專利名稱：磁頭裝置的調(diào)整方法和磁頭裝置的調(diào)整裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及安裝在硬盤裝置等上的磁頭裝置，尤其涉及以數(shù)nm的小上浮量上浮的磁頭裝置中，對決定上浮量的主要原因進行分析、并根據(jù)該分析采用不同于過去的調(diào)整方法的磁頭裝置的調(diào)整方法和磁頭裝置的調(diào)整裝置。
背景技術(shù)：
安裝在硬盤裝置等上的磁頭裝置由滑動器和對其進行支承的支承構(gòu)件構(gòu)成。
上述支承構(gòu)件由荷重梁和彈性構(gòu)件(フレキシヤ)構(gòu)成，上述荷重梁從前部側(cè)向基部側(cè)按照高剛性部、彈性變形部和支承部的順序設(shè)置各個部位。上述彈性構(gòu)件安裝在上述荷重梁的前部，從上述荷重梁的前部附近向上述彈性構(gòu)件方向突出形成了樞軸(pivot)。并且，滑動器通過上述彈性構(gòu)件的支承片而搭接到該樞軸上。
為了獲得某一預(yù)定的上浮量，對每個磁頭裝置，預(yù)先通過模擬等測量上述磁頭裝置實際在磁盤面上浮動時所需的負荷壓，并以上述荷重梁的支承部為基準調(diào)整上述荷重梁的上述彈性變形部的彎曲量，獲得預(yù)定的負荷壓。
并且，這時，在沒有外力作用到上述滑動器上的狀態(tài)下，與上述彈性構(gòu)件的支承片的間距方向的靜態(tài)姿勢角θ(上述荷重梁的高剛性部和上述彈性構(gòu)件的支承片之間的角度)，也以上述荷重梁的支承部為基準進行調(diào)整，以形成預(yù)定的角度。
這樣，過去，以上述荷重梁的支承部為基準進行了上述靜態(tài)姿勢角θ的調(diào)整。
在下述專利文獻1中公開了平衡角(gimbal angle)(彈性構(gòu)件的姿勢角度)的調(diào)整方法。但是，專利文獻1中的上述平衡角的調(diào)整是在輥輪方向上進行的，未公開與間距方向有關(guān)的平衡角的調(diào)整方法。
并且，專利文獻1中，首先實際使磁頭在玻璃圓板之上上浮，檢查其上浮平衡，與上浮平衡的變動量相對應(yīng)地固定彈簧臂(荷重梁)并調(diào)整平衡角。但此方法需要每次使各磁頭裝置在磁盤之上上浮、對該上浮狀態(tài)下的上浮平衡的變動量進行測量的非常煩雜的作業(yè)。
此外，在下述專利文獻2中公開了這樣一種方法，即在把懸浮體1固定到夾具24上的狀態(tài)下，對彈性構(gòu)件施加熱位移，對彈性構(gòu)件頭部的姿勢角度進行修正。但沒有詳細說明是以上述懸浮體1的哪個部位為基準來調(diào)整上述彈性構(gòu)件頭部的姿勢角度。
特開昭61-177692號公報；[專利文獻2]特開2002-74630號公報。
過去認為，對于磁頭上浮量的調(diào)整來說，實際使上述磁頭上浮時所加的負荷壓力是很重要的。并且，上述彈性構(gòu)件的靜態(tài)姿勢角θ以上述荷重梁的支承部為基準進行調(diào)整。
但是，已知過去的調(diào)整方法中磁頭的上浮量上產(chǎn)生誤差。
在實驗中，相同的產(chǎn)品，利用靜態(tài)姿勢角θ不同的多個磁頭裝置，如圖19所示，把位于上述荷重梁的基部側(cè)的支承部固定下來，假定滑動器實際面對磁盤，在使上述滑動器的對置面與上述盤保持平行或大致平行的狀態(tài)下，改變(位移)支承部和樞軸之間的距離H，以使該距離等同于或者大致等同于使上述對置面與上述盤相對置，測量該位移所需的荷重。
以下，使上述磁頭裝置面對磁盤裝置內(nèi)的盤，使上述盤旋轉(zhuǎn)預(yù)定轉(zhuǎn)速，使上述滑動器從上述盤表面上浮，對上述每個磁頭分別測量其上浮量。
上述荷重和上浮量的關(guān)系示于圖11。如圖11所示，相對于荷重的上浮量出現(xiàn)誤差(不一致)。通常認為若荷重增大，則上浮量按一次函數(shù)降低，但在圖11中看不出這種趨勢。
以下在實驗中，如圖20所示，對位于荷重梁的基部側(cè)的支承部進行固定，把上述滑動器的高剛性部沿箭頭方向往上方提起，以使上述支承部與樞軸之間的距離H與圖19的情況相同，并測量在此狀態(tài)下的上述彈性構(gòu)件的靜態(tài)姿勢角θ。
然后，使上述磁頭裝置面對磁盤裝置的盤上面，使上述盤旋轉(zhuǎn)預(yù)定轉(zhuǎn)速，使上述滑動器從上述盤表面上浮起，對上述每個磁頭分別測量了其上浮量。上述靜態(tài)姿勢角θ與上述上浮量的關(guān)系示于圖12。
如圖12所示，與靜態(tài)姿勢角θ相對應(yīng)的上浮量中出現(xiàn)誤差。
這樣，與荷重和靜態(tài)姿勢角θ相對應(yīng)的上浮量出現(xiàn)誤差。原因可能是在上浮量約為數(shù)nm的小上浮量的磁頭中，以荷重梁的支承部為基準進行調(diào)整的負荷壓對磁頭的上浮量沒有多大影響，主要是由其他因素來決定上浮量。
如以上那樣，像過去那樣，以荷重梁的支承部為基準對負荷壓和靜態(tài)姿勢角θ進行調(diào)整的過去的調(diào)整方法中，即使同樣地對各磁頭裝置進行調(diào)整，按數(shù)nm上浮的磁頭的上浮量中也出現(xiàn)誤差。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明是為了解決上述問題，其目的在于提供這樣的磁頭裝置的調(diào)整方法和磁頭裝置的調(diào)整裝置，即尤其在按數(shù)nm的小上浮量上浮的磁頭中，對決定上浮量的主要原因進行分析，根據(jù)該分析采用不同于過去的調(diào)整方法。
本發(fā)明是一種磁頭裝置的調(diào)整方法，該磁頭裝置具有荷重梁，具有預(yù)定的彎曲彈性系數(shù)；彈性構(gòu)件，由固定在上述荷重梁的前部的板簧材料形成；以及固定在上述彈性構(gòu)件上的滑動器，在上述滑動器上安裝有記錄構(gòu)件和再生構(gòu)件中的至少一個，其特征在于，以上述荷重梁的縱長方向為縱向，以荷重梁的寬度方向為橫向，在上述縱向上，以設(shè)置了上述滑動器的一側(cè)為前部側(cè)，以荷重梁的支承側(cè)為基部側(cè)時，上述荷重梁具有可彎曲變形的彈性變形部；以及高剛性部，位于比該彈性變形部更靠近前部側(cè)的位置，剛性比上述彈性變形部高；上述彈性構(gòu)件具有在上述荷重梁的上述高剛性部固定的固定片、以及從上述固定片彎回而其自由端朝向上述基部側(cè)的支承片，上述支承片能夠以從上述荷重梁突出的樞軸為支點進行變形，當從上述橫向來觀看外力未作用于上述滑動器上的狀態(tài)時，在上述荷重梁和上述支承片之間，設(shè)定有朝向上述基部側(cè)張開的靜態(tài)姿勢角θ，以上述荷重梁的上述高剛性部為基準，調(diào)整上述靜態(tài)姿勢角θ，使得上述靜態(tài)姿勢角θ相對于上述高剛性部形成預(yù)定的張開角度。
本發(fā)明是對間距方向上的彈性構(gòu)件的支承片和荷重梁之間的靜態(tài)姿勢角θ進行調(diào)整的。
但是，從下述實驗結(jié)果中可以看出，若把彈簧壓劃分成彈性構(gòu)件的彈簧壓成分(以下有時稱為“彈性構(gòu)件壓”)和荷重梁的彈簧壓成分(以下有時稱為“負荷壓”)，則在上浮量為數(shù)nm的磁頭中，上述彈性構(gòu)件的彈簧壓成分是支配性的。因此，彈性構(gòu)件的彈簧壓的調(diào)整是非常重要的。
過去，未考慮上述彈性構(gòu)件的彈簧壓，對負荷壓很重視，負荷壓的調(diào)整被優(yōu)化的荷重梁的支承部作為基準，對上述負荷壓進行調(diào)整。并且，上述彈性構(gòu)件的靜態(tài)姿勢角θ的調(diào)整，以上述荷重梁的支承部為基準進行。但是，這并非考慮了上述彈性構(gòu)件的彈簧壓，而只是進行了調(diào)整，使得無論在哪種產(chǎn)品中，從上述荷重梁的支承部來看，上述彈性構(gòu)件的靜態(tài)姿勢角θ也都在某預(yù)定范圍內(nèi)的角度。
但是，在以荷重梁的支承部為基準，對上述靜態(tài)姿勢角θ進行了調(diào)整的情況下，對上浮來說作用最大的各種磁頭的彈性構(gòu)件壓不能適當進行調(diào)整。若以上述支承部為基準，則從上述荷重梁的支承部到上述荷重梁的高剛性部等的各種應(yīng)力參數(shù)會累計起來，所以必須考慮這種應(yīng)力參數(shù)，對上述靜態(tài)姿勢角θ進行調(diào)整，但是，實際上考慮所有的上述應(yīng)力參數(shù)，對上述靜態(tài)姿勢角θ進行調(diào)整是非常煩雜的，幾乎不可能。
這樣，用過去的方法，不能夠適當?shù)卣{(diào)整彈性構(gòu)件壓，所以不能夠獲得預(yù)定的上浮量，上浮量容易產(chǎn)生誤差。
并且，在考慮了彈性構(gòu)件壓的情況下，例如必須利用支點的突出尺寸來改變靜態(tài)姿勢角θ。但用過去的方法時，未考慮這種因素，而只是以荷重梁的支承部為基準來對上述靜態(tài)姿勢角θ進行調(diào)整。
施加上述彈性構(gòu)件壓的是上述荷重梁的前部，所以在本發(fā)明中，對上述彈性構(gòu)件壓，在更靠近荷重梁的前部附近，以上浮時不產(chǎn)生彈性變形的上述荷重梁的高剛性部為基準進行調(diào)整(即靜態(tài)姿勢角θ的調(diào)整)，所以，不考慮上述各種應(yīng)力參數(shù)，即可適當?shù)卣{(diào)整彈性構(gòu)件的彈簧壓，因此，在數(shù)nm的小上浮的磁頭中，能夠適當調(diào)整彈性構(gòu)件壓，于是能夠減小在磁頭上浮狀態(tài)下的上浮量誤差。
在本發(fā)明中，希望測量出上述樞軸從上述荷重梁上突出來的尺寸，對上述靜態(tài)姿勢角θ進行調(diào)整時，根據(jù)上述突出尺寸來更改上述張開角度。
并且，在本發(fā)明中，希望上述磁頭裝置的特性是，在(1)準備相同的產(chǎn)品且使上述靜態(tài)姿勢角θ變化了的多個磁頭裝置，對各個上述磁頭裝置，分別測量上述靜態(tài)姿勢角θ；(2)對于上述(1)的測量中所使用的各個磁頭裝置，假定對位于荷重梁的基部側(cè)的支承部加以固定、且上述滑動器實際面對盤，在使上述滑動器的對置面與上述盤保持平行或大致平行的狀態(tài)下，使上述對置面按照與上述盤相對置時相同或者大致相同的距離進行位移時，測量該位移所需的荷重，(3)對于和上述(1)和(2)的測量中使用的相同的磁頭，假定各自的磁頭裝置安裝在磁盤裝置內(nèi)，對各個磁頭裝置，分別測量使滑動器面對盤、并使該盤旋轉(zhuǎn)時的滑動器離開上述盤表面的上浮量時，上述(1)中測量的靜態(tài)姿勢角θ的誤差所對應(yīng)的上述(3)中測量的上浮量的變動特性(A)，與上述(2)中測量的荷重誤差所對應(yīng)的上述(3)中測量的上浮量的變動特性(B)同類。
并且，希望上述變動特性(A)是把對各個磁頭裝置測量出的上浮量區(qū)分成多個范圍，在求出了各個區(qū)分中的靜態(tài)姿勢角θ的平均值和各個區(qū)分內(nèi)的上浮量的平均值時的、與上述靜態(tài)姿勢角θ的平均值的變化對應(yīng)的上述上浮量的平均值的特性，上述變動特性(B)是把對各個磁頭裝置測量出的上浮量區(qū)分成多個范圍，在求出了各個區(qū)分中的上述荷重的平均值和各個區(qū)分內(nèi)的上浮量的平均值時的、與上述荷重的平均值的變化對應(yīng)的上述上浮量的平均值的特性。
再者，希望，在上述變動特性(A)中，隨著上述靜態(tài)姿勢角θ的平均值的增大，上述上浮量的平均值大致按一次函數(shù)減小，在上述變動特性(B)中，隨著上述荷重的平均值的增大，上述上浮量的平均值大致按一次函數(shù)減小。
并且，在本發(fā)明中，希望對上述靜態(tài)姿勢角θ進行調(diào)整，以上述荷重梁的上述高剛性部為基準，調(diào)整上述靜態(tài)姿勢角θ，使得上述靜態(tài)姿勢角θ相對于上述高剛性部形成預(yù)定的張開角度，然后對上述荷重梁的上述彈性變形部的彎曲量進行調(diào)整。
或者，對上述荷重梁的上述彈性變形部的彎曲量進行調(diào)整，然后，以上述荷重梁的上述高剛性部為基準，調(diào)整上述靜態(tài)姿勢角θ，使得上述靜態(tài)姿勢角θ相對于上述高剛性部形成預(yù)定的張開角度。
并且，本發(fā)明的一種磁頭裝置的調(diào)整方法，該磁頭裝置具有荷重梁，具有預(yù)定的彎曲彈性系數(shù)；彈性構(gòu)件，由固定在上述荷重梁的前部的板簧材料形成；以及固定在上述彈性構(gòu)件上的滑動器，在上述滑動器上安裝有記錄構(gòu)件和再生構(gòu)件中的至少一個，其特征在于，以上述荷重梁的縱長方向為縱向，以荷重梁的寬度方向為橫向，在上述縱向上，以設(shè)置了上述滑動器的一側(cè)為前部側(cè)，以荷重梁的支承側(cè)為基部側(cè)時，上述荷重梁具有可彎曲變形的彈性變形部；以及高剛性部，位于比該彈性變形部更靠近前部側(cè)的位置，剛性比上述彈性變形部高；上述彈性構(gòu)件具有在上述荷重梁的上述高剛性部固定的固定片、以及從上述固定片彎回而其自由端朝向上述基部側(cè)的支承片，上述支承片能夠以從上述荷重梁突出的樞軸為支點進行變形，當從上述橫向來觀看外力未作用于上述滑動器上的狀態(tài)時，在上述荷重梁和上述支承片之間，設(shè)定有朝向上述基部側(cè)張開的靜態(tài)姿勢角θ，該調(diào)整裝置具有測量裝置，取得對上述靜態(tài)姿勢角θ的測量值；存儲裝置，存儲上述靜態(tài)姿勢角θ的適當值；運算裝置，根據(jù)上述測量值和上述適當值之差，求出上述彈性構(gòu)件的上述支承片的彎曲校正量；以及校正裝置，根據(jù)上述校正量，對上述支承片的彎曲量進行校正。
本發(fā)明，能夠以荷重梁的高剛性部為基準來調(diào)整上述靜態(tài)姿勢角θ，能夠獲得上浮量誤差小的磁頭裝置。
并且，本發(fā)明希望具有突出量測量裝置，用于測量上述樞軸從上述荷重梁突出的突出量，在上述存儲裝置中存儲了與上述突出量相對應(yīng)的上述彎曲適當值，上述運算裝置根據(jù)上述突出量測量裝置測量出的樞軸的突出量，來求出上述彎曲校正量。
發(fā)明效果本發(fā)明找出了彈性構(gòu)件壓是影響上浮量特性的主要原因以上述荷重梁的高剛性部為基準來進行，靜態(tài)姿勢角θ的調(diào)整，因此，不考慮各種應(yīng)力參數(shù)，即可適當調(diào)整彈性構(gòu)件的彈簧壓，這樣，在數(shù)nm的小上浮量的磁頭中，能夠減小在磁頭上浮狀態(tài)下的上浮量誤差。


圖1是本發(fā)明的磁頭裝置的局部斜視圖。
圖2是對圖1所示的磁頭裝置的前部附近進行放大的局部放大側(cè)面圖(上浮狀態(tài))。
圖3是說明作用于上浮狀態(tài)的磁頭裝置的力的說明圖。
圖4是說明本發(fā)明的磁頭裝置的調(diào)整方法的說明圖(磁頭裝置的側(cè)面圖和調(diào)整裝置的框圖)。
圖5是說明圖4之后進行的磁頭裝置的調(diào)整方法的說明圖(磁頭裝置的側(cè)面圖和調(diào)整裝置的框圖)。
圖6是放大上述磁頭裝置的前部附近的局部放大側(cè)面圖。
圖7是說明圖5之后進行的磁頭裝置的調(diào)整方法的說明圖(磁頭裝置的側(cè)面圖)。
圖8是說明利用與圖4～圖7不同的方法進行的磁頭裝置的調(diào)整方法的說明圖(磁頭裝置的側(cè)面圖)。
圖9是說明圖8之后進行的磁頭裝置的調(diào)整方法的說明圖(磁頭裝置的側(cè)面圖和調(diào)整裝置的框圖)。
圖10是說明圖9之后進行的磁頭裝置的調(diào)整方法的說明圖(磁頭裝置的側(cè)面圖和調(diào)整裝置的框圖)。
圖11的曲線圖表示準備同樣的產(chǎn)品且靜態(tài)姿勢角θ不同的多個磁頭裝置、對各個磁頭裝置利用圖19中表示的方法來測量荷重、并測量了實際在盤上上浮時的上浮量時的、上述荷重和上浮量的關(guān)系。
圖12的曲線圖表示準備同樣的產(chǎn)品且靜態(tài)姿勢角θ不同的多個磁頭裝置、對各個磁頭裝置利用在圖20中表示的方法來測量靜態(tài)姿勢角θ、并測量了實際在盤上浮起時的上浮量時的、上述靜態(tài)姿勢角θ和上浮量的關(guān)系。
圖13的曲線圖表示根據(jù)圖11所示的實驗結(jié)果，按預(yù)定條件對荷重和上浮量進行平均值化時的、上述荷重(平均值)和上浮量(平均值)的關(guān)系。
圖14的曲線圖表示根據(jù)圖12所示的實驗結(jié)果，按預(yù)定條件對靜態(tài)姿勢角θ和上浮量進行平均值化時的、上述靜態(tài)姿勢角θ(平均值)和上浮量(平均值)的關(guān)系。
圖15是表示根據(jù)圖11和圖16所示的實驗結(jié)果計算出的彈性構(gòu)件壓和上浮量的關(guān)系的曲線圖。
圖16是表示根據(jù)圖11所示的實驗結(jié)果測量的負荷壓和上浮量的關(guān)系的曲線圖。
圖17的曲線圖表示根據(jù)圖15所示的實驗結(jié)果，按預(yù)定條件對彈性構(gòu)件壓和上浮量進行平均值化時的、上述彈性構(gòu)件壓(平均值)和上浮量(平均值)的關(guān)系。
圖18的曲線圖表示根據(jù)圖16所示的實驗結(jié)果，按預(yù)定條件對負荷壓和上浮量進行平均值化時的、上述負荷壓(平均值)和上浮量(平均值)的關(guān)系。
圖19是說明對荷重進行測量用的測量方法的說明圖(磁頭裝置的局部側(cè)面圖)。
圖20是說明對靜態(tài)姿勢角θ進行測量用的測量方法的說明圖(磁頭裝置的局部側(cè)面圖)。
具體實施例方式
圖1是表示本發(fā)明的磁頭裝置的整體結(jié)構(gòu)的局部斜視圖，圖2是對上浮于盤之上的狀態(tài)下的上述磁頭裝置的僅前端附近進行放大的上述磁頭裝置的局部放大側(cè)面圖。
如圖1所示，上述磁頭裝置20具有滑動器21和支承上述滑動器21的支承構(gòu)件22。
上述支承構(gòu)件22具有荷重梁23，由具有預(yù)定的彎曲彈性系數(shù)的不銹鋼等板簧材料構(gòu)成；以及彈性構(gòu)件24，由固定在其前部的薄不銹鋼等板簧材料構(gòu)成。
把上述荷重梁23的縱長方向(圖示Y方向)作為縱向，把上述荷重梁23的寬度方向(圖示X方向)作為橫向；在上述縱向上，把設(shè)置了上述滑動器21的一側(cè)作為前部側(cè)A；把上述荷重梁23的支承側(cè)作為基部側(cè)B時，上述荷重梁23，從上述基部側(cè)B面向上述前部側(cè)A，具有支承部23c、可彎曲變形的彈性變形部23b、以及剛性比上述彈性變形部23b高的高剛性部23d。
如圖1所示，在上述高剛性部23d中，在上述荷重梁23的兩側(cè)，形成折彎部23a、23a，這樣具有比上述彈性變形部23b高的剛性。
上述荷重梁23的支承部23c安裝在預(yù)定的磁盤裝置一側(cè)的安裝面上，由此，上述磁頭裝置20安裝在上述磁盤裝置內(nèi)。
上述彈性構(gòu)件24具有固定片24b，固定在上述荷重梁23的上述高剛性部23d；以及支承片(舌片)24a，從上述固定片24b折回，其自由端朝向上述基部側(cè)B。
如圖2所示，樞軸26從上述荷重梁23向上述支承片24a方向突出，上述支承片24a能夠以上述樞軸26為支點進行變形。
在上述彈性構(gòu)件24的支承片24a的下表面上安裝有滑動器21。上述滑動器21例如由氧化鋁碳化鈦(Al2O3-TiC)等陶瓷材料形成。
如圖2所示，在上述滑動器21的從動(トレ一リング)側(cè)內(nèi)，例如設(shè)有薄膜元件25，它具有利用作為再生部分的磁阻效應(yīng)的薄膜再生元件和/或作為記錄部分的電感型薄膜記錄元件。
圖1和圖2所示的磁頭裝置20，例如用于CSS(接觸·起·停)方式的硬磁盤裝置。在CSS方式中，最初，上述滑動器21借助于上述支承構(gòu)件22以微小的彈性力作用于盤D的記錄面。也就是說，在起動時，滑動器21與盤D相接觸，在上述盤D起動的同時，因盤D表面上產(chǎn)生的空氣流對滑動器21作用上浮作用力，上述滑動器21先行(リ一デイング)側(cè)比從動側(cè)更高地從盤D表面上浮，并且上述從動側(cè)僅從盤D上浮一點點形成傾斜姿勢，對盤D表面進行掃描(圖2)。
如圖3所示，在上述滑動器21的上浮姿勢中，上述滑動器21的盤對置面21a的凹凸形狀所引起的正壓、負壓、從上述荷重梁23來的彈簧壓(負荷壓)以及從彈性構(gòu)件24來的彈簧壓(彈性構(gòu)件壓)作用于上述滑動器21上，如圖3所示，上述滑動器21的從動側(cè)保持比先行側(cè)上浮量小的上浮姿勢。并且，圖1～圖3所示的磁頭的上浮量保持數(shù)nm。
過去認為，上述彈性構(gòu)件壓對于上述滑動器21的上浮姿勢和上浮量沒有多大作用，故沒有考慮。也就是說，過去，對圖3所示的正壓、負壓和負荷壓的平衡進行控制，對滑動器21的上浮姿勢和上浮量進行調(diào)整。但這次，通過本發(fā)明人的實驗，已發(fā)現(xiàn)在上浮量約為數(shù)nm的小上浮的磁頭裝置中，上述彈性構(gòu)件壓對上浮姿勢和上浮量非常重要，本發(fā)明對上述彈性構(gòu)件壓的調(diào)整進行適當化，使滑動器21的上浮姿勢和上浮量的誤差減小。
以下說明本發(fā)明的特征部分。圖4～圖7表示本發(fā)明的磁頭裝置的調(diào)整方法的各個工序圖、以及調(diào)整裝置的概要。
本發(fā)明的磁頭裝置的調(diào)整方法，首先如圖4所示，在按預(yù)定對上述荷重梁23的彈性變形部23b進行彎曲的工序之前，利用角度測量用相機等測量裝置30，拍攝上述荷重梁23的高剛性部23d下表面的預(yù)定測量點的圖像，利用圖像處理部31來分析該圖像，并將其分析結(jié)果(A)發(fā)送到CPU32。
然后，使上述測量裝置30移動到位于上述樞軸26的下表面的彈性構(gòu)件24的支承片24a的下表面，利用上述測量裝置30來拍攝上述支承片24a的下表面的預(yù)定測量點的圖像，利用圖像處理部31來分析該圖像，并將其分析結(jié)果(B)發(fā)送到CPU32。
利用上述CPU32，根據(jù)上述分析結(jié)果(A)、(B)，計算出上述彈性構(gòu)件24的支承片24a在以上述荷重梁23的高剛性部23d為基準時傾斜什么程度，并求出上述荷重梁23的高剛性部23d和上述支承片24a之間所設(shè)定的靜態(tài)姿勢角θ(測量值)。
在圖4所示的ROM數(shù)據(jù)部33中存儲了上述靜態(tài)姿勢角θ的適當值。上述適當值如圖6所示，存儲了與上述樞軸26從上述荷重梁23的突出量H2對應(yīng)的上述靜態(tài)姿勢角θ的適當值。
雖然圖4中未示出，但也可以設(shè)置突出量測量裝置，用于測量上述樞軸26從荷重梁23的突出量H2。并且，把從突出量測量裝置向上述CPU32發(fā)送突出量測量值，從上述ROM數(shù)據(jù)部33向上述CPU32發(fā)送與上述突出量相符合的靜態(tài)姿勢角θ。
上述CPU32具有運算裝置，用于根據(jù)由上述測量裝置30求得的靜態(tài)姿勢角θ(測量值)、以及與存儲在上述ROM數(shù)據(jù)部33中的上述樞軸26的突出量所對應(yīng)的靜態(tài)姿勢角θ(適當值)之差，求出將上述彈性構(gòu)件24的支承片24a從圖4的狀態(tài)彎曲到什么程度。
如圖5所示，由上述CPU32計算出的支承片24a的彎曲校正量信號被發(fā)送到校正裝置34，由驅(qū)動器35使校正部36動作，根據(jù)上述彎曲校正量來校正上述彈性構(gòu)件24的支承片24a的彎曲量。
上述校正部36對上述支承片24a的例如自由端側(cè)進行夾持，以機械方式校正彎曲量?；蛘撸鲜鲂Ｕ?6是激光部，也可以用激光照射來校正上述支承片24a的彎曲量。
在上述彎曲量被校正后，利用上述測量裝置30來測量上述支承片24a的靜態(tài)姿勢角θ，用CPU32來判斷上述靜態(tài)姿勢角θ是否為適當值，若靜態(tài)姿勢角θ仍然不是適當值，則再次用CPU32計算彎曲校正量，用上述校正裝置34進行校正，使上述支承片24a達到預(yù)定的靜態(tài)姿勢角θ。
而且，如圖5所示，當利用上述校正裝置34來校正上述彈性構(gòu)件24的支承片24a的彎曲量時，也可以利用例如從上下對上述荷重梁23的高剛性部23d進行夾持的夾持裝置37，固定上述高剛性部33d。
然后，如圖7所示，將以上述荷重梁23的支承部23c為基準對荷重梁23的彈性變形部23b的彎曲量進行調(diào)整的、上述荷重梁23的支承部23c，用固定裝置40進行固定。在此狀態(tài)下，利用夾持裝置38來夾持上述彈性變形部23b的上下，并將上述彈性變形部23b按預(yù)定量向下彎曲。該彎曲量主要根據(jù)與負荷壓的關(guān)系求出。根據(jù)圖13所示的上浮平衡，實際使磁頭裝置上浮于盤D之上時，為了獲得某一預(yù)定的上浮量，預(yù)先預(yù)定需要多大的負荷壓，對上述彎曲量進行調(diào)整，使負荷壓在預(yù)定范圍內(nèi)。但是，本發(fā)明中已知上述負荷壓對上浮量沒有多大影響，所以上述負荷壓的調(diào)整與過去相比并不重要。圖7工序中的上述彈性變形部23b的彎曲量的調(diào)整，和過去相比也可以放寬要求。
在圖7工序后，在上述彈性構(gòu)件24的支承片24a的下表面上，安裝了滑動器21。
而且，也可以是上述滑動器21在圖4的工序時已安裝在上述支承片24a的下表面上。
圖8～圖10是采用與圖4～圖7不同的方法的調(diào)整方法。
在圖8工序中，和圖7工序相同，首先，將以上述荷重梁23的支承部23c為基準，對荷重梁23的彈性變形部23b的彎曲量進行調(diào)整的、上述荷重梁23的支承部23c，用固定裝置40進行固定。在此狀態(tài)下，利用夾持裝置38來夾持上述彈性變形部23b的上下，使上述彈性變形部23b按預(yù)定量向下方彎曲。
然后，在圖9工序中，與圖4工序一樣，利用角度測量用相機等測量裝置30來拍攝上述荷重梁23的高剛性部23d的下表面的預(yù)定測量點的圖像，用圖像處理部31來分析該圖像，并將其分析結(jié)果(C)發(fā)送到CPU32。再者，使上述測量裝置30移動到位于上述樞軸26的下表面上的彈性構(gòu)件24的支承片24a的下表面，利用測量裝置30來拍攝上述支承片24a的下表面的預(yù)定測量點的圖像，用圖像處理部31來分析該圖像，并將其分析結(jié)果(D)發(fā)送到CPU32。
然后，由上述CPU32根據(jù)上述分析結(jié)果(C)、(D)，計算出上述彈性構(gòu)件24的支承片24a在以上述荷重梁23的高剛性部23d為基準時傾斜什么程度，并求出在上述荷重梁23的高剛性部23d和上述支承片24a之間所設(shè)定的靜態(tài)姿勢角θ(測量值)。
在圖9所示的ROM部33中存儲了上述靜態(tài)姿勢角θ的適當值。對上述適當值，存儲了與圖6所示的上述樞軸26從上述荷重梁23的突出量H2所對應(yīng)的適當值。
利用上述CPU32，根據(jù)由上述測量裝置30所取得的靜態(tài)姿勢角θ(測量值)、和與存儲在上述ROM數(shù)據(jù)部33內(nèi)的上述樞軸26的突出量所對應(yīng)的靜態(tài)姿勢角θ(適當值)之差，計算出上述彈性構(gòu)件24的支承片24a從圖8的狀態(tài)彎曲什么程度。
然后，如圖10所示，由上述CPU32計算出的支承片24a的彎曲校正量信號被發(fā)送到校正裝置34，利用驅(qū)動器35來使校正部36動作，根據(jù)上述彎曲校正量來校正上述彈性構(gòu)件24的支承片24a的彎曲量。
在上述彎曲量被校正后，利用上述測量裝置30來測量上述支承片24a和荷重梁23的高剛性部23d之間的靜態(tài)姿勢角θ，用CPU32來判斷上述靜態(tài)姿勢角θ是否為適當值，若仍不是適當值，則再次計算彎曲校正量，用上述校正裝置34進行校正，直到使上述支承片24a達到預(yù)定的靜態(tài)姿勢角θ。
在圖4和圖9中使相同的測量裝置30移動，取得上述荷重梁23的高剛性部23d下表面的測量點的圖像、以及上述彈性構(gòu)件24的支承片24a下表面的測量點的圖像，但也可以分別準備上述測量裝置30，利用各自的測量裝置30來分別拍攝上述荷重梁23的高剛性部23d下表面的測量點的圖像、以及上述彈性構(gòu)件24的支承片24a的下表面的測量點的圖像。
而且，圖4～圖7的調(diào)整方法，與圖8～圖10的調(diào)整方法相比，在利用測量裝置30來測量上述荷重梁23的高剛性部23d的測量點的傾斜度時，能夠使上述測量裝置30在大致垂直的方向上面對測量點面，所以，利用CPU32以上述荷重梁23的高剛性部23d為基準，容易計算出上述彈性構(gòu)件24的支承部24b的靜態(tài)姿勢角θ傾斜什么程度，也能夠減小誤差。
本發(fā)明中，在從橫向觀看外力未作用到滑動器21上的狀態(tài)時，在上述荷重梁23和上述彈性構(gòu)件24的支承片24a之間，設(shè)定了面向上述荷重梁23的支承側(cè)(基部側(cè))開口的靜態(tài)姿勢角θ。以上述荷重梁23的上述高剛性部23d為基準，對上述靜態(tài)姿勢角θ進行調(diào)整，使得上述靜態(tài)姿勢角θ相對于上述高剛性部23d形成預(yù)定的張開角度。
如本發(fā)明那樣，在數(shù)nm的小上浮量的磁頭裝置中，從下述實驗結(jié)果中發(fā)現(xiàn)為減小上浮量誤差，調(diào)整彈性構(gòu)件壓比調(diào)整負荷壓更重要。
過去，根據(jù)負荷壓重要的觀點，以上述荷重梁23的支承部23c為基準，對上述負荷壓進行調(diào)整，并以上述支承部23c為基準，對靜態(tài)姿勢角θ進行了調(diào)整。
但是，在以上述支承部23c為基準的情況下，從上述荷重梁23的支承部23c到上述荷重梁23的高剛性部23d之間等所產(chǎn)生的各種應(yīng)力參數(shù)被進行累計，所以考慮這種應(yīng)力參數(shù)來調(diào)整上述靜態(tài)姿勢角θ是幾乎不可能的。
因此，本發(fā)明中，從上述支承部23c起對進行上述靜態(tài)姿勢角θ調(diào)整的基準加以更改，尤其通過以不必考慮上述應(yīng)力參數(shù)的位置即荷重梁的前部附近的上述荷重梁23的高剛性部23d作為基準進行調(diào)整，在數(shù)nm的小上浮量的磁頭中，和過去一樣，不考慮在以荷重梁23的支承部23c為基準時產(chǎn)生的各種應(yīng)力參數(shù)，即可適當調(diào)整彈性構(gòu)件的彈簧壓，因此，能夠減小磁頭上浮狀態(tài)下的上浮姿勢中產(chǎn)生的誤差，能夠減小上浮量的誤差。
為獲得上述磁頭裝置特性，若是能獲得以下說明的特性的磁頭裝置，則利用上述本發(fā)明的調(diào)整方法是有效的手段。
磁頭裝置的特性評價按以下方法進行。
(1)準備相同的產(chǎn)品且使上述靜態(tài)姿勢角θ變化了的多個磁頭裝置，對各個上述磁頭裝置，分別測量上述靜態(tài)姿勢角θ。
(2)對于上述(1)的測量中所使用的各個磁頭裝置，假定對位于荷重梁23的基部側(cè)的支承部23c加以固定、且上述滑動器21實際面對盤D，在使上述滑動器21的對置面與上述盤D保持平行或大致平行的狀態(tài)下，使上述對置面按照與上述盤D相對置時相同或者大致相同的距離進行位移時，測量該位移所需的荷重。
(3)對于和上述(1)和(2)的測量中使用的相同的磁頭裝置，假定各磁頭裝置安裝在磁盤裝置內(nèi)，對各個磁頭裝置，分別測量使滑動器21面對盤D、且使該盤D旋轉(zhuǎn)時的滑動器21離開上述盤表面的上浮量。
(4)判斷出與上述(1)中測量的靜態(tài)姿勢角θ的誤差所對應(yīng)的上述(3)中測量的上浮量的變動特性(A)和與上述(2)中測量的荷重誤差所對應(yīng)的上述(3)中測量的上浮量的變動特性(B)是否是同類。
并且，若上述變動特性(A)和變動特性(B)為同類，則利用圖4～圖10中說明的調(diào)整方法，以上述荷重梁23的高剛性部23d為基準，對上述彈性構(gòu)件24的支承片24a的靜態(tài)姿勢角θ進行調(diào)整。
在此，對上述(4)中所說的變動特性(A)和變動特性(B)是否是同類進行判斷的具體方法如下。
也就是說，上述變動特性(A)是把對各個磁頭裝置測量出的上浮量區(qū)分成多個范圍，在求出了各個區(qū)分中的靜態(tài)姿勢角θ的平均值和各個區(qū)分內(nèi)的上浮量的平均值時的、與上述靜態(tài)姿勢角θ的平均值的變化對應(yīng)的上述上浮量的平均值的特性。上述變動特性(B)是把對各個磁頭裝置測量出的上浮量區(qū)分成多個范圍，在求出了各個區(qū)分中的荷重的平均值和各個區(qū)分內(nèi)的上浮量的平均值時的、與上述荷重的平均值的變化對應(yīng)的上述上浮量的平均值的特性。例如，在上述變動特性(A)中，隨著上述靜態(tài)姿勢角θ的平均值的增大，上述上浮量的平均值大致上按一次函數(shù)減小。另一方面，在上述變動特性(B)中，若隨著上述荷重的平均值的增大，上述上浮量的平均值大致上按一次函數(shù)減小，則可判斷為變動特性(A)和變動特性(B)同類。
以上說明的磁頭裝置的特性評價的判斷，根據(jù)以下說明的實驗結(jié)果來進行。
在實驗中，首先準備多個相同產(chǎn)品的磁頭裝置。各個磁頭裝置，以荷重梁的高剛性部為基準時的上述高剛性部和上述彈性構(gòu)件的支承片之間的角度即靜態(tài)姿勢角θ各不相同。而且，所謂靜態(tài)姿勢角θ是指滑動器在盤D上沒有上浮，沒有外力作用的狀態(tài)下的姿勢角度。
在實驗中，如圖19所示，假定在各個磁頭裝置中，將位于荷重梁的基部側(cè)的支承部，用固定構(gòu)件進行固定，上述滑動器實際上是面對盤，在上述滑動器的對置面與上述盤保持平行或大致平行的狀態(tài)下，用調(diào)整構(gòu)件使其向上方升起，位移的距離等于或大致等于使上述對置面與上述盤相對置。從這時的上述支承部到樞軸的距離為H。求出在各個磁頭裝置中，上述距離變成H所需的荷重。
并且，如圖20所示，在各個磁頭裝置中，將位于荷重梁的基部側(cè)的支承部用固定構(gòu)件進行固定，為使從上述支承部到樞軸的距離成為H，把上述荷重梁的高剛性部向箭頭方向往上方抬起，求出在這時的上述荷重梁的高剛性部和上述彈性構(gòu)件的支承片之間所設(shè)定的靜態(tài)姿勢角θ。
然后，假定各個磁頭裝置安裝在磁盤裝置內(nèi)，使滑動器與盤D相對置，對各個磁頭裝置分別測量出使上述盤D旋轉(zhuǎn)時的、上述滑動器從上述盤表面的上浮量。
圖11是表示荷重和上浮量的關(guān)系的曲線；圖12是表示靜態(tài)姿勢角θ和上浮量的關(guān)系的曲線。如圖11和12所示，與荷重相對應(yīng)的上浮量、以及與靜態(tài)姿勢角θ相對應(yīng)的上浮量出現(xiàn)誤差。
對于這種上浮量的誤差與荷重和靜態(tài)姿勢角θ具有什么樣的關(guān)連性進行了調(diào)查，利用下述的調(diào)查方法推導(dǎo)出了變動特性。
把圖11所示的上浮量區(qū)分為每1nm為一個范圍(即區(qū)分為4～5nm、5～6nm、6～7nm、7～8nm、8～9nm、9～10nm)，求出各個區(qū)內(nèi)的荷重的平均值、以及各個區(qū)內(nèi)的上浮量的平均值，圖13中用曲線表示出與上述荷重平均值的變化相對應(yīng)的上述上浮量的平均值的變化。(在本發(fā)明中把該變動特性稱為變動特性(B)。)如圖13所示，可以看出，隨著荷重的平均值的增大，上述上浮量的平均值大致按一次函數(shù)減少。
其次，把圖12所示的上浮量區(qū)分為每1nm為一個范圍(即區(qū)分為4～5nm、5～6nm、6～7nm、7～8nm、8～9nm、9～10nm)，求出各個區(qū)內(nèi)的靜態(tài)姿勢角θ的平均值、以及各個區(qū)內(nèi)的上浮量的平均值，圖14中用曲線表示出與上述靜態(tài)姿勢角θ平均值的變化相對應(yīng)的上述上浮量的平均值的變化。(在本發(fā)明中把該變動特性稱為變動特性(A)。)如圖14所示，可以看出，隨著靜態(tài)姿勢角θ的平均值的增大，上述上浮量的平均值大致按一次函數(shù)減少。
這樣，可以看出，變動特性(A)和變動特性(B)均為相同的特性(即均按一次函數(shù)減少的特性)。
以下利用圖11所示的荷重和上浮量的曲線，調(diào)查在把圖11所示的荷重劃分為從荷重梁來的荷重(負荷壓)和從彈性構(gòu)件來的荷重(彈性構(gòu)件壓)的情況下，各個荷重成分與上浮量的關(guān)系是如何分布的。
在實驗中，從各個磁頭裝置中取出彈性構(gòu)件和滑動器，對荷重梁利用與用圖19說明的相同的方法，測量了各個磁頭裝置的荷重。并且，將前面測量的上浮量和負荷壓的關(guān)系繪成曲線，如圖16所示。
并且，把圖16所示的上浮量區(qū)分為每1nm為一個范圍(即區(qū)分為4～5nm、5～6nm、6～7nm、7～8nm、8～9nm、9～10nm)，求出各個區(qū)內(nèi)的負荷壓的平均值、以及各個區(qū)內(nèi)的上浮量的平均值，圖18中用曲線示出與上述負荷壓平均值的變化相對應(yīng)的上述上浮量的平均值的變化。
如圖18所示，可以看出雖然上浮量(平均值)不同，但負荷壓(平均值)在各個區(qū)內(nèi)幾乎相同。因此，可以認為上述負荷壓對上述上浮量沒有多大影響。
另一方面，根據(jù)圖11中測量的荷重和圖16中測量的負荷壓，可以看出彈性構(gòu)件壓。所以計算出各磁頭裝置的彈性構(gòu)件壓，圖15示出上述彈性構(gòu)件壓和上浮量的關(guān)系。
并且，把圖15所示的上浮量區(qū)分為每1nm為一個范圍(即區(qū)分為4～5nm、5～6nm、6～7nm、7～8nm、8～9nm、9～10nm)，求出各個區(qū)內(nèi)的彈性構(gòu)件壓的平均值、以及各個區(qū)內(nèi)的上浮量的平均值，圖17中用曲線示出與上述彈性構(gòu)件壓平均值的變化相對應(yīng)的上述上浮量的平均值的變化。
如圖17所示，可以看出，若彈性構(gòu)件壓(平均值)增大，則上浮量kk(平均值)慢慢減小的趨勢，該趨勢與圖13和圖14中說明的變動特性相同。所以，可以看出圖13和圖14中說明的一次函數(shù)的變動特性主要取決于彈性構(gòu)件壓的變動，而不是負荷壓的變動。
因此，從上述實驗結(jié)果中可以看出，尤其在上浮量為數(shù)nm的小上浮的磁頭裝置中，影響上浮量的主要因素不是負荷壓，而是彈性構(gòu)件壓。
若表示圖13和圖14所示的變動特性(A)、(B)的磁頭裝置，則如圖15～圖18說明的那樣，影響上浮量的主要因素是彈性構(gòu)件壓，若以上述荷重梁的高剛性部為基準來優(yōu)化上述靜態(tài)姿勢角θ，則能夠抑制上浮量的誤差，并且能夠獲得穩(wěn)定的上浮姿勢，這從圖11～圖18所示的實驗結(jié)果中可以推導(dǎo)出來。
權(quán)利要求
1.一種磁頭裝置的調(diào)整方法，該磁頭裝置具有荷重梁，具有預(yù)定的彎曲彈性系數(shù)；彈性構(gòu)件，由固定在上述荷重梁的前部的板簧材料形成；以及固定在上述彈性構(gòu)件上的滑動器，在上述滑動器上安裝有記錄構(gòu)件和再生構(gòu)件中的至少一個，其特征在于，以上述荷重梁的縱長方向為縱向，以荷重梁的寬度方向為橫向，在上述縱向上，以設(shè)置了上述滑動器的一側(cè)為前部側(cè)，以荷重梁的支承側(cè)為基部側(cè)時，上述荷重梁具有可彎曲變形的彈性變形部；以及高剛性部，位于比該彈性變形部更靠近前部側(cè)的位置，剛性比上述彈性變形部高；上述彈性構(gòu)件具有在上述荷重梁的上述高剛性部固定的固定片、以及從上述固定片彎回而其自由端朝向上述基部側(cè)的支承片，上述支承片能夠以從上述荷重梁突出的樞軸為支點進行變形，當從上述橫向來觀看外力未作用于上述滑動器上的狀態(tài)時，在上述荷重梁和上述支承片之間，設(shè)定有朝向上述基部側(cè)張開的靜態(tài)姿勢角θ，以上述荷重梁的上述高剛性部為基準，調(diào)整上述靜態(tài)姿勢角θ，使得上述靜態(tài)姿勢角θ相對于上述高剛性部形成預(yù)定的張開角度。
2.如權(quán)利要求1所述的磁頭裝置的調(diào)整方法，其特征在于，測量出上述樞軸從上述荷重梁上突出的突出尺寸，對上述靜態(tài)姿勢角θ進行調(diào)整時，根據(jù)上述突出尺寸來更改上述張開角度。
3.如權(quán)利要求1所述的磁頭裝置的調(diào)整方法，其特征在于，上述磁頭裝置的特性是，在(1)準備相同的產(chǎn)品且使上述靜態(tài)姿勢角θ變化了的多個磁頭裝置，對各個上述磁頭裝置，分別測量上述靜態(tài)姿勢角θ；(2)對于上述(1)的測量中所使用的各個磁頭裝置，假定對位于荷重梁的基部側(cè)的支承部加以固定、且上述滑動器實際面對盤，在使上述滑動器的對置面與上述盤保持平行或大致平行的狀態(tài)下，使上述對置面按照與上述盤相對置時相同或者大致相同的距離進行位移時，測量該位移所需的荷重，(3)對于和上述(1)和(2)的測量中使用的相同的磁頭，假定各自的磁頭裝置安裝在磁盤裝置內(nèi)，對各個磁頭裝置，分別測量使滑動器面對盤、并使該盤旋轉(zhuǎn)時的滑動器離開上述盤表面的上浮量時，上述(1)中測量的靜態(tài)姿勢角θ的誤差所對應(yīng)的上述(3)中測量的上浮量的變動特性(A)，與上述(2)中測量的荷重誤差所對應(yīng)的上述(3)中測量的上浮量的變動特性(B)同類。
4.如權(quán)利要求3所述的磁頭裝置的調(diào)整方法，其特征在于，上述變動特性(A)是把對各個磁頭裝置測量出的上浮量區(qū)分成多個范圍，在求出了各個區(qū)分中的靜態(tài)姿勢角θ的平均值和各個區(qū)分內(nèi)的上浮量的平均值時的、與上述靜態(tài)姿勢角θ的平均值的變化對應(yīng)的上述上浮量的平均值的特性，上述變動特性(B)是把對各個磁頭裝置測量出的上浮量區(qū)分成多個范圍，在求出了各個區(qū)分中的上述荷重的平均值和各個區(qū)分內(nèi)的上浮量的平均值時的、與上述荷重的平均值的變化對應(yīng)的上述上浮量的平均值的特性。
5.如權(quán)利要求4所述的磁頭裝置的調(diào)整方法，其特征在于，在上述變動特性(A)中，隨著上述靜態(tài)姿勢角θ的平均值增大，上述上浮量的平均值大致按一次函數(shù)減小，在上述變動特性(B)中，隨著上述荷重的平均值增大，上述上浮量的平均值大致按一次函數(shù)減小。
6.如權(quán)利要求1～5項中的任一項所述的磁頭裝置的調(diào)整方法，其特征在于，以上述荷重梁的上述高剛性部為基準，調(diào)整上述靜態(tài)姿勢角θ，使得上述靜態(tài)姿勢角θ相對于上述高剛性部形成預(yù)定的張開角度，然后對上述荷重梁的上述彈性變形部的彎曲量進行調(diào)整。
7.如權(quán)利要求1～5項中的任一項所述的磁頭裝置的調(diào)整方法，其特征在于，對上述荷重梁的上述彈性變形部的彎曲量進行調(diào)整，然后，以上述荷重梁的上述高剛性部為基準，調(diào)整上述靜態(tài)姿勢角θ，使得上述靜態(tài)姿勢角θ相對于上述高剛性部形成預(yù)定的張開角度。
8.一種磁頭裝置的調(diào)整裝置，該磁頭裝置具有荷重梁，具有預(yù)定的彎曲彈性系數(shù)；彈性構(gòu)件，由固定在上述荷重梁的前部的板簧材料形成；以及固定在上述彈性構(gòu)件上的滑動器，在上述滑動器上安裝有記錄構(gòu)件和再生構(gòu)件中的至少一個，其特征在于，以上述荷重梁的縱長方向為縱向，以荷重梁的寬度方向為橫向，在上述縱向上，以設(shè)置了上述滑動器的一側(cè)為前部側(cè)，以荷重梁的支承側(cè)為基部側(cè)時，上述荷重梁具有可彎曲變形的彈性變形部；以及高剛性部，位于比該彈性變形部更靠近前部側(cè)的位置，剛性比上述彈性變形部高；上述彈性構(gòu)件具有在上述荷重梁的上述高剛性部固定的固定片、以及從上述固定片彎回而其自由端朝向上述基部側(cè)的支承片，上述支承片能夠以從上述荷重梁突出的樞軸為支點進行變形，當從上述橫向來觀看外力未作用于上述滑動器上的狀態(tài)時，在上述荷重梁和上述支承片之間，設(shè)定有朝向上述基部側(cè)張開的靜態(tài)姿勢角θ，該調(diào)整裝置具有測量裝置，取得對上述靜態(tài)姿勢角θ的測量值；存儲裝置，存儲上述靜態(tài)姿勢角θ的適當值；運算裝置，根據(jù)上述測量值和上述適當值之差，求出上述彈性構(gòu)件的上述支承片的彎曲校正量；以及校正裝置，根據(jù)上述校正量，對上述支承片的彎曲量進行校正。
9.如權(quán)利要求8所述的磁頭裝置的調(diào)整裝置，其特征在于，具有突出量測量裝置，用于測量上述樞軸從上述荷重梁突出的突出量，在上述存儲裝置中存儲了與上述突出量相對應(yīng)的上述彎曲適當值，上述運算裝置根據(jù)上述突出量測量裝置測量出的樞軸的突出量，來求出上述彎曲校正量。
全文摘要
本發(fā)明提供這樣的磁頭裝置的調(diào)整方法和磁頭裝置的調(diào)整裝置，即尤其在按照數(shù)nm的小上浮量進行浮動的磁頭中，對決定上浮量的主要原因進行分析，根據(jù)該分析而采用和過去不同的調(diào)整方法。本發(fā)明找出了彈性構(gòu)件壓是影響上浮量特性的主要原因，以上述荷重梁(23)的高剛性部(23d)為基準來進行靜態(tài)姿勢角θ的調(diào)整，因此，不考慮各種應(yīng)力參數(shù)，即可適當調(diào)整彈性構(gòu)件(24)的彈簧壓，這樣，在數(shù)nm的小上浮量的磁頭中，能夠減小在磁頭上浮狀態(tài)下的上浮量誤差。
文檔編號G11B5/56GK1681007SQ200510064009
公開日2005年10月12日 申請日期2005年4月5日 優(yōu)先權(quán)日2004年4月5日
發(fā)明者本西道治 申請人:阿爾卑斯電氣株式會社