專利名稱：光盤設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光盤設(shè)備，這種光盤設(shè)備具有在向光盤中記錄數(shù)據(jù)或從光盤中再現(xiàn)數(shù)據(jù)中使用的新穎的聚焦控制方法。
背景技術(shù)：
圖10提供了用于描述普通光盤記錄/再現(xiàn)設(shè)備的示例性結(jié)構(gòu)的框圖。如圖10所示，由安裝于一激光二極管元件(在下文中稱作“LDU”)102上的用作光源的激光器發(fā)出的光，通過準(zhǔn)直透鏡103被轉(zhuǎn)換為準(zhǔn)直光，然后通過偏振全息圖104。接著，通過四分之一波片105將來自偏振全息圖104的線性偏振光轉(zhuǎn)換為圓偏振光，并且通過由致動(dòng)器107驅(qū)動(dòng)的物鏡106將該圓偏振光聚焦至光盤101上，光盤101通過主軸電動(dòng)機(jī)108進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。物鏡106可通過致動(dòng)器107在聚焦方向F和尋軌方向T(橫跨軌道的方向)上移動(dòng)。由光盤101反射的光穿過物鏡106，然后由四分之一波片105將其由圓偏振光轉(zhuǎn)換為線偏振光，該線偏振光的偏振方向垂直于從偏振全息圖104發(fā)出照射到四分之一波片105上的線偏振光的偏振方向。然后，光由偏振全息圖104衍射并穿過準(zhǔn)直透鏡103。接著，由位于LDU102上的用作光接收元件的的光電探測器接收這些光。該光電探測器將對照射到其上的入射光的探測信號輸出給前置放大器121。如后面將詳細(xì)描述的，前置放大器121根據(jù)該探測信號產(chǎn)生一聚焦誤差信號(在下文中稱作“FE信號”)、一尋軌誤差信號(在下文中稱作“TE信號”)和一RF信號。
該FE信號表示形成于光盤101的數(shù)據(jù)記錄層上的光斑由于物鏡106在聚焦方向F上偏離了正確的聚焦位置而沒有處于特定的聚焦?fàn)顟B(tài)。該TE信號表示由于物鏡106在尋軌方向T上偏離了正確的尋軌位置因而該光斑在尋軌方向T上發(fā)生了偏移。該RF信號具有數(shù)據(jù)信息和軌道的地址信息，其中該數(shù)據(jù)信息被記錄為光盤101的數(shù)據(jù)記錄層上的坑或標(biāo)記，且該軌道為用于向其記錄數(shù)據(jù)或從中再現(xiàn)數(shù)據(jù)的軌道。信號處理元件122接收RF信號，然后提取并再現(xiàn)記錄的數(shù)據(jù)信息以及地址信息。伺服元件123接收FE信號和TE信號，接著產(chǎn)生用于控制致動(dòng)器107的控制信號，以便基于該控制信號控制物鏡106。伺服元件123還控制主軸電動(dòng)機(jī)108。激光驅(qū)動(dòng)元件125控制在記錄或再現(xiàn)數(shù)據(jù)中使用的LDU102上的激光器的輸出功率。由信號處理元件122再現(xiàn)的信息被傳輸至控制器124。伺服元件123和激光驅(qū)動(dòng)元件125是在控制器124的控制下操作的。
圖8描述了利用常規(guī)光斑尺寸探測(在下文中稱作“SSD”)方法的FE信號探測元件。光電探測器201位于LDU102上并探測該FE信號。該FE信號是基于來自光電探測器201的輸出而生成的。參考圖8，F(xiàn)E信號“(b+c)-(a+d)”由減法器204產(chǎn)生，而累加信號，即FS信號“a+b+c+d”由加法器205產(chǎn)生。根據(jù)該FS信號，可以獲得RF信號。附圖標(biāo)記202表示來自光盤的探測光聚焦于光電探測器201的探測表面前方時(shí)的光斑；而附圖標(biāo)記203表示來自光盤的探測光聚焦于光電探測器201的探測表面的后方的光斑。當(dāng)光盤和物鏡之間的距離改變時(shí)，光斑202和光斑203中的一個(gè)的尺寸增加，而另一個(gè)光斑的尺寸減小。通過這種方式可生成FE信號。
當(dāng)再現(xiàn)具有凹槽的盤，例如DVD±R、DVD-RAM等等時(shí)，由于該凹槽產(chǎn)生的衍射效應(yīng)生成第零級光和第一級光。上述光盤的引導(dǎo)槽具有突起(岸)和凹陷(槽)。圖3A和3B提供了示意圖，其顯示了來自光盤的探測光在光電探測器上的分布。附圖標(biāo)記301和302分別表示在岸再現(xiàn)和槽再現(xiàn)情況下的光分布。如圖3A和3B所示，在岸再現(xiàn)和槽再現(xiàn)的情況下，光分布發(fā)生反轉(zhuǎn)。例如，如圖9所示的聚焦于光電探測器901上的四分之一扇形部分902和903可替代由附圖標(biāo)記301或302表示的完整的圓，而用作聚焦控制的光斑。進(jìn)而，根據(jù)光電探測器和光斑之間的位置關(guān)系，可針對岸和槽改變由于散焦引起的FE信號的振幅變化。
圖4A和4B分別描述了光盤和在岸軌道和槽軌道的中心處的物鏡之間的距離發(fā)生改變的情況下的FE信號。圖4A和4B中的虛線表示在聚焦點(diǎn)上的FE信號。
圖5是顯示了描述在為岸和槽設(shè)置相同的電路增益時(shí)改變散焦量的情況下的特定伺服頻帶處的聚焦伺服的開環(huán)特性圖。當(dāng)FE信號在聚焦點(diǎn)附近具有彎曲點(diǎn)時(shí)，如圖4A和4B所示，在岸和槽處的聚焦增益如圖5所示發(fā)生變化。因此，當(dāng)測量到與FE信號的變化相關(guān)的抖動(dòng)和RF振幅中的變化時(shí)，岸和槽中的靈敏度彼此不同，如圖6A和6B所示。在圖6A和6B中，開口向上和向下的曲線分別表示抖動(dòng)特性和RF振幅特性。
當(dāng)存在岸和槽之間的聚焦伺服光增益差時(shí)，如果在為岸和槽設(shè)置相同的電路增益時(shí)執(zhí)行聚焦控制，則取決于這種設(shè)置，聚焦伺服可能由于岸的高增益而在岸中振動(dòng)，或者聚焦控制誤差可能由于槽的低增益而增加。因此，更可取的是為岸和槽設(shè)置不同的電路增益。
日本專利公開申請H7-129975和H8-329484在其中公開了具有在岸和槽之間切換的聚焦誤差信號和尋軌誤差信號的增益切換元件。
進(jìn)而，日本專利公開申請H10-91976提出了一種技術(shù)，用于基于利用驅(qū)動(dòng)物鏡時(shí)獲得的聚焦誤差信號和尋軌誤差信號算出的靈敏度來設(shè)置岸和槽中的增益。
然而，為了測量伺服系統(tǒng)的開環(huán)增益，需要使用一種昂貴的測量設(shè)備，例如，頻率特性分析器等，或具有與頻率特性分析器相同功能的電路，從而增加了設(shè)備的空間、電路的尺寸和成本。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種光盤設(shè)備，其能夠通過以簡單的操作測量岸和槽之間的增益差而快速設(shè)置聚焦伺服的增益，而并不增加設(shè)備的空間、電路的尺寸和成本。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，提供了一種光盤設(shè)備，包括光學(xué)拾取元件，用于讀出記錄在光盤上的信息；解調(diào)電路，用于從所述光學(xué)拾取元件的輸出信號中解調(diào)出數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)；和控制器，用于基于所述光學(xué)拾取元件的輸出信號執(zhí)行伺服控制，其中，當(dāng)在所述光盤的引導(dǎo)槽中的凹陷和突起中執(zhí)行聚焦/尋軌控制時(shí)，通過分別將在所述凹陷和突起中的與來自所述光盤的信號振幅變化相關(guān)的聚焦偏移進(jìn)行比較，所述控制器獲得所述凹陷和突起之間的聚焦控制增益差。
優(yōu)選地，通過分別將在所述凹陷和突起中的與來自所述光盤的信號的振幅變化相關(guān)的聚焦偏移進(jìn)行比較，設(shè)置所述凹陷和突起中的聚焦控制增益。
優(yōu)選地，其中來自所述光盤的信號是累加信號。
優(yōu)選地，其中所述凹陷的聚焦控制電路增益Gg被設(shè)置為Gg＝Gl-20*log(ΔVg/ΔVl)其中，Gl是所述突起的聚焦控制電路增益；而ΔVg和ΔVl分別是所述凹陷和突起中的聚焦偏移寬度，每個(gè)聚焦偏移寬度表示其中每個(gè)來自光盤的信號的振幅由最大值降低到一特定值的范圍。
根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例，提供了一種光盤設(shè)備，包括光學(xué)拾取元件，用于讀出記錄在光盤上的信息；解調(diào)電路，用于從所述光學(xué)拾取元件的輸出信號中解調(diào)出數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)；和控制器，用于基于所述光學(xué)拾取元件的輸出信號執(zhí)行伺服控制，其中，當(dāng)在所述光盤的引導(dǎo)槽中的凹陷和突起中執(zhí)行聚焦/尋軌控制時(shí)，通過將在所述引導(dǎo)槽中的所述凹陷和突起中的聚焦偏移分別與在不具有引導(dǎo)槽的平坦部分中的聚焦偏移進(jìn)行比較，所述控制器獲得所述凹陷和突起之間的聚焦控制增益差，其中所述聚焦偏移分別是所述凹陷、突起和所述平坦部分中的與來自所述光盤的信號的振幅變化相關(guān)的聚焦偏移。
優(yōu)選地，通過將在所述引導(dǎo)槽中的所述凹陷和突起中的聚焦偏移分別與在所述不具有引導(dǎo)槽的平坦部分中的聚焦偏移進(jìn)行比較，設(shè)置所述凹陷和突起中的聚焦控制增益，其中所述聚焦偏移是所述凹陷、突起和所述平坦部分中與的來自所述光盤的信號的振幅變化相關(guān)的聚焦偏移。
優(yōu)選地，來自所述光盤的信號是累加信號。
優(yōu)選地，所述引導(dǎo)槽中的所述凹陷的聚焦控制電路增益Gg和所述突起的聚焦控制電路增益Gl被設(shè)置為Gg＝Gm-20*log(ΔVg/ΔVm)；和Gl＝Gm-20*log(ΔVl/ΔVm)，其中，Gm是所述不具有引導(dǎo)槽的平坦部分的聚焦控制電路增益；而ΔVg、ΔVl、ΔVm分別是所述凹陷、所述突起以及所述平坦部分中的聚焦偏移寬度，每個(gè)聚焦偏移寬度表示其中每個(gè)來自光盤的信號的振幅由最大值降低到一特定值的范圍。
根據(jù)本發(fā)明的再一個(gè)實(shí)施例，提供了一種光盤設(shè)備，包括光學(xué)拾取元件，用于讀出記錄在光盤上的信息；解調(diào)電路，用于從所述光學(xué)拾取元件的輸出信號中解調(diào)出數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)；和控制器，用于基于所述光學(xué)拾取元件的輸出信號執(zhí)行伺服控制，其中，當(dāng)在所述光盤的引導(dǎo)槽中的凹陷和突起中設(shè)置最佳聚焦位置時(shí)，所述控制器將所述凹陷和突起中的一個(gè)的聚焦偏移的調(diào)整步長的大小設(shè)置為小于另一個(gè)的調(diào)整步長，且將所述一個(gè)的聚焦控制增益設(shè)置為低于所述另一個(gè)的聚焦控制增益。
根據(jù)所述本發(fā)明的各個(gè)實(shí)施例，關(guān)于如圖3A和3B或圖9中探測到的差分信號，即，F(xiàn)E信號，即使由于光電探測器上的光分布的光斑超出了光電探測器的分界線而產(chǎn)生了彎曲點(diǎn)，累加信號，即，RF信號(或FS信號)也不會因此而受到影響。因此，通過獲取突起和凹陷之間的聚焦伺服的增益差可設(shè)置聚焦控制電路的增益，該增益差是基于與散焦相關(guān)的光盤RF信號的振幅變化而獲得的，而不需要使用頻率特性分析器或具有與頻率特性分析器相同功能的電路。因此，可僅僅減少突起和凹陷之間的開環(huán)增益差，而且由此可使光盤的聚焦控制穩(wěn)定。進(jìn)而，可通過將凹陷和突起中的一個(gè)的聚焦偏移的調(diào)整步長大小設(shè)置為小于另一個(gè)的調(diào)整步長，并且將所述一個(gè)的聚焦控制光學(xué)增益設(shè)置為低于另一個(gè)的聚焦控制光學(xué)增益而執(zhí)行最佳聚焦位置獲取。


本發(fā)明的上述和其他目的和特征可通過下面結(jié)合附圖給出的對實(shí)施例的描述而變得清晰明了，其中圖1是顯示了根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例的光盤設(shè)備的操作的流程圖；圖2提供了一流程圖，說明了根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施例的光盤設(shè)備的操作；圖3A和3B分別描述了一示意圖，用于描述來自光盤的探測光的分布；圖4A和4B分別給出了在光盤與位于岸軌道和槽軌道的中心處的物鏡之間的距離發(fā)生改變的情況下的FE信號的特性；圖5描述了在改變散焦量的情況下在特定頻率處的聚焦伺服的開環(huán)特性；圖6A和6B分別提供了用于描述相對于FE信號中的變化的抖動(dòng)和RF振幅變化的特性圖；圖7A和7B分別示出了描述聚焦偏移寬度的特性圖，該聚焦寬度表示其中RF信號的振幅由一最大值降低到一特定值的范圍；圖8提供了一概念圖，其示出了利用傳統(tǒng)的SSD方法的FE信號探測元件的結(jié)構(gòu)；
圖9是一FE信號探測元件的概念圖，該FE信號探測元件利用了使用部分開口的SSD方法；和圖10給出了描述常規(guī)光盤記錄/再現(xiàn)設(shè)備的典型結(jié)構(gòu)的概念圖。
具體實(shí)施例方式
在下文中，將結(jié)合附圖詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施例。由于光學(xué)拾取元件的光學(xué)結(jié)構(gòu)與現(xiàn)有技術(shù)的相同，有關(guān)該元件的描述將被省略。
(實(shí)施例1)在這個(gè)實(shí)施例中，來自光盤的RF或FS信號的振幅被用于測量該光盤中岸和槽之間的聚焦伺服增益差，以及用于設(shè)置岸和槽的增益。結(jié)合圖1的流程圖對利用該RF信號的控制序列進(jìn)行解釋。
開始，啟動(dòng)對光盤的聚焦控制(開)(步驟S101)。
接著，啟動(dòng)在光盤的岸中的尋軌控制(開)(步驟S102)。在這個(gè)例子中，為了描述方便首先執(zhí)行了對岸的尋軌。但是，也可以首先執(zhí)行對槽的尋軌。
將在岸中的聚焦控制增益設(shè)置為一預(yù)定值或者將其設(shè)置為使得聚焦控制誤差小于或等于一允許量的值(步驟S103)。
然后，獲得一聚焦偏移寬度，如圖7A和7B所示，該聚焦偏移寬度表示其中RF信號的振幅由一最大值降低到一特定值的范圍(步驟S104)。具體而言，對該RF信號進(jìn)行再現(xiàn)，以便找出RF信號達(dá)到最大振幅時(shí)的聚焦點(diǎn)。接著，獲得加或減聚焦偏移，在該聚焦偏移處RF信號達(dá)到例如對應(yīng)于最大振幅的90％的值，并且存儲兩個(gè)聚焦偏移之間的寬度(在下文中稱作“ΔVl”)。
接著，啟動(dòng)在槽中的尋軌控制(開)(步驟S105)。
然后，與步驟S104中相同，獲得表示其中槽中的RF信號的振幅降低至一特定值的范圍的聚焦偏移寬度(在下文中稱作“ΔVg”)，(步驟S106)。
如上所述，可獲得岸和槽之間的光學(xué)聚焦增益差為20*log(ΔVl/ΔVg)(步驟S107)。例如，圖5所示的點(diǎn)“a”和“b”具有不同的聚焦偏移，從而使得在點(diǎn)“a”和“b”處的岸和槽之間的增益差不同。因此，為了確定岸和槽之間的平均增益差，需要通過利用一頻率特性分析器或一具有與頻率特性分析器相同功能的電路在多個(gè)點(diǎn)處測量各個(gè)增益。然而，根據(jù)本發(fā)明的測量方法，僅僅通過測量岸和槽中RF信號的振幅，就可以很容易地獲得測量范圍內(nèi)的平均增益差。
接著，設(shè)置岸和槽中的增益(步驟S108)。具體而言，利用等式1可設(shè)置聚焦控制電路(其由圖10所示的控制器124和伺服元件123的部分功能組成)中岸的增益Gl和槽的增益Gg，從而可消除它們之間的光學(xué)增益差Gg＝Gl-20*log(ΔVg/ΔVl)等式1通過如上所述的方式設(shè)置增益，由來自岸和槽的聚焦誤差信號產(chǎn)生的增益差可由聚焦控制電路補(bǔ)償。因而，可以獲得各個(gè)聚焦伺服控制增益，其中每個(gè)聚焦伺服控制增益都包括岸和槽中的拾取(或光學(xué))增益和電路增益。根據(jù)本實(shí)施例的方法，不需要用于測量聚焦伺服的開環(huán)特性的額外電路。而且，通過一個(gè)簡單的測量光盤RF信號的振幅相對于岸和槽中散焦的變化的操作，可以補(bǔ)償這些增益。由于從前述的等式1中僅能獲得Gg和Gl之間的相對關(guān)系，因而增益Gg(或Gl)可能需要進(jìn)行額外地校正以獲得最佳增益，從而使得聚焦控制誤差小于或等于一特定量，且聚焦伺服不會振蕩。
(實(shí)施例2)在這個(gè)實(shí)施例中，來自光盤的RF或FS信號的振幅被用于測量光盤的岸/槽和不具有引導(dǎo)槽的平坦部分之間的聚焦伺服增益差，從而設(shè)置岸和槽中的增益。根據(jù)這個(gè)實(shí)施例，通過利用具有引導(dǎo)槽的光盤，例如，DVD-RAM，的岸、槽和平坦部分中與RF信號的振幅變化相關(guān)的聚焦偏移寬度，基于在對位于光盤驅(qū)動(dòng)中且不具有引導(dǎo)槽的光盤，例如，DVD-ROM的再現(xiàn)時(shí)的聚焦伺服的增益，可以快速獲得岸和槽中的增益。下面將結(jié)合圖2的流程圖解釋利用該RF信號的控制序列。
首先，啟動(dòng)對光盤的聚焦控制(開)(步驟S201)。
接著，光學(xué)拾取元件(OPU)在徑向方向由進(jìn)給電動(dòng)機(jī)驅(qū)動(dòng)(圖中未示出)，然后被移動(dòng)到不具有引導(dǎo)槽的徑向位置(步驟S202)。在DVD-RAM等的情況下，即使是一張黑盤(black disk)，也存在由不具有引導(dǎo)槽的平坦部分中的預(yù)置坑產(chǎn)生的RF信號，該平坦部分被置于DVD-RAM等最里面的邊緣部分，從而優(yōu)選利用RF信號。進(jìn)而，當(dāng)在DVD-ROM的情況下，尋軌控制是通過利用差分相位探測(在下文中稱作“DPD”)方法執(zhí)行的。
然后，平坦部分中的聚焦控制增益被設(shè)置為一預(yù)定值，或者設(shè)置為使得聚焦控制誤差小于或等于一允許量的值(步驟S203)。
接著，盡管未示出，當(dāng)在如圖7A和7B所示的岸和槽的情況下，可獲得聚焦偏移寬度，該聚焦偏移寬度表示其中RF信號的振幅由最大值降低到一特定值的范圍(步驟S204)。具體而言，對該RF信號進(jìn)行再現(xiàn)以找出RF信號達(dá)到其最大振幅的聚焦點(diǎn)。然后，獲得加和減聚焦偏移，在該偏移處RF信號到達(dá)例如對應(yīng)于最大振幅的90％的值，且保存兩個(gè)聚焦偏移之間的寬度(在下文中稱作“ΔVm”)。
接著，利用進(jìn)給電動(dòng)機(jī)將光學(xué)拾取元件移動(dòng)至具有引導(dǎo)槽的徑向位置(步驟S205)。
然后，啟動(dòng)岸中的尋軌控制(開)(步驟S206)。
接著，與步驟S204中相同，獲得聚焦偏移寬度(在下文中稱作“ΔVl”)，該聚焦偏移寬度表示其中RF信號的振幅由最大振幅降低至一特定值的范圍，如圖7A和7B所示。
接著，啟動(dòng)槽中的尋軌控制(開)(步驟S208)。
然后，與步驟S204中相同，獲得槽中的聚焦偏移寬度(在下文中稱作“ΔVg”)，該聚焦偏移寬度表示其中RF信號的振幅降低至一特定值的范圍(步驟S209)。
如上所述，可獲得岸和不具有引導(dǎo)槽的平坦部分之間的光學(xué)聚焦增益差以及槽和該平坦部分之間的光學(xué)聚焦增益差，其分別為20*log(ΔVl/ΔVm)和20*log(ΔVg/ΔVm)(步驟S210)。例如，圖5所示的點(diǎn)“a”和“b”具有不同的聚焦偏移，從而使得在點(diǎn)“a”和“b”處的岸和槽之間的增益差不同。因此，為了確定岸和槽之間的平均增益差，需要通過利用一頻率特性分析器或一具有與頻率特性分析器相同功能的電路在多個(gè)點(diǎn)處測量各個(gè)增益。然而，根據(jù)本發(fā)明的測量方法，僅僅通過測量RF信號的振幅，就可以很容易地獲得測量范圍內(nèi)的平均增益差。
通過利用獲得的增益差，可以設(shè)置聚焦控制電路中岸和槽中的增益(步驟S211)。具體而言，通過等式2和等式3可設(shè)置岸中的增益Gl、槽中的增益Gg和不具有引導(dǎo)槽的平坦部分的增益Gm，從而消除光學(xué)增益差Gg＝Gm-20*log(ΔVg/ΔVm)； 等式2，和Gl＝Gm-20*log(ΔVl/ΔVm)等式3。
通過如上所述的方式設(shè)置增益，由來自岸和槽的聚焦誤差信號產(chǎn)生的增益差可由聚焦控制電路補(bǔ)償。因而，可以獲得各個(gè)聚焦伺服控制增益，每個(gè)增益都包括岸和槽中的拾取(或光學(xué))增益和電路增益。根據(jù)本實(shí)施例的方法，不需要用于測量聚焦伺服的開環(huán)特性的額外電路。而且，利用測量與岸和槽中散焦相關(guān)的光盤RF信號的振幅變化的簡單操作，就可以補(bǔ)償這些增益。此外，可以基于不具有槽的平坦部分的增益Gm設(shè)置岸和槽中的增益。岸和槽中的增益可根據(jù)待再現(xiàn)的光盤的引導(dǎo)槽的寬度和深度變化。另一方面，平坦部分中的增益不會由于缺少槽，即，缺少±第一級衍射光而產(chǎn)生很大的變化。因此，例如，假如通過利用額外的光盤的鏡面表面而將聚焦控制電路的增益Gm設(shè)置為最佳值，并接著將其存儲在光盤設(shè)備的存儲器(圖中未示出)中，那么聚焦控制電路中岸和槽中的增益Gl和Gg就可被快速地確定下來。
(實(shí)施例3)在這個(gè)實(shí)施例中，為了在光盤中的岸和槽中執(zhí)行最佳聚焦位置獲取，當(dāng)改變聚焦偏移時(shí)，測量來自光盤的信號的振幅(RF或FS信號的振幅)或信號質(zhì)量(RF信號或地址信號的抖動(dòng)或差錯(cuò)率)。此時(shí)，對于具有相對較低的聚焦控制光學(xué)增益的部分，聚焦偏移的調(diào)整步長的大小被設(shè)置成小于其它部分的調(diào)整步長的大小。在如圖6A和6B所示的例子的情況下，在槽中關(guān)于FE信號的抖動(dòng)或RF振幅變化是比較陡的。因此，如果槽的聚焦偏移的調(diào)整步長大小被設(shè)置成小于岸的調(diào)整步長，則岸和槽中的獲取到的誤差會減小，并且由此可以執(zhí)行最佳聚焦位置獲取。
本發(fā)明的光盤設(shè)備可以通過在不使用用于分析頻率特性的設(shè)備或電路的情況下設(shè)置聚焦控制增益，而穩(wěn)定聚焦控制。從而，本發(fā)明的光盤設(shè)備可被用于對光盤進(jìn)行記錄或再現(xiàn)的光盤驅(qū)動(dòng)器。
盡管已經(jīng)結(jié)合實(shí)施例示出并描述了本發(fā)明，本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，可以在不脫離由所附的權(quán)利要求限定的本發(fā)明的范圍的情況下可進(jìn)行各種不同的改變和修改。
權(quán)利要求
1.一種光盤設(shè)備，包括光學(xué)拾取元件，用于讀出記錄在光盤上的信息；解調(diào)電路，用于從所述光學(xué)拾取元件的輸出信號中解調(diào)出數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)；和控制器，用于基于所述光學(xué)拾取元件的輸出信號執(zhí)行伺服控制，其中，當(dāng)在所述光盤的引導(dǎo)槽中的凹陷和突起中執(zhí)行聚焦/尋軌控制時(shí)，通過分別將所述凹陷和突起中的與來自所述光盤的信號的振幅變化相關(guān)的聚焦偏移進(jìn)行比較，所述控制器獲得所述凹陷和突起之間的聚焦控制增益差。
2.如權(quán)利要求1所述的光盤設(shè)備，其中通過分別將所述凹陷和突起中的與來自所述光盤的信號的振幅變化相關(guān)的聚焦偏移進(jìn)行比較，設(shè)置所述凹陷和突起中的聚焦控制增益。
3.如權(quán)利要求2所述的光盤設(shè)備，其中來自所述光盤的信號是累加信號。
4.如權(quán)利要求1至3中任一所述的光盤設(shè)備，其中所述凹陷的聚焦控制電路增益Gg被設(shè)置為Gg＝Gl-20*log(ΔVg/ΔVl)其中，Gl是所述突起的聚焦控制電路增益；而ΔVg和ΔVl分別是所述凹陷和突起中的聚焦偏移寬度，每個(gè)聚焦偏移寬度表示其中每個(gè)來自所述光盤的信號的振幅由最大值降低到一特定值的范圍。
5.一種光盤設(shè)備，包括光學(xué)拾取元件，用于讀出記錄在光盤上的信息；解調(diào)電路，用于從所述光學(xué)拾取元件的輸出信號中解調(diào)出數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)；和控制器，用于基于所述光學(xué)拾取元件的輸出信號執(zhí)行伺服控制，其中，當(dāng)在所述光盤的引導(dǎo)槽中的凹陷和突起中執(zhí)行聚焦/尋軌控制時(shí)，通過將在所述引導(dǎo)槽中的所述凹陷和突起中的聚焦偏移分別與在不具有引導(dǎo)槽的平坦部分中的聚焦偏移進(jìn)行比較，所述控制器獲得所述凹陷和突起之間的聚焦控制增益差，其中所述聚焦偏移分別是所述凹陷、突起和所述平坦部分中的與來自所述光盤的信號的振幅變化相關(guān)的聚焦偏移。
6.如權(quán)利要求5所述的光盤設(shè)備，其中通過將在所述引導(dǎo)槽中的所述凹陷和突起中的聚焦偏移分別與在所述不具有引導(dǎo)槽的平坦部分中的聚焦偏移進(jìn)行比較，設(shè)置所述凹陷和突起中的聚焦控制增益，其中所述聚焦偏移是所述凹陷、突起和所述平坦部分中的與來自所述光盤的信號的振幅變化相關(guān)的聚焦偏移。
7.如權(quán)利要求6所述的光盤設(shè)備，其中來自所述光盤的信號是累加信號。
8.如權(quán)利要求5至7中的任一所述的光盤設(shè)備，其中所述引導(dǎo)槽中的所述凹陷的聚焦控制電路增益Gg和所述突起的聚焦控制電路增益Gl被設(shè)置為Gg＝Gm-20*log(ΔVg/ΔVm)；和Gl＝Gm-20*log(ΔVl/ΔVm)，其中，Gm是所述不具有引導(dǎo)槽的平坦部分的聚焦控制電路增益；而ΔVg、ΔVl、ΔVm分別是所述凹陷、所述突起以及所述平坦部分中的聚焦偏移寬度，每個(gè)聚焦偏移寬度表示其中每個(gè)來自所述光盤的信號的振幅由最大值降低到一特定值的范圍。
9.一種光盤設(shè)備，包括光學(xué)拾取元件，用于讀出記錄在光盤上的信息；解調(diào)電路，用于從所述光學(xué)拾取元件的輸出信號中解調(diào)出數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)；和控制器，用于基于所述光學(xué)拾取元件的輸出信號執(zhí)行伺服控制，其中，當(dāng)在所述光盤的引導(dǎo)槽中的凹陷和突起中設(shè)置最佳聚焦位置時(shí)，所述控制器將所述凹陷和突起中的一個(gè)的聚焦偏移的調(diào)整步長的大小設(shè)置為小于另一個(gè)的調(diào)整步長，且將所述一個(gè)的聚焦控制增益設(shè)置為低于所述另一個(gè)的聚焦控制增益。
全文摘要
光盤設(shè)備包括光學(xué)拾取元件，用于讀出記錄在光盤上的信息；解調(diào)電路，用于從光學(xué)拾取元件的輸出信號中解調(diào)出數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)；和控制器，用于基于光學(xué)拾取元件的輸出信號執(zhí)行伺服控制。當(dāng)在光盤的引導(dǎo)槽的凹陷和突起中執(zhí)行聚焦/尋軌控制時(shí)，通過分別將凹陷和突起中的與來自光盤的信號的振幅變化相關(guān)的聚焦偏移進(jìn)行比較，控制器獲得該凹陷和突起之間的聚焦控制增益差。
文檔編號G11B7/09GK101093683SQ20071011205
公開日2007年12月26日 申請日期2007年6月22日 優(yōu)先權(quán)日2006年6月22日
發(fā)明者香山博司, 百尾和雄 申請人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會社