專利名稱：光記錄及再現(xiàn)設備的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種光記錄及再現(xiàn)設備，更具體地說，涉及一種適于在其層方向中布置有多個記錄層的光記錄介質(zhì)上記錄信息以及從中再現(xiàn)信息時使用的光記錄及再現(xiàn)設備。
背景技術：
現(xiàn)今，諸如CD(光盤)和DVD(數(shù)字多功能盤)之類的各種光記錄介質(zhì)已經(jīng)商品化并且廣泛使用。在這些記錄介質(zhì)中，在諸如CD-R和DVD-R之類的一次寫入介質(zhì)以及諸如CD-RW和DVD-RW之類的可重寫介質(zhì)中，首先執(zhí)行用于將激光功率設置為最優(yōu)值的過程(OPC最優(yōu)寫入功率控制)，然后執(zhí)行記錄操作。例如，在CD-R或DVD-R中，例如如JP 2002-260230所示，在β方法之后執(zhí)行功率設置(OPC)。也就是說，在盤上預先設置的功率調(diào)整部分以預定功率執(zhí)行測試寫入，以從其再現(xiàn)RF信號(不對稱)獲得β值。然后，將所獲得的β值與盤上所希望的目標β值相互比較，以在記錄時設置最優(yōu)功率。
圖13示出了β值的計算方法。如圖13所示，通過根據(jù)相對于參考電勢Iref的不對稱幅度值Itop和Ibtm來計算β＝(Itop+Ibtm)/(Itop-Ibtm)，由此獲得β值。
在測試寫入時，將激光功率設置為在盤的導入?yún)^(qū)(lead-in)中預先記錄的初始功率或者在驅動側預先設置為初始值的初始功率。使用該初始功率Pw1來執(zhí)行測試寫入，以獲得β值，將所獲得的β值與目標值βt相比較，以便獲得在下一次測試寫入時使用的激光功率Pw2。然后，使用所獲得的功率Pw2再次執(zhí)行測試寫入，以再次獲得β值。
當執(zhí)行兩次測試寫入時，如圖14所示，使用功率Pw1和Pw2來執(zhí)行測試寫入。所獲得的β1和β2經(jīng)歷線性逼近，并且在逼近線上獲得可以給出βt的激光功率。將所獲得的激光功率直接設置為最優(yōu)激光功率，或者驗證是否可以將該功率設置為最優(yōu)激光功率。在驗證中，使用該功率再次執(zhí)行測試寫入，并且在再現(xiàn)測試寫入的數(shù)據(jù)時獲得誤差率。然后，判斷該誤差率是否小于閾值，并且當該誤差率小于閾值時，將該激光功率設置為最優(yōu)激光功率。此后，以如此設置的最優(yōu)激光功率來開始記錄操作。
然而，在記錄操作期間，由于盤或半導體激光器使用環(huán)境等的變化，必須調(diào)整記錄激光功率。例如，在上述CD-R、DVD-R等中使用有機染料作為記錄層材料，因此，記錄層的反射率根據(jù)波長改變而改變。另一方面，在打開之后，半導體激光器的溫度隨時間增加，因此輸出激光束的波長偏移。因此，在諸如CD-R或DVD-R之類具有波長依賴性的記錄介質(zhì)中，基于打開半導體激光器之后波長的變化，來執(zhí)行動態(tài)改變記錄功率的過程(R-OPC運行中最優(yōu)寫入功率控制)。
同時，JP 3096239 B公開了一種在記錄時根據(jù)RF信號來動態(tài)改變記錄功率的設置值的技術。
圖15示出了在記錄期間記錄信號與檢測到的RF信號之間的關系。在圖15中，在記錄信號間隔部分以再現(xiàn)功率電平的激光束照射記錄層，并且在標記部分中激光功率上升到記錄功率電平。然而，緊接著記錄功率的上升時刻之后，沒有標記形成。因此，所獲得的反射光數(shù)量與利用記錄功率電平的激光束照射間隔部分時所獲得的數(shù)量相同(在該附圖中，RF信號根據(jù)光的數(shù)量確定后文相同)。此后，當隨著記錄層的溫度升高形成標記時，反射光電平(RF信號)相應下降，并且逐漸過渡到標記信息之后的反射電平(RF信號)。
這里，如果得到緊接著記錄功率上升時刻之后的反射光電平(在圖15中，表示為“間隔電平”)以及標記部分中的反射光電平(在圖15中，表示為“標記電平”)，則可以計算反射光強度的調(diào)制程度，并且可以在記錄的同時實時監(jiān)視記錄標記信息的條件。鑒于此，根據(jù)JP3096239 B，在記錄時從RF信號檢測間隔電平和標記電平，并且基于反射光強度的調(diào)制程度來調(diào)整記錄激光功率(R-OPC運行中OPC)。
順便地，近來已經(jīng)開發(fā)出在一側布置有多個記錄層的盤，并且已經(jīng)商業(yè)化。例如，JP 2003-346348 A公開了一種在一側布置有兩個記錄層的DVD-R及其驅動設備。
當一個盤表面上以這種方式布置了多個記錄層時，在對每個記錄層進行記錄操作時必須執(zhí)行最優(yōu)激光功率設置過程(OPC)以及功率調(diào)整過程(R-OPC)。
然而，在這種情形中，某些信息可能連續(xù)記錄在第一記錄層和第二記錄層上。當記錄位置從第一記錄層移位到第二記錄層時，必須調(diào)整設置激光功率的方式。在CD-R或DVD-R中，推薦每一層的記錄特性應該平衡這樣的設計，但是每一層的記錄特性不必總是平衡的。當每一層的記錄特性不平衡時，如果將第一記錄層的最后位置處所應用的激光功率的設置值(由R-OPC確定)在過渡時應用于第二記錄層，則記錄特性不符合第二記錄特性，這可能惡化記錄條件。另一方面，在過渡到第二記錄層時，可能要采用對第二記錄層執(zhí)行OPC的方法，但是在這種情形中，在從第一記錄層向第二記錄層過渡時出現(xiàn)時間延遲，這可能導致在過渡時干擾實時數(shù)據(jù)(例如，視頻數(shù)據(jù)或音頻數(shù)據(jù))的平穩(wěn)記錄。

發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述問題，因此本發(fā)明的目的是提供一種即使在記錄層之間過渡時也能迅速地及平穩(wěn)地執(zhí)行最優(yōu)功率設置過程的光記錄及再現(xiàn)設備。
根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供了一種光記錄及再現(xiàn)設備，用于在沿著層疊方向布置有多個記錄層的光記錄介質(zhì)上記錄信息，并且從所述光記錄介質(zhì)再現(xiàn)信息，該設備包括激光功率設置裝置，用于獲得記錄層n的激光束最優(yōu)功率與另一記錄層m的激光束最優(yōu)功率之間的比α，并且當記錄位置從所述記錄層n過渡到所述記錄層m時，將通過基于所述功率比α對過渡之前的激光束功率Pwn執(zhí)行校正所獲得的功率設置為過渡之后的激光束功率Pwm。
根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供了一種光記錄及再現(xiàn)設備，用于在沿著層疊方向布置有多個記錄層的光記錄介質(zhì)上記錄信息，并且從所述光記錄介質(zhì)再現(xiàn)信息，該設備包括激光功率設置裝置，用于獲得記錄層n的激光束最優(yōu)功率與另一記錄層m的激光束最優(yōu)功率之間的差異ΔPa，并且當記錄位置從所述記錄層n過渡到所述記錄層m時，將通過基于所述最優(yōu)功率差異ΔPa對過渡之前的激光束功率Pwn執(zhí)行校正所獲得的功率設置為過渡之后的激光束功率Pwm。
根據(jù)本發(fā)明的第一和第二方面，在從記錄層n向記錄層m過渡時，不需要執(zhí)行OPC，因此可以迅速執(zhí)行向記錄層m的過渡。因此，當記錄諸如視頻數(shù)據(jù)或音頻數(shù)據(jù)之類的實時數(shù)據(jù)時，可以平穩(wěn)地執(zhí)行從記錄層n到記錄層m的連續(xù)記錄。同樣，通過基于最優(yōu)功率比α或最優(yōu)功率差異ΔPa來對過渡之前的激光功率Pwn進行校正所獲得的功率被設置為過渡之后的激光功率Pwm，因此可以將記錄層m的記錄激光功率無誤差地設置為最優(yōu)功率。結果，可以使過渡時的記錄條件保持滿意。
在各個方面中，對于作為目標的預定記錄層，激光功率設置裝置還可以獲得所述記錄層的記錄區(qū)域開始位置處的激光束最優(yōu)功率與所述記錄層的記錄區(qū)域結束位置處的激光束最優(yōu)功率之間的激光束最優(yōu)功率的比值γ。當記錄位置從所述記錄層n過渡到所述記錄層m時，還可以基于所述比值γ來執(zhí)行校正，以獲得過渡之后的激光功率Pwm。另外，不是象上述過程那樣，而是針對作為目標的預定記錄層，激光功率設置裝置還可以獲得所述記錄層的記錄區(qū)域開始位置處的激光束最優(yōu)功率與所述記錄層的記錄區(qū)域結束位置處的激光束最優(yōu)功率之間的激光束最優(yōu)功率的差異ΔPb。當記錄位置從所述記錄層n過渡到所述記錄層m時，還可以基于所述差異ΔPb來執(zhí)行差異校正，以獲得過渡之后的激光功率Pwm。
當以這種方式來構建激光功率設置裝置時，即使在記錄區(qū)域開始位置與記錄區(qū)域結束位置之間的記錄特性存在差異，也可以將記錄激光功率無誤差地設置為記錄層m的記錄區(qū)域開始位置處的最優(yōu)功率。
注意，可以對作為目標的記錄層n或記錄層m獲得比值γ和差異ΔP。這樣，可以更適當?shù)卦O置過渡之后記錄層m處的激光功率。
注意，上述裝置的每個功能主要由下述實施方式中的控制器111來實現(xiàn)。


結合附圖，閱讀下面的詳細描述，本發(fā)明的上述以及其他目的和新穎特征將變得更加完全清楚，附圖中圖1示出了根據(jù)實施方式的光盤的結構；圖2示出了根據(jù)實施方式的光盤的區(qū)域格式；圖3示出了根據(jù)實施方式的光盤驅動器的結構；圖4是根據(jù)實施例1的功率設置過程的流程圖；圖5是根據(jù)實施例1的層1的OPC過程的流程圖；圖6是根據(jù)實施例1的層2的OPC過程的流程圖；圖7是根據(jù)實施例1的記錄操作時的過程流程圖；圖8是根據(jù)實施例2的功率設置過程的流程圖；圖9是根據(jù)實施例2的記錄操作時的過程流程圖；圖10示出了根據(jù)實施例3的光盤的區(qū)域格式；圖11是根據(jù)實施例3的功率設置過程的流程圖；圖12是根據(jù)實施例3的記錄操作時的過程流程圖；圖13是用于解釋β值的計算方法的圖；圖14是用于解釋β值的逼近線以及最優(yōu)功率Pwp的計算方法的圖；以及圖15是用于解釋R-OPC的執(zhí)行方法的圖。
具體實施例方式
后文中，將基于附圖描述本發(fā)明的實施方式。注意，這些實施方式是在如下情形中做出的將本發(fā)明應用于光盤驅動器，以便在一側布置有兩個記錄層的DVD+R上記錄及再現(xiàn)信息。
首先，圖1示出了根據(jù)實施方式的光盤結構。如圖1所示，光盤包括襯底11、在襯底11之上形成的第一記錄層12、在第一記錄層12上之上形成的半透射反射層13、在半透射反射層13之上形成的間隔區(qū)14、在間隔區(qū)14之上形成的第二記錄層15、在第二記錄層15之上形成的反射層16、在反射層16之上形成的保護層17、以及在保護層17之上形成的印刷層18。
在第一記錄層12和第二記錄層15的每一個上從內(nèi)圍向外圍形成螺旋形軌道，并且在該軌道上執(zhí)行數(shù)據(jù)記錄和再現(xiàn)。這里，第一記錄層12中的軌道與第二記錄層15中的軌道具有相反的旋轉方向。當對第一記錄層12和第二記錄層15記錄/再現(xiàn)信息時，盤沿著相同方向旋轉。此時，在第一記錄層12上從內(nèi)圍向外圍執(zhí)行記錄，而在第二記錄層上從外圍向內(nèi)圍執(zhí)行記錄。
軌道在徑向擺動(wobble)，并且地址信息由這種擺動保持。也就是說，在單調(diào)的擺動間隔中周期性地插入稱之為ADIP(地址預制溝槽)的相位調(diào)制間隔。當利用光束掃描相位調(diào)制間隔時，根據(jù)軌道的反射光強度的改變，讀取該軌道上的地址信息并且將其再現(xiàn)。在導入?yún)^(qū)的ADIP中，通過相位調(diào)制記錄盤的各種控制數(shù)據(jù)，這些控制數(shù)據(jù)包括制造盤的盤制造商的標識信息(制造商ID)。
圖2示出了光盤1的區(qū)域格式。
如圖2所示，第一記錄層12(層1)從內(nèi)圍向外圍被分為內(nèi)驅動區(qū)域1、導入?yún)^(qū)、數(shù)據(jù)區(qū)、中間區(qū)1、以及外驅動區(qū)域1。第二記錄層15(層2)從內(nèi)圍向外圍被分為內(nèi)驅動區(qū)域2、導出(lead-out)區(qū)、數(shù)據(jù)區(qū)、中間區(qū)2、以及外驅動區(qū)域2。另外，內(nèi)驅動區(qū)域1和2以及外驅動區(qū)域1和2被分為多個區(qū)，其中使用內(nèi)盤測試區(qū)以及外盤測試區(qū)來執(zhí)行激光功率初始設置(OPC)。
圖3示出了根據(jù)實施方式的光盤驅動器的結構。
如圖3所示，光盤驅動器包括ECC編碼器101、調(diào)制電路102、激光器驅動電路103、激光功率調(diào)整電路104、光拾取器105、信號放大電路106、解調(diào)電路107、ECC解碼器108、伺服電路109、ADIP再現(xiàn)電路110、以及控制器111。
ECC編碼器101對輸入記錄數(shù)據(jù)執(zhí)行編碼處理(例如，加入糾錯碼)，并且將結果數(shù)據(jù)輸出到調(diào)制電路102。調(diào)制電路102對輸入記錄數(shù)據(jù)執(zhí)行預定的調(diào)制，以進一步生成記錄信號，以輸出到激光器驅動電路103。激光器驅動電路103在記錄時根據(jù)來自調(diào)制電路102的記錄信號，向半導體激光器105a輸出驅動信號，并且在再現(xiàn)時向半導體激光器105a輸出驅動信號以便以恒定強度輸出激光束。這里，激光功率被設置為由激光功率調(diào)整電路104所調(diào)整及設置的激光功率。
激光功率調(diào)整電路104在記錄和再現(xiàn)時根據(jù)從控制器111提供的設置值來執(zhí)行激光功率的初始設置(OPC)，根據(jù)從控制器111提供的調(diào)整值來適當?shù)卣{(diào)整(R-OPC)所設置的激光功率，并且將調(diào)整后的激光功率提供給激光器驅動電路103。這里，基于感興趣的盤的目標β值(βt)來執(zhí)行激光功率初始設置(OPC)。也就是說，控制器111獲得盤的目標β值(βt)，并且基于所獲得的βt，將記錄激光功率設置為盤的最優(yōu)功率。稍后將描述OPC的詳情。
激光功率調(diào)整(R-OPC)如下執(zhí)行例如，如圖15所示，在記錄時從RF信號檢測間隔電平以及標記電平，并且獲得反射光強度的調(diào)制程度，以控制所獲得的調(diào)制程度，從而沿著最優(yōu)功率處的調(diào)制程度。
注意，在記錄時，利用具有多級強度等級的脈沖激光束照射軌道。也就是說，激光功率調(diào)整電路104控制激光器驅動電路103，從而自光拾取器105輸出具有預先指定脈沖形狀(策略)的激光束。層1和層2具有不同策略，因此將層1和層2調(diào)整為對激光束具有相同靈敏度。關于層1和層2的策略的信息包括在導入?yún)^(qū)的ADIP中。激光功率調(diào)整電路104基于關于策略的信息設置在記錄操作時層1和層2的策略。
光拾取器105包括半導體激光器105a和光檢測器105b，并且通過將激光束會聚到軌道上來對盤執(zhí)行數(shù)據(jù)寫入/讀取。注意，光拾取器105還包括用于調(diào)整激光束對軌道的照射條件的物鏡驅動器、用于將從半導體激光器105輸出的激光束引導到物鏡并且將來自盤100的反射光引導到光檢測器105b的光學系統(tǒng)等。
信號放大電路106通過對從光檢測器105b接收到的信號進行放大和計算來生成各種信號，以將這些信號輸出到相應電路。解調(diào)電路107通過將從信號放大電路106輸入的再現(xiàn)RF信號解調(diào)來生成再現(xiàn)數(shù)據(jù)，并將再現(xiàn)數(shù)據(jù)輸出到ECC解碼器108。ECC解碼器108對從解調(diào)電路107輸入的數(shù)據(jù)執(zhí)行解碼過程(例如，糾錯)，并將結果數(shù)據(jù)輸出到后繼的電路。
伺服電路109根據(jù)從信號放大電路106輸入的聚焦誤差信號和跟蹤誤差信號來生成聚焦伺服信號與跟蹤伺服信號，并將所生成的信號輸出到光拾取器105的物鏡驅動器。同樣，伺服電路109還根據(jù)從信號放大電路106輸入的擺動信號來生成電機伺服信號，并且將所生成的信號輸出到盤驅動電機。
ADIP再現(xiàn)電路110根據(jù)從信號放大電路106輸入的擺動信號來再現(xiàn)地址信息以及各種控制信息，并且將再現(xiàn)的信息輸出到控制器111。
控制器111在內(nèi)置存儲器中存儲各種數(shù)據(jù)，同時根據(jù)預先設置的程序來控制每個部分。
注意，控制器111保持β值表，在該表中將制造商ID與目標β值(βt)關聯(lián)起來?？刂破?11參考β值表來讀出與從盤的導入?yún)^(qū)(ADIP)獲得的制造商ID相對應的目標β值(βt)，并且將所讀取的值輸出到激光功率調(diào)整電路104。根據(jù)該值，激光功率調(diào)整電路104執(zhí)行記錄功率初始設置。
實施例1圖4至7是示出了記錄操作中的OPC及R-OPC的操作流程圖。
當輸入記錄指令時，控制器111首先執(zhí)行圖4所示的功率設置過程(OPC)。這里，首先執(zhí)行層1的OPC(S11)，以設置層1的最優(yōu)功率Pwp1(S12)。然后，執(zhí)行層2的OPC(S13)，以設置層2的最優(yōu)功率Pwp2(S14)。此后，通過計算α＝Pwp2/Pwp1，獲得層1與層2之間的最優(yōu)功率比(層間功率比)α。
圖5和6示出了層1和層2的OPC的詳情。
首先，參考圖5，當初始功率設置操作開始時，控制器111基于盤的制造商ID從β值表讀取目標β值(βt)(S101)。注意，當β值表中不包括相應的制造商ID時，從β值表讀取平均β值。為了應對這種情形，β值表為了一般性使用存儲平均β值。
另外，控制器111將內(nèi)置存儲器中預先存儲的初始功率Pw0設置為層1的OPC操作中的第一測試功率Pw11(S102)，并且以該測試功率Pw11將測試數(shù)據(jù)寫入到層1的測試區(qū)中(通常，使用內(nèi)盤測試區(qū))(S103)。然后，再現(xiàn)所寫入的測試數(shù)據(jù)，以計算β值，并且將所計算的β值設置為β11(S104)。
此后，控制器111獲得β11與目標β值(βt)之間的差Δβ(S105)，并且判斷所獲得的Δβ是否小于預定閾值βs(S106)。這里，當|Δβ|≥βs時，基于Δβ的符號(正或負)和量級，將測試功率Pw11重置為接近最優(yōu)功率(S107)，并且在重置之后以測試功率Pw11重復S103及隨后步驟的過程。
另一方面，當|Δβ|＜βs時，基于Δβ的符號(正或負)和量級，設置下一測試功率Pw12(S108)，并且在設置之后，與上面相類似，以測試功率Pw12將測試數(shù)據(jù)寫入層1的測試區(qū)中(S109)。然后，再現(xiàn)所寫入的測試數(shù)據(jù)，以計算β值，并且將所計算的β值設置為β12(S110)。
此后，控制器111對β11和β12執(zhí)行如圖14所示的線性逼近，并且在該逼近線上，計算給出目標β值(βt)的激光功率作為最優(yōu)功率Pwp(S111)。接著，以功率Pwp將測試數(shù)據(jù)寫入層1的測試區(qū)中(S112)，并且從ECC解碼器108獲得在再現(xiàn)該數(shù)據(jù)時所獲得的誤差率E(S113)。然后，判斷所獲得的誤差率E是否小于閾值Es(S114)，并且當其不小于閾值Es時，流程返回S103，以重復上述過程。另一方面，當E＜Es時，將功率Pwp設置為層1的最優(yōu)功率Pwp1(S115)，此后執(zhí)行層2的功率設置過程。
參考圖6，在層2的功率設置過程中，首先，從先前獲得的β1和β2獲得圖14所示的逼近線的斜率Ia(S201)。接著，將上述層1的最優(yōu)功率Pwp1設置為OPC操作中層2的測試功率Pw21(S202)，并且以測試功率Pw21將測試數(shù)據(jù)寫入層2的測試區(qū)(通常，使用內(nèi)盤區(qū))(S203)。然后，再現(xiàn)所寫入的數(shù)據(jù)，以計算β值，并且將所計算的β值設置為β21(S204)。
此后，控制器111獲得β21與目標β值(βt)之間的差Δβ(S205)，并且判斷所獲得的Δβ是否小于預定閾值Δβs(S206)。這里，當|Δβ|≥βs時，基于Δβ的符號(正或負)和量級，將測試功率Pw21重置為接近最優(yōu)功率(S207)，并且以測試功率Pw21重復S203及隨后步驟的過程。
另一方面，當|Δβ|＜βs時，根據(jù)在S201中獲得的斜率Ia以及β21獲得逼近線，并且在該逼近線上，將給出目標β值(βt)的激光功率設置最優(yōu)功率Pwp(S208)。接著，以功率Pwp將測試數(shù)據(jù)寫入層2的測試區(qū)中(S209)，并且從ECC解碼器108獲得在再現(xiàn)該數(shù)據(jù)時所獲得的誤差率E(S210)。然后，判斷所獲得的誤差率E是否小于閾值Es(S211)，當所獲得的誤差率E不小于閾值Es時，流程返回S203，以重復上述過程。另一方面，當E＜Es時，將功率Pwp設置為層2的最優(yōu)功率Pwp2(S212)，并且盤的OPC操作結束。
基于圖6的流程圖，在層2的OPC操作中，僅通過一次測試記錄就能執(zhí)行逼近線的計算，因此可以簡化并迅速執(zhí)行層2的OPC操作。此時，因為層1的最優(yōu)功率Pwp1被設置為初始功率以獲得β值，所以β值可以接近目標β值(βt)，并且可以使逼近線類似于預定逼近線。因此，如上所述，當在OPC操作中僅執(zhí)行一次測試記錄時，可以平穩(wěn)且滿意地執(zhí)行層2的最優(yōu)功率設置。
以這種方式，設置了層1的最優(yōu)功率Pwp1以及層2的最優(yōu)功率Pwp2，并且從Pwp1和Pwp2獲得層間功率比α，每一層的記錄操作開始。
圖7示出了記錄操作時的過程流程。
當記錄操作開始時，首先，從導入?yún)^(qū)讀取管理信息，以判斷記錄開始位置在層1還是層2(S21)。這里，當開始位置在層1時，通過OPC獲得的層1的最優(yōu)功率Pwp1被設置為層1的記錄功率Pwr1(S22)，此后在層1上從記錄開始位置起連續(xù)執(zhí)行信息記錄(S23)。
當如此開始層1的記錄操作時，此后，接著判斷層1的記錄區(qū)域是否用完(S24)。當記錄區(qū)域沒有用完時，還通過R-OPC來執(zhí)行激光功率Pwr1的調(diào)整(S25，S26)。注意，在從S23到S26的記錄操作期間，當向控制器111輸入指示停止、中斷記錄操作等的指令命令時，層1的記錄操作響應于此而結束。在這種情形中，以由R-OPC調(diào)整的激光功率Pwr1將與該記錄相對應的管理信息記錄在導入?yún)^(qū)中。
基于S21中的判斷，當記錄開始位置在層2上時，通過OPC獲得的層2的最優(yōu)功率Pwp2是層2的記錄功率Pwr2(S27)，此后，接著在層2上從記錄開始位置起開始記錄信息(S28)。此時，適當?shù)貓?zhí)行層2上的記錄是否結束的判斷(S29)。同樣，在層2的記錄開始之后，通過R-OPC適當?shù)卣{(diào)整激光功率Pwr2(S30，S31)。
基于步驟S24中的判斷，當層1的記錄區(qū)域用完時，操作切換到使用層2的記錄操作。此時，通過將由R-OPC調(diào)整的層1的最終激光功率Pwr1乘以層間功率比α來計算功率，并且將所計算的功率設置為層2的記錄功率Pwr2(S32)。然后，以功率Pwr2開始層2上的記錄(S28)。注意，如上所述，該記錄是從層2的最外圍的位置向最內(nèi)圍的位置執(zhí)行。
此后，當在S29中判斷層2上的記錄結束時，記錄層1的導入?yún)^(qū)的管理信息。此時，通過將由R-OPC調(diào)整的層2的最終功率Pwr2除以層間功率比α來計算功率，并且將所計算的功率設置為層1在導入?yún)^(qū)上記錄時使用的功率Pwr1(S33)。然后，以功率Pwr1將根據(jù)該記錄的管理信息記錄到層1的導入?yún)^(qū)中(S34)，并且記錄操作結束。
根據(jù)該實施例，在從層1到層2的過渡中，不必執(zhí)行OPC，因此可以迅速執(zhí)行向層2的過渡。這樣，即使記錄諸如視頻數(shù)據(jù)或音頻數(shù)據(jù)之類的實時數(shù)據(jù)，也可以平穩(wěn)地執(zhí)行從層1到層2的連續(xù)記錄。同樣，在向層2過渡時，將通過層1的最終激光功率Pwr1乘以層間功率比α所獲得的功率設置為激光功率Pwr2，所以可以沒有誤差地將層2的記錄激光功率設置為最優(yōu)功率。這樣，可以將過渡時的記錄條件維持在滿意的條件。
實施例2在上述實施例1中，在向層2過渡時，將層1的最終激光功率Pwr1乘以層間功率比α，以獲得激光功率Pwr2，但是在該實施例中，獲得層1的最優(yōu)功率Pwp1與層2的最優(yōu)功率Pwp2之間的功率差異ΔPa。然后，在向層2過渡時，將該功率差異加到層1的最終激光功率Pwr1，以獲得激光功率Pwr2。
圖8示出了功率設置時的過程流程。根據(jù)該過程流程，S41代替了圖4的過程流出中的S15。換句話說，在S41中，可以根據(jù)ΔPa＝Pwp2-Pwp1來獲得層1的最優(yōu)功率Pwp1與層2的最優(yōu)功率Pwp2之間的功率差異(層間功率差異)ΔPa。其他步驟類似于圖4的步驟。
圖9示出了記錄操作中的過程流程。根據(jù)該過程流程，S51和S52代替了圖7的過程流程中的S32和S33。換句話說，當在S24中判斷層1的記錄區(qū)域用完時，在S51中將層間功率差異ΔPa加到層1的最終功率Pwr1，并且可以設置向層2過渡時的激光功率Pwr2。然后，以對層2設置的激光功率Pwr2來執(zhí)行記錄(S28)。其他步驟類似于圖7的步驟。
根據(jù)該實施例，因為與實施例1類似，在從層1向層2過渡時不必執(zhí)行OPC，所以可以迅速執(zhí)行向層2的過渡。因此，即使記錄諸如視頻數(shù)據(jù)或音頻數(shù)據(jù)之類的實時數(shù)據(jù)，也可以平穩(wěn)地執(zhí)行從層1到層2的連續(xù)記錄。然而，為了將層2的記錄激光功率無誤差地設置為最優(yōu)功率，認為如實施例1中那樣乘以層間功率比α優(yōu)于如本實施例中一樣加上層間功率差異ΔPa。
實施例3根據(jù)實施例1和2，如圖2所示，當記錄位置到達層1的數(shù)據(jù)區(qū)(記錄區(qū)域)中最外圍的位置時，該位置跳到層2的數(shù)據(jù)區(qū)中最外圍的位置，并且從該位置向內(nèi)圍方向開始數(shù)據(jù)記錄。然而，如圖10所示，可以采用這樣的光盤在記錄位置到達層1的數(shù)據(jù)區(qū)(記錄區(qū)域)中最外圍的位置時，該位置跳到層2的數(shù)據(jù)區(qū)中最內(nèi)圍的位置，并且從該位置向外圍方向開始數(shù)據(jù)記錄。在這種光盤中，當記錄操作中旋轉方向相同時，于是層1的軌道的螺旋方向與層2的相同。
該實施例是將本發(fā)明應用于在這種光盤上記錄及再現(xiàn)信息的光盤驅動器的示例性方式。
圖11示出了功率設置時的過程流程。
根據(jù)該過程流程，在圖4的過程流程中的S15之后加入了S61至S63的過程。換句話說，使用層1和層2的內(nèi)盤測試區(qū)來執(zhí)行OPC(S11至S14)，基于通過OPC獲得的最佳激光功率Pwp1in以及Pwp2in，獲得層間功率比α(S15)，并且，另外使用層2的外盤測試區(qū)執(zhí)行OPC(S61)，獲得最優(yōu)激光功率Pwp2out(S62)。然后，基于層2的最優(yōu)激光功率Pwp2in以及Pwp2out，計算γ＝Pwp2out/Pwp2in，以獲得內(nèi)/外功率比γ(S63)。
圖12示出了記錄操作時的過程流程。根據(jù)該過程流程，圖7的過程流程中的S32由S71代替。換句話說，當在S24中判斷層1的記錄區(qū)域用完時，在S72中將層1的最終激光功率Pwr1乘以層間功率比α。將該值除以內(nèi)/外功率比γ，以在向層2過渡時設置激光功率Pwr2。然后，以所設置的激光功率Pwr2在層2上執(zhí)行記錄(S28)。其他步驟類似于圖7的步驟。
根據(jù)該實施例，在從層1向層2過渡時，與實施例1和2類似，不必執(zhí)行OPC，因此可以迅速執(zhí)行向層2的過渡。這樣，即使記錄諸如音頻數(shù)據(jù)或視頻數(shù)據(jù)之類的實時數(shù)據(jù)，也可以平穩(wěn)地執(zhí)行從層1到層2的連續(xù)記錄。
同樣，將層1的最終激光功率Pwr1乘以層間功率比α，并且在向層2過渡時還將通過將該值除以內(nèi)/外功率比γ所獲得的功率設置為激光功率Pwr2，因此可以將層2的記錄激光功率無誤差地設置為最優(yōu)功率。換句話說，在該實施例中，以內(nèi)/外功率比γ來進一步調(diào)整記錄功率。即使在層2的內(nèi)圍和外圍之間的記錄特性存在差異，也可以在層2的開始位置中將記錄激光功率無誤差地設置為最優(yōu)功率。這樣，可以將過渡時的記錄條件維持在滿意的條件。
注意，如圖9所示，即使記錄位置從層1的外圍跳到層2的內(nèi)圍，如果層2中的記錄特性沒有大的差異，則盡管不使用內(nèi)/外功率比γ執(zhí)行調(diào)整，也可以在層2的開始位置中將記錄激光功率無誤差地設置為最優(yōu)功率。因此，在這種情形中，與實施例1中一樣，可以只乘以層間功率比α來在向層2過渡時執(zhí)行功率設置。
另外，在該實施例中，將層1的最終激光功率Pwr1乘以層間功率比α，并且在向層2過渡時通過將該值再除以內(nèi)/外功率比γ所獲得的功率設置為激光功率Pwr2(S71)，但是如實施例2中一樣，當使用層間功率差異ΔPa時，S71中的算術表達式可改變?yōu)镻wr2＝(Pwr1+ΔPa)/γ。
另外，當使用內(nèi)/外功率差異ΔPb＝Pwp2in-Pwp2out而不是使用內(nèi)/外功率比γ時，S71中的算術表達式可以改變?yōu)镻wr2＝(Pwr1×α)+ΔPb。
另外，在該實施例中，獲得層2中的內(nèi)/外功率比γ，以用來在向層2過渡時進行功率設置，但是可以獲得層1中的內(nèi)/外功率比γ，并且將其用來在向層2過渡時進行功率設置。
此外，在該實施例中，當記錄位置從層2返回層1用于記錄管理信息時，不使用內(nèi)/外功率比γ，并且只是將層2中的最終激光功率Pwr2除以層間功率比α，以獲得記錄管理信息時的功率。然而，當記錄位置接近層2中數(shù)據(jù)區(qū)的結束端時，可以乘以內(nèi)/外功率比γ，以校正內(nèi)、外圍的記錄特性之間的差異。同樣，基于Pwp2in和Pwp2out，近似出沿著徑向的內(nèi)/外功率比的轉變條件。根據(jù)近似的內(nèi)/外功率比γ(x)(X徑向位置)，可以獲得層2中最后的記錄位置Xn中的內(nèi)/外功率比γ(xn)，并且可以使用所獲得的內(nèi)/外功率比γ(xn)來計算Pwr1＝(Pwr2/α)×γ(xn)，由此設置記錄管理信息時的激光功率Pwr1。
注意，在記錄管理信息時基于內(nèi)/外功率比γ來進行校正也可以應用于實施例1和2。然而，在這種情形中，需要這樣的過程還要使用外盤驅動區(qū)來執(zhí)行OPC，以獲得內(nèi)/外功率比γ或γ(x)。
已經(jīng)描述了本發(fā)明的實施方式以及實施例，但是本發(fā)明不限于上述內(nèi)容，并且可以具有其他各種修改。
例如，在上面，示例了DVD+R及其光盤驅動器，但是本發(fā)明當然可以應用于其他光盤(例如，DVD-RW)及其記錄和再現(xiàn)設備。
另外，在上面，使用了圖5和6所示的OPC過程流程，但是可以改為使用其他OPC過程流程。
另外，在上面，示例了在一側布置有兩個記錄層的光盤，但是記錄層的數(shù)目并不限于2個。本發(fā)明還可以應用于在一側布置有三個或更多記錄層的光盤及其記錄和再現(xiàn)設備。在這種情形中，例如，獲得沿著層的方向在相鄰記錄層之間的層間功率比α或層間功率差異ΔPa，并且通過使用它們，在層間過渡時執(zhí)行功率設置。另外，如果如實施例3一樣在層間過渡時光盤中的記錄位置從外圍跳到內(nèi)圍，則獲得每一層的內(nèi)/外功率比γ或內(nèi)/外功率差異ΔPb，并且通過使用層間功率比α或層間功率差異ΔPa以及內(nèi)/外功率比γ或內(nèi)/外功率差異ΔPb，在層間過渡時執(zhí)行功率設置。
另外，本發(fā)明不僅可以應用于只在一側布置有多個記錄層的光盤，并且還可以應用于在兩側都布置有多個記錄層(通過粘結等方式)的光盤及其記錄和再現(xiàn)設備。此外，每一層的區(qū)域格式、軌道螺旋方向等不限于這些實施方式。
在權利要求的范圍所表明的技術思想的范圍內(nèi)，可以適當?shù)貙Ρ景l(fā)明的實施例做出各種修改。
權利要求
1.一種光記錄及再現(xiàn)設備，用于在沿著層疊方向布置有多個記錄層的光記錄介質(zhì)上記錄信息，并且從所述光記錄介質(zhì)再現(xiàn)信息，該設備包括激光功率設置裝置，用于獲得記錄層n的激光束最優(yōu)功率與另一記錄層m的激光束最優(yōu)功率之間的比值α，并且當記錄位置從所述記錄層n過渡到所述記錄層m時，將通過基于所述功率比α對過渡之前的激光束功率Pwn執(zhí)行校正所獲得的功率設置為過渡之后的激光束功率Pwm。
2.根據(jù)權利要求1所述的光記錄及再現(xiàn)設備，其中所述激光功率設置裝置還針對預定記錄層，獲得所述記錄層的記錄區(qū)域開始位置處的激光束最優(yōu)功率與所述記錄層的記錄區(qū)域結束位置處的激光束最優(yōu)功率之間的比值γ，并且當記錄位置從所述記錄層n過渡到所述記錄層m時，通過基于所述比值γ以及所述功率比α來執(zhí)行校正，從而獲得過渡之后的激光束功率Pwm。
3.根據(jù)權利要求2所述的光記錄及再現(xiàn)設備，其中對所述記錄層n和所述記錄層m之一獲得所述比值γ。
4.根據(jù)權利要求1所述的光記錄及再現(xiàn)設備，其中所述激光功率設置裝置還針對預定記錄層，獲得所述記錄層的記錄區(qū)域開始位置處的激光束最優(yōu)功率與所述記錄層的記錄區(qū)域結束位置處的激光束最優(yōu)功率之間的差異ΔPb，并且當記錄位置從所述記錄層n過渡到所述記錄層m時，通過基于所述差異ΔPb以及所述功率比α來執(zhí)行校正，從而獲得過渡之后的激光束功率Pwm。
5.根據(jù)權利要求4所述的光記錄及再現(xiàn)設備，其中對所述記錄層n和所述記錄層m之一獲得所述差異ΔPb。
6.一種光記錄及再現(xiàn)設備，用于在沿著層疊方向布置有多個記錄層的光記錄介質(zhì)上記錄信息，并且從所述光記錄介質(zhì)再現(xiàn)信息，該設備包括激光功率設置裝置，用于獲得記錄層n的激光束最優(yōu)功率與另一記錄層m的激光束最優(yōu)功率之間的差異ΔPa，并且當記錄位置從所述記錄層n過渡到所述記錄層m時，將通過基于所述最優(yōu)功率差異ΔPa對過渡之前的激光束功率Pwn執(zhí)行校正所獲得的功率設置為過渡之后的激光束功率Pwm。
7.根據(jù)權利要求6所述的光記錄及再現(xiàn)設備，其中所述激光功率設置裝置還針對預定記錄層，獲得所述記錄層的記錄區(qū)域開始位置處的激光束最優(yōu)功率與所述記錄層的記錄區(qū)域結束位置處的激光束最優(yōu)功率之間的比值γ，并且當記錄位置從所述記錄層n過渡到所述記錄層m時，通過基于所述比值γ以及所述最優(yōu)功率差異ΔPa來執(zhí)行校正，從而獲得過渡之后的激光束功率Pwm。
8.根據(jù)權利要求7所述的光記錄及再現(xiàn)設備，其中對所述記錄層n和所述記錄層m之一獲得所述比值γ。
9.根據(jù)權利要求6所述的光記錄及再現(xiàn)設備，其中所述激光功率設置裝置還針對預定記錄層，獲得所述記錄層的記錄區(qū)域開始位置處的激光束最優(yōu)功率與所述記錄層的記錄區(qū)域結束位置處的激光束最優(yōu)功率之間的差異ΔPb，并且當記錄位置從所述記錄層n過渡到所述記錄層m時，通過基于所述差異ΔPb以及所述最優(yōu)功率差異ΔPa來執(zhí)行校正，從而獲得過渡之后的激光束功率Pwm。
10.根據(jù)權利要求9所述的光記錄及再現(xiàn)設備，其中對所述記錄層n和所述記錄層m之一獲得所述差異ΔPb。
11.一種光記錄及再現(xiàn)設備，用于在沿著層疊方向布置有多個記錄層的光記錄介質(zhì)上記錄信息，并且從所述光記錄介質(zhì)再現(xiàn)信息，該設備包括控制電路，用于獲得記錄層n的激光束最優(yōu)功率與另一記錄層m的激光束最優(yōu)功率，并且當記錄位置從所述記錄層n過渡到所述記錄層m時，基于所述記錄層n的最優(yōu)功率以及所述記錄層m的最優(yōu)功率，根據(jù)過渡之前的激光束功率Pwn，設置過渡之后的激光束功率Pwm。
12.根據(jù)權利要求11所述的光記錄及再現(xiàn)設備，其中所述控制電路獲得所述記錄層n的最優(yōu)功率與所述記錄層m的最優(yōu)功率之間的比值α，并且將通過基于所述比值α對過渡之前的激光束功率Pwn執(zhí)行校正所獲得的功率設置為過渡之后的激光束功率Pwm。
13.根據(jù)權利要求11所述的光記錄及再現(xiàn)設備，其中所述控制電路獲得所述記錄層n的最優(yōu)功率與所述記錄層m的最優(yōu)功率之間的差異ΔPa，并且將通過基于所述差異ΔPa對過渡之前的激光束功率Pwn執(zhí)行校正所獲得的功率設置為過渡之后的激光束功率Pwm。
14.根據(jù)權利要求12或13所述的光記錄及再現(xiàn)設備，其中所述控制電路獲還針對預定記錄層，獲得所述記錄層的記錄區(qū)域開始位置處的激光束最優(yōu)功率與所述記錄層的記錄區(qū)域結束位置處的激光束最優(yōu)功率之間的比值γ，并且當記錄位置從所述記錄層n過渡到所述記錄層m時，通過基于所述比值γ以及所述功率比α或所述最優(yōu)功率差異ΔPa來執(zhí)行校正，從而獲得過渡之后的激光束功率Pwm。
15.根據(jù)權利要求14所述的光記錄及再現(xiàn)設備，其中對所述記錄層n和所述記錄層m之一獲得所述比值γ。
16.根據(jù)權利要求12或13所述的光記錄及再現(xiàn)設備，其中所述控制電路獲還針對預定記錄層，獲得所述記錄層的記錄區(qū)域開始位置處的激光束最優(yōu)功率與所述記錄層的記錄區(qū)域結束位置處的激光束最優(yōu)功率之間的差異ΔPb，并且當記錄位置從所述記錄層n過渡到所述記錄層m時，還通過基于所述差異ΔPb以及所述功率比α或所述最優(yōu)功率差異ΔPa來執(zhí)行校正，從而獲得過渡之后的激光束功率Pwm。
17.根據(jù)權利要求16所述的光記錄及再現(xiàn)設備，其中對所述記錄層n和所述記錄層m之一獲得所述差異ΔPb。
全文摘要
根據(jù)分別對層1和層2執(zhí)行OPC所獲得的最優(yōu)功率設置值Pwp1和Pwp2，獲得層間功率比α＝Pwp2/Pwp1。在從層1向層2過渡時，將由R－OPC調(diào)整的層1的最終激光功率Pwr1乘以層間功率比α，以在向層2過渡時設置激光功率，以該功率開始在層2上記錄。在這種情形中，在從層1向層2過渡時不必執(zhí)行OPC，因此可以迅速執(zhí)行向層2的過渡。同樣，基于層間功率比α執(zhí)行校正，因此在向層2過渡時可以將功率設置為適當?shù)脑O置值。
文檔編號G11B7/004GK1819037SQ20051013103
公開日2006年8月16日 申請日期2005年12月7日 優(yōu)先權日2004年12月9日
發(fā)明者中尾賢治, 間宮升, 廣瀨研 申請人:三洋電機株式會社