專利名稱：反射鏡和光學讀取器的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及能反射離散波長光束的反射鏡，和采用該反射鏡的光學讀取器。
背景技術：
一般地說，光學讀取器(optical pickup)由光源、偏振光束分束器、λ/4波片、物鏡、APC(自動功率控制)、和光電檢測器構(gòu)成。從光源來的光束，被饋送至偏振光束分束器，把p偏振光與s偏振光分離。被分離的p和s偏振光光束之一，照在光盤上，同時，另一光束照在APC上，用于信號的檢測。即將照在光盤上的光束，被λ/4波片從線偏振光轉(zhuǎn)變?yōu)閳A偏振光，并被反射而離開光盤，又在再進入偏振光束分束器前，被λ/4波片從圓偏振光再轉(zhuǎn)變?yōu)榫€偏振光。因為偏振方向在再進入偏振光束分束器時，已被轉(zhuǎn)過90度，所以入射光束要么透過，要么被反射，然后照在信號檢測器上。一般地說，在該種光學讀取器中，光束從光源沿平行于光盤表面的光路投射，然后，通過反射鏡(變向反射鏡)的使用，使平行的光路轉(zhuǎn)向光盤。
光學讀取器采用激光束，因而光源輸出的是激光束。另一方面，當使用如上所述的反射鏡時，可以采用基底表面上淀積金屬膜的反射鏡，或采用交替地把高折射率層和低折射率層一層疊在一層上形成的介質(zhì)多層膜鍍層的反射鏡。因為金屬膜易受污染、氧化、和擦傷或其他損傷，所以對光學讀取器的普遍做法，是采用有介質(zhì)多層鍍層的反射鏡。
在有介質(zhì)鍍層的反射鏡的情形，一般分別使用TiO2和SiO2作為高和低折射率層。即，對淀積的高折射率層有用的各種材料中，TiO2由于它的高折射率而在大多數(shù)情形下使用。高折射率材料TiO2和低折射率材料SiO2之間大的折射率差，使之能在制造反射特定波長激光束的介質(zhì)鍍層的過程中，降低層的數(shù)量。
與此有關的是，近來，要求光學讀取器不但覆蓋用780nm波長激光束的CD(激光唱盤)和用650nm波長激光束的DVD(數(shù)字通用盤)，而且要覆蓋大容量儲存光盤(在寫入和讀出數(shù)據(jù)中，使用405nm的所謂藍激光)。在高和低折射率層用TiO2和SiO2形成的情形中，利用上述大的折射率差，具有反射該三種離散波長光學特征的介質(zhì)多層鍍層，能夠通過淀積較少數(shù)量的高和低折射率層形成。但是，吸收短波長光的TiO2，招致光能效率下降的問題。就是說，當405nm的光束，投射在由交替層疊的TiO2和SiO2層構(gòu)成的介質(zhì)多層鍍層上時，部分入射光能量被TiO2層的作用所吸收。因此，部分入射光沒有被介質(zhì)多層鍍層反射，結(jié)果導致光能效率的下降。
在這方面，日本公布的專利申請H3-12605公開一種有介質(zhì)多層鍍層的反射鏡，其介質(zhì)多層鍍層的安排，可以避免上述光吸收的問題。
在日本公布的專利申請H3-12605的情形中，在基底上形成第一組薄層，然后在第一組上形成第二組薄層。第一組薄層用吸收紫外波長范圍的光的材料形成，而第二組薄層用不吸收紫外波長范圍的光的材料形成。入射反射鏡的紫外光線，被第二組薄層反射，就是說，入射的紫外光線沒有被反射鏡吸收就被反射了。另一方面，如在日本公布的專利申請H3-12605的說明，第一組薄層用吸收紫外波長范圍的光的材料形成。這是因為，使用吸收紫外波長范圍的光的材料，能有效地增寬出現(xiàn)在紫外波長范圍的反射頻帶。
在反射鏡的介質(zhì)多層膜鍍層，是交替地用高折射率層和低折射率層一層疊在一層上形成的情形，為了賦予反射多種離散波長的光學特征，必需極大數(shù)量的疊層。在上述日本公布的專利申請H3-12605中，層被分為第一組和第二組，但層的總數(shù)沒有減少。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于前面所說的情勢，本發(fā)明的一個目的，是提供一種有介質(zhì)多層鍍層的反射鏡，它不存在光吸收的問題，并由較少數(shù)量的層構(gòu)成。
為了達到上述目的，按照本發(fā)明，是提供實際上能全部反射兩種或多種離散波長的光束的反射鏡，其特征在于，該反射鏡包括通過在基底板上交替淀積吸收短波光的第一高折射率層和低折射率層，形成第一反射的多層鍍層；通過在第一反射的多層鍍層入射側(cè)上，交替淀積幾乎沒有吸收的第二高折射率層和低折射率層，形成第二反射的多層鍍層，該第二高折射率層的折射率，低于第一高折射率層的折射率；短波入射光束被第二反射的多層鍍層反射，而不同于短波的入射光束，被第一和第二反射的多層鍍層的協(xié)同作用反射。
在按照本發(fā)明的光學讀取器中，在向著光源和離開光源的光路中采用上述反射鏡、偏振光束分束器、λ/4波片、和光電檢測器。
本發(fā)明的上述和其他目的、特性、和優(yōu)點，從下面結(jié)合附圖的具體說明，將變得顯而易見，附圖以舉例方式表明本發(fā)明優(yōu)選的實施例。不言而喻，不應認為本發(fā)明限于圖示的特定形式。


附圖有圖1示意畫出反射鏡的反射的多層鍍層的構(gòu)造；圖2是曲線，畫出一個例子的反射率特征，其中，在形成由第一反射的多層鍍層和第二反射的多層鍍層構(gòu)成的反射的多層鍍層中，應用離子鍍，該第一反射的多層鍍層包括交替層疊的TiO2和SiO2層，該第二反射的多層鍍層包括交替層疊的Nb2O5和SiO2層；圖3是曲線，畫出一個例子的反射率特征，其中，在形成由交替層疊的Nb2O5和SiO2層構(gòu)成的反射的多層鍍層中，應用離子鍍；圖4是曲線，畫出一個例子的反射率特征，其中，在形成由第一反射的多層鍍層和第二反射的多層鍍層構(gòu)成的反射的多層鍍層中，應用真空淀積，該第一反射的多層鍍層包括交替層疊的TiO2和SiO2層，該第二反射的多層鍍層包括交替層疊的Nb2O5和SiO2層；圖5是曲線，畫出一個例子的反射率特征，其中，在形成由交替層疊的Nb2O5和SiO2層構(gòu)成的反射的多層鍍層中，應用真空淀積；圖6示意畫出光學讀取器的一個例子，該光學讀取器應用了本發(fā)明的反射鏡；和圖7示意畫出光學讀取器的另一個例子。
具體實施例方式
現(xiàn)在，更具體地參照附圖，借助本發(fā)明的優(yōu)選實施例，說明本發(fā)明?，F(xiàn)在參考圖1，圖上畫出有第一反射的多層鍍層10和第二反射的多層鍍層20的反射鏡1，第一反射的多層鍍層10淀積在類似玻璃基底板的基底板30上，第二反射的多層鍍層20淀積在第一反射的多層鍍層10上。入射反射鏡1的光，首先照在第二反射的多層鍍層20上。就是說，第二反射的多層鍍層20形成在入射光一側(cè)，而第一反射的多層鍍層10形成在基底板30一側(cè)。第一和第二反射的多層鍍層10和20，兩者都是介質(zhì)多層鍍層，用交替淀積的高折射率層和低折射率層形成。同時，第一和第二反射的多層鍍層10和20，反射不同波長的光。因此，第一和第二反射的多層鍍層10和20的每一鍍層，雖然形式上都是交替淀積高折射率層和低折射率層形成的介質(zhì)多層鍍層，但在交替層疊的層的構(gòu)成材料和厚度上，彼此全部地或部分地不同。在本例中，第一和第二反射的多層鍍層10和20的低折射率層，使用相同的材料。與之相反，第一和第二反射的多層鍍層10和20的高折射率層用不同材料形成。自然，在淀積第一和第二反射的多層鍍層10和20的低折射率層中，可以使用不同的材料。
如在圖1中所示，首先在基底板30的頂部淀積第一反射的多層鍍層10，然后在第一反射的多層鍍層10的頂部淀積第二反射的多層鍍層20。如在本文前面所述，在第一反射的多層鍍層10中的第一高折射率層10H，用與第二反射的多層鍍層20中第二高折射率層20H不同的材料形成。然而，在第一和第二反射的多層鍍層10和20中的低折射率層L，則用相同的或共同的材料形成。在本例中，賦予第一反射的多層鍍層10的光學特征，是幾乎100％地反射DVD波段(650nm)附近的光和CD波段(780nm)附近的光。另一方面，賦予第二反射的多層鍍層20的光學特征，是幾乎100％地反射大容量儲存光盤波段(使用405nm的藍激光)附近的光。
適合反射大容量儲存光盤的光的第二反射的多層鍍層20，還一定程度地有反射CD和DVD波段中的光的光學特征。在圖1中可見，第二反射的多層鍍層20，形成在第一反射的多層鍍層10前面光入射的一側(cè)。因此，在CD和DVD波段中的光，首先照在第二反射的多層鍍層20上，從而一定程度地被反射。就是說，在CD和DVD波段中的光，被第一和第二反射的多層鍍層10和20的協(xié)同作用反射，而不必單靠第一反射的多層鍍層10的100％反射。
反射405nm附近短波的第二反射的多層鍍層20，其高折射率層(第二高折射率層20H)和低折射率層(低折射率層L)，用對入射短波光幾乎沒有吸收的材料形成。眾所周知，當短波光照在高折射率介質(zhì)鍍層上時，發(fā)生光吸收。波長越短，光的能量越高。因此，有強能量的短波光照在高折射率層上，部分能量被高折射率層吸收，亦稱“光吸收現(xiàn)象”。為了抑制該現(xiàn)象，第二反射的多層鍍層20中的第二高折射率層20H，用幾乎不吸收短波的材料形成。
這樣，大容量儲存光盤波段中的光，沒有吸收地被第二反射的多層鍍層20的鍍層反射，而在CD和DVD波段中的光，被第一和第二反射的多層鍍層10和20反射。就此而言，可以考慮把第二反射的多層鍍層20的高折射率層，應用于整個反射的多層鍍層。但是，幾乎不吸收光的第二反射的多層鍍層20的高折射率層20H，有比吸收光的第一高折射率層10H更低的折射率。因此，在整個反射的多層鍍層，若按第二反射的多層鍍層20的方式構(gòu)成，則需要更多數(shù)量的層，以實現(xiàn)利用折射率差的反射的多層鍍層。如上所述，在第一和第二反射的多層鍍層10和20是協(xié)同地淀積的情形，總的層數(shù)可以減少。
在大容量儲存光盤波段中的光，可能沒有被第二反射的多層鍍層20完全反射。即，為了嚴格使大容量儲存光盤波段中的光被第二反射的多層鍍層100％地反射，必需淀積更多數(shù)量的層。因此，可以修改第二反射的多層鍍層20，使反射率如果不是100％，也接近100％。此時，大容量儲存光盤波段中的光，透過第二反射的多層鍍層20并照在吸收光的第一反射的多層鍍層10上。但是，第一反射的多層鍍層10的光吸收率不是非常高，以致大容量儲存光盤波段中光的透射百分率(百分之幾)被吸收，不是全部而是按極其小量地部分地被吸收。這樣，大容量儲存光盤波段中光的吸收，僅按可忽略的比率發(fā)生，所以，不一定要求第二反射的多層鍍層20對大容量儲存光盤波段，有完全100％的反射率。在前述的說明中，已經(jīng)結(jié)合三種不同波長的光，或按CD、DVD、和大容量儲存光盤波段，說明反射鏡1。但是，應當指出，反射鏡1的應用，不限于這些光盤的波長，還可以類似地應用到兩種或更多種對光吸收敏感的波長。
因此，按照本發(fā)明的反射鏡1，采用介質(zhì)多層鍍層，該介質(zhì)多層鍍層用較少數(shù)量的層構(gòu)成，且該介質(zhì)多層鍍層是為消除光吸收問題而這樣安排的。下面給出應用以上說明的本發(fā)明實施例的例子。
在以上說明的實施例中，選擇幾乎沒有吸收的材料，用于低折射率層L，該低折射率層L是第一和第二反射的多層鍍層10和20共同使用的。在本例中，是使用SiO2(折射率接近1.47)基材料。在這方面，低折射率層L可以單由SiO2或SiO2基材料形成，該SiO2基材料除主要成分SiO2外，例如包含少量(如5％)Al2O3之類，只要附加的物質(zhì)是幾乎沒有光吸收的。第一高折射率層10H用TiO2形成，它是光吸收的，但有高的折射率(折射率接近2.45)。第二高折射率層20H用Nb2O5(折射率接近2.30)形成，它是幾乎沒有光吸收的。雖然本例中用Nb2O5作第二高折射率層20H，但也可以采用其他幾乎沒有光吸收的材料，舉例說，諸如Ta2O3(折射率接近2.1)、ZrO2(折射率接近2.05)、CeO2(折射率接近2.3)、鑭鈦混合氧化物(SubstanceH4，Merck的產(chǎn)品)、鋯鈦混合氧化物(OH-5，Optron的產(chǎn)品)，如此等等?？紤]到高折射率、低光吸收、和高耐氣候性，推薦把Nb2O5應用于第二高折射率層20H。但是，因為通過利用高和低折射率層之間的折射率差，賦予第二反射的多層鍍層20以反射特征，所以用于第二高折射率層20H的材料，其折射率應當比低折射率層L的材料SiO2高。
圖2曲線畫出反射鏡的p偏振和s偏振光的反射特征，該反射鏡有第一反射的多層鍍層和第二反射的多層鍍層，該第一反射的多層鍍層包括24層交替淀積的TiO2和SiO2層，該第二反射的多層鍍層包括8層交替淀積的Nb2O5和SiO2層。本例中，輸入光的入射角是45度，而上述物質(zhì)是通過離子鍍淀積的。從圖2可見，在CD、DVD、和大容量儲存光盤的三種波段的每一種中(即在405nm、650nm、和780nm波段中)，獲得幾乎100％的p和s偏振的反射率。
在本例中，因為使用Nb2O5作第二反射的多層鍍層20的第二高折射率層20H，所以反射鏡沒有因光吸收引起的光能效率下降的問題。此外，CD和DVD波段中的光束，不單被第一反射的多層鍍層10反射，而且被第一和第二反射的多層鍍層的協(xié)同作用反射，這樣能減少層的數(shù)量。
下面，在一個對比的例子中，單獨用Nb2O5作高折射率層，同時單獨用SiO2作低折射率層。就是說，在該對比的例子中，反射的多層鍍層由交替淀積的Nb2O5和SiO2層形成，沒有用TiO2。Nb2O5和SiO2層用離子鍍淀積在基底板上，且輸入光的入射角是45度。圖3曲線畫出介質(zhì)多層鍍層的p和s偏振的反射特征，該介質(zhì)多層鍍層包括46層交替層疊的Nb2O5和SiO2層。與圖2的情形類似，在三種波段中獲得幾乎100％的反射率。
如本文前面所述，Nb2O5(折射率接近2.30)的折射率比TiO2(折射率接近2.45)低。因此，單獨用Nb2O5作高折射率層，反射鏡的光吸收是沒有問題了，但要利用高和低折射率層之間的折射率差來賦予反射特征，必需用更多數(shù)量的層。因此，要賦予圖3所示反射特征，需要總數(shù)46層交替層疊的Nb2O5和SiO2層。換句話說，雖然圖2和圖3都獲得幾乎相同的反射特征，但在介質(zhì)鍍層是由第一和第二反射的多層鍍層構(gòu)成的情形，在反射鏡上淀積總數(shù)32層就足夠了，而在介質(zhì)鍍層由交替淀積的Nb2O5和SiO2層構(gòu)成的情形，則必需淀積總數(shù)46層。因此，與對比的例子比較，第一和第二多層鍍層10和20的組合，能夠通過淀積較少數(shù)量的高和低折射率層，產(chǎn)生更高的反射特征。
在本例中，代替例1的離子鍍，TiO2、Nb2O5、和SiO2是用真空淀積的。圖4所示的p和s偏振反射特征，是在下述情形獲得的，第一反射的多層鍍層10，是交替淀積總數(shù)24層的TiO2和SiO2形成的，而第二反射的多層鍍層20，是交替淀積總數(shù)10層的Nb2O5和SiO2形成的。輸入光的入射角是45度，且所有上述物質(zhì)都是通過真空淀積的。從圖4可見，在三種波段，即CD、DVD、和大容量儲存光盤的波段中，獲得幾乎100％的反射。
圖5所示的p和s偏振的反射特征，是在下述情形獲得的，應用真空淀積，通過交替淀積總數(shù)62層的Nb2O5和SiO2，形成反射的多層鍍層。如圖5中所示，為了在三種波段的每一種中，都獲得接近100％的p和s偏振的反射，必需淀積總數(shù)62層。交替淀積Nb2O5和SiO2層構(gòu)成的反射的多層鍍層，沒有光吸收的問題，但由于本文前面所述的較小的折射率差值，需要更多數(shù)量的層。用真空淀積形成的鍍層，密度比用離子鍍的鍍層低，從而有較低的折射率。這就是為什么需要淀積62層才獲得如圖5所示的反射特征。
另一方面，在淀積第一和第二反射的多層鍍層10和20，按協(xié)同方式反射光的情形，即使應用真空淀積，通過較少數(shù)量的層的淀積(總數(shù)34層)，可以消除光吸收的問題，并獲得如圖4所示的反射特征。
在本例和前面的例子中，表明第一和第二多層鍍層10和20的最少的層結(jié)構(gòu)(離子鍍的情形是總數(shù)32層，真空淀積的情形是總數(shù)34層)。然而，層的數(shù)量越少，即使在上述波段的每一個中獲得幾乎100％的反射，但100％反射的帶寬也越窄。因此，當入射光依賴于角度，或隨溫度條件變化時，可能出現(xiàn)折射率的略為變劣。在這方面，淀積的層數(shù)可能要有某種程度的增加，以便增寬反射帶寬。無論如何，在控制淀積的層數(shù)時，有必要考慮與該問題(層數(shù))有關的需要的反射帶寬。雖然在本例2和例1中應用的是真空淀積和離子鍍，但在必要時，也可以應用濺射和離子輔助工藝。
在本例中，是把上述反射鏡應用于CD(780nm)、DVD(650nm)、和大容量儲存光盤(405nm)的光學讀取器。如在圖6中所示，光學讀取器由光源101、偏振光束分束器102、λ/4波片103、反射鏡104、物鏡105、和光電檢測器106構(gòu)成。
光源101有選擇地發(fā)射三種波長之一的激光束，即用于CD的激光束、用于DVD的激光束、或用于大容量儲存光盤的激光束。從光源101發(fā)射的激光束，首先進入偏振光束分束器102，偏振光束分束器102通過取決于偏振方向的透射和反射，把入射光分解為偏振的分量。本例中，從光源101發(fā)射的激光是p偏振光，而偏振光束分束器102適合透射p偏振光同時反射s偏振光。(或者，在需要時，可以適合反射p偏振光同時透射s偏振光)。這樣，從光源101發(fā)射的p偏振激光束，透過偏振光束分束器102，饋送至λ/4波片103，λ/4波片103把線偏振轉(zhuǎn)變?yōu)閳A偏振。離開λ/4波片103的圓偏振光，被反射鏡104反射，并被物鏡105會聚于光盤D上的預定位置。被反射離開光盤D的光，再次經(jīng)物鏡105和反射鏡104，饋送至λ/4波片103。此時，圓偏振被λ/4波片103轉(zhuǎn)變?yōu)榫€偏振。這樣，在返回的路程上，原來的p偏振光已被轉(zhuǎn)變?yōu)閟偏振光。就是說，s偏振的激光束，被偏振光束分束器102向光電檢測器106反射，在光電檢測器106上，入射光借助光電轉(zhuǎn)換，被轉(zhuǎn)換為電信號。
在本例中，重要的是，反射鏡104對光源101有選擇地發(fā)射的三種不同波長激光束的每一種，有幾乎100％的反射特征。就是說，反射鏡104在所有工作波長上應有高的反射率，因為除光源101發(fā)射不同波長的激光束外，系統(tǒng)的所有部件沒有變化。因此，把前面實施例說明的反射鏡1應用于本例，作為反射鏡104。如上所述，因為反射鏡1沒有光吸收問題，405nm的光能夠全部被反射，沒有被反射鏡104吸收。此外，反射鏡在所有三種工作波長上，有幾乎100％的反射率，所以適合應用于其光源類似于光源101的光學讀取器，這種光源有選擇地發(fā)射三種不同波長的激光束。
上面的例3采用的光源101，適合有選擇地輸出三種不同波長的激光束，本例如圖7所示，采用兩個光源201和202，用于發(fā)射三種不同波長的激光束。諸如λ/4波片103、物鏡105、和光電檢測器106的部件，與例3的對應部件相同。在圖7的情形中，光源201是有選擇地發(fā)射CD和DVD波長的激光束，而光源202專門發(fā)射大容量儲存光盤波長的激光束。如果需要，光源202可以用作有選擇地發(fā)射兩種不同波長激光束的光源，而光源201用作專門發(fā)射一種預定波長激光束的光源。偏振光束分束器203的光學特征，是透射CD和DVD波段的p偏振和透射大容量儲存光盤波段的p偏振。另一方面，偏振光束分束器204的光學特征，是透射CD和DVD波段的p和s偏振，同時透射大容量儲存光盤波段的p偏振而反射s偏振。從光源201和202發(fā)射的激光束，全都是s偏振的。因此，從光源201發(fā)射的CD或DVD波段的s偏振激光束，被偏振光束分束器203向光盤D反射。另一方面，從光源202發(fā)射的大容量儲存光盤波段的激光束，被偏振光束分束器204向光盤D反射。雖然已經(jīng)說明，偏振光束分束器203和204的光學特征，是透射p偏振和反射s偏振，但在需要時，它們也可以適合反射p偏振和透射s偏振。
這樣，CD、DVD、和大容量儲存光盤三種激光束每一種的光路被向著λ/4波片103合并。因此，在到達和離開光盤D的路徑上，三種激光束的每一束，都被反射鏡206反射，反射鏡206是上述實施例反射鏡1的應用，反射鏡1能反射三種激光束的每一種，幾乎100％地沒有光吸收問題。
權利要求
1.一種反射鏡，實際上能全部反射兩種或多種離散波長的光束，其特征在于，所述反射鏡包括通過在基底板上交替淀積吸收短波光的第一高折射率層和低折射率層，形成第一反射的多層鍍層；通過在所述第一反射的多層鍍層入射側(cè)上，交替淀積幾乎沒有吸收的第二高折射率層和低折射率層，形成第二反射的多層鍍層，該第二高折射率層的折射率，低于所述第一高折射率層的折射率；短波入射光束被所述第二反射的多層鍍層反射，而不同于短波的入射光束，被所述第一和第二反射的多層鍍層的協(xié)同作用反射。
2.按照權利要求1的反射鏡，其中波長在780nm或650nm附近的光束，被所述第一和第二反射的多層鍍層的協(xié)同作用反射，而波長在405nm附近的光束，被所述第二反射的多層鍍層反射。
3.按照權利要求1的反射鏡，其中所述低折射率層，是通過淀積SiO2基材料形成的，所述第一高折射率層，是通過淀積TiO2形成的，和所述第二高折射率層，是通過淀積至少如下材料之一形成的Ta2O5、Nb2O5、ZrO2、CeO2、鑭鈦混合氧化物、和鋯鈦混合氧化物。
4.按照權利要求1的反射鏡，其中所述低折射率層，是通過淀積SiO2基材料形成的，所述第一高折射率層，是通過淀積TiO2形成的，和所述第二高折射率層，是通過淀積Nb2O5形成的；所述第二反射的多層鍍層，是通過交替淀積總數(shù)多于8層的Nb2O5和SiO2形成的，而所述第一反射的多層鍍層，是通過交替淀積總數(shù)多于24層的TiO2和SiO2形成的。
5.按照權利要求1的反射鏡，其中所述低折射率層、第一高折射率層、和第二高折射率層，是通過離子鍍、真空淀積、離子輔助、或濺射工藝淀積的。
6.一種光學讀取器，包括了在向著光源和離開光源的光路中的權利要求1所述的反射鏡，偏振光束分束器，λ/4波片和光電檢測器。
全文摘要
一種反射鏡和光學讀取器。反射鏡上有反射的多層鍍層，能反射離散波長的光束，如在CD、DVD、和大儲存量光盤的波長范圍中的激光束，不存在光吸收問題。
文檔編號G11B7/135GK1979226SQ20061014469
公開日2007年6月13日 申請日期2006年11月14日 優(yōu)先權日2005年11月14日
發(fā)明者飯?zhí)镆? 岡崎隆一 申請人:富士能佐野株式會社