專利名稱：碟片原版的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及 一 種碟片原版，特別是涉及 一 種用以制備碟片模版
(stamper)的碟片原版。
背景技術(shù)：
隨著資訊與多媒體世代的來臨，電子產(chǎn)品對儲存介質(zhì)的儲存密度及容 量的需求也不斷地增加?，F(xiàn)有習(xí)知的儲存介質(zhì)主要分成兩大類磁記錄介 質(zhì)及光記錄介質(zhì)。目前市場上是以光記錄介質(zhì)占優(yōu)勢，其包含只讀型光盤 (CD-R0M)、可寫一次型光盤(CD-R)、可重復(fù)讀寫型光盤(CD-RW)、只讀型 數(shù)字視頻光盤(DVD-ROM )、可寫一次型數(shù)字視頻光盤(DVD-R )、可重復(fù)讀 寫型數(shù)字視頻光盤(DVD-RW， DVD+RW)及動態(tài)隨機(jī)存儲數(shù)字視頻光盤 (DVD-RAM)等。
光記錄介質(zhì)生產(chǎn)過程中， 一般都是利用具有溝槽或凹洞的碟片模版， 配合射出成形的方法，以制作與碟片模版具有相對應(yīng)圖案的基板，再利用 此具有預(yù)溝槽的基板(pre-grooved substrate)來進(jìn)行后續(xù)制程以大量生 產(chǎn)光記錄介質(zhì)。
為獲得碟片模版，則需先制作一碟片原版。如圖l所示，一種現(xiàn)有習(xí)知 碟片原版制作過程包含步驟Sll至步驟S13。請同時參照圖2A至圖2D，方 便說明現(xiàn)有習(xí)知碟片原版的制作過程。
請參照圖1及圖2A所示，步驟Sll是涂布一光阻層13于一基板11上， 為了加強(qiáng)光阻層13與基板11之間的結(jié)合力，可先涂布一接著劑(primer) 12于基板11上再涂布光阻層13。而接著劑12可為一介面活化劑 (surfactant)或一粘著促進(jìn)齊寸(adhesion promoter )。
請參照圖1、圖2B及圖2C所示，步驟S12是激光刻版(Laser Beam Recording, LBR )光阻層13并進(jìn)行顯影步驟，藉由顯影把刻版的訊號顯像 出來，形成一圖案化光阻層13a于基板ll上。
請參照圖1及圖2D所示，步驟SI3是在顯影完成的圖案化光阻層13a 上'戚鍍一薄金屬層15。其中，金屬層的材質(zhì)可為鎳釩合金，即完成碟片原 版的制作。
完成碟片原版后，可利用金屬層15作為后續(xù)電鑄(electroforming) 步驟的導(dǎo)電層。電鑄步驟是將金屬層加厚再將金屬層與碟片原版剝離，則 此金屬層即為父模版(father stamper )。
藉由父模版并重復(fù)電鑄及剝離步驟，即可制成復(fù)數(shù)個母模版(motherstamper),而每個母模版可繼續(xù)重復(fù)電鑄及剝離步驟，以制成復(fù)數(shù)個子模 版(son stamper )。父才莫版或子才莫版可用于大量生產(chǎn)光記錄介質(zhì)，以射出 成形具有溝槽(groove)的碟片基板。
然而，現(xiàn)有習(xí)知技術(shù)的碟片原版利用圖案化光阻層13a來形成溝槽的 形狀，由于結(jié)構(gòu)強(qiáng)度不夠，因此無法進(jìn)行多次父模版的電鑄分離制程，溝 槽寬度亦不易精準(zhǔn)控制。另外，為符合特定規(guī)格，以增進(jìn)碟片與光盤機(jī)的 相容性，碟片原版需具有一資料區(qū)(data area)及一預(yù)錄區(qū)(embossed area),由于預(yù)錄區(qū)用于記錄燒錄策略或制造廠商資訊，因此資料區(qū)及預(yù)錄 區(qū)的溝槽需具有不同深度，但以上述制作方法并不易達(dá)成。
因此，如何提供一種碟片原版，能夠解決碟片原版無法重復(fù)使用，形 成不同溝槽深度，且能提高溝槽寬度控制的穩(wěn)定性，已成為重要課題之一。
由此可見，上述現(xiàn)有的碟片原版在結(jié)構(gòu)與使用上，顯然仍存在有不便 與缺陷，而亟待加以進(jìn)一步改進(jìn)。為了解決上述存在的問題，相關(guān)廠商莫不 費(fèi)盡心思來謀求解決之道，但長久以來一直未見適用的設(shè)計(jì)被發(fā)展完成，而 一般產(chǎn)品又沒有適切結(jié)構(gòu)能夠解決上述問題，此顯然是相關(guān)業(yè)者急欲解決 的問題。因此如何能創(chuàng)設(shè)一種新型的碟片原版，實(shí)屬當(dāng)前重要研發(fā)課題之 一，亦成為當(dāng)前業(yè)界極需改進(jìn)的目標(biāo)。
有鑒于上述現(xiàn)有的碟片原版存在的缺陷，本發(fā)明人基于從事此類產(chǎn)品 設(shè)計(jì)制造多年豐富的實(shí)務(wù)經(jīng)驗(yàn)及專業(yè)知識，并配合學(xué)理的運(yùn)用，積極加以研 究創(chuàng)新，以期創(chuàng)設(shè)一種新型的碟片原版，能夠改進(jìn)一般現(xiàn)有的碟片原版，使 其更具有實(shí)用性。經(jīng)過不斷的研究、設(shè)計(jì)，并經(jīng)過反復(fù)試作樣品及改進(jìn)后， 終于創(chuàng)設(shè)出確具實(shí)用價值的本發(fā)明。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于，克服現(xiàn)有的碟片原版存在的缺陷，而提供一種新 型的碟片原版，所要解決的技術(shù)問題是使其結(jié)構(gòu)強(qiáng)度高并具有不同于溝槽 深度的預(yù)錄凹槽，且圖案化光阻層的寬度控制較容易且穩(wěn)定，非常適于實(shí) 用。
本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題是采用以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)的。為達(dá) 到上述目的，依據(jù)本發(fā)明的碟片原版包含 一基板，具有一預(yù)錄區(qū)及一資料 區(qū)，該預(yù)錄區(qū)具有至少一預(yù)錄凹槽； 一圖案化光阻層，設(shè)置于該資料區(qū)；以 及一金屬層，覆蓋該圖案化光阻層及該預(yù)錄凹槽。
前述的碟片原版，其中所述的預(yù)錄凹槽的深度大于該圖案化光阻層的 厚度。
前述的碟片原版，其中所述的預(yù)錄凹槽及該圖案化光阻層藉由反應(yīng)性 離子蝕刻方式形成。前述的碟片原版，其中所述的預(yù)錄凹槽呈u型。 前述的碟片原版，其中所述的圖案化光阻層的厚度為內(nèi)厚外薄或內(nèi)薄 外厚。
前述的碟片原版，其中所述的基板的材質(zhì)為玻璃、石英或陶瓷材料。 前述的碟片原版，其中所述的陶乾材料為一氧化物、 一氮化物或一碳 化物。
前述的碟片原版，其中更包含 一接著劑，設(shè)置于該基板與該圖案化 光阻層之間。
前述的碟片原版，其中所述的金屬層藉由沉積、涂布、印刷或電鍍方 式形成。
前述的碟片原版，其中所述的金屬層的材質(zhì)為鎳釩合金。 本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)點(diǎn)和有益效果。借由上述技術(shù)方 案，本發(fā)明碟片原版至少具有下列優(yōu)點(diǎn)及有益效果因依據(jù)本發(fā)明的一種碟 片原版具有溝槽深度不同于資料區(qū)溝槽的預(yù)錄凹槽。與現(xiàn)有習(xí)知技術(shù)相較， 本發(fā)明結(jié)構(gòu)強(qiáng)度提高，因此可重復(fù)進(jìn)行電鑄及剝離制程，并容易控制圖案 化光阻層的溝槽形狀成為U字形，而能精確定義碟片原版的溝槽尺寸。
上述說明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的 技術(shù)手段，而可依照說明書的內(nèi)容予以實(shí)施，并且為了讓本發(fā)明的上述和 其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實(shí)施例，并配合附 圖，詳細(xì)i兌明如下。


圖1為一種現(xiàn)有習(xí)知碟片原版制作過程的流程圖； 圖2為圖1的碟片原版制作過程的示意圖； 圖3為應(yīng)用于本發(fā)明的碟片原版制作過程的流程圖；以及 圖4A至圖4D為本發(fā)明較佳實(shí)施例的一種碟片原版及其制作過程的示 意圖。
主要元件符號說明
11、21:基板
12、22:接著劑
13、23:光阻層
13a、23a:圖案化光阻層
24:預(yù)錄凹槽
15、25:金屬層
A:預(yù)錄區(qū)
B:資料區(qū)S11~S13、 S20 S25:碟片原版制作過程的流程步驟
具體實(shí)施例方式
以下將參照相關(guān)圖式，說明依據(jù)本發(fā)明較佳實(shí)施例的一種碟片原版，其 中相同的元件將以相同的附圖標(biāo)記加以說明。
如圖3所示， 一種應(yīng)用于本發(fā)明的碟片原版制作過程包含步驟S21至 步驟S25。請同時參照圖4A至圖4D，方便說明碟片原版的制作過程。
請參照圖3及圖4A所示，步驟S21是于一具有一預(yù)錄區(qū)A及一資料區(qū) B的基板21上設(shè)置一光阻層23。基板21的材質(zhì)例如為一玻璃、 一石英或 一陶瓷材料，陶瓷材料例如為一氧化物、 一氮化物或一碳化物。依據(jù)實(shí)際 需求，基板可預(yù)先研磨及清洗，使表面平整。
形成光阻層23的方式例如為;^走轉(zhuǎn)涂布(spin-coating),藉由光阻層 23的厚度可決定資料區(qū)的溝槽深度，且厚度設(shè)置除了均勻厚度之外，亦可 使厚度不一致，例如為內(nèi)厚外薄或內(nèi)薄外厚，用以作出內(nèi)深外淺或內(nèi)淺外 深的溝槽。光阻層23的材質(zhì)例如為聚酰亞胺(polyimide， PI )。
制作過程更可包含一步驟S20，以預(yù)先涂布一接著劑22于基板21上， 則光阻層23設(shè)置于接著劑22上，接著劑22可為一界面活性劑或是一粘合 促進(jìn)劑。
請參照圖3及圖4B所示，步驟S2Z是激光刻版并顯影光阻層23。由于 激光刻版制程穩(wěn)定性較高，因此藉由調(diào)整激光刻版制程的參數(shù)值來控制溝 槽寬度，其條件為預(yù)錄區(qū)A需蝕刻至光阻層23底部并呈現(xiàn)一U型，而資 料區(qū)B則不需蝕刻至光阻層23底部并呈現(xiàn)一V型。
步驟S23、 S24的主要目的是產(chǎn)生預(yù)錄區(qū)A與資料區(qū)B的深度差。請參 照圖3及圖4C所示，步驟S23是第一反應(yīng)性離子蝕刻(Reactive Ion Etching, RIE)基板的預(yù)錄區(qū)A的光阻層，以形成至少一預(yù)錄凹槽24。第一 反應(yīng)性離子蝕刻的反應(yīng)氣體具有 一含氟氣體，例如三氟曱烷、氟化碳、 C5F10、 C3F8或C2F6。另外，含氟氣體可搭配氬氣(Ar )或氧氣(02 )來 作為反應(yīng)氣體，以增加蝕刻能量。藉由控制氣體流量、壓力、功率及時間， 即能夠控制形成溝槽的形狀及深度，而精確定義碟片原版的溝槽尺寸。
步驟S24是第二反應(yīng)性離子蝕刻基板的資料區(qū)B的光阻層，以形成一 圖案化光阻層23a。第二反應(yīng)性離子蝕刻的反應(yīng)氣體具有一含氧氣體，例如 氧氣或一氧化碳。進(jìn)4亍第二反應(yīng)性離子蝕刻時，其反應(yīng)氣體只對光阻層23 有反應(yīng)，因此隨著光阻層23變薄，資料區(qū)B的光阻層"的溝槽形狀，可 由V型逐漸變成U型。藉由控制反應(yīng)氣體蝕刻時間，可決定資料區(qū)B所剩 光阻厚度，直至與碟片原版要求的溝槽深度相同。
請參照圖3及圖4D所示，步驟S25設(shè)置一金屬層25覆蓋預(yù)錄凹槽24及圖案化光阻層23a。當(dāng)然，金屬層25亦覆蓋基板21不具圖案化光阻層 23a的表面。其中，金屬層25藉由沉積、涂布、印刷或電鍍方式形成，且 其材質(zhì)可為鎳釩合金。
如圖4D所示，本發(fā)明較佳實(shí)施例的一種碟片原版包含一基板21、 一圖 案化光阻層23a以及一金屬層25。基板21具有一預(yù)錄區(qū)A及一資料區(qū)B， 預(yù)錄區(qū)A具有至少一預(yù)錄凹槽24。圖案化光阻層23a設(shè)置于資料區(qū)B，金 屬層25覆蓋圖案化光阻層23a及預(yù)錄凹槽24。由于碟片原版及其制作方法 已詳述于上，故不再贅述。
綜上所述，因依據(jù)本發(fā)明的 一種碟片原版具有溝槽深度不同于資料區(qū) 溝槽的預(yù)錄凹槽。與現(xiàn)有習(xí)知技術(shù)相較，本發(fā)明結(jié)構(gòu)強(qiáng)度提高，基板不會 有翻痕，因此可重復(fù)進(jìn)行電鑄及剝離制程，并容易控制圖案化光阻層的溝 槽形狀成為U字形，而能精確定義碟片原版的溝槽尺寸。
以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非對本發(fā)明作任何形式 上的限制，雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例揭露如上，然而并非用以限定本發(fā) 明，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍內(nèi)，當(dāng)可利 用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許更動或修飾為等同變化的等效實(shí)施例，但 凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對以上實(shí)施例 所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1、一種碟片原版，其特征在于包含一基板，具有一預(yù)錄區(qū)及一資料區(qū)，該預(yù)錄區(qū)具有至少一預(yù)錄凹槽；一圖案化光阻層，設(shè)置于該資料區(qū)；以及一金屬層，覆蓋該圖案化光阻層及該預(yù)錄凹槽。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的碟片原版，其特征在于其中所述的預(yù)錄凹槽 的深度大于該圖案化光阻層的厚度。
3、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的碟片原版，其特征在于其中所述的預(yù)錄凹槽 及該圖案化光阻層藉由反應(yīng)性離子蝕刻方式形成。
4、根據(jù)權(quán)利要求1所述的碟片原版，其特征在于其中所述的預(yù)錄凹槽 呈U型。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的碟片原版，其特征在于其中所述的圖案化光 阻層的厚度為內(nèi)厚外薄或內(nèi)薄外厚。
6、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的碟片原版，其特征在于其中所述的基板的材 質(zhì)為玻璃、石英或陶瓷材料。
7、 根據(jù)權(quán)利要求6所述的碟片原版，其特征在于其中所述的陶瓷材料 為一氧化物、 一氮化物或一碳化物。
8、 根據(jù)權(quán)利要求l所迷的碟片原版，其特征在于其中更包含 一接著劑，設(shè)置于該基板與該圖案化光阻層之間。
9、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的碟片原版，其特征在于其中所述的金屬層藉 由沉積、涂布、印刷或電鍍方式形成。
10、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的碟片原版，其特征在于其中所述的金屬層 的材質(zhì)為鎳釩合金。
全文摘要
本發(fā)明是有關(guān)于一種碟片原版，其包含一基板、一圖案化光阻層以及一金屬層?；寰哂幸活A(yù)錄區(qū)及一資料區(qū)，預(yù)錄區(qū)具有至少一預(yù)錄凹槽，圖案化光阻層設(shè)置于資料區(qū)，金屬層覆蓋圖案化光阻層及預(yù)錄凹槽。因依據(jù)本發(fā)明的一種碟片原版具有溝槽深度不同于資料區(qū)溝槽的預(yù)錄凹槽。與現(xiàn)有習(xí)知技術(shù)相較，本發(fā)明結(jié)構(gòu)強(qiáng)度提高，因此可重復(fù)進(jìn)行電鑄及剝離制程，并容易控制圖案化光阻層的溝槽形狀成為U字形，而能精確定義碟片原版的溝槽尺寸。
文檔編號G11B7/26GK101419816SQ200710165319
公開日2009年4月29日 申請日期2007年10月26日 優(yōu)先權(quán)日2007年10月26日
發(fā)明者吳志蔚, 林家平, 趙賢文 申請人:精碟科技股份有限公司