專利名稱：光學記錄介質(zhì)、其制造方法及其記錄和復制的方法和裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光學記錄介質(zhì)(optical recording medium)，其包括兩個記錄層，其中通過使光照射光學記錄介質(zhì)的一個表面，可進行記錄(recording)和復制(reproducing)，本發(fā)明還涉及制造光學記錄介質(zhì)的方法，以及用于記錄和復制光學記錄介質(zhì)的方法和裝置。
背景技術(shù)：
作為光學記錄介質(zhì)，除只讀DVD(數(shù)字通用光盤)外，可刻錄的DVD(例如DVD+RW、DVD+R、DVD-R、DVD-RW、DVD-RAM)已經(jīng)投入使用。對于DVD+R和DVD+RW，正在改進用于CD-R和CD-RW(可刻錄壓縮光盤)的常規(guī)技術(shù)和保證DVD+R和DVD+RW與只讀DVD之間的復制相容性，如此設(shè)計DVD+R和DVD+RW以使基底的記錄密度(例如，磁道間距和信號標記長度)和厚度滿足CD標準和DVD標準。
例如，以如同生產(chǎn)CD-R的方式生產(chǎn)DVD+R，以使通過粘合劑粘結(jié)法將記錄信息的基底(substrate)粘合劑粘結(jié)至與記錄信息的基底形狀相同的基底上，所述記錄信息的基底的制造方法如下通過在基底上旋涂染料而在基底上布置(dispose)記錄層，然后在布置有記錄層的基底的相對另一表面上布置反射層。在這種情況下，作為記錄層，使用染料物質(zhì)。CD-R的特性之一是具有滿足CD標準的高反射率(65％)；然而，為在DVD+R的上述組成中獲得高反射率，該記錄層能夠在用于記錄和復制的光的波長下滿足指定的復折射率(complex refractive index)是必須的，并且因為包含在記錄層中的染料的光吸收特性滿足上述要求，所以CD-R可具有高反射率。至于DVD，其原理與上述CD-R的原理相同。
至于DVD，為增加記錄容量，提出了具有兩個記錄層的DVD。圖2是顯示具有兩個記錄層的DVD的層構(gòu)成的橫截面圖。第一基底1是通過包含UV-固化樹脂的中間層8粘合劑粘結(jié)至第二基底2的。第一基底1的內(nèi)表面上，布置有第一記錄層3，以及在第二基底2的內(nèi)表面上，布置有第二記錄層4。第一記錄層3是由介電膜或金屬薄膜形成的半透明膜。第二記錄層4是由金屬膜形成為反射膜。
在第一記錄層上，形成凹凸形狀的記錄標記(recording mark)并且通過反射或者干涉用于復制光學記錄介質(zhì)的激光，讀入記錄信號。在光學記錄介質(zhì)中，從兩個記錄層中讀入信號，因而光學記錄介質(zhì)可獲得至多為8.5GB的儲存容量。第一基底1和第二基底2的厚度分別為0.6mm，而中間層的厚度為約50μm。如此形成第一記錄層的半透明膜，以使第一記錄層的反射率為30％。當用于復制第二記錄層的照射的光在第一記錄層處通過反射至激光所有光量(light amount)的約30％后衰減，激光在反射層(第二記錄層)處被反射，以及在激光再次在第一記錄層處被衰減后，激光離開光學記錄介質(zhì)。可以這種方式復制記錄層的信號，以使激光(用于復制的光)如此集中照射，使得激光在第一或第二記錄層上被聚焦，檢測被反射的光。至于DVD，用于記錄和復制的激光的波長通常為約650nm。
然而，上述可刻錄的DVD(例如，DVD+R、DVD-R、DVD-RW和DVD+RW)僅具有一個記錄層，該記錄層可從介質(zhì)的一個表面讀入，且為了使用這樣的光學記錄介質(zhì)獲得較大的儲存容量，可考慮從該介質(zhì)的兩個表面復制。另一方面，至于具有記錄和復制是通過使光照射該介質(zhì)的一個表面而進行的兩層的光學記錄介質(zhì)，由于該介質(zhì)具有兩個記錄層，當通過照射激光，使其在第二記錄層(比第一記錄層遠離光學拾波器(optical pick up))上聚焦而記錄信號時，激光在第一記錄層處衰減，因而產(chǎn)生的缺點是難以同時獲得記錄第二記錄層所要求的吸光率(light absorbance)和光反射率(lightreflectance)。
例如，日本專利申請公開(JPA)No.11-66622建議了一種光學記錄介質(zhì)，其中在記錄過程中，可由該介質(zhì)的一個表面記錄包含有機染料的兩個記錄層，并且在復制過程中，可從該介質(zhì)的上述一個表面讀入兩個記錄層。然而，在該方案中，只建議了通過粘合劑將這樣的兩個基底互相粘結(jié)在一起的光學記錄介質(zhì)，這是因為不能解決其中記錄是通過使激光照射第一基底的一個表面而進行的第一基底和其中記錄是通過使激光照射第二記錄層膜而進行的第二基底，以及難以同時獲得記錄第二記錄層所要求的吸光率和光反射率的缺點。此外，沒有公開或暗示有關(guān)在具有薄膜厚度的半透明層中的缺陷問題的描述。
此外，日本專利(JP-B)No.2796288公開了包含多層的光學記錄介質(zhì)，其中包含染料的兩個記錄層被中間層隔開；然而在該建議中，不能利用高反射率原則，即使用反射層和染料膜之間的多重干涉，如CD-R和DVD+R一樣。此外，由于該建議的目的是利用多重波長的記錄，從而通過單波長使用兩層擴大記錄容量卻不能獲得。
因此，至于其中記錄和復制是通過使光照射記錄介質(zhì)的一個表面(即，第一基底的表面)光學記錄介質(zhì)在兩層(例如第一和第二記錄層)中進行的光學記錄介質(zhì)，還沒有獲得其中令人滿意的記錄信號特性還可從第二記錄層中獲得的光學記錄介質(zhì)，因而還需要其快捷的成就。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種光學記錄介質(zhì)，其中記錄和復制是通過使光照射光學記錄介質(zhì)的一個表面而進行的，同時也可從第二記錄層獲得令人滿意的記錄信號特性，以及制備上述光學記錄介質(zhì)的方法和用于記錄和復制上述光學記錄介質(zhì)的方法和裝置。
本發(fā)明的光學記錄介質(zhì)包括第一信息層，其包括第一基底和布置在第一基底上的至少包括有機染料的第一記錄層；第二信息層，其包括第二基底、布置在第二基底上的第二反射層，布置在第二反射層上的含有有機染料的第二記錄層和布置在第二記錄層上的第二保護層；以及中間層，在其上布置第一信息層的第一記錄層和第二信息層的第二記錄層，以使第一記錄層布置在中間層的一個表面上而第二記錄層布置在中間層的另一表面上；其中第二記錄層在用于光學記錄在第二記錄層中的光的波長下的吸光率大于第一記錄層在用于光學記錄中第一記錄層中的光的波長下的吸光率。
因此，作為其中記錄和復制可通過使光照射光學記錄介質(zhì)的一個表面而進行的包含兩層的光學記錄介質(zhì)，可提供其中第二記錄層的記錄靈敏度(recording sensitivity)令人滿意的光學記錄介質(zhì)。
用于制造本發(fā)明光學記錄介質(zhì)的方法是以下制備光學記錄介質(zhì)的方法，所述光學記錄介質(zhì)包括第一信息層，其包括第一基底和布置在第一基底上的至少包括有機染料的第一記錄層，以及第二信息層，其包括第二基底、布置在第二基底上的第二反射層、布置在第二反射層上的包括有機染料的第二記錄層和布置在第二記錄層上的第二保護層；以及中間層，在其上布置第一記錄層和第二記錄層，以使第一信息層的第一記錄層布置在中間層的一個表面上而第二信息層的第二記錄層布置在中間層的另一表面上；其中第二記錄層在用于光學記錄的光的波長下的吸光率大于第一記錄層在用于光學記錄的光的波長下的吸光率；其中所述方法包括通過涂布布置第一記錄層和第二記錄層的步驟，使用真空通過成膜法在第二基底上布置第二反射層的步驟和使用真空通過成膜法在第二記錄層上布置第二保護層的步驟。因此，可提供其中記錄層具有優(yōu)異的粘合性和在通過涂布的成膜步驟中基本上沒有缺陷的方法。
根據(jù)用于記錄和復制本發(fā)明光學記錄介質(zhì)的方法，在第一和第二記錄層中記錄和復制信號信息中的至少一種是通過使用于記錄本發(fā)明的光學記錄介質(zhì)的波長為580-720nm的光照射第一基底的表面而進行的。在記錄和復制本發(fā)明光學記錄介質(zhì)的方法中，記錄和復制信息中的至少一種可穩(wěn)定地、可靠地和有效地進行。
本發(fā)明的用于光學記錄和復制的裝置是如下的用于光學記錄和復制的裝置，其中信息是通過使從光源發(fā)射出的光照射本發(fā)明的光學記錄介質(zhì)而記錄和復制在本發(fā)明的光學記錄介質(zhì)中的。
根據(jù)本發(fā)明的光學記錄裝置，記錄和復制信息中的至少一種可穩(wěn)定地和可靠地進行。


圖1顯示了染料膜的光吸收光譜圖。
圖2是示意顯示包含兩個記錄層的DVD構(gòu)成的垂直橫截面圖。
圖3示意顯示本發(fā)明光學記錄介質(zhì)的構(gòu)成的實例。
圖4示意顯示本發(fā)明光學記錄介質(zhì)的構(gòu)成的實例并解釋了在第一記錄層中記錄的狀態(tài)。
圖5示意顯示本發(fā)明光學記錄介質(zhì)的構(gòu)成的實例并解釋了在第二記錄層中記錄的狀態(tài)。
圖6顯示測量實施例1中制造的光學記錄介質(zhì)的第一記錄層得到的光吸收光譜圖。
圖7顯示分別測量實施例1-3中制造的光學記錄介質(zhì)的第二記錄層得到的光吸收光譜圖。
具體實施例方式
(光學記錄介質(zhì))本發(fā)明的光學記錄介質(zhì)包括第一信息層、第二信息層、布置在第一信息層和第二信息層之間的中間層，以及任選的其它層。
第一信息層包括第一基底、布置在第一基底上的至少包括有機染料的第一記錄層，以及任選的其它層，例如第一反射層、第一保護層、底涂層(undercoating layer)和硬涂層(hard coat layer)。
第二信息層包括第二基底、至少一個第二反射層、包含有機染料的第二記錄層和第二保護層，其中第二反射、記錄和保護層依序布置在第二基底上，以及任選的其它層，例如底涂層和硬涂層。
在上述任選的記錄介質(zhì)中，在第一和第二記錄層中記錄和復制信號信息的至少一種是通過用于記錄于光學記錄介質(zhì)的波長為580-720nm的光照射第一基底的表面而進行的。
圖3例舉了本發(fā)明光學記錄介質(zhì)的構(gòu)成。1表示第一基底，2表示第二基底，3表示第一記錄層(主要包括有機染料)，4表示第二記錄層(主要包括有機染料)，5表示第一反射層，6表示第二反射層，7表示第二保護層，8表示中間層，其中記錄和復制是通過使光照射第一基底的表面而進行的。
在本發(fā)明中指定，第二記錄層在用于光學記錄的光的波長下的吸光率大于第一記錄層用于光學記錄的光的波長下的吸光率。在借助于用于記錄和復制的光(該光在第一記錄層和第一反射層處被衰減)在第二記錄層中形成記錄標記的情況下，與包括兩層的DVD-ROM的情況相比，光量的衰減是由于光量在第一記錄層處被吸收而引起的。因此，在第二記錄層中，記錄靈敏度可能難以獲得并且記錄標記被展開，因而可能產(chǎn)生的缺點是，可能頻繁地發(fā)生對鄰近軌道的串擾(crosstalk)。此外，要求使第二基底上溝(groove)的深度小于第一基底上溝的深度可能是記錄標記展開的原因，并可能影響串擾。這是因為防止標記展開的影響可難以通過淺溝獲得。
因此，在本發(fā)明中，為改進第二記錄層的記錄靈敏度和防止第二記錄層中記錄標記展開，要求光學記錄介質(zhì)中第二記錄層在用于光學記錄的光的波長下的吸光率大于第一記錄層在用于光學記錄的光的波長下的吸光率。布置在第二基底上作為含有染料的膜的第二記錄層的吸光率優(yōu)選為0.1-0.4吸收值(Abs.value)。當該吸光率小于上述范圍的吸收值時，可能擴大記錄標記的抖動(jitter)。另一方面，當該吸光率大于吸收值的上述范圍時，第二記錄層反射率降低。雙層DVD-ROM中反射率的標準是在18-30％范圍內(nèi)。為擴大第二記錄層的吸光率，同時滿足上述標準，減少第一記錄層的吸光率是有必要的。布置在第二基底上的作為包含染料的膜的第一記錄層的吸光率優(yōu)選為0.05-0.2吸收值。此外，布置在基底上的為包含染料的膜的第一和第二記錄層之間的吸光率差異優(yōu)選為0.01-0.4，更優(yōu)選為0.02-0.2吸收值。該吸收值可通過普通UV光譜儀測量。
用于記錄的光的波長優(yōu)選為580-720nm，更優(yōu)選為645-670nm。
主要包括有機染料的記錄介質(zhì)的吸光率可通過改變記錄層的厚度和改變?nèi)玖系墓馕招再|(zhì)來控制，優(yōu)選通過改變?nèi)玖系墓馕招再|(zhì)來控制，這是因為通過改變記錄層的厚度，記錄膜性質(zhì)的變化量不恒定并且記錄靈敏度和抖動性質(zhì)可容易地超出最佳范圍。
另一方面，通過改變對應(yīng)于染料的最大吸光率的波長(通過選擇具有對應(yīng)于染料的最大吸光率的各種波長的各種染料)，在用于記錄和復制的光的波長下的吸光率可容易控制，而無需改變記錄層的厚度。對應(yīng)于最大吸光率的波長的優(yōu)選范圍為580-620nm，特別是對第二記錄層，該范圍為605-620nm。當對應(yīng)于記錄層的最大吸光率的波長小于上述范圍時，記錄層的記錄靈敏度變得十分不令人滿意；另一方面，當超過上述范圍時，難以獲得記錄層的反射率。換句話說，通過選擇分別用于第一和第二記錄層的兩種染料的組合，其中包含在第二記錄層中的染料的對應(yīng)于最大吸光率的波長大于包含在第一記錄層中的染料的對應(yīng)于最大吸光率的波長，可容易獲得以下的光學記錄介質(zhì)，其中對應(yīng)于第二記錄層的最大吸光率的波長處的吸光率大于對應(yīng)于第一記錄層的最大吸光率的波長處的吸光率。“主要包含有機染料”是指記錄層包括足夠量的用于記錄和復制的有機染料；然而，記錄層通常是如下制備的，即通過結(jié)合除任選地結(jié)合在記錄層中添加劑，如防劣化劑之外，只結(jié)合染料(即，記錄層僅由染料構(gòu)成)。
圖4和5分別示意顯示了本發(fā)明光學記錄介質(zhì)的構(gòu)成的實例，以及分別解釋了第一和第二記錄層中記錄的狀態(tài)。在圖4和5中，數(shù)字1-8表示與圖3中層(或基底)相同的層(或基底)。
記錄標記9形成在第一記錄層中，對應(yīng)于第一基底的溝部件的部件10處。另一方面，記錄標記12形成在第二記錄層中，對應(yīng)于第二基底的間溝(intergroove)部件的部件14處。數(shù)字11和13分別表示第一基底的間溝部件和第二基底的溝部件。
如圖4和5所示，第一基底內(nèi)形成的溝的形狀不同于第二基底內(nèi)形成的溝的形狀。在DVD+R和DVD-R具有4.7GB的容量和0.74μm間距的情況下，第一基底內(nèi)的溝優(yōu)選具有1000-2000埃(100-200nm)的深度和具有0.2-0.3μm的寬度(在溝的底部處)。如圖4，因為第一記錄層是根據(jù)旋涂成膜的方法制備的情況下，存在的趨勢是，溝內(nèi)填充有染料，以及染料層(記錄層)和反射層之間界面的形狀是根據(jù)填充的染料的量和第一基底內(nèi)溝的形狀決定的，因此，為利用染料層和第一反射層之間界面的光反射，溝尺寸的上述范圍是適合的。
另一方面，第二基底內(nèi)的溝優(yōu)選具有200-500埃(20-50nm)的深度和0.2-0.4μm的寬度(在溝的底部)。如圖5所示，因為染料層(記錄層)和反射層之間界面的形狀是根據(jù)基底內(nèi)溝的形狀確定的，為利用染料層和反射層之間界面的光反射，溝尺寸的上述范圍是合適的。在第一基底1和第二基底2兩者中，當溝深度大于上述范圍時，光反射率變得容易降低。另一方面，當溝深度小于上述范圍或者溝寬度不在上述范圍時，形成的記錄標記不均勻，因此抖動變得容易擴大。
第二保護層布置在第二記錄層上，以作為阻擋層來保護第二記錄層使其隔開中間層，并且因為第二保護層可影響記錄標記信號，所以應(yīng)小心選擇用于第二保護層的材料。換句話說，為抑制進入第二記錄層的用于記錄和復制的光的光量衰減，第二保護層優(yōu)選是由透明材料，更優(yōu)選是對膜具有優(yōu)異粘合性的材料制備。用于第二保護層的特別優(yōu)選的材料是主要包括ZnS和Si化合物的混合物的材料，并且硅化合物的實例包括SiO2和SiC。在混合物ZnS-SiO2和ZnS-SiC中，從混合物的可結(jié)晶性來看，ZnS和Si化合物之間優(yōu)選的摩爾比(ZnS摩爾數(shù)∶Si化合物摩爾數(shù))為8∶2。此處，“主要包括”是指“相對于100摩爾％的該材料，材料中包括的組分為至少包括50摩爾％”。
作為基底上的膜的第一記錄層可容易布置在其中形成有引導溝(guidegroove)的第一基底上，所述膜是根據(jù)普通的方法，例如旋涂通過將染料溶解在溶劑中而形成的涂布液在基底上而形成；在作為膜布置在包括金屬膜的第二反射層上的第二記錄層的情況下，第二記錄層與第二反射層的相容性成為問題。特別是作為膜的在第二記錄層布置在包括具有高反射率且不昂貴的并因而廣泛使用的純銀的第二反射層情況下，涂層中容易產(chǎn)生缺陷。
因此，在本發(fā)明中，優(yōu)選使用銀合金作為用于第二反射層的材料。在銀的合金中，優(yōu)選的合金實例包括具有微量Nd、Cu和Pd的銀合金。
如同DVD+R和CD-R一樣，指定本發(fā)明的光學記錄介質(zhì)，以通過記錄層和其它的鄰近層之間界面的多重干涉效應(yīng)獲得高反射率并且記錄介質(zhì)優(yōu)選具有這樣的光學性質(zhì)，以使反射率n大，吸光率k相對較小?！皀”和“k”的優(yōu)選范圍分別為n＞2和0.03＜k＜0.2。這樣的光學性質(zhì)可通過利用在包含染料的膜的光吸收區(qū)域內(nèi)較長波長側(cè)末端位置處的性質(zhì)來獲得。
此處，圖1顯示了包含染料的膜的光吸收光譜的實例。對應(yīng)于圖1中包含在記錄層中的有機染料的最大吸光率或峰值吸光率的波長優(yōu)選在580-620nm的范圍之間。當對應(yīng)于記錄層中的有機染料的最大吸光率和峰值吸光率在上述范圍內(nèi)時，記錄靈敏度相對于反射率是優(yōu)選的。
-第一記錄層和第二記錄層-可用在第一個與第二記錄層中的染料的實例包括菁染料(cyanine dye)、酞菁染料(phthalocyanine dye)、吡喃鎓染料(pyrylium dye)、噻喃鎓染料(thiopyrylium dye)、薁鎓染料(azulenium dye)、斯夸鎓染料(squarylium dye)、偶氮染料(azo dye)、甲鰲合染料(formazan chlate dye)、金屬(例如Ni與Cr)復合鹽染料(complex salt)、萘醌染料(naphtoquinone dye)、蒽醌染料(anthraquinone dye)、靛酚染料(indophenol dye)、靛苯胺染料(indoaniline dye)、三苯基甲烷染料(triphenylmethane dye)、三烯丙基甲烷染料(triallylmethanedye)、胺鎓染料(aminium dye)、二亞胺鎓染料(diimmonium dye)與亞硝基化合物染料(nitroso compound dye)。這些染料可單獨使用或者結(jié)合使用。
從以下觀點來看上述染料中優(yōu)選染料的實例是優(yōu)選的，即通過溶劑涂布的成膜性質(zhì)和控制光學性質(zhì)的容易上看是優(yōu)選的，并且這些染料具有這些優(yōu)選性質(zhì)包含染料的膜在580-620nm范圍內(nèi)具有對應(yīng)于光吸收光譜中的最大吸光率的波長，因此該膜可在用于DVD的激光波長(約650nm)下容易獲得所需光學性質(zhì)，上述染料中優(yōu)選染料的實例包括四氮雜卟啉(tetraazaporphyradine)染料、菁染料、偶氮染料、斯夸鎓染料、斯夸鎓金屬鰲合物染料(squarylium metal chelate compound)和甲鰲合染料(formazanchlate)。
此外，第一和第二記錄層可任選包括包括其它組分，例如聚合物材料、穩(wěn)定劑、分散劑、阻燃劑、潤滑劑、抗靜電劑、表面活性劑和增塑劑。
聚合物材料的實例包括離聚物樹脂、聚酰胺樹脂、乙烯基樹脂、天然聚合物、硅氧烷、液體橡膠(liquid lubber)和硅烷偶聯(lián)劑(其可通過將該試劑分散和混合進入記錄介質(zhì)的組合物中而獲得)。
穩(wěn)定劑的實例包括過渡金屬的絡(luò)合物。第一或第二記錄層的厚度分別優(yōu)選為50-2000埃(5-200nm)，更優(yōu)選為50-1000埃(5-100nm)。當該厚度小于50埃，染料的量對在記錄層中形成記錄坑(recording pit)所需的量變得不充分，因而有可能降低信號強度，例如調(diào)制度(modulation degree)。另一方面，當該厚度大于2000埃時，可能難以形成記錄坑，記錄靈敏度可能容易被降低以及抖動可能被容易擴大。
-基底-只有在通過使激光照射基底的表面進行記錄和復制的情況下和在通過使激光照射記錄層的表面進行記錄和復制的情況下，基底應(yīng)當對所使用的激光而言是透明的，而基底沒有必要是透明的。因此，在本發(fā)明中，使波長為580-720nm的用于記錄的光照射第一基底的表面，因而只要第一基底是透明的，則對第二基底是否是透明的沒有限制。
基底可任意選自用于光學記錄介質(zhì)的常規(guī)基底。用作基底的材料實例包括丙烯酸(酯)類樹脂，例如聚甲基丙烯酸甲酯；氯乙烯樹脂，例如聚氯乙烯和氯乙烯共聚物；環(huán)氧樹脂；聚碳酸酯樹脂；非晶聚烯烴樹脂；聚酯樹脂；玻璃和陶瓷，例如鈉鈣玻璃(soda-lime glass)。特別是從尺寸穩(wěn)定性、透明度和扁平性質(zhì)，優(yōu)選為聚甲基丙烯酸甲酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、環(huán)氧樹脂、非晶聚烯烴樹脂、聚酯樹脂和玻璃；從成型的容易程度來看，最優(yōu)選為聚碳酸酯。
基底通常為盤狀，以及為使介質(zhì)具有大容量，基底的磁道間距尺寸通常優(yōu)選為0.7-1.0μm，更優(yōu)選為0.7-0.8μm。
-反射層-作為用于第一和第二反射層的材料，優(yōu)選為在使用的激光的波長下具有較高反射率的材料，優(yōu)選材料的實例包括金屬和所謂的半金屬，例如Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ca、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn和SiC。在這些中，最優(yōu)選為具有較高反射率的材料，例如Au、Ag和Al。這些材料可單獨使用或者結(jié)合使用，或以它們的合金形式使用。然而，如上所述，至于第二反射層的材料，應(yīng)當注意第二反射層和第二記錄層之間的相容性，從這個觀點看，優(yōu)選為銀合金。
第一反射層的厚度優(yōu)選為50-1000埃(5-100nm)，第二反射層的厚度優(yōu)選為1000-3000埃(100-300nm)。
此外，當反射層布置在第一記錄層上時，有必要控制反射層的厚度，以使反射層的透光率為40％或更大。
為從化學和物理性質(zhì)上保護第一和第二反射層，可布置第一保護層。用于第一保護層的材料的實例包括UV-固化樹脂。
-保護層-優(yōu)選地，為從化學和物理性質(zhì)上保護第一和第二記錄層，將第二保護層布置在第二記錄層和中間層之間。用于第二保護層的材料的實例包括具有高透光率的無機物質(zhì)，例如SiO、SiO2、MgF2、SnO2、ZnS、ZnS-SiO2和ZnS-SiC。
第二保護層的厚度優(yōu)選為100埃至2000μm(10nm至2000μm)。如上所述，用于第二保護層的特別優(yōu)選材料的實例包括具有低結(jié)晶率和高折射率的材料，例如ZnS-SiO2和ZnS-SiC。
-中間層-對用于中間層的材料沒有限制，只要該材料能夠通過粘合劑粘結(jié)至第一信息層和第二信息層上即可，并且可根據(jù)應(yīng)用合適地選擇。從生產(chǎn)率的觀點看，該材料優(yōu)選為UV固化粘合劑或熱可固化的粘合劑，例如丙烯酸酯樹脂、環(huán)氧樹脂和聚氨酯樹脂，以及熱熔性粘合劑。
對中間層的厚度沒有限制，并且可根據(jù)記錄和復制系統(tǒng)的光學條件合適地選擇。DVD系統(tǒng)中的厚度優(yōu)選為40-70μm。
在本發(fā)明的光學記錄介質(zhì)中，可任選地中基底表面內(nèi)布置硬涂層和底涂層。
上述底涂層用于以下目的(1)改進粘合性質(zhì)，(2)保護記錄介質(zhì)免受水和氣體侵害，(3)改進記錄層的保存穩(wěn)定性，(4)改進反射率，(5)保護基底和記錄層免受溶劑侵害，(6)形成引導溝、引導坑(guide pit)和預先格式。
為了目的(1)，可使用聚合物材料，例如離聚物樹脂、聚酰胺樹脂、乙烯基樹脂、天然樹脂、天然聚合物、硅氧烷(silicone)、液體橡膠和硅烷偶聯(lián)劑。為了目的(2)和(3)，除了上述聚合物材料之外，可使用無機化合物，例如SiO2、MgF2、SiO、TiO2、ZnO、TiN和SiN和金屬和所謂的半金屬，例如Zn、Cu、Ni、Cr、Ge、Se、Au、Ag、Al。為了目的(4)，可使用金屬，例如Al和Ag和具有金屬光澤的有機薄膜，例如甲炔染料(methane dye)和呫噸染料(xanthene dye)。為了目的(5)和(6)，可使用UV-固化樹脂、熱固性樹脂和熱塑性樹脂。
對底涂層的厚度沒有限制，并可根據(jù)應(yīng)用合適選擇。該厚度優(yōu)選為0.01-30μm，更優(yōu)選為0.05-10μm。
上述基底中的硬涂層用于以下目的(1)保護記錄層(反射光的吸收層)免受刮擦、灰燼和污垢，(2)改進記錄層(反射光的吸收層)的保存穩(wěn)定性和(3)改進反射率。為了這些目的，可使用上述底涂層部分所示的無機材料或有機材料。優(yōu)選無機材料的實例包括SiO和SiO2。優(yōu)選的有機材料的實例包括聚丙烯酸甲酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、環(huán)氧樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚酯樹脂、乙烯基樹脂、纖維素、脂族烴樹脂、芳族烴樹脂、天然橡膠、苯乙烯-丁二烯樹脂、氯丁二烯橡膠、蠟、醇酸樹脂和熱軟化樹脂，例如干性油和松香；熱熔性樹脂和UV-固化樹脂。在這些當中，作為用于保護層或基底內(nèi)的硬涂層的材料，最優(yōu)選為UV-固化樹脂，其在生產(chǎn)率上優(yōu)異。
對基底表面內(nèi)硬涂層的厚度沒有限制，并可根據(jù)應(yīng)用合適地選擇。該厚度優(yōu)選為0.01-30μm，更優(yōu)選為0.05-10μm。
(制造光學記錄介質(zhì)的方法)用于制造本發(fā)明光學記錄介質(zhì)的方法是制造上述本發(fā)明的記錄介質(zhì)的方法并至少包括通過涂布布置第一和第二記錄層的步驟，使用真空通過成膜法在第二基底上布置第二反射層的步驟和使用真空通過成膜法在第二記錄層上布置第二保護層的步驟；以及進一步包括粘合劑粘結(jié)的步驟和任選地其它步驟。
本發(fā)明的光學記錄介質(zhì)是根據(jù)下述步驟(1)-(6)制備的。
<第一基底上成膜的步驟>
(1)通過涂布借助成膜法，將主要包含有機染料的第一記錄層布置在其內(nèi)形成有溝和/或坑的第一基底上的步驟。
(2)借助成膜法，將第一反射層布置在第一記錄層上的步驟。
<第二基底上成膜的步驟>
(3)借助真空成膜法，將第二反射層布置在其內(nèi)形成有溝和/或坑的第二基底上的步驟。
(4)通過涂布借助成膜法，將主要包含有機染料的第二記錄層布置在第二反射層上。
(5)借助成膜法，將第二保護層布置在第二記錄層上的步驟。
<粘合劑粘結(jié)的步驟>
(6)通過包含有粘合劑的中間層，將其上形成有膜的第一基底粘合劑粘結(jié)至其上形成有膜的第二基底。
成膜法的實例包括真空金屬化法、濺射法、等離子體CVD法、光CVD法(light CVD process)、離子電鍍法和電子束金屬化法。在這些方法中，從大規(guī)模生產(chǎn)性質(zhì)和膜質(zhì)量的優(yōu)異性上看，優(yōu)選為濺射法。
在布置記錄層的步驟中，通過在基底上涂布涂布液而布置記錄層，所述涂布液是通過將有機染料溶解在溶劑中，并任選地進一步將其它添加劑添加至溶劑中而制備的。
作為制備涂布液的溶劑，可使用常規(guī)有機溶劑。對有機溶劑沒有限制并可根據(jù)應(yīng)用合適地選擇。有機溶劑的實例包括醇，例如甲醇、乙醇、異丙醇和2，2，3，3-四氟丙醇；酮，例如丙酮、甲基乙基酮和環(huán)己酮；酰胺，例如N，N-二甲基甲酰胺和N，N-二甲基乙酰胺；亞砜，例如二甲亞砜；醚，例如四氫呋喃、二噁烷、乙醚和乙二醇一甲醚；酯，例如乙酸甲酯和乙酸乙酯；鹵代脂族烴，例如氯仿、二氯甲烷、二氯乙烷、四氯化碳和三氯乙烷；芳族烴，例如苯、二甲苯、一氯苯和二氯苯；溶纖劑，例如甲氧基乙醇和乙氧基乙醇；以及烴，例如己烷、戊烷、環(huán)己烷和甲基環(huán)己烷。
涂布方法的實例包括旋轉(zhuǎn)器涂布法、噴涂法、輥涂法、浸涂法和旋涂法。在這些方法中，從層的厚度可通過調(diào)整記錄層的密度和粘度以及記錄層中溶劑的餾出溫度來控制的優(yōu)勢看，優(yōu)選為旋涂法。
在布置反射層的步驟中，通過金屬化、濺射或離子電鍍上述光反射物質(zhì)來布置反射層。
在布置保護層的步驟中，通過金屬化、濺射或離子電鍍上述用于保護層的材料來布置保護層。
在粘合劑粘結(jié)的步驟中，在將粘合劑放置在第一(或第二)基底上形成的膜的表面上之后，在粘合劑上放置第二(或第一)基底，以使第二(或第一)膜層(記錄層)通過粘合劑正對第一(或第二)膜層(記錄層)并且均勻鋪展粘合劑，然后在照射的紫外線下固化粘合劑。優(yōu)選使紫外線的照射至具有較高透光率的第一基底的表面。
在上述布置各層的步驟中，通過使用銀合金作為第二反射層的材料，并且在上述第二反射層上涂布用于第二記錄層的材料，可將涂層中基本上沒有缺陷的記錄層成型為膜。
上述其它方法的實例包括布置底涂層的方法和布置硬涂層的方法。
(記錄和復制光學記錄介質(zhì)的方法)用于記錄和復制本發(fā)明的光學記錄介質(zhì)的方法是以下的方法，在該方法中在第一基底的表面處，通過使用于記錄的波長為580-720nm的光照射本發(fā)明的光學記錄介質(zhì)，進行中第一和第二記錄層內(nèi)記錄和復制信號信息中的至少一種。
更具體地，當使光學記錄介質(zhì)在指定的線速度或者指定的恒定角速度下旋轉(zhuǎn)時，使用于記錄的光，例如半傳導性的激光(semi-conductive laser)(例如，650nm的振蕩波長(oscillation wavelength))，對著旋轉(zhuǎn)介質(zhì)照射穿過第一基底表面處的物鏡。第一和第二記錄層吸收照射的光，因而提高局部的第一(第二)記錄層的部分溫度，并且中記錄層內(nèi)產(chǎn)生了坑，并且改變了記錄層的光學性質(zhì)，因此信息可記錄在記錄層中。記錄層內(nèi)記錄的信息的復制是通過在如上所述記錄有信息的記錄層處產(chǎn)生的反射光來進行的，此時在使激光對著以預定線速度旋轉(zhuǎn)的記錄介質(zhì)進行照射。
(記錄和復制光學記錄介質(zhì)的裝置)本發(fā)明的用于光學記錄和復制的裝置是以下的用于光學記錄和復制的裝置，在該裝置中信息是通過使從光源發(fā)出的光照射光學記錄介質(zhì)而記錄和復制在本發(fā)明的光學記錄介質(zhì)中的。
對用于光學記錄和復制的裝置沒有限制，并且可根據(jù)應(yīng)用合適地選擇。該裝置的實例包括激光源，由該激光源照射激光例如半傳導性激光、收集照射的激光至固定在軸上的光學記錄介質(zhì)的會集透鏡、檢測從激光源照射出來的激光的激光監(jiān)測器(detector)、引導從激光源發(fā)射出來的激光至會集透鏡和激光監(jiān)測器的光學元件，以及任選的其它單元。
在用于光學記錄和復制的裝置中，通過光學元件將從激光源照射出來的激光引導至會集透鏡，以及使會集透鏡收集的激光照射至光學記錄介質(zhì)，因而在光學記錄介質(zhì)中進行光學記錄和復制。在該方法中，將從激光源照射出來的激光部分引導至激光監(jiān)測器，因而取決于激光監(jiān)測器所檢測的激光的光量，激光監(jiān)測器可控制從激光源照射出來的激光的光量。
激光監(jiān)測器可輸出檢測的激光的光量作為通過激光監(jiān)測器由光量轉(zhuǎn)化為電壓或電流形式的光量信號。
上述其它單元的實例包括控制單元。對控制單元沒有限制，要該單元能控制各種上述單元，并可根據(jù)應(yīng)用來選擇?？刂茊卧膶嵗ǔ炭匮b置(sequencer)和計算機。
因為本發(fā)明的用于光學記錄和復制的裝置配備有本發(fā)明的光學記錄介質(zhì)，所述光學記錄介質(zhì)可獲得優(yōu)異記錄信號性質(zhì)并可抑制記錄標記的串擾量，所以該裝置表現(xiàn)出高反射率和高調(diào)制度等優(yōu)異性質(zhì)，因而在該裝置中可獲得穩(wěn)定的記錄。以下，將參考下述實施例和比較例更詳細地描述本發(fā)明，這些實施例和比較例不應(yīng)解釋為限制本發(fā)明的范圍。
(實施例1)-制備光學記錄介質(zhì)-首先，制備由聚碳酸酯樹脂制成的、直徑為120mm和厚度為0.58mm的基底(作為第一基底)，在其上形成有深度為140nm(1400埃)和寬度為0.25μm的引導溝的凹凸圖案，其中圖案的磁道間距為0.74μm。
接著，在第一基底上，通過旋涂涂布液而布置厚度為50nm(500埃)的第一記錄層，所述涂布液是通過將由以下通式表示的斯夸鎓染料A和B與甲鰲合染料(fc)的混合物，以A∶B∶fc＝1∶6∶3的質(zhì)量比溶解在2，2，3，3-四氟丙醇中而制備的。
圖6顯示了第一記錄層的光吸收光譜并且該光譜顯示了對應(yīng)于最大吸光率的波長是603nm并且最大吸光率是0.65。在658nm波長下的吸光率為0.13(吸收值)。
此外，在第一記錄層上，布置第一反射層，第一反射層的布置方式為使用氬氣作為濺射氣體通過陰極濺射法在第一記錄層的表面上電鍍厚度為15nm(150埃)的Ag-Nd-Cu合金(原子數(shù)量的比率＝98.4∶0.7∶0.9，以該順序)。
另一方面，首先，制備由聚碳酸酯樹脂制成的、直徑為120mm和厚度為0.58mm的基底(作為第二基底)，在其上形成有深度為28nm(280埃)和寬度為0.25μm的引導溝的凹凸圖案，其中圖案的磁道間距為0.74μm。
接著，在第二基底上，布置第二反射層，第二反射層的布置方式為使用氬氣作為濺射氣體通過陰極濺射法在第二基底的表面上電鍍厚度為120nm(1200埃)的Ag-Nd-Cu合金(原子數(shù)量的比率＝98.4∶0.7∶0.9，以該順序)。
此外，在第二反射層上，布置第二記錄層，第二記錄層的布置方式為通過旋涂成膜法在第二反射層的表面上涂布厚度為50nm(500埃)的由下式表示的斯夸鎓染料C。
最后，在第二記錄層上，布置第二保護層，第二保護層的布置方式為使用氬氣作為濺射氣體通過陰極濺射法在第二記錄層的表面上電鍍厚度為100nm(1000埃)的ZnS-SiO2(摩爾數(shù)的比率＝80∶20，以該順序)。
圖7中曲線C表示了第二記錄層的光吸收光譜，并且該光譜顯示對應(yīng)于最大吸光率的波長為620nm和最大吸光率為1.52。在658nm波長下的吸光率為0.20(吸收值)。
通過UV固化粘合劑(Nippon Kayaku Co.，Ltd.制造和銷售的，商品名為KAYARAD DVD003)，將如上所述的其上分別形成有膜的第一和第二基底相互粘合劑粘結(jié)，從而制備出具有圖3所示的膜構(gòu)成的光學記錄介質(zhì)。
斯夸鎓染料的通式


式中，“Me”表示甲基，“Pr”表示丙基，“Ph”表示苯基，“nBu”表示正丁基，“Benz”表示苯甲基。
甲鰲合染料的通式

<評價>
至于所獲得的光學記錄介質(zhì)，借助DVD評價裝置(Pulse Tech ProductsCorporation制造和銷售，商品名DDU1000；波長＝658nm，NA＝0.65)，以9.2米/秒的線速度，將DVD(8-16)信號記錄在光學記錄介質(zhì)中，此外以3.49米/秒的線速度復制在光學記錄介質(zhì)中，從而評價生產(chǎn)的光學記錄介質(zhì)。如圖1所示，評價的結(jié)果滿足DVD-ROM標準。記錄策略是(n-2)T的多脈沖模式，并且多脈沖的寬度是10/16。
表1

(實施例2)-制備光學記錄介質(zhì)-以基本上與實施例1相同的方式制造光學記錄介質(zhì)，不同之處在于將實施例1中用于第二記錄層的染料換成由上述通式表示的斯夸鎓染料D。
圖7中曲線D顯示了第二記錄層的光吸收光譜，該光譜顯示對應(yīng)于最大吸光率的波長是607nm以及最大吸光率為1.12。在658nm波長下的吸光率是0.16(吸收值)。
以基本上與實施例1相同的方式評價所獲得的光學記錄介質(zhì)。評價的結(jié)果示于表2中。
表2

表2所示的結(jié)果證實了實施例2中獲得的光學記錄介質(zhì)與實施例1中獲得的光學記錄介質(zhì)具有相同的優(yōu)異評價結(jié)果。
(實施例3)-制備光學記錄介質(zhì)-以基本上與實施例1相同的方式制造光學記錄介質(zhì)，不同之處在于將實施例1中用于第二記錄層的染料換成由上述通式表示的斯夸鎓染料E。圖7中曲線E顯示了第二記錄層的光吸收光譜，該光譜顯示對應(yīng)于最大吸光率的波長是615nm以及最大吸光率為1.51。在658nm波長下的吸光率是0.17(吸收值)。
以基本上與實施例1相同的方式評價所獲得的光學記錄介質(zhì)。評價的結(jié)果示于表3中。
表3

表3所示的結(jié)果證實了實施例2中獲得的光學記錄介質(zhì)與實施例1中獲得的光學記錄介質(zhì)具有相同的優(yōu)異評價結(jié)果。
(實施例4)-制備光學記錄介質(zhì)-以基本上與實施例2相同的方式制造光學記錄介質(zhì)，不同之處在于將第二基底內(nèi)的溝的深度改變?yōu)?0nm(500埃)。
至于所獲得記錄介質(zhì)，以基本上與實施例2相同的方式評價第二記錄層的反射率，發(fā)現(xiàn)為18％。
(比較例1)-制備光學記錄介質(zhì)-以基本上與實施例2相同的方式制造光學記錄介質(zhì)，不同之處在于第二記錄層的染料，所述染料是上述通式表示的斯夸鎓染料D，其為實施例2中制備的上述通式表示的斯夸鎓染料A和B以及上述通式表示的甲鰲合染料(fc)的混合物，且以質(zhì)量混合比A∶B∶fc＝1∶6∶3。
以基本上與實施例2相同的方式評價所獲得記錄介質(zhì)，發(fā)現(xiàn)第二記錄層的抖動為11％，這不能滿足DVD標準。
(比較例2)-制備光學記錄介質(zhì)-以基本上與實施例1相同的方式制造光學記錄介質(zhì)，不同之處在于使用上述斯夸鎓染料C作為第一記錄層的染料，使用由上述通式表示的斯夸鎓染料A和B和甲鰲合(fc)染料的混合物(其中這些染料是以質(zhì)量比A∶B∶fc＝1∶6∶3混合的)作為第二記錄層的染料。
以基本上與實施例1相同的方式評價所獲得的光學記錄介質(zhì)，并且發(fā)現(xiàn)第二記錄層的反射率和調(diào)制度分別為14％和40％或更少，這不能滿足DVD的標準。
權(quán)利要求
1.一種光學記錄介質(zhì)，其包括第一信息層、第二信息層和中間層，其中，第一信息層包括第一基底，和布置在第一基底上的至少包括有機染料的第一記錄層；第二信息層包括第二基底，布置在第二基底上的第二反射層，布置在第二反射層上的包括有機染料的第二記錄層，以及布置在第二記錄層上的第二保護層；在中間層上，布置第一信息層的第一記錄層和第二信息層的第二記錄層，以使第一記錄層布置在中間層的一個表面上而第二記錄層布置在中間層的另一表面上，其中，第二記錄層在用于光學記錄的光的波長下的吸光率大于第一記錄層在用于光學記錄的光的波長下的吸光率。
2.權(quán)利要求1的光學記錄介質(zhì)，其中第二記錄層在用于光學記錄的光的波長下的吸光率在0.1-0.4的范圍內(nèi)。
3.權(quán)利要求1的光學記錄介質(zhì)，其中A2和A1之間的差異(A2-A1)在0.01-0.4的范圍內(nèi)，其中A2(吸收值)為在用于光學記錄在第二記錄層中的光的波長下的第二記錄層的吸光率，以及A1(吸收值)為在用于光學記錄在第一記錄層中的光的波長下的第一記錄層的吸光率。
4.權(quán)利要求1的光學記錄介質(zhì)，其中用于記錄的光的波長為580-720nm。
5.權(quán)利要求1的光學記錄介質(zhì)，其中對應(yīng)于第二記錄層的最大吸光率的波長大于對應(yīng)于第一記錄層的最大吸光率的波長。
6.權(quán)利要求1的光學記錄介質(zhì)，其中對應(yīng)于第二記錄層的最大吸光率的波長在605-620nm之間。
7.權(quán)利要求1的光學記錄介質(zhì)，其中信號信息在第一和第二記錄層中的記錄和復制是通過使光照射第一基底的表面而實現(xiàn)的。
8.權(quán)利要求1的光學記錄介質(zhì)，其中包括在第一記錄層中的有機染料和包括在第二記錄層中的有機染料獨立選自四氮雜卟啉染料、菁染料、偶氮染料、斯夸鎓染料、斯夸鎓金屬鰲合物染料和甲鰲合染料。
9.權(quán)利要求1的光學記錄介質(zhì)，其中對應(yīng)于包含在第一記錄層中的有機染料的最大吸光率的波長不同于對應(yīng)于包含在第二記錄層中的有機染料的最大吸光率的波長。
10.權(quán)利要求1的光學記錄介質(zhì)，其中第二記錄層的厚度為5-200nm。
11.權(quán)利要求1的光學記錄介質(zhì)，其中第二基底的引導溝具有20-50nm的深度。
12.權(quán)利要求1的光學記錄介質(zhì)，其中第二保護層包括ZnS和Si化合物的混合物。
13.權(quán)利要求1的光學記錄介質(zhì)，其中第二反射層包括銀合金。
14.一種制造光學記錄介質(zhì)的方法，其包括通過涂布布置第一和第二記錄層；使用真空通過成膜法在第二基底上布置第二反射層；以及使用真空通過成膜法在第二記錄層上形成第二保護層，其中，光學記錄介質(zhì)包括第一信息層、第二信息層和中間層，其中，第一信息層包括第一基底，和布置在第一基底上的至少包括有機染料的第一記錄層；第二信息層包括第二基底，布置在第二基底上的第二反射層，布置在第二反射層上的包括有機染料的第二記錄層，布置在第二記錄層上的第二保護層；在中間層上，布置第一信息層的第一記錄層和第二信息層的第二記錄層，以使第一記錄層布置在中間層的一個表面上而第二記錄層布置在中間層的另一表面上，其中，第二記錄層在用于光學記錄的光的波長下的吸光率大于第一記錄層在用于光學記錄的光的波長下的吸光率。
15.一種用于記錄和復制光學記錄介質(zhì)的方法，其包括在第一基底的表面處，使用于記錄光學記錄介質(zhì)的波長為580-720nm的光照射光學記錄介質(zhì)，以及在第一和第二記錄層中進行記錄和復制信號信息至少之一，其中，光學記錄介質(zhì)包括第一信息層、第二信息層和中間層，其中，第一信息層包括第一基底，和布置在第一基底上的至少包括有機染料的第一記錄層；第二信息層包括第二基底，布置在第二基底上的第二反射層，布置在第二反射層上的包括有機染料的第二記錄層，以及布置在第二記錄層上的第二保護層；在中間層上，布置第一信息層的第一記錄層和第二信息層的第二記錄層，以使第一記錄層布置在中間層的一個表面上而第二記錄層布置在中間層的另一表面上。
16.用于光學記錄和復制的裝置，其包括光學記錄介質(zhì)，在其內(nèi)記錄和復制信息；和光源，從其中發(fā)出光來照射光學記錄介質(zhì)，以進行光學記錄和復制，其中，光學記錄介質(zhì)是包括以下的光學記錄介質(zhì)第一信息層、第二信息層和中間層，其中，第一信息層包括第一基底，和布置在第一基底上的至少包括有機染料的第一記錄層；第二信息層包括第二基底，布置在第二基底上的第二反射層，布置在第二反射層上的包括有機染料的第二記錄層，以及布置在第二記錄層上的第二保護層；在中間層上，布置第一信息層的第一記錄層和第二信息層的第二記錄層，以使第一記錄層布置在中間層的一個表面上而第二記錄層布置在中間層的另一表面上，其中，第二記錄層在用于光學記錄的光的波長下的吸光率大于第一記錄層在用于光學記錄的光的波長下的吸光率。
全文摘要
本發(fā)明目的是提供光學記錄介質(zhì)，其中記錄和復制是通過使光照射光學記錄介質(zhì)的一個表面而進行的，并且令人滿意的記錄信號特性也可從第二記錄層獲得，本發(fā)明還提供了制備上述光學記錄介質(zhì)的方法和用于記錄和復制上述光學記錄介質(zhì)的方法和裝置。為此目的，根據(jù)本發(fā)明，提供了一種光學記錄介質(zhì)，其包括第一信息層，其包括第一基底和布置在第一基底上的至少包括有機染料的第一記錄層；第二信息層，其包括第二基底、布置在第二基底上的第二反射層、布置在第二反射層上的包括有機染料的第二記錄層和布置在第二記錄層上的第二保護層；以及中間層，其上布置有第一信息層的第一記錄層和第二信息層的第二記錄層。
文檔編號G11B7/26GK1815589SQ20051000796
公開日2006年8月9日 申請日期2005年2月4日 優(yōu)先權(quán)日2005年2月4日
發(fā)明者八代徹, 中村有希, 見上竜雄 申請人:株式會社理光