專利名稱：電子束位置變動(dòng)測(cè)定方法、電子束位置變動(dòng)測(cè)定裝置以及電子束記錄裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及電子束位置變動(dòng)測(cè)定方法、電子束位置變動(dòng)測(cè)定裝置以及電子束記錄裝置。
背景技術(shù)：
電子束記錄裝置(EBRElectron Beam Recording)用于母盤例如光信息記錄介質(zhì)、光磁信息記錄介質(zhì)、相變信息記錄介質(zhì)、磁信息記錄介質(zhì)等制造用母盤的制作、或集成電路元件的布線圖案形成等，在母盤等記錄對(duì)象上照射會(huì)聚的電子束點(diǎn)，形成記錄圖案。
以對(duì)光信息記錄介質(zhì)(光盤等)的記錄為例，通常在母盤制作時(shí)，預(yù)先在作為凹部或凸部的軌道(track)(凹軌(groove track)或凸軌(landtrack))上記錄在光盤的旋轉(zhuǎn)控制中使用的擺動(dòng)(wobbling)信號(hào)等旋轉(zhuǎn)控制信息和數(shù)據(jù)記錄時(shí)的位置搜索等所需的地址信息等信號(hào)。將與這樣的信號(hào)對(duì)應(yīng)的凹凸圖案記錄到母盤上時(shí)，以往是通過對(duì)記錄面照射將激光束會(huì)聚得到的點(diǎn)來進(jìn)行，但為了對(duì)應(yīng)光信息記錄介質(zhì)的高密度化所伴隨的軌道間距的極細(xì)化的要求，采用使用了點(diǎn)徑比激光小、并能夠得到高記錄分辨率的電子束的記錄。
在下述專利文獻(xiàn)1中記載了一種同心圓狀軌道記錄用的電子束記錄裝置，其作為可進(jìn)行高密度的光盤母盤制作的電子束記錄裝置，具備旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部，其支承形成有抗蝕層的母盤，并使母盤旋轉(zhuǎn)；曝光電子束射出部，其可自由偏轉(zhuǎn)地將曝光電子束照射到母盤上，形成照射點(diǎn)；以及相對(duì)移動(dòng)驅(qū)動(dòng)部，其使旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部和照射點(diǎn)在母盤的半徑方向上相對(duì)地并行移動(dòng)。
在這樣的電子束記錄裝置中，需要在記錄之前進(jìn)行電子束的調(diào)整。這是因?yàn)?，電子束容易受到周邊環(huán)境的磁場(chǎng)的影響，若因磁場(chǎng)的影響導(dǎo)致射束波動(dòng)，則記錄精度下降，盡管如此，也不能夠像激光束那樣在記錄中將射束分開，一邊監(jiān)視射束位置和狀態(tài)一邊進(jìn)行記錄。在調(diào)整電子束時(shí)，測(cè)定射束位置變動(dòng)、射束的聚焦點(diǎn)徑等，根據(jù)其測(cè)定結(jié)果在記錄時(shí)進(jìn)行射束調(diào)整。
在這樣的記錄前的電子束的測(cè)定中，射束位置變動(dòng)的測(cè)定是通過現(xiàn)有的圖1所示系統(tǒng)來進(jìn)行的。即，在會(huì)聚的電子束E的照射點(diǎn)位置上配置刀口N(knife edge)，以遮住射束點(diǎn)的一半，利用電流放大器A放大通過該刀口N到達(dá)法拉第杯F(faraday cup)的電流，輸出到示波器O，從而對(duì)電子束E進(jìn)行射束位置變動(dòng)的測(cè)定。
專利文獻(xiàn)1日本特開2002-367241號(hào)公報(bào)發(fā)明內(nèi)容在對(duì)電子束的射束位置變動(dòng)的測(cè)定中，測(cè)定外部磁場(chǎng)變動(dòng)的對(duì)于高頻成分的變動(dòng)是有效的，這樣的高頻變動(dòng)對(duì)要求高分辨率的記錄的影響程度高，因此，為了確保高精度的記錄，需要準(zhǔn)確地測(cè)定該變動(dòng)量，以便采取減少對(duì)策或修正。
而且，為了高精度地測(cè)定其射束位置變動(dòng)，需要相對(duì)于刀口準(zhǔn)確地定位射束點(diǎn)的基準(zhǔn)位置，準(zhǔn)確地配置刀口，使得將射束點(diǎn)的一半遮擋，從而根據(jù)射束點(diǎn)中心從刀口的前端偏離時(shí)的檢測(cè)電流的變化，可高精度地檢測(cè)射束點(diǎn)的位置變動(dòng)。
此時(shí)，例如，在對(duì)光信息記錄介質(zhì)等的記錄中采用的電子束的點(diǎn)徑在幾nm到幾十nm的范圍內(nèi)，若作為基準(zhǔn)的電子束的射束點(diǎn)中心從刀口的前端偏離，則位置變動(dòng)相對(duì)于電流變化的比例變化，因此不能夠進(jìn)行準(zhǔn)確的測(cè)定。并且，達(dá)到射束點(diǎn)完全從刀口脫離或完全被刀口遮擋的狀態(tài)、電子束漂移而達(dá)到從測(cè)定范圍(幾nm到幾十nm的射束點(diǎn)徑為測(cè)定范圍)脫離程度的情況下，存在不能測(cè)定位置變動(dòng)的問題。因此，根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)，在較低頻率下發(fā)生了波動(dòng)幅度較大的漂移的情況下，存在不能夠穩(wěn)定且準(zhǔn)確地測(cè)定電子束的位置變動(dòng)的問題。
本發(fā)明將解決這樣的情況作為課題之一例。即，本發(fā)明的目的在于，在電子束記錄裝置的記錄之前進(jìn)行的射束位置變動(dòng)的測(cè)定時(shí)，能夠進(jìn)行穩(wěn)定且準(zhǔn)確的變動(dòng)量的測(cè)定。
為了達(dá)到這樣的目的，基于本發(fā)明的電子束位置變動(dòng)測(cè)定方法、電子束位置變動(dòng)測(cè)定裝置、電子束記錄裝置至少具備以下的各方面所涉及的結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明的電子束位置變動(dòng)測(cè)定方法，其特征在于，針對(duì)使電子束的射束點(diǎn)在記錄面會(huì)聚、并在該記錄面上形成記錄圖案的電子束記錄裝置，在所述射束點(diǎn)的照射位置配置刀口，檢測(cè)通過該刀口照射的電子束，根據(jù)所述射束點(diǎn)的中心從所述刀口的前端偏離時(shí)的檢測(cè)電流的變化，測(cè)定所述射束點(diǎn)的位置變動(dòng)時(shí)，在所述測(cè)定中控制所述電子束的基準(zhǔn)位置，使得所述射束點(diǎn)的中心位于所述刀口的末端位置。
本發(fā)明的電子束位置變動(dòng)測(cè)定裝置，針對(duì)使電子束的射束點(diǎn)在記錄面上會(huì)聚、并在該記錄面上形成記錄圖案的電子束記錄裝置，在記錄之前測(cè)定所述電子束的位置變動(dòng)，其特征在于，具備刀口，其配置在所述射束點(diǎn)的照射位置；檢測(cè)單元，其檢測(cè)通過該刀口照射的電子束；濾波器單元，其從該檢測(cè)單元的輸出中除去測(cè)定對(duì)象的變動(dòng)頻率成分；以及控制單元，其根據(jù)該濾波器單元的輸出，控制所述電子束的基準(zhǔn)位置，使得所述射束點(diǎn)的中心位于所述刀口的末端位置，該電子束位置變動(dòng)測(cè)定裝置根據(jù)所述射束點(diǎn)的中心從所述刀口的末端偏離時(shí)的所述檢測(cè)單元的輸出變化，測(cè)定所述射束點(diǎn)的位置變動(dòng)。
本發(fā)明的電子束記錄裝置，使電子束的射束點(diǎn)在記錄面上會(huì)聚，并在該記錄面上形成記錄圖案，其特征在于，設(shè)置在記錄之前測(cè)定所述電子束的位置變動(dòng)的測(cè)定裝置，該測(cè)定裝置具備刀口，其配置在所述射束點(diǎn)的照射位置；檢測(cè)單元，其檢測(cè)通過該刀口照射的電子束；濾波器單元，其從該檢測(cè)單元的輸出中除去測(cè)定對(duì)象的變動(dòng)頻率成分；以及控制單元，其根據(jù)該濾波器單元的輸出，控制所述電子束的基準(zhǔn)位置，使得所述射束點(diǎn)的中心位于所述刀口的末端位置，該測(cè)定裝置根據(jù)所述射束點(diǎn)的中心從所述刀口的末端偏離時(shí)的所述檢測(cè)單元的輸出變化，測(cè)定所述射束點(diǎn)的位置變動(dòng)。


圖1是現(xiàn)有技術(shù)的說明圖。
圖2是說明本發(fā)明的實(shí)施方式的電子束位置變動(dòng)測(cè)定裝置和測(cè)定方法的說明圖。
圖3是表示在本發(fā)明的實(shí)施方式的電子束位置變動(dòng)測(cè)定裝置中，射束點(diǎn)Ep的位置S和檢測(cè)電流之間的關(guān)系的圖。
圖4是表示本發(fā)明的實(shí)施方式的電子束記錄裝置的說明圖。
具體實(shí)施例方式
下面，參照附圖，說明本發(fā)明的實(shí)施方式。圖2是說明本發(fā)明的一實(shí)施方式的電子束位置變動(dòng)測(cè)定方法和測(cè)定裝置的說明圖。
該測(cè)定裝置10用于針對(duì)電子束記錄裝置(省略圖示)，在記錄之前測(cè)定電子束E的位置變動(dòng)，該電子束記錄裝置使電子束E的射束點(diǎn)Ep在記錄面上會(huì)聚，并在該記錄面上形成記錄圖案。作為其構(gòu)成要件，具有刀口11，其配置在射束點(diǎn)Ep的照射位置；法拉第杯(檢測(cè)裝置)12，其檢測(cè)通過刀口11照射的電子束；高截止濾波器(high-cut filter)(濾波器單元)14，其從法拉第杯12的輸出中除去測(cè)定對(duì)象的變動(dòng)頻率成分；以及控制單元15，其根據(jù)高截止濾波器14的輸出，控制電子束E的基準(zhǔn)位置，使得射束點(diǎn)Ep的中心位于刀口11的末端位置。
更詳細(xì)說明，根據(jù)需要利用電流放大器13放大來自法拉第杯12的輸出，通過高截止濾波器14從該放大后的輸出中除去測(cè)定對(duì)象的變動(dòng)頻率成分，將該除去了高頻成分的輸出輸入到構(gòu)成控制單元15的偏差生成電路15a，在那里與基準(zhǔn)信號(hào)進(jìn)行比較，輸出偏差信號(hào)。根據(jù)該偏差信號(hào)，從驅(qū)動(dòng)電路16輸出驅(qū)動(dòng)信號(hào)，驅(qū)動(dòng)偏轉(zhuǎn)線圈20，控制電子束E的基準(zhǔn)位置，使得射束點(diǎn)Ep的中心位于刀口11的末端位置。
在該狀態(tài)下，根據(jù)射束點(diǎn)Ep的中心從刀口11的末端偏離時(shí)的法拉第杯12的輸出變化，測(cè)定射束點(diǎn)Ep的位置變動(dòng)。即，在偏轉(zhuǎn)線圈20根據(jù)來自驅(qū)動(dòng)電路16的輸出信號(hào)控制電子束E的基準(zhǔn)位置的狀態(tài)下，來自法拉第杯12的輸出被電流放大器13放大，作為射束位置變動(dòng)信號(hào)輸出。該射束位置變動(dòng)信號(hào)與現(xiàn)有技術(shù)同樣地被輸出到示波器，從而能夠觀測(cè)變動(dòng)狀態(tài)。并且，可以將該射束位置變動(dòng)信號(hào)或來自法拉第杯12的輸出存儲(chǔ)到存儲(chǔ)器中，生成記錄時(shí)的修正信號(hào)。
圖3是示出射束點(diǎn)Ep的位置S和檢測(cè)電流之間的關(guān)系的圖。確保射束點(diǎn)Ep的中心成為刀口11的末端位置的基準(zhǔn)位置So，從而將電子束的檢測(cè)電流設(shè)為-i0時(shí)，求出檢測(cè)電流為-0.88i0的射束點(diǎn)位置Sa和檢測(cè)電流為-0.12i0的射束點(diǎn)位置Sb，可以由|Sb-Sa|得到射束點(diǎn)徑d，可以由α＝2{(π/In2)·(i0/d)}1/2得到檢測(cè)靈敏度α。然后，根據(jù)相對(duì)于-0.5i0的檢測(cè)電流的輸出差和檢測(cè)靈敏度α，可以高精度地求出射束位置的變動(dòng)量。
根據(jù)這樣的測(cè)定裝置10以及使用測(cè)定裝置10的測(cè)定方法，在測(cè)定射束點(diǎn)Ep的位置變動(dòng)時(shí)，在測(cè)定中控制電子束E的基準(zhǔn)位置，使得射束點(diǎn)Ep的中心位于刀口11的末端位置，因此，在測(cè)定中電子束E不脫離測(cè)定范圍，能夠進(jìn)行始終穩(wěn)定的高精度的變動(dòng)量測(cè)定。
并且，通過將進(jìn)行電子束的基準(zhǔn)位置控制的變動(dòng)頻帶設(shè)定為類似于漂移(drift)的低頻，能夠在大于等于該設(shè)定頻帶的頻帶內(nèi)準(zhǔn)確地測(cè)定射束位置變動(dòng)。更具體講，通過將截止頻帶設(shè)定為幾Hz左右，能夠準(zhǔn)確地測(cè)定商用電源頻率(50Hz)或電源的開關(guān)頻率(幾十kHz)上的變動(dòng)。因此，在進(jìn)行高分辨率記錄的電子束記錄裝置中，可有效地測(cè)定射束位置變動(dòng)。
圖4是表示設(shè)置有上述的測(cè)定裝置10的電子束記錄裝置100的說明圖。該電子束記錄裝置100具有真空室30、裝配在該真空室30上的電子束射出部40和各種控制部。電子束E具有在大氣氣氛中顯著衰減的特性，因此在真空室30內(nèi)的真空氣氛中進(jìn)行電子束的曝光處理。真空室30上連接有省略圖示的真空泵，通過真空泵對(duì)室內(nèi)進(jìn)行排氣，從而能夠?qū)⒄婵帐?0內(nèi)設(shè)定為預(yù)定壓力的真空氣氛。并且，通常，真空室30隔著空氣阻尼器(air damper)等防振臺(tái)(省略圖示)設(shè)置在地面上，構(gòu)成為不使來自外部的振動(dòng)傳播到真空室30內(nèi)或裝配在真空室30上的電子束射出部40。
說明真空室30的內(nèi)部，在底面30A上設(shè)置有輸送臺(tái)31，在該輸送臺(tái)31之上設(shè)置有可沿X軸方向(直交的水平軸中的一個(gè))移動(dòng)的X軸輸送臺(tái)32。而且，在該X軸輸送臺(tái)32之上設(shè)置有主軸電機(jī)34，該主軸電機(jī)34通過旋轉(zhuǎn)控制部61來對(duì)轉(zhuǎn)盤35進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。在轉(zhuǎn)盤35上設(shè)置有光盤母盤等被記錄對(duì)象36。
并且，在X軸輸送臺(tái)32上設(shè)置有Y軸輸送臺(tái)33和垂直臺(tái)37，在該垂直臺(tái)37上設(shè)置有前述的測(cè)定裝置10。而且，通過X軸輸送臺(tái)32、Y軸輸送臺(tái)33以及垂直臺(tái)37進(jìn)行XYZ軸方向的位置調(diào)整，調(diào)整為前述的刀口11的上表面與被記錄對(duì)象36的記錄面處于同一高度。
另一方面，通過輸送電機(jī)38的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)和輸送機(jī)構(gòu)39a、39b進(jìn)行X軸輸送臺(tái)32的移動(dòng)調(diào)整，該移動(dòng)調(diào)整中使用激光測(cè)長(zhǎng)器50，根據(jù)由測(cè)長(zhǎng)用激光束51(利用設(shè)置在Y軸輸送臺(tái)33上的反射鏡52將出射的測(cè)長(zhǎng)用激光束51反射，檢測(cè)返回來的測(cè)長(zhǎng)用激光束51)得到的測(cè)長(zhǎng)數(shù)據(jù)，利用來自輸送電機(jī)控制部60的輸出控制輸送電機(jī)38，由此進(jìn)行調(diào)整。更具體講，由輸送電機(jī)控制部對(duì)激光測(cè)長(zhǎng)器50所得到的測(cè)長(zhǎng)數(shù)據(jù)和基準(zhǔn)位置信號(hào)進(jìn)行比較，利用與其偏差對(duì)應(yīng)的控制信號(hào)進(jìn)行輸送電機(jī)38的驅(qū)動(dòng)控制，進(jìn)行與基準(zhǔn)位置信號(hào)對(duì)應(yīng)的X軸輸送臺(tái)32的位置設(shè)定。
接著，說明電子束射出部40，在電子束柱(電子ビ一ムカラム)40a內(nèi)裝配有各元件，從上方起依次配置有電子槍41、會(huì)聚透鏡42、消隱電極43、調(diào)制用光闌44、偏轉(zhuǎn)線圈45、校準(zhǔn)線圈46、高速偏轉(zhuǎn)器47、調(diào)焦透鏡48、物鏡49。
電子槍41射出通過來自省略圖示的加速高壓電源的幾10keV的高電壓進(jìn)行了加速的電子束E，所射出的電子束E通過會(huì)聚透鏡42會(huì)聚，通過消隱電極43，引導(dǎo)到調(diào)制用光闌44。消隱電極43由射束調(diào)制部62控制，根據(jù)記錄時(shí)輸入的記錄調(diào)制信號(hào)，進(jìn)行電子束E的強(qiáng)度調(diào)制。即，射束調(diào)制部62在消隱電極43之間施加與記錄調(diào)制信號(hào)對(duì)應(yīng)的輸出電壓，使所通過的電子束較大地偏轉(zhuǎn)。由此，電子束E在通過調(diào)制用光闌44的狀態(tài)和被調(diào)制用光闌44遮擋的狀態(tài)之間進(jìn)行開關(guān)控制，從而對(duì)電子束E進(jìn)行調(diào)制。
偏轉(zhuǎn)線圈45與圖2所示的偏轉(zhuǎn)線圈20對(duì)應(yīng)，根據(jù)來自前述的測(cè)定裝置10的輸出，將電子束E控制在基準(zhǔn)位置。根據(jù)基于來自前述的輸送電機(jī)控制部60的位置誤差信號(hào)的、來自射束位置修正部63的輸出對(duì)校準(zhǔn)線圈46進(jìn)行驅(qū)動(dòng)，進(jìn)行電子束E的位置修正。根據(jù)基于記錄時(shí)輸入的記錄位置信號(hào)的、來自射束偏轉(zhuǎn)控制部64的輸出對(duì)高速偏轉(zhuǎn)器47進(jìn)行驅(qū)動(dòng)，高速地進(jìn)行電子束E的偏轉(zhuǎn)控制。
調(diào)焦透鏡48和物鏡49相挨著，用于在前述的射束位置變動(dòng)測(cè)定時(shí)，在刀口11的上表面高度處形成射束點(diǎn)Ep，且在記錄時(shí)在被記錄對(duì)象36的記錄面上形成射束點(diǎn)Ep。在刀口11的上表面或記錄面上照射來自激光光源53的激光，通過檢測(cè)器54檢測(cè)其反射光，從而進(jìn)行刀口11的上表面或記錄面上的位置檢測(cè)，利用基于該檢測(cè)信號(hào)的來自焦點(diǎn)控制部65的輸出調(diào)整調(diào)焦透鏡48，在刀口11的上表面或記錄面上準(zhǔn)確地形成射束點(diǎn)Ep。
在這樣的電子束記錄裝置100中，在記錄之前，進(jìn)行前述的射束位置變動(dòng)的測(cè)定。該測(cè)定時(shí)，移動(dòng)X軸輸送臺(tái)32和Y軸輸送臺(tái)33，進(jìn)行位置調(diào)整，使得測(cè)定裝置10的刀口11(參照?qǐng)D2)的末端與電子槍41的射出軸一致。并且，通過垂直臺(tái)37進(jìn)行調(diào)整，使得刀口11的上表面高度與被記錄對(duì)象36的記錄面一致。
并且，伴隨從電子槍41射出電子束E，根據(jù)來自調(diào)焦部65的輸出來驅(qū)動(dòng)調(diào)焦透鏡48，與刀口11的上表面高度對(duì)齊，形成射束點(diǎn)Ep。進(jìn)一步，通過基于來自輸送電機(jī)控制部60的輸出信號(hào)的、來自射束位置修正部63的輸出，驅(qū)動(dòng)校準(zhǔn)線圈46，設(shè)定電子束E的初始位置，使得射束點(diǎn)Ep的中心與刀口11的末端位置一致。
然后，開始射束位置變動(dòng)的測(cè)定，驅(qū)動(dòng)電路16根據(jù)來自測(cè)定裝置10的控制輸出信號(hào)驅(qū)動(dòng)偏轉(zhuǎn)線圈45，控制電子束E的基準(zhǔn)位置，使得射束點(diǎn)Ep的中心與刀口11的末端一致。此時(shí)，來自測(cè)定裝置10的控制輸出是截止測(cè)定對(duì)象的變動(dòng)頻率后的輸出，因此，即使根據(jù)該控制輸出來控制電子束E，也不會(huì)影響到應(yīng)測(cè)定的射束點(diǎn)Ep的變動(dòng)量本身。而且，對(duì)于低頻的漂移，進(jìn)行電子束E的偏轉(zhuǎn)控制，防止產(chǎn)生低頻漂移，所以能夠在始終穩(wěn)定的狀態(tài)下，準(zhǔn)確地測(cè)定成為測(cè)定對(duì)象的頻率的射束位置變動(dòng)。
并且，從測(cè)定裝置10輸出的射束位置變動(dòng)信號(hào)與現(xiàn)有技術(shù)同樣地被輸入到示波器71，并存儲(chǔ)到存儲(chǔ)器72中。然后，記錄時(shí)，根據(jù)存儲(chǔ)器72的存儲(chǔ)數(shù)據(jù)，從修正信號(hào)生成部73輸出修正信號(hào)，在射束偏轉(zhuǎn)控制部64中，將該修正信號(hào)與記錄位置信號(hào)疊加而輸出，從而能夠進(jìn)行修正了射束位置變動(dòng)的電子束記錄。
以上說明的本發(fā)明的實(shí)施方式的電子束位置變動(dòng)測(cè)定方法、電子束位置變動(dòng)測(cè)定裝置以及電子束記錄裝置的特征總結(jié)如下(標(biāo)號(hào)與圖2～圖4對(duì)應(yīng))。
一個(gè)特征在于，作為電子束位置變動(dòng)測(cè)定方法，針對(duì)使電子束E的射束點(diǎn)Ep在記錄面上會(huì)聚、并在該記錄面上形成記錄圖案的電子束記錄裝置100，在射束點(diǎn)Ep的照射位置配置刀口11，檢測(cè)通過刀口11照射的電子束，根據(jù)射束點(diǎn)Ep的中心從刀口的末端偏離時(shí)的檢測(cè)電流的變化，測(cè)定射束點(diǎn)Ep的位置變動(dòng)時(shí)，在測(cè)定中控制電子束E的基準(zhǔn)位置，使得射束點(diǎn)Ep的中心位于刀口11的末端位置。并且，其特征在于，根據(jù)從檢測(cè)電流除去了測(cè)定對(duì)象的變動(dòng)頻率成分的輸出來進(jìn)行所述基準(zhǔn)位置的控制。
并且，作為電子束位置變動(dòng)測(cè)定裝置，針對(duì)使電子束E的射束點(diǎn)Ep在記錄面上會(huì)聚、并在該記錄面上形成記錄圖案的電子束記錄裝置，在記錄之前測(cè)定電子束Ep的位置變動(dòng)，其特征在于，具備刀口11，其配置在射束點(diǎn)Ep的照射位置；檢測(cè)單元(法拉第杯12等)，其檢測(cè)通過刀口11照射的電子束E；濾波器單元(高截止濾波器14等)，其從該檢測(cè)單元的輸出中除去測(cè)定對(duì)象的變動(dòng)頻率成分；以及控制單元15，其根據(jù)該濾波器單元的輸出，控制電子束E的基準(zhǔn)位置，使得射束點(diǎn)Ep的中心位于刀口11的末端位置，該電子束位置變動(dòng)測(cè)定裝置根據(jù)射束點(diǎn)Ep的中心從刀口11的末端偏離時(shí)的檢測(cè)單元的輸出變化，測(cè)定射束點(diǎn)Ep的位置變動(dòng)。
而且，作為電子束記錄裝置100，使電子束E的射束點(diǎn)Ep在記錄面上會(huì)聚，并在該記錄面上形成記錄圖案，其特征在于，為了在記錄之前進(jìn)行電子束位置變動(dòng)計(jì)測(cè)，設(shè)置前述的電子束位置變動(dòng)測(cè)定裝置。
根據(jù)這樣的特征，在記錄之前測(cè)定電子束位置變動(dòng)時(shí)，始終將成為基準(zhǔn)的射束點(diǎn)Ep的位置控制成刀口11的末端位于其中心位置，所以，能夠穩(wěn)定且準(zhǔn)確地測(cè)定電子束位置變動(dòng)。
并且，根據(jù)截止測(cè)定對(duì)象的變動(dòng)頻率而得到的檢測(cè)信號(hào)來控制射束點(diǎn)Ep的基準(zhǔn)位置，所以，該基準(zhǔn)位置的控制不會(huì)影響到測(cè)定對(duì)象的變動(dòng)量，能夠防止在測(cè)定中射束點(diǎn)Ep脫離測(cè)定范圍那樣的在較低的頻率下產(chǎn)生較大的射束波動(dòng)。
而且，由此能夠得到準(zhǔn)確的射束位置變動(dòng)數(shù)據(jù)，所以在電子束記錄裝置中，根據(jù)該數(shù)據(jù)，生成記錄時(shí)的修正信號(hào)等，能夠有效地排除對(duì)分辨率高的記錄影響程度高的射束位置變動(dòng)，進(jìn)行記錄。
權(quán)利要求
1.一種電子束位置變動(dòng)測(cè)定方法，其特征在于，針對(duì)使電子束的射束點(diǎn)在記錄面上會(huì)聚、并在該記錄面上形成記錄圖案的電子束記錄裝置，在所述射束點(diǎn)的照射位置處配置刀口，檢測(cè)通過該刀口照射的電子束，根據(jù)所述射束點(diǎn)的中心從所述刀口的前端偏離時(shí)的檢測(cè)電流的變化，測(cè)定所述射束點(diǎn)的位置變動(dòng)時(shí)，在所述測(cè)定中控制所述電子束的基準(zhǔn)位置，使得所述射束點(diǎn)的中心位于所述刀口的前端位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子束位置變動(dòng)測(cè)定方法，其特征在于，根據(jù)從所述檢測(cè)電流中除去了測(cè)定對(duì)象的變動(dòng)頻率成分的輸出來進(jìn)行所述基準(zhǔn)位置的控制。
3.一種電子束位置變動(dòng)測(cè)定裝置，針對(duì)使電子束的射束點(diǎn)在記錄面上會(huì)聚、并在該記錄面上形成記錄圖案的電子束記錄裝置，在記錄之前測(cè)定所述電子束的位置變動(dòng)，其特征在于，具備刀口，其配置在所述射束點(diǎn)的照射位置處；檢測(cè)單元，其檢測(cè)通過該刀口照射的電子束；濾波器單元，其從該檢測(cè)單元的輸出中除去測(cè)定對(duì)象的變動(dòng)頻率成分；以及控制單元，其根據(jù)該濾波器單元的輸出，控制所述電子束的基準(zhǔn)位置，使得所述射束點(diǎn)的中心位于所述刀口的前端位置，根據(jù)所述射束點(diǎn)的中心從所述刀口的前端偏離時(shí)的所述檢測(cè)單元的輸出變化，測(cè)定所述射束點(diǎn)的位置變動(dòng)。
4.一種電子束記錄裝置，使電子束的射束點(diǎn)在記錄面上會(huì)聚，并在該記錄面上形成記錄圖案，其特征在于，設(shè)置有在記錄之前測(cè)定所述電子束的位置變動(dòng)的測(cè)定裝置，該測(cè)定裝置具備刀口，其配置在所述射束點(diǎn)的照射位置處；檢測(cè)單元，其檢測(cè)通過該刀口照射的電子束；濾波器單元，其從該檢測(cè)單元的輸出中除去測(cè)定對(duì)象的變動(dòng)頻率成分；以及控制單元，其根據(jù)該濾波器單元的輸出，控制所述電子束的基準(zhǔn)位置，使得所述射束點(diǎn)的中心位于所述刀口的前端位置，該測(cè)定裝置根據(jù)所述射束點(diǎn)的中心從所述刀口的前端偏離時(shí)的所述檢測(cè)單元的輸出變化，測(cè)定所述射束點(diǎn)的位置變動(dòng)。
全文摘要
在電子束記錄裝置的記錄之前進(jìn)行的射束位置變動(dòng)的測(cè)定時(shí)，能夠進(jìn)行穩(wěn)定且準(zhǔn)確的變動(dòng)量的測(cè)定。在記錄之前測(cè)定射束點(diǎn)(E
文檔編號(hào)G11B9/10GK1942829SQ200580011820
公開日2007年4月4日 申請(qǐng)日期2005年6月2日 優(yōu)先權(quán)日2004年6月7日
發(fā)明者小島良明 申請(qǐng)人:日本先鋒公司