專利名稱：讀和/或?qū)懶畔⒌脑O(shè)備和方法以及控制步進(jìn)電動機(jī)的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及從/向信息載體讀和/或?qū)懶畔⒌脑O(shè)備，包括電動才幾，該電動才幾用于轉(zhuǎn)動信息載體；拾取單元，該拾取單元用于在信息栽體上引導(dǎo)輻射束；橫動裝置，這種橫動裝置具有永磁步進(jìn)電動機(jī)，以用于將該拾取 單元從信息載體上的一個讀/寫位置移動到另一個讀/寫位置；步進(jìn)電動機(jī)驅(qū)動裝置，這種步進(jìn)電動機(jī)驅(qū)動裝置用于向步進(jìn)電動 機(jī)中的線圏供應(yīng)驅(qū)動電流，這些線團(tuán)產(chǎn)生磁場。本發(fā)明還涉及控制永磁步進(jìn)電動機(jī)的方法，包括通過向步進(jìn)電動 機(jī)中的線圈提供電流來產(chǎn)生磁場的步驟，其中，磁場引起步進(jìn)電動機(jī) 中的轉(zhuǎn)子從一個靜止位置(rest position)轉(zhuǎn)動到另一個位置。本發(fā)明還涉及從/向信息載體讀和/或?qū)懶畔⒌姆椒?，這種方法包括 以下步驟轉(zhuǎn)動信息載體；在信息載體上引導(dǎo)由拾取單元所產(chǎn)生的輻射束； 將該拾取單元從一個讀/寫位置移動到另一個讀/寫位置，其中，通 過永磁步進(jìn)電動機(jī)移動該拾取單元；向步進(jìn)電動機(jī)中的線圏供應(yīng)驅(qū)動電流，這些線圏產(chǎn)生磁場。
背景技術(shù)：
將步進(jìn)電動機(jī)用作橫動電動機(jī)以向拾取單元供給的從/向信息栽體 讀和/或?qū)懶畔⒌脑O(shè)備已經(jīng)商業(yè)化。這些設(shè)備的示例有CD、 DVD和藍(lán) 光光盤驅(qū)動裝置。最新的光盤驅(qū)動裝置也已推向市場，這些光盤驅(qū)動 裝置利用來自光盤驅(qū)動裝置的拾取單元的激光束輸出而在光盤上產(chǎn)生 標(biāo)識。光盤上的輻射敏感層的可視光特征在此處改變。在將信息寫在信 息栽體(光盤)上時，通過伺服系統(tǒng)將輻射束徑向布置在信息載體的 軌道上。這種伺服系統(tǒng)通過將輻射束以徑向方向定位并通過相對于拾 取單元將物鏡定位于拾取單元上來控制輻射束的位置。
在將標(biāo)識寫在光盤上時，將光盤設(shè)定在光盤單元的轉(zhuǎn)盤上，而將 光盤的標(biāo)識表面指向光學(xué)拾取單元。將光盤和拾取單元共同移動以覆 蓋沿著光盤平面的標(biāo)識區(qū)域。與這種相對移動同步，根據(jù)圖像數(shù)據(jù)如 進(jìn)行印刷的字符或圖形圖像調(diào)制來自光學(xué)拾取單元的激光束的功率。 由于輻射敏感層暴露給激光束，所以就將輻射敏感層的可視光反射率 改變，從而形成與標(biāo)識表面上的圖像數(shù)據(jù)對應(yīng)的圖像。專利申請US 2001/0017824描述了 一種控制步進(jìn)電動機(jī)的方法。所 描述的步進(jìn)電動機(jī)具有兩個線圈和轉(zhuǎn)子，該轉(zhuǎn)子有一些N和S磁極對。 不同類型的步進(jìn)電動機(jī)之間的磁極對的數(shù)量是不同的。在將流過第一 線圏的電流和流過笫二線圈的電流改變時，該轉(zhuǎn)子開始轉(zhuǎn)動。在將從 這些線團(tuán)產(chǎn)生的磁力與轉(zhuǎn)動摩擦負(fù)載之間的平衡穩(wěn)定時，轉(zhuǎn)子停止。 這稱為靜止位置。在US 2001/0017824中，相繼行進(jìn)過以下靜止位置位置A，在這種位置中，流過第一線圏的電流是正電流，且流過 第二線團(tuán)的電流是負(fù)電流；位置B，在這種位置中，流過第一線團(tuán)的電流是正電流，且流過第 二線團(tuán)的電流為零；位置C，在這種位置中，流過第一線圏的電流是正電流，且流過 第二線圈的電流是正電流；位置D，在這種位置中，流過第一線圈的電流為零，且流過笫二 線團(tuán)的電流是正電流；位置E，在這種位置中，流過第一線圏的電流是負(fù)電流，且流過第 二線圈的電流是正電流；位置F，在這種位置中，流過笫一線圏的電流是負(fù)電流，且流過笫 二線圈的電流為零；位置G,在這種位置中，流過笫一線圏的電流是負(fù)電流，且流過 第二線團(tuán)的電流是負(fù)電流；位置H，在這種位置中，流過笫一線圏的電流為零，且流過笫二 線圈的電流是負(fù)電流；在寫標(biāo)識應(yīng)用如光劃刻(LightScribe)中，在開環(huán)中進(jìn)行拾取單 元的定位。這就意味著寫標(biāo)識光點的徑向誤差為拾取單元的誤差與物 鏡和拾取單元之間的誤差之和。目前，寫標(biāo)識應(yīng)用使用約10至2SMin 的軌道間隔。因此，寫標(biāo)識光點的定位誤差必須小于約10ym。這就
意味著在這種寫標(biāo)識應(yīng)用中，對拾取單元的定位精度的要求進(jìn)而對步 進(jìn)電動機(jī)的尤其已變得更加嚴(yán)格。發(fā)明內(nèi)容因此，本發(fā)明的第一目的在于提供一種能夠更精確地將拾取單元 定位的設(shè)備和方法。本發(fā)明的目第二的在于提供一種控制步進(jìn)電動機(jī)的方法，這種方 法能夠更精確地控制步進(jìn)電動機(jī)。根據(jù)本發(fā)明的一個方面，用在開始段落中所限定的設(shè)備來實現(xiàn)第 一個目的，在這種設(shè)備中，步進(jìn)電動機(jī)的驅(qū)動裝置具有開環(huán)驅(qū)動模式， 在這種開環(huán)驅(qū)動模式中，讀/寫位置對應(yīng)于步進(jìn)電動機(jī)的靜止位置，在 步進(jìn)電動機(jī)的這些靜止位置，由步進(jìn)電動機(jī)中的至少兩個線團(tuán)所產(chǎn)生 的磁場相互抵消。根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，用在開始段落中所限定的方法來實現(xiàn) 第一個目的，這種方法還包括開環(huán)驅(qū)動步級，在這種開環(huán)驅(qū)動步級中， 讀/寫位置對應(yīng)于步進(jìn)電動機(jī)的靜止位置，在步進(jìn)電動機(jī)的這些靜止位 置，由步進(jìn)電動機(jī)中的至少兩個線圏所產(chǎn)生的磁場相互抵消。根據(jù)本發(fā)明的再一個方面，用在開始段落中所限定的控制步進(jìn)電 動機(jī)的方法來實現(xiàn)第二個目的，在這種方法中，靜止位置是由步進(jìn)電 動機(jī)中的至少兩個線圏所產(chǎn)生的磁場相互抵消的位置。本發(fā)明人驚奇地發(fā)現(xiàn)，在由步進(jìn)電動機(jī)中的至少兩個線圈所產(chǎn)生 的磁場相互抵消的靜止位置的定位精度高于這些磁場并不相互抵消的 靜止位置。這種行為在下面進(jìn)行解釋。正如其名稱所表示的那樣，永磁步進(jìn)電動機(jī)具有永磁轉(zhuǎn)子。轉(zhuǎn)子具有n極，即布置在其周緣的n/2南極和n/2北極。n是整數(shù)，例如， 可以是4、 6、 8或10等等。轉(zhuǎn)子在每個步級轉(zhuǎn)動的角度取決于磁極的 數(shù)量和線圏的數(shù)量。在將電流加到永磁步進(jìn)電動機(jī)中的線圈時，這些 線圏產(chǎn)生磁場。這些線圏巻繞在改進(jìn)磁場的鐵心周圍。當(dāng)線團(tuán)不產(chǎn)生 磁場時，用在光驅(qū)動裝置中的永磁步進(jìn)電動機(jī)的磁系統(tǒng)中的鐵在飽和 邊緣。由通過線團(tuán)的電流所產(chǎn)生的過多的磁場在磁場以相同的方向時 會更多地調(diào)制這種飽和，并且在磁場相互抵消時較少地調(diào)制這種飽 和。若鐵更飽和，位置精度就會降低。因此，在這些磁場相互抵消的
靜止位置，飽和會較小且位置精度會更佳。在根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的另 一個實施例中，這種設(shè)備還包括寫標(biāo)識 裝置，這種裝置用于通過將輻射束引導(dǎo)到信息載體上的輻射敏感層來 將標(biāo)識寫到信息載體，且使用開環(huán)驅(qū)動模式以在寫標(biāo)識時移動拾取裝 置。本發(fā)明對寫標(biāo)識應(yīng)用尤其有利，因為在這些應(yīng)用中沒有關(guān)于目前 的寫標(biāo)識位置是何徑向位置的反饋。由于以更精確的方式對步進(jìn)電動 機(jī)進(jìn)行控制，所以在開環(huán)控制中寫的標(biāo)識得到了改進(jìn)。在US 2001/0017824中有兩個位置，磁場在這兩個位置相互抵消。 在根據(jù)本發(fā)明的方法和設(shè)備中，磁場在所有的靜止位置相互抵消。因 此，所有的靜止位置均具有較高的位置精度。


從下面參考附圖以示例方式所描述的實施例就會明白本發(fā)明的這 些和其它方面，且通過這些實施例對本發(fā)明的這些和其它方面進(jìn)行進(jìn) 一步說明。圖1示出了根據(jù)本發(fā)明從/向信息載體讀和/或?qū)懶畔⒌脑O(shè)備； 圖2示出了具有永磁步進(jìn)電動機(jī)的橫動裝置；圖3a示出了永磁步進(jìn)電動機(jī)的示意圖，在這種永磁步進(jìn)電動;f幾 中，磁場相互增強(qiáng)；圖3b示出了永磁步進(jìn)電動機(jī)的示意圖，在這種永磁步進(jìn)電動機(jī) 中，磁場相互抵消；圖3c示出了永磁步進(jìn)電動機(jī)的示意圖，在這種永磁步進(jìn)電動機(jī) 中，磁場相互增強(qiáng)；圖3d示出了永磁步進(jìn)電動機(jī)的示意圖，在這種永磁步進(jìn)電動機(jī) 中，磁場相互抵消；圖4示出了通過步進(jìn)電動機(jī)的線圈的電流與拾取單元的位置的時 序圖；以及圖5示出了根據(jù)本發(fā)明的用于將信息寫到信息栽體的設(shè)備，這種 設(shè)備包括寫標(biāo)識裝置。
具體實施方式
在圖1中，信息載體l由主軸電動機(jī)2轉(zhuǎn)動。光學(xué)拾取單元3具有產(chǎn)生輻射束8的輻射裝置，即激光單元。激光束8由物鏡4聚焦在信 息栽體1上。在從信息載體1讀取信息時，輻射束由信息栽體1反射 并由檢測器轉(zhuǎn)變成電子相信號。對這種電子信號進(jìn)行進(jìn)一步處理，以 在信息載體1上再次產(chǎn)生數(shù)據(jù)。在將信息寫到信息栽體1時，輻射束8 具有較高的功率并在信息載體1上產(chǎn)生標(biāo)記。這些標(biāo)記對應(yīng)于要寫到 信息載體1上的數(shù)據(jù)。可通過相對于拾取單元3移動物鏡4來將輻射 束8定位。這是精細(xì)定位。為了能夠?qū)⑿畔⑤d體1的整個表面覆蓋， 可通過橫動裝置將拾取單元3定位。這種橫動裝置包括主軸5和步進(jìn) 電動機(jī)6。在此情形中，步進(jìn)電動機(jī)6是永磁步進(jìn)電動機(jī)。將步進(jìn)電動 機(jī)6以步級轉(zhuǎn)動。步進(jìn)電動機(jī)6驅(qū)動主軸5，主軸5接著移動拾取單元 3。步進(jìn)電動機(jī)6由步進(jìn)電動機(jī)驅(qū)動裝置7控制，步進(jìn)電動機(jī)驅(qū)動裝置 7向步進(jìn)電動機(jī)6中的線圏供應(yīng)驅(qū)動電流。這種設(shè)備有兩種運行模式， 一種是記錄模式，另一種是標(biāo)識模式。在標(biāo)識模式中，使信息栽體進(jìn) 入設(shè)備中，且其標(biāo)識側(cè)朝向拾取單元，以允許將輻射束聚焦到標(biāo)識側(cè) 的輻射敏感層上的點。在使信息載體進(jìn)入時，用戶可發(fā)出接合標(biāo)識模 式的命令。標(biāo)識模式的理念實際上是在CD或DVD盤的非數(shù)據(jù)側(cè)印刷 標(biāo)識。在這兩種情形中，拾取單元中的CD激光器可用于寫標(biāo)識。拾取 單元在徑向方向中的定位通過開環(huán)控制進(jìn)行，因為沒有可供使用的軌 道或位置信息，如地址。由于缺乏位置反饋，所以盡可能地將拾取單元定位于開環(huán)模式中是重要的。本發(fā)明解決這種問題。圖2更詳細(xì)地示出了橫動裝置。步進(jìn)電動機(jī)6驅(qū)動主軸5。有用于 步進(jìn)電動機(jī)中的線圏的四個觸點9、 10、 11和12。根據(jù)加到這些觸點 的驅(qū)動電流，可對步進(jìn)電動機(jī)6進(jìn)行控制，以形成某個角度的步級。圖3a至圖3d的示意圖示出了步進(jìn)電動機(jī)6的內(nèi)部。在這種步進(jìn) 電動機(jī)6中，有兩個線圈出現(xiàn)，線圏23和線圏24。通過線圏24加入 驅(qū)動電流Il，并通過線圈23加入驅(qū)動電流I2。轉(zhuǎn)子20中的箭頭表示 轉(zhuǎn)子20的角位。示于圖3a中的電流Il和電流I2的方向限定為正方向。 由示于圖3a中的線圈23和線圏24產(chǎn)生的磁場通過鐵心21和22。圖 3a中的磁場相互增強(qiáng)。這樣，鐵心21和22就變得更飽和。在圖3b中，通過線團(tuán)23的驅(qū)動電流I2是正電流，且通過線團(tuán)24 的驅(qū)動電流I1是負(fù)電流。此時，由線團(tuán)23和24產(chǎn)生的磁場相互抵消。 這樣就將轉(zhuǎn)子20轉(zhuǎn)動卯度。在圖3c中，驅(qū)動電流I1和I2均為負(fù)電 流，且磁場相互增強(qiáng)。轉(zhuǎn)子20再次行進(jìn)90度。在圖3d中，驅(qū)動電流 Il是正電流且驅(qū)動電流K是負(fù)電流。這樣，磁場就相互抵消。轉(zhuǎn)子20 再次行進(jìn)90度。在圖4中，波形30表示通過線圏24的驅(qū)動電流I1，且波形31表 示穿驅(qū)動電流12。切過這些波形的虛線表示驅(qū)動電流的零電平。箭頭 34表示時間的方向。波形3表示由于加到步進(jìn)電動機(jī)6的驅(qū)動電流所 導(dǎo)致的拾取單元的位置。箭頭33表示拾取單元3的徑向位置。在時間 瞬間tl之前，驅(qū)動電流II是負(fù)電流且驅(qū)動電流12是正電流。這與示 于圖3b中的情形相對應(yīng)。驅(qū)動電流I1和I2在時間瞬間tl與t2之間均 為負(fù)電流。這與示于圖3c中的情形相對應(yīng)。這個位置并不是根據(jù)本發(fā) 明的步進(jìn)電動機(jī)的靜止位置，而僅是到達(dá)圖3d中的靜止位置的過渡位 置。在時間瞬間t2與t3之間，驅(qū)動電流I1為正電流，且驅(qū)動電流I2 為負(fù)電流。這與示于圖3d中的情形相對應(yīng)。驅(qū)動電流I1和I2在時間 瞬間t3與t4之間均為正電流。這與示于圖3a中的情形相對應(yīng)。這同 樣不是根據(jù)本發(fā)明的步進(jìn)電動機(jī)的靜止位置，而僅是到達(dá)圖3b中的靜 止位置的過渡位置。在時間瞬間t4與t5之間，驅(qū)動電流I1為負(fù)電流， 且驅(qū)動電流I2為正電流。這與示于圖3b中的情形相對應(yīng)。因此，用于 讀和/或?qū)懙倪@些靜止位置既可以是示于圖3b中的位置，也可以是示于 圖3d中的位置。在這些位置中，由線圏23和24所產(chǎn)生的磁場相互抵 消且鐵心21和22變得不飽和。發(fā)明人對兩種類型的永磁步進(jìn)電動機(jī)6進(jìn)行了測試，在這種測試 中，對對應(yīng)于圖3a、 3b、 3c和3d的步進(jìn)電動機(jī)6進(jìn)行控制。在測試環(huán) 境中，步進(jìn)電動機(jī)6的轉(zhuǎn)子20的一個完整轉(zhuǎn)動相當(dāng)于600nm。因此， 90度的單個步級相當(dāng)于150Mm的步級。兩種類型的永磁步進(jìn)電動機(jī)6 的測試結(jié)果示于表l中。步進(jìn)電動機(jī)類型在圖3b和3d的情形中拾取 單元的最大4立置i吳差()im)在圖3a和3c的情形中拾取 單元的最大位置誤差(iam)MOA 075k24SaSe V04410表l在表1的第一欄中示出了電動機(jī)類型。第二欄示出了當(dāng)步進(jìn)電動
機(jī)6在圖3b或3d的情形中時拾取單元3的預(yù)計位置與測量位置的最 大位置誤差。第三欄示出了當(dāng)步進(jìn)電動機(jī)6在圖3a或3c的情形中時拾 取單元3的最大位置誤差。從表l中可清楚地看出，當(dāng)線圈23和24 的磁場相互抵消時，拾取單元3的位置誤差好于磁場相互增強(qiáng)的情形 約2倍。現(xiàn)已觀察到， 一旦轉(zhuǎn)子20位于示于圖3b或3d中的其靜止位置， 就不必保持驅(qū)動電流II和12。在轉(zhuǎn)子20位于其靜止位置之后，可使 驅(qū)動電流I1和I2回到零，直到步進(jìn)電動機(jī)6需要行進(jìn)。圖5示出了具有寫能力的設(shè)備。所提供的這種設(shè)備具有用于掃描 信息載體1上的軌道的裝置，這種主軸包括用于轉(zhuǎn)動信息栽體1的主 軸電動機(jī)2、拾取單元3、橫動裝置和控制單元40，橫動裝置包括步進(jìn) 電動機(jī)6和主軸5，主軸5用于將拾取單元3定位于軌道上。步進(jìn)電動 機(jī)6由步進(jìn)電動機(jī)驅(qū)動裝置7控制。拾取單元3也稱為OPU (光學(xué)拾 取單元)并包括公知類型的光學(xué)系統(tǒng)，這種光學(xué)系統(tǒng)用于產(chǎn)生輻射束 8，通過光學(xué)元件引導(dǎo)輻射束8，并將輻射束8聚焦到信息載體1的信 息層的軌道上的輻射點43。輻射束8由輻射源產(chǎn)生，如激光二極管。 拾取單元3還包括(未示出的)聚焦執(zhí)行機(jī)構(gòu)和跟蹤執(zhí)行機(jī)構(gòu)，聚焦 執(zhí)行機(jī)構(gòu)用于通過沿著光束的光軸移動輻射束8的焦點來將該光束聚 焦到軌道上的輻射點43，跟蹤執(zhí)行機(jī)構(gòu)用于點43在軌道的中心上的徑 向方向的精細(xì)定位。跟蹤執(zhí)行機(jī)構(gòu)可包括用于徑向移動光學(xué)元件以跟 隨軌道的線圏。信息層所反射的輻射由拾取單元3中的普通類型的檢 測器進(jìn)行檢測。前端單元41偶合到拾取單元3中的檢測器，以提供以從軌道反射 的輻射為基礎(chǔ)的檢測器信號。這些檢測器信號可包括主掃描信號42， 主掃描信號42用于讀取標(biāo)記和子檢測器信號，如基于分別從軌道的左 側(cè)和右側(cè)反射的輻射的推挽子檢測器信號和/或基于從位于軌道中心的 左側(cè)和右側(cè)的單個衛(wèi)星點反射的輻射的衛(wèi)星子檢測器信號。主掃描信 號42由普通類型的讀處理單元50處理以擷取信息，讀處理單元50包 括解調(diào)器、解格式器和輸出單元?？刂茊卧?0控制信息的記錄和擷取并可布置成用于從用戶或從主 計算機(jī)接收命令?？刂茊卧?0通過控制線如系統(tǒng)母線連接到設(shè)備中的 其它單元?？刂茊卧?0包括控制電路，以執(zhí)行下面所描述的程序和功 能，控制電路如微處理器、程序存儲器和界面。還可將控制單元40實 現(xiàn)為邏輯電路中的狀態(tài)機(jī)。
這種設(shè)備設(shè)有用于記錄可寫或可重寫類型的記錄載體上的信息的 記錄裝置。這種記錄裝置與拾取單元3和前端單元41配合以產(chǎn)生寫輻 射束，并包括寫處理裝置，這種寫處理裝置用于對輸入信息進(jìn)行處理 以產(chǎn)生驅(qū)動拾取單元3的寫信號，這種寫處理裝置包括輸入單元47、 格式器48和調(diào)制器49。為了寫信息，輻射束的功率由調(diào)制器49進(jìn)行 控制以在記錄層中產(chǎn)生從光學(xué)上可檢測的標(biāo)記。
在一個實施例中，輸入單元47包括用于輸入信號的壓縮裝置，這 些輸入信號如模擬音頻和/或視頻或數(shù)字壓縮音頻/視頻。用于視頻的適 當(dāng)?shù)膲嚎s裝置在MPEG標(biāo)準(zhǔn)中進(jìn)行了描述，MPEG-1在ISO/IEC 11172 中限定，且MPEG-2在ISO/IEC13818中限定。根據(jù)這些標(biāo)準(zhǔn)，還可易 于將這種輸入信號編碼。
這種設(shè)備有兩種運行模式， 一種是前面所描述的用于常規(guī)記錄光 盤的記錄模式，另一種是標(biāo)識模式?？刂茊卧?0用于控制記錄模式中 的記錄。這種控制單元包括用于控制標(biāo)識模式中的劃刻(scribing)的 寫標(biāo)識裝置53。
在標(biāo)識模式中，要使記錄載體進(jìn)入設(shè)備中，且記錄載體的標(biāo)識側(cè) 朝向光學(xué)頭，以允許輻射束聚焦到標(biāo)識側(cè)的輻射敏感層上的劃刻點。 在使信息栽體1進(jìn)入時，用戶可發(fā)出結(jié)合標(biāo)識模式的命令。或者，若 已使用于寫標(biāo)識的適當(dāng)記錄載體進(jìn)入，設(shè)備可自動進(jìn)行檢測，例如， 通過檢測信息載體1上預(yù)定位置上的規(guī)定標(biāo)記。
雖然已利用具有標(biāo)識層的光盤通過實施例主要對本發(fā)明進(jìn)行了描 述，但本發(fā)明也適用于其它記錄載體，如矩形光學(xué)卡、磁光盤或使用 通過輻射束掃描的記錄栽體的其它任何類型的信息儲存系統(tǒng)。應(yīng)注意 到，在本文件中，詞語"包括"并不排除除了列出的元件或步驟以外 的元件或步驟，出現(xiàn)在元件前面的詞語"一個"并不排除這種元件的 復(fù)數(shù)的出現(xiàn)，任何參考符號并不限制權(quán)利要求書的范圍，既可以通過 硬件也可以通過軟件來實現(xiàn)本發(fā)明，且?guī)讉€"裝置，，或"單元，，可由 硬件或軟件的相同項表示。進(jìn)一步來講，本發(fā)明的范圍并不僅限于這 些實施例，且本發(fā)明包含前面所描述的每個新穎性特征或這些特征的 組合。
權(quán)利要求
1. 一種從/向信息栽體(1)讀和/或?qū)懶畔⒌脑O(shè)備，包括 電動機(jī)(2)，所迷電動機(jī)(2)用于轉(zhuǎn)動所述信息載體(1); 拾取單元(3)，所述拾取單元(3)用于在所述信息載體(1)上引導(dǎo)輻射束(8);橫動裝置(5、 6)，所述橫動裝置(5、 6)具有永磁步進(jìn)電動機(jī) (6)，以用于將所述拾取單元(3)從所述信息栽體(1)上的一個讀/ 寫位置移動到另一個讀/寫位置；步進(jìn)電動機(jī)驅(qū)動裝置(7)，所述步進(jìn)電動機(jī)驅(qū)動裝置(7)用 于向所述步進(jìn)電動機(jī)(6)中的線圈(23、 24)供應(yīng)驅(qū)動電流，所述線 圈(23、 24)產(chǎn)生磁場，其特征在于所述步進(jìn)電動機(jī)驅(qū)動裝置(7)具有開環(huán)驅(qū)動模式， 在這種開環(huán)驅(qū)動模式時，所述讀/寫位置對應(yīng)于所述步進(jìn)電動機(jī)(6)的 靜止位置，在所述步進(jìn)電動機(jī)(6)的所述靜止位置，由所述步進(jìn)電動 機(jī)中的所述至少兩個線圏(23、 24)所產(chǎn)生的磁場相互抵消。
2. 如權(quán)利要求l所述的設(shè)備，其特征在于所述設(shè)備還包括寫標(biāo) 識裝置(53)，所述寫標(biāo)識裝置(53)用于通過將所述輻射束(8)引 導(dǎo)到所述信息栽體(1)上的輻射敏感層來將標(biāo)識寫到所述信息載體(1)上，且所述開環(huán)驅(qū)動模式用于在寫所述標(biāo)識時移動所述拾取單元 (3)。
3. —種控制永磁步進(jìn)電動機(jī)(6)的方法，包括通過向所述步進(jìn) 電動機(jī)中的線圏(23、 24)提供電流來產(chǎn)生磁場的步驟，其中，所述 磁場引起所述步進(jìn)電動機(jī)(6)中的轉(zhuǎn)子(20)從一個靜止位置轉(zhuǎn)動到 另一個位置，其特征在于所述靜止位置是使至少兩個線團(tuán)(23、 24)所產(chǎn)生 的磁場相互抵消的位置。
4. 一種從/向信息載體(1)讀和/或?qū)懶畔⒌姆椒?，所述方法包?以下步驟轉(zhuǎn)動所述信息栽體(1);在所述信息載體(1 )上引導(dǎo)由拾取單元(3 )所產(chǎn)生的輻射束(8 ); 將所述拾取單元(3)從一個讀/寫位置移動到另一個讀/寫位置， 其中，通過永磁步進(jìn)電動機(jī)(6)移動所述拾取單元(3); 向所述步進(jìn)電動機(jī)(6)中的線團(tuán)供應(yīng)驅(qū)動電流，所述這些線圈 產(chǎn)生磁場，其特征在于所述方法還包括開環(huán)驅(qū)動步驟，其中，所述讀/寫 位置對應(yīng)于所述步進(jìn)電動機(jī)(6)的靜止位置，在所述靜止位置，由所 述步進(jìn)電動機(jī)(6)中的至少兩個線圈(23、 24)所產(chǎn)生的磁場相互抵消。
5.如權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于還包括寫標(biāo)識步驟， 其中，通過將所述輻射束(8)引導(dǎo)到所述信息載體(1)上的輻射敏 感層來將標(biāo)識寫到所述信息載體(1)，且所述開環(huán)驅(qū)動步驟用于在寫 所述標(biāo)識時移動所述拾取單元(3)。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種從/向信息載體(1)讀和/或?qū)懶畔⒌脑O(shè)備，包括用于轉(zhuǎn)動信息載體(1)的電動機(jī)(2)；用于在信息載體(1)上引導(dǎo)輻射束(8)的拾取單元(3)；具有永磁步進(jìn)電動機(jī)(6)的橫動裝置，以用于將拾取單元從一個讀/寫位置移動到另一個讀/寫位置；步進(jìn)電動機(jī)驅(qū)動裝置(7)，步進(jìn)電動機(jī)驅(qū)動裝置(7)用于向步進(jìn)電動機(jī)中的線圈供應(yīng)驅(qū)動電流，這些線圈產(chǎn)生磁場。其中，步進(jìn)電動機(jī)驅(qū)動裝置(7)具有開環(huán)驅(qū)動模式，在這種開環(huán)驅(qū)動模式時，讀/寫位置對應(yīng)于步進(jìn)電動機(jī)(6)的靜止位置，在這些靜止位置，由步進(jìn)電動機(jī)中的至少兩個線圈(23、24)所產(chǎn)生的磁場相互抵消。本發(fā)明人驚奇地發(fā)現(xiàn)，在使至少兩個線圈所產(chǎn)生的磁場相互抵消的靜止位置的定位精度高于這些磁場并不相互抵消的靜止位置。這種行為在下面進(jìn)行解釋。正如其名稱所暗示的那樣，永磁步進(jìn)電動機(jī)具有永磁轉(zhuǎn)子。在將電流加到永磁步進(jìn)電動機(jī)中的線圈時，這些線圈產(chǎn)生磁場。這些線圈卷繞在改進(jìn)磁場的鐵心周圍。當(dāng)線圈不產(chǎn)生磁場時，用在光驅(qū)動裝置中的永磁步進(jìn)電動機(jī)的磁系統(tǒng)中的鐵在飽和邊緣。由通過線圈的電流所產(chǎn)生的過多的磁場在磁場以相同的方向時會更多地調(diào)制這種飽和，并且在磁場相互抵消時較少地調(diào)制這種飽和。若鐵更飽和，位置精度就會降低。因此，在這些磁場相互抵消的靜止位置，飽和會較小且位置精度會更佳。
文檔編號G11B7/085GK101124631SQ200680003667
公開日2008年2月13日 申請日期2006年1月25日 優(yōu)先權(quán)日2005年1月31日
發(fā)明者C·赫澤曼斯 申請人:皇家飛利浦電子股份有限公司