專利名稱：信息存儲(chǔ)介質(zhì)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種盤狀的信息存儲(chǔ)介質(zhì)，例如DVD-R。
背景技術(shù)：
一種光盤，如DVD，具有用于記錄條形碼圖案、稱為燒錄區(qū)(BCA)的區(qū)域。該條形碼圖案通過采用激光燒掉盤的反射膜，或者通過改變盤的相變記錄膜的相態(tài)進(jìn)行記錄。例如，公開號(hào)為2004-152429的日本特開平專利申請(qǐng)?zhí)岢鲆环N通過將與條形碼圖案對(duì)應(yīng)的調(diào)制信號(hào)和來自盤旋轉(zhuǎn)馬達(dá)的信號(hào)同步以在盤上記錄條形碼圖案的技術(shù)。
為了處理比當(dāng)前光盤記錄密度更高的下一代光盤，使用一種其波長比用于處理當(dāng)前光盤的激光束波長更短的激光束。
這種使用染料的WORM光盤的記錄特性取決于激光束的波長。因此，對(duì)應(yīng)于短波長的下一代光盤存在一個(gè)問題，就是條形碼圖案不能正確地通過對(duì)應(yīng)于處理當(dāng)前光盤的長波長激光束進(jìn)行記錄。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種具有條形碼圖案(管理信息)、適合通過長波長激光進(jìn)行記錄，并可以通過短波長激光記錄數(shù)據(jù)的信息存儲(chǔ)介質(zhì)。
作為本發(fā)明的一個(gè)例子，信息存儲(chǔ)介質(zhì)包括一個(gè)由同時(shí)對(duì)第一波段光束和比第一波段短的第二波段光束具有預(yù)定或更高靈敏度的染料形成的記錄層，其中，所述記錄層包括一個(gè)同心的管理信息區(qū)和一個(gè)同心的數(shù)據(jù)區(qū)，所述管理信息區(qū)包括多個(gè)由第一波段光束形成且沿圓周方向排列的條狀圖案，這些多個(gè)沿圓周方向排列的條狀圖案形成了管理信息，而數(shù)據(jù)區(qū)配置成通過第二波段光束記錄數(shù)據(jù)。
本發(fā)明的其它目的和優(yōu)點(diǎn)將在下面的說明書中進(jìn)行描述，并且通過說明書將在某種程度上變得更加清楚，或可以通過本發(fā)明的實(shí)踐來獲知。本發(fā)明的目的和優(yōu)點(diǎn)可以通過在下文具體指出的各種手段及其組合得以實(shí)現(xiàn)和得到。


附圖，被插入說明書中并組成說明書的一部分，闡述了本發(fā)明的具體實(shí)施方式
，并與上面給出的概述和下面給出的實(shí)施方式的具體描述一起，用來解釋本發(fā)明的原理。
圖1作為本發(fā)明信息存儲(chǔ)介質(zhì)的一個(gè)例子，表示在光盤(WORM光盤)上燒錄區(qū)(BCA)結(jié)構(gòu)的示意圖；圖2表示制造這種光盤方法流程的一個(gè)例子的示意圖；圖3表示染料混合物吸收特性的例子的曲線圖，所述染料混合物是通過以幾種混合比例將對(duì)650nm光束具有預(yù)定或更高靈敏度的染料混合到對(duì)405nm光束具有預(yù)定或更高靈敏度的基礎(chǔ)染料中得到的；圖4表示染料a至染料d作為對(duì)405nm光束敏感的基礎(chǔ)染料的四個(gè)例子的表格；圖5A至5C表示染料a至染料c光吸收特性例子的曲線圖；圖6A和6B表示染料d光吸收特性例子的曲線圖；以及圖7A至7G表示染料f至染料l光吸收特性例子的曲線圖。
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明的具體實(shí)施方式
將參考附圖在下面進(jìn)行描述。
圖1作為本發(fā)明信息存儲(chǔ)介質(zhì)的一個(gè)例子，表示光盤(WORM光盤)燒錄區(qū)(BCA)結(jié)構(gòu)的示意圖。圖2表示制造這種光盤方法流程的示意圖。圖3表示染料混合物吸收特性的曲線圖，所述染料混合物是以幾種混合比例將對(duì)650nm光束具有預(yù)定或更高靈敏度的染料混合到對(duì)405nm光束具有預(yù)定或更高靈敏度的基礎(chǔ)染料中形成的。
當(dāng)要制造光盤OD時(shí)，將盤獨(dú)有信息或管理信息記錄在盤上。所述盤獨(dú)有信息例如為復(fù)制保護(hù)信息。例如，采用該復(fù)制保護(hù)信息識(shí)別每一個(gè)盤。
在光盤，例如CD、DVD、BD或HD-DVD上，盤唯一信息或管理信息以條形碼圖案的形式預(yù)先記錄在盤的內(nèi)圓周部分的燒錄區(qū)內(nèi)。為了在盤上形成其中記錄有條形碼圖案的BCA，當(dāng)制造光盤時(shí)，可以將要記錄到燒錄區(qū)內(nèi)的條形碼圖案記錄在作為模具的壓模上。要在每一個(gè)盤上記錄獨(dú)有信息，用激光在制造的盤的燒錄區(qū)內(nèi)記錄條形碼圖案也是可能的。在只讀盤中，通過激光束燒掉鋁或類似物的反射膜來記錄條形碼圖案。另一方面，在相變記錄型盤中，通過用激光改變相變記錄膜的相態(tài)改變反射率來記錄條形碼圖案。
不幸地是，一種采用有機(jī)染料的WORM光盤存在這樣的問題即使通過使用BCA記錄裝置發(fā)射激光束，也不能正確地記錄BCA圖案。一個(gè)原因是染料對(duì)波長的依賴性高。所述BCA記錄裝置通過使用當(dāng)前一代的波長(例如650nm)的激光束在光盤上記錄BCA圖案。然而，即使當(dāng)將一個(gè)具有當(dāng)前一代波長(例如650nm)的激光束應(yīng)用于對(duì)應(yīng)下一代短波長(例如405nm)的光盤上時(shí)，也不能正確地形成BCA圖案。再有，WORM光盤使用一種具有高傳熱性的銀(Ag)基材料作為反射膜。從BCA記錄裝置發(fā)出的激光點(diǎn)的能量密度低，從而導(dǎo)致熱量不足。因此，這種BCA記錄裝置由于靈敏度不夠，不能在WORM光盤上正確地記錄任何BCA圖案。
因此，在本發(fā)明中，WORM光盤(一種對(duì)應(yīng)405nm波長的光盤)通過使用下述有機(jī)染料作為記錄層來形成。也就是說，形成本發(fā)明WORM光盤OD記錄層1的有機(jī)染料通過將對(duì)波長為600-700nm光束具有預(yù)定或更高靈敏度的染料(第二染料)混合到對(duì)波長為405nm光束具有預(yù)定或更高靈敏度的下一代光盤染料(第一染料)中而得到。也就是說，形成本發(fā)明WORM光盤OD記錄層1的有機(jī)染料對(duì)用作BCA記錄裝置激光源、波長為600-700nm的光束具有記錄靈敏度，且對(duì)波長為405nm的光束也具有記錄靈敏度。光盤OD的記錄層1還具有位于同心內(nèi)圓周側(cè)的BCA 11和位于同心外圓周側(cè)的數(shù)據(jù)區(qū)21。BCA 11具有多個(gè)通過波長600-700nm光束形成、沿圓周方向排列的BCA圖案(類似條形圖案)12。沿圓周方向排列的BCA圖案12形成管理信息。注意，BCA圖案12是具有幾十微米寬(切線方向)和約幾百微米長(半徑方向)的條形碼圖案。另一方面，數(shù)據(jù)區(qū)21可以用405nm光束記錄用戶數(shù)據(jù)。
在這個(gè)具體實(shí)施方式
中，光盤OD是直徑為120mm、厚度為1.2mm(兩個(gè)0.6mm厚的聚碳酸酯鑄?；澈隙?、采用有機(jī)染料作為記錄層1的WORM光盤，且BCA 11具有一個(gè)半徑為22.3-23.1mm的類環(huán)狀外形。光盤OD的記錄和回放通過采用405nm波長光作為記錄/回放光、數(shù)值孔徑(NA)為0.65的光學(xué)系統(tǒng)來實(shí)現(xiàn)。同樣，在數(shù)據(jù)區(qū)21中形成且相互鄰近的凹槽之間在半徑方向上的距離(軌跡間距)是400nm。注意，本發(fā)明不限于這些說明。
接下來描述光盤OD的材料。鑄?；删厶妓狨ブ瞥?，用于鑄造用的壓模是由鎳(Ni)制成的，記錄層1由一種有機(jī)染料，即偶氮染料、重氮染料、花青染料、酞菁染料、苯乙烯染料及其混合物制成。反射膜是由銀(Ag)、鋁(Al)、金(Au)或基于這些金屬任一種的金屬化合物制成，以及粘合劑是由丙烯酸系或環(huán)氧基紫外固化樹脂制成。然而，本發(fā)明不限于這些材料。
參考圖2下面將解釋光盤OD的制造方法。母盤由表面進(jìn)行了拋光和清洗的玻璃制成(ST21)。在母盤的表面涂覆一層光致抗蝕劑(光刻膠)(ST22)，并使光致抗蝕劑表面曝露在激光束或類似物中以記錄信息(ST23)。然后，對(duì)曝光后的母盤顯影，以形成突起和凹陷部分，例如凹坑和凹槽(ST24)。之后，對(duì)母盤進(jìn)行電鍍以形成壓模ST(ST25)。壓模ST的主要材料是鎳。通過使用壓模ST作為模具，由樹脂制成的鑄?；ㄟ^注射成型法形成(ST26)。采用聚碳酸酯作為樹脂。將作為記錄層1的有機(jī)染料通過旋涂法涂敷到如此形成的鑄?；?ST27)。在染料層上形成反射層，并粘合上一個(gè)基片以形成光盤(ST28)。對(duì)該盤獨(dú)有的BCA圖案12通過BCA記錄裝置記錄在粘合的盤的BCA 11中。
形成光盤OD記錄層1的有機(jī)染料是通過將當(dāng)用600-700nm波長光束照射時(shí)具有0.15或更高吸收率(特別是當(dāng)用650nm波長光束照射時(shí)具有0.2或更高吸收率)的染料(第二染料)混合到當(dāng)用405nm波長光束照射時(shí)具有0.35或更高吸收率的染料(第一染料)中而得到的。也就是說，形成本發(fā)明WORM光盤OD記錄層1的有機(jī)染料對(duì)用作BCA記錄裝置激光源、波長為600-700nm的光束具有記錄靈敏度，也對(duì)波長為405nm的光束具有記錄靈敏度。
圖3表示對(duì)650nm波長光束具有預(yù)定或更高靈敏度的染料(第二染料)以(A)0％、(B)2.5％、(C)5％和(D)7.5％的比例混合到對(duì)405nm波長光束具有預(yù)定或更高靈敏度的基礎(chǔ)染料(第一染料)中的情形。注意，對(duì)650nm波長光束具有預(yù)定或更高靈敏度的染料為最大吸收波長為650nm的CD-R染料。
如圖3所示，吸收率在650nm波長附近變化?；旌媳嚷蕛?yōu)選為7.5％。如果混合比率為5.0％，靈敏度就不足。如果混合比率為10％，基礎(chǔ)染料的特性就會(huì)劣化。也就是說，當(dāng)以約7.5％的比率將對(duì)650nm波長光束敏感的染料混合到對(duì)405nm波長光束敏感的基礎(chǔ)染料中時(shí)，就可能形成既對(duì)405nm波長光束具有預(yù)定或更高的靈敏度，又對(duì)650nm波長光束具有預(yù)定或更高靈敏度的記錄層1。設(shè)A2為當(dāng)用405nm波長光束照射材料時(shí)的吸收率，A1為當(dāng)用650-700nm波長光束照射材料時(shí)的吸收率，希望形成記錄層1的染料具有的光吸收特性滿足A1≥A2×0.5(當(dāng)用650nm波長光束照射材料時(shí)的吸收率理想地是當(dāng)用405nm波長光束照射材料時(shí)的吸收率的0.5倍或更大)。
當(dāng)使用具有如圖3中D所表示的光吸收率特性的染料時(shí)，可以直接使用對(duì)應(yīng)當(dāng)前DVD 600-700nm波長的BCA記錄裝置將BCA圖案記錄在對(duì)應(yīng)405nm波長的下一代光盤OD 1上。當(dāng)同時(shí)安裝了當(dāng)前DVD和下一代DVD的生產(chǎn)線時(shí)，不必引進(jìn)任何新的昂貴的短波長BCA記錄裝置。
WORM光盤包括一個(gè)記錄標(biāo)志反射比變得比未記錄部分低的高/低介質(zhì)和一個(gè)記錄標(biāo)志反射比變得比未記錄部分高的低/高介質(zhì)(例如，當(dāng)使用如特開平第2002-74740號(hào)和第2002-206061號(hào)日本專利公開所述的染料時(shí))。本發(fā)明適合于兩者中任一種介質(zhì)。此外，本發(fā)明不僅適合于如圖1所示BCA圖案12記錄在BCA 11中的情況，也適合于通過“未記錄”部分(例如空白字符)形成BCA圖案12的情況。
接下來，在下文中將對(duì)對(duì)405nm光束敏感的基礎(chǔ)染料(第一染料)和對(duì)650nm光束敏感的染料(第二染料)的例子進(jìn)行解釋。對(duì)650nm光束敏感的染料的一個(gè)例子是一種酞菁染料，例如Ciba Speciality Chemicals生產(chǎn)的IRGPHORUltra green MX。
下面描述的材料可以用作對(duì)405nm光束敏感的基礎(chǔ)染料。該基礎(chǔ)染料由染料部分和反離子(陰離子)部分構(gòu)成。對(duì)于染料部分，可以使用例如花青染料和苯乙烯染料。花青染料和苯乙烯染料是特別受歡迎的，因?yàn)槠鋵?duì)記錄波長的吸收率很容易控制。
在這些染料中，如果使涂敷在透明樹脂基片上的記錄膜變薄，具有單甲川(monomethine)鏈的單甲川花青(monomethinecyanine)染料使容易地調(diào)節(jié)最大吸收值和在記錄波長區(qū)域(400-450nm)的吸收率到約0.3-0.5、并優(yōu)選為約0.4成為可能。這使改善記錄/回放特性、提高光反射率和記錄靈敏度成為可能。
從光穩(wěn)定性的角度出發(fā)，同樣優(yōu)選陰離子部分由有機(jī)金屬配合物組成。含有鈷或鎳作為中心金屬的有機(jī)金屬配合物具有特別高的光穩(wěn)定性。
偶氮金屬配合物是最受歡迎的，并且當(dāng)使用2，2，3，3-四氟-1-丙醇(TFP)作為溶劑時(shí)，其溶解度很高，從而可以容易地制備用于旋涂的溶液。并且，由于旋涂后的回收使用成為可能，所以可以降低光盤的制造成本。
圖4表示染料a至染料d作為有機(jī)染料的四個(gè)例子。染料a含有一種苯乙烯染料作為染料部分(陽離子部分)，以及一種偶氮金屬配合物作為陰離子部分。染料c含有一種苯乙烯染料作為染料部分(陽離子部分)，以及一種偶氮金屬配合物作為陰離子部分。染料d含有一種單甲川花青染料作為染料部分(陽離子部分)，以及一種偶氮金屬配合物作為陰離子部分。注意，也可以單獨(dú)使用有機(jī)金屬配合物。例如，染料b是一種鎳配合物染料。
將通過旋涂法涂敷薄有機(jī)染料膜的盤基片的染料通過熱板或潔凈烘箱在80℃干燥，并且在薄染料膜上通過濺射形成用作光反射膜的薄金屬膜。對(duì)于這種金屬反射膜材料，可以使用諸如金、銀、銅、鋁或這些金屬任何的合金。
之后，通過旋涂法將紫外固化樹脂涂敷到金屬膜上，并粘合保護(hù)性的盤基片，從而制造出作為WORM信息記錄介質(zhì)的WORM光盤。
化學(xué)式1表示用作染料a和染料c染料部分的苯乙烯染料的化學(xué)式，化學(xué)式2表示用作染料a和染料c陰離子部分的偶氮金屬配合物的化學(xué)式。同樣，化學(xué)式3表示用作染料d染料部分的單甲川花青染料的化學(xué)式，化學(xué)式4表示用作染料d陰離子部分的偶氮金屬配合物的化學(xué)式。
[化學(xué)式2] [化學(xué)式3] 在上述苯乙烯染料的化學(xué)式中，Z3表示芳香環(huán)，并且該芳香環(huán)可以具有取代基。Y31表示碳原子或雜原子。R31、R32和R33表示相同的脂肪族烴基或不同的脂肪族烴基，并且這些脂肪族烴基可以具有取代基。R34和R35各自獨(dú)立地表示氫原子或適當(dāng)?shù)娜〈?。如果Y31是雜原子，R34和R35之一或全部不存在。
同樣，在上述單甲川花青染料的化學(xué)式中，Z1和Z2表示相同的芳香環(huán)或不同的芳香環(huán)，并且芳香環(huán)可以具有取代基。Y11和Y12各自獨(dú)立地表示碳原子或雜原子。R11和R12表示脂肪族烴基，并且這些脂肪族烴基可以具有取代基。R13、R14、R15和R16各自獨(dú)立地表示氫原子或適當(dāng)?shù)娜〈Ｈ绻鸜11和Y12為雜原子，R13、R14、R15和R16部分或全部不存在。
在這個(gè)具體實(shí)施方式
中使用的單甲川花青染料是一種可以具有一個(gè)或多個(gè)取代基的相同或不同環(huán)狀核(cyclic nuclei)與可以具有一個(gè)或多個(gè)取代基的單甲川鏈的兩端連接的染料。環(huán)狀核的例子如咪唑啉環(huán)、咪唑環(huán)、苯并咪唑環(huán)、α-萘并咪唑環(huán)、β-萘并咪唑環(huán)、吲哚環(huán)、異吲哚環(huán)、假吲哚環(huán)、異假吲哚環(huán)、苯并假吲哚環(huán)、吡啶并假吲哚環(huán)、噁唑啉環(huán)、噁唑環(huán)、異噁唑環(huán)、苯并噁唑環(huán)、吡啶并噁唑環(huán)、α-萘并噁唑環(huán)、β-萘并噁唑環(huán)、硒唑啉環(huán)、硒唑環(huán)、苯并硒唑環(huán)、α-萘并硒唑環(huán)、β-萘并硒唑環(huán)、噻唑啉環(huán)、噻唑環(huán)、異噻唑環(huán)、苯并噻唑環(huán)、α-萘并噻唑環(huán)、β-萘并噻唑環(huán)、碲唑啉(tellurazoline)環(huán)、碲唑(tellurazole)環(huán)、苯并碲唑環(huán)、α-萘并碲唑環(huán)、β-萘并磅唑環(huán)、吖啶環(huán)、蒽環(huán)、異喹啉環(huán)、異吡咯環(huán)、咪唑酰啉(imidanoxaline)環(huán)、茚滿二酮(indandione)環(huán)、吲唑環(huán)、吲達(dá)啉(indaline)環(huán)、噁二唑環(huán)、咔唑環(huán)、氧雜蒽環(huán)、喹唑啉環(huán)、喹喔啉環(huán)、喹啉環(huán)、苯并二氫吡喃環(huán)、環(huán)己二酮環(huán)、環(huán)戊二酮環(huán)、噌啉環(huán)、噻二唑(thiodiazole)環(huán)、噻唑烷酮(thioxazolidone)環(huán)、噻吩環(huán)、硫茚環(huán)、硫代巴比妥酸環(huán)、乙內(nèi)酰硫脲環(huán)、四唑環(huán)、三嗪環(huán)、萘環(huán)、萘啶環(huán)、哌嗪環(huán)、吡嗪環(huán)、吡唑環(huán)、吡唑啉環(huán)、吡唑烷環(huán)、吡唑啉酮環(huán)、吡喃環(huán)、吡啶環(huán)、噠嗪環(huán)、嘧啶環(huán)、吡喃鎓環(huán)、吡咯烷環(huán)、吡咯啉環(huán)、吡咯環(huán)、吩嗪環(huán)、菲啶環(huán)、菲環(huán)、菲咯啉環(huán)、酞嗪環(huán)、puterizine環(huán)、呋咱環(huán)、呋喃環(huán)、嘌呤環(huán)、苯環(huán)、苯并噁嗪環(huán)、苯并吡喃環(huán)、嗎啉環(huán)和繞丹寧環(huán)。
同時(shí)在單甲川花青和苯乙烯染料中，Z1至Z3表示芳香環(huán)，如苯環(huán)、萘環(huán)、吡啶環(huán)、喹啉環(huán)和喹喔啉環(huán)，并且這些芳香環(huán)可以具有一個(gè)或多個(gè)取代基。這種取代基的例子如脂肪族烴基，如甲基、三氟代甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、異戊基、新戊基、叔戊基、1-甲基戊基、2-甲基戊基、己基、異己基、5-甲基己基、庚基和辛基；脂環(huán)烴基，如環(huán)丙基、環(huán)丁基、環(huán)戊基和環(huán)己基；芳香烴基，如苯基、聯(lián)苯基、鄰甲苯基、間甲苯基、對(duì)甲苯基、二甲苯基、2，4，6-三甲苯基、鄰異丙苯基、間異丙苯基和對(duì)異丙苯基；醚基，如甲氧基、三氟代甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、戊氧基、苯氧基和苯甲酸基；酯基，如甲氧羰基、三氟代甲氧羰基、乙氧羰基、丙氧羰基、醋酸基和苯甲酸基；鹵素基團(tuán)，如氟原子、氯原子、溴原子和碘原子；硫狀基團(tuán)，如甲硫基、乙硫基、丙硫基、丁硫基和苯硫基；氨磺?；缂谆被酋；?、二甲基氨磺酰基、乙基氨磺?；?、二乙基氨磺?；?、丙基氨磺酰基、二丙基氨磺?；?、丁基氨磺?；投』被酋；?；胺基，如伯胺基、甲胺基、二甲胺基、乙胺基、二乙胺基、丙胺基、二丙胺基、異丙胺基、二異丙胺基、丁胺基、二丁胺基和哌啶子基；氨基甲?；?，如甲胺基甲?；⒍装坊柞；?、乙胺基甲酰基、二乙胺基甲酰基、丙胺基甲酰基和二丙胺基甲?；?；羥基、羧基、氰基、硝基、亞磺基、磺基和甲磺酰基。注意，在化學(xué)式內(nèi)，Z1和Z2可以相同或不同。
在單甲川花青和苯乙烯染料的化學(xué)式中，Y11、Y12和Y31表示碳原子或雜原子。雜原子的例子如元素周期表15族和16族中的原子，如氮原子、氧原子、硫原子、硒原子和碲原子。注意，Y11、Y12和Y31表示的碳原子也可以是主要含有兩個(gè)碳原子的原子團(tuán)，如亞乙基或1，2-亞乙烯基。同樣要注意，在單甲川花青染料的化學(xué)式中，Y11和Y12可以相同或不同。
在單甲川花青和苯乙烯染料的化學(xué)式中，R11、R12、R13、R32和R33表示脂肪族烴基。這樣的脂肪族烴基的例子如甲基、乙基、丙基、異丙基、異丙烯基、1-丙烯基、2-丙烯基、丁基、異丁基、仲丁基、叔丁基、2-丁烯基、1，3-丁二烯基、戊基、異戊基、新戊基、叔戊基、1-甲基戊基、2-甲基戊基、2-戊烯基、己基、異己基、5-甲基己基、庚基和辛基。這些脂肪族烴基可以具有一個(gè)或多個(gè)與Z1至Z3的那些類似的取代基。
注意，在單甲川花青染料化學(xué)式中的R11和R12與在苯乙烯染料化學(xué)式中的R13、R32和R33可以相同或不同。
在單甲川花青和苯乙烯染料的化學(xué)式中，R13至R16、R34和R35在每個(gè)化學(xué)式中各自獨(dú)立地表示氫原子或適當(dāng)?shù)娜〈＿@樣的取代基的例子如脂肪烴基，如甲基、三氟代甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、異戊基、新戊基、叔戊基、1-甲基戊基、2-甲基戊基、己基、異己基、5-甲基己基、庚基和辛基；醚基，如甲氧基、三氟代甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、叔丁氧基、戊氧基、苯氧基和苯甲酸基；鹵素基團(tuán)，如氟原子、氯原子、溴原子和碘原子；羥基、羧基、氰基和硝基。注意，在單甲川花青和苯乙烯染料的化學(xué)式中，如果Y11、Y12和Y31為雜原子，Z1和Z2上的R13至R16的部分或全部以及Z3上的R34和R35之一或全部不存在。
在偶氮金屬配合物的化學(xué)式中，A和A′表示5到10元的雜環(huán)基團(tuán)，如呋喃基、噻吩基、吡咯基、吡啶基、哌啶子基、哌啶基、喹啉基和異噁唑基，它們相同或不同，含有一個(gè)或多個(gè)選自氮原子、氧原子、硫原子、硒原子和碲原子的雜原子。該雜環(huán)基團(tuán)可以具有一個(gè)或多個(gè)取代基，如脂肪族烴基，如甲基、三氟代甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、異戊基、新戊基、叔戊基、1-甲基戊基、2-甲基戊基、己基、異己基和5-甲基己基；酯基，如甲氧羰基、三氟代甲氧羰基、乙氧羰基、丙氧羰基、醋酸基、三氟代醋酸基和苯甲酸基；芳香族烴基，如苯基、聯(lián)苯基、鄰甲苯基、間甲苯基、對(duì)甲苯基、鄰異丙苯基、間異丙苯基、對(duì)異丙苯基、二甲苯基、2，4，6-三甲苯基、苯乙烯基、肉桂?；洼粱?；羧基、羥基、氰基和硝基。
注意，形成化學(xué)式表示的偶氮基有機(jī)金屬配合物的偶氮化合物可以根據(jù)傳統(tǒng)的方法、通過具有對(duì)應(yīng)化學(xué)式的R21和R22或R23和R24基團(tuán)的重氮鹽與在分子式中具有與羰基相鄰的活性亞甲基的雜環(huán)化合物，如異噁唑酮化合物、噁唑酮化合物、硫茚化合物、吡唑啉酮化合物、巴比妥酸化合物、乙內(nèi)酰脲化合物或繞丹寧化合物反應(yīng)來得到。Y21和Y22表示選自元素周期表16族中元素的相同或不同雜原子，如氧原子、硫原子、硒原子和碲原子。
通常以其中一個(gè)或多個(gè)原子圍繞金屬(中心原子)配位的金屬配合物的形式使用化學(xué)式表示的偶氮金屬配合物。金屬元素作為中心原子的例子如鈧、釔、鈦、鋯、鉿、釩、鈮、鉭、鉻、鉬、鎢、錳、锝、錸、鐵、釕、鋨、鈷、銠、銥、鎳、鈀、鉑、銅、銀、金、鋅、鎘和汞，并且鈷特別受喜歡。
圖5A表示相對(duì)發(fā)射激光束波長的染料a吸收率的變化。圖5B表示相對(duì)發(fā)射激光束波長的染料b吸收率的變化。圖5C表示相對(duì)發(fā)射激光束波長的染料c吸收率的變化。
同樣，圖6A表示相對(duì)發(fā)射激光束波長的染料d吸收率的變化。圖6B表示相對(duì)發(fā)射激光束波長的染料d陰離子部分吸收率的變化。
有機(jī)染料也可以是七種混合染料f至l，代替上述的a至d的四種染料，這些混合染料是通過染料a至d中的兩種或多種混合得到的。
混合染料f通過添加5％的染料b到染料d中得到，即混合0.05g的染料b到1g染料d中。
混合染料g通過以7∶3(＝D∶E)的比率混合作為染料e的單甲川花青染料(陰離子部分為偶氮金屬配合物3)到染料d中，再添加5％的染料b來得到，即混合0.05g染料b到1g染料中，這1g染料中染料d和e以7∶3的比率混合。
混合染料h通過以1∶1(＝D∶A)比率混合染料a到染料d中來得到。
混合染料i通過添加10％染料b到染料d中來得到，即混合0.10g染料b到1g染料d中。
混合染料j通過添加15％的染料b到染料d中來得到，即混合0.15g染料b到1g染料d中。
混合染料k通過添加陰離子部分的偶氮金屬配合物1到染料d中，以提高陰離子比率為染料部分∶陰離子部分＝1∶1.5，然后再加上15％的染料b來得到。
混合染料l通過添加陰離子部分的偶氮金屬配合物1到染料d中，以提高陰離子比率為染料部分∶陰離子部分＝1∶2.0，然后再加上15％的染料b來得到。
圖7A至7G表示相對(duì)發(fā)射激光束波長的混合染料f至l吸收率的變化。在記錄波長(405nm)下每一個(gè)混合染料f至l的吸收率都接近約0.4。
那些本領(lǐng)域技術(shù)人員很容易想到其它的優(yōu)點(diǎn)和改變。因此，本發(fā)明在其更寬的方面并不局限于上述的具體細(xì)節(jié)和在這里表觀和描述的代表性實(shí)施方式。相應(yīng)地，可以作出各種修改而不偏離如后附的權(quán)利要求及其等價(jià)物所定義的一般發(fā)明概念的精神或范圍。
權(quán)利要求
1.一種信息存儲(chǔ)介質(zhì)，其特征在于包括由具有不低于同時(shí)對(duì)第一波段光束和比第一波段短的第二波段光束的預(yù)定靈敏度水平的染料形成的記錄層(1)，其中，所述記錄層包括同心的管理信息區(qū)(11)；以及同心的數(shù)據(jù)區(qū)(21)，所述管理信息區(qū)包括多個(gè)由第一波段光束形成且沿圓周方向排列的條狀圖案，所述沿圓周方向排列的多個(gè)條狀圖案形成管理信息，以及數(shù)據(jù)區(qū)配置成通過具有第二波段的光束記錄數(shù)據(jù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的介質(zhì)，其特征在于設(shè)A1為當(dāng)用第一波段光束照射染料時(shí)的吸收率，A2為當(dāng)用第二波段光束照射染料時(shí)的吸收率，所述染料具有滿足A1≥A2×0.5的光吸收特性。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的介質(zhì)，其特征在于所述染料是通過混合具有不低于對(duì)第一波段光束的預(yù)定靈敏度水平的第二染料到具有不低于對(duì)第二波段光束的預(yù)定靈敏度的第一染料中得到的。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的介質(zhì)，其特征在于所述染料通過混合7.5％的第二染料到第一染料中得到的。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的介質(zhì)，其特征在于所述第一波段包括650nm的波長，而第二波段包括405nm的波長。
全文摘要
作為本發(fā)明一個(gè)例子的一種信息存儲(chǔ)介質(zhì)，包括由對(duì)第一波段光束和比第一波段短的第二波段光束具有預(yù)定或更高靈敏度水平的染料形成的記錄層(1)。所述記錄層包括同心的管理信息區(qū)(11)和同心的數(shù)據(jù)區(qū)(21)。所述管理信息區(qū)包括多個(gè)通過第一波段光束形成且沿圓周方向排列的條狀圖案。多個(gè)沿圓周方向排列的條狀圖案形成管理信息。所述數(shù)據(jù)區(qū)可以通過第二波段光束記錄數(shù)據(jù)。
文檔編號(hào)G11B7/246GK1811943SQ20051011916
公開日2006年8月2日 申請(qǐng)日期2005年11月30日 優(yōu)先權(quán)日2004年11月30日
發(fā)明者大寺泰章, 高澤孝次, 森下直樹, 森田成二, 中村直正, 小川昭人 申請(qǐng)人:株式會(huì)社東芝