專利名稱：制造光學(xué)元件和光學(xué)元件晶片的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及與收納電子元器件的外殼主體相接合的光學(xué)元件、和能成批進(jìn)行多個(gè)該光學(xué)元件的制造、保管、搬送的光學(xué)元件晶片、以及相應(yīng)的制造方法。
背景技術(shù)：
以前，是在將各種電子元器件收納在具有開(kāi)口部的箱狀外殼主體后，通過(guò)將電子器件密封用蓋件(以下，有時(shí)只稱為“蓋件”)與外殼主體的開(kāi)口部側(cè)端部接合，將電子元器件收納在由外殼主體和蓋件構(gòu)成的外殼內(nèi)，進(jìn)行各種電子器件的制造。這種電子器件例如被用作拾光頭用器件等。
近年來(lái)對(duì)于拾光頭用器件，提出了例如在外殼的蓋件處貼附作為光學(xué)薄膜的相位差薄膜的方案，該器件可以用相位差薄膜將激光變換成橢圓偏振光，從而能實(shí)現(xiàn)高精度化(例如參照專利文獻(xiàn)1)。
另外，本發(fā)明專門在專利文獻(xiàn)2中提出能成批進(jìn)行多個(gè)蓋件的制造、保管、搬送的蓋件晶片的方案，該方案適用于由帶有光學(xué)薄膜的蓋件構(gòu)成的光學(xué)器件。以下根據(jù)圖9，對(duì)具有作為光學(xué)元件的光學(xué)薄膜蓋件的蓋件晶片(光學(xué)元件晶片)的已有制造方法中的一例進(jìn)行說(shuō)明。圖9(a)～(c)是表示制造過(guò)程中的光學(xué)元件晶片構(gòu)造的剖面圖。
首先，如圖9(a)所示，準(zhǔn)備作為基體母材的玻璃制蓋件母材110，在其一面上通過(guò)粘接劑層120貼附能得到多個(gè)光學(xué)薄膜的光學(xué)薄膜母材130(工序1)。
另外，準(zhǔn)備由在一表面處形成有粘接劑層150的樹(shù)脂薄膜構(gòu)成的保持件140，將其周邊部通過(guò)粘接劑層150貼附在晶片環(huán)上(圖示省略)(工序2)。然后，如圖9(b)所示，在保持件140上的晶片環(huán)內(nèi)側(cè)區(qū)域通過(guò)粘接劑層150粘貼上用工序1制作出的部件(工序3)。
最后，如圖9(c)所示，用刀片同時(shí)切斷蓋件母材110的光學(xué)薄膜母材130，將蓋件母材110分割成作為基體的多個(gè)蓋件111，同時(shí)將光學(xué)薄膜母材130分割成多個(gè)光學(xué)薄膜131，制造出可成批形成多個(gè)作為帶光學(xué)薄膜蓋件的光學(xué)元件100的光學(xué)元件晶片200(工序4)。
專利文獻(xiàn)1日本特開(kāi)2001-249226號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2日本特開(kāi)2002-270708號(hào)公報(bào)然而，已有的光學(xué)元件或光學(xué)元件晶片有以下那樣的問(wèn)題。
即，在拾光頭用器件等中，透光用的部分雖然只是光學(xué)元件的中心部和其附近部分，但以前由于在作為基體的蓋件的全部表面均貼附成本高的光學(xué)薄膜，有使光學(xué)元件高成本化的問(wèn)題。
并且，需要用針型部件按壓光學(xué)元件的光學(xué)薄膜側(cè)的四角，將其安裝在外殼主體上，但因該按壓力，有時(shí)會(huì)使位于針型部件外側(cè)的光學(xué)薄膜剝離浮起。
在制造光學(xué)元件晶片時(shí)，如工序4說(shuō)明的那樣，必需同時(shí)切斷材料不同的蓋件母材(基體母材)和光學(xué)薄膜母材，但適宜的切斷速度，樹(shù)脂制的光學(xué)薄膜母材的就比玻璃制的蓋件母材的慢。因此，在切斷蓋件母材時(shí)，必需將適合光學(xué)薄膜母材的切斷速度設(shè)定得比較慢，有生產(chǎn)率低下的問(wèn)題。并且，為了不切斷到保持件，而考慮刀片的摩損量并對(duì)深度進(jìn)行計(jì)算機(jī)控制，但因?yàn)橥瑫r(shí)切斷材料不同的蓋件母材和光學(xué)薄膜，所以有因刀片摩損量存在偏差、而不能控制其切斷深度的危險(xiǎn)。
進(jìn)而，在制造光學(xué)元件晶片時(shí)，由于需要對(duì)大面積的蓋件母材和光學(xué)薄膜母材實(shí)施粘貼，有時(shí)在蓋件(基體)和光學(xué)薄膜之間會(huì)存有空氣。在制造電子器件后的熱循環(huán)試驗(yàn)中，介于蓋件和光學(xué)薄膜之間的空氣會(huì)產(chǎn)生膨脹，有使光學(xué)薄膜從蓋件上剝離的危險(xiǎn)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述問(wèn)題而提出的，其目的在于提供一種在實(shí)現(xiàn)低成本低的同時(shí)，在向外殼主體貼附時(shí)能防止光學(xué)薄膜產(chǎn)生部分剝離浮起的光學(xué)元件，和能成批進(jìn)行該光學(xué)元件的制造、保管、搬送的光學(xué)元件晶片及相應(yīng)的制造方法。
本發(fā)明的另一目的在于提供一種光學(xué)元件晶片的制造方法，該方法能縮短基體母材的切斷工序，同時(shí)能穩(wěn)定控制基體母材和光學(xué)薄膜母材的切斷深度，并且能使基體和光學(xué)薄膜均勻貼附。
本發(fā)明人對(duì)解決上述問(wèn)題的方式進(jìn)行了研究，結(jié)果發(fā)明了以下的光學(xué)元件、光學(xué)元件晶片、和相應(yīng)的制造方法。
本發(fā)明的光學(xué)元件的特征是在基體上部分地貼附光學(xué)薄膜，其中上述基體的基體母材被切斷，且該光學(xué)元件包括一比基體面積小的光學(xué)薄膜。
本發(fā)明的光學(xué)元件晶片的特征是具有備基體母材和在該基體母材的一面上貼附的保持件，上述基體母材具有將該基體母材分割而形成的多個(gè)基體，而且各基體上的部分處貼附著光學(xué)薄膜。
本發(fā)明第一光學(xué)元件制造方法的特征是包括將光學(xué)薄膜母材分割成多個(gè)光學(xué)薄膜的工序；除去在上述光學(xué)薄膜母材中未形成上述光學(xué)薄膜的部分的工序；將基體母材分割成多個(gè)基體的工序；通過(guò)貼附各光學(xué)薄膜和各基體形成多個(gè)光學(xué)元件的工序；取出上述光學(xué)元件的工序。
本發(fā)明第二光學(xué)元件制造方法的特征是包括將光學(xué)薄膜母材分割成多個(gè)光學(xué)薄膜的工序，除去在上述光學(xué)薄膜母材中未形成上述光學(xué)薄膜的部分的工序；將上述光學(xué)薄膜貼附在基體母材的工序；將上述基體母材分割成多個(gè)基體以形成多個(gè)光學(xué)元件的工序；取出上述光學(xué)元件的工序。
本發(fā)明第一光學(xué)元件晶片的制造方法的特征是包括將光學(xué)薄膜母材分割成多個(gè)光學(xué)薄膜的工序；除去在上述光薄膜母材中未形成上述光學(xué)薄膜的部分的工序；將基體母材分割成多個(gè)基體的工序；通過(guò)貼附各光學(xué)薄膜和各基體的工序。
并且，作為本發(fā)明第一光學(xué)元件晶片制造方法的一種具體實(shí)施方式
包括將光學(xué)薄膜母材貼附在第一保持件上的工序；將上述光學(xué)薄膜母材分割成多個(gè)光學(xué)薄膜的工序；從上述第一保持件處剝離在上述光學(xué)薄膜母材中沒(méi)有形成上述光學(xué)薄膜的部分的工序；將基體貼附在第二保持件上的工序；將上述基體母材分割成多個(gè)基體的工序；貼附上述第一保持件的各光學(xué)薄膜和上述第二保持件的各基體的工序。
作為本發(fā)明第一光學(xué)元件晶片制造方法的其他具體實(shí)施方式
包括將光學(xué)薄膜母材貼附在第一保持件的工序；將上述光學(xué)薄膜母材分割成多個(gè)光學(xué)薄膜的工序；在上述光學(xué)薄膜母材上與上述第一保持件的相對(duì)側(cè)貼附第二保持件的工序；從上述第二保持件處剝離上述第一保持件、和在上述光學(xué)薄膜母材上沒(méi)有形成上述光學(xué)薄膜的部分的工序；將其體材料母材貼附在第三保持件的工序；將上述基體母材分割成多個(gè)基體的工序；貼附上述第二保持件上的各光學(xué)薄膜和上述第三保持件上的各基體的工序。
本發(fā)明第二光學(xué)元件晶片的制造方法的特征是包括將光學(xué)薄膜母材分割成多個(gè)光學(xué)薄膜的工序；除去在上述光學(xué)薄膜上沒(méi)有形成上述光學(xué)薄膜的部分的工序；將上述光學(xué)薄膜貼附在基體母材的工序；將上述基體母材分割成多個(gè)基體并形成多個(gè)光學(xué)元件的工序。


圖1(a)～(g)是表示本發(fā)明光學(xué)元件的具體構(gòu)成例的示意圖。
圖2是表示具備本發(fā)明光學(xué)元件的拾光頭裝置構(gòu)成一例的示意圖。
圖3是表示具備本發(fā)明光學(xué)元件的拾光頭裝置另一構(gòu)成例的示意圖。
圖4是表示具備本發(fā)明光學(xué)元件的固體攝像裝置構(gòu)成的示意圖。
圖5(a)、(b)是表示作為本發(fā)明實(shí)施例的光學(xué)元件晶片構(gòu)造的示意圖。
圖6(a)～(e)是表示作為本發(fā)明實(shí)施例的光學(xué)元件晶片制造方法的工序圖。
圖7(a)、(b)是表示作為本發(fā)明實(shí)施例的光學(xué)元件晶片制造方法的工序圖。
圖8(a)～(d)是表示作為本發(fā)明實(shí)施例的光學(xué)元件晶片其他制造方法的工序圖。
圖9(a)～(c)是表示已有的光學(xué)元件晶片制造方法的工序圖。
具體實(shí)施例方式
以下，詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明。
(光學(xué)元件)本發(fā)明的光學(xué)元件是在基體上貼附有光學(xué)薄膜的元件，其特征在于僅部分地形成該光學(xué)薄膜。
作為本發(fā)明光學(xué)元件的具體構(gòu)成例，如圖1(a)所示，在平面呈矩形狀的基體31的大致中央部處，貼有比基體31面積小的圓盤狀光學(xué)薄膜51?；w31上的光學(xué)薄膜51的貼附位置不限于基體31的中央部，也可以如圖1(b)所示，在基體31的端部處貼有光學(xué)薄膜51。如圖1(c)所示，還可以形成貼附多個(gè)光學(xué)薄膜51的結(jié)構(gòu)。
作為如圖1(d)和(e)所示其他的構(gòu)成例，可以舉出下述的構(gòu)成在除了基體31的四角以外處均貼附光學(xué)薄膜51，如圖1(f)所示，在除了基體31的一角以外處均貼附光學(xué)薄膜，和如圖1(g)所示，在基體31上貼附帶狀光學(xué)薄膜51。
光學(xué)薄膜51的形狀和大小不限定于圖示的形狀，可適宜設(shè)計(jì)。對(duì)于基體31也不限于矩形狀，可根據(jù)外殼主體開(kāi)口部的形狀適宜設(shè)計(jì)，比如說(shuō)是圓形狀、三角形狀等。
若采用本發(fā)明的光學(xué)元件，由于僅部分地貼附高價(jià)光學(xué)薄膜，所以能實(shí)現(xiàn)低成本化。
并且，本發(fā)明的光學(xué)元件在制造電子元件時(shí)，光學(xué)薄膜不會(huì)形成有用針型部件按壓的部分，不對(duì)光學(xué)薄膜施加按壓力就能安裝在外殼主體上。因此，在向外殼主體上安裝時(shí)，不會(huì)產(chǎn)生光學(xué)薄膜部分剝離浮起的問(wèn)題。在用針型部件按壓四角安裝在外殼主體上的形式中，最好采用如圖1(a)、(d)、(e)所示那樣，在除了基體的四角的區(qū)域上形成光學(xué)薄膜。
這樣的光學(xué)元件，可以是諸如內(nèi)裝于內(nèi)裝激光光源(激光發(fā)光元件)或激光檢測(cè)器(激光受光元件)的激光接收發(fā)射光元件。圖2是表示備有安裝了本發(fā)明光學(xué)元件的激光接收發(fā)射光元件的光盤用拾光頭裝置的構(gòu)成示意圖。該光盤用拾光頭裝置300具備安裝了光學(xué)元件301的激光接收發(fā)射光元件302、象散修正板303、平行光管304、反射鏡305、開(kāi)口限制孔徑306、雙焦點(diǎn)物鏡307。該光盤用拾光頭裝置300將來(lái)自激光接收發(fā)射光元件302的激光L1、L2，通過(guò)象散修正板303、平行光管304、反射鏡305、開(kāi)口限制孔徑306、雙焦點(diǎn)物鏡307、入射到光盤308。與此同時(shí)，使從光盤308來(lái)的反射光以與入射光相同路徑返回，由激光接收發(fā)射光元件302接受。因此，激光接收發(fā)射光元件302以封住外殼主體309的開(kāi)口部的方式，與光學(xué)元件301接合，使該光學(xué)元件301具有作為1/4波長(zhǎng)板的功能。與光學(xué)元件301的接合狀態(tài)并不限定于此?？梢园凑諏⑼鈿ぶ黧w309的內(nèi)部密封成氣密狀態(tài)的方式實(shí)施接合，也可以不密封成氣密狀態(tài)、而是按照在密封后打開(kāi)外殼主體309開(kāi)口部一部分的方式進(jìn)行接合。
光學(xué)元件也可以按照不與外殼主體相接合地裝備在拾光頭裝置中。圖3是表示具備與外殼主體不相接合的光學(xué)元件的拾光頭裝置的示意圖。該拾光頭裝置310的構(gòu)成具備讀出光盤311用的激光光源312、偏振光束分光器313、光學(xué)元件314、物鏡315、成像透鏡316、激光檢測(cè)器317。光學(xué)元件314將從一方來(lái)的入射光從直線偏振光變換成圓偏振光，將從其另一方來(lái)的入射光從圓偏振光變換成直線偏振光，同時(shí)使其方位角旋轉(zhuǎn)90°。
在這樣的拾光頭裝置310中，從激光光源312發(fā)出并通過(guò)偏振光束分離器313的激光通過(guò)光學(xué)元件314時(shí)，從直線偏振光變換成圓偏振光。并且，從光盤311來(lái)的反射光(圓偏振光)再次通過(guò)光學(xué)元件314，從圓偏振光變換成與最初的直線偏振光的方位角旋轉(zhuǎn)90°的直線偏振光。偏振光束分光器313可以使最初的直線偏振光通過(guò)，使方位角偏光90°的直線偏振光反射。采用這種方式，可以將其分離成相對(duì)光盤311的入射光和反射光。
并且，也能將光學(xué)元件作為視頻機(jī)或數(shù)字?jǐn)z像機(jī)等搭載的CCD(ChargeCoupled Devia)或固體攝像裝置的光學(xué)濾光片(例如，低通濾光片、紅外線截止濾光片等)使用。圖4是一種具備光學(xué)元件的固體攝像裝置的概略構(gòu)成圖。該固體攝像裝置320的結(jié)構(gòu)包括在中央處形成受光面321而在兩側(cè)處并排設(shè)有從該受光面321引出的電極焊盤322的固體攝像元件323；前端部與電極焊盤322連接的引線324；以與受光面321對(duì)置狀態(tài)定位固定于固體攝像元件323上的光學(xué)元件325。并且，還具備收容容器326，該收容容器形成為框架狀，以便能以受光面321向外部遠(yuǎn)望的狀態(tài)收容固體攝像元件323，并且可以通過(guò)將其裝在固體攝像元件323和光學(xué)元件325之間的方式，與這些部件的雙方對(duì)置面相接合。作為該固體攝像裝置320的光學(xué)元件325，可使用例如具有紅外截止濾光片、水晶截止濾光片功能的元件。
(光學(xué)元件晶片)下面根據(jù)圖5，說(shuō)明作為本發(fā)明實(shí)施例的光學(xué)元件晶片的構(gòu)造。
圖5(a)是從光學(xué)薄膜側(cè)看本實(shí)施例的光學(xué)元件晶片時(shí)的平面圖，圖5(b)是圖5(a)表示的光學(xué)元件晶片的A-A′線剖面圖。在各圖中，為了在圖面上能分辨出各構(gòu)件或各層，各個(gè)構(gòu)件或各層的縮小比例是不同的。
如圖5所示，本實(shí)施例的光學(xué)元件晶片10將呈環(huán)狀的晶片環(huán)20由玻璃、石英、水晶、硅、陶瓷、樹(shù)脂等組成的圓盤狀基體母材30、和由聚烯烴薄膜等樹(shù)脂薄膜組成，并以保持基體材料母材用的圓盤狀保持件40為主體構(gòu)成。
詳細(xì)地說(shuō)，在保持件40的全部表面形成粘接劑層41，通過(guò)該粘接劑層41將保持件40的周邊部貼附在晶片環(huán)20的內(nèi)側(cè)面。在保持件40上在晶片環(huán)20的內(nèi)側(cè)的區(qū)域上，通過(guò)粘接劑層41貼附著基體材料母材30。
基體母材30被切斷成平面呈格子狀部分，被分割成矩陣狀排列的多個(gè)矩狀基體31?；w材料母材在制造半導(dǎo)體裝置時(shí)，可采用公知切割技術(shù)實(shí)施切斷，鄰接的基體31間的間隙非常細(xì)微?；w母材30中的基體31的排列圖形或各個(gè)基體31的形狀不限定于圖示的形式。也可以形成形狀或大小不同的多種基體31。當(dāng)從光學(xué)元件晶片10處取出基體10時(shí)，如能個(gè)別取出基體31，也不需要沿平面方向、剖面方向兩個(gè)方向，對(duì)相鄰的基體31間進(jìn)行完全的切斷。
在與各基體31的保持件40的相對(duì)側(cè)的面上，在除去基體31的周邊部的區(qū)域上，部分地貼附圓盤狀光學(xué)薄膜51，光學(xué)元件晶片10形成的備有多個(gè)光學(xué)元件60的構(gòu)成。
光學(xué)薄膜51可以為相位差薄膜、偏振光薄膜、紅外(近紅外)截止濾波片等。光學(xué)薄膜51的形狀或大小不限定于圖示的實(shí)例，可適宜設(shè)計(jì)。并且，各基體31和各光學(xué)薄膜51通過(guò)粘接劑層52貼附，該粘接劑層52僅形成在光學(xué)薄膜51的正下面。
在各基體31朝向光學(xué)薄膜51側(cè)的面、或保持件40側(cè)的面上，根據(jù)需要也可以是在與外殼主體接合的接合部分處形成粘接劑層(圖示略)。由于可以采用這樣的構(gòu)成形式，通過(guò)該粘接劑層能使各光學(xué)元件60和外殼主體接合，所以能使電子器件的制造工序簡(jiǎn)略化，這是優(yōu)選的。
并且根據(jù)需要，也可以在光學(xué)元件晶片10上的晶片環(huán)20的表面上，安裝由樹(shù)脂薄膜等組成的保持件(圖示略)，并由保持件40和保持件挾持光學(xué)元件60。由于采用這樣構(gòu)成，能在制造光學(xué)元件晶片10后的保管、搬送時(shí)，防止基體31的破壞，同時(shí)防止在基體31附著氣氛中的雜質(zhì)，所以是優(yōu)選的。
本實(shí)施例的光學(xué)元件晶片10具有以上那樣構(gòu)成，若使用該光學(xué)元件晶片10，就能成批進(jìn)行多個(gè)本發(fā)明的光學(xué)元件60的制造、保管、搬送。
(光學(xué)元件晶片的制造方法)下面根據(jù)圖6、圖7，說(shuō)明上述光學(xué)元件晶片制造方法的一例。圖6、圖7是表示制造過(guò)程中光學(xué)元件晶片構(gòu)造的剖面圖。
首先如圖6(a)所示，準(zhǔn)備要得到多個(gè)光學(xué)薄膜用的圓盤狀光學(xué)薄膜母材50，在該光學(xué)薄膜母材的一面通過(guò)粘接劑53貼附由聚對(duì)苯二甲酸乙撐酯等樹(shù)脂薄膜組成的保持件54，并在另一面形成粘接劑層52(工序1)。在本實(shí)施例，表示的是光學(xué)薄膜母材50和基體母材30平面呈相同形狀的場(chǎng)合，但這些形狀或大小可適宜設(shè)計(jì)。
然后如圖6(b)所示，使用以與光學(xué)薄膜51的形成圖形相同的圖形形成具有與光學(xué)薄膜51的外徑相等的內(nèi)徑的多個(gè)圓筒狀凸部71的模具70拔模光學(xué)薄膜母材50，將其分割成多個(gè)光學(xué)薄膜51(工序2)。這時(shí)，為了維持保持件54作為全體連接的狀態(tài)，而從粘接劑層52側(cè)按壓模具70，至少切斷粘接劑層52和光學(xué)薄膜母材50。由于必須沿上下方向完全切斷光學(xué)薄膜母材50，所以最好切斷到其下面的粘接劑層53或保持件54的一部分。在圖面上表示的是切斷至粘接劑層53的場(chǎng)合。并且，上述模具70應(yīng)該與光學(xué)薄膜51的形成圖形重合，本發(fā)明不限定其具體的形狀、材料、大小等。
接著如圖6(c)所示，從保持件54上剝離下光學(xué)薄膜母材50上沒(méi)有形成光學(xué)薄膜51的部分(工序3)。這時(shí)，沒(méi)有形成光學(xué)薄膜51的部分的粘接劑層52也被同時(shí)剝離。
切斷由玻璃、陶瓷、樹(shù)脂等組成的基板，制作出具有比晶片環(huán)20內(nèi)徑小的直徑的圓盤狀基體母材30(工序4)。并且，準(zhǔn)備直徑比該基體母材30大的保持件40，在其表面的全面上形成粘接劑層41后，將其周邊部貼附在晶片環(huán)20(圖示略)的內(nèi)側(cè)面上(工序5)。如圖6(d)所示，在該保持件40上的晶片環(huán)20的內(nèi)側(cè)的區(qū)域上，通過(guò)粘接劑層41貼上基體母材30(工序6)。接后如圖6(e)所示，用刀片(圖示略)將基體30切斷(切割)分割成平面呈格子狀的多個(gè)基體31(工序7)。
接著如圖7(a)所示，使工序3制作出的部件(參照?qǐng)D6(c))和工序7制作出的部件(參照?qǐng)D6(e))粘接重合。這時(shí)，通過(guò)粘接劑層52粘貼附保持件54上的各光學(xué)薄膜51和保持件41上的各基體31。通過(guò)這樣進(jìn)行粘貼，可以形成多個(gè)光學(xué)元件60。最后，如圖7(b)所示，通過(guò)剝離開(kāi)保持件54和粘接劑層53，制造出本實(shí)施方式的光學(xué)元件晶片10。
(光學(xué)元件晶片的其他制造方法)下面根據(jù)圖8，說(shuō)明上述光學(xué)元件晶片制造方法的其他例子。
首先如圖8(a)所示，準(zhǔn)備光學(xué)薄膜母材50，在其一個(gè)面上通過(guò)粘接劑層52貼附由聚對(duì)苯二甲酸乙撐酯等樹(shù)脂薄膜組成的保持件54。該工序與前面的例子不同，在光學(xué)薄膜母材50的另一個(gè)面處不形成粘接劑層。
接著如圖8(b)所示，與前面的例子同樣，用模具70拔模光學(xué)薄膜母材50，將其分割成多個(gè)光學(xué)薄膜51。
然后，如圖8(c)所示，在與光學(xué)薄膜母材50的保持件52側(cè)相對(duì)側(cè)處，通過(guò)粘接劑層55貼附由聚烯烴薄膜等樹(shù)脂薄膜組成的其他保持件56。
接著如圖8(d)所示，從在后粘貼附的保持件56上，剝離可先貼附的保持件54、和光學(xué)薄膜母材50的沒(méi)有形成光學(xué)薄膜51的部分。這樣，可以獲得與前面的例子，即與圖6(c)所示的相同形態(tài)的部件，所以以下可以按照與前面例子相的方式，制造出光學(xué)元件晶片10。
(光學(xué)元件的制造方法)如以上那樣制造出光學(xué)元件晶片10后，用挑針器針拾取希望的光學(xué)元件60并取出，就能制造出光學(xué)元件60。
在以上的光學(xué)元件晶片10的制造方法和光學(xué)元件60的制造方法中，可以用與以前同樣地光學(xué)薄膜母材進(jìn)行制造，即在將光學(xué)薄膜母材50貼附在保持件54后，將其分割成面積比基體31小的多個(gè)光學(xué)薄膜51，除去沒(méi)有形成光學(xué)薄膜51的部分后，將各光學(xué)薄膜51貼附在基體母材30上。但是，在光學(xué)薄膜母材50上有沒(méi)有形成光學(xué)薄膜51的剩余部分時(shí)，可以再次利用這部分。即在第2次的以后制造中，可以從光學(xué)薄膜母材50的剩余部分中得到光學(xué)薄膜51，由于能從1張光學(xué)薄膜母材50得到多個(gè)光學(xué)元件晶片10中的光學(xué)元件薄膜51，所以能顯著降低光學(xué)薄膜母材50的使用量，從而能實(shí)現(xiàn)光學(xué)元件晶片10和光學(xué)元件60的低成本化。
并且，因?yàn)椴捎玫氖菍⒐鈱W(xué)薄膜母材50和基體母材30貼附在不同的保持件54、40上，分別切斷成一個(gè)個(gè)的，分割成多個(gè)光學(xué)薄膜51、基體31之后再相互貼合的構(gòu)成，所以與基體母材30的材料沒(méi)有關(guān)系，在切斷基體母材30時(shí)，沒(méi)有必要與光學(xué)薄膜母材50同時(shí)將切斷速度設(shè)定得慢，從而能使基體母材30的切斷工序顯著縮短。
通過(guò)使用具有與形成的光學(xué)薄膜50的形成圖形對(duì)應(yīng)地形成的多個(gè)圓筒狀凸部71的模具70拔模光學(xué)薄膜母材50，能夠采用成批形成多個(gè)光學(xué)薄膜，因?yàn)椴捎眠@樣的構(gòu)成，所以也能使光學(xué)薄膜母材50的切斷工序顯著縮短。
并且，由于是分別切斷光學(xué)薄膜母材50和基體母材30的，所以在切斷基體母材30時(shí)，所用的刀片摩損量不會(huì)有偏差，能穩(wěn)定地控制切斷深度。由于光學(xué)薄膜母材50是用模具70進(jìn)行切斷的，所以也能容易控制其切斷深度。
由于采用使面積小的光學(xué)薄膜51和基體31各自貼附的構(gòu)成，所以不會(huì)在各光學(xué)薄膜51與各基體31之間夾入空氣，從而能形成均勻貼附。因此，在電子器件制造后，也不會(huì)因夾于光學(xué)薄膜51和基體31之間的空氣熱膨脹引起的光學(xué)薄膜51的剝離。
還有，本發(fā)明的光學(xué)元件晶片的制造方法和光學(xué)元件的制造方法不限于上述實(shí)施例。
例如，也可以在將光學(xué)薄膜母材50分割成多個(gè)光學(xué)薄膜51之前預(yù)先將基體母材30分割成多個(gè)基體31。
而且，還可以采用以下的構(gòu)成，即將光學(xué)薄膜母材50分割成多個(gè)光學(xué)薄膜51，在除去沒(méi)有形成光學(xué)薄膜51的部分之后，將剩余的各光學(xué)薄膜51貼附在基體30上，其后將基體母材30分割成面積比光學(xué)薄膜51大的多個(gè)基體31，進(jìn)而形成多個(gè)光學(xué)元件60。
并且，在上述實(shí)施例中，基體母材30是圓盤狀的，但也可是圓盤狀以外的形狀，例如四角狀。
如以上詳細(xì)說(shuō)明那樣，若使用本發(fā)明，可實(shí)現(xiàn)低成本化，同時(shí)能提供可防止在向外殼主體貼附時(shí)光學(xué)薄膜產(chǎn)生部分剝離浮起的光學(xué)元件、和能成批進(jìn)行多個(gè)該光學(xué)元件的制造、保管、搬送的光學(xué)元件晶片和相應(yīng)的制造方法。
并且，本發(fā)明還提供了光學(xué)元件晶片的制造方法，該方法既能使基體的切斷工序縮短，又能穩(wěn)定控制基體母材或光學(xué)薄膜母材的切斷深度，使基體母材和光學(xué)薄膜母材均勻貼附。
權(quán)利要求
1.一種制造光學(xué)元件的方法，其特征在于包括以下工序?qū)⒐鈱W(xué)薄膜母材分割成多個(gè)光學(xué)薄膜的工序；在上述光學(xué)薄膜母材上除去沒(méi)有形成上述光學(xué)薄膜的部分的工序；將基體分割成多個(gè)基體的工序；通過(guò)使各光學(xué)薄膜與各基體貼附形成多個(gè)光學(xué)元件的工序；和取出上述光學(xué)元件的工序。
2.一種制造光學(xué)元件的方法，其特征在于包括以下工序?qū)⒐鈱W(xué)薄膜母材分割成多個(gè)光學(xué)薄膜的工序；在上述光學(xué)薄膜母材上除去沒(méi)有形成上述光學(xué)薄膜的部分的工序；將上述光學(xué)薄膜貼附在基體的工序；通過(guò)將上述基體母材分割成多個(gè)基體形成多個(gè)光學(xué)元件的工序；和取出上述光學(xué)元件的工序。
3.一種制造光學(xué)元件晶片的方法，其特征在于包括以下工序?qū)⒐鈱W(xué)薄膜母材分割成多個(gè)光學(xué)薄膜的工序；在上述光學(xué)薄膜母材上除去沒(méi)有形成上述光學(xué)薄膜的部分的工序；將基體母材分割成多個(gè)基體的工序；和使各光學(xué)薄膜與各基體貼附的工序。
4.一種制造光學(xué)元件晶片的方法，其特征在于包括以下工序?qū)⒐鈱W(xué)薄膜母材貼附在第一保持件上的工序；將上述光學(xué)薄膜母材分割成多個(gè)光學(xué)薄膜的工序；從上述第一保持件剝離上述光學(xué)薄膜母材上沒(méi)有形成上述光學(xué)薄膜的部分的工序；在第二保持件上貼附基體母材的工序；將基體母材分割成多個(gè)基體的工序；和對(duì)上述第一保持件的各光學(xué)薄膜和上述第二保持件上的各基體實(shí)施貼附的工序。
5.一種制造光學(xué)元件晶片的方法，其特征在于包括以下工序在第一保持件上貼附光學(xué)薄膜母材的工序；將上述光學(xué)薄膜母材分割成多個(gè)光學(xué)薄膜的工序；在上述光學(xué)薄膜母材的與上述第一保持件相對(duì)側(cè)貼附第二保持件的工序；從上述第二保持件上剝離上述第一保持件和上述光學(xué)薄膜母材中沒(méi)有形成上述光學(xué)薄膜的部分的工序；在第三保持件上貼附基體的工序；將上述基體母材分割成多個(gè)基體的工序；和對(duì)上述第二保持件上的各光學(xué)薄膜和上述第三保持件上的各基體實(shí)施粘附的工序。
6.一種制造光學(xué)元件晶片的方法，其特征在于包括以下工序?qū)⒐鈱W(xué)薄膜母材分割成多個(gè)光學(xué)薄膜的工序；在上述光學(xué)薄膜母材中除去沒(méi)有形成上述光學(xué)薄膜的部分的工序；在基體母材處貼附上述光學(xué)薄膜的工序；通過(guò)將上述基體母材分割成多個(gè)基體形成多個(gè)光學(xué)元件的工序。
7.如權(quán)利要求3至權(quán)利要求6的任一項(xiàng)所述的制造光學(xué)元件晶片的方法，其特征在于在將上述光學(xué)薄膜母材分割成多個(gè)光學(xué)薄膜的工序中，使用與形成的光學(xué)薄膜的形成圖形相對(duì)應(yīng)地形式形成的模具，對(duì)上述光學(xué)薄膜母材實(shí)施拔模來(lái)分割成多個(gè)光學(xué)薄膜。
全文摘要
本發(fā)明提供一種制造光學(xué)元件的方法，包括以下工序?qū)⒐鈱W(xué)薄膜母材分割成多個(gè)光學(xué)薄膜的工序；在上述光學(xué)薄膜母材上除去沒(méi)有形成上述光學(xué)薄膜的部分的工序；將基體分割成多個(gè)基體的工序；通過(guò)使各光學(xué)薄膜與各基體貼附形成多個(gè)光學(xué)元件的工序；和取出上述光學(xué)元件的工序。
文檔編號(hào)G11B7/22GK1737617SQ20051008139
公開(kāi)日2006年2月22日 申請(qǐng)日期2003年5月26日 優(yōu)先權(quán)日2002年5月28日
發(fā)明者手塚明, 相川文則, 土田雅之, 駒形文規(guī) 申請(qǐng)人:株式會(huì)社巴川制紙所