qū)域PSI21的時刻t12s到來為止的時間t11off之后，在時刻t12s到來的時刻使關閉控制部5開始電子束EB的輸出，在時刻t12e到來的時刻使關閉控制部5停止電子束EB的輸出。通過這樣，繪圖區(qū)域PSI21的繪圖結束。然后，控制部8對于圖形PSI3、PSI4……(參照圖4)，也同樣繪制最初的繪圖區(qū)域(本發(fā)明的部分繪圖處理)。然后，控制部8在一個伺服圖形區(qū)內的伺服圖形PSI的部分繪圖結束的時刻，判斷基材10每旋轉一圈(每一圈)應該繪制的各伺服圖形PSI、PSI……的各繪圖區(qū)域的繪圖是否已經(jīng)結束(步驟26)，在判斷為沒有結束時，返回步驟23，監(jiān)視基準信號S1的輸出。這時，在由轉盤3輸出基準信號S1時，控制部8與對于上述的伺服圖形PSI的繪圖處理相同，繪制繪圖區(qū)域PSI11、PSI21……。
另外，在基材10每旋轉一圈應該繪制的各繪圖區(qū)域的繪圖結束時(步驟26)，控制部8判斷基材10上應該繪制的整個曝光圖形P的繪制是否已經(jīng)結束(步驟27)，在判斷為沒有結束時，判斷利用束偏轉器7使電子束EB偏轉是否能夠繪制接下來的各繪圖區(qū)域(步驟28)。這時，在判斷為能夠繪制時，控制部8根據(jù)存儲部9存儲的繪圖順序數(shù)據(jù)DP，控制束偏轉器7，使得電子束EB對樹脂層10b的照射位置為箭頭I2所示的位置(步驟29，本發(fā)明的繪圖位置改變處理的一個例子)。然后，控制部8僅在待機從利用轉盤3輸出基準信號S1的時刻t0到開始繪制繪圖區(qū)域PSI12的時刻t21s到來為止的時間t2w(本發(fā)明的待機時間的一個例子)之后，使關閉控制部5開始電子束EB的照射關閉控制(步驟25)。接著，控制部8僅在使電子束EB的輸出開始之后到結束繪圖區(qū)域PSI12的繪圖的時刻t21e到來為止的時間t21on內，使關閉控制部5輸出電子束EB之后，在時刻t21e到來的時刻使關閉控制部5停止電子束EB的輸出。通過這樣，繪圖區(qū)域PSI12的繪圖結束。
在這種情況下，存儲部9存儲的繪圖順序數(shù)據(jù)DP中，記錄有使基材10的第二圈中基準信號S1輸出之后到開始繪制繪圖區(qū)域PSI12的時刻t21s為止的時間t2w比基材10的第一圈中基準信號S1輸出之后到開始繪制繪圖區(qū)域PSI11的時刻t11s為止的時間t1w要長時間ti的信息。在這種情況下，關于時間ti，它是考慮到前述的斜角θI的存在而規(guī)定的，使得連接繪圖區(qū)域PSI11的繪圖開始位置與繪圖區(qū)域PSI12的繪圖開始位置的線段相對于在內圈道IT上的記錄重放頭H的寬度方向平行。因而，如圖8所示，根據(jù)該繪圖順序數(shù)據(jù)DP而繪制的繪圖區(qū)域PSI12與繪圖區(qū)域PSI11相比，向前方移動了時間ti的期間內基材10移動的距離(更遠離基準信號S1輸出的時刻t0的束發(fā)生部4正下方的位置一側)進行繪圖。其結果，繪圖區(qū)域PSI11與PSI12產生與斜角θI相對應的位置偏移。
然后，控制部8進行圖形PSI2的繪圖區(qū)域PSI22的繪圖。在這之后，控制部8對于圖形PSI3、PSI4……(參照圖4)也同樣，繪制第二個繪圖區(qū)域(本發(fā)明的部分繪圖處理)。然后，控制部8在一個伺服圖形區(qū)內的伺服圖形PSI的部分繪圖結束時刻，判斷基材10每旋轉一圈應該繪制的各伺服圖形PSI、PSI……的各繪圖區(qū)域的繪圖是否已經(jīng)結束(步驟26)，在判斷為沒有結束時，返回步驟23，監(jiān)視基準信號S1的輸出。另外，在由轉盤3輸出基準信號S1時，控制部8與對于上述的伺服圖形PSI的繪圖處理相同，繪制繪圖區(qū)域PSI12、PSI22……。將這一連串的不法呢繪圖處理(步驟23～29)在基材10旋轉8圈之間連續(xù)重復執(zhí)行。通過這樣，各圖形PSI1、PSI2……的繪圖區(qū)域PSI18、PSI28……的繪圖結束，對于一道的各伺服圖形PSI、PSI……及數(shù)據(jù)道圖形PDI、PDI……的繪圖結束。
然后，控制部在對于比各伺服圖形PSI、PSI……的繪圖已經(jīng)結束的道更內圈一側的道的各伺服圖形PSI、PSI進行繪圖的情況下，在判斷為利用束偏轉器7使電子束EB的偏轉難以繪制各繪圖區(qū)域PSI11、PSI21……時(步驟28)，就控制X-Y移動機構2進行半徑方向的定位(步驟22，本發(fā)明的繪圖位置改變處理的其它一個例子)。在這之后，控制部8通過重復進行上述步驟23～29的一連串處理，來繪制各伺服圖形PSI、PSI……及數(shù)據(jù)道圖形PDI、PDI……。另外，控制部8對于再內圈的各道也同樣，繪制各伺服圖形PSI、PSI……及數(shù)據(jù)道圖形PDI、PDI……。在這種情況下，繪圖順序數(shù)據(jù)DP中記錄有越是內圈側的道、前述的時間ti越長的數(shù)據(jù)。因而，對于繪制的伺服圖形PSI、PSI……，越是內圈側的道，對各圖形PSI1、PSI2……所附加的斜角θI越大。將以上一連串的處理(對于各伺服圖形PSI的部分繪圖處理及對于各數(shù)據(jù)道圖形PDI的部分繪圖處理)從基材10的外圈部到內圈部(從盤片外圈部OD所對應的部位到盤片內圈部ID所對應的部位)重復進行，在判斷為整個曝光圖形P的繪圖結束時(步驟27)，結束該繪圖處理20。通過這樣，對基材10的樹脂層10b的曝光圖形P(各伺服圖形及各數(shù)據(jù)道圖形的全部圖形)的繪圖結束。
這樣，根據(jù)該繪圖裝置1，由于通過交替多次進行部分繪圖處理(繪圖處理20中的步驟23～25)及繪圖位置改變處理(繪圖處理20中的步驟22及29)，在樹脂層10b上繪制曝光圖形P，所述部分繪圖處理是在輸出基準信號S1時，在僅待機了預先規(guī)定的待機時間(在上述的例子中的時間t1w、t2w……)之后，使電子束EB輸出，繪制圖形PSO1、PSO2……、PSM1、PSM2……、PSI1、PSI2……的寬度方向的一部分(繪圖區(qū)域PSO11、PSO21……等)，所述繪圖位置改變處理是改變利用部分繪圖處理進行的繪圖位置，能夠不需要對基材10形成基準位置確定用標記等，因此能夠降低壓印模11及使用壓印模11制造的磁記錄媒體15的制造成本。另外，由于僅通過適當改變設定直到使電子束EB輸出之前的待機時間，能夠繪制附加所希望的斜角θO及θI的圖形，因此能夠制造可正確讀取各伺服圖形PSO、PSO……等的磁記錄媒體15。再有，由于不需要基準位置確定用標記，因此例如在采用該繪圖裝置1繪制制造壓印模11用的曝光圖形P時，能夠不需要形成中心位置確定用標記、以及使中心位置確定用標記與基準10的旋轉中心一致的處理，結果能夠正確而且容易繪制曝光圖形P。
另外，根據(jù)該繪圖裝置，通過轉盤3在使基準10旋轉一圈的期間內輸出多次基準信號S1，與例如基材10每旋轉一圈僅輸出一次基準信號的結構相比，從各基準信號S1輸出的時刻t0起到開始伺服圖形PSO等的繪圖為止的時間要縮短，結果對基材10的每一圈能夠分別正確繪制應該繪制的伺服圖形PSO、PSO……等。在這種情況下，由于通過轉盤3在使基材10旋轉一圈的期間內僅輸出應該繪制伺服圖形(伺服圖形PSO等)的伺服圖形區(qū)數(shù)量的基準信號S1，能夠根據(jù)各自對應輸出的基準信號S1的輸出，決定對于全部伺服圖形的繪圖開始時刻，因此對基材10的每一圈能夠更正確繪制應該繪制的伺服圖形PSO、PSO……等。
下面參照

采用由繪圖裝置1繪制完成曝光圖形P的基材10制造壓印模11的方法(本發(fā)明的凹凸圖形的形成方法)。
首先，通過對繪制完成曝光圖形P的基材10進行顯影處理，如圖9所示，除去樹脂層10b中的沒有照射電子束EB的部位，而形成凹凸圖形P1。接著，如圖10所示，利用濺射法等形成成膜層11a，以覆蓋凹凸圖形P1，再用該成膜層11a作為電極，通過鍍層處理，形成電解鎳層11b。通過這樣，使用這種凹凸圖形P1，在基材10上形成具有將凹凸圖形P1轉印的凹凸圖形P2的壓印模11。接著，從Si晶片10a剝離壓印模11，同時根據(jù)需要，用溶劑等清洗壓印模11。通過這樣，在完成的壓印模11上形成其平面形狀與利用繪圖裝置1在基材10的樹脂層10b上繪制的曝光圖形相同平面形狀的凹凸圖形P2。因而，對于凹凸圖形P2中的盤片外圈部OD及盤片內圈部ID所對應部位的各伺服圖形，形成在繪制曝光圖形P時附加了斜角θO及θI的圖形。
這樣，根據(jù)該壓印模11的制造方法，由于通過對利用上述繪圖裝置1繪制了曝光圖形的樹脂層10b進行規(guī)定的處理，將從而形成凹凸圖形P1進行轉印，這樣進行制造，能夠不需要對基材10形成基準位置確定用標記等，因此能夠降低壓印模11的制造成本。在這種情況下，通過繪制對構成各伺服圖形區(qū)內的伺服圖形(伺服圖形PSO等)的每個圖形(圖形PSO1、PSO2……等)附加預先規(guī)定的斜角θO或θI的曝光圖形P來進行制造，能夠制造在盤片外圈部OD及盤片內圈部ID可正確讀取各伺服圖形PSO、PSO……等的磁記錄媒體15。另外，在利用繪圖裝置1繪制曝光圖形P時，通過對構成一個伺服圖形區(qū)內的伺服圖形PSO等的各圖形進行部分繪圖處理結束之后對與接著應該繪制伺服圖形PSO等的伺服圖形區(qū)之間形成的數(shù)據(jù)道圖形PDO等進行部分繪圖處理，能夠一次繪制伺服圖形及數(shù)據(jù)道圖形。因此，能夠制造一次可形成附加所希望的斜角的高精度的伺服圖形及數(shù)據(jù)記錄用的數(shù)據(jù)道圖形的壓印模11。
下面參照

使用壓印模11來制造磁記錄媒體15的方法。
首先，如圖11所示，一面對形成了樹脂層15c的中間體15m加熱，一面利用壓印法將壓印模11與中間體15m壓緊。通過這樣，如圖12所示，壓印模11的凹凸圖形P2轉印到樹脂層15c上，在中間體15m上形成凹凸圖形P3。在這種情況下，中間體15m是制造磁記錄媒體15用的中間體，它由在圓板狀的基材15a的表面形成磁性層15b而構成。另外，中間體15m實際上是在基材15a上層疊襯底層、軟磁性層、取向層、記錄層(磁性層15b)及保護層等而構成，但為了對本發(fā)明容易理解起見，省略了中間體15的詳細層結構有關的說明及圖示。接著，使用凹凸圖形P3作為掩模，對中間體15m進行腐蝕。這時，磁性層15b從凹凸圖形P3的凹下部分底面露出，再進行腐蝕處理，通過這樣如圖13所示，在磁性層15b形成凹凸圖形P4。
在這種情況下，凹凸圖形P4由于是用凹凸圖形P2形成的，具體地說，是使用將凹凸圖形P2轉印的凹凸圖形P3作為掩模形成的，因此凹凸圖形P4的盤片外圈部OD及盤片內圈部ID的各伺服圖形與凹凸圖形P2相同，將曝光圖形P在繪圖時附加斜角θo及θI的圖形進行轉印。在這之后，對凹凸圖形P4的凹下部分填充非磁性材料后，例如利用研磨處理使磁性層15b(凹凸圖形P4的凸起的端部)從非磁性材料露出，在磁性層15b的表面形成保護模等，完成磁記錄媒體15。
這樣，根據(jù)該磁記錄媒體15的制造方法，由于通過將與利用上述繪圖裝置1繪制的曝光圖形P相對應的凹凸圖形63進行轉印而形成凹凸圖形P4，降低壓印模11的制造成本。另外，通過使用具有對盤片外圈部OD及盤片內圈部ID所對應部位的伺服圖形PSO、PSO…、PSI、PSI…附加斜角θO及θI的凹凸圖形P3的壓印模11，能夠正確讀取各伺服圖形PSO、PSO…等。在這種情況下，在壓印模11制造時的利用繪圖裝置1繪制曝光圖形P時，通過對構成一個伺服圖形區(qū)內的伺服圖形的各圖形進行部分繪圖處理結束之后，對與接著應該繪制伺服圖形的伺服圖形區(qū)之間形成的數(shù)據(jù)道圖形進行部分繪圖處理，能夠一次繪制伺服圖形及數(shù)據(jù)道圖形。因而，能夠一次形成附加所希望的斜角的高精度的伺服圖形及數(shù)據(jù)記錄用的數(shù)據(jù)道圖形。
下面參照

利用繪圖裝置1繪制曝光圖形P的其它繪圖方法。
首先。使樹脂層10b的形成面向上，將基材10放置在轉盤3上之后，控制轉盤3使基材10旋轉。然后，控制部8控制X-Y移動機構2，使基材10與轉盤3一起沿其半徑方向移動，通過這樣進行半徑方向的定位。在這種情況下，利用該繪圖裝置1，作為一個例子是從磁記錄媒體15的盤片外圈部OD所對應的部位開始繪制曝光圖形P。因而，控制部8控制X-Y移動機構2，進行半徑方向的定位，使得基材10的外圈部位于束發(fā)生部4的正下方。然后，控制部8檢測由轉盤3是否輸出了基準信號S1，同時在輸出基準信號S1時，根據(jù)繪圖順序數(shù)據(jù)DP，判定是否經(jīng)過了一直到開始繪制繪圖對象的伺服圖形PSO為止的待機時間。
具體來說，如圖14所示，控制部8根據(jù)存儲部9存儲的繪圖順序數(shù)據(jù)DP，首先控制束偏轉器7，使得電子束EB對樹脂層10b的照射位置與包含應該繪制的伺服圖形PSO的道中心線一致，同時僅在待機從基準信號S1輸出的時刻t0到開始繪制伺服圖形PSO的最初圖形的時刻t11s到來為止的時間t1w(本發(fā)明的待機時間的一個例子)之后，使關閉控制部5開始電子束EB的照射/關閉控制。同時，控制部8控制束偏轉器7，使電子束B在應該繪制的伺服圖形PSO的寬度方向根據(jù)轉盤3(基材10)的轉速進行往復運動。在這種情況下，利用該繪圖裝置1，在繪制伺服圖形PSO時，根據(jù)對伺服圖形PSO內的各圖形所應該附加的斜角θO及基材10的轉速，規(guī)定利用束偏轉器7使電子束EB的偏轉方向(往復運動的方向)及往復運動的速度等各種條件來進行控制。其結果，電子束EB對樹脂層10b的照射位置如圖14中箭頭011所示呈蛇行形狀。
另外，控制部8僅在使電子束EB的輸出開始之后到結束伺服圖形PSO的最初圖形繪圖的時刻t11e到來為止的時間t11on內，使關閉控制部5輸出電子束EB之后，在時刻t11e到來的時刻使關閉控制部5停止電子束EB的輸出。通過這樣，在樹脂層10b上繪制伺服圖形PSO的最初圖形。然后，控制部8對于伺服圖形PSO的第二個及以后的圖形也同樣進行繪制，在一個伺服圖形區(qū)內的伺服圖形PSO的繪圖處理結束之后，繪制數(shù)據(jù)道圖形PDO，然后繪制下一個伺服圖形區(qū)內應該繪制的伺服圖形PSO。通過重復進行該繪圖處理，對于第一道的各伺服圖形PSO、PSO…及各數(shù)據(jù)道圖形PDO、PDO…的繪圖結束。接著，控制部8控制X-Y移動機構2，改變電子束EB的照射位置為基材10的靠內圈之后，對于第二道也同樣繪制各伺服圖形PSO、PSO…及各數(shù)據(jù)道圖形PDO、PDO…。再進一步控制部8對于第三道及以后的各道也同樣進行繪制。在這種情況下，每一次對于靠內圈道繪制各伺服圖形PSO、PSO…時，慢慢減小利用束偏轉器7使電子束EB往復運動的方向(上述的斜角θO)，通過這樣繪制附加與每道相對應的斜角θO的各伺服圖形PSO、PSO…。
另外，在對于與中間道MT相對應的道繪制伺服圖形PSM、PSM…及數(shù)據(jù)道圖形PDM、PDM…時，檢測由轉盤3是否輸出了基準信號S1，同時在輸出基準信號S1時，如圖15所示，與繪制上述伺服圖形PSO及數(shù)據(jù)道PDO時相同，僅在待機規(guī)定的待機時間(在這種情況下為時間t1w)之后，使關閉控制部5開始電子束EB的照射/關閉控制，同時使束偏轉器7偏轉，使得電子束EB擺動。在這種情況下，在繪制伺服圖形PSM及數(shù)據(jù)道圖形PDM時，由于不需要附加斜角θO及θI，因此控制部8使電子束EB往復運動，使得電子束EB的照射位置根據(jù)基材10的轉速相對于與包含伺服圖形PSM及數(shù)據(jù)道圖形PDM的道中心線垂直的方向呈蛇行形狀。其結果，電子束EB對樹脂層10b的照射位置如該圖中箭頭所示呈蛇行形狀。通過這樣，伺服圖形PSM、PSM…及數(shù)據(jù)道圖形PDM、PDM…的繪圖結束。
另外，控制部8對于盤片內圈部ID的內圈道IT相對應的各道，如圖16所示，控制部8首先控制束偏轉器7，使得電子束EB對樹脂層10b的照射位置與包含應該繪制的伺服圖形PSI的道中心線一致，同時僅在待機從基準信號S1輸出的時刻t0到開始伺服圖形PSI的時刻t11s到來為止的時間t1w(本發(fā)明的待機時間的一個例子)之后，使關閉控制部5開始電子束EB的照射/關閉控制。同時，控制部8控制束偏轉器7，使電子束EB在應該繪制的伺服圖形PSI的寬度方向根據(jù)基材10的轉速進行往復運動。在這種情況下，利用該繪圖裝置1，在繪制伺服圖形PSI時，根據(jù)對伺服圖形的PSI內的各圖形所附加的斜角θI及基材10的轉速，規(guī)定利用束偏轉器7使電子束EB的偏轉方向(往復運動的方向)及往復運動的速度等各種條件來進行控制。其結果，電子束EB對樹脂層10b的照射位置如該圖中箭頭I11所示呈蛇行形狀。
另外，控制部8僅在使電子束EB的輸出開始之后到結束伺服圖形PSI的最初圖形繪圖的時刻t11e到來為止的時間t11on內，使關閉控制部5輸出電子束EB之后，在時刻t11e到來的時刻使關閉控制部5停止電子束EB的輸出。通過這樣，在樹脂層10b上繪制伺服圖形PSI的最初圖形。然后，控制部8對于伺服圖形PSI的第二個及以后的圖形也同樣進行繪制。在一個伺服圖形區(qū)內的伺服圖形PSI的繪圖處理結束之后，繪制數(shù)據(jù)道圖形PDI。然后繪制下一個伺服圖形區(qū)內應該繪制的伺服圖形PSI。通過重復進行該繪圖處理，對于一道的各伺服圖形PSI、PSI…及各數(shù)據(jù)道圖形PDI、PDI…的繪圖結束。接著，控制部8控制X-Y移動機構2，改變電子束EB的照射位置為基材10的靠內圈之后，對于下一道也與上述繪圖處理相同，繪制各伺服圖形PSI、PSI…及各數(shù)據(jù)道圖形PDI、PDI…。另外，控制部8對于進一步內圈一側的道也同樣進行繪制。在這種情況下，每一次對于靠內圈道繪制各伺服圖形PSI、PSI…時，慢慢增大利用束偏轉器7使電子束EB往復運動的方向(上述的斜角θI)，通過這樣繪制附加與每道相對應的斜角I的各伺服圖形PSI、PSI…。通過在遍及基材10的整個表面進行這些繪圖處理，對基材10的樹脂層10b進行的曝光圖形P的繪圖結束。
這樣能根據(jù)該繪圖裝置1，由于在輸出基準信號S1時僅待機預先規(guī)定的待機時間(在這種情況下為時間t1w等)之后使電子束EB輸出，同時在應該繪制的圖形的寬度方向使電子束EB往復運動，來繪制圖形(伺服圖形PSO等)，進行上述的繪圖處理，在樹脂層10b上繪制曝光圖形P，通過這樣能夠對基材10不需要形成基準位置確定標記等，因此能夠降低壓印模11及使用壓印模11制造的磁記錄媒體15的制造成本。另外，由于僅通過適當偏轉電子束EB往復運動的方向，就能夠繪制附加所希望的斜角θO及OθI的圖形，因此能夠制造可正確讀取各伺服圖形PSO、PSO…等的磁記錄媒體15。再有，由于不需要基準位置確定用標記，因此例如在采用該裝置1繪制制造壓印模11用的曝光圖形P時，能夠不需要形成中心位置確定用標記、以及使中心位置確定用標記與基材10的旋轉中心一致的處理，結果能夠正確而且容易繪制曝光圖形P。
下面參照

利用繪圖裝置1繪制曝光圖形P的另外的其它繪圖方法。另外，關于和上述繪圖方法同樣的步驟，則省略其說明和圖示。
在上述的繪圖方法中，在繪制伺服圖形PSO時，是使電子束EB對樹脂層10b的照射位置如圖14中箭頭O11所示那樣呈蛇行形狀，但本發(fā)明不限定與此，也可以如圖17所示，使電子束EB對樹脂層10b的照射位置如箭頭O11a所示那樣呈蛇行形狀。通過這樣來繪制伺服圖形PSO。具體來說，控制部8首先控制X-Y…移動機構2，進行半徑方向的定位，使得基材10的外圈部位于束發(fā)生部4的正下方。然后，控制部8檢測由轉盤3是否輸出了基準信號S1，同時在輸出基準信號S1時，根據(jù)繪圖順序數(shù)據(jù)DP，判定是否經(jīng)過了一直到開始繪制繪圖對象的伺服圖形PSO為止的待機時間。這時，控制部8根據(jù)存儲部9存儲的繪圖順序數(shù)據(jù)DP，首先控制束偏轉器7，使得電子束EB對樹脂層10b的照射位置與包含應該繪制的伺服圖形PSO的道中心線一致，同時僅在待機從基準信號S1輸出的時刻t0到開始繪制伺服圖形PSO的最初圖形的時刻t11s到來為止的時間t1w(本發(fā)明的待機時間的一個例子)之后，使關閉控制部5開始電子束的照射/關閉控制。
同時，控制部8控制束偏轉器7，使電子束EB在應該繪制的伺服圖形PSO的寬度方向高速往復運動。在這種情況下，利用該繪圖裝置1，在繪制伺服圖形PSO時，根據(jù)對伺服圖形PSO內的各圖形所應該附加的斜角θO及基材10的轉速，規(guī)定利用束偏轉器7使電子束EB的偏轉方向(往復運動的方向)及往復運動的速度等各種條件來進行控制。另外，考慮到由于使電子束EB高速往復運動而產生的多重曝光，控制部8控制束發(fā)生部4，適當調節(jié)電子束EB的功率。另外，控制部8僅在使電子束EB的輸出開始之后到結束伺服圖形PSO的最初圖形繪圖的時刻t11e到來為止的時間t11on內，使關閉控制部5輸出電子束EB之后，在時刻t11e到來的時刻使關閉控制部5停止電子束EB的輸出。通過這樣，在樹脂層10b上繪制伺服圖形PSO的最初圖形。然后，控制部8對于伺服圖形PSO的第二個及以后的圖形也同樣進行繪制，在一個伺服圖形區(qū)內的伺服圖形PSO的繪圖處理結束之后，繪制數(shù)據(jù)道圖形PDO，然后繪制下一個伺服圖形區(qū)內應該繪制的伺服圖形PSO。通過重復進行該繪圖處理，對于第一道的各伺服圖形PSO、PSO…及各數(shù)據(jù)道圖形PDO、PDO…的繪圖結束。然后，控制部8對于伺服圖形PSM、PSM…及數(shù)據(jù)道圖形PDM、PDM…以及伺服圖形PSI、PSI…及數(shù)據(jù)道圖形PSI、PDI也同樣進行繪圖處理。通過這樣，對基材10的樹脂層10b進行的曝光圖形P的繪圖結束。
這樣，根據(jù)該繪圖裝置1，由于在輸出基準信號S1時僅待機預先規(guī)定的待機時間(在這種情況下為時間t1w等)之后使電子束EB輸出，同時在應該繪制的圖形的寬度方向使電子束EB往復運動，來繪制圖形(伺服圖形PSO等)，進行上述的繪圖處理，在樹脂層10b上繪制曝光圖形P，通過這樣能夠對基材10不需要形成基準位置確定用標記等，因此能夠降低壓印模11及使用壓印模11制造的磁記錄媒體15的制造成本。另外，由于僅通過適當偏轉使電子束EB往復運動的方向，就能夠繪制附加所希望的斜角θO及θI的圖形，因此能夠制造可正確讀取各伺服圖形PSO、PSO…等的磁記錄媒體15。再有，由于不需要基準位置確定用標記，因此例如在采用該繪圖裝置1繪制制造壓印模11用的曝光圖形P時，能夠不需要形成中心位置確定用標記、以及使中心位置確定用標記與基材10的旋轉中心一致的處理，結果能夠正確而且容易繪制曝光圖形P。
另外，本發(fā)明不限定于上述本發(fā)明的構成及方法。例如，在上述的方法中說明的例子是，在繪制曝光圖形P之后，形成凹凸圖形P1，再轉印該凹凸圖形P1，制成壓印模11，但本發(fā)明不限定于此，也可以在中間體15m上形成的樹脂層15c上利用繪圖裝置1直接繪制曝光圖形P，再通過顯影處理，形成凹凸圖形P3，使用該凹凸圖形P3作為掩模，制造磁記錄媒體15。根據(jù)利用該方法制造的磁記錄媒體15，通過利用在中間體15m上形成的樹脂層15c上由繪圖裝置1繪制的曝光圖形P所對應的凹凸圖形P3來制造，與檢測基準位置確定用標記等開始圖形繪制的方法相比，由于對中間體15m不需要形成基準位置確定用標記等，因此能夠降低磁記錄媒體15的制造成本，在這種情況下，通過繪制對構成各伺服圖形區(qū)內的伺服圖形的每個圖形附加預先規(guī)定的斜角θO及θI的曝光圖形P來進行制造，能夠制造在盤片外圈部OD及盤片內圈部ID可正確讀取各伺服圖形等的磁記錄媒體15。另外，在繪制曝光圖形P時，由于通過對構成一個伺服圖形的各圖形進行部分繪圖處理結束之后，對與接著應該繪制的伺服圖形之間形成的數(shù)據(jù)道圖形進行部分繪圖處理，能夠一次繪制伺服圖形及數(shù)據(jù)道圖形，因此能夠一次形成高精度的伺服圖形及數(shù)據(jù)記錄用的數(shù)據(jù)道圖形。
另外，在上述的方法中說明的例子是，使用在中間體15m上形成的凹凸圖形P3作為掩模，對中間體15m進行腐蝕，從而制造磁記錄媒體15，但本發(fā)明的信息記錄媒體的制造方法不限定與此，也可以采用分離法形成凹凸圖形P4，從而制造磁記錄媒體15。再有，在上述的方法中說明的例子是，照射電子束EB，來繪制曝光圖形EB，但本發(fā)明的繪圖用束不限定于電子束EB，可以采用任意的能量射線。另外說明了離散道型磁記錄媒體15及為了制造該磁記錄媒體15而制造壓印模11用的曝光圖形P的繪圖方法，但本發(fā)明的信息記錄媒體不限定于離散道型磁記錄媒體，也包含在伺服圖形形成時采用本發(fā)明有關的信息記錄媒體制造用母盤的制造方法及信息記錄媒體的制造方法的磁記錄媒體(僅伺服圖形部形成凹凸圖形的媒體)、或者將數(shù)據(jù)記錄區(qū)分割成網(wǎng)狀或點狀(使各數(shù)據(jù)記錄用道在其長度方向(媒體的旋轉方向)也分離成多個磁記錄部分)而形成的數(shù)據(jù)記錄部(磁性體部)呈島狀孤立的所謂模板媒體。
再有，在上述繪圖裝置1中采用的構成是，根據(jù)轉盤3在其內部與盤的旋轉同步生成的脈沖信號(內部信號)，生成與基材10的旋轉同步的基準信號S1，向控制部8輸出，但本發(fā)明的基準信號生成部的構成不限定與此，例如可以采用控制部8根據(jù)使轉盤3旋轉用的旋轉驅動信號生成與基材10的旋轉同步基準信號S1、同時將旋轉驅動信號型轉盤3輸出的構成。再有，也可以采用下述的構成，即另外設置生成使轉盤3旋轉用的旋轉驅動信號的驅動信號生成部，該驅動信號生成部根據(jù)旋轉信號生成與基材10的旋轉同步的基準信號S1，向控制部8輸出，同時將旋轉驅動信號向轉盤3輸出。另外，關于基材10每旋轉一圈的基準信號S1的輸出數(shù)，不限定于上述例子，只要基材10每旋轉一圈輸出一次及一次以上，就可以規(guī)定為任意的輸出數(shù)。再有，是以在Si晶片10a的表面上涂有負型抗蝕劑(樹脂層10b)來繪制曝光圖形P為例進行說明的，但作為本發(fā)明的樹脂層的形成材料不限定于負型抗蝕劑，可以使用正型抗蝕劑等各種樹脂材料。
權利要求
1.一種圖形繪圖裝置，其特征在于，包括能夠放置在其表面形成為了形成信息記錄媒體制造用的凹凸圖形的樹脂層的基材并使該基材旋轉而構成的旋轉機構、沿著利用該旋轉機構形成的所述基材的旋轉面使該旋轉機構移動的移動機構、根據(jù)在所述旋轉機構內部生成的內部信號及對該旋轉機構的旋轉驅動信號的某一個信號生成與所述基材的旋轉同步的基準信號的基準信號生成部、向所述樹脂層輸出繪圖用束的束輸出部、以及控制所述旋轉機構和所述移動機構同時控制利用所述束輸出部的所述繪圖用束的輸出及輸出停止時刻的控制部，能夠在所述樹脂層上繪制構成形成所述凹凸圖形用的同心圓狀曝光圖形，所述束輸出部能夠輸出其有效繪圖寬度比構成所述曝光圖形的各圖形的寬度及長度要窄的所述繪圖用束而構成，所述控制部通過交替多次進行部分繪圖處理及繪圖位置改變處理，在所述樹脂層上繪制所述曝光圖形，所述部分繪圖處理是在利用所述基準信號生成部輸出所述基準信號時，在僅待機了預先規(guī)定的待機時間之后，控制所述束輸出部，使所述繪圖用束輸出，在所述樹脂層上繪制所述圖形的寬度方向的一部分，所述繪圖位置改變處理是將利用該部分繪圖處理進行的所述一部分繪圖位置，向接近利用所述旋轉機構產生的所述基材旋轉中心的方向及從該旋轉中心離開的方向的某一個規(guī)定的方向一側在所述有效繪圖寬度的范圍內改變。
2.一種圖形繪圖裝置，其特征在于，包括能夠放置在其表面形成為了形成信息記錄媒體制造用的凹凸圖形的樹脂層的基材并使該基材旋轉而構成的旋轉機構、沿著利用該旋轉機構形成的所述基材的旋轉面使該旋轉機構移動的移動機構、根據(jù)在所述旋轉機構內部生成的內部信號及對該旋轉機構的旋轉驅動信號的某一個信號生成與所述基材的旋轉同步的基準信號的基準信號生成部、向所述樹脂層輸出繪圖用束的束輸出部、使該束輸出部輸出的所述繪圖用束偏轉的束偏轉部、以及控制所述旋轉機構及所述移動機構同時控制所述束偏轉部產生的所述繪圖用束的偏振方向而且控制利用所述束輸出部的所述繪圖用束的輸出及輸出停止時刻的控制部，能夠在所述樹脂層上繪制構成形成所述凹凸圖形用的同心圓狀曝光圖形，所述束輸出部能夠使其有效繪圖寬度比構成所述曝光圖形的各圖形的寬度及長度要窄的所述繪圖用束而構成，所述控制部通過進行繪圖處理，在所述樹脂層上繪制所述曝光圖形，所述繪圖處理是在利用所述基準信號生成部輸出所述基準信號時，在僅待機了預先規(guī)定的待機時間之后，控制所述束輸出部，使所述繪圖用束輸出，同時控制所述束偏轉部，沿要繪圖的所述圖形的寬度方向使所述繪圖用束往復運動，來繪制該圖形。
3.如權利要求1所述的圖形繪圖裝置，其特征在于，能夠繪制構成包含跟蹤伺服用的伺服圖形及數(shù)據(jù)記錄用的數(shù)據(jù)道圖形的至少一種圖形的所述曝光圖形。
4.如權利要求2所述的圖形繪圖裝置，其特征在于，能夠繪制構成包含跟蹤伺服用的伺服圖形及數(shù)據(jù)記錄用的數(shù)據(jù)道圖形的至少一種圖形的所述曝光圖形。
5.如權利要求3所述的圖形繪圖裝置，其特征在于，能夠繪制構成對所述至少一種圖形附加預先規(guī)定的斜角的所述曝光圖形。
6.如權利要求4所述的圖形繪圖裝置，其特征在于，能夠繪制構成對所述至少一種圖形附加預先規(guī)定的斜角的所述曝光圖形。
7.如權利要求1所述的圖形繪圖裝置，其特征在于，所述基準信號生成部在所述旋轉機構使所述基材旋轉一圈的期間中輸出多次所述基準信號。
8.如權利要求2所述的圖形繪圖裝置，其特征在于，所述基準信號生成部在所述旋轉機構使所述基材旋轉一圈的期間中輸出多次所述基準信號。
9.如權利要求1所述的圖形繪圖裝置，其特征在于，能夠繪制構成包含跟蹤伺服用的多個伺服圖形區(qū)內的伺服圖形的所述曝光圖形，所述基準信號生成部在所述旋轉機構使所述基材旋轉一圈的期間內輸出該基材每旋轉一圈應該繪制所述伺服圖形的所述伺服圖形區(qū)數(shù)量的所述基準信號。
10.如權利要求2所述的圖形繪圖裝置，其特征在于，能夠繪制構成包含跟蹤伺服用的多個伺服圖形區(qū)內的伺服圖形的所述曝光圖形，所述基準信號生成部在所述旋轉機構使所述基材旋轉一圈的期間內輸出該基材每旋轉一圈應該繪制所述伺服圖形的所述伺服圖形區(qū)數(shù)量的所述基準信號。
11.一種信息記錄媒體制造用母盤的制造方法，其特征在于，采用權利要求1所述的圖形繪圖裝置在所述樹脂層上繪制所述曝光圖形之后，對該樹脂層進行規(guī)定的處理，形成所述凹凸圖形，使用該形成的凹凸圖形并對該凹凸圖形進行轉印，制造信息記錄媒體制造用母盤。
12.一種信息記錄媒體制造用母盤的制造方法，其特征在于，采用權利要求2所述的圖形繪圖裝置在所述樹脂層上繪制所述曝光圖形之后，對該樹脂層進行規(guī)定的處理，形成所述凹凸圖形，使用該形成的凹凸圖形并對該凹凸圖形進行轉印，制造信息記錄媒體制造用母盤。
13.一種信息記錄媒體制造方法，其特征在于，使用由權利要求11所述的信息記錄媒體制造用母盤的制造方法的信息記錄媒體制造用母盤上被形成的凹凸圖形、對該凹凸圖形進行轉印，制造信息記錄媒體。
14.一種信息記錄媒體制造方法，其特征在于，使用由權利要求12所述的信息記錄媒體制造用母盤的制造方法的信息記錄媒體制造用母盤上被形成的凹凸圖形、對該凹凸圖形進行轉印，制造信息記錄媒體。
15.一種信息記錄媒體的制造方法，其特征在于，采用權利要求1所述的圖形繪圖裝置在作為所述基材的信息記錄媒體用中間體上形成的所述樹脂層上繪制所述曝光圖形之后，對該樹脂層進行規(guī)定的處理，形成所述凹凸圖形，利用該形成的凹凸圖形制造信息記錄媒體。
16.一種信息記錄媒體的制造方法，其特征在于，采用權利要求2所述的圖形繪圖裝置在作為所述基材的信息記錄媒體用中間體上形成的所述樹脂層上繪制所述曝光圖形之后，對該樹脂層進行規(guī)定的處理，形成所述凹凸圖形，利用該形成的凹凸圖形制造信息記錄媒體。
全文摘要
本發(fā)明是為了降低信息記錄媒體的制造成本。能夠繪制構成形成信息記錄媒體制造用的凹凸圖形用的曝光圖形P，束輸出部能夠輸出其有效繪圖寬度比各圖形PSO1、PSO2…的寬度及長度要窄的電子束EB而構成，控制部通過交替多次進行部分繪圖處理及繪圖位置改變處理來繪制曝光圖形P，該部分繪圖處理是在利用基準信號生成部輸出基準信號S1時，在僅待機預先規(guī)定的時間t1w、t1w…之后，使束輸出部輸出電子束EB，繪制圖形PSO1、PSO2…的寬度方向的一部分(繪圖區(qū)域PSO11、PSO12…)，該繪圖位置改變處理是將利用部分繪圖處理進行的一部分繪圖位置，向基材的旋轉中心側在有效繪圖寬度的范圍內改變。
文檔編號G11B5/855GK1645257SQ20051000417
公開日2005年7月27日 申請日期2005年1月13日 優(yōu)先權日2004年1月13日
發(fā)明者添野佳一 申請人:Tdk股份有限公司