專利名稱：頭、頭懸架組件以及設(shè)有該頭懸架組件的盤裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于盤裝置(例如磁盤裝置)中的頭、一種設(shè)有該頭的頭懸架組件以及設(shè)有該頭懸架組件的盤裝置。
背景技術(shù)：
作為普通盤裝置的磁盤裝置包括磁盤，該磁盤裝入外殼中；主軸馬達(dá)，該主軸馬達(dá)支承磁盤并使它旋轉(zhuǎn)；磁頭，用于將數(shù)據(jù)寫入磁盤中和從該磁盤中讀出數(shù)據(jù)；以及滑架組件，該滑架組件支承磁頭，以便相對于磁盤運動?；芙M件設(shè)有可旋轉(zhuǎn)地支承的臂以及從該臂伸出的懸架。磁頭單獨支承在懸架的相應(yīng)伸出端。各磁頭有安裝在它的相應(yīng)懸架上的滑動件以及在該滑動件上的頭部分。頭部分包括復(fù)制元件和記錄元件，它們分別用于讀出和寫入數(shù)據(jù)。
滑動件有對著磁盤的記錄表面的面對表面。滑動件通過懸架而受到給定磁頭負(fù)載，該磁頭負(fù)載朝向磁盤的磁記錄層。當(dāng)驅(qū)動磁盤裝置時，在旋轉(zhuǎn)的磁盤和滑動件之間產(chǎn)生空氣流。根據(jù)空氣流體潤滑原理，用于使滑動件飄浮在磁盤的記錄表面上方的力作用在滑動件的面對表面上。通過平衡該飄浮力和磁頭負(fù)載，滑動件以給定間隙在磁盤的記錄表面上方飄動。
已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，不管在磁盤上的徑向位置如何，滑動件的飄浮都相同。磁盤的旋轉(zhuǎn)頻率固定，且它的圓周速度根據(jù)徑向位置而變化。因為磁頭通過旋轉(zhuǎn)滑架組件來定位，而且，偏斜角(在空氣流的方向和滑動件中心線之間的角度)也根據(jù)磁盤的徑向位置而變化。因此，在設(shè)計滑動件時，取決于徑向磁盤位置的飄浮量的變化必須通過適當(dāng)利用前述兩個參數(shù)來限制，這兩個參數(shù)根據(jù)徑向磁盤位置而變化。
考慮到工作環(huán)境的變化，希望磁盤裝置能夠在低壓高原環(huán)境中平穩(wěn)工作。當(dāng)只考慮在磁頭負(fù)載和正壓(該正壓根據(jù)空氣流體潤滑而作用在滑動件的面對表面上)之間的平衡而構(gòu)成磁頭時，由空氣流體潤滑產(chǎn)生的正壓將在低壓環(huán)境中降低。因此，滑動件不可避免地平衡于飄浮量降低或滑動件與磁盤表面接觸的位置處。
例如在日本專利申請文獻(xiàn)No，2001-283549中介紹了一種盤裝置，其中，負(fù)壓空腔形成于滑動件的面對表面的中心附近，以便防止滑動件的飄浮量減小。負(fù)壓空腔由槽確定，該槽在除了空氣出口方向之外的其它三個方向上由凸出導(dǎo)軌包圍?；瑒蛹O(shè)置成通過在由負(fù)壓空腔產(chǎn)生的負(fù)壓、頭負(fù)載和正壓之間的平衡而飄浮。在低壓環(huán)境中，根據(jù)該結(jié)構(gòu)，當(dāng)產(chǎn)生的正壓降低時負(fù)壓也降低。因此，滑動件能夠使飄浮量的降低減少。而且，在滑動件的空氣流出口端側(cè)，負(fù)壓空腔形成有中心襯墊，且頭部分布置在中心襯墊附近并在滑動件的出口側(cè)端部。
因此，滑動件飄浮量、飄浮姿態(tài)以及在減壓狀態(tài)下飄浮量的減小都可以通過適當(dāng)布置滑動件的面對表面的不規(guī)則形狀來進(jìn)行調(diào)節(jié)。面對表面的不規(guī)則形狀由單個或多個深度的槽而形成。
當(dāng)這樣構(gòu)成的盤裝置工作時，磁頭執(zhí)行尋軌操作以便磁頭在磁盤表面上從外周側(cè)向內(nèi)周側(cè)運動或者從內(nèi)周側(cè)向外周側(cè)向理想的軌道運動。隨著近來處理速度的增加，磁頭的搜尋速度也增加。
不過，在磁頭的搜尋操作過程中，在磁盤表面和滑動件之間產(chǎn)生的空氣膜力波動，這樣，滑動件的飄浮量波動。特別是，當(dāng)搜尋速度增加時，空氣膜力減小，滑動件的飄浮量減小。當(dāng)磁頭的飄浮性能這樣變化時，可能無法實現(xiàn)穩(wěn)定的記錄和復(fù)制。因此，裝置稍微缺乏可靠性。

發(fā)明內(nèi)容
考慮到這些情況而作出本發(fā)明，本發(fā)明的目的是提供一種頭，它即使在高速搜尋操作時也能夠防止飄浮量波動，并提高穩(wěn)定性和可靠性，本發(fā)明還提供一種設(shè)有該頭的頭懸架組件以及一種盤裝置。
根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供了一種頭，它包括滑動件，該滑動件有與可旋轉(zhuǎn)的記錄介質(zhì)的表面相對的面對表面，并設(shè)置成當(dāng)記錄介質(zhì)旋轉(zhuǎn)時通過在記錄介質(zhì)表面和面對表面之間產(chǎn)生的空氣流而飄?。灰约邦^部分，該頭部分布置在滑動件上，并向記錄介質(zhì)記錄數(shù)據(jù)和從該記錄介質(zhì)復(fù)制數(shù)據(jù)；其特征在于該滑動件有負(fù)壓空腔，該負(fù)壓空腔由在面對表面中的凹口來確定，并產(chǎn)生負(fù)壓；前部臺階部分，該前部臺階部分從面對表面上凸出，并相對于空氣流設(shè)置在負(fù)壓空腔的上游側(cè)，且對著記錄介質(zhì)；以及后部部分，該后部部分從面對表面上凸出，并相對于空氣流設(shè)置在負(fù)壓空腔的下游側(cè)，且對著記錄介質(zhì)。
滑動件的面對表面的第一方向沿空氣流方向延伸，第二方向垂直于該第一方向，后部部分成一體地有基部臺階部分以及沿第一方向從該基部臺階部分朝著負(fù)壓空腔凸出的凸起。沿第二方向，在基部臺階部分側(cè)的凸起的近端的寬度小于基部臺階部分的寬度，且該凸起沿第一方向的長度占面對表面沿第一方向的長度的大約18％或更多。
根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，提供了一種盤裝置，它包括盤形記錄介質(zhì)；驅(qū)動單元，該驅(qū)動單元支承記錄介質(zhì)并使該記錄介質(zhì)旋轉(zhuǎn)；頭，該頭包括滑動件和頭部分，該滑動件有與記錄介質(zhì)表面相對的面對表面，并設(shè)置成當(dāng)記錄介質(zhì)旋轉(zhuǎn)時通過在記錄介質(zhì)表面和面對表面之間產(chǎn)生的空氣流而飄浮，該頭部分布置在滑動件上，并向記錄介質(zhì)記錄數(shù)據(jù)和從該記錄介質(zhì)復(fù)制數(shù)據(jù)；以及頭懸架，該頭懸架支承所述頭，以便相對于記錄介質(zhì)運動，并向所述頭施加朝著記錄介質(zhì)表面的頭負(fù)載，其特征在于該滑動件有負(fù)壓空腔，該負(fù)壓空腔由在面對表面中的凹口來確定，并產(chǎn)生負(fù)壓；前部臺階部分，該前部臺階部分從面對表面上凸出，并相對于空氣流設(shè)置在負(fù)壓空腔的上游側(cè)，且對著記錄介質(zhì)；以及后部部分，該后部部分從面對表面上凸出，并相對于空氣流設(shè)置在負(fù)壓空腔的下游側(cè)，且對著記錄介質(zhì)。
滑動件的面對表面的第一方向沿空氣流方向延伸，第二方向垂直于該第一方向，后部部分成一體地有基部臺階部分以及沿第一方向從該基部臺階部分朝著負(fù)壓空腔凸出的凸起。沿第二方向，在基部臺階部分側(cè)的凸起的近端的寬度小于基部臺階部分的寬度，且該凸起沿第一方向的長度占面對表面沿第一方向的長度的大約18％或更多。


包含在說明書中并構(gòu)成說明書的一部分的附圖表示了本發(fā)明的實施例，并與上面的總體說明和下面對實施例的詳細(xì)說明一起用于解釋本發(fā)明的原理。
圖1是表示本發(fā)明實施例的硬盤驅(qū)動器(下文中稱為HDD)的平面圖；圖2是表示HDD的磁頭部分的放大側(cè)視圖；圖3是表示磁頭的滑動件的、面對盤的面對表面?zhèn)鹊耐敢晥D；圖4是表示滑動件的、面對盤的面對表面?zhèn)鹊钠矫鎴D；圖5是沿圖4的線V-V的剖視圖；圖6是表示根據(jù)實施例和現(xiàn)有技術(shù)實例的磁頭的空氣膜力相對于搜尋速度的變化的波動的曲線圖；圖7A、7B、7C、7D和7E分別表示了具有不同形狀的跟蹤部分的五種磁頭滑動件；圖8是表示在五種磁頭的搜尋速度和空氣膜力之間的關(guān)系的曲線圖；圖9是表示對于五種磁頭的每一種，由于改變搜尋速度而引起的空氣膜力的波動率的曲線圖；圖10是表示通常在跟蹤部分和偏轉(zhuǎn)空氣流之間的關(guān)系的平面圖；圖11是表示實施例和現(xiàn)有技術(shù)實例的磁頭的升力相對于搜尋速度的變化而波動的曲線圖；圖12是表示本發(fā)明另一實施例的磁頭的滑動件的平面圖；以及圖13是表示本發(fā)明又一實施例的磁頭的滑動件的平面圖。
具體實施例方式
下面將參考附圖詳細(xì)介紹當(dāng)本發(fā)明的盤裝置用于HDD時的實施例。
如圖1所示，HDD包括外殼12，該外殼12成頂部開口的矩形盒形式；以及頂蓋(未示出)。頂蓋通過螺釘而與外殼螺紋連接，并關(guān)閉外殼的頂部開口。
外殼12裝有用作記錄介質(zhì)的磁盤16、主軸馬達(dá)18、磁頭40和滑架組件22。主軸馬達(dá)18用作支承磁盤16和使磁盤16旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動單元。磁頭40用于向磁盤16寫入數(shù)據(jù)和從該磁盤16讀出數(shù)據(jù)?；芙M件22支承磁頭40，用于使磁頭相對于磁盤16運動。外殼12還裝有音圈馬達(dá)(下文中稱為VCM)24、斜面(ramp)負(fù)載機構(gòu)25、板單元21等。VCM 24使滑架組件22旋轉(zhuǎn)并定位該滑架組件22。當(dāng)磁頭40運動至磁盤的最外周時，斜面負(fù)載機構(gòu)25使磁頭40保持在離開磁盤16的避開位置(shunt position)。板單元21有磁頭IC等。
用于通過板單元21來控制主軸馬達(dá)18、VCM 24和磁頭的各自的操作的印刷電路板(未示出)螺紋連接在外殼的底壁的外表面上。
磁盤16有分別在它的上表面和下表面上的磁記錄層。磁盤16裝配在主軸馬達(dá)18的轂(未示出)的外周上，并通過夾持彈簧17而固定在轂上。當(dāng)驅(qū)動馬達(dá)18時，磁盤16沿箭頭B方向以給定速度(例如4200rpm)旋轉(zhuǎn)。
滑架組件22包括軸承組件26，該軸承組件26固定在外殼12的底壁上；以及臂32，該臂32從軸承組件上伸出。這些臂32設(shè)置成與磁盤16的表面平行，并彼此間隔開。它們沿相同方向從軸承組件26上伸出。滑架組件22設(shè)有懸架38，該懸架38分別由可彈性變形的細(xì)長板簧形成。懸架38的各近端固定在臂32的各遠(yuǎn)端上，并從該臂32上伸出。各懸架38可以與它的相應(yīng)臂32形成一體。臂32和懸架38構(gòu)成頭懸架。頭懸架和磁頭40構(gòu)成頭懸架組件。
如圖2所示，各磁頭40有滑動件42，該滑動件42基本成長方體形狀；以及頭部分44，用于在滑動件上進(jìn)行記錄和復(fù)制。它固定在萬向彈簧41上，該萬向彈簧41布置在懸架38的遠(yuǎn)端部分上。朝向磁盤16表面的頭負(fù)載L通過懸架38的彈性而施加在各磁頭40上。
如圖1所示，滑架組件22有支承架45，該支承架45沿與臂32相反的方向從軸承組件26上伸出。該支承架45支承構(gòu)成VCM 24一部分的音圈47。支承架45由合成樹脂成一體模制在線圈47的外周上。音圈47設(shè)置在一對軛鐵(yoke)49之間，該對軛鐵49固定在外殼12上。線圈47與軛鐵49和固定在其中一個軛鐵上的磁體(未示出)一起構(gòu)成VCM 24。當(dāng)音圈47通電時，滑架組件22環(huán)繞軸承組件26旋轉(zhuǎn)，且各磁頭40運動至磁盤16的合適軌道處并位于該軌道上面。
斜面負(fù)載機構(gòu)25包括斜面51和凸片53。斜面51布置在外殼12的底壁上，并位于磁盤16外部。凸片53從各懸架38的遠(yuǎn)端伸出。當(dāng)滑架組件22旋轉(zhuǎn)至磁盤169外部的避開位置時，各凸片53與形成于斜面51上的斜表面接合。然后，通過斜表面的斜度而向上拉動凸片53，從而使磁頭40卸載。
下面將詳細(xì)介紹各磁頭40的結(jié)構(gòu)。如圖2至5所示，磁頭40有基本成長方體形狀的滑動件42。該滑動件42有矩形的、面對盤的表面43，該表面43對著磁盤16的表面。面對盤的表面43的縱向方向?qū)⒈硎緸榈谝环较騒，它的與第一方向X垂直的橫向方向表示為第二方向Y。
磁頭40構(gòu)成為飄浮滑動件。當(dāng)磁盤16旋轉(zhuǎn)時，滑動件42通過在盤表面和面對盤的表面43之間產(chǎn)生的空氣流C而飄浮。在HDD的操作過程中，滑動件42的、面對盤的表面必然會以所述表面之間一定的間隙對著盤表面?？諝饬鰿的方向與磁盤16的旋轉(zhuǎn)方向B一致?；瑒蛹?2相對于磁盤16的表面設(shè)置成使得面對盤的表面43的第一方向X基本與空氣流C的方向一致。
對著磁盤表面的前部臺階部分50從面對盤的表面43上凸出。它基本為U形形狀，在上游側(cè)封閉和在下游側(cè)開口。為了保持磁頭40的俯仰角，前部襯墊52形成為在前部臺階部分50上凸出。它形成支承滑動件42的空氣膜。前部襯墊52形成為具有細(xì)長形狀，它沿第二方向Y連續(xù)延伸，并相對于空氣流C位于滑動件42的進(jìn)口端側(cè)。
前部臺階部分50有一對導(dǎo)軌臺階部分46，該對導(dǎo)軌臺階部分46分別沿面對盤的表面43的長邊延伸并彼此以一定間隔相對。導(dǎo)軌臺階部分46從前部襯墊52朝著滑動件42的下游端延伸。側(cè)部襯墊48形成于各導(dǎo)軌臺階部分46上，并對著磁盤表面。
負(fù)壓空腔54形成于面對盤的表面43的基本中心部分處。它由凹部形成，該凹部由導(dǎo)軌臺階部分46和前部臺階部分50來確定?？涨?4相對于空氣流C方向形成于前部臺階部分50的下游側(cè)，并在下游側(cè)開口。對于在HDD中能夠?qū)崿F(xiàn)的所有偏斜角，負(fù)壓空腔54都用于在面對盤的表面43的中心部分產(chǎn)生負(fù)壓。
滑動件42有對著磁盤表面的后部部分56，該后部部分56相對于空氣流C的方向從面對盤的表面43的下游側(cè)端部凸出。后部部分56相對于空氣流C方向位于負(fù)壓空腔54的下游側(cè)，并相對于橫向方向基本在面對盤的表面43的中心。
如圖3至5所示，后部部分56成一體地設(shè)有基本矩形的基部臺階部分60和延伸部分62，該延伸部分從基部臺階部分60朝著面對盤的表面43的進(jìn)口端延伸?；颗_階部分60有沿第一方向X的給定寬度，并布置在面對盤的表面43的出口端側(cè)。在本實施例中，基部臺階部分60沿第二方向Y設(shè)置在面對盤的表面43的基本中心部分中。后部襯墊66形成于基部臺階部分60的下游側(cè)端部，并對著磁盤16的表面。在圖4中，各部分的陰影線不同，從而清楚理解在面對盤的表面43的各部分之間的高度差。
凸起62基本從基部臺階部分60的中心凸出。沿第二方向Y，在基部臺階部分側(cè)的凸起62的近端62a寬度小于基部臺階部分60的寬度。因此，基部臺階部分60的近端表面60a沿第二方向Y延伸，并對著滑動件42的進(jìn)口端側(cè)。這些近端表面相對于第二方向Y布置在凸起62的任意一側(cè)。凸起62沿第二方向Y的寬度W2占基部臺階部分60的寬度W1的3至97％，優(yōu)選是15至70％。
凸起62有一對側(cè)表面62b，該對側(cè)表面62b基本平行于第一方向X延伸。凸起62沿第一方向X的長度L1形成為占面對盤的表面43的、沿第一方向X的長度L的大約18％或更多，優(yōu)選是25％或更多。
如圖3至5所示，各磁頭40的頭部分44有記錄元件和復(fù)制元件，它們分別向磁盤16記錄數(shù)據(jù)或從磁盤16讀出數(shù)據(jù)。記錄和復(fù)制元件相對于空氣流C的方向嵌入滑動件42的下游側(cè)端部。記錄和復(fù)制元件有限定于后部襯墊66中的讀/寫間隙64。
如圖2所示，具有上述結(jié)構(gòu)的磁頭40以傾斜姿態(tài)飄浮，這樣，頭部分44的讀/寫間隙64最靠近盤表面。
根據(jù)這樣構(gòu)成的HDD和頭懸架組件，當(dāng)磁盤16旋轉(zhuǎn)時，磁頭40通過在盤表面和面對盤的表面43之間產(chǎn)生的空氣流C而飄浮。因此，在HDD的操作過程中，滑動件42的面對盤的表面43必然對著盤表面，且在它們之間有間隙。而且，根據(jù)這樣構(gòu)成的磁頭40，后部部分56有凸起62，該凸起62從基部臺階部分60上凸出。因此，即使在高速搜尋操作中，也能夠抑制飄浮量的波動，因此能夠提高安全性和可靠性。
對于本實施例和現(xiàn)有技術(shù)的HDD，模擬了當(dāng)磁頭40的搜尋速度變化時空氣膜的力的波動。在普通磁頭中，后部部分沒有凸起，如圖6中虛線所示，當(dāng)搜尋速度達(dá)到5ms的高速時，在給定飄浮姿態(tài)時產(chǎn)生的空氣膜力降低50％。根據(jù)本發(fā)明的磁頭40，如圖6中實線所示，當(dāng)搜尋速度達(dá)到5ms時，空氣膜力的減小能夠被限制為2％。
為了分析能夠抑制空氣膜力降低的原因，本發(fā)明人制備了具有不同形狀的后部部分的磁頭，例如五種磁頭A、B、C、D和E，如圖7A至7E所示，并比較當(dāng)搜尋速度增加時引起的空氣膜力的波動。圖8表示了比較結(jié)果。五種磁頭的滑動件后部部分面積、后部襯墊66面積和負(fù)壓空腔深度都相同，區(qū)別僅在于后部部分的形狀。例如，負(fù)壓空腔和后部臺階分別調(diào)節(jié)為1μm和0.12μm。
磁頭A和磁頭B沒有凸起。磁頭C、D和E與本實施例的磁頭一樣有不同長度的凸起。
在沒有凸起的磁頭A和B中，如圖8所示，根據(jù)搜尋速度的增加，空氣膜力的降低率在20至30％的范圍內(nèi)。另一方面，磁頭C和D設(shè)有沿滑動件的第一方向X延伸的凸起62，因此開始觀察到抑制空氣膜力降低的效果。當(dāng)凸起62的長度占滑動件的總長度的大約18％時，如磁頭E所示，發(fā)現(xiàn)空氣膜力的降低量為3％，表明有很大改進(jìn)。
圖9表示了對于各磁頭的后部部分的形狀，由于搜尋速度變化引起的空氣膜力波動率。它表明當(dāng)后部部分提供有凸起62時，將抑制在搜尋操作過程中空氣膜力的減小量，且當(dāng)凸起的高度增加時，空氣膜力隨著搜尋速度的增加而提高。這是因為在搜尋操作過程中，空氣膜力的產(chǎn)生效率能夠通過由凸起62接收偏轉(zhuǎn)空氣流b和c而提高，如圖10所示。
圖11表示了對于本實施例的磁頭和普通磁頭在磁頭升高時搜尋時間波動的模擬結(jié)果。在圖11中，橫坐標(biāo)軸表示搜尋速度與磁盤旋轉(zhuǎn)速度的比值。本實施例的磁頭和普通磁頭的前部臺階部分和負(fù)壓空腔的形狀和尺寸都相同，區(qū)別僅在于后部部分的形狀。根據(jù)本實施例的磁頭，相對于搜尋速度，磁頭飄浮量的波動遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于現(xiàn)有技術(shù)實例。
根據(jù)本實施例的磁頭，裝備有該磁頭的頭懸架組件以及HDD，如上所述，能夠限制所述頭的飄浮量的波動，以便保證即使在高速搜尋操作時也穩(wěn)定地記錄和復(fù)制。還有，能夠防止磁頭和磁盤彼此相向運行，從而提高可靠性。
本發(fā)明并不局限于上述實施例，在不脫離本發(fā)明的范圍或精神的情況下，它的部件可以進(jìn)行變化。而且，對前述實施例中所述的多個部件進(jìn)行合適組合，可以形成多種發(fā)明。例如，前述實施例的某些部件可以省略。而且，不同實施例的部件可以根據(jù)需要來組合。
前部臺階部分、后部部分和襯墊的形狀和尺寸并不局限于上述實施例中所述，而是可以根據(jù)需要而變化。后部部分56的凸起62的位置并不局限于基部臺階部分60的中心部分?；蛘?，例如如圖12所示，它可以位于沿第二方向Y相對于基部臺階部分60偏心的位置。這時，凸起62的一個側(cè)表面62b與基部臺階部分60的側(cè)表面平齊地延伸?；颗_階部分60的近端表面60a相對于第二方向Y只處于凸起62的一側(cè)。
基部臺階部分60的近端表面60a和凸起62的側(cè)表面62b并不局限于直線，而是可以形成彎曲形狀，例如如圖13所示。
圖12和13所示的實施例的其它結(jié)構(gòu)與前述實施例相同。因此，相同參考標(biāo)號用于表示與前述實施例相同的部分，并省略對它們的詳細(xì)說明。由這些可選實施例能夠獲得與前述實施例相同的功能和效果。在圖13和14中，面對盤的表面43的不同部分有不同陰影線，以便清楚表示在它們之間的高度差。
權(quán)利要求
1.一種頭，包括滑動件，該滑動件有與可旋轉(zhuǎn)的記錄介質(zhì)的表面相對的面對表面，并設(shè)置成當(dāng)記錄介質(zhì)旋轉(zhuǎn)時通過在記錄介質(zhì)表面和該面對表面之間產(chǎn)生的空氣流而飄浮；以及頭部分，該頭部分設(shè)置在滑動件上，并向記錄介質(zhì)記錄數(shù)據(jù)和從該記錄介質(zhì)復(fù)制數(shù)據(jù)；其特征在于該滑動件有負(fù)壓空腔，該負(fù)壓空腔由在該面對表面中的凹部來確定，并產(chǎn)生負(fù)壓；前部臺階部分，該前部臺階部分從該面對表面上凸出，并相對于空氣流位于負(fù)壓空腔的上游側(cè)，且對著記錄介質(zhì)；以及后部部分，該后部部分從所述面對表面上凸出，并相對于空氣流位于負(fù)壓空腔的下游側(cè)，且對著記錄介質(zhì)；滑動件的面對表面的第一方向沿空氣流方向延伸，第二方向垂直于該第一方向，所述后部部分成一體地有基部臺階部分以及沿第一方向從該基部臺階部分朝著負(fù)壓空腔凸出的凸起；以及在基部臺階部分側(cè)的所述凸起的近端的寬度比基部臺階部分沿第二方向的寬度更小，且該凸起沿第一方向的長度占所述面對表面沿第一方向的長度的大約18％或更多。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的頭，其特征在于所述凸起沿第二方向的寬度占基部臺階部分的寬度的3至97％。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的頭，其特征在于基部臺階部分有近端表面，該近端表面沿第二方向延伸，并對著滑動件的負(fù)壓空腔，該近端表面相對于第二方向位于所述凸起的任意一側(cè)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的頭，其特征在于基部臺階部分有近端表面，該近端表面沿第二方向延伸，并對著滑動件的負(fù)壓空腔，該近端表面相對于第二方向只位于所述凸起的一側(cè)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任意一個所述的頭，其中所述凸起有一對側(cè)表面，該對側(cè)表面基本平行于第一方向延伸。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的頭，其特征在于滑動件有一對導(dǎo)軌臺階部分，該對導(dǎo)軌臺階部分從前部臺階部分朝著滑動件的下游端延伸，并從所述面對表面上凸出，以便包圍負(fù)壓空腔。
7.一種用于盤裝置中的頭懸架組件，包括盤形記錄介質(zhì)和驅(qū)動單元，該驅(qū)動單元支承記錄介質(zhì)和使得該記錄介質(zhì)旋轉(zhuǎn)，該頭懸架組件包括頭，該頭包括滑動件，該滑動件有與記錄介質(zhì)表面相對的面對表面，并設(shè)置成當(dāng)記錄介質(zhì)旋轉(zhuǎn)時通過在記錄介質(zhì)表面和面對表面之間產(chǎn)生的空氣流而飄?。灰约邦^部分，該頭部分布置在滑動件上，并向記錄介質(zhì)記錄數(shù)據(jù)和從該記錄介質(zhì)復(fù)制數(shù)據(jù)；以及頭懸架，該頭懸架支承所述頭，以便相對于記錄介質(zhì)運動，并向所述頭施加朝著記錄介質(zhì)表面的頭負(fù)載，其特征在于該滑動件有負(fù)壓空腔，該負(fù)壓空腔由在所述面對表面中的凹部來確定，并產(chǎn)生負(fù)壓；前部臺階部分，該前部臺階部分從所述面對表面上凸出，并相對于空氣流位于負(fù)壓空腔的上游側(cè)，且對著記錄介質(zhì)；以及后部部分，該后部部分從所述面對表面上凸出，并相對于空氣流位于負(fù)壓空腔的下游側(cè)，且對著記錄介質(zhì)；滑動件的面對表面的第一方向沿空氣流方向延伸，第二方向垂直于該第一方向，所述后部部分成一體地有基部臺階部分以及沿第一方向從該基部臺階部分朝著負(fù)壓空腔凸出的凸起；以及在基部臺階部分側(cè)的所述凸起的近端的寬度比基部臺階部分沿第二方向的寬度更小，且該凸起沿第一方向的長度占所述面對表面沿第一方向的長度的大約18％或更多。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的頭懸架組件，其特征在于所述凸起沿第二方向的寬度占基部臺階部分的寬度的3至97％。
9.一種盤裝置，包括盤形記錄介質(zhì)；驅(qū)動單元，該驅(qū)動單元支承記錄介質(zhì)并使該記錄介質(zhì)旋轉(zhuǎn)；頭，該頭包括滑動件，該滑動件有與記錄介質(zhì)表面相對的面對表面，并設(shè)置成當(dāng)記錄介質(zhì)旋轉(zhuǎn)時通過在記錄介質(zhì)表面和所述面對表面之間產(chǎn)生的空氣流而飄浮；以及頭部分，該頭部分布置在滑動件上，并向記錄介質(zhì)記錄數(shù)據(jù)和從該記錄介質(zhì)復(fù)制數(shù)據(jù)；以及頭懸架，該頭懸架支承所述頭，以便相對于記錄介質(zhì)運動，并向所述頭施加朝著記錄介質(zhì)表面的頭負(fù)載，其特征在于該滑動件有負(fù)壓空腔，該負(fù)壓空腔由在所述面對表面中的凹部來確定，并產(chǎn)生負(fù)壓；前部臺階部分，該前部臺階部分從所述面對表面上凸出，并相對于空氣流位于負(fù)壓空腔的上游側(cè)，且對著記錄介質(zhì)；以及后部部分，該后部部分從所述面對表面上凸出，并相對于空氣流位于負(fù)壓空腔的下游側(cè)，且對著記錄介質(zhì)；滑動件的所述面對表面的第一方向沿空氣流方向延伸，第二方向垂直于該第一方向，所述后部部分成一體地有基部臺階部分以及沿第一方向從該基部臺階部分朝著負(fù)壓空腔凸出的凸起；以及在基部臺階部分側(cè)的所述凸起的近端的寬度小于基部臺階部分沿第二方向的寬度，且該凸起沿第一方向的長度占所述面對表面沿第一方向的長度的大約18％或更多。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的盤裝置，其特征在于所述凸起沿第二方向的寬度占基部臺階部分的寬度的3至97％。
全文摘要
頭(40)的滑動件(42)有負(fù)壓空腔(54)，該負(fù)壓空腔形成于面對表面(43)中；前部臺階部分(50)，該前部臺階部分(50)從面對表面上凸出，并相對于空氣流設(shè)置在負(fù)壓空腔的上游側(cè)；以及后部部分(56)，該后部部分從面對表面上凸出，并相對于空氣流設(shè)置在負(fù)壓空腔的下游側(cè)。后部部分成一體地設(shè)有基部臺階部分(60)，該基部臺階部分有沿第一方向X的給定寬度；以及凸起(62)，該凸起沿第一方向從該基部臺階部分朝著負(fù)壓空腔凸出。在基部臺階部分側(cè)的凸起的近端的寬度小于基部臺階部分的寬度，且該凸起沿第一方向的長度占面對表面沿第一方向的長度的大約18％或更多。
文檔編號G11B5/60GK1763859SQ20051009264
公開日2006年4月26日 申請日期2005年8月19日 優(yōu)先權(quán)日2004年10月19日
發(fā)明者羽生光伸 申請人:株式會社東芝