專利名稱：光記錄介質及其記錄/再現方法和設備的制作方法
技術領域：
本發(fā)明的一方面涉及一種光記錄介質，更具體地說，涉及一種全息記錄 介質以及用于該全息記錄介質的記錄/再現方法和設備，其中，在所述全息記
錄介質中，通過信號光與基準光(reference light)之間的干涉形成的干涉圖 案被記錄為數據。
背景技術：
最近，廣泛研究并開發(fā)了全息記錄介質，該全息記錄介質用作能夠克服 物理限制(諸如光衍射限制)并具有較大的存儲容量的存儲介質。在所述全 息記錄介質中，通過源于對象的信號光與基準光之間的千涉形成的干涉圖案 被記錄為數據。全息記錄介質可在相同的記錄位置存儲成百或上千的二進制 數據頁。更具體地說，從信號光(被調制為二進制數據頁)和相應的入射基 準光(其位置、偏轉角、波長等隨著復用方法而變化)獲得記錄在全息記錄 介質上的干涉圖案(相應于數據)。為了再現記錄在全息記錄介質上的數據， 將條件與上述記錄基準光的條件相同的再現基準光入射到全息記錄介質上。 當再現基準光入射時，記錄的干涉圖案使再現基準光產生衍射，從而干涉圖 案可被解調為具有原始的亮和暗像素圖案的 一個二進制數據頁。
用于全息記錄介質的記錄材料包括光敏聚合物和光折射晶體等。由于光 敏聚合物價格便宜且具有較高的衍射效率，所以光敏聚合物被廣泛用作全息 記錄介質的記錄材料。當光敏聚合物與光起反應時，它的單體被聚合，從而 折射率改變。光敏聚合物構有單體、聚合粘合劑、光敏染料和引發(fā)劑。通過 光敏染料來選擇光的波長。聚合體根據光的強度而非均勻地分布于空間中， 形成高聚合物密度區(qū)和低聚合物密度區(qū)。聚合物的非均勻分布造成折射率的 非均勻分布。另一方面，在期望的干涉圖案被投到全息記錄介質之后，干涉 圖案暴露于UV光以^皮固化，乂人而不進行反應。該處理^皮稱為UV固化。
光敏聚合物的折射率和體積隨著UV固化和數據記錄時的溫度而改變。 反之，折射率和體積的改變造成記錄的干涉圖案之間的間距改變，從而從全息記錄介質再現的信號會惡化。因此，已經廣泛研究了用于在再現全息記錄 介質時抑制或補償折射率和體積的改變的技術。
根據溫度來補償折射率和體積的改變的示例包括一種通過用具有不同于 記錄光源的波長的單獨光源照射生熱層，來在進行再現時補償記錄層的收縮
的方法，其公開于第2004-139479號日本專利申請中。更具體地說，生熱層 被置于全息記錄層的兩側。當全息記錄層收縮時，用具有不同于記錄和再現 激光的波長的加熱激光來照射生熱層，從而增加全息記錄層的溫度。結果， 可補償由全息記錄介質的收縮和變形造成的折射率和體積的改變。
然而，現有技術中的全息記錄介質的問題在于生產處理和成本由于附
征差異而造成的一些問題。此外，由于需要向用于全息記錄介質的記錄/再現 設備提供用于照射生熱層的附加光源，所以問題在于記錄/再現設備的構造變 得更加復雜，并且功耗增加
發(fā)明內容
技術方案
本發(fā)明的一方面提供一種全息記錄介質，在所述全息記錄介質中，具有 不同厚度的區(qū)形成在全息記錄層中，其中，通過信號光與基準光之間的干涉 形成的干涉圖案在較厚的區(qū)中被記錄為數據，其中，關于數據記錄條件的信 息被記錄在具有較高的選擇性的較薄的區(qū)中。
本發(fā)明的另一方面提供一種用于全息記錄介質的記錄方法和設備，其中， 當數據被記錄在全息記錄介質中時，數據記錄條件被記錄在全息記錄介質的 全息記錄層的較薄的區(qū)中。
本發(fā)明的另一方面提供一種用于全息記錄介質的再現方法和設備，其中， 當記錄在全息記錄介質的數據區(qū)中的數據被再現時，讀取關于數據記錄條件 的信息，計算適當補償的基準光的入射角和波長，以防止再現信號的惡化。
有益效果
根據本發(fā)明，可補償由全息記錄介質的當前溫度與數據被記錄在全息記 錄介質中時的溫度之間的溫度差造成的再現信號的惡化，并提高再現信號的 質量。此外，根據本發(fā)明，可穩(wěn)定地提供關于全息記錄介質的基本信息以及 關于全息記錄介質的記錄位置的信息。此外，可簡化全息記錄介質的構造及其再現處理。此外，可使得用于記錄和再現全息記錄介質的光學系統(tǒng)小型化。


圖1示出根據本發(fā)明實施例的全息記錄介質的透視圖和截面圖； 圖2示出根據本發(fā)明另 一實施例的全息記錄介質的透視圖和截面圖； 圖3示出根據本發(fā)明另一實施例的全息記錄介質的透視圖和局部放大
圖4A和圖4B是示出根據本發(fā)明另一實施例的全息記錄介質的示圖； 圖5是示出根據本發(fā)明另一實施例的用于全息記錄介質的記錄設備的示 意性框圖6是示出根據本發(fā)明另 一實施例的用于全息記錄介質的記錄方法的流
程圖7是根據本發(fā)明另一實施例的用于全息記錄介質的再現設備的示意性
框圖8是示出根據本發(fā)明另一實施例的用于全息記錄介質的記錄方法的流程圖。
最佳實施方式
根據本發(fā)明的一方面，提供一種光記錄介質，其包括至少一個記錄有預 定數據的記錄層，其中，記錄層的一個區(qū)的厚度小于記錄層的另一區(qū)的厚度。
根據本發(fā)明的另 一方面，提供一種用于光記錄介質的記錄和/或再現方 法，包括在光記錄介質的第一數據區(qū)中記錄和/或再現記錄條件；在光記錄 介質的第二數據區(qū)中記錄和/或再現用戶數據；其中，第一數據區(qū)的厚度不同 于第二數據區(qū)的厚度。
根據本發(fā)明的另 一方面，提供一種用于光記錄介質的記錄和/或再現設 備，包括拾取單元，用于在光記錄介質的第一數據區(qū)中記錄和/或再現記錄 條件，并在光記錄介質的第二數據區(qū)中記錄和/或再現用戶數據；其中，第一 數據區(qū)的厚度不同于第二數據區(qū)的厚度。
根據本發(fā)明的另一方面，提供一種用于光記錄介質的再現方法，包括 通過用基準光照射記錄有記錄條件的盤信息存儲區(qū)來確定數據記錄條件；基 于確定的記錄條件來確定用于再現記錄在數據區(qū)中的數據的再現條件；根據確定的再現條件來檢測通過用基準光照射數據區(qū)而產生的再現光，并再現數據。
根據本發(fā)明的另一方面，提供一種用于光記錄介質的再現設備，包括 讀取單元，用于通過用基準光照射數據區(qū)來再現記錄在數據區(qū)中的數據，并
通過用基準光照射記錄有記錄條件且厚度小于所述數據區(qū)的厚度的盤信息存 儲區(qū)來再現數據記錄條件；控制器，用于基于記錄條件來確定用于再現記錄 在數據區(qū)中的數據的再現條件，并根據確定的再現條件來控制基準光，以使 其照射在數據區(qū)上。
本發(fā)明的其它方面和/或優(yōu)點將在下面的描述中部分地闡述，部分地將通 過所述描述變得清楚，或者可通過對本發(fā)明的實踐而得知。
具體實施例方式
現將詳細參照本發(fā)明的當前實施例，其示例在附圖中示出，其中，相同 的標號始終指示相同的部件。以下參照附圖來描述實施例，以便解釋本發(fā)明。
在根據本發(fā)明實施例的全息記錄介質中，全息記錄層(其中，由信號光 與基準光之間的干涉形成的干涉圖案被記錄為數據)包括記錄有數據的數據 區(qū)和記錄有數據記錄條件的盤信息存儲區(qū)，盤信息存儲區(qū)的厚度小于數據區(qū) 的厚度。從信號光與基準光之間的干涉形成的干涉圖案被稱為全息圖。記錄 條件包括關于全息記錄介質的溫度的信息以及關于與全息記錄介質的記錄位 置相應的地址的信息。記錄條件可額外包括全息記錄介質的特征參數，諸如 全息記錄層的M數、選性和厚度。
在本發(fā)明的一方面中，由于較薄的全息記錄層具有較高的選擇性，所以 將盤信息存儲區(qū)設計為比邀:據區(qū)薄。選擇性指示在沒有來自其它全息圖的干 涉的情況下，記錄在全息記錄層中的全息圖的恢復程度。作為公知的選擇性， 使用通過等式1表示的Bragg角選擇性Al
<formula>formula see original document page 8</formula>
在等式l中，L是全息記錄層的厚度，2是光的波長，^是基準光的角， 《是信號光的角。從等式1可理解到當根據基準光與信號光之間的改變角 來復用和記錄全息圖時，角選擇性^與全息記錄層的厚度成反比。因此，較薄的全息記錄層的選擇性比較厚的全息記錄層的選擇性更加優(yōu)選。
在根據本發(fā)明實施例的全息記錄介質中，數據記錄條件被記錄在較薄的 全息記錄層中，從而可基于記錄條件來補償當再現數據時由全息記錄介質的 溫度改變而造成的再現信號的惡化。此外，由于與較厚的全息記錄層相比， 較薄的全息記錄層的折射率和體積根據溫度的改變較小，所以可檢測到更加 穩(wěn)定的信號。盡管以下描述主要基于全息記錄介質，但是本發(fā)明的各方面可 應用于其它光記錄介質。
圖1示出根據本發(fā)明實施例的全息記錄介質的透視圖和截面圖。在圖1
中，下部示圖顯示沿著全息記錄介質100的上部示圖的x-x，截取的截面。
根據本發(fā)明實施例的全息記錄介質100包括第一基底130、全息記錄層 140和第二基底150。全息記錄介質100具有盤的形狀。在全息記錄層140中， 將從內圓周向外圓周延伸的具有徑向長度"b"的區(qū)分配到記錄數據的數據區(qū) 110,并將從外圓周向內延伸的具有徑向長度"a，，的區(qū)分配到記錄數據記錄 條件的盤信息存儲區(qū)120。將數據區(qū)110的厚度W1設計為大于盤信息存儲區(qū) 120的厚度W2。
如上所述，關于當數據被記錄在數據區(qū)110時的全息記錄介質的溫度的 信息以及關于與記錄位置相應的地址的信息記錄在盤信息存儲區(qū)120中。此 外，作為附加信息，可將全息記錄介質100的特征參數(諸如M數、選擇性 和厚度信息)記錄在盤信息存儲區(qū)120中。當進行再現時，記錄條件在記錄 在數據區(qū)110中的數據之前被再現，然后，所述記錄條件被用于確定用于再 現所述數據的再現條件。
圖2示出根據本發(fā)明另一實施例的全息記錄介質的透視圖和截面圖。在 圖2中，下部示圖顯示沿著全息記錄介質200的上部示圖的線X-X，截取的截 面。
根據本發(fā)明實施例的全息記錄介質200包括第一基底230、全息記錄層 240和第二基底250。與根據前述實施例的全息記錄介質100類似，全息記錄 介質200具有盤的形狀。與全息記錄介質100不同，盤存儲信息區(qū)220被置 于全息記錄層240的內圓周部分。更具體地說，在全息記錄層240中，將從 內圓周向外圓周延伸的具有徑向長度"d"的區(qū)分配到盤信息存儲區(qū)220，并 將從盤的外圓周向內延伸的具有徑向長度"c"的區(qū)分配到記錄數據的數據區(qū) 210。將數據區(qū)210的厚度W3設計為大于盤信息存儲區(qū)220的厚度W4。圖3示出根據本發(fā)明另一實施例的全息記錄介質300的透視圖和局部放 大截面圖。在圖3中，下部示圖顯示沿著全息記錄介質300的上部示圖的部 分A的線X-X，截^f又的局部力支大截面。
根據本發(fā)明實施例的全息記錄介質300包括第一基底330、全息記錄層 340和第二基底350。與盤信息存儲區(qū)被置于全息記錄介質的內圓周部分或外 圓周部分的上述實施例不同，在根據該實施例的全息記錄層340中，在數據 區(qū)310的一個或多個局部區(qū)中，按照點(spot)的形狀來形成盤信息存儲區(qū) 320a、 320b、 320c、 320d、...。與上述實施例類似，將數據區(qū)310的厚度W6 設計為大于盤信息存儲區(qū)320a、 320b、 320c、 320d、...中的每一個的厚度 W5。
圖4A和圖4B是示出根據本發(fā)明另一實施例的全息記錄介質的示圖。 圖4A所示的全息記錄介質400具有類似于圖3所示的全息記錄介質300 的結構，只是全息記錄介質400按照卡的形狀來形成。因此，在全息記錄層 中的一個或多個局部區(qū)中，按照點的形狀來形成信息存儲區(qū)420,并且將信 息存儲區(qū)420的每一個的厚度設計為小于數據區(qū)410的厚度。
圖4B所示的全息記錄介質430具有類似于圖1所示的全息記錄介質100 的構造，只是全息記錄介質400按照卡的形狀來形成。因此，信息存儲區(qū)450 被置于全息記錄層的外圍部分，并且將信息存儲區(qū)450的厚度設計為小于數 據區(qū)440的厚度。
盡管上述描述僅針對盤類型或卡類型的全息記錄介質，但是應清楚本 發(fā)明的各方面可被應用于具有不同形狀的其它類型的全息記錄介質。
現在，將描述根據本發(fā)明各方面的用于全息記錄介質的記錄/再現方法和 設備。
圖5是示出根據本發(fā)明另一實施例的用于全息記錄介質的記錄設備的示
意性框圖。
參照圖5，根據本發(fā)明實施例的記錄設備500包括記錄單元510，用于 通過用信號光和基準光照射全息記錄介質550的數據區(qū)來將數據記錄在數據 區(qū)中，并通過用信號光和基準光照射盤信息存儲區(qū)來將數據記錄條件記錄在 盤信息存儲區(qū)中；記錄條件測量單元540，用于測量數據記錄條件；控制器 530，用于控制記錄單元510.
更具體地說，記錄單元510包括光源511、分光器512、空間光調制器(SLM)513、第一透鏡514、鏡515、反射鏡516、第二透鏡517和激勵器 518。
分光器512將從光源511入射的激光分離為信號光和基準光。
通過光透鏡(未示出)來調整作為入射到鏡515上的矩形偏振光的基準 光，從而其光束大小^皮;改大。接著，通過反射鏡516以預定角來偏轉基準光， 基準光入射到全息記錄介質550上。
由分光器512分離的信號光被發(fā)送到SLM 513。 SLM 513根據從外部輸 入的將被記錄的數據將信號光調制為具有亮和暗像素圖案的二進制數據頁。 調制的信號光與基準光同步入射到全息記錄介質550上。
相應于輸入數據從基準光與信號光之間的干涉形成的干涉圖案被記錄在 全息記錄介質550的全息記錄層的凄t據區(qū)中。
記錄條件測量單元540測量全息記錄層的數據記錄條件。如上所述，記 錄條件包括關于與記錄位置相應的地址的信息以及關于當數據被記錄在數據 區(qū)中時的全息記錄介質的溫度的信息。
控制器530控制記錄單元510將與輸入數據相應的干涉圖案記錄在全息 記錄介質550的數據區(qū)中。此外，控制器530控制記錄單元510將由記錄條 件測量單元540測量的記錄條件(諸如關于溫度的信息)記錄在全息記錄介 質550的盤信息存儲區(qū)中。用于將記錄條件(諸如溫度的信息)記錄在盤信 息存儲區(qū)中的處理與將數據記錄在數據區(qū)中的處理相同，只是記錄對象是盤 信息存儲區(qū)。如上所述，作為附加信息，可將全息記錄介質550的特征參數 (諸如M數、選擇性和厚度信息)記錄在盤信息存儲區(qū)中。
圖6是示出根據本發(fā)明另一實施例的用于全息記錄介質的記錄方法的流程圖。
參照圖6,通過用信號光和基準光照射數據區(qū)將數據記錄在全息記錄層 的數據區(qū)中(操作610)。接著，測量數據記錄條件(諸如全息記錄介質的溫 度)(操作620)。接著，通過用信號光和干涉光照射盤信息存儲區(qū)將測量的 記錄條件記錄在全息記錄層的盤信息存儲區(qū)中(操作630 )。
圖7是示出根據本發(fā)明另 一實施例的用于全息記錄介質的再現設備的示 意性框圖。
參照圖7，再現設備700包括讀取單元710,用于通過用基準光照射數 據區(qū)來再現記錄在全息記錄介質720的數據區(qū)中的數據，并通過用基準光照射盤信息存儲區(qū)來再現記錄在盤信息存儲區(qū)中的記錄條件；溫度測量單元 730，用于測量在進行再現時的全息記錄介質720的溫度；控制器740，基于 由讀取單元710讀取的記錄條件來確定用于再現記錄在數據區(qū)中的數據的再 現條件，并根據確定的再現條件來控制基準光，以使其照射在數據區(qū)上。
更具體地說，讀取單元710包括光源711、第一透鏡712、第二透鏡 713和檢光器714。從光源711發(fā)射的基準光經過第一透鏡712，并入射到全 息記錄介質720上。在控制器740的控制下，從光源711發(fā)射的基準光的入 射角和波長被調整，從而由全息記錄介質720的折射率和體積的改變造成的 再現信號的惡化可被補償。當基準光入射到全息記錄介質720上時，產生包 含原始信息的二維信號圖案，并通過檢光器714 (諸如電荷耦合器件(CCD )) 來檢測所述二維信號圖案。
具體說來，為了確定折射率和體積在全息記錄介質720的記錄時間與再 現時間之間的改變，控制器740控制讀耳又單元710在讀取^數據之前讀取記錄 在盤信息存儲區(qū)中的記錄條件。如上所述，記錄條件包括當預定數據被記錄 在數據區(qū)中時全息記錄介質720的溫度的信息以及與全息記錄介質720的記 錄位置相應的地址的信息。
溫度測量單元730測量全息記錄介質720的當前溫度，并將測量的結果 輸出到控制器740?？刂破?40基于讀取的記錄條件來計算全息記錄介質720 的當前溫度與當預定數據被記錄在數據區(qū)中時全息記錄介質720的溫度之間 的溫度差?？刂破?40根據計算的溫度差來計算全息記錄介質720的折射率 和體積的改變。通常，記錄介質(諸如全息記錄介質)的折射率或體積的改 變與所述記錄介質的溫度改變之間存在線性關系。因此，如果已知溫度的改 變，則可計算出介質的折射率和體積的改變，即，全息記錄介質的長度的定 向改變。
控制器740基于折射率和體積的改變來控制讀取單元710補償基準光的 入射角和波長，從而可正常地檢測到記錄在數據區(qū)中的數據的再現信號，而 不會產生再現信號的惡化。
圖8是示出根據本發(fā)明另一實施例的全息記錄介質的記錄方法的流程圖。
參照圖8,通過用基準光照射全息記錄介質的盤信息存儲區(qū)來確定數據 記錄條件，即，當數據被記錄在數據區(qū)中時的記錄條件(操作810)。接著，基于確定的記錄條件來確定用于再現記錄在數據區(qū)中的數據的再現條件(操
作820)。再現條件包括用于補償全息記錄介質的折射率和體積改變的基準光 的入射角和波長。如上所述，可通過以下處理來確定再現條件計算全息記 錄介質的當前溫度與在預定數據被記錄在數據區(qū)時全息記錄介質的溫度(在 操作810中確定)之間的溫度差，根據計算的溫度差來計算全息記錄介質的 折射率和體積的改變，并基于計算的折射率和體積的改變來調整基準光的入
射角和波長。
當再現條件被確定時，再現光被產生，并用基準光照射數據區(qū)，由此再 現數據(操作830 )。
根據本發(fā)明的另 一方面，可補償由全息記錄介質的當前溫度與數據被記 錄在全息記錄介質中時的溫度之間的溫度差造成的再現信號的惡化，并提高 再現信號的質量。此外，根據本發(fā)明的另一方面，可穩(wěn)定地提供關于全息記 錄介質的基本信息以及關于全息記錄介質的記錄位置的信息。此外，可簡化 全息記錄介質的結構及其再現處理。此外，可使得用于記錄和再現全息記錄 介質的光學系統(tǒng)小型化。
盡管已經顯示并描述了本發(fā)明的若干實施例，但是本領域的技術人員將 認識到在不脫離由權利要求及其等同物限定范圍的本發(fā)明的原理和精神的 情況下，可對所述實施例進行改變。
權利要求
1、一種光記錄介質，包括至少一個記錄有數據的記錄層，其中，記錄層的一個區(qū)的厚度小于記錄層的另一區(qū)的厚度。
2、 如權利要求1所述的光記錄介質，其中，由信號光與基準光之間的干 涉形成的干涉圖案被記錄為記錄層中的數據。
3、 如權利要求1所述的光記錄介質， 其中，數據被記錄在數據區(qū)中，以及其中，光記錄介質的附加信息被記錄在盤信息存儲區(qū)中，所述盤信息存 儲區(qū)的厚度小于數據區(qū)的厚度。
4、 如權利要求3所述的光記錄介質，其中，附加信息包括記錄層的記錄 條件和/或再現條件。
5、 如權利要求3所述的光記錄介質， 其中，光記錄介質具有盤的形狀，以及其中，盤信息存儲區(qū)形成在光記錄介質的外圓周部分。
6、 如權利要求3所述的光記錄介質， 其中，光記錄介質具有盤的形狀，以及其中，盤信息存儲介質形成在光記錄介質的內圓周部分。
7、 如權利要求3所述的光記錄介質，其中，在數據區(qū)的一個或多個局部 區(qū)中，按照點的形狀來形成盤信息存儲區(qū)。
8、 如權利要求3所述的光記錄介質，其中，附加信息包括光記錄介質的 特征信息，該特征信息包括光記錄介質的M數、選"^性和厚度。
9、 如權利要求3所述的光記錄介質，其中，附加信息包括與光記錄介質 中的記錄位置相應的地址的信息。
10、 如權利要求3所述的光記錄介質，其中，附加信息包括當數據被記 錄在數據區(qū)中時的光記錄介質的溫度的信息。
11、 一種光記錄介質的記錄和/或再現方法，包括 在光記錄介質的第一數據區(qū)中記錄和/或再現記錄條件；以及 在光記錄介質的第二數據區(qū)中記錄和/或再現用戶數據； 其中，第一數據區(qū)的厚度不同于第二數據區(qū)的厚度。
12、 如權利要求11所述的記錄和/或再現方法，其中，記錄條件包括光 記錄介質的特征信息，該特征信息包括光記錄介質的M數、選擇性和厚度。
13、 如權利要求11所述的記錄和/或再現方法，其中，記錄條件包括與光記錄介質中的記錄位置相應的地址的信息。
14、 如權利要求11所述的記錄和/或再現方法，其中，記錄條件包括當用戶數據被記錄在第二數據區(qū)中時的光記錄介質的溫度的信息。
15、 一種光記錄介質的記錄和/或再現設備，包括拾取單元，用于在光記錄介質的第 一數據區(qū)中記錄和/或再現記錄條件， 并在光記錄介質的第二數據區(qū)中記錄和/或再現用戶數據； 其中，第一數據區(qū)的厚度不同于第二數據區(qū)的厚度。
16、 如權利要求15所述的記錄和/或再現設備，其中，記錄條件包括光 記錄介質的特征信息，該特征信息包括光記錄介質的M數、選擇性和厚度。
17、 如權利要求15所述的記錄和/或再現設備，其中，記錄條件包括與 光記錄介質中的記錄位置相應的地址的信息。
18、 如權利要求15所述的記錄和/或再現設備，其中，記錄條件包括當 用戶數據被記錄在第二數據區(qū)中時的光記錄介質的溫度的信息。
19、 一種用于光記錄介質的再現方法，包括 通過用基準光照射記錄有記錄條件的信息存儲區(qū)來確定記錄條件； 基于確定的記錄條件來確定用于再現記錄在數據區(qū)中的數據的再現條件；以及通過用根據確定的再現條件產生的基準光照射數據區(qū)來再現記錄在數據 區(qū)中的數據。
20、 如權利要求19所述的再現方法，其中，記錄條件包括當預定數據 被記錄在數據區(qū)中時的光記錄介質的溫度的信息和/或與光記錄介質中的記 錄位置相應的地址的信息。
21、 如權利要求19所述的再現方法，其中，確定再現條件的步驟包括 計算當前溫度與當預定數據被記錄在數據區(qū)中時的溫度之間的溫度差； 根據計算的溫度差來計算光記錄介質的折射率和體積的改變；以及 基于計算的折射率和體積的改變來調整基準光的入射角和波長。
22、 一種光記錄介質的再現設備，包括讀取單元，用于通過用基準光照射數據區(qū)來再現記錄在數據區(qū)中的數據，并通過用基準光照射記錄有記錄條件且厚度小于所述數據區(qū)的厚度的盤信息存儲區(qū)來再現記錄條件；以及控制器，用于基于記錄條件來確定用于再現記錄在數據區(qū)中的數據的再 現條件，并根據確定的再現條件來控制基準光，以使其照射在數據區(qū)上。
23、 如權利要求22所述的再現設備，其中，記錄條件包括當預定數據 被記錄在數據區(qū)中時的光記錄介質的溫度的信息和/或與光記錄介質中的記 錄位置相應的地址的信息。
24、 如權利要求22所述的再現設備，還包括溫度測量單元，用于測量 光記錄介質的當前溫度，其中，控制器計算光記錄介質的當前溫度與包括在 記錄條件中的溫度之間的溫度差，根據所述溫度差來計算光記錄介質的折射 率和體積的改變，并基于計算的折射率和體積的改變來調整入射角和波長。
25、 如權利要求3所述的光記錄介質，其中，通過信號光與基準光之間 的干涉形成的干涉圖案被記錄為記錄層中的數據。
26、 一種全息記錄介質，包括 第一基底；全息記錄層，形成在第一基底上，包括數據區(qū)和信息存儲區(qū)；以及第二基底，形成在全息記錄層上，其中，數據區(qū)的厚度大于信息存儲區(qū)的厚度。
27、 如權利要求26所述的全息記錄介質，其中，信息存儲區(qū)包括涉及當 數據被記錄在數據區(qū)中時的全息記錄介質的溫度的信息。
28、 如權利要求26所述的全息記錄介質，其中，信息存儲區(qū)包括涉及與 記錄位置相應的地址的信息。
全文摘要
一種光記錄介質以及用于所述光記錄介質的記錄/再現方法和設備，在所述光記錄介質中，通過信號光與基準光之間的干涉形成的干涉圖案被記錄為數據。所述光記錄介質包括至少一個記錄有預定數據的記錄層，其中，記錄層的一部分的厚度大于記錄層的另一部分的厚度，其中，數據被記錄在較厚的區(qū)中，記錄條件和/或再現條件的附加信息被記錄在較薄的區(qū)中。
文檔編號G11B7/24GK101427310SQ200780013790
公開日2009年5月6日 申請日期2007年1月16日 優(yōu)先權日2006年5月4日
發(fā)明者崔鐘喆, 鄭文一, 鄭澤成 申請人:三星電子株式會社