專利名稱：光學(xué)信息媒體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光學(xué)信息媒體，尤其涉及一種可以用激光相對(duì)內(nèi)槽部進(jìn)行信息的記錄及再生的補(bǔ)記型光學(xué)信息媒體。
背景技術(shù)：
以往，作為可以利用激光僅進(jìn)行1次信息記錄的補(bǔ)記型光學(xué)信息媒體，已知有CD-R(使用波長(zhǎng)780nm的激光)或DVD-R(使用波長(zhǎng)650nm的激光)等。它們是使用有機(jī)色素的補(bǔ)記型光學(xué)信息媒體，從生產(chǎn)率的容易性進(jìn)而得到的穩(wěn)定性及高速適應(yīng)性等性能(高速記錄)的觀點(diǎn)來看，被廣泛普及。另外，近年來，對(duì)應(yīng)高密度記錄化的要求，還提出了很多使用對(duì)應(yīng)青紫色激光(使用波長(zhǎng)400～450nm的激光)的有機(jī)色素的光學(xué)信息媒體(例如參照非專利文獻(xiàn)1。)。
作為使用對(duì)應(yīng)這樣的青紫色激光的有機(jī)色素的光學(xué)信息媒體，例如已知有在基板的槽(groove)上依次層疊光反射層和含有有機(jī)色素的色素記錄層，進(jìn)而在該色素記錄層上利用粘接劑或粘合劑貼合覆蓋層的構(gòu)成。具體而言，例如專利文獻(xiàn)1中記載的光學(xué)信息記錄媒體。該光學(xué)信息記錄媒體的特征在于，除了上述構(gòu)成，內(nèi)槽部(in groove)(從光入射面來看為凹部)中的色素記錄層的厚度大于上槽部(on groove)(從光入射面來看為凸部)中的色素記錄層的厚度，顯示出出色的記錄特性。
這樣構(gòu)成的光學(xué)信息媒體可以通過從上述光透過層側(cè)照射激光，進(jìn)行記錄及再生。具體而言，向這樣的光學(xué)信息媒體記錄信息，可以通過向色素記錄層的上槽部照射激光，該部分吸收光，局部發(fā)生發(fā)熱變形(例如，凹陷等的產(chǎn)生)來進(jìn)行。即，信息的記錄，可以通過在色素記錄層的上槽部使已發(fā)熱變形的部位(記錄部分)與未變形的部位(未記錄部分)之間的反射系數(shù)不同來進(jìn)行。另一方面，信息的再生通常可以通過向補(bǔ)記型光學(xué)信息媒體照射與記錄用激光相同波長(zhǎng)的激光，檢測(cè)上述反射系數(shù)的差異來進(jìn)行。
這樣的相對(duì)上槽部的記錄，在照射高功率的激光來記錄的情況下，發(fā)熱變形處過于向槽的寬度方向擴(kuò)展，變得容易脫離跟蹤(tracking)，結(jié)果，存在更加促進(jìn)向鄰接軌道的發(fā)熱變形的問題。
作為解決該問題的手段，近年來向內(nèi)槽部記錄的方法正在被探討。相對(duì)如上所述的在上槽部記錄的類型的光學(xué)信息媒體，向內(nèi)槽部記錄的情況下，顯示出在色素記錄層中記錄后的反射系數(shù)變得高于記錄前、即記錄部分的反射系數(shù)變得高于未記錄部分的由低變高(Low to High)(以下稱為L(zhǎng)H。)的記錄極性。另外，通常在上槽部記錄的情況下，表示出記錄部分的反射系數(shù)變得低于未記錄部分的由高變低(High to Low)(以下稱為HL。)的記錄極性，這是與CD-R或DVD-R相同的記錄極性。
在該LH的記錄極性中，存在不能得到與向上槽部的記錄同等的輸出，記錄再生特性低的問題。
另外，即使進(jìn)行向內(nèi)槽部的記錄，存在槽的形狀或記錄層的厚度會(huì)引起在高功率下的記錄中脫離跟蹤的問題。
另外，專利文獻(xiàn)2、專利文獻(xiàn)3、專利文獻(xiàn)4中，公開有可以用激光形成圖像的光學(xué)信息記錄媒體。
非專利文獻(xiàn)1“ISOM2001”218～219頁(yè)專利文獻(xiàn)1特開2003-263779號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2特開2000-113516號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)3特開2001-283464號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)4特開2000-173096號(hào)公報(bào)發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明正是鑒于上述以往的問題點(diǎn)而提出的，以達(dá)到以下目的為課題。即，本發(fā)明的目的在于提供一種光學(xué)信息媒體，其是使用對(duì)應(yīng)青紫色激光的有機(jī)色素的光學(xué)信息媒體，其是即使向內(nèi)槽部進(jìn)行LH記錄，也可以得到與向上槽部記錄同等出色的記錄再生特性，而且即使在以更高功率的記錄中也不會(huì)發(fā)生跟蹤的脫離的光學(xué)信息媒體。
解決上述課題的手段如下所述。即，本發(fā)明的光學(xué)信息媒體是在設(shè)置于基板的槽(groove)上依次具有色素記錄層、粘接層及光透過層，通過從該光透過層側(cè)相對(duì)內(nèi)槽(ingroove)部入射激光來進(jìn)行記錄及再生的光學(xué)信息媒體，其特征在于，上述槽的槽深為D(nm)及槽寬為W(nm)的情況下，D×W為5000nm2以上，而且內(nèi)槽部中的上述色素記錄層的厚度為0.7D～2.4D(nm)。
在本發(fā)明的光學(xué)信息媒體中，在基板與所述色素記錄層之間設(shè)置光反射層是優(yōu)選的方式。
在本發(fā)明的光學(xué)信息媒體中，槽的槽寬W為50～250nm是優(yōu)選的方式。
在本發(fā)明的光學(xué)信息媒體中，內(nèi)槽部中的色素記錄層的厚度di大于上槽部中的色素記錄層的厚度do是優(yōu)選的方式。
在本發(fā)明的光學(xué)信息媒體中，所述內(nèi)槽部中的色素記錄層的厚度di與所述上槽部中的色素記錄層的厚度do之間的關(guān)系為2do≥di＞do是優(yōu)選的方式。
在本發(fā)明的光學(xué)信息媒體中，內(nèi)槽部中的色素記錄層的厚度di為20～100nm是優(yōu)選的方式。
在本發(fā)明的光學(xué)信息媒體中，色素記錄層是利用旋涂(spin coat)法形成的是優(yōu)選的方式。
在本發(fā)明的光學(xué)信息媒體中，色素記錄層含有對(duì)500nm以下具有極大吸收的色素是優(yōu)選的方式。
在本發(fā)明的光學(xué)信息媒體中，粘接層是用于貼合光透過層的構(gòu)件。特別是在該粘接層用粘合劑構(gòu)成時(shí)，在該粘合劑的玻璃化溫度Tg為-60℃～0℃的情況下，內(nèi)槽部中的色素記錄層的厚度優(yōu)選為0.7D～1.8D(nm)。
另外，在粘接層用固化性樹脂構(gòu)成時(shí)，在該固化性樹脂的玻璃化溫度Tg為0℃～200℃的情況下，上述內(nèi)槽部中的上述色素記錄層的厚度優(yōu)選為0.95D～2.35D(nm)。
在本發(fā)明的光學(xué)信息媒體中，槽的槽深D為10～85nm是優(yōu)選的方式。
在本發(fā)明的光學(xué)信息媒體中，槽的軌道間距(track pitch)為200～400nm是優(yōu)選的方式。
在本發(fā)明的光學(xué)信息媒體中，槽的軌道間距為200～400nm，而且所述槽深D為10～85nm，同時(shí)激光的波長(zhǎng)λ為500nm以下是優(yōu)選的方式。
在本發(fā)明的光學(xué)信息媒體中，光透過層與所述粘接層的合計(jì)厚度為0.09～0.11mm是優(yōu)選的方式。
利用本發(fā)明，可以提供一種光學(xué)信息媒體，其是使用對(duì)應(yīng)青紫色激光的有機(jī)色素的光學(xué)信息媒體，其是即使向內(nèi)槽部進(jìn)行LH記錄，也可以得到與向上槽部記錄同等出色的記錄再生特性，而且即使在以更高功率的記錄中也不會(huì)發(fā)生跟蹤的脫離的光學(xué)信息媒體。


圖1是表示用于顯示本發(fā)明的光學(xué)信息媒體中的基板的形狀及色素記錄層的厚度的要部放大截面圖。
圖中，10-基板；20-色素記錄層；D-槽的槽深度；W-槽的槽寬；di-內(nèi)槽部中的色素記錄層的厚度；do-上槽部中的色素記錄層的厚度。
具體實(shí)施例方式
以下對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說明。
本發(fā)明的光學(xué)信息媒體是在設(shè)置于基板的槽上依次具有色素記錄層、粘接層及光透過層，通過從該光透過層側(cè)相對(duì)內(nèi)槽部入射激光來進(jìn)行記錄及再生的光學(xué)信息媒體，其特征在于，上述槽的槽深為D(nm)且槽寬為W(nm)的情況下，D×W為5000nm2以上，而且內(nèi)槽部中的上述色素記錄層的厚度為0.7D～2.4D(nm)。
以下參照?qǐng)D1，對(duì)本發(fā)明的光學(xué)信息媒體的特征部分進(jìn)行詳細(xì)說明。在此，圖1是用于顯示本發(fā)明的光學(xué)信息媒體中的基板的形狀及色素記錄層的厚度的要部放大截面圖。如圖1所示，本發(fā)明的光學(xué)信息媒體具有在形成了需要的槽的基板10上設(shè)置色素記錄層20的構(gòu)造。
首先，對(duì)本發(fā)明中的基板10的槽的形狀及在其槽上設(shè)置的色素記錄層20的厚度進(jìn)行說明。
圖1中，“D”表示槽深，“W”表示槽寬。此外，槽深(D)是從槽(槽)形成前的基板表面到槽的最深處之間的距離，槽寬(W)是D/2深度處的槽的寬度。另外，圖1中，“di”表示內(nèi)槽部(從激光照射側(cè)觀察為凹部)中的色素記錄層的厚度，“do”表示上槽部(從激光照射側(cè)觀察為凸部)中的色素記錄層的厚度。
在本發(fā)明中，需要適當(dāng)調(diào)整槽的槽深(D)及槽寬(W)，使D×W成為5000nm2以上。另外，D×W更優(yōu)選為5100nm2以上，進(jìn)而優(yōu)選為5200nm2以上。
此外，如果D×W不到5000nm2，則會(huì)產(chǎn)生輸出不充分、跟蹤不穩(wěn)定等問題。
另外，在本發(fā)明中，內(nèi)槽部中的色素記錄層的厚度(di)需要為0.7D～2.4D(nm)。就是說，相對(duì)設(shè)置于基板的槽的槽深(D)，內(nèi)槽部中的色素記錄層(di)的厚度為0.7～2.4倍。該di的更優(yōu)選范圍根據(jù)構(gòu)成粘接層的材料的物理性質(zhì)不同而變化，例如，粘接層用后述的固化性樹脂構(gòu)成，該固化性樹脂的玻璃化溫度Tg為0℃～200℃的情況下，di為0.95D～2.35D(nm)，進(jìn)而優(yōu)選為1.0D～2.3D。另外，粘接層用后述的粘合劑構(gòu)成，該粘合劑的玻璃化溫度Tg為-60℃～0℃的情況下，di優(yōu)選為0.7D～1.8D(nm)，更優(yōu)選為0.7D～1.7D(nm)，進(jìn)而優(yōu)選為0.8D～1.3D(nm)。
此外，如果di不到0.7D，則輸出不足，相反，如果di超過2.4D，則跟蹤變得不穩(wěn)定。
這樣，通過使設(shè)置于基板10的槽的形狀與在其槽上形成的色素記錄層20的厚度滿足上述關(guān)系，兼顧高輸出和穩(wěn)定的跟蹤成為可能，結(jié)果，即使向內(nèi)槽部進(jìn)行LH記錄，也可以得到與向上槽部記錄同等出色的記錄再生特性，另外，即使在更高的功率下進(jìn)行記錄，也可以發(fā)揮出不發(fā)生跟蹤的脫離這樣出色的效果。
以下對(duì)構(gòu)成本發(fā)明的光學(xué)信息媒體的各要素進(jìn)行說明。
<基板>
基板10例如可以舉出玻璃；聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸樹脂；聚氯乙烯、聚乙烯共聚物等氯乙烯系樹脂；環(huán)氧樹脂、不定形聚烯烴；聚酯；鋁等金屬等，根據(jù)需要也可以并用它們。其中，從耐濕性、寸法穩(wěn)定性及價(jià)格等角度出發(fā)，優(yōu)選聚碳酸酯或不定形聚烯烴，特別優(yōu)選聚碳酸酯。
基板10的厚度優(yōu)選為1.1±0.3mm的范圍。
在基板10的表面上形成具有如上所述的特定形狀的跟蹤用槽或表示地址信號(hào)等信息的凹凸(槽)。該槽在注射模塑或擠壓成形聚碳酸酯等樹脂材料時(shí)，優(yōu)選直接在基板上形成。另外，也可以通過設(shè)置槽層來形成槽。作為槽層的材料，可以使用丙烯酸的單酯、二酯、三酯及四酯中的至少一種單體(或寡聚物)與光聚合引發(fā)劑的混合物。槽層的形成例如在精密地制作的母型(壓模stamper)上涂布由上述丙烯酸酯及聚合引發(fā)劑構(gòu)成的混合液，進(jìn)而在該涂布液層上載置基板，然后通過中介基板或母型照射紫外線，使涂布層固化，使基板與涂布層固定。接著，可以通過從母型剝離基板得到。槽層的層厚通常為0.01～100μm的范圍，優(yōu)選為0.05～50μm的范圍。
在本發(fā)明中，槽的槽深(D)，為了在向內(nèi)槽的LH記錄中得到出色的輸出，優(yōu)選為10～85nm的范圍，更優(yōu)選為15～80nm的范圍，進(jìn)而優(yōu)選為25～75nm的范圍。
另外，槽的槽寬(W)，為了在向內(nèi)槽的LH記錄中得到出色的輸出，優(yōu)選為50～250nm的范圍，更優(yōu)選為100～250nm的范圍，進(jìn)而優(yōu)選為150～200nm的范圍。
通過調(diào)整這些槽的槽深(D)及槽寬(W)，將D×W控制在上述范圍。
進(jìn)而，槽的軌道間距，為了實(shí)現(xiàn)高的記錄密度，優(yōu)選為200～400nm的范圍，更優(yōu)選為250～350nm的范圍。
在基板10上設(shè)置后述的光反射層的情況下，在設(shè)置光反射層的一側(cè)基板表面上，為了達(dá)到平面性的改善、粘接力的提高的目的，優(yōu)選形成底涂層。
作為該底涂層的材料，例如可以舉出聚甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸·甲基丙烯酸共聚物、苯乙烯·馬來酸酐共聚物、聚乙烯醇、N-羥甲基丙烯酰胺、苯乙烯·乙烯基甲苯共聚物、氯磺?；垡蚁?、硝酸纖維素、聚氯乙烯、氯化聚烯烴、聚酯、聚酰亞胺、醋酸乙烯·氯乙烯共聚物、乙烯·醋酸乙烯共聚物、聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯等高分子物質(zhì)；硅烷偶合劑等表面改性劑。
底涂層可以通過在將上述材料溶解或分散于適當(dāng)?shù)娜軇┲校渲仆坎家褐?，利用旋涂、浸涂、擠壓涂敷(extrusion coat)等涂布法，在基板表面上涂布來形成。底涂層的層厚通常為0.005～20μm的范圍，優(yōu)選為0.01～10μm的范圍。
<色素記錄層>
在本發(fā)明中，內(nèi)槽部中的色素記錄層的厚度(di)需要為0.9D～2.4D(nm)。另外，內(nèi)槽部中的色素記錄層的厚度(di)優(yōu)選大于上槽部中的色素記錄層的厚度(do)。就是說，如圖1所示，本發(fā)明的光學(xué)信息媒體優(yōu)選形成為內(nèi)槽部中的色素記錄層20的厚度di大于上槽部中的色素記錄層20的厚度do。這樣，厚度di與厚度do之間的相位差變小，具有防止反射系數(shù)減低的效果，同時(shí)還具有防止相位差引起的記錄振幅變小的效果。
另外，厚度(di)與厚度(do)之間的關(guān)系優(yōu)選為di＞do，從防止反射系數(shù)或記錄振幅的減低的觀點(diǎn)出發(fā)，更優(yōu)選為2do≥di＞do，進(jìn)而優(yōu)選為1.8do≥di＞1.1do，特別優(yōu)選為1.6do≥di＞1.2do。
只要內(nèi)槽部中的色素記錄層20的厚度di至少滿足0.9D～2.4D(nm)即可，如上所述，優(yōu)選根據(jù)構(gòu)成粘接層的材料的物理性質(zhì)適當(dāng)決定，進(jìn)而優(yōu)選與在上槽部中的色素記錄層20的厚度之間，滿足上述關(guān)系(di＞do)。具體而言，優(yōu)選為20～100nm，更優(yōu)選為25～90nm，特別優(yōu)選為30～85nm。
另一方面，上槽部中的色素記錄層20的厚度(do)優(yōu)選為20～200nm，更優(yōu)選為40～150nm，特別優(yōu)選為50～120nm。
這樣的色素記錄層20的厚度可以利用以下方法測(cè)定。
可以在形成色素記錄層之后，再用FIB加工，對(duì)制造完成后的光學(xué)信息媒體進(jìn)行截面切出加工，通過電子顯微鏡觀察加工后的樣品來測(cè)定。
本發(fā)明中的色素記錄層20可以通過將后述的色素和根據(jù)需要加入的粘合劑溶解于適當(dāng)?shù)娜軇┲?，配制涂布液，將該涂布液涂布于基板的表?或光反射層的表面)，形成涂膜之后，干燥該涂膜來形成。
在此，為了使內(nèi)槽部中的色素記錄層20的厚度di形成為0.9D～2.4D(nm)，只要適當(dāng)調(diào)整基板的溫度、涂布法的種類、涂布液的濃度或粘度、涂布條件(例如旋涂法中的涂布時(shí)或離心(甩)時(shí)的軸(spindle)旋轉(zhuǎn)數(shù)及保持時(shí)間等)、干燥條件(干燥溫度、干燥時(shí)間、干燥濕度等)等即可。
作為本發(fā)明中使用的涂布方法，可以舉出噴涂法、旋涂法、浸涂法、輥涂法、刀涂法、括刀輥法、網(wǎng)板印刷法等。其中，優(yōu)選使用旋涂法。
以下對(duì)本發(fā)明中控制色素記錄層20的厚度時(shí)的優(yōu)選各條件進(jìn)行舉出。
作為涂布液的溫度，只要是20～50℃則沒有特別問題，優(yōu)選為22～40℃，更優(yōu)選為23～37℃。
另外，作為基板的溫度，優(yōu)選為10～50℃，更優(yōu)選為15～45℃，進(jìn)而優(yōu)選為20～40℃。
進(jìn)而作為涂布時(shí)的溫·濕度，優(yōu)選為10～40℃、10～90％RH，更優(yōu)選為15～35℃、15～85％RH，進(jìn)而優(yōu)選為20～35℃、20～80％RH。
在本發(fā)明中，優(yōu)選利用旋涂法形成色素記錄層。在該旋涂法中，向基板的表面(或光反射層的表面)涂布含有色素的涂布液之后，可以通過調(diào)整開始使軸旋轉(zhuǎn)數(shù)向甩落(spindle)旋轉(zhuǎn)數(shù)上升為止的時(shí)間，控制色素記錄層的厚度。如果從涂布結(jié)束時(shí)開始直至開始使軸旋轉(zhuǎn)數(shù)上升為止的時(shí)間短，則色素記錄層變薄，相反，如果長(zhǎng)，則色素記錄層變厚。
此外，通過這樣利用涂布法形成色素記錄層20，可以滿足上述關(guān)系(di＞do)。涂布法與蒸鍍法不同，涂布面上形成的凹凸(槽)上，膜厚不均一，如圖1，可以形成順利地追蹤該凹凸形狀的涂膜。所以，只要用涂布法形成色素記錄層20，如上所述，可以形成為內(nèi)槽部中的色素記錄層20的厚度(di)大于上槽部中的色素記錄層20的厚度(do)。另外，涂布法不像蒸鍍法那樣需要加熱至色素記錄層使用的色素變性的高溫，所以可以形成良好的凹坑(pit)，可以提高記錄特性。
色素記錄層20優(yōu)選含有在照射的激光的波長(zhǎng)區(qū)域具有極大吸收的色素，特別是為了可以以500nm以下的波長(zhǎng)的激光記錄或再生，優(yōu)選含有對(duì)500nm以下具有極大吸收的色素。作為在此使用的色素，例如可以舉出賽安寧(cyanine)色素、尿囊黃醇(oxonol)色素、金屬配位化合物系色素、偶氮色素、酞菁(phthalocyanine)色素等。
具體而言，可以舉出特開平4-74690號(hào)公報(bào)、特開平8-127174號(hào)公報(bào)、特開平11-53758號(hào)公報(bào)、特開平11-334204號(hào)公報(bào)、特開平11-334205號(hào)公報(bào)、特開平11-334206號(hào)公報(bào)、特開平11-334207號(hào)公報(bào)、特開2000-43423號(hào)公報(bào)、特開2000-108513號(hào)公報(bào)、特開2000-158818號(hào)公報(bào)的各公報(bào)中記載的色素或三唑、三嗪、賽安寧、部花青、氨基丁二烯、酞菁染料、桂皮酸、氧化還原(viologen)、偶氮基、尿囊黃醇(オキソノ一ル)苯并噁唑、苯并三唑等色素，優(yōu)選賽安定、氨基丁二烯、苯并三唑、酞菁染料。
除了這些色素，根據(jù)需要將粘合劑或添加劑等溶解于適當(dāng)?shù)娜軇┲校渲仆坎家骸?br> 作為在此使用的色素記錄層的涂布液的溶劑，例如可以舉出醋酸丁酯、溶纖劑乙酸酯等酯；甲基乙基甲酮、環(huán)己酮、甲基異丁基甲酮等酮；二氯甲烷、1，2-二氯乙烷、氯仿等氯化烴；二甲替甲酰胺；環(huán)己烷等烴；四氫呋喃、乙醚、二氧雜環(huán)乙烷等醚；乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、雙丙酮醇等醇；2，2，3，3-四氟丙醇等氟系溶劑；乙二醇一甲醚、乙二醇一乙醚、丙二醇一甲醚等乙二醇醚類等。上述溶劑可以考慮使用的色素及粘合劑的溶解性單獨(dú)使用，也可以適當(dāng)并用2種以上。
作為粘合劑的例子，例如可以舉出明膠、纖維素衍生物、右旋糖苷、松香、橡膠等天然有機(jī)高分子物質(zhì)；及聚氨酯、聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚異丁烯等烴系樹脂，聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚氯乙烯·聚醋酸乙烯酯共聚物等乙烯系樹脂，聚丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸樹脂，聚乙烯醇、氯化聚乙烯、環(huán)氧樹脂、丁縮醛樹脂、橡膠衍生物、苯酚·甲醛樹脂等熱固化性樹脂的初期縮聚物等合成有機(jī)高分子。并用粘合劑作為色素記錄層的材料的情況下，相對(duì)色素，粘合劑的使用量?jī)?yōu)選為0.01～50倍量(質(zhì)量比)的范圍，更優(yōu)選為0.1～5倍量的范圍。通過在色素記錄層中含有粘合劑，還可以改良色素記錄層的保存穩(wěn)定性。
另外，為了提高色素記錄層的耐光性，在涂布液中可以添加各種褪色防止劑。
作為褪色防止劑，通常使用單態(tài)(singlet)氧驟冷器?？梢岳靡言诠膶＠f明書等發(fā)行物中所記載的單態(tài)氧驟冷器。
作為其具體例子，可以舉出特開昭58-175693號(hào)公報(bào)、特開昭59-81194號(hào)公報(bào)、特開昭60-18387號(hào)公報(bào)、特開昭60-19586號(hào)公報(bào)、特開昭60-19587號(hào)公報(bào)、特開昭60-35054號(hào)公報(bào)、特開昭60-36190號(hào)公報(bào)、特開昭60-36191號(hào)公報(bào)、特開昭60-44554號(hào)公報(bào)、特開昭60-44555號(hào)公報(bào)、特開昭60-44389號(hào)公報(bào)、特開昭60-44390號(hào)公報(bào)、特開昭60-54892號(hào)公報(bào)、特開昭60-47069號(hào)公報(bào)、特開昭63-209995號(hào)公報(bào)、特開平4-25492號(hào)公報(bào)、特公平1-38680號(hào)公報(bào)及特公平6-26028號(hào)公報(bào)等各公報(bào)、德國(guó)專利350399號(hào)說明書、還有日本化學(xué)會(huì)志1992年10月號(hào)第1141頁(yè)等中記載的例子。
上述單態(tài)氧驟冷器等褪色防止劑的含有量，在色素記錄層的全部固體成分中，通常為0.1～50質(zhì)量％的范圍，優(yōu)選為0.5～45質(zhì)量％的范圍，更優(yōu)選為3～40質(zhì)量％的范圍，特別優(yōu)選為5～25質(zhì)量％的范圍。
進(jìn)而，也可以在涂布液中根據(jù)目的添加抗氧劑、UV吸收劑、增塑劑及潤(rùn)滑劑等各種添加劑。
另外，作為溶解處理色素或粘合劑的方法，可以適用超聲波處理、均化器處理、分散機(jī)處理、砂磨機(jī)處理、攪拌器攪拌處理等。
這樣配制的涂布液中的色素的濃度通常在0.01～10質(zhì)量％的范圍，優(yōu)選在0.1～5質(zhì)量％的范圍。
此外，形成上述色素記錄層之后，為了除去色素記錄層中的多余的溶劑，優(yōu)選進(jìn)行退火處理。
退火處理的溫度，作為可以有效地除去多余的溶劑的溫度，優(yōu)選為50℃以上，更優(yōu)選為55℃以上，更優(yōu)選為60℃以上。另外，從發(fā)生記錄層的變質(zhì)的角度來看，退火處理的溫度優(yōu)選為100℃以下，更優(yōu)選為95℃以下，進(jìn)而優(yōu)選為90℃以下。
另外，退火處理的時(shí)間根據(jù)上述處理溫度而不同，作為可以有效地除去多余的溶劑的時(shí)間，優(yōu)選為5分鐘以上，更優(yōu)選為10分鐘以上，進(jìn)而優(yōu)選為30分鐘以上。另外，從縮短制造時(shí)間、得到高生產(chǎn)率的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選為6小時(shí)，更優(yōu)選為4小時(shí)，進(jìn)而優(yōu)選為3小時(shí)。
作為退火處理的環(huán)境，沒有特別限定，優(yōu)選適當(dāng)設(shè)定。
<粘接層>
本發(fā)明中的粘接層是用于在記錄層上貼合后述的光透過層的層，用以往公知的粘接劑或粘合劑構(gòu)成。該粘接層的彈力性會(huì)引起記錄層上形成的凹坑(pit)等的發(fā)熱變形的程度發(fā)生變化，所以優(yōu)選根據(jù)構(gòu)成該粘接層的材料的物理性質(zhì)(例如玻璃化溫度Tg)，調(diào)整上述色素記錄層的內(nèi)槽部中的厚度(di)。
作為粘接劑，優(yōu)選使用玻璃化溫度Tg為0℃～200℃的固化性樹脂，具體而言，例如可以使用UV固化樹脂、EB固化樹脂、熱固化樹脂等，其中優(yōu)選使用UV固化樹脂。
粘接劑優(yōu)選例如在貼合面(色素記錄層表面或阻擋層表面)上，利用旋涂法涂布規(guī)定量粘接劑，在其上載置光透過層之后，使其以高速旋轉(zhuǎn)，粘接劑擴(kuò)展至在貼合面與光透過層之間變得均一，然后使其固化。
作為粘接劑使用UV固化樹脂的情況下，也可以將該UV固化樹脂直接或溶解于甲基乙基甲酮、醋酸乙酯等適當(dāng)?shù)娜軇┡渲仆坎家海瑥姆峙淦飨蛸N合面供給。
另外，為了防止制作的光學(xué)信息媒體的翹曲，構(gòu)成粘接層的UV固化樹脂優(yōu)選為固化收縮率小的樹脂。作為這樣的UV固化樹脂，例如可以舉出大日本油墨化學(xué)工業(yè)(株)公司制的“SD-640”等UV固化樹脂。
另外，作為粘合劑，優(yōu)選使用玻璃化溫度Tg為-60℃～0℃的粘合劑，具體而言，可以使用丙烯酸系、橡膠系、硅酮系的粘合劑，從透明性、耐久性的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選丙烯酸系粘合劑。作為這樣的丙烯酸系粘合劑，以丙烯酸2-乙基己基酯、丙烯酸正丁酯等為主要成分，為了提高凝聚力，優(yōu)選使用短鏈的丙烯酸烷基酯或甲基丙烯酸酯例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯，與可以與交聯(lián)劑成為交聯(lián)點(diǎn)的丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酰胺衍生物、馬來酸、丙烯酸羥乙基酯、丙烯酸縮水甘油酯等之間共聚合得到的物質(zhì)。可以通過適當(dāng)調(diào)節(jié)主要成分、短鏈成分和用于附加交聯(lián)點(diǎn)的成分的混合比率、種類，改變玻璃化溫度(Tg)或交聯(lián)密度。
作為與上述粘合劑并用的交聯(lián)劑，例如可以舉出異氰酸酯系交聯(lián)劑。作為這種異氰酸酯系交聯(lián)劑，可以使用亞芐基二異氰酸酯、4，4’-二苯基甲烷二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、1，5-二異氰酸萘酯、鄰甲苯胺異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯等異氰酸酯類，或這些異氰酸酯類與多元醇之間的產(chǎn)生物，或通過異氰酸酯的縮聚產(chǎn)生的聚異氰酸酯類。作為這些異氰酸酯類的市售商品，可以舉出日本聚氨酯(ピリウレタン)公司制的コロネ一トL、コロネ一トHL、コロネ一ト2030、コロネ一ト2031、ミリオネ一トMR、ミリオネ一トHTL；武田藥品公司制的タケネ一トD-102、タケネ一トD-110N、タケネ一トD-200、タケネ一トD-202；住友バイエル公司制的デスモジユ一ルL、デスモジユ一ルIL、デスモジユ一ルN、デスモジユ一ルHL等。
粘合劑可以在貼合面上均一地涂布規(guī)定量，在其上載置光透過層之后，使其固化，也可以預(yù)先在光透過層的一面上均一地涂布規(guī)定量，形成粘合劑涂膜，將該涂膜貼合于貼合面，然后使其固化。
另外，也可以使用在光透過層上預(yù)先涂設(shè)粘合劑的市售的粘合薄膜。
本發(fā)明中的粘接層的厚度優(yōu)選為0.1～100μm的范圍，更優(yōu)選為0.5～50μm的范圍，進(jìn)而優(yōu)選為10～30μm的范圍。
<光透過層>
光透過層借助上述粘接層被貼合，成為記錄及再生中使用的激光的入射面。所以，相對(duì)記錄及再生中使用的激光(優(yōu)選500nm以下的波長(zhǎng)的激光)，優(yōu)選為透過率80％以上，更優(yōu)選為90％以上。另外，光透過層優(yōu)選為樹脂薄片，作為該樹脂薄片，可以舉出聚碳酸酯(帝人公司制ピユアエ一ス，帝人化成公司制パンライト)、三醋酸纖維素(富士膠片公司制フジタツク)、PET(東レ公司制ルミラ一)，更優(yōu)選聚碳酸酯、三醋酸纖維素。
另外，光透過層的表面粗糙度Ra優(yōu)選為5nm以下。該表面粗糙度Ra由樹脂的種類、制膜方法、含有的填料的有無或有無等決定。此外，光透過層的表面粗糙度Ra例如由WYKO公司制HD2000測(cè)定。
光透過層的厚度由用于記錄及再生而照射的激光的波長(zhǎng)或NA適當(dāng)規(guī)定，但優(yōu)選為0.03～0.15mm的范圍，更優(yōu)選為0.05～0.12mm。另外，光透過層與上述粘接層的總厚度優(yōu)選為0.09～0.11mm，更優(yōu)選為0.095～0.105mm。
此外，在光透過層的光入射面，在光學(xué)信息媒體的制造、保存、使用時(shí)，也可以設(shè)置用于防止損傷光入射面的保護(hù)層(硬涂層)或用于防止附著污物的防污層。
<光反射層>
在本發(fā)明中，光反射層是為了提高信息的再生時(shí)的反射率而在基板與色素記錄層之間設(shè)置的任意層。光反射層可以通過蒸鍍、濺射或離子鍍對(duì)激光的反射率高的光反射性物質(zhì)，在上述基板上形成。
光反射層的層厚通常為10～300nm的范圍，優(yōu)選為50～200nm的范圍。
此外，上述反射率優(yōu)選為70％以上。
作為反射率高的光反射性物質(zhì)，可以舉出Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi等金屬及半金屬或不銹鋼銅。這些光反射性物質(zhì)可以單獨(dú)使用，或者組合兩種以上作為合金使用。這些中優(yōu)選Cr、Ni、Pt、Cu、Ag、Au、Al及不銹鋼銅。特別優(yōu)選Au、Ag、Al或它們的合金，最優(yōu)選Au、Ag或它們的合金。
<阻擋層>
在本發(fā)明中，為了提高粘附性及色素的保存性，優(yōu)選在色素記錄層與粘接層之間形成阻擋層。作為阻擋層的材料，使用由Zn、Si、Ti、Te、Sm、Mo、Ge、Nb、Ta、Ga、Al、Zr、In、Sn、Y等任意1個(gè)原子以上構(gòu)成的氧化物、氮化物、碳化物等。
阻擋層可以通過濺射、蒸鍍、離子鍍等形成，其厚度優(yōu)選為1～100nm。
<其他層>
也可以在本發(fā)明的光學(xué)信息媒體上進(jìn)一步設(shè)置用于提高粘接性、記錄特性、保存性的各種中間層。例如，也可以在光反射層與色素記錄層之間設(shè)置用于提高反射率或粘附性的中間層。
本發(fā)明的光學(xué)信息媒體例如如下所述進(jìn)行信息的記錄、再生。在此，本發(fā)明的光學(xué)信息媒體具有如上所述的特定的形狀的槽，進(jìn)而具有如上所述的層構(gòu)成，所以記錄再生波長(zhǎng)λ優(yōu)選為500nm以下。
首先，使光學(xué)信息媒體以規(guī)定的線速度(0.5～10m/秒)或規(guī)定的定角速度旋轉(zhuǎn)，同時(shí)從光透過層側(cè)，借助物鏡，向需要的內(nèi)槽部照射青紫色激光(例如波長(zhǎng)405nm)等記錄用光。利用該照射光，色素記錄層吸收其光，局部溫度上升，例如通過產(chǎn)生凹坑(pit)改變其光學(xué)特性(反射率)，來記錄信息。如上所述記錄的信息的再生可以通過使光學(xué)信息媒體以規(guī)定的定線速度旋轉(zhuǎn)，同時(shí)從光透過層側(cè)照射青紫色激光，檢測(cè)該反射光，來進(jìn)行。
作為具有500nm以下的激發(fā)波長(zhǎng)的激光光源，例如可以舉出具有390～415nm的范圍的激發(fā)波長(zhǎng)的青紫色半導(dǎo)體激光、中心激發(fā)波長(zhǎng)425nm的青紫色SHG激光等。
另外，為了提高記錄密度，拾波器(pickup)中使用的物鏡的NA優(yōu)選為0.7以上，更優(yōu)選為0.85以上。
以下利用實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳述，但本發(fā)明不被這些所限制。
(實(shí)施例1)使用帝人化成(株)制的聚碳酸酯樹脂(パンライトAD5503)，通過注射模塑，得到厚1.1mm、外徑120mm、內(nèi)徑15mm的基板。在此，設(shè)置在基板上的槽為槽深(D)35nm、槽寬(W)200nm、軌道間距340nm在該槽上，使用Ag98.4atmic％、Nd0.7atmic％、Cu0.9atmic％構(gòu)成的目標(biāo)物(target)，利用真空成膜法，以70nm的厚度成膜光反射層、此時(shí)，真空成膜法在氬氣氛下，接通功率為2kW，Ar流量為5sccm。
稱量下述化學(xué)式表示的色素，并相對(duì)2，2，3，3-四氟丙醇(TFP)100ml，為1g的比率。向TFP中加入稱量的色素，向該溶液照射2小時(shí)超聲波，使色素溶解，然后在23℃50％RH的環(huán)境下靜置0.5小時(shí)以上，用0.2μm的過濾器過濾，得到色素涂布液。
使用旋涂法，在光反射層上涂布該色素涂布液，然后使其干燥，形成色素記錄層。
此外，可以通過在光反射層上涂布色素涂布液之后，調(diào)整開始使軸旋轉(zhuǎn)數(shù)向甩落旋轉(zhuǎn)數(shù)上升為止的時(shí)間，控制色素記錄層的厚度。
在此，如下所述算出形成的色素記錄層的厚度。首先，從利用上述方法形成色素記錄層的樣品開始，使用日立ハイテクノロジ一公司制FB-2100型FIB加工裝置，制作切片。使用日立ハイテクノロジ一公司制HF-2200型FE-TEM觀察該切片，分別于3處測(cè)定內(nèi)槽部的厚度及上槽部的厚度，算出其平均值。結(jié)果，內(nèi)槽部中的色素記錄層的厚度(di)為45nm，上槽部中的色素記錄層的厚度(do)為31nm。
在以下所示的實(shí)施例及比較例中，用同樣的方法算出色素記錄層的厚度。
形成色素記錄層之后，用80℃的潔凈烤箱(clean oven)，實(shí)施1小時(shí)的退火處理。
然后，在色素記錄層上，使用ZnO3質(zhì)量份、Ga2O37質(zhì)量份構(gòu)成的目標(biāo)物，制作厚7nm的阻擋層。
然后，在形成的阻擋層上，涂布UV固化粘接劑(大日本油墨公司制SD640，玻璃化溫度Tg86℃)成環(huán)狀，然后載置聚碳酸酯薄膜(帝人(株)公司制ピユアエ一ス，外徑120mm，內(nèi)徑15mm，厚80μm)構(gòu)成的光透過層，并與中心重疊。接著，以旋轉(zhuǎn)數(shù)4500rpm使其旋轉(zhuǎn)3秒，全面地?cái)U(kuò)展粘接劑，而且甩掉多余的粘接劑。然后，照射紫外線，使粘接劑固化，制作實(shí)施例1的光學(xué)信息媒體。此時(shí)，使用UV固化粘接劑構(gòu)成的粘接層的厚度為20μm，光透過層與粘接層合計(jì)100μm。
(實(shí)施例2)在實(shí)施例1中，使用色素涂布液形成di＝75nm、do＝51nm的色素記錄層，使色素涂布液中的色素濃度成為相對(duì)TFP100ml為2g的比率，此外，與實(shí)施例1相同地制作實(shí)施例2的光學(xué)信息媒體。
(實(shí)施例3)在實(shí)施例1中，基板上設(shè)置的槽的槽寬(W)從200nm代替為160nm，除此以外，與實(shí)施例1相同地，制作實(shí)施例3的光學(xué)信息媒體。
(實(shí)施例4)在實(shí)施例1中，基板上設(shè)置的槽的槽深(D)從35nm代替為40nm，而且使用色素涂布液形成di＝65nm、do＝51nm的色素記錄層，使色素涂布液中的色素濃度成為相對(duì)TFP100ml為2g的比率，除此以外，與實(shí)施例1相同地，制作實(shí)施例4的光學(xué)信息媒體。
(比較例1)在實(shí)施例1中，使用色素涂布液形成di＝85nm、do＝54nm的色素記錄層，使色素涂布液中的色素濃度成為相對(duì)TFP100ml為2g的比率，此外，與實(shí)施例1相同地制作比較例1的光學(xué)信息媒體。
(比較例2)在實(shí)施例1中，基板上設(shè)置的槽的槽寬(W)從200nm代替為120nm，形成di＝65nm、do＝45nm的色素記錄層，除此以外，與實(shí)施例1相同地，制作比較例2的光學(xué)信息媒體。
(比較例3)在實(shí)施例1中，形成di＝30nm、do＝23nm的色素記錄層，除此以外，與實(shí)施例1相同地，制作比較例3的光學(xué)信息媒體。
(光學(xué)信息媒體的記錄再生特性評(píng)價(jià))對(duì)得到的實(shí)施例1～4及比較例1～3的光學(xué)信息媒體，使用以下的方法，進(jìn)行記錄再生特性的評(píng)價(jià)。
將要測(cè)定的光學(xué)信息媒體安裝于搭載波長(zhǎng)407nm的激光及NA＝0.85的傳感器的激光光學(xué)系的記錄再生評(píng)價(jià)機(jī)(パルステツク公司制DDU1000)，改變功率，將2T單一信號(hào)記錄在內(nèi)槽部，再生，使用光譜分析器(spectre analyzer)，測(cè)定2T信號(hào)載流體(carrier)輸出及最大記錄功率(可以不脫離跟蹤地記錄的最大的功率)。此時(shí)，以線速5.28m/s，最適化記錄時(shí)的激光的發(fā)光模式(pattern)。
在此，2T信號(hào)載流體輸出，以-39dBm以上為○，以不到-39dBm作為實(shí)用上存在問題而為×。如果在-39dBm以上，意味著可以得到與向上槽部的記錄同等的再生信號(hào)輸出。
另外，最大記錄功率，以6mW以上為○，以不到6mW為×。在此，6mW是指在相對(duì)與本發(fā)明的光學(xué)信息媒體具有相同構(gòu)成的媒體進(jìn)行上槽部記錄時(shí)，可能發(fā)生脫離跟蹤的記錄功率。所以，具有6mW以上的最大記錄功率時(shí)，評(píng)價(jià)為○。
這些結(jié)果見下述表1。
此外，表1中，如果涂布液中的色素濃度記載為“1”，則表示使用的色素相對(duì)TFP100ml為1g的比率，如果涂布液中的色素濃度記載為“2”，則表示使用的色素相對(duì)TFP100ml為2g的比率。


(實(shí)施例5～12、比較例4～6)作為表2所示的色素記錄層、槽形狀，使用粘合劑貼合作為光透過層的聚碳酸酯薄膜(帝人(株)公司制ピユアエ一ス，外徑120mm、內(nèi)徑15mm、厚80μm)，除此以外，與實(shí)施例1相同地制作實(shí)施例5～12、比較例4～6的光學(xué)信息媒體。在此使用的粘合劑的玻璃化溫度Tg為-35℃。
此外，貼合在大氣中進(jìn)行，從光透過層的上面，用輥(roller)擠壓，使其粘附。此時(shí)，使用粘合劑構(gòu)成的粘接層的厚度為20μm，光透過層與粘接層總計(jì)100μm。
(跳動(dòng)(jitter)的評(píng)價(jià))對(duì)得到的實(shí)施例5～12及比較例4～6的光學(xué)信息媒體，安裝于搭載波長(zhǎng)407nm的激光及NA＝0.85的傳感器的激光光學(xué)系的記錄再生評(píng)價(jià)機(jī)(パルステツク公司制DDU1000)，改變功率，記錄、再生被1-7調(diào)制的隨機(jī)信號(hào)，測(cè)定跳動(dòng)。此時(shí)，最適化并記錄脈沖幅度，評(píng)價(jià)通過極限均衡器(limit equalizer)的信號(hào)。線速為4.92m/s。
評(píng)價(jià)結(jié)果見下述表2。


從上述表1可以明確，本發(fā)明的光學(xué)信息媒體(實(shí)施例1～4的光學(xué)信息媒體)，2T信號(hào)載流體輸出及最大記錄功率均為良好。這樣，即使對(duì)內(nèi)槽部進(jìn)行記錄，也可以得到與對(duì)上槽部進(jìn)行記錄的情況同等的再生信號(hào)，具有出色的再生特性。另外，還明確了，即使進(jìn)行以更高功率的記錄，也不會(huì)脫離跟蹤。另一方面可知，比較例的光學(xué)信息媒體，在2T信號(hào)載流體輸出及/或最大記錄功率上存在實(shí)用上的問題。
從上述表2可知，本發(fā)明的光學(xué)信息媒體(實(shí)施例5～12的光學(xué)信息媒體)可以得到良好的跳動(dòng)。此外，在比較例4～6中，不能測(cè)定跳動(dòng)。
產(chǎn)業(yè)上的可利用性本發(fā)明可以利用于記錄再生特性出色的、使用激光的信息記錄媒體。
(按照條約第19條的修改)PCT申請(qǐng)進(jìn)入中國(guó)階段19條修改說明根據(jù)PCT條約19條的規(guī)定，申請(qǐng)人對(duì)原權(quán)利要求1進(jìn)行了修改，刪除了原權(quán)利要求9、10，追加了新的權(quán)利要求15、16。
提交修改替換頁(yè)共2頁(yè)。
中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司2007年4月17日
1.(修改后)一種光學(xué)信息媒體，其在設(shè)置于基板的槽上依次具有色素記錄層、粘接層及光透過層，通過從該光透過層側(cè)相對(duì)內(nèi)槽部入射激光來進(jìn)行記錄及再生，所述光學(xué)信息媒體的特征在于，所述槽的槽深為D(nm)且槽寬為W(nm)的情況下，D×W為5000nm2以上，所述粘接層是用粘合劑構(gòu)成的，在該粘合劑的玻璃化溫度Tg為-60℃～0℃的情況下，所述內(nèi)槽部中的所述色素記錄層的厚度為0.7D～1.8D(nm)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)信息媒體，其特征在于，在所述基板與所述色素記錄層之間設(shè)置有光反射層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)信息媒體，其特征在于，所述槽的槽寬W為50～250nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)信息媒體，其特征在于，所述內(nèi)槽部中的色素記錄層的厚度di大于上槽部中的色素記錄層的厚度do。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)信息媒體，其特征在于，所述內(nèi)槽部中的色素記錄層的厚度di與所述上槽部中的色素記錄層的厚度do之間的關(guān)系為2do≥di＞do。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)信息媒體，其特征在于，所述內(nèi)槽部中的色素記錄層的厚度di為20～100nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)信息媒體，其特征在于，所述色素記錄層是利用旋涂法形成的。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)信息媒體，其特征在于，所述色素記錄層含有對(duì)500nm以下具有極大吸收的色素。
9.(刪除)10.(刪除)11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)信息媒體，其特征在于，所述槽的槽深D為10～85nm。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)信息媒體，其特征在于，所述槽的軌道間距為200～400nm。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)信息媒體，其特征在于，所述槽的軌道間距為200～400nm，而且所述槽深D為10～85nm，并且所述激光的波長(zhǎng)λ為500nm以下。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)信息媒體，其特征在于，所述光透過層與所述粘接層的合計(jì)厚度為0.09～0.11mm。
15.(追加)根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)信息媒體，其特征在于，所述粘接層使用粘合劑而構(gòu)成，該粘合劑是丙烯酸系粘合劑。
16.(追加)根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)信息媒體，其特征在于，所述色素記錄層的色素選自賽安寧色素、尿囊黃醇色素、金屬配位化合物系色素、偶氮色素、酞菁色素構(gòu)成的群組。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)信息媒體，其在設(shè)置于基板的槽上依次具有色素記錄層、粘接層及光透過層，通過從該光透過層側(cè)相對(duì)內(nèi)槽部入射激光來進(jìn)行記錄及再生，所述光學(xué)信息媒體的特征在于，所述槽的槽深為D(nm)且槽寬為W(nm)的情況下，D×W為5000nm2以上，而且內(nèi)槽部中的所述色素記錄層的厚度為0.7D～2.4D(nm)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)信息媒體，其特征在于，在所述基板與所述色素記錄層之間設(shè)置有光反射層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)信息媒體，其特征在于，所述槽的槽寬W為50～250nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)信息媒體，其特征在于，所述內(nèi)槽部中的色素記錄層的厚度di大于上槽部中的色素記錄層的厚度do。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)信息媒體，其特征在于，所述內(nèi)槽部中的色素記錄層的厚度di與所述上槽部中的色素記錄層的厚度do之間的關(guān)系為2do≥di＞do。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)信息媒體，其特征在于，所述內(nèi)槽部中的色素記錄層的厚度di為20～100nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)信息媒體，其特征在于，所述色素記錄層是利用旋涂法形成的。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)信息媒體，其特征在于，所述色素記錄層含有對(duì)500nm以下具有極大吸收的色素。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)信息媒體，其特征在于，所述粘接層是用粘合劑構(gòu)成的，在該粘合劑的玻璃化溫度Tg為-60℃～0℃的情況下，所述內(nèi)槽部中的所述色素記錄層的厚度為0.7D～1.8D(nm)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)信息媒體，其特征在于，所述粘接層是用固化性樹脂構(gòu)成的，在該固化性樹脂的玻璃化溫度Tg為0℃～200℃的情況下，所述內(nèi)槽部中的所述色素記錄層的厚度為0.95D～2.35D(nm)。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)信息媒體，其特征在于，所述槽的槽深D為10～85nm。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)信息媒體，其特征在于，所述槽的軌道間距為200～400nm。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)信息媒體，其特征在于，所述槽的軌道間距為200～400nm，而且所述槽深D為10～85nm，并且所述激光的波長(zhǎng)λ為500nm以下。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)信息媒體，其特征在于，所述光透過層與所述粘接層的合計(jì)厚度為0.09～0.11mm。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光學(xué)信息媒體，其是在設(shè)置于基板的槽上依次具有色素記錄層、粘接層及光透過層，通過從該光透過層側(cè)相對(duì)內(nèi)槽部入射激光來進(jìn)行記錄及再生的光學(xué)信息媒體，其特征在于，上述槽的槽深為D(nm)及槽寬為W(nm)的情況下，D×W為5000nm
文檔編號(hào)G11B7/246GK101065802SQ200580035550
公開日2007年10月31日 申請(qǐng)日期2005年10月18日 優(yōu)先權(quán)日2004年10月19日
發(fā)明者片山和俊, 宇佐美由久, 角田毅 申請(qǐng)人:富士膠片株式會(huì)社