專利名稱：光盤、及其再現(xiàn)裝置、記錄裝置、制造方法和集成電路的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光盤、及其再現(xiàn)裝置、記錄裝置、制造方法和其集成 電路。尤其涉及具有著作權(quán)保護(hù)用的信息或其功能(下面稱為著作權(quán)保護(hù) 信息與著作權(quán)保護(hù)功能。)的光盤、及其再現(xiàn)裝置、記錄裝置、制造方法 和集成電路
背景技術(shù)：
現(xiàn)在，光盤的存儲容量額外進(jìn)化。尤其是使用藍(lán)色激光記錄/再現(xiàn)的
Blu-ray Disc實現(xiàn)1層為25G字節(jié)、到2層為50G字節(jié)等極大的存儲量， 并記錄4小時以上的優(yōu)質(zhì)高視覺(high vision)映像。通過增加這種盤每 張的容量，不僅映像內(nèi)容期待、音樂、游戲或各種應(yīng)用程序利用中也期待。
但是，隨著存儲容量的增大，盤中收納的著作物的價值也變高。這里 成為問題的是記錄的數(shù)字著作物的著作權(quán)保護(hù)。
以前，收納于光盤中的著作物通過加密化記錄著作物，排除了著作物 的不正當(dāng)使用。但是，加密技術(shù)是在密鑰秘密性上成立的技術(shù)， 一旦密鑰 信息泄漏，則以后不可能保護(hù)著作物的著作權(quán)。從而，必需嚴(yán)格管理密鑰
曰息c
另外，在光盤中，加密化的著作物及其密鑰信息也記錄在盤上。因此， 利用通過再現(xiàn)光盤得到的再現(xiàn)信號，剝離原樣拷貝到母盤上的模擬拷貝或 保護(hù)膜等，剝出記錄面，將該剝出的記錄面進(jìn)行轉(zhuǎn)錄的方法，可不正當(dāng)復(fù) 制著作物。
現(xiàn)在，利用這些不正當(dāng)復(fù)制技術(shù)，CD或DVD中健全的著作物的流通被 阻礙，并成為大的障礙。
鑒于這些問題，公開如下技術(shù)，即通過利用激光照射來微調(diào)盤反射層 的一部分，實施盤單獨的記號，通過確認(rèn)該記號位置，判定是正規(guī)的盤還 是不正當(dāng)拷貝的盤(例如專利文獻(xiàn)1)。根據(jù)該方法，即便是由壓模制造的再現(xiàn)專用光盤，也可一個盤一個盤地實施記號，作為單獨的信息。作為主 信息記錄在光盤軌道中的標(biāo)志或空格串根據(jù)跟蹤再現(xiàn)時的再現(xiàn)信號，可原 樣拷貝到母盤上，但在盤成形之后，很難在與拷貝源的光盤同等的位置上 形成通過微調(diào)反射膜來生成的記號。通常，會與拷貝源的記號產(chǎn)生錯位。 本發(fā)明通過檢測所述記號的位置錯位，可判定是正規(guī)的盤還是不正當(dāng)?shù)?br> 盈:o
另外，公開了如下技術(shù)利用光盤的基板或保護(hù)膜等的光透過性記錄 體的折射率變化、消光系數(shù)變化、光透過率變化或反射率變化，對成形后 的盤追記單獨信息(例如專利文獻(xiàn)2)。該方法利用光透過性基板或保護(hù)膜 的光學(xué)常數(shù)因電子線照射或紫外線照射而變化，來實施記號。再現(xiàn)裝置在 檢測該標(biāo)志的情況下，只要確認(rèn)向盤的反射膜照射再現(xiàn)激光時的反射光的 急劇變化即可。即，由于使光透過性基板的光學(xué)特性變化，所以可作為再 現(xiàn)激光的反射光的強(qiáng)度來檢測。另外，由于利用對光透過性基板的作用來 實施記號，所以對剝出記錄表面并進(jìn)行轉(zhuǎn)錄的不正當(dāng)行為具有耐性。
另外，公開了如下方法作為再現(xiàn)專用盤的反射膜，形成追記型光盤 的反射膜，在盤形成之后，利用追記型光盤記錄裝置，記錄密鑰信息等盤 單獨的信息(例如專利文獻(xiàn)3)。追記型光盤通過記錄激光照射，利用記錄 膜的反射率變化，來記錄信息。因此，對剝離保護(hù)膜，剝出記錄層后進(jìn)行 轉(zhuǎn)錄的不正當(dāng)拷貝具有耐性。另外，由于可利用以前的追記型光盤記錄裝 置，所以具有不必用于記錄盤固有信息的特殊裝置的優(yōu)點。
專利文獻(xiàn)l:國際公開第96/016401號公報 專利文獻(xiàn)2:特開2002-15468號公報 專利文獻(xiàn)3:特開2000-113452號公報
利用反射膜的微調(diào)進(jìn)行記號的方法難以與原作一樣地復(fù)制記號的位 置精度，盡管容易判別不正當(dāng)盤，但使主信息的再現(xiàn)可靠性惡化。通常， 主信息通過糾錯編碼化，可彌補(bǔ)微調(diào)標(biāo)志引起的信息缺失，但通過記錄微 調(diào)標(biāo)志，會消耗主信息的再現(xiàn)余裕，該事實無法否認(rèn)。另外，必需用于微 調(diào)反射膜的特殊的記錄裝置。
另外，由于光盤的特性，很難說對根據(jù)再現(xiàn)信號來制作光盤母盤的模 擬拷貝等不正當(dāng)復(fù)制有充分的耐性。這是因為無論如何，在光盤的記錄層
16中形成的標(biāo)志或空格(space)的反射光強(qiáng)度(調(diào)制率)與激光微調(diào)部分的
反射光強(qiáng)度為相同程度的光盤中，可將基于微調(diào)的標(biāo)志作為通常的標(biāo)志或 空格來記錄記錄膜。另外，基于用于微調(diào)反射膜的記號，通過用電子顯微 鏡確認(rèn)記錄層表面，或確認(rèn)再現(xiàn)波形，可明確判斷其存在，存在構(gòu)成有惡 意的不正當(dāng)解析的標(biāo)的的可能性。
另外，就基于光透過基板的光學(xué)常數(shù)變化的記號而言，由于影響再現(xiàn) 激光照射的反射光，所以會使主信息的讀取精度惡化。另外，若確認(rèn)根據(jù) 再現(xiàn)激光照射的反射光得到的再現(xiàn)信號，則其存在明確判明，同樣存在構(gòu) 成不正當(dāng)解析的標(biāo)的的可能性。另外，為了在光透過基板上記錄信息，必 需特殊的記錄裝置。
另外，對于在標(biāo)志和空格的凹凸形狀的光盤基板上，形成追記用的反 射膜，并且在盤形成之后，利用追記光盤記錄裝置，來記錄密鑰信息的方 法，存在如下問題。例如，若在剝出記錄層，執(zhí)行基于轉(zhuǎn)錄的拷貝之后， 形成追記型光盤的反射膜，從正規(guī)盤中讀出密鑰信息，同樣由追記型光盤 的記錄裝置進(jìn)行記錄，則可容易地制作拷貝。另外，通過利用照射再現(xiàn)激 光得到的再現(xiàn)信號而原樣向母盤復(fù)制標(biāo)志和空格的所謂模擬拷貝，也可容 易地制作拷貝。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明鑒于以上問題作出，其目的在于提供一種富有向光盤記錄的著 作權(quán)保護(hù)信息或光盤具有的著作權(quán)保護(hù)功能的隱匿性和對光盤的不正當(dāng) 復(fù)制的耐性的光盤及其再現(xiàn)裝置、記錄裝置、制造方法、和執(zhí)行其再現(xiàn)或 記錄的集成電路。下面，公開其詳細(xì)手段。
本發(fā)明的光盤是一種可利用激光照射來再現(xiàn)和記錄信息的光盤，具備
第1記錄層與第2記錄層。第1記錄層將第1記錄標(biāo)志形成于螺旋狀軌道 中。第2記錄層處在第1記錄層的讀出面的深部或淺部，均未形成利用激
光照射來再現(xiàn)或記錄信息用的軌道和擺動軌道，通過激光照射，對應(yīng)于第 1記錄層的螺旋狀軌道上的規(guī)定位置，能夠形成在光盤的半徑方向定位的
第2記錄標(biāo)志。
本發(fā)明的另一光盤是一種可利用激光照射來再現(xiàn)和記錄信息的光盤，具備第1記錄層與第2記錄層。第1記錄層將第1記錄標(biāo)志形成于螺旋狀 軌道中。第2記錄層處在第1記錄層的讀出面的深部或淺部，均未形成利 用激光照射來再現(xiàn)或記錄信息用的軌道和擺動軌道，可記錄，并且，具有 對應(yīng)于第1記錄層的螺旋狀軌道上的規(guī)定位置、在光盤的半徑方向定位的
第2記錄標(biāo)志n
由此，在均未形成再現(xiàn)或記錄信息用的軌道和擺動軌道的第2記錄層
中，在與第l記錄層的軌道位置大致相同的半徑位置，形成記錄標(biāo)志。因 此，可隱匿光盤中的著作權(quán)保護(hù)信息或著作權(quán)保護(hù)功能，并且，可使對光 盤的不正當(dāng)復(fù)制的耐性提高。
另外，每隔規(guī)定間隔，賦予同步碼后記錄第1記錄層的第1記錄標(biāo)志，
與第1記錄層賦予同步碼的規(guī)定間隔同步而記錄第2記錄層的第2記錄標(biāo)
志o
由此，由于與第l記錄層的同步碼同步，在第2記錄層中記錄記錄標(biāo) 志，所以不必向第2記錄層的記錄標(biāo)志賦予特殊的同步碼。
另外，每隔規(guī)定間隔，賦予同步碼后記錄第1記錄層的第1記錄標(biāo)志， 第2記錄層的第2記錄標(biāo)志包含由多個比特構(gòu)成的所述光盤的識別信息， 識別信息與第1記錄層的賦予同步碼的規(guī)定間隔同步，至少每1比特來記 錄。
由此，可記錄多個比特的識別信息。
另夕卜，第2記錄層的第2記錄標(biāo)志包含光盤的識別信息，該識別信息
重復(fù)記錄在第2記錄層的多個區(qū)域中。
由此，即便盤中存在傷痕等缺陷，也可穩(wěn)定地再現(xiàn)識別信息。 另外，第2記錄層的第2記錄標(biāo)志由頻譜擴(kuò)散后記錄的信息構(gòu)成。 由此，因為使第2記錄層的記錄標(biāo)志被頻率地解析而能夠保護(hù)。 另外，第l記錄層具有地址信息與光盤的識別信息，識別信息是利用
根據(jù)地址信息生成的模擬隨機(jī)數(shù)系列而被頻譜擴(kuò)散后的信息。 由此，使逆解析的難度提高。
另外，以與第1記錄層的第1記錄標(biāo)志不同的調(diào)制方式來記錄第2記 錄層的第2記錄標(biāo)志。
另外，所述調(diào)制方式是PE調(diào)制。由此，第2記錄標(biāo)志可不影響第1記錄層的第1記錄標(biāo)志的再現(xiàn)精度。 另外，與再現(xiàn)第1記錄層的第1記錄標(biāo)志得到的PLL時鐘同步來記錄
第2記錄層的第2記錄標(biāo)志。
由此，第2記錄層不持有軌道，記錄標(biāo)志也僅間歇地持有，但可利用 與第1記錄層的第1記錄標(biāo)志之間的位置的對應(yīng)來再現(xiàn)。
另外，第2記錄層的第2記錄標(biāo)志的半徑方向的寬度比第1記錄層的 第1記錄標(biāo)志的半徑方向的寬度大。
由此，可在記錄第2記錄層的第2記錄標(biāo)志的光源中使用成本低的、 波長長的激光，可使第2記錄層的記錄標(biāo)志的檢測精度提高。
另外，第2記錄層的第2記錄標(biāo)志的半徑方向的寬度比第1記錄層的 第1記錄標(biāo)志的半徑方向的寬度小。
由此，可使第2記錄層的第2記錄標(biāo)志的隱匿性提高，同時，可削減 第2記錄層的記錄標(biāo)志的記錄區(qū)域，并使檢測所需的時間縮小。
另外，第2記錄層的第2記錄標(biāo)志的半徑方向的寬度比第1記錄層的 第1記錄標(biāo)志的軌道間距大。
由此，可在記錄第2記錄層的第2記錄標(biāo)志的光源中使用成本低的、 波長長的激光，可使第2記錄層的記錄標(biāo)志的檢測精度提高。
另外，第2記錄層的第2記錄標(biāo)志的半徑方向的寬度比第1記錄層的 第l記錄標(biāo)志的軌道間距小。
由此，可使第2記錄層的第2記錄標(biāo)志的隱匿性提高，同時，可削減 第2記錄層的記錄標(biāo)志的記錄區(qū)域，并使檢測所需的時間縮小。
另外，第1記錄層的第1記錄標(biāo)志的軌道與第2記錄層的第2記錄標(biāo) 志的軌道始終為相同半徑位置。
另外，第2記錄層的第2記錄標(biāo)志僅形成于與記錄第1記錄層的控制 數(shù)據(jù)的區(qū)域的位置相對應(yīng)的半徑位置上。
由此，當(dāng)光盤起動時，在根據(jù)第1記錄層的第1記錄標(biāo)志再現(xiàn)控制數(shù) 據(jù)的同時，還可根據(jù)該再現(xiàn)信號的反射率的變動來再現(xiàn)第2記錄層的第2 記錄標(biāo)志。另外，即便賦予第l記錄層的記錄標(biāo)志，也不必設(shè)置用于再現(xiàn) 其的特別時間，也不會使起動時間等增加。
另外，記錄第2記錄層的第2記錄標(biāo)志的周期是第1記錄層的第1記錄標(biāo)志及其空格的周期的3倍以上。
另外，記錄第2記錄層的第2記錄標(biāo)志的周期是記錄第1記錄層的第 1記錄標(biāo)志的周期的整數(shù)倍。
另夕卜，第2記錄層的第2記錄標(biāo)志比第1記錄層的第1記錄標(biāo)志的最
長標(biāo)志長度長。
另外，第2記錄層的第2記錄標(biāo)志是第1記錄層的第1記錄標(biāo)志的最 長標(biāo)志長度的3倍以上。
由此，可使對光盤的不正當(dāng)復(fù)制的耐性提高。
另外，根據(jù)由第1記錄層的第1記錄標(biāo)志的再現(xiàn)信號之中心位置控制 的追蹤頻帶外的頻率所調(diào)制的信號，生成第2記錄層的第2記錄標(biāo)志。 由此，可不會因第2記錄標(biāo)志而影響第1記錄層的記錄標(biāo)志的再現(xiàn)精度。
另外，第l記錄層的第l記錄標(biāo)志是加密化后的內(nèi)容信息，第2記錄 層的第2記錄標(biāo)志記錄解密密鑰。
另外，第l記錄層的第l記錄標(biāo)志是加密化后的內(nèi)容信息，第2記錄 層的第2記錄標(biāo)志是光盤的真?zhèn)涡畔ⅰ?br> 由此，可防止不正當(dāng)篡改光盤的識別信息或記錄不正當(dāng)?shù)奈锢砦恢眯畔ⅰ?br> 另外，第2記錄層在形成第2記錄標(biāo)志的區(qū)域的內(nèi)周側(cè)或外周側(cè)，具 有在半徑方向形成了長的預(yù)記錄標(biāo)志的記號區(qū)域，第2記錄層的第2記錄 標(biāo)志包含預(yù)記錄標(biāo)志的物理位置信息，物理位置信息是與以第1記錄層的 第1記錄標(biāo)志的一定位置為基準(zhǔn)的第2記錄層的預(yù)記錄標(biāo)志的距離或角度 相關(guān)的信息。
由此，可作為與以第1記錄層的所述第1記錄標(biāo)志為基準(zhǔn)的長度或角 度相關(guān)的信息來記錄第2記錄層的記號的物理位置信息。
另外，預(yù)記錄標(biāo)志的半徑方向的長度比第1記錄層的所述軌道的寬度長。
由此，第2記錄層的記號可在盤的半徑方向形成作為長的記錄標(biāo)志。 另外，第1記錄層的第1記錄標(biāo)志每隔規(guī)定間隔包含地址信息，物理 位置信息以與第1記錄層的第1記錄標(biāo)志的所述地址信息的位置帶有關(guān)聯(lián)而被記錄。
由此，能夠以每個盤固有的地址位置來檢測第2記錄層的記號的物理 位置信息。
另外，物理位置信息以被加密化或賦予數(shù)字署名而被記錄。 由此，物理位置信息不記錄不正當(dāng)?shù)拇鄹幕虿徽?dāng)?shù)男畔ⅰ?br> 另外，當(dāng)設(shè)第1記錄層與第2記錄層的層間隔為M、記錄第l記錄標(biāo) 志時照射的激光的波長為A、照射激光的光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑為NA時，M 為入/(NA"2)以下。
由此，可更簡單且可靠地進(jìn)行第2記錄層的第2記錄標(biāo)志的記錄。 本發(fā)明的光盤再現(xiàn)裝置中，該光盤具有由第l記錄標(biāo)志形成螺旋狀 軌道的第l記錄層；和從第l記錄層的讀出面向深部或淺部、形成包含光 盤識別信息的第2記錄標(biāo)志的第2記錄層，該光盤再現(xiàn)裝置具備聚焦部、 跟蹤部、再現(xiàn)信號抽取部、第1再現(xiàn)部與第2再現(xiàn)部。聚焦部根據(jù)第1記 錄層的軌道，控制激光照射位置。跟蹤部根據(jù)第1記錄層的所述軌道，控 制激光照射位置。再現(xiàn)信號抽取部根據(jù)聚焦部和跟蹤部，對光盤執(zhí)行激光 照射，從激光照射的反射光中抽取再現(xiàn)信號。第l再現(xiàn)部根據(jù)再現(xiàn)信號的 第1振幅分量，再現(xiàn)第1記錄層的第1記錄標(biāo)志。第2再現(xiàn)部從比再現(xiàn)信 號的第1振幅分量小的第2振幅分量，再現(xiàn)第2記錄層的第2記錄標(biāo)志， 抽取識別信息。
由此，能夠以再現(xiàn)第1記錄層時的第2振幅分量來檢測記錄在與第1 記錄層的軌道的半徑位置大致相同的半徑位置的第2記錄層中的第2記錄 標(biāo)志。因此，可以隱匿光盤中的著作權(quán)保護(hù)信息或著作權(quán)保護(hù)功能的同時， 還能夠可靠地抽取光盤的識別信息。
另外，光盤的第2記錄層具有在半徑方向記錄了長的預(yù)記錄標(biāo)志的記 號區(qū)域，識別信息包含表示以第1記錄層的第1記錄標(biāo)志的一定位置為基 準(zhǔn)的預(yù)記錄標(biāo)志記錄時的物理位置之第1物理位置信息。該再現(xiàn)裝置還具 備物理位置信息抽取部，抽取表示以第1記錄層的第1記錄標(biāo)志的一定 位置為基準(zhǔn)的預(yù)記錄標(biāo)志的再現(xiàn)時的物理位置之第2物理位置信息；比較
驗證部，比較驗證第1物理位置信息與第2物理位置信息；和再現(xiàn)停止部，
根據(jù)比較驗證部的結(jié)果，停止再現(xiàn)動作。由此，可比較記錄時的物理位置信息與再現(xiàn)時的物理位置信息，執(zhí)行 是否是不正當(dāng)復(fù)制的盤的判定。
所述再現(xiàn)裝置還具備聚焦位置移動部，從第1記錄層向第2記錄層 移動聚焦位置；和聚焦存儲部，在移動聚焦位置之后，存儲第2記錄層的 聚焦控制信息。物理位置信息抽取部在聚焦位置移動之后，根據(jù)由聚焦存
儲部存儲的聚焦控制信息，抽取第2物理位置信息。
由此，可事先存儲第2記錄層的聚焦位置，根據(jù)記錄的聚焦位置，從 第1記錄層向第2記錄層移動聚焦位置，抽取第2記錄層的物理位置信息， 可大幅度地縮短聚焦位置向第2記錄層的移動時間。
所述再現(xiàn)裝置還具備抽取以第1記錄層的第1記錄標(biāo)志的規(guī)定間隔賦 予的地址信息之地址抽取部。地址抽取部抽取用于抽取第2物理位置信息 的目的地址。物理位置信息抽取部抽取與從第1記錄層的目的地址的扇區(qū) 位置至第2記錄層的預(yù)記錄標(biāo)志的距離或角度相關(guān)的信息，作為第2物理 位置信息。比較驗證部將第1物理位置信息即與預(yù)記錄標(biāo)志記錄時的距離 或角度相關(guān)的信息與由物理位置信息抽取部抽取的第2物理位置信息即預(yù) 記錄標(biāo)志的再現(xiàn)時的距離或角度信息進(jìn)行比較驗證。再現(xiàn)停止部在比較驗 證部的結(jié)果、判定為不一致的情況下，使再現(xiàn)動作停止。
由此，可取得與以第1記錄層的記錄標(biāo)志為基準(zhǔn)的第2記錄層的記號 的距離或角度相關(guān)的信息，作為物理位置信息。
另外，第2再現(xiàn)部具有同步碼檢測部，從第l記錄層的第l記錄標(biāo) 志中檢測同步碼；和相關(guān)系列生成部，與檢測同步碼的定時同步，生成相 關(guān)系列，根據(jù)該相關(guān)系列與第2振幅分量的相關(guān)運算，抽取所述識別信息。
由此，可利用記錄在第l記錄層中的同步碼，再現(xiàn)第2記錄層的記錄
標(biāo)志o
另外，第2再現(xiàn)部還具有PE調(diào)制所述相關(guān)系列的PE調(diào)制部，根據(jù)PE 調(diào)制后的相關(guān)系列與第2振幅分量的相關(guān)運算，抽取所述識別信息。
所述再現(xiàn)裝置還具備解讀部，解讀加密化后記錄的所述識別信息； 和再現(xiàn)停止部，根據(jù)該解讀部的結(jié)果，停止再現(xiàn)動作。
所述再現(xiàn)裝置還具備署名驗證部，驗證賦予數(shù)字署名后記錄的識別 信息的數(shù)字署名；和再現(xiàn)停止部，根據(jù)署名驗證部的結(jié)果，停止再現(xiàn)動作。本發(fā)明的光盤記錄裝置，該光盤具有由第1記錄標(biāo)志形成螺旋狀軌道 的第l記錄層；和從第l記錄層的讀出面向深部或淺部、可利用激光照射 形成記錄標(biāo)志的第2記錄層，該光盤記錄裝置具備聚焦部、跟蹤部與識別 信息記錄部。聚焦部向第l記錄層控制激光照射的聚焦位置。跟蹤部根據(jù) 第l記錄層的軌道，控制激光照射的半徑位置。識別信息記錄部根據(jù)由跟 蹤部執(zhí)行的控制，通過在第2記錄層中形成第2記錄標(biāo)志，記錄光盤的識 別信息。
由此，在均未形成信息的再現(xiàn)或記錄用的軌道和擺動軌道的第2記錄
層中，在與第l記錄層的軌道位置大致相同的半徑位置，形成記錄標(biāo)志。 因此，可隱匿光盤中的著作權(quán)保護(hù)信息或著作權(quán)保護(hù)功能，并且，可使對 光盤的不正當(dāng)復(fù)制的耐性提高。
所述光盤記錄裝置還具備記號部，在第2記錄層中記錄預(yù)記錄標(biāo)志； 和位置信息抽取部，抽取預(yù)記錄標(biāo)志的、以第l記錄層的第l記錄標(biāo)志的 一定位置為基準(zhǔn)的物理位置信息，所述識別信息包含物理位置信息。
由此，可對第2記錄層執(zhí)行記號，以第l記錄層的第l記錄標(biāo)志為基
準(zhǔn)，抽取所述記號的物理位置信息，并將所述物理位置信息記錄作為第2
記錄層的記錄標(biāo)志。
另外，記號部利用CAV (Constant Angular Velocity)方式的旋轉(zhuǎn)控制， 在光盤的所述第2記錄層中記錄預(yù)記錄標(biāo)志，以在光盤的半徑方向成為第 1記錄層的第1記錄標(biāo)志的軌道的寬度以上的方式來記錄預(yù)記錄標(biāo)志。
由此，可在盤的半徑方向形成長的記錄標(biāo)志，作為第2記錄層的記號。
所述光盤記錄裝置還具備地址抽取部，從第1記錄層的所述第1記 錄標(biāo)志中抽取地址信息。另外，位置信息抽取部根據(jù)抽取到的地址信息， 以第1記錄層的所述一定位置為基準(zhǔn)，抽取與第2記錄層的預(yù)記錄標(biāo)志的 距離或角度相關(guān)的信息。
由此，作為物理位置信息，可抽取與以第l記錄層的記錄標(biāo)志為基準(zhǔn) 的距離或角度相關(guān)的信息。
所述光盤記錄裝置還具備從第1記錄層的第1記錄標(biāo)志中抽取地址信 息的地址抽取部，所述物理位置信息是將第1記錄層的所述一定位置與地 址信息帶有對應(yīng)的信息。由此，可根據(jù)盤固有的地址位置來檢測第2記錄層的記號位置。 所述光盤記錄裝置還具備聚焦移動部，用于從第1記錄層向第2記
錄層移動聚焦控制；和聚焦存儲部，存儲向第2記錄層的聚焦控制結(jié)果。
所述位置信息抽取部根據(jù)由聚焦存儲部存儲的聚焦控制結(jié)果，抽取所述預(yù) 記錄標(biāo)志的所述物理位置信息。
由此，可事先存儲第2記錄層的聚焦位置，大幅度地縮短用于檢測第 2記錄層的記號的物理位置信息的從第1記錄層向第2記錄層的聚焦位置 的移動時間。
另外，跟蹤部還具備跟蹤存儲部，在執(zhí)行按照第1記錄層的第1記錄 標(biāo)志的跟蹤控制的同時，存儲利用跟蹤控制抽取的跟蹤控制信息。所述識 別信息記錄部通過根據(jù)存儲在所述跟蹤存儲部中的跟蹤控制信息而執(zhí)行 激光照射的位置的控制，在第2記錄層中記錄識別信息。
由此，可在與第1記錄層的軌道大致相同的半徑位置的第2記錄層中， 形成記錄標(biāo)志。
所述光盤記錄裝置還具備使聚焦位置從第1記錄層移動到第2記錄 層的聚焦移動部；和聚焦存儲部，在由聚焦移動部從第1記錄層向第2記 錄層移動完成聚焦位置之后，存儲第2記錄層的聚焦控制信息。所述識別 信息記錄部根據(jù)存儲在聚焦存儲部中的聚焦控制信息，將聚焦控制從第1 記錄層移動到第2記錄層，在第2記錄層中記錄識別信息。
由此，可大幅度地縮短用于在第2記錄層中形成記錄標(biāo)志的、從第l 記錄層向第2記錄層的聚焦位置的移動時間。
另外，第l記錄層是由再現(xiàn)專用的記錄膜構(gòu)成的記錄層，所述識別信 息記錄部通過利用聚焦部聚焦到第1記錄層、在第2記錄層中聚焦位置錯 位的狀態(tài)下執(zhí)行激光照射，來在第2記錄層中記錄所述識別信息。
由此，可在再現(xiàn)第l記錄層的同時，利用聚焦位置錯位的散焦記錄激 光照射，在與第1記錄層的軌道大致相同的半徑位置的第2記錄層中形成 第2記錄標(biāo)志。
另外，以規(guī)定間隔賦予同步碼后記錄第l記錄層的第l記錄標(biāo)志，所 述識別信息記錄部與賦予第1記錄標(biāo)志的同步碼之規(guī)定間隔同步地、在所 述規(guī)定間隔上平均記錄至少1比特所述識別信息。由此，由于可與記錄在第1記錄層中的同步碼同步而在第2記錄層中
形成記錄標(biāo)志，所以第2記錄層的記錄標(biāo)志不必需要ilt殊的同步碼。
另外，所述識別信息重復(fù)記錄在第2記錄層的多個區(qū)域中。 由此，即便盤中存在傷痕等缺陷，也可穩(wěn)定地再現(xiàn)識別信息。 所述光盤記錄裝置還具備執(zhí)行所述識別信息的加密化的加密部，識別
信息記錄部記錄由加密部加密化后的識別信息。
所述光盤記錄裝置還具備生成所述識別信息的數(shù)字署名的署名生成
部，所述識別信息記錄部記錄由署名生成部賦予了數(shù)字署名的識別信息。 由此，可防止記錄的識別信息的不正當(dāng)篡改。
所述光盤記錄裝置還具備同步碼檢測部，檢測賦予第1記錄層的第 l記錄標(biāo)志的同步碼；模擬隨機(jī)數(shù)系列生成部，與檢測同步碼的定時同步， 生成模擬隨機(jī)數(shù)系列；和頻譜擴(kuò)散部，利用模擬隨機(jī)數(shù)系列，對所述識別
信息實施頻譜擴(kuò)散。所述識別信息記錄部記錄頻譜擴(kuò)散后的所述識別信
白
由此，由于頻譜擴(kuò)散后記錄第2記錄層中記錄的第2記錄標(biāo)志，所以 可防止有惡意的頻率解析。
所述光盤記錄裝置還具備PE調(diào)制部，對頻譜擴(kuò)散后的識別信息實施 PE調(diào)制，所述識別信息記錄部記錄頻譜擴(kuò)散且實施PE調(diào)制后的識別信息。
由此，由于利用PE調(diào)制，不會使再現(xiàn)第1記錄層時的調(diào)制率變化的 部分與不變化的部分變?yōu)橄嗤L度，再現(xiàn)第1記錄層的第1記錄標(biāo)志時的 再現(xiàn)信號的中心位置不會變化，所以不會影響第1記錄層的再現(xiàn)精度。
在所述光盤記錄裝置中，所述識別信息記錄部至少配置在與跟蹤第1 記錄層的第1記錄標(biāo)志的頭相同的頭中。
由此，可容易且低成本地導(dǎo)入形成可隱匿光盤中的著作權(quán)保護(hù)信息或 著作權(quán)保護(hù)功能、并且使對光盤的不正當(dāng)復(fù)制的耐性提高的光盤構(gòu)造之裝 置。
在所述光盤記錄裝置中，還當(dāng)設(shè)光盤的第1記錄層與第2記錄層的層 間隔為M、記錄第1記錄標(biāo)志時照射的激光波長為入、照射激光的光學(xué)系 統(tǒng)的數(shù)值孔徑為NA時，M為入/(NA、)以下。
由此，可更簡單且可靠地進(jìn)行第2記錄層的第2記錄標(biāo)志的記錄。本發(fā)明的光盤制造方法具備校對環(huán)規(guī)(master ring)步驟、第1記錄 層生成步驟、第2記錄層生成步驟、跟蹤步驟、和識別信息記錄步驟。在 校對環(huán)規(guī)步驟中，形成第l記錄標(biāo)志，制作形成螺旋狀軌道構(gòu)造的光盤的 壓模。在第l記錄層生成步驟中，在光盤的基板上，在利用壓模壓印后， 賦予反射膜，形成第l記錄層。在第2記錄層生成步驟中，從利用壓模進(jìn) 行壓印的方向，向第l記錄層的淺部或深部，形成賦予可利用激光照射記 錄記錄標(biāo)志的記錄膜的第2記錄層。在跟蹤步驟，執(zhí)行按照第l記錄層的 第l記錄標(biāo)志的跟蹤控制。在識別信息記錄步驟中，通過根據(jù)跟蹤步驟的 跟蹤控制來在第2記錄層上形成第2記錄標(biāo)志，記錄光盤的識別信息。
由此，在均未形成信息的再現(xiàn)或記錄用的軌道和擺動軌道的第2記錄 層中，在與第l記錄層的軌道位置大致相同的半徑位置，能夠形成記錄標(biāo)
志。因此，可隱匿光盤中的著作權(quán)保護(hù)信息或著作權(quán)保護(hù)功能，并且，可 使對光盤的不正當(dāng)復(fù)制的耐性提高。
本發(fā)明的光盤制造方法還具備記號步驟與位置信息抽取步驟。在記號 步驟中，在由所述識別信息記錄步驟記錄識別信息之前，在第2記錄層上 記錄預(yù)記錄標(biāo)志。在位置信息抽取步驟中，抽取由記號步驟記錄在第2記 錄層中的預(yù)記錄標(biāo)志的、以第1記錄層的第1記錄標(biāo)志的一定位置為基準(zhǔn) 的物理位置信息。以包含物理位置信息的方式來記錄識別信息。
由此，可在第2記錄層中實現(xiàn)了記號之后，以第l記錄層的記錄標(biāo)志 為基準(zhǔn)，抽取第2記錄層的記號的物理位置。因此，該物理信息變?yōu)槊總€ 光盤固有的值，必需使第1記錄層的第1記錄標(biāo)志與第2記錄層的第2記 錄標(biāo)志位置相符合，可作為實質(zhì)上不能復(fù)制的信息來記錄。
另外，在所述記號步驟中，通過對光盤執(zhí)行基于CAV(Constant Angular Velocity)控制的旋轉(zhuǎn)控制，在所述第2記錄層中記錄所述預(yù)記 錄標(biāo)志，在光盤的半徑方向，以第l記錄層的第l記錄標(biāo)志的軌道寬度以 上的寬度，來記錄所述預(yù)記錄標(biāo)志。
由此，由于第2記錄層的記號能夠在盤的半徑方向形成作為長的記錄 標(biāo)志，所以即便在使激光照射斑點從第1記錄層向第2記錄層移動的情況 下，斑點位置在半徑方向上稍稍不同，也可穩(wěn)定檢測第2記錄層的記號位 置。
26所述光盤制造方法還具備聚焦移動步驟，用于從第1記錄層向第2 記錄層移動聚焦控制；和聚焦存儲步驟，在從第1記錄層向第2記錄層的 聚焦控制的移動完成之后，存儲對第2記錄層的聚焦控制結(jié)果。在所述位 置信息抽取步驟中，根據(jù)由聚焦存儲步驟存儲的聚焦控制結(jié)果，從第l記
錄層向第2記錄層移動聚焦控制，以第1記錄層的第1記錄標(biāo)志的所述一 定位置為基準(zhǔn)，抽取第2記錄層的所述預(yù)記錄標(biāo)志的物理位置信息。
由此，通常在聚焦位置的移動中，例如在Blu-ray盤中，需要數(shù)100 毫秒程度的時間，但在使聚焦位置從第1記錄層向第2記錄層移動的情況 下，由于可使用事先存儲的第2記錄層的聚焦位置，所以可大幅度地縮短 移動時間。
所述光盤制造方法還具備地址抽取步驟，從第1記錄層的第1記錄標(biāo) 志中抽取地址信息。在所述位置信息抽取步驟中，根據(jù)由地址抽取步驟抽 取出的地址信息，以第1記錄層的所述一定位置為基準(zhǔn)，抽取與第2記錄 層的所述預(yù)記錄標(biāo)志的距離或角度相關(guān)的信息。
由此，將物理位置信息作為距離或角度的信息，固有地記錄在盤中。
所述光盤制造方法還具備地址抽取步驟，從第1記錄層的第1記錄標(biāo) 志中抽取地址信息。所述物理位置信息是與由地址抽取步驟抽取出的第1 記錄層的地址信息帶有對應(yīng)的信息。
由此，可從盤固有的地址位置取得物理位置信息。
另外，所述跟蹤步驟具有跟蹤存儲步驟，在執(zhí)行按照第1記錄層的第 1記錄標(biāo)志的跟蹤控制的同時，存儲利用跟蹤控制抽取的跟蹤控制信息。 在所述識別信息記錄步驟中，通過根據(jù)跟蹤存儲步驟中存儲的跟蹤控制信 息來控制激光照射位置，在第2記錄層中記錄所述識別信息。
由此，由于利用第1記錄層的跟蹤位置在第2記錄層中形成第2記錄 標(biāo)志，所以可在與第1記錄層的軌道大致相同的半徑位置的第2記錄層中
開多成記錄標(biāo)志o
所述光盤制造方法還具備從第1記錄層向第2記錄層移動聚焦位置 的聚焦移動步驟；和聚焦存儲步驟，在由聚焦移動步驟從第l記錄層向第 2記錄層移動完成聚焦位置之后，存儲所述第2記錄層的所述聚焦控制信 息。所述識別信息記錄步驟通過根據(jù)聚焦存儲步驟中存儲的聚焦控制信息而從第1記錄層向第2記錄層移動聚焦位置，在第2記錄層中記錄所述識 別信息。
由此，由于事先存儲第2聚焦位置，以存儲的聚焦位置從第1記錄層 移動到第2記錄層，所以可大幅度地縮短移動時間。
所述光盤制造方法還具備向第1記錄層聚焦激光照射的聚焦步驟。所 述識別信息記錄步驟在聚焦步驟中，在聚焦到第1記錄層的狀態(tài)下，利用 在第2記錄層中聚焦位置錯位的激光照射，記錄所述識別信息。此時，第 1記錄層是由再現(xiàn)專用的記錄膜構(gòu)成的記錄層。
由此，可在與第1記錄層的軌道位置大致相同位置的第2記錄層中形 成第2記錄標(biāo)志。
另外，以規(guī)定間隔賦予同步碼后記錄第l記錄層的第l記錄標(biāo)志，與 所述規(guī)定間隔同步而平均至少1比特記錄所述識別信息。
由此，由于利用第1記錄層的同步碼來向第2記錄層賦予記錄標(biāo)志， 所以記錄在第2記錄層中的記錄標(biāo)志不需要特殊的同步碼。
另外，在所述識別信息記錄步驟中，所述識別信息重復(fù)記錄在多個區(qū) 域中。
由此，即便盤中存在傷痕等缺陷(defect)，也可穩(wěn)定地再現(xiàn)識別信息。 另外，所述光盤制造方法還具備執(zhí)行所述識別信息的加密化的加密化
歩驟，在所述識別信息記錄步驟中，記錄由加密步驟加密化后的識別信息。 另外，所述光盤制造方法還具備生成所述識別信息的數(shù)字署名的署名
生成步驟，在所述識別信息記錄步驟中，記錄由署名生成步驟賦予了數(shù)字
署名的識別信息。
由此，可防止篡改識別信息或制作不正當(dāng)?shù)淖R別信息。 所述光盤制造方法還具備頻譜擴(kuò)散步驟，對所述識別信息實施頻譜擴(kuò)
散，在所述識別信息記錄步驟中，記錄利用頻譜擴(kuò)散步驟頻譜擴(kuò)散后的識
別信息。
由此，可利用頻譜擴(kuò)散防止頻率地解析第2記錄層的記錄標(biāo)志。 所述光盤制造方法還具備PE調(diào)制步驟，對所述識別信息實施PE調(diào)制， 在所述識別信息記錄步驟中，記錄在PE調(diào)制步驟中PE調(diào)制后的識別信息。 由此，可利用第2記錄層的第2記錄標(biāo)志，防止使第l記錄層的再現(xiàn)精度惡化。
另外，在第2記錄層生成步驟中，形成第2記錄層，使得當(dāng)設(shè)第l記 錄層與第2記錄層的層間隔為M、記錄第1記錄標(biāo)志時照射的激光波長為
入、照射激光的光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑為NA時，M為A/(NA'2)以下。 由此，可更簡單且可靠地進(jìn)行第2記錄層的第2記錄標(biāo)志的記錄。 并且，在所述識別信息記錄步驟中，將第2記錄層的第2記錄標(biāo)志記
錄在與用于跟蹤第1記錄層的第1記錄標(biāo)志的頭相同的頭中。
由此，可更簡單且可靠地進(jìn)行第2記錄層的第2記錄標(biāo)志的記錄。 本發(fā)明的集成電路是一種執(zhí)行光盤的再現(xiàn)的集成電路，該光盤具有
由第1記錄標(biāo)志形成螺旋狀軌道的第1記錄層；和從所述第1記錄層的讀
出面向深部或淺部、形成包含光盤的識別信息的第2記錄標(biāo)志的第2記錄 層，該集成電路具備聚焦部、跟蹤部、再現(xiàn)信號抽取部、第l再現(xiàn)部與第 2再現(xiàn)部。聚焦部向第1記錄層控制激光照射的聚焦位置。跟蹤部根據(jù)第 1記錄層的軌道，控制激光照射位置。再現(xiàn)信號抽取部根據(jù)聚焦部和跟蹤 部，對光盤執(zhí)行激光照射，從激光照射的反射光中，抽取再現(xiàn)信號。第1 再現(xiàn)部根據(jù)再現(xiàn)信號的第1振幅分量，再現(xiàn)第1記錄層的第1記錄標(biāo)志。 第2再現(xiàn)部從比再現(xiàn)信號的第1振幅分量小的第2振幅分量，再現(xiàn)第2記 錄層的第2記錄標(biāo)志，抽取識別信息。
由此，可在隱匿光盤中的著作權(quán)保護(hù)信息或著作權(quán)保護(hù)功能的同時， 可靠地抽取光盤的識別信息。
本發(fā)明的另一集成電路是一種執(zhí)行光盤的記錄的集成電路，該光盤具 有由第1記錄標(biāo)志形成螺旋狀軌道的第1記錄層；和從所述第1記錄層 的讀出面向深部或淺部、可利用激光照射形成記錄標(biāo)志的第2記錄層，該 集成電路具備聚焦部、跟蹤部、和識別信息記錄部。聚焦部向第l記錄層 控制激光照射的聚焦位置。跟蹤部根據(jù)第1記錄層的軌道，控制激光照射 的半徑位置。識別信息記錄部根據(jù)跟蹤部執(zhí)行的控制，通過在第2記錄層 中形成第2記錄標(biāo)志，記錄光盤的識別信息。
由此，在均未形成信息的再現(xiàn)或記錄用的軌道和擺動軌道的第2記錄 層中，在與第l記錄層的軌道位置大致相同的半徑位置，形成記錄標(biāo)志。 因此，可隱匿光盤中的著作權(quán)保護(hù)信息或著作權(quán)保護(hù)功能，并且，可使對
29光盤的不正當(dāng)復(fù)制的耐性提高。 發(fā)明的效果
根據(jù)本發(fā)明的光盤、其制造方法、記錄裝置、再現(xiàn)裝置及其集成電路， 可提供一種光盤，在持有第1記錄層與第2記錄層的光盤的第2記錄層中， 在與第l記錄層的軌道位置大致相同的位置，形成記錄標(biāo)志，記錄識別信息。
由此，若作為第2記錄標(biāo)志，以通常跟蹤控制頻帶外的頻率進(jìn)行記錄， 則不可能執(zhí)行對第2記錄標(biāo)志的跟蹤控制后拷貝。
另外，即便不使用伺服的跟蹤外的頻率，也由于在從第l記錄層至第 2記錄層的1個軌道的范圍內(nèi)必需切換聚焦位置，所以事實上難以跟蹤至 第2記錄標(biāo)志，從而不能拷貝第2記錄層的記錄標(biāo)志。
另外，由于看到再現(xiàn)第l記錄層時的調(diào)制率的微小變化后，再現(xiàn)第2 記錄層的記錄標(biāo)志，所以第1調(diào)制率的微小變化在調(diào)制率通常引起的誤差 范圍內(nèi)若被控制，則可處理為不但不能復(fù)制，而且作為即便利用信號解析 也不能發(fā)現(xiàn)的不可視信息。
另外，若利用本發(fā)明的光盤、其制造方法、記錄裝置、再現(xiàn)裝置，則 可在第2記錄層的記號區(qū)域中，在半徑方向上形成長的預(yù)記錄標(biāo)志，以第 1記錄層的記錄標(biāo)志或引導(dǎo)溝為基準(zhǔn)，抽取所述記號的物理位置信息，記 錄在第2記錄層的擺動區(qū)域中，或記錄在與第1軌道的半徑位置大致相等 的第2記錄層中。
為了以第1記錄層的記錄標(biāo)志或引導(dǎo)溝為基準(zhǔn)來檢測所述記號的物理 位置信息，即便要不正當(dāng)?shù)貜?fù)制，也必需使第l記錄層的記錄標(biāo)志或引導(dǎo) 溝與第2記錄層的記號位置一致，事實上，這些位置關(guān)系極難復(fù)制。
另外，記錄時檢測到的記號的物理位置信息，由于加密化或賦予數(shù)字 署名或頻譜擴(kuò)散后記錄，所以不可能篡改該記錄時的物理位置信息。
如上所述，若利用本發(fā)明，則可在提供不能不正當(dāng)?shù)貜?fù)制的光盤的同 時，即便例如是第l記錄層為再現(xiàn)專用的光盤，也可在光盤成形后記錄每 個光盤的固有信息，對每張盤的管理既可對應(yīng)于必要的網(wǎng)絡(luò)，也可利用于 著作權(quán)管理系統(tǒng)中。


圖1是表示實施方式1的形成凹凸記錄標(biāo)志的反射層、與預(yù)標(biāo)志及其 物理位置信息被記錄的光盤的原理圖。
圖2是表示實施方式1的形成凹凸記錄標(biāo)志的反射層、與預(yù)標(biāo)志及其 物理位置信息被記錄的光盤的制造工序的流程圖。
圖3是表示實施方式1的預(yù)標(biāo)志記錄裝置的構(gòu)成的框圖。
圖4是表示實施方式1的預(yù)標(biāo)志記錄裝置的動作的定時圖。
圖5是表示實施方式1的預(yù)標(biāo)志位置檢測裝置的構(gòu)成的框圖。
圖6是表示實施方式1的預(yù)標(biāo)志位置檢測裝置的動作的定時圖。
圖7是表示實施方式1的預(yù)標(biāo)志位置記錄層的構(gòu)成的框圖。
圖8是表示實施方式1的預(yù)標(biāo)志位置記錄裝置的動作的定時圖。
圖9是實施方式1的預(yù)標(biāo)志位置記錄裝置的原理圖，是表示由聚焦位
置錯位的記錄激光照射而記錄在追記層中的方式的圖。
圖IO是表示光盤中錯位聚焦位置的狀態(tài)下的再現(xiàn)波形的圖。
圖11是表示光盤中聚焦位置錯位與記錄功率下降率的關(guān)系的曲線。
圖12是實施方式1的預(yù)標(biāo)志位置記錄裝置的原理圖，是表示具有兩
個光學(xué)頭時的方式的圖。
圖13是表示實施方式1的持有兩個光學(xué)頭的預(yù)標(biāo)志位置信息記錄裝
置的方式的構(gòu)成的框圖。
圖14是表示實施方式1的光盤再現(xiàn)裝置記錄時的物理位置信息檢測
部的構(gòu)成的框圖。
圖15是表示實施方式1的再現(xiàn)時的調(diào)制率特性的變化的實驗數(shù)據(jù)的圖。
圖16是表示實施方式1的光盤再現(xiàn)裝置記錄時的物理位置信息檢測 部的動作的定時圖。
圖17是表示實施方式1的光盤再現(xiàn)裝置再現(xiàn)時的物理位置信息檢測 部的構(gòu)成的框圖。
圖18是表示實施方式1的光盤再現(xiàn)裝置再現(xiàn)時的物理位置信息檢測 部的動作的定時圖。
圖19是實施方式2的由形成凹凸記錄標(biāo)志的反射層、與持有預(yù)標(biāo)志區(qū)域和擺動區(qū)域的追記層構(gòu)成的光盤的原理圖。
圖20是實施方式2的由形成凹凸記錄標(biāo)志的反射層、與持有預(yù)標(biāo)志 區(qū)域和擺動區(qū)域的追記層構(gòu)成的光盤的制造工序的流程圖。
圖21是表示實施方式2的光盤記錄裝置的構(gòu)成的框圖。
圖22是表示實施方式2的光盤記錄裝置的預(yù)標(biāo)志的記錄動作的定時圖。
圖23是表示實施方式2的光盤再現(xiàn)裝置的構(gòu)成的框圖。 圖24是表示實施方式3的光盤記錄裝置的位置信息記錄控制部的構(gòu) 成的框圖。
圖25是表示實施方式3的光盤記錄裝置的位置信息記錄控制部的動 作的定時圖。
圖26是表示實施方式3的光盤再現(xiàn)裝置的位置信息復(fù)原部的構(gòu)成的 框圖。
圖27是表示實施方式3的光盤再現(xiàn)裝置的位置信息復(fù)原部的動作的 定時圖。
圖28是表示實施方式4的聚焦切換動作的流程圖。 圖29是實施方式4的預(yù)標(biāo)志位置記錄裝置的原理圖，是表示根據(jù)存 儲的跟蹤位置而在追記層中進(jìn)行記錄的方式的圖。
圖30是表示實施方式5的跟蹤控制部的構(gòu)成的框圖。
圖31是表示實施方式5的跟蹤控制部的動作的定時圖。
符號說明
101， 1601 光盤
102,1602反射層
103， 1604反射層的記錄標(biāo)志
104, 1603 追記層
105 預(yù)記錄禾示志
106 追記層的記錄標(biāo)志 201 編著(authoring)工序 203盤制造工序1的光盤
301， 409， 503， 903， 1103, 1407， 1702， 1917 主軸電機(jī)306,910， IOOIB， 1701 記錄頭
401, 901， IOOIA， 1101， 1401， 1901 再現(xiàn)頭
501記錄再現(xiàn)頭
1301目標(biāo)扇區(qū)
1605 預(yù)標(biāo)志區(qū)域
1606位置信息記錄標(biāo)志
1607擺動區(qū)域
1801預(yù)標(biāo)志的半徑方向的記錄寬度
2506選擇器C-1反射層再現(xiàn)信號
C-2追記層再現(xiàn)信號(未記錄預(yù)標(biāo)志的部分)
C-3追記層再現(xiàn)信號(記錄預(yù)標(biāo)志的部分)
G-l PLL追蹤時鐘
G-2固定了頻率的時鐘
具體實施例方式
下面，邊適當(dāng)參照附圖等邊說明本發(fā)明的實施方式。(實施方式1)
l.光盤
圖1是本實施方式的光盤的原理圖。光盤101具有在凹凸形狀的記錄 標(biāo)志上形成例如鋁或銀等構(gòu)成的反射膜、記錄主信息的反射層；和從用于 讀出所述凹凸形狀的標(biāo)志的激光照射側(cè)看、在深部或淺部的層中可利用激 光照射來追記的追記層。
該光盤的反射層102是與通常的再現(xiàn)專用光盤中的信息記錄層同等的 記錄層。反射層102沿圓周方向連續(xù)，形成凹凸形狀的記錄標(biāo)志103，構(gòu) 成信息記錄。
利用該記錄標(biāo)志記錄的信息是聲音/映像信息、或游戲信息、數(shù)據(jù)等 各種數(shù)字信息。
當(dāng)從反射層102再現(xiàn)信息時，向反射層102照射再現(xiàn)電平的激光照射， 利用凹凸標(biāo)志與未形成標(biāo)志的反射鏡部之間的反射光的亮度的不同，再現(xiàn)信息。另外，該光盤101中，在反射層102的淺部或深部，形成追記層104。 在追記層104中，記錄盤制作后在盤固有的位置上記錄的預(yù)標(biāo)志105
與表示該預(yù)標(biāo)志的位置信息的記錄標(biāo)志106。
預(yù)標(biāo)志105是在光盤101的半徑方向上大致直線地配置的記錄標(biāo)志。
預(yù)標(biāo)志105具有相當(dāng)于反射層102中圓周方向的記錄標(biāo)志103的多個軌道
寬度的長度。
預(yù)標(biāo)志105在盤制作后，與盤的每次旋轉(zhuǎn)輸出的1個旋轉(zhuǎn)信號的記錄 定時同步地被記錄。該盤的旋轉(zhuǎn)控制是CAV(Constant Angular Velocity) 旋轉(zhuǎn)控制。
接著，利用該光盤101中的追記層104的記錄記號，記錄表示預(yù)標(biāo)志 105與反射層記錄標(biāo)志106之間的位置關(guān)系的位置信息。所謂該位置信息， 是根據(jù)來自記錄到反射層102的數(shù)據(jù)的地址信息或檢測同步碼的定時、與 所述預(yù)標(biāo)志105被檢測的定時求出的位置信息。
位置信息的抽取方法，首先，再現(xiàn)位于與形成預(yù)標(biāo)志105的半徑位置 相等的半徑位置上的、反射層102的記錄標(biāo)志103。接著，在檢測到目標(biāo) 的地址或同步碼的位置即基準(zhǔn)位置的時刻，將再現(xiàn)激光的聚焦位置從反射 層102變更到追記層104，同時，停止跟蹤控制，固定再現(xiàn)時鐘信號的頻 率。之后，抽取所述基準(zhǔn)位置與預(yù)標(biāo)志105被檢測到之前的時鐘數(shù)，作為 位置信息。抽取到的位置信息與所述基準(zhǔn)位置信息一起被加密化，作為追 記層104的記錄標(biāo)志而被記錄。
而且，在追記層104的記錄標(biāo)志的記錄中，有向所述反射層102照射 高輸出的激光功率而向追記層104記錄標(biāo)志的方法、或具備反射層102的 再現(xiàn)頭與可在大致相同的軌道上照射記錄激光的追記層記錄頭的方法。
在照射高輸出的激光功率而向追記層104記錄標(biāo)志的方法中，利用聚 焦到反射層102的記錄激光，向位于反射層102的深部或淺部的追記層104 形成記錄標(biāo)志，所以若從追記層104看，與散焦激光后進(jìn)行記錄相等。此 時，如后所述，通過將兩個層102與104的間隔設(shè)為一定間隔以下，可向 追記層104記錄標(biāo)志。
另一方面，具備至反射層102的再現(xiàn)頭與至追記層104的記錄頭的方 法，由于至反射層102的再現(xiàn)頭聚焦到反射層102，追記層104的記錄頭聚焦到追記層104，所以能夠以與通常的追記層104的記錄頭相同程度的 功率的激光照射來形成記錄標(biāo)志。
本發(fā)明的光盤101具有追記層104和以通常的凹凸標(biāo)志來記錄信息的 反射層102。追記層104持有形成多個以圓周方向上大致相同長度且在半 徑方向連續(xù)形成的預(yù)標(biāo)志105的預(yù)標(biāo)志記錄區(qū)域、與抽取表示所述預(yù)標(biāo)志 105與所述反射層102的基準(zhǔn)位置之間的位置關(guān)系的信息并加密化該信息 后記錄的位置信息記錄區(qū)域。
另外，通常，執(zhí)行CAV控制時的1個旋轉(zhuǎn)信號，以與對應(yīng)于所述反射 層102的地址信息或同步碼等的基準(zhǔn)位置信號無關(guān)地被輸出。因此，以l 個旋轉(zhuǎn)信號為基準(zhǔn)記錄的追記層104的預(yù)標(biāo)志105與反射層102的所述基 準(zhǔn)位置之間的位置關(guān)系可用作為每個盤固有的信息。
由于向追記層104的位置信息記錄區(qū)域加密化位置信息(或賦予防止 篡改碼)后記錄，所以不會篡改位置信息本身。
因此，為了拷貝本發(fā)明的盤，必需記錄預(yù)標(biāo)志時的盤設(shè)置位置與拷貝 時的盤設(shè)置位置一點不差。
在Blu-ray盤中，由于溝道比特長度約為70nm，所以若盤設(shè)置的位置 錯位70nm，則由于是l個溝道比特的不整合，所以事實上不能拷貝。
另外，即便僅再現(xiàn)追記層104的預(yù)標(biāo)志105，也由于預(yù)標(biāo)志自身離開 充分的距離后離散地配置，變?yōu)椴粚︻A(yù)標(biāo)志施加跟蹤控制的配置，所以也 不可能僅再現(xiàn)預(yù)標(biāo)志，即便該方法也不可能拷貝預(yù)標(biāo)志。
2.光盤制造方法
圖2是本實施方式的光盤的制造工序的原理圖。
該光盤的制造工序由制作盤203的盤制造工序1、形成預(yù)標(biāo)志的盤制 造工序2、檢測預(yù)標(biāo)志位置的盤制造工序3與加密化檢測到的位置信息后 進(jìn)行記錄的盤制造工序4構(gòu)成。
首先，在由軟件開發(fā)公司等在光盤制造工序前執(zhí)行的編著工序中，編 著(authoring)記錄的內(nèi)容信息，將編著數(shù)據(jù)輸入盤制造工序1。
在盤制造工序l中，根據(jù)輸入的編著數(shù)據(jù)，校對環(huán)規(guī)并制作母盤。
在反射層的形成中，通過在由聚碳酸酯(polycarbonate)等制成的光 盤基板上壓印所述制成的母盤，反轉(zhuǎn)后轉(zhuǎn)錄母盤的凹凸標(biāo)志，接著，在所述凹凸標(biāo)志上涂布鋁或銀等金屬反射膜。由此，形成記錄內(nèi)容信息的反射層。
接著，在所述反射膜上，涂布透明樹脂。之后，在該透明樹脂上，形 成由色素系或有機(jī)系材料構(gòu)成的追記膜。在追記膜形成之后，在該追記膜
上形成保護(hù)膜。這樣制造盤203。
而且，在該盤制造工序l中，以與制作通常的多層媒體的工序大致相 同的工序執(zhí)行，但在形成沒有擺動或凹凸標(biāo)志的追記層這方面，與通常的 工序不同。
這樣，制作由記錄了內(nèi)容信息的反射層與未記錄任何信息的追記層構(gòu) 成的多層構(gòu)造的盤203，并且發(fā)送到下一盤制造工序2。
盤制造工序2是在由盤制造工序1制造的光盤203的追記層中形成預(yù) 標(biāo)志的工序。
首先，利用CAV控制來旋轉(zhuǎn)抽絲(spinn邵)光盤。另外，對所述光盤 的追記層控制聚焦，對應(yīng)于盤每次旋轉(zhuǎn)輸出1次的1個旋轉(zhuǎn)信號，以間歇 的定時來照射記錄電平的激光照射。同時，每次光盤旋轉(zhuǎn)時，在半徑方向 錯位激光照射的斑點位置大致所述預(yù)標(biāo)志的半徑方向的寬度。
由此，在該光盤的追記層中，形成沿圓周方向大致一定長度且在半徑 方向為直線的預(yù)標(biāo)志。
圖3是表示該盤制造工序2的預(yù)標(biāo)志記錄裝置的主要塊的框圖。
該預(yù)標(biāo)志記錄裝置由主軸電機(jī)301、伺服系統(tǒng)302、 PLL303、預(yù)標(biāo)志 記錄信號生成器304、激光驅(qū)動器305和頭306構(gòu)成。
當(dāng)向該預(yù)標(biāo)志記錄裝置插入盤時，主軸電機(jī)301以與盤的外周/內(nèi)周 無關(guān)地設(shè)旋轉(zhuǎn)速度一定的CAV控制來使盤旋轉(zhuǎn)。另外，每旋轉(zhuǎn)一次，生成 一個旋轉(zhuǎn)信號，并輸出到PLL303。而且，所述一個旋轉(zhuǎn)信號即便是與盤的 1次旋轉(zhuǎn)同步的旋轉(zhuǎn)同步信號也一樣。
伺服系統(tǒng)302執(zhí)行使對插入的盤的追記層的激光照射的焦點位置符合 的聚焦控制。
PLL303根據(jù)預(yù)設(shè)置的頻率的時鐘信號與來自主軸電機(jī)的一個旋轉(zhuǎn)信 號，生成與同一旋轉(zhuǎn)信號同步的時鐘信號，并輸出到預(yù)標(biāo)志記錄信號生成 器304。預(yù)標(biāo)志記錄信號生成器304保持計數(shù)器，其根據(jù)來自PLL303的時鐘 信號來計數(shù)時鐘，以來自主軸電機(jī)301的一個旋轉(zhuǎn)信號來復(fù)位計數(shù)值。
預(yù)標(biāo)志記錄信號生成器304，根據(jù)所述計數(shù)器值，生成表示向追記層 照射記錄功率的激光照射的定時之預(yù)標(biāo)志記錄信號，并輸出到激光驅(qū)動器 305。
激光驅(qū)動器305在表示記錄來自預(yù)標(biāo)志記錄信號生成器304的預(yù)標(biāo)志 記錄信號的預(yù)標(biāo)志的定時的區(qū)間中，生成用于使激光強(qiáng)度間歇地變化的多 脈沖。之后，激光驅(qū)動器305根據(jù)該多脈沖，控制流過搭載于頭306上的 激光器的電流值，邊變更激光強(qiáng)度，邊記錄預(yù)標(biāo)志。
下面，說明該盤制造工序2的預(yù)標(biāo)志記錄裝置的動作。 圖4是表示該盤制造工序2的預(yù)標(biāo)志記錄裝置的特征動作的定時圖。 若將盤插入該預(yù)標(biāo)志記錄裝置，則圖3所示的主軸電機(jī)301利用將旋 轉(zhuǎn)速度控制為一定的CAV控制，使盤旋轉(zhuǎn)。此時，主軸電機(jī)301生成每當(dāng) 盤旋轉(zhuǎn)一次或與盤的旋轉(zhuǎn)同步輸出的一個旋轉(zhuǎn)信號(圖4A)，并輸出到 PLL303和預(yù)標(biāo)志記錄信號生成器304。 一個旋轉(zhuǎn)信號(圖4A)表示在以"H" 輸出的間隔中旋轉(zhuǎn)一次，或與盤一次旋轉(zhuǎn)同步而輸出多次。
接著，在PLL303中，生成與來自主軸電機(jī)301的一個旋轉(zhuǎn)信號(圖4A) 同步的CAV同步時鐘(圖4B) 。 PLL303是相位同步電路(PLL; Phase-locked loop)，生成頻率與預(yù)設(shè)置到與一個旋轉(zhuǎn)信號大致相同頻率的時鐘信號、 和利用相位誤差的反饋控制輸入的一個旋轉(zhuǎn)信號相等的時鐘，通過逐次加 倍該時鐘，生成CAV同步時鐘信號(圖4B)，輸出到預(yù)標(biāo)志記錄信號生成器 304。另外，在本實施方式中，示出生成了一個旋轉(zhuǎn)信號的N逐次加倍的 CAV同步時鐘信號的實例。
預(yù)標(biāo)志記錄信號生成器304，根據(jù)從PLL303輸入的CAV同步時鐘信號 (圖4B)，由計數(shù)器計數(shù)時鐘，根據(jù)該計數(shù)值(圖4C)，生成表示記錄預(yù)標(biāo) 志的范圍的預(yù)標(biāo)志記錄控制信號(圖4D)。該預(yù)標(biāo)志記錄控制信號輸出到激 光驅(qū)動器305。另外，所述計數(shù)器在來自主軸電機(jī)301的一個旋轉(zhuǎn)信號(圖 4A)的"H"的定時，將計數(shù)值復(fù)位為"0"。另外，在本實施方式中，示 出在從一個旋轉(zhuǎn)信號(圖4A)開始到CAV同步時鐘(圖4B)的8個時鐘來記 錄預(yù)標(biāo)志的實例。圖4中，是在一次旋轉(zhuǎn)中僅在一個部位、用于記錄預(yù)標(biāo)
37志的實例，但也可在計數(shù)值N-1之前的期間中輸出多次的預(yù)標(biāo)志記錄信號 (在一次旋轉(zhuǎn)中，記錄多個預(yù)標(biāo)志)。
另外，所述多個預(yù)標(biāo)志寬度既可相同，也可持有不同預(yù)標(biāo)志寬度地輸 出預(yù)標(biāo)志記錄控制信號。
在從圖3所示的預(yù)標(biāo)志記錄信號生成器304輸入了預(yù)標(biāo)志記錄控制信 號(圖4D)的激光驅(qū)動器305中，在所述預(yù)標(biāo)志記錄控制信號的"H"區(qū)間， 生成用于執(zhí)行記錄功率的激光照射的預(yù)標(biāo)志記錄信號(圖4E)。預(yù)標(biāo)志記錄 信號(圖4E)有時為與預(yù)標(biāo)志記錄控制信號(圖4D)相等的信號，但期望控 制激光功率，使預(yù)標(biāo)志在盤圓周方向上成為相等寬度。此時，在如圖4E 所示的預(yù)標(biāo)志記錄信號那樣記錄預(yù)標(biāo)志的范圍內(nèi)，取多脈沖的方式，以便 能間歇地強(qiáng)弱激光功率。由此，記錄在盤中的預(yù)標(biāo)志(圖犯)不僅在盤圓周 方向上等寬度地形成，而且可延長激光器的壽命。
另外，通過在盤一次旋轉(zhuǎn)中以大致預(yù)標(biāo)志的半徑方向的寬度(在 Blu-ray盤中，為0. 1 0. 3微米左右)使記錄頭位置向外周側(cè)移動，從而 可在半徑方向上基本無間隙地記錄預(yù)標(biāo)志，預(yù)標(biāo)志在半徑方向上直線地形 成(正確地，由于外周側(cè)的線速度因CAV控制變慢，所以在外周側(cè)形成寬 的扇形)。
利用以上的盤制造工序2，制作在追記層中形成了預(yù)標(biāo)志的盤，如圖 2所示，輸出到下一盤制造工序3。
在盤制造工序2中，將在追記層中記錄了預(yù)標(biāo)志的盤送到盤制造工序 3。這里，從盤制造工序2向盤制造工序3輸出記錄了預(yù)標(biāo)志的半徑位置。
在盤制造工序3中，抽取在盤制造工序2中記錄的預(yù)標(biāo)志的記錄位置 信息。具體而言，根據(jù)從盤工序2輸入的記錄了預(yù)標(biāo)志的半徑位置，算出 對應(yīng)于所述半徑位置的、由凹凸標(biāo)志記錄的反射層的地址信息，對所述地 址位置執(zhí)行搜索。
盤制造工序3中使用的光盤再現(xiàn)裝置，根據(jù)反射層中沿圓周方向連續(xù) 地形成的記錄標(biāo)志，實施跟蹤控制，同時，根據(jù)由PLL(Phase Locked Loop) 電路抽取的時鐘，再現(xiàn)記錄在反射層中的數(shù)據(jù)。
光盤再現(xiàn)裝置，在所述算出的地址信息被檢測出時，使跟蹤控制停止， 保持其軌道位置，同時，使由PLL電路執(zhí)行的相位誤差追蹤動作停止，保持時鐘信號的頻率。之后，光盤再現(xiàn)裝置使聚焦位置跳到位于反射層的淺 部或深部的追記層。
在跳到追記層之后，檢測在盤制造工序2中形成的追記層的預(yù)標(biāo)志。 若檢測到預(yù)標(biāo)志，則對從檢測到反射層中檢測到的地址信息(或同步碼)的 時刻開始至在跳到追記層之后檢測到追記層的預(yù)標(biāo)志為止的時鐘進(jìn)行計 數(shù)，將所述地址信息(或同步碼位置)與時鐘計數(shù)數(shù)作為預(yù)標(biāo)志的位置信 息，輸出到盤制造工序4。
3.記錄裝置
下面，說明該盤制造工序3中使用的預(yù)標(biāo)志記錄裝置。
圖5是表示該盤制造工序3中、用于檢測由盤制造工序2形成的追記 層的預(yù)標(biāo)志位置的預(yù)標(biāo)志位置檢測裝置的特征塊構(gòu)成的框圖。圖中的虛線 表示LSI芯片的范圍。
該預(yù)標(biāo)志位置檢測裝置由光學(xué)頭401、模擬信號處理器402、 AD403、 數(shù)字信號處理器404、格式化器405、預(yù)標(biāo)志檢測部406、時鐘計數(shù)器407、 伺服系統(tǒng)408、主軸電機(jī)409和存儲器410構(gòu)成。
光學(xué)頭401對插入的盤的反射層執(zhí)行激光照射，生成從其反射光得到 的模擬再現(xiàn)信號，輸出到模擬信號處理器402。
模擬信號處理器402對放大或波形等化來自光學(xué)頭401的模擬再現(xiàn)信 號而輸入的模擬再現(xiàn)信號進(jìn)行整形，生成整形后模擬再現(xiàn)信號，輸出到 AD403。
AD403是一般的模擬數(shù)字變換電路，根據(jù)從數(shù)字信號處理器404輸入 的時鐘信號，采樣輸入的整形后模擬再現(xiàn)信號，量子化為多比特的數(shù)字再 現(xiàn)信號后，輸出到數(shù)字再現(xiàn)信號處理器404。
數(shù)字再現(xiàn)信號處理器404，在內(nèi)部保持PLL(Phase Locked Loop)電路， 抽取與輸入的數(shù)字再現(xiàn)信號相同頻帶的時鐘信號，輸出到AD403和時鐘計 數(shù)器407。而且，AD403中的所述采樣用的時鐘使用該時鐘信號。另外， 與所述時鐘信號同步，生成將從AD403輸入的多比特的數(shù)字再現(xiàn)信號進(jìn)行 二進(jìn)制化后的二進(jìn)制化再現(xiàn)信號，輸出到格式化器405。
格式化器405從輸入的二進(jìn)制化再現(xiàn)信號中，檢測在一定定時被賦予 的同步碼，與所述同步碼的定時同步，將再現(xiàn)信號分割成扇區(qū)單位。分割成扇區(qū)單位的再現(xiàn)數(shù)據(jù)，執(zhí)行按照事先確定的調(diào)制側(cè)的解調(diào)，并且，利用 賦予再現(xiàn)信號的糾錯用的校驗位，進(jìn)行糾錯。格式化器405抽取被賦予扇
區(qū)單位的地址信息，輸出到預(yù)標(biāo)志檢測部406。
預(yù)標(biāo)志檢測部406根據(jù)輸入的地址信息，執(zhí)行所述地址信息是否是檢 測預(yù)標(biāo)志的目標(biāo)地址的判定。在是目標(biāo)地址的情況下，將用于使數(shù)字信號 處理器404生成的時鐘信號的頻率固定的PLL保持信號輸出到數(shù)字信號處 理器404。另外，同時，向伺服系統(tǒng)408輸出用于使聚焦位置從反射層跳 到追記層的層跳動信號、和用于保持盤的跟蹤位置的跟蹤保持信號。同時， 內(nèi)部的時鐘計數(shù)器407計數(shù)來自數(shù)字信號處理器404的時鐘信號。
伺服系統(tǒng)408接收來自預(yù)標(biāo)志檢測部406的層跳動信號，將光學(xué)頭401 的聚焦位置從反射層控制到追記層。另外，固定對反射層的凹凸標(biāo)志實施 跟蹤控制的跟蹤控制，使當(dāng)前的頭的半徑位置固定。
在用于檢測預(yù)標(biāo)志的目標(biāo)地址的半徑位置，追記層沿圓周方向僅形成 多個預(yù)標(biāo)志。另外，如上所述，預(yù)標(biāo)志在半徑方向直線地形成。因此，若 在反射層的目標(biāo)地址位置執(zhí)行層跳動，移動到追記層，則僅預(yù)標(biāo)志部的反 射率被檢測為低。因此，從光學(xué)頭401向模擬信號處理器402輸出預(yù)標(biāo)志 部分可確定的模擬再現(xiàn)信號。
在模擬信號處理器402中，與反射層一樣地放大或波形等化被輸入的 模擬再現(xiàn)信號，之后，生成整形后模擬再現(xiàn)信號，輸出到AD403。而且， 若使用由預(yù)標(biāo)志再現(xiàn)時和反射層再現(xiàn)時不同的截止頻率所設(shè)計的 LPF仏ow-frequency Pass Filter),貝ll是有效的。
在AD403中，利用由數(shù)字信號處理器404頻率保持的時鐘信號，采樣 輸入的整形后模擬再現(xiàn)信號，生成多比特的數(shù)字再現(xiàn)信號，輸出到數(shù)字再 現(xiàn)信號處理器.404。
在數(shù)字再現(xiàn)信號處理器404中，對多進(jìn)制的數(shù)字再現(xiàn)信號進(jìn)行二進(jìn)制 化，生成二進(jìn)制化再現(xiàn)信號，輸出到預(yù)標(biāo)志檢測部406。而且，該二進(jìn)制 化再現(xiàn)信號是僅在預(yù)標(biāo)志被記錄的位置(反射率低的部分)變?yōu)?H"的信
號
輸入二進(jìn)制數(shù)字再現(xiàn)信號的預(yù)標(biāo)志檢測部406，根據(jù)所述二進(jìn)制數(shù)字 再現(xiàn)信號，判定預(yù)標(biāo)志被記錄的開始位置(再現(xiàn)追記層時的二進(jìn)制數(shù)字信號的上升沿位置)，在預(yù)標(biāo)志的記錄開始位置，將內(nèi)部保持的時鐘計數(shù)器 的計數(shù)值和目標(biāo)地址輸出到存儲器410。
另外，預(yù)標(biāo)志檢測部406，計數(shù)二進(jìn)制數(shù)字再現(xiàn)信號的"H"的區(qū)間(即 預(yù)標(biāo)志寬度)的時鐘數(shù)，輸出到存儲器410。
存儲器410將來自預(yù)標(biāo)志檢測部406的地址信息、預(yù)標(biāo)志開始位置時 鐘計數(shù)器值和預(yù)標(biāo)志寬度時鐘計數(shù)器值作為組來存儲。
在該盤制造工序3的一系列的處理完成的時刻，與盤一起，將保持在 存儲器410中的內(nèi)容輸出到盤制造工序4。
如上所述，在該盤的追記層中，在相同半徑位置形成多個圓周方向的 預(yù)標(biāo)志。關(guān)于該工序的預(yù)標(biāo)志位置檢測，檢測所述多個預(yù)標(biāo)志中至少一個 預(yù)標(biāo)志位置。形成了預(yù)標(biāo)志的半徑位置由于從盤制造工序2輸入，所以選
擇對應(yīng)于所述半徑位置的多個地址信息中任意的地址，根據(jù)該地址位置， 檢測層跳動到追記層時最初呈現(xiàn)的預(yù)標(biāo)志的位置。在判定為跳動到追記層 的所在是預(yù)標(biāo)志的情況下，忽視該預(yù)標(biāo)志，檢測下一預(yù)標(biāo)志位置，這有利 于能夠可靠地檢測預(yù)標(biāo)志寬度另外，在檢測多個預(yù)標(biāo)志位置的情況下，期望分別在半徑位置不同的 場所進(jìn)行預(yù)標(biāo)志檢測。這是因為，由于也可判斷記錄的預(yù)標(biāo)志位置的半徑 方向的直線性，所以可更嚴(yán)密地進(jìn)行不正當(dāng)盤判定。
下面，說明該預(yù)標(biāo)志位置檢測裝置的動作。
圖6是表示該預(yù)標(biāo)志檢測裝置(圖5)的預(yù)標(biāo)志檢測動作的特征動作的 定時圖。
首先，向反射層的凹凸標(biāo)志執(zhí)行激光照射，根據(jù)其反射光，生成模擬 再現(xiàn)信號，利用模擬信號處理器402來整形。由于在反射層中記錄了凹凸 標(biāo)志，所以根據(jù)標(biāo)志與非標(biāo)志部的反射光強(qiáng)度的不同，抽取模擬再現(xiàn)信號 (圖6C-1)。
反射層的模擬再現(xiàn)信號(圖6C-1)被數(shù)字信號處理器404變換為二進(jìn) 制數(shù)字信號，并輸出到格式化器405。另外，由數(shù)字信號處理器404的PLL 電路從反射層的模擬再現(xiàn)信號(圖6C-1)中抽取PLL時鐘信號(圖6G-1)。
在格式化器405中，從輸入的二進(jìn)制數(shù)字再現(xiàn)信號(圖6A)中，檢測被 賦予一定間隔(幀)的同步碼(SYNC)。另外，以可檢測所述同步碼的定時為基準(zhǔn)，將二進(jìn)制數(shù)據(jù)分割為用于保持地址的扇區(qū)單位，同時，抽取地址信 息，輸出到預(yù)標(biāo)志位置檢測部406。
預(yù)標(biāo)志位置檢測部406，從由格式化器405輸入的地址信息中，檢測
用于檢測預(yù)標(biāo)志的目標(biāo)地址的扇區(qū)開始位置。在本實施方式中，檢測目標(biāo) 地址之前一個的地址位置，檢測包含該之前地址的扇區(qū)的終端位置，作為 目標(biāo)地址的扇區(qū)開始位置。
預(yù)標(biāo)志檢測部406，若檢測出目標(biāo)地址的扇區(qū)的開始位置，則向伺服 系統(tǒng)408輸出激光器的聚焦位置從凹凸標(biāo)志被記錄的反射層運動到在其淺 部或深部上所形成的追記層的層跳動信號。另外，向伺服系統(tǒng)408輸出使 跟蹤控制停止的跟蹤保持信號(圖6F)。同時，向數(shù)字信號處理器404輸出 用于使PLL時鐘頻率固定的PLL保持信號(圖6F)。因此，從來自反射層的 記錄標(biāo)志的再現(xiàn)模擬信號抽取出的PLL時鐘(圖6G-1)，在層跳動后的PLL 保持信號(圖6E)的"H"區(qū)間，被固定在跳動前的時鐘頻率(圖6G-2)。
若執(zhí)行從反射層向追記層的層跳動，則由于從存在連續(xù)的凹凸標(biāo)志的 反射層移動到預(yù)標(biāo)志以外的無標(biāo)志的追記層，所以若跳動到無預(yù)標(biāo)志的所 在，則再現(xiàn)模擬信號在反射光高的一側(cè)，得到一定的模擬再現(xiàn)信號(圖 6C-2)。
另外，在預(yù)標(biāo)志部分，由于反射率低，所以在反射率低的一側(cè)得到一 定的模擬再現(xiàn)信號(圖6C-3)。
因此，在層跳動到追記層之后，停止伺服系統(tǒng)中的跟蹤控制，通過固 定數(shù)字信號處理器404的時鐘頻率而得到的模擬再現(xiàn)信號(圖6C)，在層跳 動之前，利用反射層的連續(xù)的凹凸標(biāo)志，生成高頻的再現(xiàn)波形(圖6C-1)， 在軌道跳動后，在無預(yù)標(biāo)志的部分，生成"H"側(cè)(圖6C-2)的模擬再現(xiàn)信 號，在存在預(yù)標(biāo)志的部分，生成"L"側(cè)(圖6C-3)的模擬再現(xiàn)信號。根據(jù) 該模擬再現(xiàn)信號，預(yù)標(biāo)志檢測部406檢測"L"電平在一定區(qū)間連續(xù)的部 分，作為二進(jìn)制的預(yù)標(biāo)志再現(xiàn)信號(圖6D)。
而且，在本實施方式中，在PLL保持信號(圖6E)為"H"的情況下， 將從數(shù)字信號處理器404輸出的時鐘信號的頻率固定在當(dāng)前的時鐘頻率。
另外，在本實施方式中，在跟蹤保持信號(圖6F)為"H"的情況下， 停止伺服系統(tǒng)408的跟蹤伺服，將激光照射的斑點位置固定在當(dāng)前的半徑
42位置。
預(yù)標(biāo)志檢測部406在內(nèi)部保持有計數(shù)器，其與來自數(shù)字信號處理器
404的時鐘信號同步而進(jìn)行計數(shù)。該計數(shù)器在將表示從反射層跳動到追"i己 層的定時的跳動信號輸出到伺服系統(tǒng)408的時刻，將計數(shù)值變?yōu)閺?fù)位"O"。 在該跳動之后，計數(shù)頻率被固定的時鐘信號，向存儲器410輸出利用預(yù)豐示 志再現(xiàn)信號(圖6D)判定為預(yù)標(biāo)志開始位置的時刻的計數(shù)值X(圖6H)與執(zhí) 行跳動時的目標(biāo)地址。另外，預(yù)標(biāo)志位置檢測裝置(圖5)還保持有用于計 數(shù)預(yù)標(biāo)志再現(xiàn)信號(圖6D)的"H"區(qū)間、即預(yù)標(biāo)志寬度的時鐘數(shù)的計數(shù)器， 預(yù)標(biāo)志寬度的時鐘數(shù)Y(圖6H)也同時輸出到存儲器410。
另外，檢測預(yù)標(biāo)志的目標(biāo)地址使用在盤制造工序2中根據(jù)形成預(yù)標(biāo)志 的半徑位置所求出的多個地址中任意的地址。另外，在預(yù)標(biāo)志位置的檢測 以不同的目標(biāo)地址執(zhí)行多次的情況下，在存儲器410中存儲多個目標(biāo)地址 與來自所述目標(biāo)地址的多個預(yù)標(biāo)志位置信息。在從多個目標(biāo)地址檢測出多 個預(yù)標(biāo)志的情況下，期望每個地址錯開其半徑位置。這是因為可同時確認(rèn) 在半徑方向直線地形成的預(yù)標(biāo)志的線性。由此，可更強(qiáng)固地判別不正當(dāng)盤。
下面，說明盤制造工序4(圖2)。
盤制造工序4是加密化并記錄來自盤制造工序3的預(yù)標(biāo)志位置的工 序。加密化中，具有對在盤制造工序4中使用的盤在信息記錄裝置內(nèi)記錄 秘密密鑰、以秘密密鑰加密方式加密化位置信息的方法，或使用公開密鑰 加密方式進(jìn)行加密化的方法等。其中，在使用秘密密鑰加密的情況下，必 需嚴(yán)格管理用于加密化/解密化的秘密密鑰，但加密化/解密化的計算量 小，且高速。另一方面，在公開密鑰加密中，不必嚴(yán)格管理公開密鑰自身， 但其特征在于計算量大。
加密化后的位置信息由盤制造工序4記錄在盤的追記層中。位置信息 的記錄方法有對記錄凹凸標(biāo)志的反射層進(jìn)行記錄激光的聚焦控制后進(jìn)行 記錄的方法、或?qū)⒂涗浖す饩劢沟阶酚泴雍筮M(jìn)行記錄的方法。
圖2表示聚焦到所述反射層后進(jìn)行記錄的情況的原理圖。
首先，該盤制造工序4的位置信息記錄裝置從追記層上預(yù)標(biāo)志被記錄 的半徑位置跳動到外周側(cè)。此時的搜索根據(jù)在反射層中被記錄作為凹凸標(biāo) 志的地址信息來進(jìn)行。 一旦到達(dá)目標(biāo)的地址位置，則照射聚焦到反射層的記錄功率的激光。該記錄功率通常以記錄在追記媒體中的激光功率以上的 功率來照射。因此，在反射層的淺部存在追記層的情況下，形成對追記層 焦點錯位的散焦的激光照射。另外，在反射等的深部存在追記層的情況下， 也向追記層照射透過反射層的激光。在任一情況下，通常，為了向追記層 照射比記錄在追記媒體中的激光功率還高的輸出的功率，利用追記層的反 射率變化來在追記層中形成記錄標(biāo)志。另外，就基于對該追記層的散焦的 激光照射之記錄而言，通過如后所述那樣設(shè)定反射層與追記層之間的間 隔，可適當(dāng)進(jìn)行之。
利用該記錄標(biāo)志，記錄從盤制造工序3輸入的追記層的預(yù)標(biāo)志的位置
自 I n尼、o
下面，說明該盤制造工序4(圖2)中的第1位置信息記錄裝置。 圖7是表示該位置信息記錄裝置的特征塊的框圖。圖中的虛線表示 LSI芯片的范圍。
該位置信息記錄裝置由存儲器500、光學(xué)頭501、伺服系統(tǒng)502、主軸 電機(jī)503、模擬信號處理器504、 AD505、數(shù)字信號處理器506、格式化器 507、位置信息記錄控制部508和激光驅(qū)動器509構(gòu)成。
首先，由存儲器500存儲從盤制造工序3(圖2)輸入的追記層的預(yù)標(biāo)
志位置信息。
光學(xué)頭501，對反射層的凹凸標(biāo)志執(zhí)行再現(xiàn)電平的激光照射，將表示 其反射光強(qiáng)度的模擬再現(xiàn)信號輸出到模擬再現(xiàn)信號處理器504，同時，將 聚焦控制用模擬信號、跟蹤控制用模擬信號輸出到伺服系統(tǒng)502。
伺服系統(tǒng)502，在利用來自光學(xué)頭501的聚焦控制用模擬信號向反射 層聚焦激光照射的焦點的同時，利用跟蹤控制用模擬信號，執(zhí)行用于使激 光照射的中心位置與反射層中沿圓周方向連續(xù)的凹凸標(biāo)志的中心位置一 致的跟蹤控制。
主軸電機(jī)503，根據(jù)光學(xué)頭501的半徑位置，執(zhí)行CLV旋轉(zhuǎn)控制，以
便以一定速度沿圓周方向前進(jìn)。
模擬信號處理器504，放大來自光學(xué)頭501的模擬再現(xiàn)信號，或進(jìn)行
波形等化，從而生成整形模擬再現(xiàn)信號，輸出到AD505。
AD505是執(zhí)行一般的模擬/數(shù)字變換的AD轉(zhuǎn)換器，以時鐘信號來采樣輸入的模擬信號，量子化成多比特的數(shù)字信號，從而生成數(shù)字再現(xiàn)信號， 輸出到數(shù)字信號處理器506。
數(shù)字信號處理器506，對來自AD505的多比特的數(shù)字再現(xiàn)信號執(zhí)行波 形等化，利用內(nèi)部持有的PLL (Phase Locked Loop)電路來抽取時鐘信號， 與所述時鐘信號同步，將所述多比特的數(shù)字再現(xiàn)信號變換為二進(jìn)制再現(xiàn)信 號，輸出到格式化器507。由AD505采樣的時鐘信號，使用該數(shù)字信號處 理器506的PLL電路輸出的時鐘信號。
格式化器507，從來自數(shù)字信號處理器506的數(shù)字再現(xiàn)信號中，檢測 出按每個一定間隔被賦予的同步碼，以所述同步碼的檢測定時為基礎(chǔ)，分 割成被賦予地址的扇區(qū)，同時，抽取該地址信息，輸出到位置信息記錄控 制部508。
位置信息記錄控制部508，在從格式化器507輸入的地址信息到達(dá)了 記錄預(yù)標(biāo)志位置信息的目標(biāo)地址的情況下，根據(jù)存儲器500中保持的預(yù)標(biāo) 志位置信息，生成用于記錄預(yù)標(biāo)志位置信息的記錄信號，輸出到激光驅(qū)動 器509。另外，生成表示記錄預(yù)標(biāo)志位置信息的區(qū)間的位置信息檢測選通 信號，輸出到數(shù)字信號處理器506與伺服系統(tǒng)502。接收所述選通信號， 數(shù)字信號處理器506使PLL電路的相位誤差追蹤動作停止，固定當(dāng)前的時 鐘頻率(或者控制反射光的增益，無論記錄激光照射還是再現(xiàn)激光照射， 均可由PLL電路穩(wěn)定地抽取時鐘信號)。另外，接收所述選通信號，伺服 系統(tǒng)502變更跟蹤用模擬信號增益，無論再現(xiàn)功率還是記錄功率照射，均 可穩(wěn)定控制跟蹤伺服系統(tǒng)。
激光驅(qū)動器509，接收來自位置信息記錄控制部508的位置信息記錄 信號，在執(zhí)行記錄功率的激光照射的區(qū)間中，生成基于間歇地切換激光功 率的多脈沖串(或矩形脈沖)。由此，生成激光功率控制信號，根據(jù)該激光 功率控制信號，控制流過激光器的電流。
光學(xué)頭501，接收來自激光驅(qū)動器的電流控制，控制提供給激光器的
電流值，對盤的反射層進(jìn)行激光照射。由此，向反射層照射聚焦后的記錄 功率的激光。
但是，由于反射層的記錄膜由融點高(難以引起熱反應(yīng))的鋁或銀等金 屬膜構(gòu)成，所以記錄功率的激光照射不會影響反射層。但是，該激光照射對反射層的深部或淺部形成的追記層有影響。即，在反射層的淺部存在追 記層的情況下，向追記層照射焦點錯位(散焦)的激光，或在追記層位于反 射層的深部的情況下，向追記層照射通過了反射層的透過光。
該記錄電平的激光照射，通常由向追記媒體中記錄信息時的激光功率 以上的功率來控制。因此，即便是散焦或透過光，也僅追記層的執(zhí)行激光 照射的部分中，追記層的記錄層的反射率變化，從而在追記層中記錄標(biāo)志。 下面，說明該預(yù)標(biāo)志的位置記錄裝置的動作。 圖8是表示該預(yù)標(biāo)志的記錄裝置(圖7)的特征動作的定時圖。 首先，光學(xué)頭501對盤的反射層進(jìn)行再現(xiàn)功率的激光照射，從其反射
光中生成模擬再現(xiàn)信號。AD505將模擬再現(xiàn)信號變換為多進(jìn)制的數(shù)字信號， 由數(shù)字信號處理器506 二進(jìn)制化，生成二進(jìn)制化再現(xiàn)信號，同時，生成與 再現(xiàn)信號同步的時鐘信號。
格式化器507從來自數(shù)字信號處理器506的二進(jìn)制再現(xiàn)信號中，檢測 被賦予一定間隔的同步碼，分割成被記錄了地址信息的扇區(qū)803單位(圖 8A)，選擇記錄預(yù)標(biāo)志的位置信息的目標(biāo)地址的開始位置。該目標(biāo)地址也 可以是預(yù)定的任意地址，但去除記錄了預(yù)標(biāo)志的半徑位置。
若從由反射層得到的再現(xiàn)信號檢測出目標(biāo)地址的扇區(qū)的開始位置，則 位置信息記錄控制部508將表示在內(nèi)部記錄位置信息的區(qū)間的位置信息記 錄信號(圖8B)輸出為"H"，同時，向數(shù)字信號處理器506輸出來自PLL 電路的用于固定輸出時鐘頻率的PLL保持信號(圖8C)。另外，同時生成跟 蹤切換信號(圖8D)，輸出到伺服系統(tǒng)502。該跟蹤切換信號(圖8D)根據(jù)放 大了來自頭501的模擬再現(xiàn)信號的信號，在對執(zhí)行跟蹤控制的伺服系統(tǒng) 502進(jìn)行記錄功率照射的情況下、和執(zhí)行再現(xiàn)功率照射的情況下，切換模 擬信號的放大率而使用。通常，若不變更信號放大率，則由于再現(xiàn)功率時 的增益過低或記錄功率時的增益過高、會超過范圍等主要因素，不能穩(wěn)定 執(zhí)行跟蹤控制。
位置信息記錄控制部508，在記錄位置信息的區(qū)間中輸出的位置信息 記錄選通(圖8B)的"H"區(qū)間內(nèi)，平均1比特地從存儲器500中取出位置 信息(圖8E)并記錄。
在本實施方式中，若設(shè)目標(biāo)盤為Blu-rayDisc，則將持有位置信息記錄目標(biāo)地址的扇區(qū)內(nèi)的同步碼501之各幀=1932溝道比特分割成3等分 (644溝道比特比特)，在所述644溝道比特區(qū)間中記錄1比特的位置信息。 即，在本實施方式中，通過與幀同步同步而記錄位置信息，實現(xiàn)與反射層 的記錄標(biāo)志的扇區(qū)構(gòu)造同步的位置信息記錄。由此，可不插入用于記錄位 置信息的同步碼等(基本上無追加電路)來記錄位置信息。
從存儲器500接收以644溝道比特單位平均1比特記錄的位置信息的 信息記錄控制部508，生成僅記錄的位置信息為"1"的部分變?yōu)?H"的 位置信息記錄信號(圖8F)，輸出到激光驅(qū)動器509。
激光驅(qū)動器509在位置信息記錄選通(圖8B)的"H"區(qū)間，生成在位 置信息記錄信號(圖8F)為"L"的情況下間歇地切換再現(xiàn)功率、在位置信 息記錄信號(圖8F)為"H"的區(qū)間間歇地切換激光功率的成為多脈沖輸出 之激光發(fā)光控制脈沖。激光驅(qū)動器509根據(jù)該激光發(fā)光控制脈沖，使流過 激光器的電流量變化，生成切換激光功率的激光發(fā)光脈沖(圖8G)，照射到 盤的反射層上。
由此，通過僅在多脈沖被照射的區(qū)間，改變反射層的淺部或深部形成 的追記層的反射率，來記錄位置信息。
圖9是對在反射層的淺部存在追記層的盤、由一個頭邊聚焦到反射層 邊照射記錄激光的第l位置記錄裝置的原理圖。在該裝置中，向位于追記 層深部的反射層聚焦激光照射，利用反射層的記錄標(biāo)志進(jìn)行跟蹤控制。當(dāng) 激光斑點來到記錄位置信息的目標(biāo)地址的扇區(qū)上時，照射用于記錄位置信 息的記錄激光。在追記層中，接收散焦后的記錄激光照射，接收到激光照 射的追記層部分的反射率變化，記錄位置信息。
此時，由于對反射層的記錄標(biāo)志進(jìn)行記錄功率的激光照射，所以得不 到通常的再現(xiàn)信號，有時，數(shù)字信號處理器506的PLL電路中不能生成時 鐘。因此，通過保持照射再現(xiàn)激光時的時鐘信號的頻率，執(zhí)行對追記層的 記錄控制。
為了由該第1位置記錄裝置在追記層中以散焦?fàn)顟B(tài)進(jìn)行記錄，必需盡 可能拉近追記層與反射層的間隔，減小追記層中的聚焦錯位。這點參照圖 10和圖ll來詳細(xì)說明。
圖10是使用Blu-ray Recordable媒體、使記錄激光照射有意地錯開聚焦位置后記錄時的再現(xiàn)波形。卬'是在標(biāo)準(zhǔn)的聚焦位置上記錄時的再 現(xiàn)波形，是相對聚焦標(biāo)準(zhǔn)位置錯開-0.2微米焦點位置進(jìn)行記錄時的 再現(xiàn)波形，<G'是相對標(biāo)準(zhǔn)的聚焦位置錯開+O. 2微米焦點位置進(jìn)行記錄 時的再現(xiàn)波形。從本實驗可知，通過錯開聚焦位置，盡管再現(xiàn)品質(zhì)惡化， 但1' 、'D' 、 分別持有振幅，在記錄膜中形成反射率變化的記
錄標(biāo)志。因此，如圖9所示，若使聚焦位置與反射層一致來照射記錄激光， 則向通過具有某個一定層間隔而形成的追記層，照射聚焦位置錯位的記錄 激光，形成記錄標(biāo)志。
圖11是表示設(shè)對象媒體為Blu-ray Recordable、橫軸表示聚焦位置 錯位量、縱軸表示相對聚焦位置錯位、記錄功率的下降率的模擬結(jié)果的曲 線。根據(jù)該曲線，聚焦位置若錯位士0.4微米，則與記錄功率下降50%時 的再現(xiàn)精度大致相等。當(dāng)然，若記錄功率變?yōu)?%，則不可能形成記錄標(biāo)志， 根據(jù)該模擬結(jié)果，若將其換算成聚焦錯位量，則相當(dāng)于土O. 56微米。因此， 在Blu-ray Recordable中，若聚焦位置錯位土O. 56微米，則由于照射的 記錄激光的強(qiáng)度相當(dāng)于0%，所以不能形成記錄標(biāo)志。這表示若圖9所示的 反射層與追記層的層間隔不為0.56微米以下，則不能由聚焦到反射層的 記錄激光來形成記錄層的記錄標(biāo)志。另外，若設(shè)記錄激光的波長為A、照 射光的光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑為NA，則使記錄層與反射層的層間隔為0.56 微米以下與為入/(NA、)以下大致相等。
如上所述，追記層中形成的記錄了位置信息的標(biāo)志802通常與記錄在 追記媒體中的標(biāo)志在以下方面不同。
第一點在于，該追記層的標(biāo)志802利用聚焦到形成于其淺部或深部的 反射層的激光照射而非聚焦到追記層的激光照射來形成。即，在追記層中， 利用焦點位置錯位的散焦的激光照射或通過了反射層的透過光來記錄。因 此，通常，若與記錄在追記媒體中的標(biāo)志相比，則再現(xiàn)的信號精度差。
第二點在于，用于記錄該追記層的記錄標(biāo)志的時鐘與從追記層的淺部 或深部形成的反射層的凹凸標(biāo)志抽取的PLL時鐘同步進(jìn)行。在通常的追記 媒體中，從擺動的軌道中抽取時鐘來進(jìn)行記錄。
第三點在于，利用追記層的淺部或深部所形成的反射層的凹凸記錄標(biāo) 志來進(jìn)行用于記錄該追記層的記錄標(biāo)志的跟蹤控制。在通常的追記媒體中，根據(jù)事先形成于盤表面的軌道，來形成跟蹤控制。
利用這些特長，該盤的追記層不持有軌道，而僅間歇地持有位置信息 被記錄的標(biāo)志信息。因此，不能在至少記錄了位置信息的標(biāo)志不存在的部 分中實施跟蹤控制。另外，若將記錄1比特位置信息的周期設(shè)定得比實施 跟蹤控制的周期長，則即便記錄了位置信息的標(biāo)志存在的部分也難以進(jìn)行 跟蹤控制。若不能對追記層實施跟蹤控制，則不能直接再現(xiàn)追記層，不能 根據(jù)其再現(xiàn)信號制作不正當(dāng)?shù)目截惐P。
下面，說明與上述構(gòu)成不同的該盤制造工序4中的第2位置信息記錄 裝置。
如圖12所示，第2位置信息記錄裝置的特征在于，具有兩個反射層
的再現(xiàn)頭和對追記層的記錄頭。就這點而言，第2位置信息記錄裝置與在
由反射層生成記錄標(biāo)志與對追記層形成記錄標(biāo)志中使用同一光學(xué)頭、從而 對追記層實現(xiàn)位置信息記錄的第1位置信息記錄裝置不同。
圖13是表示該盤制造工序4(圖2)中的第2位置信息記錄裝置的特征 構(gòu)成的框圖。圖中的虛線表示LSI芯片的范圍。
該位置信息記錄裝置由存儲器900、再現(xiàn)頭901、伺服系統(tǒng)902、主軸 電機(jī)903、模擬信號處理器904、 AD905、數(shù)字信號處理器906、格式化器 907、位置信息記錄控制部908、激光驅(qū)動器909和記錄頭910構(gòu)成。
首先，再現(xiàn)頭901對盤的反射層執(zhí)行再現(xiàn)功率的激光照射，生成基于 其反射光強(qiáng)度的模擬再現(xiàn)信號，將跟蹤控制用的模擬再現(xiàn)信號輸出到伺服 系統(tǒng)902，將用于利用反射層的凹凸標(biāo)志再現(xiàn)記錄數(shù)據(jù)的模擬再現(xiàn)信號輸 出到模擬信號處理器904。
伺服系統(tǒng)902，根據(jù)來自再現(xiàn)頭901的模擬再現(xiàn)信號，對反射層的記 錄標(biāo)志的中心進(jìn)行跟蹤控制。另外，生成盤的旋轉(zhuǎn)控制信號，輸出到主軸 電機(jī)903。
主軸電機(jī)903根據(jù)來自伺服系統(tǒng)902的旋轉(zhuǎn)控制信號，控制旋轉(zhuǎn)速度。 在本方式中，執(zhí)行CLV(Constant Linear Velocity)控制，控制使得向圓 周方向成為一定速度的轉(zhuǎn)數(shù)。
模擬再現(xiàn)信號處理器904放大來自再現(xiàn)頭901的模擬再現(xiàn)信號，或進(jìn) 行波形等化，整形模擬再現(xiàn)信號，整形后，輸出到AD905。AD905是用于將模擬信號變換為數(shù)字信號的一般的模擬數(shù)字變換器， 以時鐘信號采樣輸入的模擬信號，生成表示模擬信號電平的多進(jìn)制的數(shù)字
信號，輸出到數(shù)字信號處理器906。
數(shù)字信號處理器906，根據(jù)輸入的多進(jìn)制數(shù)字信號，從所述多進(jìn)制數(shù) 字信號中，利用位于內(nèi)部的PLL電路，抽取時鐘信號，輸出到AD905。而 且，在AD905中，用于模擬信號采樣的時鐘使用所述抽取的時鐘。另外， 數(shù)字信號處理器906與抽取的時鐘同步，二進(jìn)制化輸入的多進(jìn)制數(shù)字信號， 將二進(jìn)制化數(shù)字信號輸出到格式化器907。
格式化器907，從輸入的二進(jìn)制化數(shù)字信號中，檢測按每個一定間隔 賦予的同步碼，與檢測同步碼的定時同步，分割成持有地址信息的扇區(qū)單 位。之后，格式化器907抽取所述地址信息，將該地址信息輸出到位置信 息記錄控制部908。
位置信息記錄控制部908，根據(jù)輸入的地址信息，生成用于記錄預(yù)標(biāo) 志的位置信息的定時。在地址信息是用于記錄位置信息的目標(biāo)地址的情況 下，根據(jù)賦予了所述地址信息的扇區(qū)的開頭位置，在內(nèi)部生成位置信息記 錄選通信號。另外，位置信息記錄控制部908，根據(jù)生成的位置信息記錄 選通，從存儲器900中1比特1比特地取出記錄的位置信息，生成位置信 息記錄信號，輸出到激光驅(qū)動器909。
激光驅(qū)動器909，根據(jù)輸入的位置信息記錄信號，決定照射到追記層 的激光功率，控制流過記錄頭910的激光器的電流值。
記錄頭910，根據(jù)由激光驅(qū)動器909控制的電流值，強(qiáng)弱激光功率， 向追記層照射激光，從而在追記層中形成記錄標(biāo)志，利用所述記錄標(biāo)志， 將存儲器900中保持的預(yù)標(biāo)志的位置信息記錄在追記層中。
如上所述，在該第2位置信息記錄裝置中，再現(xiàn)頭901通常聚焦到反 射層，記錄頭910通常聚焦到追記層，同時，再現(xiàn)頭901和記錄頭910理 想地構(gòu)成于固定的位置，以在相同的半徑位置持有激光光斑，跟蹤控制和 時鐘抽取用的再現(xiàn)信號取得全由再現(xiàn)頭901執(zhí)行。因此，如所述第l位置 信息記錄裝置那樣、向追記層記錄時的層跳動或跟蹤控制的保持、PLL時 鐘頻率的保持等動作變成不需要，從而實現(xiàn)了記錄位置信息的處理的簡 化。但是，該第2位置信息記錄裝置最大的點在于，在大致相同軌道上構(gòu)成再現(xiàn)頭901和記錄頭902。
因此，說明可更簡單地制造該第2位置信息記錄裝置的方式。
圖12是本實施方式的第2位置信息記錄裝置的原理圖。
該第2位置信息記錄裝置的頭1001，由用于再現(xiàn)反射層中形成的凹凸
標(biāo)志的再現(xiàn)頭1001A與向追記層照射記錄激光后記錄位置信息的記錄頭
IOOIB構(gòu)成。該兩個頭固定彼此的位置關(guān)系地配置，以向大致相同半徑位
置進(jìn)行激光照射。
再現(xiàn)頭IOOIA，向反射等的凹凸標(biāo)志照射再現(xiàn)激光，根據(jù)由其反射光 得到的模擬再現(xiàn)信號，進(jìn)行跟蹤控制，或抽取與模擬再現(xiàn)信號同頻率的時 鐘信號，再現(xiàn)信息。記錄頭1001B不執(zhí)行跟蹤控制，僅執(zhí)行聚焦控制。從 由再現(xiàn)頭IOOIA再現(xiàn)的再現(xiàn)信號中抽取地址信息，在地址信息是用于記錄 位置信息的目標(biāo)地址的情況下，記錄頭1001B照射記錄激光，在追記層中 生成記錄標(biāo)志，由此記錄位置信息。
但是，如上所述，在本方式中，若再現(xiàn)頭1001A與記錄頭1001B的位 置關(guān)系與搭載各驅(qū)動器的每個頭不同，則追記層的記錄標(biāo)志與反射層的標(biāo) 志位置的位置關(guān)系就產(chǎn)生頭位置固有的位置錯位，難以保證由任意頭從追 記層再現(xiàn)位置信息。因此，在本方式中，追記層中形成的標(biāo)志構(gòu)成為持有 反射層的凹凸記錄標(biāo)志的多個軌道大小的寬度。因此，即便每次驅(qū)動兩個 頭位置都微少錯位，也可無論哪次驅(qū)動都相同地從追記層再現(xiàn)記錄標(biāo)志。
為了實現(xiàn)上述，可通過反射層適用Blu-my盤，追記層適用CD-R記 錄膜，再現(xiàn)頭設(shè)為Blu-ray盤再現(xiàn)頭，記錄頭設(shè)為CD-R再現(xiàn)頭來實現(xiàn)。 根據(jù)CD-R標(biāo)準(zhǔn)，CD-R的軌道間距為1. 6微米，Blu-ray盤的軌道間距為 0.32微米，所以若使用，則可形成持有反射層標(biāo)志的約5個軌道大小的寬 度之追記層標(biāo)志，所以兩個頭的錯位被允許反射層的兩個軌道大小(若為 Blu-ray盤，則約為0. 64微米)，即便這種頭也可準(zhǔn)備制造。
4.再現(xiàn)裝置
下面，說明由該光盤制造工序制造的光盤的再現(xiàn)裝置。 圖14是表示光盤的再現(xiàn)裝置的特征構(gòu)成的框圖，該光盤持有在反射 膜上形成了凹凸標(biāo)志的反射層、與在其深部或淺部形成了可利用基于激光 照射的反射率變化來記錄信息的追記膜的追記層。圖中的虛線表示LSI芯片的范圍。
該光盤再現(xiàn)裝置由再現(xiàn)頭1101、伺服系統(tǒng)1102、主軸電機(jī)1103、模
擬信號處理器1104、 AD1105、數(shù)字信號處理器1106、格式化器1108、地 址再現(xiàn)部1109、 LPFlllO、位置信息復(fù)原部llll、加密解讀部1112、和存 儲器1113構(gòu)成。
再現(xiàn)頭1101，對盤的形成凹凸標(biāo)志的反射層照射再現(xiàn)激光，根據(jù)其反 射光，生成跟蹤控制用的模擬信號與數(shù)據(jù)再現(xiàn)用的模擬信號，將跟蹤控制 用的模擬信號輸出到伺服系統(tǒng)1102，將數(shù)據(jù)再現(xiàn)用的模擬信號輸出到模擬 信號處理器1104。
伺服系統(tǒng)1102，根據(jù)輸入的模擬信號，執(zhí)行將再現(xiàn)頭控制到反射層的 記錄標(biāo)志的中心的跟蹤控制。
主軸電機(jī)1103，執(zhí)行盤的圓周方向的掃描速度無論在何半徑位置均為 一定用的CLV控制，使盤旋轉(zhuǎn)。
模擬信號處理器1104，放大來自再現(xiàn)頭1101的模擬再現(xiàn)信號，或進(jìn) 行波形等化，整形，將整形后的模擬信號輸出到AD1105。
AD1105，以時鐘信號采樣輸入的模擬信號，生成多進(jìn)制數(shù)字信息，輸 出到數(shù)字信號處理器和LPFlllO。
數(shù)字信號處理器1106在內(nèi)部持有PLL電路，從由AD1105輸入的多進(jìn) 制數(shù)字再現(xiàn)信號中抽取時鐘信號，輸出到AD1105。另夕卜，數(shù)字信號處理器 1106，根據(jù)抽取的時鐘，二進(jìn)制化輸入的多進(jìn)制數(shù)字信號，將二進(jìn)制化后 的數(shù)字再現(xiàn)信號輸出到格式化器1108。
另外，AD1105在采樣中使用的時鐘以由該數(shù)字信號處理器抽取的時鐘 來進(jìn)行。
格式化器1108，從輸入的二進(jìn)制化再現(xiàn)信號中，檢測賦予一定間隔的 同步碼，與所述同步碼的檢測定時同步，分割成作為包含地址信息的最小 單位的扇區(qū)，輸出到地址再現(xiàn)部1109。
地址再現(xiàn)部1109，從輸入的扇區(qū)分割后的再現(xiàn)信號中，抽取糾錯編碼 化后的地址，在執(zhí)行了地址信息的糾錯之后，輸出到位置信息復(fù)原部1111。
LPFlllO，由一般的低頻域抽取濾波器(Low-Pass Filter)構(gòu)成，去除 來自AD1105的多進(jìn)制數(shù)字再現(xiàn)信號的高頻頻帶的信號，輸出到位置信息
52復(fù)原部llll。
另外，該濾波器的頻帶限制被構(gòu)成為在適用于反射層記錄標(biāo)志的調(diào) 制中，與由最大比特長度確定的頻帶相比，能夠抽出實質(zhì)上低的頻帶分量。
位置信息復(fù)原部1111是從輸入的地址信息、頻帶限制后的再現(xiàn)信號 中檢測記錄在追記層中的記錄標(biāo)志的部分。該位置信息復(fù)原部llll，當(dāng)再 現(xiàn)反射層的凹凸記錄標(biāo)志時，根據(jù)基于其深部或淺部形成的追記層的記錄 標(biāo)志的再現(xiàn)信號的調(diào)制率特性的變動，在一定范圍(在本實施方式中，為
Blu-ray Disc中的644溝道比特)中，執(zhí)行追記層有無記錄標(biāo)志的判定， 再現(xiàn)加密化的位置信息。
圖15是由追記層和反射層構(gòu)成的2層媒體的再現(xiàn)波形，圖15(A)是 Ll層未記錄、LO層已記錄時的LO層的再現(xiàn)波形，圖15(B)是L1/L0均已 記錄時的L0層的再現(xiàn)波形。根據(jù)該結(jié)果，可知，在追記層中有記錄標(biāo)志 的情況(追記層的反射率降低)與追記層不存在記錄標(biāo)志(追記層的反射率 無變化)時，再現(xiàn)波形的上側(cè)的振幅約變動7%。該位置信息復(fù)原部llll， 根據(jù)該再現(xiàn)波形的上側(cè)的振幅變動，復(fù)原追記層中記錄的位置信息。將復(fù) 原后的加密化位置信息輸出到加密解讀部1112。
加密解讀部1112是利用內(nèi)部持有的解讀密鑰，解讀輸入的加密化位 置信息和抽取位置信息的部分。該加密解讀部1112，是與該盤制造工序(圖 2)的加密部對應(yīng)的加密算法的解讀部，無論是公開密鑰加密算法的情況還 是秘密密鑰加密算法的情況下，均可利用內(nèi)部秘密持有的秘密密鑰，解讀 輸入的加密化位置信息，輸出到存儲器1113。 存儲器1113存儲輸入的位置信息。 下面說明該位置信息再現(xiàn)裝置的動作。 圖16是表示該位置信息再現(xiàn)裝置的特征動作的定時圖。 首先，該位置信息再現(xiàn)裝置再現(xiàn)反射層中形成的凹凸標(biāo)志。來自反射 層的再現(xiàn)信號，根據(jù)由數(shù)字信號處理器1106抽取的時鐘，采樣再現(xiàn)的模 擬再現(xiàn)信號，量子化成多進(jìn)制數(shù)字信號，二進(jìn)制化、且被輸出到格式化器 1108。格式化器1108，從輸入的二進(jìn)制化的再現(xiàn)信號中，檢測按每個一定 間隔賦予的同步碼，與檢測所述同步碼的定時同步，分割成持有地址信息 的扇區(qū)，輸出到地址再現(xiàn)部1109。地址再現(xiàn)部1109以由格式化器分割的扇區(qū)單位來再現(xiàn)地址信息。因此，從反射層再現(xiàn)的數(shù)據(jù)，如圖15A所示那 樣，將扇區(qū)分割成持有同步碼的幀單位后，與持有地址的扇區(qū)一起再現(xiàn)。 在本實施方式中，將再現(xiàn)位置信息的目標(biāo)地址說明為N。從而，從具有地
址N的扇區(qū)1301中，以該扇區(qū)中的幀單位來檢測追記層的記錄標(biāo)志。
在本實施方式中，以由追記層的記錄標(biāo)志(圖16B)來在1幀記錄3比 特的位置信息的方式加以說明。
在追記層中記錄標(biāo)志被記錄的區(qū)域中，對于當(dāng)再現(xiàn)了其淺部或深部形 成的反射層的凹凸記錄標(biāo)志時的模擬的反射層的再現(xiàn)信號(圖16C)，在追 記層中有記錄標(biāo)志的情況下，再現(xiàn)信號的上側(cè)的振幅變動。該反射層再現(xiàn) 信號(圖16C)輸出到LPF1110。
LPF1110由用于在輸入的模擬信號中僅抽取低頻域分量的Low Pass Filter構(gòu)成，輸出僅抽取低頻域分量后的反射層再現(xiàn)信號(圖16D)。而且， 該濾波器的頻帶限制被構(gòu)成為在適用于反射層記錄標(biāo)志的調(diào)制中，與由 最大比特長度確定的頻帶相比，能夠抽取實質(zhì)上低的頻帶分量。另外，在 本實施方式中，由于按Blu-ray盤644溝道比特單位以1比特的周期而形 成追記層的記錄標(biāo)志，所以在以lx線速度進(jìn)行再現(xiàn)的情況下，當(dāng)使用 100KHz左右的截止頻率時，是有效的(Blu-ray盤的lx溝道速率為66MHz)。
位置信息復(fù)原部1111，根據(jù)由地址再現(xiàn)部1109抽取的每個扇區(qū)的地 址信息，從用于再現(xiàn)追記層的位置信息的目標(biāo)地址的開頭起，生成位置信 息的檢測選通(圖16E)。該位置檢測選通(圖16E)被控制為"H"，直到位 置信息的再現(xiàn)完成。
位置信息復(fù)原部1111，在檢測選通(圖16E)為"H"的區(qū)間中，在位 置信息1比特被記錄的區(qū)間(在本實施方式中，為644溝道比特間隔)中， 積分來自LPF1110的僅抽取了低頻域分量后的再現(xiàn)信號。積分方法有以 溝道比特單位來相加位置信息1比特被記錄的區(qū)間中的LPF輸出值自身的 方法；或在LPF輸出為"正"的情況下進(jìn)行"+1"、為負(fù)的情況下進(jìn)行"-l" 的方法。無論如何，由于追記層中存在記錄標(biāo)志，其深部或淺部的反射層 再現(xiàn)信號的振幅降低，所以LPF1110輸出的積分值為"-"。另一方面， 在追記層中無標(biāo)志的部分中，由于反射層再現(xiàn)信號的振幅不變動，所以 LPF1110輸出的積分值為"+"(圖16F)。通過在積分值為"+ "的情況下
54為比特O，相反積分值為"-"的情況下為比特l，表示加密化位置信息的
檢測數(shù)據(jù)(圖16G)被復(fù)原。
檢測到的檢測數(shù)據(jù)(圖16G)由加密解讀部1112解讀，解讀后的位置信 息存儲在存儲器1113中。
如上所述，該位置信息再現(xiàn)裝置是如下裝置再現(xiàn)反射層中形成的凹 凸標(biāo)志，同時，利用該反射層的凹凸標(biāo)志的再現(xiàn)信號的振幅變動，同時讀 出反射層的深部或淺部形成的追記層的記錄標(biāo)志信息，從而根據(jù)所述追記 層的記錄標(biāo)志來再現(xiàn)位置信息。由此，可提供再現(xiàn)裝置，其能與反射層的 記錄標(biāo)志同時讀出在通常的再現(xiàn)裝置中不能再現(xiàn)的追記層的記錄標(biāo)志。
下面，說明在由該盤制造工序制造的盤的追記層中、在盤半徑方向直 線地形成的預(yù)標(biāo)志的再現(xiàn)裝置。
圖17是表示在不正當(dāng)復(fù)制光盤的情況下、限制所述內(nèi)容數(shù)據(jù)的再現(xiàn) 的光盤再現(xiàn)裝置的特征構(gòu)成的框圖。圖中的虛線表示LSI芯片的范圍。
如圖所示，該光盤再現(xiàn)裝置根據(jù)盤制造工序中制造的反射層的凹凸標(biāo) 志，再現(xiàn)內(nèi)容數(shù)據(jù)，檢測所述反射層的深部或淺部形成的追記層中形成的、 在半徑方向上直線的預(yù)標(biāo)志，根據(jù)其結(jié)果，判定盤是否被不正當(dāng)復(fù)制。
該光盤再現(xiàn)裝置由存儲器1400、再現(xiàn)頭1401、模擬信號處理電路 1402、 AD1403、數(shù)字信號處理器1404、標(biāo)志信號檢測部1405、伺服系統(tǒng) 1406、主軸電機(jī)1407、追記層預(yù)標(biāo)志檢測部1408、追記預(yù)標(biāo)志綜合部1409、 ECC1410和開關(guān)1411構(gòu)成。
存儲器1400可以是上述位置信息再現(xiàn)裝置中的存儲器1113，也可以 是保持相同內(nèi)容的存儲器。在該存儲器1400中，記錄由位置信息再現(xiàn)裝 置再現(xiàn)的位置信息。在該位置信息中，存儲距與記錄預(yù)標(biāo)志的地址信息相 同的地址信息所示的扇區(qū)開頭的溝道比特數(shù)。
首先，未圖示的系統(tǒng)控制器，從所述存儲器1400中，讀出記錄預(yù)標(biāo) 志的地址信息，進(jìn)行控制，以在該地址的淺部進(jìn)行再現(xiàn)。
光學(xué)頭1401，從控制到所述地址淺部的頭位置起，對盤的反射層進(jìn)行 再現(xiàn)功率的激光照射，根據(jù)其反射層，生成模擬再現(xiàn)信號，輸出到模擬再 現(xiàn)信號處理器1402。
模擬再現(xiàn)信號處理器1402，放大輸入的模擬再現(xiàn)信號，或波形等化，整形模擬再現(xiàn)信號，將整形后的模擬再現(xiàn)信號輸出到AD1403。
AD1403是一般的模擬數(shù)字變換器，以輸入的時鐘信號來采樣輸入的整 形后模擬再現(xiàn)信號，生成多進(jìn)制數(shù)字信號，輸出到數(shù)字信號處理器1404。 數(shù)字信號處理器1404從輸入的多進(jìn)制數(shù)字信號中，利用內(nèi)部持有的 PLL電路，抽取再現(xiàn)信號相同頻帶的時鐘，輸出到AD1403。在AD1403中， 用于采樣輸入的整形后模擬信號的時鐘使用該抽取到的時鐘。另外，該數(shù) 字再現(xiàn)信號處理器1404與抽取的時鐘信號同步，二進(jìn)制化輸入的多進(jìn)制 數(shù)字再現(xiàn)信號，將二進(jìn)制化再現(xiàn)信號輸出到標(biāo)志信號檢測部1405。
標(biāo)志位置檢測部1405，在內(nèi)部持有同步碼檢測部1405A與地址檢測部 1405B。
同步碼檢測部1405A從輸入的二進(jìn)制化數(shù)字信號中，檢測按每個一定 間隔賦予的同步碼。另外，與檢測到所述同步碼的定時同步，將二進(jìn)制化 數(shù)字信號分割成持有地址信息的扇區(qū)，輸出到地址檢測部1405B。
地址檢測部1405B對分割的每個扇區(qū)，抽取被賦予的地址信息。所述 地址信息，在判斷為是用于對存儲器1400中存儲的預(yù)標(biāo)志進(jìn)行檢測的目 標(biāo)地址被賦予的扇區(qū)之前一個的扇區(qū)的情況下，判定其下一扇區(qū)的開始位 置，即用于對存儲器1400中存儲的預(yù)標(biāo)志進(jìn)行檢測的目標(biāo)地址所示的扇 區(qū)的開頭位置，以及向伺服系統(tǒng)1406輸出層跳動信號和跟蹤保持信號， 同時，向數(shù)字信號處理器1404輸出PLL保持信號。
伺服系統(tǒng)1406，在內(nèi)部持有層跳動控制部1406A和跟蹤控制部1406B。
層跳動控制部1406A，根據(jù)輸入的層跳動控制信號，使再現(xiàn)頭1401 的聚焦位置從反射層移動到其淺部或深部形成的追記層。
跟蹤控制部1406B，對反射層的凹凸標(biāo)志執(zhí)行跟蹤控制，根據(jù)輸入的 跟蹤保持信號，使再現(xiàn)頭1401的半徑位置固定。
主軸電機(jī)1407，根據(jù)由存取的地址位置求出的半徑位置，以CLV控制 來旋轉(zhuǎn)盤，以使向圓周方向的線速度成為一定。
追記層預(yù)標(biāo)志檢測部1408，根據(jù)從數(shù)字信號處理器1404輸入的二進(jìn) 制數(shù)字信息、與來自標(biāo)志信號檢測部的目標(biāo)地址的開頭位置信號，檢測追 記層中形成的預(yù)標(biāo)志的位置信息。該預(yù)標(biāo)志的位置信息，通過從目標(biāo)地址 所示的扇區(qū)開頭起，計數(shù)保持的PLL時鐘，來抽取從目標(biāo)扇區(qū)開頭位置開始的時鐘數(shù)，作為預(yù)標(biāo)志的位置信息。預(yù)標(biāo)志的檢測，在由伺服系統(tǒng)1406
將聚焦控制移動到追記層之后，利用來自數(shù)字信號處理器1404的二進(jìn)制
化再現(xiàn)信號的變化點來抽取。
追記層預(yù)標(biāo)志對照部1409，將存儲器1400中記錄的預(yù)標(biāo)志的位置信 息與由追記層預(yù)標(biāo)志檢測部1408檢測到的位置信息(地址與距扇區(qū)開頭的 時鐘數(shù))進(jìn)行對照，在事先允許的閾值的誤差范圍內(nèi)，判定是否相同。在 判斷為不相同的情況下，向開關(guān)1411輸出再現(xiàn)數(shù)據(jù)輸出禁止信號。
ECC1410，根據(jù)來自數(shù)字信號處理器1404的二進(jìn)制化再現(xiàn)信號，分割 成數(shù)據(jù)與糾錯用的校驗位，進(jìn)行數(shù)據(jù)部的糾錯，輸出到開關(guān)1411。
開關(guān)1411，若來自追記層預(yù)標(biāo)志對照部1409的再現(xiàn)數(shù)據(jù)輸出禁止信 號被輸出，則停止從ECC1410的輸出，中斷再現(xiàn)動作。
下面，說明該盤制造工序制造的盤的追記層中形成的在盤半徑方向呈 直線的預(yù)標(biāo)志的再現(xiàn)裝置的再現(xiàn)動作。
圖18是表示該再現(xiàn)裝置的特征動作的定時圖。
首先，該再現(xiàn)裝置利用未圖示的系統(tǒng)控制器，讀出存儲在存儲器1400 中的預(yù)標(biāo)志的檢測目標(biāo)地址，向所述目標(biāo)地址執(zhí)行再現(xiàn)控制。
光學(xué)頭1401移動到根據(jù)由系統(tǒng)控制器所示的地址求出的半徑位置， 向反射層照射再現(xiàn)功率的激光，抽取模擬再現(xiàn)信號(圖18C-l)。
抽取出的模擬再現(xiàn)信號(圖18C-1)由模擬信號處理器1402整形，由數(shù) 字信號處理器1404的PLL電路抽取PLL時鐘(圖18G-1)。
另外，再現(xiàn)的再現(xiàn)信號由標(biāo)志信號檢測部1405檢測同步碼1501，根 據(jù)檢測所述同步碼1501的定時，分割成包含地址信息的扇區(qū)1502。
標(biāo)志信號檢測部1405根據(jù)內(nèi)部抽取的地址信號，比較用于檢測存儲 器1400中存儲的預(yù)標(biāo)志的目標(biāo)地址與再現(xiàn)中的地址，檢測所述目標(biāo)地址 所示的扇區(qū)的開頭位置，生成層跳動信號、跟蹤保持信號(圖18F)，輸出 到伺服系統(tǒng)1406，同時，生成PLL保持信號(圖18E)，輸出到數(shù)字信號處 理器1404。
伺服系統(tǒng)1406在來自標(biāo)志信號檢測部1405的層跳動信號的定時，將 聚焦控制位置從反射層變更到其淺部或深部形成的追記層。另外，在跟蹤 保持信號(圖18F)的"H"區(qū)間，不執(zhí)行盤中形成的記錄標(biāo)志下的跟蹤控制，保持再現(xiàn)頭1401的半徑位置。
另外，數(shù)字信號處理器1404在來自標(biāo)志信號檢測部1405的PLL保持 信號(圖18E)的"H"區(qū)間中，固定輸出的PLL時鐘信號的頻率后輸出(圖 18G-2)。
若利用伺服系統(tǒng)1406從反射層層跳動到追記層，則由于在追記層中 未記錄預(yù)標(biāo)志以外的標(biāo)志，所以模擬再現(xiàn)信號表示反射率高的一方的一定 的電平(圖18C-2)，在再現(xiàn)頭1401通過了預(yù)標(biāo)志之上的情況下，表示反射 率低的一方的一定的電平(圖18C-3)。圖18A所示的反射層的數(shù)據(jù)流，由 于在層跳動到追記層之后，執(zhí)行聚焦到追記層的再現(xiàn)，所以不呈現(xiàn)，但這 里，為了容易說明而記載。
對于進(jìn)行層跳動到追記層之后的再現(xiàn)信號，如上所述，得到表示僅在 記錄預(yù)標(biāo)志的區(qū)間反射率低的一方的一定電平的模擬再現(xiàn)信號，并且利用 數(shù)字再現(xiàn)處理器1404的再現(xiàn)信號的二進(jìn)制化處理，得到預(yù)標(biāo)志再現(xiàn)信號 (圖18D)。這里，由于再現(xiàn)信號因?qū)犹鴦佣查g搖動為不定值，所以在層 跳動之后，控制成使得在一定區(qū)間中將預(yù)標(biāo)志再現(xiàn)信號固定為"L"。
在追記層預(yù)標(biāo)志檢測部1408中，內(nèi)部持有與來自數(shù)字信號處理器 1404的時鐘信號同步的計數(shù)器。該計數(shù)器由存儲器1400中存儲的預(yù)標(biāo)志 檢測目標(biāo)地址所示的扇區(qū)開頭位置初始化，計數(shù)從扇區(qū)開頭位置起至預(yù)標(biāo) 志再現(xiàn)信號(圖18D)的上升沿、即預(yù)標(biāo)志的開始位置為止的時鐘數(shù)X(圖 18H)。另外，所述計數(shù)器在預(yù)標(biāo)志再現(xiàn)信號(圖18D)的上升沿的定時，從 扇區(qū)開頭將預(yù)標(biāo)志開始位置計數(shù)值X(圖18H)移動到緩沖器，再次初始化， 抽取從預(yù)標(biāo)志再現(xiàn)信號(圖18D)的上升沿至下降沿的時鐘數(shù)、即預(yù)標(biāo)志寬 度的時鐘數(shù)Y(圖18H)。該追記層預(yù)標(biāo)志檢測部1408將從目標(biāo)扇區(qū)開頭至 預(yù)標(biāo)志開始位置的時鐘數(shù)X(圖18H)與預(yù)標(biāo)志寬度的時鐘數(shù)Y(圖18H)輸出 到追記層預(yù)標(biāo)志對照部1409。
追記層預(yù)標(biāo)志對照部1409根據(jù)某個一定誤差范圍閾值，執(zhí)行存儲器 1400中存儲的追記層預(yù)標(biāo)志的位置信息與由追記層預(yù)標(biāo)志檢測部1408抽 取出的預(yù)標(biāo)志的記錄位置信息是否一致的比較判定。在追記層預(yù)標(biāo)志對照 部1409中，僅在判斷為從目標(biāo)扇區(qū)至預(yù)標(biāo)志記錄開始位置為止的時鐘數(shù)Y 和預(yù)標(biāo)志寬度X均與存儲器1400中存儲的追記層預(yù)標(biāo)志的位置信息存在整合的情況下，才將再現(xiàn)數(shù)據(jù)輸出禁止信號(圖181)設(shè)為"L"，允許內(nèi)容 數(shù)據(jù)的再現(xiàn)。另一方面，在任一個判定為不一致的情況下，都不允許內(nèi)容 數(shù)據(jù)的再現(xiàn)(執(zhí)行基于開關(guān)1411的再現(xiàn)數(shù)據(jù)的輸出控制)。
如上所述，若使用該盤制造工序與利用該工序制造的盤及其再現(xiàn)裝 置，則可排除不正當(dāng)拷貝的盤的再現(xiàn)，僅可再現(xiàn)正規(guī)盤的盤。S卩，在盤制 作時，在追記層中在半徑方向形成直線的預(yù)標(biāo)志，抽取與位于所述追記層 的淺部或深部的反射層中形成的凹凸標(biāo)志的相互位置關(guān)系，再加密化該位 置信息后記錄在追記層中。因此，該反射層的記錄標(biāo)志與追記層的預(yù)標(biāo)志 的位置關(guān)系為每個盤所固有。該盤固有的位置信息由于被加密化后記錄，
所以不會被有惡意的第3者變更。
另外，不可能包含作為該固有信息的位置關(guān)系來拷貝。這是因為，至 追記層的預(yù)標(biāo)志與反射層的凹凸標(biāo)志無關(guān)地記錄，同時，預(yù)標(biāo)志的間隔或 預(yù)標(biāo)志寬度自身，由于對伺服系統(tǒng)的跟蹤控制頻帶寬得多，所以不能向預(yù) 標(biāo)志實施跟蹤，進(jìn)行拷貝。
并且，用于記錄位置信息的追記層的記錄標(biāo)志也一樣，由于以比伺服 系統(tǒng)的跟蹤周期寬得多的間隔被記錄，所以不能從追記層直接拷貝到追記 層。另外，由于預(yù)標(biāo)志的位置信息被加密化，所以若不是持有可解讀加密 的密鑰信息的正規(guī)的再現(xiàn)裝置，則由于不知道記錄預(yù)標(biāo)志的地址位置，所 以僅從地址位置聚焦跳動到追記層才可再現(xiàn)的預(yù)標(biāo)志的再現(xiàn)是不可能的。
(實施方式2)
l.光盤
在本實施方式中，使用附圖來詳細(xì)說明持有追記層與反射層的光盤及 其盤制造工序和再現(xiàn)裝置，其中，該追記層持有形成預(yù)標(biāo)志的預(yù)標(biāo)志記錄 區(qū)域和形成包含地址信息的的擺動區(qū)域，該反射層在其深部或淺部，利用 凹凸標(biāo)志記錄主要包含地址信息的內(nèi)容信息。
圖19是該實施方式的光盤的原理圖。該光盤由利用凹凸標(biāo)志主要記 錄內(nèi)容信息的反射層、和在其深部或淺部持有記錄預(yù)標(biāo)志的預(yù)標(biāo)志記錄區(qū) 域和形成包含地址信息的擺動的擺動區(qū)域之追記層構(gòu)成。該盤1601至少 由反射層1602與位于其深部或淺部的追記層構(gòu)成。至少該2層通過使兩 個光盤基板貼合來制成，或在一個基板上構(gòu)成2層來制造。在本實施方式
59中，作為本發(fā)明的最小構(gòu)成，說明1個反射層與1個追記層，但其中至少 一方為多個也無妨，也可各為多個。
該盤的反射層1602中形成盤的圓周方向上的凹凸標(biāo)志1604，其上蒸
鍍鋁或銀等反射膜。盤中記錄的凹凸標(biāo)志主要調(diào)制和記錄內(nèi)容數(shù)據(jù)，按每 個信息單位(扇區(qū))賦予地址信息。
該盤的追記層1603中，在盤內(nèi)周部沿圓周方向以大致一定寬度，存 在記錄了在半徑方向呈直線的(也可以是從盤中心起的一定角度范圍的扇 形形狀)預(yù)標(biāo)志1608的預(yù)標(biāo)志記錄區(qū)域1605。預(yù)標(biāo)志1608在圓周方向上 被形成多個。
另外，在該盤的追記層1603中，在預(yù)標(biāo)志記錄區(qū)域1605的外周側(cè)， 形成有形成了擺動軌道的擺動區(qū)域1607。在該擺動中，重疊記錄地址信息。 另夕卜，在該擺動區(qū)域的外周側(cè)的特定區(qū)域中，加密化(或賦予篡改防止碼) 并記錄在盤制造工序中檢測到的預(yù)標(biāo)志的位置信息。
2.光盤制造方法
圖20是表示制造本實施方式的光盤的制造工序的流程圖。
該工序由編著工序、盤制造工序1、盤制造工序2、盤制造工序3和 盤制造工序4構(gòu)成。
在編著工序中，編著盤中記錄的游戲信息或映像信息等內(nèi)容信息，變 換為例如Blu-ray盤記錄格式。將編著后的編著數(shù)據(jù)輸出到盤制造工序1。
在盤制造工序l中，輸入編著后的編著數(shù)據(jù)，根據(jù)該編著數(shù)據(jù)，進(jìn)行 校對環(huán)規(guī)，制作盤的反射層的母盤。
在利用校對環(huán)規(guī)制成反射層的母盤后，基于該母盤進(jìn)行壓印，制成表 面形成凹凸標(biāo)志的盤基板。
在制成盤基板之后，在形成的凹凸標(biāo)志上，蒸鍍鋁或銀等金屬膜，再 在其上涂布透明樹脂。
另一方面，為了制成形成于盤反射層淺部的追記層，根據(jù)來自追記層 母盤格式化器的輸出，進(jìn)行校對環(huán)規(guī)，制成追記層母盤。追記層母盤格式 化器發(fā)生包含形成于盤中的地址信息的擺動信號，根據(jù)該擺動信號，在盤 母盤上形成包含地址信息的凹凸的擺動軌道。該反射層基板的特征在于， 在內(nèi)周側(cè)的一定區(qū)域中持有未形成擺動的區(qū)域，作為預(yù)標(biāo)志記錄區(qū)域。因此，僅在預(yù)標(biāo)志記錄區(qū)域靠外周側(cè)，形成包含地址信息的擺動。
利用如此校對環(huán)規(guī)后的追記層母盤，使金屬膜蒸鍍，壓印在涂布了透 明樹脂的部分上。
在壓印后，使所述透明樹脂固化，在固化后的透明樹脂上，蒸鍍基于 色素或有機(jī)材料的追記膜。所述色素或有機(jī)材料通常是追記型媒體的記錄 層中使用的膜材料。
在蒸鍍所述追記膜之后，形成保護(hù)層。保護(hù)層也由粘著劑賦予透明薄 膜薄片，也可利用旋涂透明樹脂來形成。
如上所述，在盤制造工序l中，制成形成記錄了內(nèi)容數(shù)據(jù)的凹凸標(biāo)志 的反射層、與在其淺部形成持有地址的擺動的追記層的2層構(gòu)造的光盤
1601。
在本實施方式中，為了簡化說明，設(shè)為作為最小構(gòu)成要素的反射層與 追記層的2層構(gòu)成，但本發(fā)明不限于此，也可構(gòu)成為持有多個至少反射層 或追記層，也構(gòu)成為各持有多個反射層、追記層。
另外，在本實施方式中，說明在形成反射膜之后、在其上形成追記層 的方法，但不用說，也可在形成追記層后形成反射層。此時，利用追記層 母盤制成盤基板，形成追記膜，在其上涂布透明樹脂，利用反射層母盤壓 印后，使透明樹脂固化，在固化后，蒸鍍金屬反射膜，由此制成盤。
另外，在本實施方式中，使用l.lmm基板的Blu-ray盤來進(jìn)行說明， 但也可適用DVD那樣的使0.6腿基板張貼的盤。其中，由粘著劑張貼由反 射母盤壓印的0.6mm基板與由追記層母盤壓印的追記層基板。由此，可制 成持有反射層與追記層的光盤。CD那樣由單基盤構(gòu)成的盤也可同樣實施。
這樣，將由盤制造工序1制成的盤2701被移動到盤制造工序2。盤制 造工序2是在盤制造工序1中制成的盤2701的追記層中形成預(yù)標(biāo)志的工 序。
首先，將盤制造工序1制成的盤2701安裝在預(yù)標(biāo)志記錄裝置中。安 裝后，預(yù)標(biāo)志記錄裝置的主軸電機(jī)利用無論何半徑位置均為相等轉(zhuǎn)速的 CAV控制，使盤旋轉(zhuǎn)。另外，使記錄頭移動到盤內(nèi)周的用于記錄預(yù)標(biāo)志的 目標(biāo)半徑位置。記錄該預(yù)標(biāo)志的半徑位置是與盤2701的追記層中未形成 擺動的預(yù)標(biāo)志記錄區(qū)域相同的半徑位置。接著，預(yù)標(biāo)志記錄裝置聚焦到盤內(nèi)的追記層，同步于主軸電機(jī)的一旋 轉(zhuǎn)信號，間歇地照射記錄光束，在追記層中記錄預(yù)標(biāo)志。另外，盤每旋轉(zhuǎn) 一次，以約預(yù)標(biāo)志的半徑方向的寬度向外周側(cè)移動記錄頭。
由此，在由盤制造工序1中制成的盤2701的追記層的內(nèi)周側(cè)設(shè)置的 預(yù)標(biāo)志記錄區(qū)域中，沿圓周方向形成多個半徑方向上呈直線的預(yù)標(biāo)志。另 外，預(yù)標(biāo)志的間隔期望是具有反射層中記錄的凹凸標(biāo)志的地址信息的扇區(qū)
間隔左右的間隔。即，在Blu-ray盤中，為4 5mm左右。
這樣，在追記層中形成了預(yù)標(biāo)志的盤2702被移動到盤制造工序3。盤 制造工序3是從反射層的記錄標(biāo)志位置測定由盤制造工序2形成的預(yù)標(biāo)志 的記錄位置的工序。
首先，將盤制造工序2中記錄了預(yù)標(biāo)志的盤2703安裝在預(yù)標(biāo)志位置 檢測裝置上。該預(yù)標(biāo)志位置檢測裝置也可由與盤制造工序2中說明的預(yù)標(biāo) 志記錄裝置相同的裝置構(gòu)成。
安裝在預(yù)標(biāo)志位置檢測裝置上的盤，利用主軸電機(jī)，通過無論何半徑 位置線速度均一定的CLV控制，使盤旋轉(zhuǎn)。
接著，在對盤2702的記錄了凹凸標(biāo)志的反射層進(jìn)行再現(xiàn)的同時，使 預(yù)標(biāo)志位置檢測裝置的再現(xiàn)頭訪問相當(dāng)于記錄預(yù)標(biāo)志的追記層的預(yù)標(biāo)志 記錄區(qū)域的半徑位置的半徑位置處的目標(biāo)地址位置。詳細(xì)地說，首先，使 再現(xiàn)頭移動，以變?yōu)槟繕?biāo)的地址位置的淺部，在到達(dá)目標(biāo)地址之前，使用 于再現(xiàn)反射層的再現(xiàn)準(zhǔn)備完成。
在完成了再現(xiàn)準(zhǔn)備之后，在賦予了目標(biāo)地址的扇區(qū)的開頭位置，使再 現(xiàn)頭的聚焦位置跳動到反射層的淺部或深部形成的追記層。另外，在跳動 的時刻，使對反射層的凹凸記錄標(biāo)志執(zhí)行的、預(yù)標(biāo)志位置檢測裝置的伺服 系統(tǒng)的跟蹤控制停止，另外，使與來自反射層的凹凸標(biāo)志的再現(xiàn)信號同步 生成的時鐘信號的頻率控制停止。另外，使基于停止了所述頻率控制的時 鐘信號的時鐘計數(shù)器動作。
在跳動到追記層之后，利用由再現(xiàn)頭從追記層再現(xiàn)的再現(xiàn)信號，由所 述計數(shù)器求出預(yù)標(biāo)志的記錄開始位置和預(yù)標(biāo)志的記錄結(jié)束位置。從而，至 所述預(yù)標(biāo)志記錄開始位置為止的計數(shù)器值，求出作為從包含反射層的目標(biāo) 地址的扇區(qū)開頭位置至追記層的預(yù)標(biāo)志記錄位置為止的時鐘數(shù)。另外，若在預(yù)標(biāo)志記錄開始位置復(fù)位計數(shù)器，則從預(yù)標(biāo)志開始位置至預(yù)標(biāo)志結(jié)束位 置為止的預(yù)標(biāo)志寬度被求出作為時鐘數(shù)。這樣，求出的時鐘數(shù)與目標(biāo)地址 信息一起保存在存儲器中。另外，利用屬于對應(yīng)于預(yù)標(biāo)志記錄區(qū)域的半徑 位置的多個地址來確認(rèn)預(yù)標(biāo)志記錄位置，將該多個預(yù)標(biāo)志位置存儲在存儲器中。
這樣，將求出了從反射層的地址位置至追記層的預(yù)標(biāo)志為止的位置信
息的盤2703移動到下一盤制造工序4。
盤制造工序4是對盤制造工序3中檢測到預(yù)標(biāo)志位置信息的光盤2703 的追記層加密化并記錄預(yù)標(biāo)志位置信息的工序。
首先，盤制造工序4將盤制造工序3中檢測到預(yù)標(biāo)志位置信息的光盤 2703安裝在位置信息記錄裝置中。該位置信息記錄裝置不妨與盤制造工序 2中的預(yù)標(biāo)志記錄裝置或盤制造工序3中的位置信息檢測裝置構(gòu)成在相同 的裝置內(nèi)。
安裝的盤由主軸電機(jī)利用CLV控制使盤旋轉(zhuǎn)，無論何半徑位置上線速 度均為相同。
接著，從盤內(nèi)追記層的預(yù)標(biāo)志記錄區(qū)域再現(xiàn)在外周側(cè)上的形成了包含 地址信息的擺動之?dāng)[動，移動到記錄預(yù)標(biāo)志位置信息的目標(biāo)地址位置。在 到達(dá)目標(biāo)位置之后，加密化在盤制造工序3中檢測并存儲在存儲器中的預(yù) 標(biāo)志位置信息，從所述目標(biāo)地址開始記錄。
這樣，該預(yù)標(biāo)志位置記錄裝置，除了加密化并記錄盤制造工序3中檢 測到的預(yù)標(biāo)志記錄位置的部分外，與通常的追記媒體的記錄裝置的構(gòu)成相
如上所述，盤制造工序1 4制作的盤2704，制成在盤內(nèi)持有記錄了 凹凸標(biāo)志的反射層、與在其淺部或深部形成的內(nèi)周側(cè)形成預(yù)標(biāo)志記錄區(qū) 域、在預(yù)標(biāo)志記錄區(qū)域外周形成包含地址的擺動的追記層的盤，在追記層 的內(nèi)周側(cè)的預(yù)標(biāo)志記錄區(qū)域，形成在半徑方向呈直線的預(yù)標(biāo)志，檢測從反 射層的凹凸標(biāo)志的基準(zhǔn)位置開始的追記層的預(yù)標(biāo)志記錄位置，在追記層的 預(yù)標(biāo)志記錄區(qū)域的外周加密化并記錄檢測到的預(yù)標(biāo)志記錄位置信息。
盤制造工序4的加密化，既可以是秘密密鑰加密也可以是公開密鑰加 密。秘密密鑰加密必需嚴(yán)格管理試用加密化的密鑰信息，公開密鑰加密不必嚴(yán)格管理加密密鑰本身。 3.記錄裝置
下面，詳細(xì)說明本盤制造工序中使用的預(yù)標(biāo)志記錄裝置、位置信息檢 測裝置和位置信息記錄裝置。
圖21是表示作為將所述預(yù)標(biāo)志記錄裝置、位置信息檢測裝置和位置 信息記錄裝置構(gòu)成于同一裝置內(nèi)的記錄再現(xiàn)裝置的特征構(gòu)成的框圖。圖中 虛線表示LSI芯片的范圍。
該記錄再現(xiàn)裝置由記錄再現(xiàn)頭1701、主軸電機(jī)1702、 CAV時鐘生成器 1703、預(yù)標(biāo)志記錄控制部1704、記錄補(bǔ)償部1705、記錄溝道1706、再現(xiàn) 溝道1707、再現(xiàn)信號AD1708、數(shù)字信號處理部1709、解調(diào)部1710、地址 抽取部1711、預(yù)標(biāo)志檢測部1712、加密部1714、存儲器1715、擺動溝道 1716、擺動AD1717、擺動信號處理部1718、擺動地址抽取部1719、位置 信息記錄控制部1720、ECC編碼化部1721、調(diào)制部1722和系統(tǒng)控制器1723 構(gòu)成。
首先，說明所述盤制造工序2中使用的該記錄再現(xiàn)裝置的預(yù)標(biāo)志記錄 模式的動作。該模式是在由盤制造工序1制成的盤的追記層的預(yù)標(biāo)志記錄 區(qū)域中記錄預(yù)標(biāo)志的動作模式。
主軸電機(jī)1702使盤安裝在該記錄再現(xiàn)裝置中，使記錄再現(xiàn)頭1701移 動到盤追記層的預(yù)標(biāo)志記錄區(qū)域的半徑位置上，以記錄再現(xiàn)頭1701無論 在何半徑位置均為相同旋轉(zhuǎn)速度的方式執(zhí)行CAV控制，使安裝的盤旋轉(zhuǎn)。 生成每旋轉(zhuǎn)一次輸出的一個旋轉(zhuǎn)信號，輸出到CAV時鐘生成器1703。 一個 旋轉(zhuǎn)信號有時也以一次旋轉(zhuǎn)中多個脈沖輸出。
CAV時鐘生成器1703，追蹤于輸入的一個旋轉(zhuǎn)信號與由內(nèi)部預(yù)定的頻 率生成的時鐘之間的相位誤差，生成與所述一個旋轉(zhuǎn)信號相同頻率的時鐘 信號。之后，CAV時鐘生成器1703，逐次加倍生成的時鐘信號，生成CAV 時鐘信號，輸出到預(yù)標(biāo)志記錄控制部1704。
預(yù)標(biāo)志記錄控制部1704，內(nèi)部持有與輸入的CAV時鐘信號同步動作的 時鐘計數(shù)器，使計數(shù)器動作。另外，該計數(shù)器根據(jù)來自主軸電機(jī)1702的 一個旋轉(zhuǎn)信號，復(fù)位計數(shù)值。接著，該預(yù)標(biāo)志記錄控制部1704，根據(jù)所述 計數(shù)值，生成表示記錄預(yù)標(biāo)志的區(qū)間的預(yù)標(biāo)志記錄信號，輸出到記錄補(bǔ)償部1705。輸出預(yù)標(biāo)志記錄信號的范圍的計數(shù)器值以預(yù)定的計數(shù)值的范圍被 輸出。
記錄補(bǔ)償部1705在輸入的預(yù)標(biāo)志記錄信號被輸出的范圍內(nèi)，生成表 示對盤追記層照射激光的激光強(qiáng)度的記錄脈沖，輸出到記錄溝道1706。
記錄溝道1706根據(jù)輸入的記錄脈沖，控制流過搭載于記錄再現(xiàn)頭 1701上的激光器的電流值，向盤的追記層照射激光。
該記錄再現(xiàn)裝置每當(dāng)盤旋轉(zhuǎn)一次，以事先設(shè)定的預(yù)標(biāo)志的半徑方向的 寬度程度，向外周側(cè)進(jìn)給記錄再現(xiàn)頭1701，對多次旋轉(zhuǎn)重復(fù)本動作。
以上是本記錄再現(xiàn)裝置的預(yù)標(biāo)志記錄模式的動作，由此，在由盤制造 工序1制成的盤的追記層的預(yù)標(biāo)志記錄區(qū)域中，記錄了在半徑方向呈直線 的預(yù)標(biāo)志。
下面，說明所述盤制造工序3中使用的該記錄再現(xiàn)裝置的預(yù)標(biāo)志位置 檢測模式的動作。該模式是對盤制造工序2中記錄預(yù)標(biāo)志的盤的預(yù)標(biāo)志位 置進(jìn)行檢測的動作模式。
安裝的盤，首先由再現(xiàn)頭1701對盤的反射層中設(shè)置的凹凸標(biāo)志執(zhí)行 再現(xiàn)強(qiáng)度的激光照射，由其反射光，生成再現(xiàn)溝道信號，輸出到再現(xiàn)溝道 1707。
再現(xiàn)溝道1707或放大或波形等化輸入的再現(xiàn)溝道信號，生成再現(xiàn)豐莫 擬信號，輸出到再現(xiàn)信號AD1708。
再現(xiàn)信號AD1708是一般的模數(shù)轉(zhuǎn)換器，以輸入的再現(xiàn)時鐘進(jìn)行采樣， 數(shù)字變換輸入的再現(xiàn)模擬信號，生成多進(jìn)制數(shù)字信號，輸出到數(shù)字信號處 理部1709。
數(shù)字信號處理部1709，內(nèi)部持有PLL電路，根據(jù)輸入的多進(jìn)制數(shù)字信 號，抽取被再現(xiàn)的再現(xiàn)信號的相同頻率的再現(xiàn)時鐘，輸出到再現(xiàn)信號 AD1708。再現(xiàn)信號AD1708的采樣時鐘使用該時鐘。另外，該數(shù)字信號處 理部根據(jù)輸入的多進(jìn)制數(shù)字信號，與抽取的再現(xiàn)時鐘同步，生成二進(jìn)制數(shù) 字信息，輸出到解調(diào)部1710。
解調(diào)部1710，根據(jù)輸入的二進(jìn)制數(shù)字信號，檢測賦予規(guī)定間隔(實際 上為幀單位)的同步碼，在利用檢測所述同步碼的定時來進(jìn)行解調(diào)的同時， 將解調(diào)的再現(xiàn)數(shù)據(jù)分割成附加了地址的扇區(qū)。將被分割后的扇區(qū)分割數(shù)據(jù)輸出到地址抽取部1711。
地址抽取部1711從輸入的扇區(qū)數(shù)據(jù)中，抽取被賦予扇區(qū)單位的再現(xiàn) 地址，輸出到預(yù)標(biāo)志檢測部1712。
預(yù)標(biāo)志檢測部1712，當(dāng)輸入的再現(xiàn)地址到達(dá)系統(tǒng)控制器1723事先設(shè) 定的用于檢測預(yù)標(biāo)志的目標(biāo)地址被賦予之扇區(qū)的開頭位置時，向伺服系統(tǒng) 1713輸出層跳動信號和跟蹤保持信號。另外，同時向數(shù)字信號處理部1709 輸出PLL保持信號。輸入了PLL保持信號的數(shù)字信號處理部1709，使PLL 電路的相位誤差追蹤動作停止，保持PLL保持信號被輸入之前的再現(xiàn)時鐘 頻率。另外，預(yù)標(biāo)志檢測部1712，內(nèi)部持有與從數(shù)字信號處理部1709輸 入的再現(xiàn)時鐘同步動作的計數(shù)器，當(dāng)?shù)竭_(dá)目標(biāo)地址的扇區(qū)開頭位置時，在 復(fù)位計數(shù)器的同時，使再現(xiàn)時鐘計數(shù)動作開始。另外，預(yù)標(biāo)志檢測部1712， 根據(jù)來自數(shù)字信號處理部179的二進(jìn)制數(shù)字信息，判定追記層的預(yù)標(biāo)志的 記錄開始位置和預(yù)標(biāo)志的記錄結(jié)束位置。計數(shù)器抽取從目標(biāo)地址的扇區(qū)開 頭位置至預(yù)標(biāo)志的記錄開始位置的計數(shù)值、和從預(yù)標(biāo)志記錄開始位置至預(yù) 標(biāo)志記錄結(jié)束位置的計數(shù)值，與所述目標(biāo)地址信息一起，作為預(yù)標(biāo)志位置 信息，輸出到加密部1714。
加密部1714，用內(nèi)部持有的密鑰加密化輸入的預(yù)標(biāo)志位置信息，生成 加密化預(yù)標(biāo)志位置信息，輸出到存儲器1715。
伺服系統(tǒng)1713，內(nèi)部持有聚焦控制部與跟蹤控制部，根據(jù)來自預(yù)標(biāo)志 檢測部的層跳動信號，使聚焦位置從正在再現(xiàn)的反射層移動到位于其深部 或淺部的追記層。通常，Blu-ray盤中的層跳動需100msec量級。為了防 止這種情況，事先在目標(biāo)地址位置附近，從反射層向追記層實施層跳動， 存儲此時的跳動量，通過根據(jù)事先跳動時的跳動量來實施預(yù)標(biāo)志的位置信 息檢測用的跳動，由此可將層跳動所需的時間縮短到數(shù)100 us量級。另 外，伺服系統(tǒng)1713根據(jù)輸入的跟蹤保持信號，停止內(nèi)部的跟蹤控制。
以上是本記錄再現(xiàn)裝置的所述盤制造工序3中使用的預(yù)標(biāo)志位置檢測 動作模式。
下面，說明所述盤制造工序4中使用的本記錄再現(xiàn)裝置的預(yù)標(biāo)志位置 記錄模式的動作。該模式是在位于盤追記層的預(yù)標(biāo)志記錄區(qū)域外周的、形 成了擺動的擺動區(qū)域中用于記錄盤制造工序3中檢測到的預(yù)標(biāo)志位置信息
66的動作模式。
首先，若在該記錄再現(xiàn)裝置中插入盤，則根據(jù)系統(tǒng)控制器中事先設(shè)定 的用于記錄預(yù)標(biāo)志的位置信息的目標(biāo)地址，使記錄再現(xiàn)頭1701移動到目 標(biāo)的半徑位置。該半徑位置為插入盤的預(yù)標(biāo)志記錄區(qū)域的半徑位置的外周
移動后，再現(xiàn)頭1701對盤的追記層執(zhí)行再現(xiàn)強(qiáng)度的激光照射，由其
反射光生成再現(xiàn)溝道信號，輸出到擺動溝道1716。
擺動溝道1716執(zhí)行用于抽取記錄的擺動頻帶的頻率分量的濾波，抽 取再現(xiàn)模擬信號，輸出到擺動AD1717。
擺動AD1717是一般的模數(shù)轉(zhuǎn)換器，根據(jù)輸入的記錄時鐘，采樣輸入 的再現(xiàn)模擬信號，生成多進(jìn)制數(shù)字信號，輸出到擺動信號處理部1718。
擺動信號處理部1718，內(nèi)部持有PLL電路，根據(jù)輸入的多進(jìn)制數(shù)字信 號，抽取與所述再現(xiàn)模擬信號的頻率同步的擺動時鐘。另外，必要時逐次 加倍擺動時鐘，生成記錄時鐘，輸出到擺動AD1717。該逐次加倍在Blu-ray 盤中是69逐次加倍，根據(jù)擺動時鐘，生成記錄溝道時鐘。擺動AD1717中， 根據(jù)該記錄時鐘，執(zhí)行再現(xiàn)模擬信號采樣中使用的采樣時鐘。該擺動信號 處理部1718，根據(jù)AD后的多進(jìn)制數(shù)字信號，與抽取的記錄時鐘同步，檢 測被賦予擺動的同步碼，將檢測到的擺動同步碼檢測信號輸出到擺動地址 抽取部1719。在Blu-ray盤中，MSK(Minimum Shift Keying-cosine variant) 調(diào)制正弦波擺動(單調(diào)擺動)的一部分，根據(jù)該MSK調(diào)制后的擺動的位置信 息，再現(xiàn)擺動的同步碼和數(shù)據(jù)。
擺動地址抽取部1719與輸入的擺動同步碼檢測信號同步，從再現(xiàn)擺 動信號中抽取賦予的地址信息。該地址信息以比賦予反射層的記錄標(biāo)志的 地址信息差的精度賦予。在Bin-ray盤中，在由記錄標(biāo)志記錄的地址16 個的范圍內(nèi)，僅存在3個由擺動記錄的地址。但是，可根據(jù)由擺動信號處 理部1718抽取的記錄時鐘與該地址信息，取得溝道單位下的同步。將抽 取出的擺動地址輸出到位置信息記錄控制部1720。
位置信息記錄控制部1720，當(dāng)輸入的擺動地址是記錄加密化后存儲在 存儲器中的位置信息的目標(biāo)地址時，生成表示記錄位置信息的范圍的記錄 選通，輸出到ECC編碼化部1721和調(diào)制部1722。在ECC編碼化部1721中，當(dāng)從位置信息記錄控制部1720輸入記錄選 通時，從存儲器1715中讀出加密化的位置信息，賦予糾錯用的檢驗位， 由此進(jìn)行ECC編碼化，將生成的ECC編碼化位置信息輸出到調(diào)制部1722。
調(diào)制部1722以預(yù)定的調(diào)制規(guī)則調(diào)制輸入的ECC編碼化位置信息。該 調(diào)制是與所述解調(diào)部1710的解調(diào)對應(yīng)的調(diào)制側(cè)，在Blu-ray盤中，實施 17pp調(diào)制。將調(diào)制后的調(diào)制位置信息輸出到記錄補(bǔ)償部1705。
記錄補(bǔ)償部1705，以根據(jù)輸入的調(diào)制后位置信息記錄作為記錄標(biāo)志的 記錄標(biāo)志部分，生成呈現(xiàn)激光的照射定時、激光強(qiáng)度的記錄脈沖(由所謂 的記錄補(bǔ)償電路構(gòu)成)，輸出到記錄溝道1706。
在記錄溝道1706中，根據(jù)輸入的記錄脈沖，控制搭載于記錄頭1701 上的激光器中流過的電流，從而從記錄頭1701向盤的追記層照射記錄激 光，記錄加密化后的位置信息。
以上是本記錄再現(xiàn)裝置的位置信息記錄模式的動作。
以上，通過該記錄裝置的預(yù)標(biāo)志記錄模式、位置信息檢測模式和位置 信息記錄模式，在盤的追記層的預(yù)標(biāo)志記錄區(qū)域中記錄預(yù)標(biāo)志，利用從反 射層的凹凸標(biāo)志抽取的時鐘，求出從位于所述追記層淺部或深部的、記錄 了凹凸標(biāo)志的反射層的記錄了規(guī)定地址之扇區(qū)開頭位置開始至記錄在追 記層中的預(yù)標(biāo)志為止的位置信息，加密化求出的位置信息，記錄在形成于 追記層的預(yù)標(biāo)志外周側(cè)的、形成了包含地址的擺動的區(qū)域中。
在追記層中記錄的預(yù)標(biāo)志，由于執(zhí)行基于一個旋轉(zhuǎn)信號的記錄，所以 事實上不可能對應(yīng)于反射層的凹凸標(biāo)志來復(fù)制預(yù)標(biāo)志。無論如何，由于與 一個旋轉(zhuǎn)信號同步記錄預(yù)標(biāo)志，以溝道單位控制并記錄記錄的預(yù)標(biāo)志與反 射層記錄標(biāo)志的對應(yīng)，所以在溝道長度為75rai的Blu-ray盤中，只要不 執(zhí)行數(shù)100nm量級 數(shù)um量級的位置對準(zhǔn)，則不能復(fù)制盤。
下面，詳細(xì)說明盤制造工序2中記錄預(yù)標(biāo)志的動作。
圖22是表示盤制造工序2的預(yù)標(biāo)志記錄動作的特征信號定時的定時 圖，是所述記錄再現(xiàn)裝置的預(yù)標(biāo)志記錄模式的動作。
首先，在本記錄再現(xiàn)裝置中，在安裝了盤制造工序l制成的盤后，利 用主軸電機(jī)1702來以CAV控制使盤旋轉(zhuǎn)。另外，使記錄再現(xiàn)頭1701移動 到與盤內(nèi)周的追記層的預(yù)標(biāo)志區(qū)域?qū)?yīng)的半徑位置，聚焦到所述追記層。此時，從主軸電機(jī)向CAV時鐘生成部輸出一個旋轉(zhuǎn)信號(圖22A)。該
一個旋轉(zhuǎn)信號在至少盤每次旋轉(zhuǎn)時輸出1次。
CAV時鐘生成部1703抽取事先以規(guī)定頻率生成的時鐘信號與所述一 個旋轉(zhuǎn)信號(圖22A)的相位誤差分量，生成與所述一個旋轉(zhuǎn)信號同步的CAV 時鐘(圖22B)。作為CAV時鐘的生成方法，肯先，利用PLL電路抽取與一 個旋轉(zhuǎn)信號同步的時鐘，對其進(jìn)行預(yù)定的逐次加倍，由此抽取同樣的CAV 時鐘。這樣生成的CAV時鐘被控制成以所述逐次加倍或預(yù)定頻率發(fā)生的時 鐘頻率，以變?yōu)楸人鲎酚泴拥纳畈炕驕\部形成的反^J"層的記錄標(biāo)志的扇 區(qū)間隔高的頻率，并且變?yōu)楸人鲇涗洏?biāo)志的溝道頻率低的頻率。
預(yù)標(biāo)志記錄控制部1704，具有與輸入的CAV時鐘同步動作的計數(shù)器電 路，以所述一個旋轉(zhuǎn)信號來復(fù)位，與所述CAV時鐘同步來計數(shù)，生成CAV 時鐘計數(shù)器信號(圖22C)。另外，預(yù)標(biāo)志記錄控制部1704，根據(jù)所述CAV 時鐘計數(shù)器信號(圖22C)的計數(shù)值與系統(tǒng)控制器1723中事先設(shè)定的設(shè)定 值，生成預(yù)標(biāo)志記錄信號(圖22D)。所述設(shè)定值，設(shè)定將該預(yù)標(biāo)志記錄信 號變?yōu)?H"的區(qū)間。另外，所述預(yù)標(biāo)志記錄信號(圖22D)，在盤旋轉(zhuǎn)一次
輸出多個，其輸出間隔根據(jù)所述反射層的扇區(qū)間隔，以由多個扇區(qū)構(gòu)成的 ECC塊間隔的范圍來確定。 .
記錄補(bǔ)償部1705，在來自預(yù)標(biāo)志記錄控制部1704的預(yù)標(biāo)志記錄信號 為"H"的區(qū)間，生成表示照射記錄激光的定時與激光照射強(qiáng)度的記錄脈 沖(圖22E)。該記錄脈沖由激光強(qiáng)度強(qiáng)的部分與弱的部分的間歇多脈沖生 成。
記錄溝道1706，利用來自記錄補(bǔ)償部1705的記錄脈沖，控制流向記 錄再現(xiàn)頭1701上搭載的激光器的電流量，對盤進(jìn)行激光照射。結(jié)果，在 盤追記層的預(yù)標(biāo)志記錄區(qū)域中，形成預(yù)記錄標(biāo)志(圖22F)。
本記錄裝置根據(jù)盤的一次旋轉(zhuǎn)，使記錄再現(xiàn)頭1701以預(yù)標(biāo)志的半徑 方向的寬度1801移動到外周側(cè)。這樣，可在所述預(yù)標(biāo)志記錄區(qū)域中，沿 盤圓周方向上形成多個半徑方向上呈直線的預(yù)標(biāo)志。
該記錄再現(xiàn)裝置的預(yù)標(biāo)志位置檢測模式的動作與實施方式1的預(yù)標(biāo)志 檢測裝置的動作(圖6)—樣，省略說明。
另外，本記錄再現(xiàn)裝置的預(yù)標(biāo)志位置記錄模式的動作是與用于在持有擺動的追記媒體上進(jìn)行記錄的記錄裝置一樣的動作，省略說明。對于構(gòu)成 上的特征，是內(nèi)部具有存儲加密化的預(yù)標(biāo)志位置信息的存儲器，將該預(yù)標(biāo) 志位置信息記錄在目標(biāo)地址中。 4.再現(xiàn)裝置
下面，說明由該盤制造工序1 4制成的盤的再現(xiàn)裝置。
圖23是表示由該盤工序1 4制成的盤的再現(xiàn)裝置的特征塊的框圖。 圖中的虛線表示LSI芯片的范圍。
該再現(xiàn)裝置由再現(xiàn)頭1901、擺動溝道1902、擺動AD1903、擺動信號 處理部1904、擺動地址抽取部1905、再現(xiàn)位置控制部1906、再現(xiàn)溝道1907、 再現(xiàn)信號AD1908、數(shù)字信號處理部1909、解調(diào)部1910、地址抽取部1911、 糾錯部1912、解讀部1913、存儲器1914、預(yù)標(biāo)志檢測部1915、伺服系統(tǒng) 1916、主軸電機(jī)1917、系統(tǒng)控制器1918、驗證部1919和開關(guān)1920構(gòu)成。
首先，若將盤插入該再現(xiàn)裝置中，則主軸電機(jī)1917在利用CAV控制 使盤旋轉(zhuǎn)的同時，根據(jù)事先設(shè)置在系統(tǒng)控制器1918中的記錄了預(yù)標(biāo)志位 置信息的地址信息，使再現(xiàn)頭1917移動到對應(yīng)的半徑位置，將再現(xiàn)激光 聚焦到追記層。
再現(xiàn)頭1901向追記層照射再現(xiàn)激光，從其反射光中抽取再現(xiàn)溝道信 號，輸出到擺動溝道1902。
擺動溝道1902從輸入的再現(xiàn)溝道信號中，抽取擺動頻帶的頻率分量， 生成再現(xiàn)模擬信號，輸出到擺動AD1903。
擺動AD1903根據(jù)輸入的時鐘，采樣輸入的再現(xiàn)模擬信號，生成多進(jìn) 制數(shù)字信號，輸出到擺動處理部1904。
擺動信號處理部1904，內(nèi)部持有PLL電路，抽取與再現(xiàn)模擬信號同頻 帶的時鐘信號，逐次加倍后生成記錄時鐘，輸出到擺動AD1903。另外，根 據(jù)所述多進(jìn)制數(shù)字信號，檢測被賦予擺動的同步碼，生成擺動同步碼檢測 信號，輸出到擺動地址抽取部1905。
擺動地址抽取部1905，根據(jù)輸入的擺動同步碼檢測信號，從多進(jìn)制數(shù) 字信號中抽取擺動地址信息，輸出到再現(xiàn)位置控制部1906。
以上說明的擺動溝道1902至擺動地址抽取部1905與本實施方式的記 錄再現(xiàn)裝置的擺動溝道1716至擺動地址抽取部1719的構(gòu)成一樣。再現(xiàn)位置控制部1906，相對于用于再現(xiàn)系統(tǒng)控制器1918中事先設(shè)定 的位置信息的目標(biāo)地址，判定當(dāng)前的再現(xiàn)位置是內(nèi)周側(cè)還是外周側(cè)，輸出 半徑位置調(diào)整信號，使記錄頭1901的位置變更。另一方面，若判定為到 達(dá)所述目標(biāo)地址，則輸出用于讀出位置信息的再現(xiàn)選通，開始位置信息讀 取動作。
在位置信息讀取動作中，首先，由再現(xiàn)頭1901向盤照射再現(xiàn)激光， 從其反射光中抽取再現(xiàn)溝道信號，輸出到再現(xiàn)溝道1907。
再現(xiàn)溝道1907放大或波形等化輸入的再現(xiàn)溝道信號，生成再現(xiàn)模擬 信號，輸出到再現(xiàn)信號AD1908。
再現(xiàn)信號AD1908，以輸入的時鐘信號采樣輸入的再現(xiàn)模擬信號，進(jìn)行 數(shù)模轉(zhuǎn)換，生成多進(jìn)制數(shù)字信號，輸出到數(shù)字信號處理部1909。
數(shù)字信號處理部1909從輸入的多進(jìn)制數(shù)字信號中，由內(nèi)置的PLL電 路，抽取與再現(xiàn)信號等同頻率的時鐘，輸出到再現(xiàn)信號AD1908。另外，從 所述多進(jìn)制數(shù)字信號中，抽取與所述再現(xiàn)時鐘同步的二進(jìn)制數(shù)字信號，輸 出到解調(diào)部1910。
解調(diào)部1910從輸入的二進(jìn)制數(shù)字信號中，檢測被賦予每個一定區(qū)間 (每個幀)的同步碼，與所述同步碼的檢測定時同步，將輸入的二進(jìn)制數(shù)字 信號分割成扇區(qū)，生成扇區(qū)分割數(shù)據(jù)，輸出到地址抽取部1911。
地址抽取部1911從扇區(qū)分割數(shù)據(jù)中抽取被賦予每個扇區(qū)的地址信息， 分離地址信息，生成再現(xiàn)數(shù)據(jù)，輸出到糾錯部1912。
糾錯部1912根據(jù)輸入的再現(xiàn)數(shù)據(jù)，分割成數(shù)據(jù)部與校驗位部，利用 所述校驗位，執(zhí)行再現(xiàn)數(shù)據(jù)的糾錯。將執(zhí)行糾錯后的數(shù)據(jù)作為加密化位置 信息，輸出到解讀部1913。
解讀部1913，以內(nèi)部秘密持有的密鑰，解讀輸入的加密化位置信息， 獲得記錄位置信息，輸出到存儲器1914，由存儲器1914存儲所述位置信 息。
系統(tǒng)控制器1723，根據(jù)解讀后的位置信息，獲得記錄了預(yù)標(biāo)志的地址 信息，對再現(xiàn)頭1901，將聚焦位置從追記層移動到位于其深部或淺部的反 射層，另外，使再現(xiàn)頭1901移動到對應(yīng)于所述獲得的地址信息的半徑位置。再現(xiàn)頭1901在聚焦位置、半徑位置移動之后，向盤的反射層中形成 的凹凸標(biāo)志照射再現(xiàn)激光，根據(jù)其反射光，生成再現(xiàn)溝道信號，輸出到再
現(xiàn)溝道1907。
再現(xiàn)溝道1907放大或波形等化輸入的再現(xiàn)溝道信號，生成再現(xiàn)*莫矛以 信號，輸出到再現(xiàn)信號AD1908。
再現(xiàn)信號AD1908，以輸入的時鐘信號采樣輸入的再現(xiàn)模擬信號，進(jìn)行 模數(shù)轉(zhuǎn)換，生成多進(jìn)制數(shù)字信號，輸出到數(shù)字信號處理部1909。
數(shù)字信號處理部1909，從多進(jìn)制數(shù)字信號中，由PLL電路抽取與再現(xiàn)L 信號同步的時鐘，作為再現(xiàn)時鐘，輸出到再現(xiàn)信號AD1908。另外，使所述 多進(jìn)制數(shù)字信號與所述再現(xiàn)時鐘同步，通過二進(jìn)制化，生成二進(jìn)制數(shù)字信 號，輸出到解調(diào)部1910。
解調(diào)部1910從輸入的二進(jìn)制數(shù)字信號中，檢測被賦予幀單位的同步 碼，同時，以檢測所述同步碼的定時，分割成扇區(qū)，將分割后的扇區(qū)分割 數(shù)據(jù)輸出到地址抽取部1911。
地址抽取部1911從輸入的扇區(qū)分割數(shù)據(jù)中，抽取每個所述扇區(qū)所賦 予的地址信息，輸出到預(yù)標(biāo)志檢測部1915。
預(yù)標(biāo)志檢測部1915，將從地址抽取部1911輸入的地址信息與系統(tǒng)控 制器保持的、從盤讀出的位置信息的地址信息進(jìn)行比較，在判斷為彼此的 地址信息一致的情況下，抽取包含該地址的扇區(qū)的開頭位置，以該定時， 生成層跳動信號和跟蹤保持信號，輸出到伺服系統(tǒng)1916，同時，抽取PLL 保持信號，輸出到數(shù)字信號處理部1909。另外，在所述扇區(qū)開頭位置，將 內(nèi)部持有的計數(shù)器值復(fù)位為"0"。該計數(shù)器由與來自數(shù)字信號處理部的 再現(xiàn)信號同步來計數(shù)時鐘數(shù)的計數(shù)器構(gòu)成。
輸入了 PLL保持信號的數(shù)字信號處理部1909，使內(nèi)部的PLL電路的動 作停止，輸出固定為PLL保持信號被輸出之前的時鐘頻率的再現(xiàn)時鐘。
伺服系統(tǒng)1916，內(nèi)部持有跟蹤控制部與聚焦控制部，利用聚焦控制部， 以輸入的層跳動信號的定時，將聚焦位置從反射層變更為追記層。另外， 所述跟蹤控制部，在輸入的跟蹤保持信號被輸出的區(qū)間，使跟蹤控制停止， 固定再現(xiàn)頭1901的半徑位置。
聚焦位置移動到追記層的再現(xiàn)頭1901，向追記層照射再現(xiàn)激光，根據(jù)
72其反射光，生成再現(xiàn)溝道信號。此時的再現(xiàn)溝道信號，僅在記錄了預(yù)標(biāo)志 的區(qū)域，作為反射光強(qiáng)度低的信號再現(xiàn)，在其它區(qū)域，作為反射光強(qiáng)度高
的信號再現(xiàn)。
在再現(xiàn)溝道1907中，放大或波形等化輸入的再現(xiàn)溝道信號。此時， 若構(gòu)成可抽取比再現(xiàn)追記層或反射層的記錄標(biāo)志時低的頻帶的濾波器，則 可精密檢測預(yù)標(biāo)志位置。
之后，與追記層或反射層的記錄標(biāo)志再現(xiàn)時一樣，由數(shù)字信號處理器
1909 二進(jìn)制化由再現(xiàn)信號AD1908數(shù)字化后的多進(jìn)制數(shù)字信號。再現(xiàn)信號 AD1908的采樣時鐘中所用的再現(xiàn)時鐘，根據(jù)來自預(yù)標(biāo)志檢測部1915的PLL 保持信號，使用將再現(xiàn)了反射層的記錄標(biāo)志的再現(xiàn)時鐘的頻率固定后輸出 的再現(xiàn)時鐘。將二進(jìn)制化后的二進(jìn)制數(shù)字信號輸出到預(yù)標(biāo)志檢測部。此時 的二進(jìn)制數(shù)字信息為僅在再現(xiàn)溝道信號的反射率低的部分變?yōu)?H"的信 號，即僅在記錄了預(yù)標(biāo)志的區(qū)域變?yōu)?H"的信號。
預(yù)標(biāo)志檢測部1915，若檢測出輸入的二進(jìn)制數(shù)字信號的上升沿(即預(yù) 記錄標(biāo)志的開始點)，則在由其它寄存器保持內(nèi)部的計數(shù)器值作為預(yù)標(biāo)志 開始位置的同時，復(fù)位為"0"。另外，同樣若檢測出二進(jìn)制數(shù)字信號的 下降沿(即記錄標(biāo)志的結(jié)束點)，則保持內(nèi)部的計數(shù)器值作為預(yù)標(biāo)志結(jié)束位 置。另外，在未檢測到預(yù)標(biāo)志的情況下，將預(yù)標(biāo)志開始位置和結(jié)束位置均 作為"0"輸出。由此，通過計數(shù)再現(xiàn)時鐘，抽取從反射層持有目標(biāo)地址 的扇區(qū)的開頭位置至追記層的預(yù)標(biāo)志的記錄位置，作為再現(xiàn)時位置信息， 輸出到驗證部1919。
驗證部1919比較存儲器1914中保持的記錄時的位置信息與輸入的再 現(xiàn)時的位置信息，在預(yù)定的規(guī)定閾值的范圍內(nèi)，驗證是否一致，僅在一致 的情況下，將再現(xiàn)許可信號輸出到開關(guān)1920。
開關(guān)1920，僅在來自驗證部1919的再現(xiàn)許可信號被輸出時，從糾錯 部1912輸出再現(xiàn)數(shù)據(jù)。
通過上述構(gòu)成、動作，該再現(xiàn)裝置從盤制造工序1 4制成的盤的追 記層中，獲得制造工序抽取的預(yù)標(biāo)志的記錄位置，與再現(xiàn)時的預(yù)標(biāo)志位置 信息進(jìn)行比較，若不一致，則不承認(rèn)所有之后的再現(xiàn)。
這樣，該盤的優(yōu)越性在于，利用不可簡單地復(fù)原記錄時的預(yù)標(biāo)志的位置信息，防止不正當(dāng)復(fù)制盤的出現(xiàn)。這是因為，該位置信息是由反射層的 凹凸標(biāo)志確定的基準(zhǔn)位置與追記層的預(yù)標(biāo)志的記錄位置信息，由溝道路徑 來管理該位置信息。為了正確復(fù)制該位置信息，拷貝源盤與拷貝對象盤的
位置關(guān)系在溝道量級(在Blu-ray盤中，從數(shù)100nm至數(shù)um的范圍)中， 必需執(zhí)行兩個盤的位置確定，事實上，由于這種位置確定困難，故可由此
防止不正當(dāng)復(fù)制。 (實施方式3)
下面，用附圖來詳細(xì)說明本發(fā)明的實施方式3。
本實施方式是在實施方式1的位置信息記錄裝置和位置信息再現(xiàn)裝置 中，通過執(zhí)行加擾或PE調(diào)制，記錄盤追記層中記錄的位置信息，使有惡 意的第3者對實施方式1公開的內(nèi)容的更巧妙的不正當(dāng)解析之耐性提高的方法。
圖24是本實施方式的位置信息記錄控制部，是與實施方式1的位置 信息記錄控制部508、 908對應(yīng)的部分的特征框圖。
該位置信息記錄控制部是輸入來自數(shù)字信號處理部506、 906的PLL 時鐘、來自格式化器507、 907的同步碼檢測定時和地址，并且向數(shù)字信 號處理部506和伺服系統(tǒng)502輸出位置信息記錄選通信號、向激光驅(qū)動器 509、 909輸出位置信息記錄信號的部分，由記錄位置控制部2001、計數(shù) 器2002、單向性函數(shù)2003、模擬隨機(jī)數(shù)發(fā)生器2004、 EOR2005和PE調(diào)制 器2006構(gòu)成。
位置信息記錄控制部2001，根據(jù)從格式化器507、 907輸入的地址和 同步碼檢測定時，檢測用于記錄盤制造工序3抽取的預(yù)標(biāo)志的位置信息的 目標(biāo)地址，根據(jù)該目標(biāo)地址所示的扇區(qū)的開頭位置，生成位置信息記錄選 通信號，輸出到計數(shù)器2002。以"H"輸出位置信息記錄選通信號，直到 位置信息的記錄完成為止。
計數(shù)器2002，由在輸入的位置信息記錄選通信號所示的范圍內(nèi)，與來 自數(shù)字信號處理部506、 906的PLL時鐘同步動作的計數(shù)器構(gòu)成。另外， 該計數(shù)器以輸入的同步碼來復(fù)位計數(shù)值(變?yōu)?)。根據(jù)該計數(shù)器的計數(shù)值， 生成用于記錄位置信息1比特的定時信號，作為比特更新信號，輸出到模 擬隨機(jī)數(shù)發(fā)生器2004。在本實施方式中，說明盤使用Blu-ray盤、以1幀(1932溝道比特) 的區(qū)間記錄3比特的位置信息的方式。g卩，在所述位置信息記錄選通信號 的"H"區(qū)間，以644溝道比特單位，記錄1比特1比特的位置信息。另 外，計數(shù)器2002，根據(jù)用644除以計數(shù)值時的余數(shù)，生成在余數(shù)不足322 的區(qū)間為"H"、在其它區(qū)間為"L"的PE信號，輸出到PE調(diào)制器2006。
單向性函數(shù)2003，利用單向性函數(shù)，對從格式化器507、 907輸入的 地址加2后的值(即表示在每個扇區(qū)增加各+2的構(gòu)造的Blu-ray盤中，在 所述位置信息記錄選通信號被輸出之前，記錄位置信息的目標(biāo)地址)與內(nèi) 部持有的初始值執(zhí)行數(shù)據(jù)變換。單向性函數(shù)由AES或DES加密方式下的混 列函數(shù)模式等構(gòu)成。將利用該單向性函數(shù)輸出的模擬隨機(jī)數(shù)系列初始值輸 出到模擬隨機(jī)數(shù)系列發(fā)生器2004。
模擬隨機(jī)數(shù)系列發(fā)生器2004 —般由以移位寄存器構(gòu)成的M系列碼發(fā) 生器或Gold碼發(fā)生器等構(gòu)成，在所述記錄選通被輸出之前(正在再現(xiàn)目標(biāo) 地址之前的地址可檢測的扇區(qū)的任一定時)，將輸入的模擬隨機(jī)數(shù)系列初 始值設(shè)置在內(nèi)部的移位寄存器中。另外，該模擬隨機(jī)數(shù)系列發(fā)生器2004 以輸入的比特更新信號被輸出的定時一個比特一個比特地生成模擬隨機(jī) 數(shù)系列，輸出到E0R2005。
E0R2005主要由一般的異或門構(gòu)成，根據(jù)來自計數(shù)器2002的比特更新 信號，1比特1比特地取出存儲在存儲器500、 900中的位置信息，算出與 來自模擬隨機(jī)數(shù)系列發(fā)生器2004的模擬隨機(jī)數(shù)系列1比特的異或，生成 模擬位置信息1比特，并輸出到PE調(diào)制部2006。
PE調(diào)制部2006與E0R2005 —樣，將其主要構(gòu)成要素設(shè)為異或門，算 出輸入的PE信號與模擬位置信息的異或，生成位置信息記錄信號，輸出 到激光驅(qū)動器509、 909。
激光驅(qū)動器509、 909在由該位置信息記錄控制部生成的位置信息記 錄信號的"H"區(qū)間，以多脈沖或矩形波照射記錄激光，在追記層中記錄 以模擬隨機(jī)數(shù)系列被頻譜變換、且被PE調(diào)制后的位置信息。
在不是圖13那樣的記錄頭、再現(xiàn)頭兩個頭構(gòu)成的情況下，在作為再 現(xiàn)溝道頻率附近(為溝道頻率的2倍 15倍左右)的頻帶的多脈沖來照射 該記錄激光的情況下，將由記錄位置信息控制部2001生成的位置信息記錄選通信號輸出到數(shù)字信號處理器506、 906，在所述記錄選通信號的輸出 區(qū)間不追蹤從數(shù)字信號處理器506、 906內(nèi)部的PLL電路輸出的PLL時鐘 的頻率(保持記錄選通信號輸出之前的頻率)。由此，可防止通過照射多脈 沖，難以從頭執(zhí)行激光照射時的再現(xiàn)溝道信號分離多脈沖頻帶與溝道頻 帶，所述PLL電路對再現(xiàn)溝道信號的頻率追蹤精度惡化，不能抽取穩(wěn)定的 PLL時鐘。
在不是圖13那樣的記錄頭、再現(xiàn)頭兩個頭構(gòu)成的情況下，在不作為 再現(xiàn)溝道頻率附近(為溝道頻率的2倍 15倍左右)的頻帶的多脈沖來照 射該記錄激光的情況下(即矩形記錄脈沖的情況下)，向數(shù)字信號處理部 506、 906輸出來自PE調(diào)制器2006的位置信息記錄信號，控制記錄激光照 射時與再現(xiàn)激光照射時的再現(xiàn)溝道信號的增益。通常， 一旦照射到盤的記 錄激光與再現(xiàn)激光的激光強(qiáng)度相差大，則記錄激光照射時與再現(xiàn)激光照射 時的再現(xiàn)溝道信號的增益變化，PLL電路不穩(wěn)定動作，但是，由此，由于 記錄激光照射時也好再現(xiàn)激光照射時也好均可均等地控制再現(xiàn)溝道信號 增益，所以可由PLL電路穩(wěn)定地生成時鐘信號。
另外，記錄激光照射不取決于多脈沖或矩形脈沖，在持有圖7所示的 從反射層再現(xiàn)的再現(xiàn)頭901、向追記層記錄的記錄頭910兩個頭的構(gòu)成以 外的位置記錄裝置中，將來自PE調(diào)制器2006的位置信息記錄信號輸出到 伺服系統(tǒng)。伺服系統(tǒng)根據(jù)所述位置信息記錄信號，判斷照射記錄激光的定 時與照射再現(xiàn)激光的定時，控制來自再現(xiàn)頭的伺服控制信號(跟蹤誤差信 號或聚焦誤差信號等)增益，執(zhí)行跟蹤控制或聚焦控制。通常， 一旦記錄 激光和再現(xiàn)激光的功率強(qiáng)度相差大，則輸入到伺服系統(tǒng)的各誤差信號的振 幅不穩(wěn)定，不能穩(wěn)定地執(zhí)行跟蹤控制或聚焦控制，但利用該增益控制，將 輸入到伺服系統(tǒng)的各誤差信號的振幅管理到幾乎一定，可穩(wěn)定地執(zhí)行跟蹤 控制、聚焦控制。
下面，詳細(xì)說明本位置信息記錄裝置的動作。
圖25是表示位置信息記錄裝置的位置信息記錄控制部的特征動作的 定時圖。
首先，向盤的持有凹凸標(biāo)志的反射層照射再現(xiàn)激光，根據(jù)其反射光生 成再現(xiàn)溝道信號，進(jìn)行數(shù)字化，由格式化器507、 907檢測同步碼，分割
76成幀單位，另外，分割成由多個幀構(gòu)成的持有地址信息的扇區(qū)單位，生成
再現(xiàn)數(shù)據(jù)圖25A、圖25B。格式化器507、 907在檢測到所述幀單位的同步 碼的時刻，抽取同步碼檢測定時圖25C，輸入到該位置信息記錄控制部。
記錄位置控制部2001，根據(jù)輸入的同步碼檢測定時信號與來自格式化 器507、 907的地址，由事先設(shè)置在未圖示的系統(tǒng)控制器中的、持有記錄 位置信息的目標(biāo)地址的扇區(qū)的開頭位置，生成位置信息記錄選通信號(圖 25D)，輸出到計數(shù)器2002。在本例中，將目標(biāo)地址說明為N。 g卩，是從地 址N的扇區(qū)開頭來記錄位置信息的方式。該位置信息記錄選通信號(圖25D) 在記錄位置信息的范圍內(nèi)變?yōu)?H"地輸出。在本實施方式中，由于是在l 幀中記錄3比特的位置信息的方式，所以在例如作為位置信息而記錄166 比特的情況下，在498幀的區(qū)間作為"H"輸出。另外，為了提高可靠性， 在重復(fù)3次記錄166比特的情況下，在1494幀(=3 Physical Cluster)的 范圍內(nèi)，輸出位置信息記錄選通信號(圖25D)。
計數(shù)器2002，在輸入的位置信息記錄選通信號(圖25D)的"H"區(qū)間 中，計數(shù)輸入的PLL時鐘(圖25E)。另外，在來自格式化器的同步碼檢測 定時被輸出的時刻，將計數(shù)器值復(fù)位為"0"。另外，該計數(shù)器，在內(nèi)部 的計數(shù)器值(圖25E)與644的商為"0"時，輸出比特更新信號(圖25F)。 因此，比特更新信號(圖25F)在1幀內(nèi)輸出3次。
模擬隨機(jī)數(shù)發(fā)生器2004，在輸入的比特更新信號的"H"的定時，移 位內(nèi)部的移位寄存器，發(fā)生l比特的模擬隨機(jī)數(shù)系列，作為模擬隨機(jī)數(shù)系 列(圖25G)而輸出。因此，該模擬隨機(jī)數(shù)系列發(fā)生器2004，以每644溝道 比特而發(fā)生1比特、即1幀發(fā)生3比特的模擬隨機(jī)數(shù)系列(圖25G)，輸出 到E0R2005。
E0R2005，在來自計數(shù)器2002的比特更新信號(圖25F)的定時中，從 存儲器500、 900中1比特1比特地取出位置信息(圖25H)，算出與輸入的 模擬隨機(jī)數(shù)系列(圖25G)的異或，生成模擬位置信息(圖251)。
計數(shù)器2002，還生成內(nèi)部持有的計數(shù)值(圖25E)與644的商的余數(shù)在 不足322的區(qū)間為"H"、在此外的區(qū)間為"L"的PE信號(圖25J)，輸出 到PE調(diào)制器2006。因此，由1932溝道比特的1幀生成所述PE信號(圖 25J)，作為3周期的信號。PE調(diào)制器2006算出輸入的模擬位置信息(圖251)與PE信號(圖25J) 的異或，生成位置信息記錄信號(圖25K)，輸出到激光驅(qū)動器509、 909。
激光驅(qū)動器509、 909，在輸入的位置信息記錄信號為"H"的區(qū)間， 照射記錄激光，在為"L"的區(qū)間，照射再現(xiàn)激光，由此在盤追記層中形 成記錄標(biāo)志，記錄利用模擬隨機(jī)數(shù)系列被頻譜擴(kuò)散、利用PE信號被PE調(diào) 制后的位置信息。
在不是由圖13那樣的記錄頭、再現(xiàn)頭兩個頭構(gòu)成的情況下，在作為 再現(xiàn)溝道頻率附近(為溝道頻率的2倍 15倍左右)的頻帶的多脈沖來照 射該記錄激光的情況下，將由記錄位置信息控制部2001生成的位置信息 記錄選通信號(圖25D)輸出到數(shù)字信號處理器506、 906，不在所述記錄選 通信號的輸出區(qū)間追蹤從數(shù)字信號處理器506、 906內(nèi)部的PLL電路輸出 的PLL時鐘的頻率(保持記錄選通信號輸出之前的頻率)。由此，可防止通
過照射多脈沖，難以從頭執(zhí)行激光照射時的再現(xiàn)溝道信號分離多脈沖的頻 帶與溝道頻帶，所述PLL電路對再現(xiàn)溝道信號的頻率追蹤精度惡化，不能 抽取穩(wěn)定的PLL時鐘。
在不是由圖13那樣的記錄頭、再現(xiàn)頭兩個頭構(gòu)成的情況下，在不作 為再現(xiàn)溝道頻率附近(為溝道頻率的2倍 15倍左右)的頻帶的多脈沖來 照射該記錄激光的情況下(即矩形記錄脈沖的情況下)，向數(shù)字信號處理部 506、 906輸出來自PE調(diào)制器2006的位置信息記錄信號(圖25K)，控制記 錄激光照射時與再現(xiàn)激光照射時的再現(xiàn)溝道信號的增益。通常， 一旦照射 到盤的記錄激光與再現(xiàn)激光的激光強(qiáng)度相差大，則記錄激光照射時與再現(xiàn) 激光照射時的再現(xiàn)溝道信號的增益變化，PLL電路不穩(wěn)定動作，但是，由 此，由于記錄激光照射時也好再現(xiàn)激光照射時也好均可均等地控制再現(xiàn)溝 道信號增益，所以可由PLL電路穩(wěn)定地生成時鐘信號。
另外，記錄激光照射不取決于多脈沖或矩形脈沖，在持有圖13所示 的從反射層再現(xiàn)的再現(xiàn)頭901、向追記層記錄的記錄頭910兩個頭的構(gòu)成 以外的位置記錄裝置中，將來自PE調(diào)制器2006的位置信息記錄信號(圖 25K)輸出到伺服系統(tǒng)。伺服系統(tǒng)根據(jù)所述位置信息記錄信號(圖25K)，判 斷照射記錄激光的定時與照射再現(xiàn)激光的定時，控制來自再現(xiàn)頭的伺服控 制信號(跟蹤誤差信號或聚焦誤差信號等)增益，執(zhí)行跟蹤控制或聚焦控制。通常， 一旦記錄激光和再現(xiàn)激光的功率強(qiáng)度相差大，則輸入到伺服系 統(tǒng)的各誤差信號的振幅不穩(wěn)定，不能穩(wěn)定地執(zhí)行跟蹤控制或聚焦控制，但 是，利用該增益控制，能夠?qū)⑤斎氲剿欧到y(tǒng)的各誤差信號的振幅管理到 幾乎一定，可穩(wěn)定地執(zhí)行跟蹤控制、聚焦控制。
禾U用以上的位置信息記錄控制部的構(gòu)成，可利用模擬隨機(jī)數(shù)系列頻譜 擴(kuò)散記錄的位置信息，且實施PE調(diào)制后記錄。通過頻譜擴(kuò)散，難以以根 據(jù)位置信息的再現(xiàn)信號的逆解析而暴露位置信息的記錄方法，所以更難制 成不正當(dāng)?shù)哪Ｖ票P。另外，在扇區(qū)單位的地址信息中使用利用單向性函數(shù) 變換后的初始值，發(fā)生模擬隨機(jī)數(shù)系列，所以使單向性函數(shù)的逆解析的難 度提高。
另外，利用PE調(diào)制，可平均50°/。地控制追記層的形成記錄標(biāo)志的部分
與不形成記錄標(biāo)志的部分的比率。由此，由于記錄標(biāo)志部分(或不形成記 錄標(biāo)志的部分)不延續(xù)，所以可穩(wěn)定地抽取再現(xiàn)時的調(diào)制率特性的變化。 這是因為，有時，在記錄標(biāo)志的形成部分(或不形成的部分)延續(xù)的情況下， 通過對再現(xiàn)裝置側(cè)的再現(xiàn)溝道的中心電平的追蹤動作，中心電平變化，再 現(xiàn)溝道的調(diào)制率特性的變化消失。
本方式在上述方面認(rèn)為是比實施方式1有效的方式。
下面，詳細(xì)說明本實施方式的位置信息再現(xiàn)裝置(圖15)的位置信息復(fù) 原部。
圖26是本實施方式的位置信息復(fù)原部、即與實施方式1的位置信息 復(fù)原部1111對應(yīng)的部分的特征框圖。
該位置信息復(fù)原部是從實施頻譜擴(kuò)散和PE調(diào)制后記錄在追記層中的 記錄標(biāo)志復(fù)原位置信息的塊，由再現(xiàn)位置控制部2201、計數(shù)器2202、單 向性函數(shù)2203、模擬隨機(jī)數(shù)發(fā)生器2204、PE調(diào)制器2204、二進(jìn)制化部2206 和相關(guān)積分器2207構(gòu)成。
再現(xiàn)位置控制部2201，是利用從格式化器1108輸入的地址與同步碼 檢測定時，從持有未圖示的系統(tǒng)控制器中事先設(shè)置的用于再現(xiàn)位置信息用 的目標(biāo)地址的扇區(qū)的開頭位置，生成位置信息檢測選通信號的部分，是與 位置信息記錄控制部中的記錄位置控制部2001 —樣的構(gòu)成。
計數(shù)器2202，由在輸入的位置信息檢測選通信號的輸出區(qū)間計數(shù)來自數(shù)字信號處理器1106的PLL時鐘的計數(shù)器構(gòu)成，是與位置信息記錄控制
部的計數(shù)器2201 —樣的構(gòu)成。
單向性函數(shù)2203是在持有所述目標(biāo)地址的扇區(qū)之前的扇區(qū)的區(qū)間內(nèi)， 利用內(nèi)部秘密持有的初始值來數(shù)據(jù)變換將輸入的2相加后的地址，生成模 擬隨機(jī)數(shù)系列初始值，并輸出到模擬隨機(jī)數(shù)系列發(fā)生器2304的部分，是 與位置信息記錄控制部的單向性函數(shù)2203 —樣的構(gòu)成。
模擬隨機(jī)數(shù)發(fā)生器2204是在所述目標(biāo)地址之前的扇區(qū)中，設(shè)置被輸 入到內(nèi)部移位寄存器的模擬隨機(jī)數(shù)系列初始值，在位置信息檢測選通信號 的輸出區(qū)間，以輸入的比特更新信號的定時，l比特l比特地發(fā)生模擬隨 機(jī)數(shù)系列的部分，是與位置信息記錄控制部的模擬隨機(jī)數(shù)系列發(fā)生器2204 一樣的構(gòu)成。
PE調(diào)制器2205算出輸入的模擬隨機(jī)數(shù)系列與PE信號的異或，生成 PE調(diào)制模擬系數(shù)，輸出到相關(guān)積分器2207。
二進(jìn)制化部2206，從LPF1110輸出的涉及頻帶限制的LPF后再現(xiàn)信號 中，抽取自中心位置起"+ "側(cè)為"H"、"-"側(cè)為"L"的二進(jìn)制數(shù)據(jù)， 輸出到相關(guān)積分器2207。
相關(guān)積分器2207是判斷所述二進(jìn)制數(shù)據(jù)與PE調(diào)制模擬系數(shù)的相關(guān)、 并積分相關(guān)值的部分。在再現(xiàn)1比特位置信息的范圍(在本實施方式中為 644比特區(qū)間)中，與PLL時鐘同步，在存在二進(jìn)制數(shù)據(jù)與模擬隨機(jī)數(shù)系列 的正相關(guān)的情況下，由與檢測的位置信息比特對應(yīng)的上下計數(shù)器加上 "+l"，在存在負(fù)相關(guān)的情況下，由與檢測的位置信息比特對應(yīng)的上下計 數(shù)器加上"-1"。根據(jù)該構(gòu)成，在位置信息的l比特被記錄的區(qū)間中，以 正相關(guān)檢測時的積分值慢慢推移到"+ "方向，以負(fù)相關(guān)檢測時的積分值 慢慢推移到"-"方向，在位置信息1比特的檢測區(qū)間中，在積分值為"+" 的情況下，作為位置信息1比特，生成"0"，在積分值為"-"的情況下， 作為位置信息1比特，生成"1"，存儲在存儲器1U3中。位置信息記錄 控制部的E0R2005，算出并記錄模擬隨機(jī)數(shù)系列與位置信息的異或，艮P， 在位置信息比特為"1"時，由于反轉(zhuǎn)后記錄模擬隨機(jī)數(shù)系列比特，所以 在該區(qū)間中，求出負(fù)的相關(guān)，再現(xiàn)時可檢測"1"。
下面，說明位置信息再現(xiàn)裝置的該位置信息復(fù)原部的動作。圖27是表示該位置信息復(fù)原部的特征動作的定時圖。
首先，向盤的持有凹凸標(biāo)志的反射層照射再現(xiàn)激光，根據(jù)其反射光生 成再現(xiàn)溝道信號，進(jìn)行數(shù)字化，由格式化器1108檢測同步碼，分割成幀 單位，另外，分割成由多個幀構(gòu)成的持有地址信息的扇區(qū)單位，生成再現(xiàn)
數(shù)據(jù)(圖27A、 B)。格式化器1108，在檢測到所述幀單位的同步碼的時刻， 抽取同步碼檢測定時(圖27C)，輸入到該位置信息復(fù)原部。
再現(xiàn)位置控制部2201，根據(jù)輸入的同步碼檢測定時信號與來自格式化 器1108的地址，從事先設(shè)置在未圖示的系統(tǒng)控制器中的、持有檢測位置 信息的目標(biāo)地址的扇區(qū)的開頭位置，生成位置信息檢測選通信號(圖27D)， 輸出到計數(shù)器2202。在本例中，將目標(biāo)地址說明為N。即，是從地址N的 扇區(qū)開頭檢測位置信息的方式。該位置信息檢測選通信號(圖27D)在檢測 位置信息的范圍內(nèi)變?yōu)?H"地輸出。在本實施方式中，由于是在1幀中 檢測3比特的位置信息的方式，所以在例如作為位置信息而記錄166比特 的情況下，在498幀的區(qū)間作為"H"而輸出。另外，為了提高可靠性， 在重復(fù)3次記錄166比特的情況下，在1494幀(=3 Physical Cluster)的 范圍內(nèi)，輸出位置信息檢測選通信號(圖27D)。
計數(shù)器2202，在輸入的位置信息檢測選通信號(圖27D)的"H"區(qū)間 中，計數(shù)輸入的PLL時鐘(圖27E)。另外，在來自格式化器1108的同步碼 檢測定時被輸出的時刻，將計數(shù)器值復(fù)位為"0"。另外，該計數(shù)器在內(nèi) 部的計數(shù)器值(圖27E)與644的商為"0"時，輸出比特更新信號(圖27F)。 因此，比特更新信號(圖27F)在1幀內(nèi)輸出3次。
模擬隨機(jī)數(shù)發(fā)生器2204，在輸入的比特更新信號(圖27F)的"H"的 定時，移位內(nèi)部的移位寄存器，發(fā)生l比特的模擬隨機(jī)數(shù)系列。作為模擬 隨機(jī)數(shù)系列(圖27J)輸出。因此，該模擬隨機(jī)數(shù)系列發(fā)生器2204，以每644 溝道比特而發(fā)生1比特、即1幀發(fā)生3比特的模擬隨機(jī)數(shù)系列(圖27J)， 輸出到PE調(diào)制器2205。
計數(shù)器2202，還生成內(nèi)部持有的計數(shù)值(圖27E)與644的商的余數(shù)在 不足322的區(qū)間為"H"、在此外的區(qū)間為"L"的PE信號(圖27K)，輸出 到PE調(diào)制器2205。因此，由1932溝道比特的1幀生成所述PE信號(圖 27K)，作為3周期的信號。PE調(diào)制器2205，算出輸入的模擬隨機(jī)數(shù)系列(圖27J)與PE信號(圖 27K)的異或，生成PE調(diào)制模擬系列(圖27L)。
另外，由AD1105數(shù)字化再現(xiàn)溝道信號后的多進(jìn)制數(shù)字信號(圖27G)， 被LPF1110限制頻帶，生成LPF后再現(xiàn)信號(圖27H)，輸入到該位置信息
復(fù)原部。
二進(jìn)制化部2206，生成自輸入的LPF后再現(xiàn)信號的中心位置起"+" 側(cè)為"H"、"-"側(cè)為"L"的二進(jìn)制數(shù)據(jù)(圖271)，輸出到相關(guān)積分器 2207。
相關(guān)積分器2207與PLL時鐘同步，在檢測1比特位置信息的區(qū)間， 利用上下計數(shù)器積分輸入的二進(jìn)制數(shù)據(jù)(圖271)與PE調(diào)制模擬系數(shù)(圖 27L)的相關(guān)。即，在二進(jìn)制數(shù)據(jù)(圖271)為"0"且PE調(diào)制模擬系數(shù)(圖 27L)為"0"的情況下，向計數(shù)器值加上"+l"，相反，在PE調(diào)制模擬系 數(shù)(圖27L)為"1"的情況下，向計數(shù)器值加上。另夕卜，在二進(jìn)制數(shù) 據(jù)(圖27I)為"1"且PE調(diào)制模擬系數(shù)(圖27L)為"0"的情況下，向計數(shù) 器值加上"-1"，相反，在PE調(diào)制模擬系數(shù)(圖27L)為"1"的情況下， 向計數(shù)器值加上"+l"。由此，求出對應(yīng)于位置信息每個比特的相關(guān)值(圖 27M)。根據(jù)該相關(guān)值，在"+ "相關(guān)值的情況下，檢測"0"作為位置信 息1比特，在相關(guān)值的情況下，檢測"1"作為位置信息1比特， 由此可抽取位置信息(圖27N)。
利用以上位置信息記錄控制部、位置信息復(fù)原部的構(gòu)成，可執(zhí)行位置 信息的頻譜擴(kuò)散，實施PE調(diào)制，以及記錄在追記層中，同時，通過檢測 再現(xiàn)的二進(jìn)制數(shù)據(jù)與PE調(diào)制模擬系列的相關(guān)，可檢測位置信息。
由于因頻譜擴(kuò)散的效果，難以從再現(xiàn)的再現(xiàn)信號中解析位置信息的記 錄方法，所以可使對不正當(dāng)復(fù)制、模造的耐性提高。另外，由于每個扇區(qū) 設(shè)置以單向性函數(shù)來數(shù)據(jù)變換地址信息后的模擬隨機(jī)數(shù)系列初始值，生成 模擬隨機(jī)數(shù)系列，所以在同樣使從再現(xiàn)信號的解析變困難的同時，不知道 由單向性函數(shù)來數(shù)據(jù)變換地址用的初始值，無法進(jìn)行正確的位置信息的記 錄、再現(xiàn)。
另外，在本實施方式中，說明了數(shù)據(jù)變換地址后用作模擬隨機(jī)數(shù)系列 初始值的方式，但也可使用由條碼調(diào)制記錄的媒體識別符或事先準(zhǔn)備的初始值表格等。
另外，在本實施方式中，作為對相關(guān)積分器的輸入，由對LPF后再現(xiàn) 數(shù)據(jù)進(jìn)行了二進(jìn)制化后的信號來執(zhí)行，但是，即便原樣積分二進(jìn)制化前的
LPF后再現(xiàn)信號，或原樣積分LPF前的多進(jìn)制數(shù)字再現(xiàn)信號，也可得到同
樣的效果。
(實施方式4)
在本實施方式中，公開涉及實施方式1的預(yù)標(biāo)志位置檢測裝置(圖5) 的伺服系統(tǒng)408、通過層跳動到追記層來記錄預(yù)標(biāo)志位置信息的預(yù)標(biāo)志記 錄裝置(圖5)的伺服系統(tǒng)502、光盤再現(xiàn)裝置(圖17)的伺服系統(tǒng)1406或?qū)?施方式2的記錄再現(xiàn)裝置(圖21)的伺服系統(tǒng)1713、再現(xiàn)裝置(圖23)的伺 服系統(tǒng)1916、用來高速實施從反射層到追記層的層跳動的方法。圖28是 表示本實施方式的層跳動動作的處理流程的流程圖。在該處理中，在通過 使聚焦位置從反射層移動到追記層來進(jìn)行層跳動的情況下，事先向追記層 控制聚焦位置，存儲控制位置，為了由位置信息檢測裝置或再現(xiàn)裝置來檢 測預(yù)標(biāo)志位置，當(dāng)層跳動到追記層時，使用所述存儲的聚焦位置，進(jìn)行層 跳動。
首先，未圖示的系統(tǒng)控制器，根據(jù)檢測事先設(shè)定的預(yù)標(biāo)志位置的目標(biāo) 地址，使頭401、 501、 1401、 1701、 1901移動到對應(yīng)于所述目標(biāo)地址的 半徑位置(S2401)。
接著，根據(jù)再現(xiàn)的再現(xiàn)信號，判定是否是所述目標(biāo)地址扇區(qū)的開頭位 置(S2402)。在判定為是開頭位置的情況下，伺服系統(tǒng)使跟蹤控制停止， 控制為跟蹤保持狀態(tài)(S2403)。另一方面，在判定為是目標(biāo)地址扇區(qū)的開 頭位置之前的情況下，繼續(xù)再現(xiàn)動作，直到變?yōu)槟繕?biāo)地址扇區(qū)的開頭位置。 另外，在判定為是目標(biāo)地址扇區(qū)的開頭位置之后的情況下，使頭移動到與 目標(biāo)地址扇區(qū)的開頭位置對應(yīng)的半徑位置。
在控制為跟蹤保持狀態(tài)后，伺服系統(tǒng)通過內(nèi)部的聚焦控制部，層跳動 到追記層(S2404)。
通常，即便使聚焦位置移動反射層與追記層的層間隔，在盤厚度不均 的影響下，也無法進(jìn)行正確的聚焦控制。因此，在執(zhí)行層跳動之后，實施 球面象差補(bǔ)正(S2405)，補(bǔ)正厚度不均帶來的聚焦位置錯位。通常，該球
83面象差補(bǔ)正需要數(shù)100ms左右的時間。
接著，判定球面象差補(bǔ)正是否完成，并且聚焦控制是否完成(S2406)， 在完成的情況下，將該聚焦位置存儲在存儲器中(S2407)。另一方面，在 聚焦控制未完成的情況下，待機(jī)，直到聚焦控制完成。
一旦聚焦控制完成和將聚焦控制位置存儲在存儲器中，則再次層跳動 到反射層(S2408)。
跳動到反射層之后，執(zhí)行與反射層的球面象差補(bǔ)正(S2409)，判定向 反射層的聚焦控制是否完成(S2410)。
在判定為向反射層的聚焦控制完成的情況下，再次搜索所述目標(biāo)地址 的扇區(qū)開頭位置(S2411)。
在判定為所述目標(biāo)地址的開頭位置的情況下，中斷由反射層的記錄標(biāo) 志執(zhí)行的跟蹤控制，固定頭的半徑位置(S2412)。
最后，通過使用所述存儲器中存儲的聚焦位置，將固定了跟蹤位置的 頭的激光焦點層跳動到追記層(S2413)。
如上所述，如果使用該步驟，可從目標(biāo)地址的扇區(qū)開頭位置起，在反 射層所記錄的記錄標(biāo)志的正下方或正上方(即相同半徑位置)的追記層中 形成記錄標(biāo)志。通常，在執(zhí)行層跳動的情況下，在變更聚焦位置之后，為 了補(bǔ)正盤的厚度不均，必需執(zhí)行球面象差補(bǔ)正。為了完成該球面象差補(bǔ)正， 必需數(shù)100ms量級的時間。在Blu-ray盤中，由于數(shù)100ms量級的時間相 當(dāng)于旋轉(zhuǎn)幾次，所以不能從目標(biāo)地址的扇區(qū)開頭位置聚焦跳動到追記層、 直接在追記層中形成記錄標(biāo)志。另外，若不執(zhí)行球面象差補(bǔ)正，則經(jīng)常發(fā) 生數(shù)微米的聚焦位置的偏移，所以不能在追記層中穩(wěn)定地形成記錄標(biāo)志。
如果使用本實施方式的層跳動步驟，首先，事先從目標(biāo)地址的扇區(qū)開 頭位置層跳動到追記層，進(jìn)行球面象差補(bǔ)正，抽取聚焦位置，存儲在存儲 器中。在聚焦位置的抽取完成之后，層跳動到反射層，再次從目標(biāo)地址的 扇區(qū)開頭位置層跳動到追記層。此時，通過使用事先存儲在存儲器中的聚 焦位置，可省略球面象差補(bǔ)正，所以可從目標(biāo)地址的扇區(qū)開頭位置，瞬時 層跳動到追記層，在反射層記錄標(biāo)志的正下方或正上方形成記錄標(biāo)志。
在實施方式1的位置信息記錄裝置中，說明了由散焦的記錄激光照射 在追記層中記錄位置信息的方式、和具有用于反射層再現(xiàn)的再現(xiàn)頭與用于在追記層中記錄位置信息的記錄頭的方式，但本實施方式適用于實施方式 1的位置信息記錄裝置也有效。
如圖29所示，在本實施方式中，以記錄位置信息的目標(biāo)地址，將聚 焦位置從反射層移動到追記層，記錄位置信息。
本實施方式的位置信息記錄裝置，是以記錄位置信息的目標(biāo)地址來將 聚焦位置從反射層移動到追記層、利用聚焦到追記層的記錄激光照射而在 追記層中記錄位置信息的裝置，其特征構(gòu)成與實施方式l中說明的位置信 息記錄裝置一樣，如圖7所示。
本實施方式的位置信息記錄裝置與實施方式1的位置信息記錄裝置的
最大差別在于伺服系統(tǒng)502中具有存儲追記層的聚焦位置的存儲器。
根據(jù)該位置信息記錄裝置，由于向追記層聚焦來執(zhí)行向追記層的位置 信息的記錄，所以不必如實施方式1的執(zhí)行散焦記錄的位置信息記錄裝置 那樣拉近反射層與追記層的層間隔。另一方面，該位置信息記錄裝置必需 記錄到追記層時的層跳動。
本實施方式的位置信息記錄裝置，以記錄位置信息的地址位置，將聚 焦位置從反射層移動到追記層，執(zhí)行球面象差補(bǔ)正，將到追記層的聚焦控 制位置存儲在所述存儲器中。
在將聚焦位置從用于記錄位置信息的反射層移動到追記層的情況下， 由于根據(jù)存儲在所述存儲器中的聚焦控制位置執(zhí)行層跳動，所以與上述一 樣，可大幅度地降低聚焦位置的移動所需的時間。
此時，也與實施方式1的位置信息記錄裝置一樣，保持?jǐn)?shù)字信號處理 器506的PLL輸出時鐘頻率，在追記層中記錄位置信息。因此，若用于保 持PLL輸出時鐘的時間長，則PLL輸出時鐘與反射層的記錄標(biāo)志的再現(xiàn)信 號之間的同步產(chǎn)生錯位。尤其是，對于盤旋轉(zhuǎn)一次以上執(zhí)行PLL保持，必 需在PLL保持區(qū)間來變更軌道位置，不可能與反射層的記錄標(biāo)志同步來在 追記層中記錄位置信息。因此，若能縮短層跳動時間，則PLL的頻率保持 時間也可縮短，所以可確保記錄在追記層中的位置信息、與形成于其深部 或淺部的反射層的記錄標(biāo)志之間的同步關(guān)系。
即便以事先存儲的聚焦控制位置從反射層層跳動到追記層，也由于必 需考慮致動器的動作時間，所以期望在記錄位置信息的目標(biāo)地址位置的1、2扇區(qū)之前移動聚焦位置。
如上所述，可利用執(zhí)行PLL保持的頻率誤差，維持反射層的記錄標(biāo)志 與記錄在追記層中的記錄標(biāo)志之間的同步關(guān)系，可防止與反射層的記錄標(biāo) 志同步檢測的位置信息的檢測精度的下降。
(實施方式5)
在本實施方式中，說明在實施方式l的預(yù)標(biāo)志位置記錄裝置中，尤其 是再現(xiàn)反射層的頭與在追記層中記錄的頭由相同頭構(gòu)成的情況下有效的 伺服系統(tǒng)中的跟蹤控制方法。
圖30是表示本預(yù)標(biāo)志記錄裝置的伺服系統(tǒng)中的跟蹤控制部的特征構(gòu) 成的框圖。
該跟蹤控制部是從頭501 (圖7)輸入跟蹤誤差信號、從位置信息記錄 控制部508 (圖7)輸入采樣選通信號和跟蹤切換信號、向頭501輸出跟蹤 控制信號的部分，由LPF2501、 AD2502、采樣時鐘發(fā)生器2503、跟蹤位置 信息控制部2504、存儲器2505和選擇器2506構(gòu)成。
首先，LPF2501由限制從頭501輸入的跟蹤誤差信號的通過頻帶用的 一般的低通濾波器構(gòu)成。此時的通過頻帶限制為數(shù)KHz。將頻帶限制后的 跟蹤誤差信號輸出到AD2502。
AD2502由一般的模數(shù)轉(zhuǎn)換器構(gòu)成，與采樣時鐘發(fā)生器2503發(fā)生的時 鐘同步，采樣并量子化輸入的頻帶限制后的跟蹤誤差信號，作為多進(jìn)制數(shù) 字誤差信號，輸出到跟蹤位置信息控制部2504。
采樣時鐘發(fā)生器2503，發(fā)生數(shù)KHz 數(shù)百KHz的時鐘信號，輸出到 AD2502。在本實施方式中，由通常的時鐘發(fā)生器構(gòu)成，但也可輸入來自頭 的一個旋轉(zhuǎn)信號，發(fā)生與所述一個旋轉(zhuǎn)信號同步的時鐘信號。
跟蹤位置控制部2504，根據(jù)量子化后的跟蹤誤差信號，生成用于使從 頭照射的激光的斑點位置在半徑方向移動控制的跟蹤控制信號，輸出到存 儲器2505和選擇器2506。
存儲器2505，在從位置信息記錄控制部508輸入的采樣選通所示的區(qū) 間，與來自采樣時鐘發(fā)生器2503的時鐘同步，依次記錄輸入的跟蹤控制 信號表示的跟蹤控制值。另外，該存儲器2505，在來自位置信息記錄控制 部508的跟蹤切換控制信號所示的區(qū)間，以所述依次記錄的順序，與所述時鐘同步而取出存儲在存儲器中的跟蹤控制值，輸出到選擇器2506。
選擇器2506，在來自位置信息記錄控制部508的跟蹤切換信號的輸出 區(qū)間，將記錄在存儲器2505中的跟蹤控制值作為跟蹤控制信號，在此外 的區(qū)間，將跟蹤位置控制部2504輸出的跟蹤控制值作為跟蹤控制信號， 輸出到頭501。
下面，說明該跟蹤控制的動作。
圖30是表示該跟蹤控制部的特征動作的定時圖。
首先，頭501再現(xiàn)反射層的記錄標(biāo)志，抽取再現(xiàn)數(shù)據(jù)(圖30A)。再現(xiàn) 數(shù)據(jù)以幀單位被賦予同步碼，根據(jù)該同步碼的檢測定時，分割成持有地址 的最小單位(扇區(qū))。在Blu-ray盤中，每個扇區(qū)的地址每次平均增加+2。 另外，根據(jù)該再現(xiàn)的地址信息、與事先設(shè)定在未圖示的系統(tǒng)控制器中的用 于記錄位置信息的目標(biāo)地址(N)，使頭的半徑位置移動。再現(xiàn)位置到達(dá)所 述目標(biāo)地址(N)之前一個扇區(qū)的開頭位置時，位置信息記錄控制部508從 目標(biāo)地址(N)之前一個的扇區(qū)開頭位置輸出采樣選通信號(圖30B)。
存儲器2505，在所述采樣選通信號(圖30B)的"H"區(qū)間，根據(jù)由AD2502 量子化的跟蹤誤差信號，與采樣時鐘發(fā)生器發(fā)生的采樣時鐘(圖30D)同步， 將跟蹤位置控制部2504生成的跟蹤控制信號(圖30E)的跟蹤控制值存儲 在存儲器中(圖30F)。
采樣選通信號(圖30B)在從記錄位置信息的目標(biāo)地址(N)所示的扇區(qū) 的開頭位置起記錄至少一部分位置信息期間(例如1Physical Cluster)被 輸出。
根據(jù)所述采樣選通信號，在判斷為記錄所述至少一部分位置信息的區(qū) 間結(jié)束的情況下，在內(nèi)部生成軌道跳動信號(圖30G)，根據(jù)所述軌道跳動 信號，將跟蹤位置變更到內(nèi)側(cè)一條軌道。
當(dāng)再次到達(dá)所述目標(biāo)地址(N)所示扇區(qū)之前一個的扇區(qū)的開頭位置 時，位置信息記錄控制部2504生成跟蹤切換信號(圖30C)。
在所述跟蹤切換信號(圖30C)被輸出的區(qū)間，與采樣時鐘(圖30D)同 步，依次取出記錄在存儲器2505中的跟蹤控制值，選擇器2506將從存儲 器2505取出的跟蹤控制值作為跟蹤控制信號(圖30E)，輸出到頭501。
最后，在利用存儲在存儲器2505中的跟蹤控制值切換跟蹤控制之后，以目標(biāo)地址(N)所示的扇區(qū)的開頭位置，層跳動到追記層，根據(jù)來自位置 信息記錄控制部508的位置信息記錄信號，在追記層中記錄記錄標(biāo)志。
如上所述，由于可利用由反射層的記錄標(biāo)志抽取的跟蹤控制值來形成 記錄在反射層中的記錄標(biāo)志，所以可在反射層的記錄標(biāo)志的正下方或正上 方形成追記層的記錄標(biāo)志。若能在反射層的記錄標(biāo)志的正下方或正上方的 追記層中形成記錄標(biāo)志，則可利用再現(xiàn)反射層時的追記層記錄標(biāo)志的影響
(再現(xiàn)反射層的記錄標(biāo)志時的再現(xiàn)信號的調(diào)制率的變化)，再現(xiàn)追記層中形 成的信息。
本實施方式的在追記層中形成記錄標(biāo)志的區(qū)域，由于不形成記錄標(biāo)志 或引導(dǎo)溝，所以不能控制跟蹤后記錄在追記層中。另外，即便不執(zhí)行跟蹤 控制而在追記層中形成記錄標(biāo)志，也由于盤的偏心的影響，不能在反射層 記錄標(biāo)志的正下方或正上方形成記錄標(biāo)志。
(其它實施方式)
以上，在實施方式1 5中，對本發(fā)明的光盤及其制造方法、記錄裝 置、再現(xiàn)裝置說明了實施本發(fā)明的最佳方式，但不限于這些方式。下面， 說明可根據(jù)本發(fā)明考慮獲得的其它實施方式。尤其是，對本發(fā)明的光盤的 追記層之記錄標(biāo)志和光盤的物理構(gòu)造，說明上述實施方式1 5中沒能說 明的方式。1.
在上述實施方式1中，例如，如圖16所示，說明了將1幀3比特的 位置信息作為追記層的記錄標(biāo)志而進(jìn)行記錄的方式，但本發(fā)明不限于此。
在Blu-ray盤中，例如1幀為1932溝道比特，且標(biāo)準(zhǔn)的溝道比特頻 率為66MHz，所以為記錄1幀3比特的位置信息，位置信息的記錄頻率約 為102KHz。另一方面，再現(xiàn)裝置通常具備再現(xiàn)信號的中心位置控制。該再 現(xiàn)信號的中心位置控制被控制成在光盤的反射層的凹凸記錄標(biāo)志的再現(xiàn) 時，反射層的再現(xiàn)信號(例如圖16C)的中心位置為0。此時，追記層的記 錄標(biāo)志必需以比基于該再現(xiàn)信號的中心位置控制的追蹤頻率高的記錄頻 率來形成。這是因為，若在基于上述再現(xiàn)信號的中心位置控制的再現(xiàn)信號 的追蹤頻帶內(nèi)記錄追記層的記錄標(biāo)志，則追記層的記錄標(biāo)志被再現(xiàn)作為再 現(xiàn)信號的中心位置的變動，因此不能正確再現(xiàn)該信息。因此，在Blu-ray盤中，期望以3腿z 30KHz的頻率來記錄追記層的 記錄標(biāo)志。若以這種記錄頻率來記錄位置信息，則由于變?yōu)樗鲈佻F(xiàn)信號 的中心位置控制的追蹤頻帶之外，所以可穩(wěn)定地再現(xiàn)位置信息。這相當(dāng)于 反射層的凹凸記錄標(biāo)志的記錄頻率66MHz的1/22 1/2200的頻率。2.
在Blu-ray盤標(biāo)準(zhǔn)的反射層的凹凸記錄標(biāo)志的調(diào)制中，最長標(biāo)志長度 或間隔長度為9T。由此，為了變?yōu)樯鲜鏊镜念l率，期望追記層的記錄標(biāo) 志也具有反射層的凹凸記錄標(biāo)志的標(biāo)志/間隔的長度的3倍以上的長度。 由此，在再現(xiàn)信號的濾波處理中，可正確分離凹凸記錄標(biāo)志的信號頻帶與 位置信息的記錄頻帶，兩者的再現(xiàn)不彼此千擾。3.
本發(fā)明的追記層的記錄標(biāo)志，期望被記錄在與反射層的凹凸記錄標(biāo)志 的導(dǎo)入或?qū)С龅谋P啟動時必需再現(xiàn)的控制數(shù)據(jù)區(qū)域相當(dāng)?shù)陌霃轿恢蒙稀?br> 由此，當(dāng)光盤啟動時，與從反射層的凹凸記錄標(biāo)志再現(xiàn)控制數(shù)據(jù)的同 時，也可從該再現(xiàn)信號的反射率的變動中再現(xiàn)追記層的記錄標(biāo)志。另外， 即便賦予反射層的記錄標(biāo)志，也不必設(shè)置用于再現(xiàn)其的特別時間，也不會 使啟動時間等增加。4.
通常，在控制數(shù)據(jù)不能再現(xiàn)時，不能啟動光盤。從而，為了能耐猝發(fā) 錯誤，存在使半徑位置錯位、多次記錄相同的控制數(shù)據(jù)的光盤(例如 Blu-ray盤)。在由該追記層的記錄標(biāo)志來記錄用于檢測光盤的不正當(dāng)拷貝 盤的真?zhèn)涡畔⒒蚪饷苊荑€的情況下，也與基于反射層的凹凸標(biāo)志的控制數(shù) 據(jù)一樣，在不能再現(xiàn)的情況下，不能啟動或再現(xiàn)內(nèi)容。由此，在多次分散 記錄控制數(shù)據(jù)的情況下，也期望與各控制數(shù)據(jù)的記錄位置一致，分散記錄 多次由追記層記錄標(biāo)志記錄的信息。據(jù)此，例如，在盤中有指紋等污跡或 傷痕的情況下，也可正常再現(xiàn)光盤。5.
在實施方式1中，說明了將半徑方向長的預(yù)標(biāo)志的物理位置信息記錄 作為追記層的記錄標(biāo)志、比較盤制成時的位置信息與再現(xiàn)時的位置信息， 從而確認(rèn)光盤是否是不正當(dāng)拷貝的盤的實施方式，但可由該追記層的記錄標(biāo)志記錄的信息不限于此。
本發(fā)明的追記層的記錄標(biāo)志在將加密后的內(nèi)容信息作為凹凸記錄標(biāo) 志記錄在反射層中、以及記錄用于解讀該加密的解密密鑰也有效。
另外，由于反射層的記錄標(biāo)志以相同的壓模制成多個盤的每個，所以 不能以凹凸記錄標(biāo)志記錄每個盤固有的信息，但若使用本發(fā)明的追記層的 記錄標(biāo)志，則可記錄每個盤固有的信息。例如，就光盤中記錄的內(nèi)容而言， 在與來自經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的服務(wù)器的服務(wù)聯(lián)攜的情況下，可識別媒體。即，即便是 例如再現(xiàn)專用光盤，若利用該追記層的記錄標(biāo)志，則在將其中記錄的內(nèi)容 復(fù)制一次到其它媒體中后，將表示該盤復(fù)制完的識別信息登錄在所述服務(wù) 器中使用。若由服務(wù)器管理該媒體固有的識別信息，則可提供邊保護(hù)著作 權(quán)、邊僅可備份一次的、給用戶帶來便利性的光盤。6.
另外，禾,若不知道其記錄標(biāo)準(zhǔn)則難以拷貝的性質(zhì)，也能有效地將由 本發(fā)明的追記層記錄標(biāo)志記錄的信息記錄作為判定是不正當(dāng)拷貝的光盤 還是正規(guī)光盤用的真?zhèn)涡畔?。在不正?dāng)拷貝的光盤中，由于不形成追記層 的記錄標(biāo)志，所以作為無真?zhèn)涡畔ⅲ卸椴徽?dāng)盤，停止再現(xiàn)動作或排
出媒體等。7.
圖12中，說明了追記層的記錄標(biāo)志的半徑方向的寬度比反射層的凹 凸記錄標(biāo)志的寬度寬(實際上為凹凸記錄標(biāo)志的軌道的5個軌道大小)的方 式。此時，示出了在記錄反射層記錄標(biāo)志的光源中使用成本低的波長長的 激光器的方面、使追記層的記錄標(biāo)志的檢測精度提高的方面是有效的情 況。
但是，在這種優(yōu)點的反面，由追記層記錄標(biāo)志造成的反射層的凹凸記 錄標(biāo)志的再現(xiàn)信號的反射率變動變大，會根據(jù)凹凸記錄標(biāo)志的再現(xiàn)信號來 判明追記層記錄標(biāo)志的存在，會提供有惡意者的解析入口。另外，還存在 為了記錄相同的信息量必需大的空間等缺點。
因此，也可相對于反射層的凹凸記錄標(biāo)志的半徑方向的寬度，縮窄追 記層的記錄標(biāo)志的寬度，或相對于反射層的凹凸記錄標(biāo)志的軌道間距，變 小追記層的記錄標(biāo)志的軌道間距。據(jù)此，可在使追記層的記錄標(biāo)志的秘密性提高的同時，削減追記層的記錄標(biāo)志的記錄區(qū)域，使檢測所需的時間縮 小。
如上所述，期望鑒于以追記層的記錄標(biāo)志記錄的信息所要求的可靠性 或秘密性來決定追記層的記錄標(biāo)志的寬度或長度。即，根據(jù)反射層的凹凸 記錄的記錄格式，在包含凹凸記錄標(biāo)志軌道的正上方或正下方的位置的追 記層中，利用激光照射形成使反射率變動的記錄標(biāo)志，記錄安全信息。8.
在上述實施方式1 5中，說明了如下方式，即在盤的追記層中形成 半徑方向長的預(yù)記錄標(biāo)志，在記錄裝置或再現(xiàn)裝置中，以反射層的記錄標(biāo) 志為基準(zhǔn)，以固定了頻率的再現(xiàn)時鐘的時鐘數(shù)來抽取預(yù)標(biāo)志的位置信息。 此時的時鐘數(shù)的計數(shù)，由于與測定檢測預(yù)標(biāo)志之前的時間一樣，所以與利 用使盤旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)速度與檢測預(yù)標(biāo)志之前的時鐘數(shù)所示的時間之積來抽 取距離(長度)是同義的。
另外，在上述實施方式中，為了檢測預(yù)標(biāo)志位置，使再現(xiàn)頭或記錄再 現(xiàn)頭的跟蹤控制停止。即，由于頭所在的半徑位置不變化，所以旋轉(zhuǎn)一次 時間大致相同，即，旋轉(zhuǎn)一次的時鐘計數(shù)數(shù)大致相同。因此，旋轉(zhuǎn)一次的 時鐘計數(shù)數(shù)與檢測預(yù)標(biāo)志之前的時鐘數(shù)的商即變?yōu)榉瓷鋵拥幕鶞?zhǔn)位置至 追記層的預(yù)標(biāo)志的檢測位置的角度信息。如上所述，計數(shù)從反射層的記錄 標(biāo)志至追記層的預(yù)標(biāo)志的時鐘數(shù)與抽取2點間的長度信息和角度信息變成同義。9.
在上述實施方式中，抽取從反射層的記錄標(biāo)志至追記層的預(yù)標(biāo)志的位 置信息，但即便以反射層的擺動為基準(zhǔn)抽取，也可得到同樣的效果。通常， 光盤中形成的擺動持有地址信息，可確保以扇區(qū)單位記錄記錄標(biāo)志用的同 步。即，由于可僅利用擺動來判斷地址與具有該地址的扇區(qū)的開頭位置， 所以得到同樣的效果。當(dāng)然，在將擺動用于基準(zhǔn)的情況下，該區(qū)域中也可 不存在記錄標(biāo)志。10.
在上述實施方式中，說明了作為追記層為僅可記錄l次的追記膜，但 也可是可改寫多次的相變膜，即便是可磁寫入的記錄膜，也可得到同樣的效果。
(其它)
上述實施方式中說明的光盤的再現(xiàn)裝置和記錄裝置也可利用LSI等半
導(dǎo)體裝置單芯片化部分或全部。另外，也可單芯片化圖5、 7、 13、 14、 17、 21、 23中用虛線表示的部分的全部或部分。
這里，盡管稱為LSI，但根據(jù)集成度不同，也可稱為IC、系統(tǒng)LSI、 超LSI、超級LSI。
集成電路化的方法不限于LSI，也可由專用電路或通用處理器來實現(xiàn)。 也可利用在LSI制造后可編程的FPGA (Field Programmable Gate Array)、 或可再構(gòu)成LSI內(nèi)部的電路單元的連接或設(shè)定的可重構(gòu)處理器。
并且，若由于半導(dǎo)體技術(shù)的進(jìn)步或派生的其它技術(shù)而出現(xiàn)置換LSI的 集成電路化技術(shù)，則當(dāng)然也可使用該技術(shù)來進(jìn)行功能塊的集成化。有可能 適用生物技術(shù)等。
本發(fā)明的具體構(gòu)成不限于上述實施方式，在不脫離發(fā)明精神的范圍 內(nèi)，可進(jìn)行各種變更和修正。 (附錄)
本發(fā)明也可如下表現(xiàn)。 l.附錄的內(nèi)容 (附錄1)
一種光盤，具有
第l記錄層，具有由凹凸記錄標(biāo)志或凹凸引導(dǎo)溝形成的螺旋狀的軌道;
禾口
第2記錄層，可利用激光照射，在所述第1記錄層的讀出面的深部或 淺部進(jìn)行記錄，
在所述第2記錄層中，具備
在半徑方向形成了長的預(yù)記錄標(biāo)志的標(biāo)記區(qū)域；禾口 形成了凹凸蛇行引導(dǎo)溝的擺動區(qū)域，
在所述擺動區(qū)域中，記錄以所述第1記錄層的凹凸記錄標(biāo)志或凹凸引 導(dǎo)溝的規(guī)定位置為基準(zhǔn)的所述第2記錄層的所述預(yù)記錄標(biāo)志的物理位置信(附錄2)
一種光盤再現(xiàn)裝置，該光盤由第1記錄層與第2記錄層構(gòu)成，該第1
記錄層利用凹凸記錄標(biāo)志或凹凸引導(dǎo)溝而具有螺旋狀的軌道；該第2記錄 層具有在所述第1記錄層的讀出面的深部或淺部記錄了在半徑方向長的預(yù) 記錄標(biāo)志的標(biāo)記區(qū)域、和在凹凸蛇行引導(dǎo)溝上記錄了記錄時的所述預(yù)記錄
標(biāo)志的物理位置信息的擺動區(qū)域，其中，該光盤再現(xiàn)裝置具備
物理位置信息再現(xiàn)部件，從所述第2記錄層的擺動區(qū)域，再現(xiàn)所述記 錄時的物理位置信息；
物理位置信息抽取部件，以所述第1記錄層的凹凸記錄標(biāo)志或凹凸引 導(dǎo)溝的規(guī)定位置為基準(zhǔn)，抽取所述第2記錄層的預(yù)記錄區(qū)域中記錄的預(yù)記 錄標(biāo)志的再現(xiàn)時的物理位置信息；
比較驗證部件，比較驗證所述記錄時的物理位置信息與所述再現(xiàn)時的 物理位置信息；和
再現(xiàn)停止部件，根據(jù)所述比較驗證部件的結(jié)果，停止再現(xiàn)動作。
(附錄3)
一種光盤記錄裝置，該光盤由第1記錄層與第2記錄層構(gòu)成，該第l 記錄層利用凹凸記錄標(biāo)志或凹凸引導(dǎo)溝而具有螺旋狀的軌道；該第2記錄 層具有可在所述第1記錄層的讀出面的深部或淺部通過激光照射形成記錄
標(biāo)志且形成了標(biāo)記區(qū)域與凹凸蛇行引導(dǎo)溝的擺動區(qū)域，其中，該光盤記錄 裝置具備
標(biāo)記部件，在所述第2記錄層的標(biāo)記區(qū)域中，形成預(yù)記錄標(biāo)志；
位置信息抽取部件，以所述第1記錄層的凹凸記錄標(biāo)志或凹凸引導(dǎo)溝 的規(guī)定位置為基準(zhǔn)，抽取所述標(biāo)記部件在所述第2記錄層的標(biāo)記區(qū)域中形 成的預(yù)記錄標(biāo)志的物理位置信息；和
位置信息記錄部件，在所述第2記錄層的擺動區(qū)域中，記錄由所述位 置信息抽取部件抽取的所述物理位置信息。
(附錄4)
一種光盤制造方法，具有
第l校對環(huán)規(guī)步驟，切割凹凸記錄標(biāo)志或凹凸引導(dǎo)溝，制成形成了螺 旋狀軌道構(gòu)造的光盤的第1壓模；第2校對環(huán)規(guī)步驟，制成具有標(biāo)記區(qū)域與切割凹凸引導(dǎo)溝的擺動區(qū)域 的光盤的第2壓模；
第1記錄層生成步驟，在光盤基板上，利用所述第1壓模壓印后，通 過賦予反射膜，形成第l記錄層；
第2記錄層生成步驟，在光盤基板上，利用所述第2壓模壓印后，通
過賦予可利用激光照射形成記錄標(biāo)志的記錄膜，形成第2記錄層；
標(biāo)記步驟，在所述第2記錄層的標(biāo)記區(qū)域中，形成預(yù)記錄標(biāo)志； 位置信息抽取步驟，以所述第l記錄層的凹凸記錄標(biāo)志或凹凸引導(dǎo)溝
的規(guī)定位置為基準(zhǔn)，抽取所述標(biāo)記步驟中形成于所述第2記錄層的標(biāo)記區(qū) 域中的預(yù)記錄標(biāo)志的物理位置信息；和
位置信息記錄步驟，在所述第2記錄層的擺動區(qū)域中，記錄所述位置 信息抽取步驟中抽取的所述物理位置信息。
2.附錄的說明
根據(jù)附錄l、附錄3和附錄4的發(fā)明，在光盤的第2記錄層的標(biāo)記區(qū) 域中進(jìn)行標(biāo)記，以第l記錄層的記錄標(biāo)志或引導(dǎo)溝為基準(zhǔn)，抽取所述標(biāo)記 再現(xiàn)時的物理位置信息，記錄在第2記錄層的擺動區(qū)域中。
根據(jù)附錄2的發(fā)明，從第2記錄層的擺動區(qū)域再現(xiàn)第2記錄層的標(biāo)記 記錄時的物理位置信息，確認(rèn)相同標(biāo)記的物理位置信息在記錄時與再現(xiàn)時 無變化，判定是否是正規(guī)盤。
產(chǎn)業(yè)上的可利用性
如上所述，若利用本發(fā)明，可提供一種光盤，即便例如是再現(xiàn)專用的 光盤，也可不僅記錄每個盤固有的識別信息，還由于該盤的識別信息不能 不正當(dāng)?shù)貜?fù)制到其它盤，所以不會不正當(dāng)?shù)厍趾τ涗浽诠獗P中的內(nèi)容數(shù)據(jù) 的著作權(quán)，可應(yīng)用于每個盤必需管理的網(wǎng)絡(luò)對應(yīng)的著作權(quán)管理系統(tǒng)中。
權(quán)利要求
1、一種光盤，可利用激光照射來再現(xiàn)和記錄信息，具備將第1記錄標(biāo)志形成于螺旋狀的軌道中的第1記錄層；和在所述第1記錄層的讀出面的深部或淺部均未形成利用激光照射來再現(xiàn)或記錄信息用的軌道和擺動軌道的第2記錄層，所述第2記錄層通過激光照射，對應(yīng)于所述第1記錄層的所述螺旋狀的軌道上的規(guī)定位置，形成在所述光盤的半徑方向定位的第2記錄標(biāo)志。
2、 一種光盤，可利用激光照射來再現(xiàn)和記錄信息，具備 將第1記錄標(biāo)志形成于螺旋狀的軌道中的第1記錄層；和 在所述第1記錄層的讀出面的深部或淺部均未形成利用激光照射來再現(xiàn)或記錄信息用的軌道和擺動軌道的第2記錄層，所述第2記錄層可通過激光照射來進(jìn)行記錄，并且，具有對應(yīng)于所述第1記錄層的所述螺旋狀的軌道上的規(guī)定位置，在所 述光盤的半徑方向定位的第2記錄標(biāo)志。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光盤，其特征在于所述第1記錄層的所述第1記錄標(biāo)志，通過在每個規(guī)定間隔被賦予同 步碼而被記錄，所述第2記錄層的所述第2記錄標(biāo)志，與所述第1記錄層的賦予所述同步碼的所述規(guī)定間隔同步而被記錄。
4、 根據(jù)權(quán)利要求3所述的光盤，其特征在于所述第1記錄層的所述第1記錄標(biāo)志，通過在每個規(guī)定間隔被賦予同 步碼而被記錄，所述第2記錄層的所述第2記錄標(biāo)志，包含由多個比特構(gòu)成的所述光盤的識別信息，所述識別信息，與所述第1記錄層的賦予所述同步碼的所述規(guī)定間隔 同步，至少被每1比特來記錄。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光盤，其特征在于-所述第2記錄層的所述第2記錄標(biāo)志包含所述光盤的識別信息， 所述識別信息被重復(fù)記錄在所述第2記錄層的多個區(qū)域中。
6、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光盤，其特征在于-所述第2記錄層的所述第2記錄標(biāo)志由頻譜擴(kuò)散后記錄的信息構(gòu)成。
7、 根據(jù)權(quán)利要求6所述的光盤，其特征在于所述第1記錄層具有地址信息與所述光盤的識別信息， 所述識別信息是利用根據(jù)所述地址信息生成的模擬隨機(jī)數(shù)系列頻譜 擴(kuò)散后的信息。
8、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光盤，其特征在于以與所述第1記錄層的所述第1記錄標(biāo)志不同的調(diào)制方式來記錄所述第2記錄層的所述第2記錄標(biāo)志。
9、 根據(jù)權(quán)利要求8所述的光盤，其特征在于所述調(diào)制方式是PE調(diào)制。
10、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光盤，其特征在于-與再現(xiàn)所述第1記錄層的所述第1記錄標(biāo)志得到的PLL時鐘同步來記錄所述第2記錄層的所述第2記錄標(biāo)志。
11、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光盤，其特征在于所述第2記錄層的所述第2記錄標(biāo)志的所述半徑方向的寬度比所述第 1記錄層的所述第1記錄標(biāo)志的所述半徑方向的寬度大。
12、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光盤，其特征在于所述第2記錄層的所述第2記錄標(biāo)志的所述半徑方向的寬度比所述第 1記錄層的所述第1記錄標(biāo)志的所述半徑方向的寬度小。
13、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光盤，其特征在于所述第2記錄層的所述第2記錄標(biāo)志的所述半徑方向的寬度比所述第 1記錄層的所述第1記錄標(biāo)志的軌道間距大。
14、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光盤，其特征在于所述第2記錄層的所述第2記錄標(biāo)志的所述半徑方向的寬度比所述第 1記錄層的所述第1記錄標(biāo)志的軌道間距小。
15、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光盤，其特征在于所述第1記錄層的所述第1記錄標(biāo)志的所述軌道與所述第2記錄層的 所述第2記錄標(biāo)志的軌道始終為相同半徑位置。
16、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光盤，其特征在于所述第2記錄層的所述第2記錄標(biāo)志僅形成于記錄所述第1記錄層的 控制數(shù)據(jù)的區(qū)域的位置所對應(yīng)的半徑位置上。
17、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光盤，其特征在于記錄所述第2記錄層的所述第2記錄標(biāo)志的周期是所述第1記錄層的 所述第1記錄標(biāo)志及其空格的周期的3倍以上。
18、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光盤，其特征在于記錄所述第2記錄層的所述第2記錄標(biāo)志的周期是記錄所述第1記錄層的所述第1記錄標(biāo)志的周期的整數(shù)倍。
19、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光盤，其特征在于-所述第2記錄層的所述第2記錄標(biāo)志比所述第1記錄層的所述第1記 錄標(biāo)志的最長標(biāo)志長度長。
20、 根據(jù)權(quán)利要求19所述的光盤，其特征在于所述第2記錄層的所述第2記錄標(biāo)志是所述第1記錄層的所述第1記 錄標(biāo)志的所述最長標(biāo)志長度的3倍以上。
21、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光盤，其特征在于-根據(jù)由所述第1記錄層的所述第1記錄標(biāo)志的再現(xiàn)信號之中心位置控制的追蹤頻帶外的頻率所調(diào)制的信號，生成所述第2記錄層的所述第2記 錄標(biāo)志。
22、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光盤，其特征在于-所述第1記錄層的所述第1記錄標(biāo)志是加密化后的內(nèi)容信息， 所述第2記錄層的所述第2記錄標(biāo)志記錄解密密鑰。
23、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光盤，其特征在于-所述第1記錄層的所述第1記錄標(biāo)志是加密化后的內(nèi)容信息， 所述第2記錄層的所述第2記錄標(biāo)志是所述光盤的真?zhèn)涡畔ⅰ?br> 24、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光盤，其特征在于所述第2記錄層在形成所述第2記錄標(biāo)志的區(qū)域的內(nèi)周側(cè)或外周側(cè)， 具有在半徑方向形成長的預(yù)記錄標(biāo)志的記號區(qū)域，所述第2記錄層的所述第2記錄標(biāo)志包含所述預(yù)記錄標(biāo)志的物理位置f曰息，所述物理位置信息是與以所述第1記錄層的所述第1記錄標(biāo)志的一定位置為基準(zhǔn)的、所述第2記錄層的所述預(yù)記錄標(biāo)志的距離或角度相關(guān)的信息。
25、 根據(jù)權(quán)利要求24所述的光盤，其特征在于 所述預(yù)記錄標(biāo)志的半徑方向的長度比所述第1記錄層的所述軌道的寬度長。
26、 根據(jù)權(quán)利要求24所述的光盤，其特征在于-所述第1記錄層的所述第1記錄標(biāo)志在每個規(guī)定間隔包含地址信息， 與所述第1記錄層的所述第1記錄標(biāo)志的所述地址信息的位置帶有關(guān) 聯(lián)，來記錄所述物理位置信息。
27、 根據(jù)權(quán)利要求24所述的光盤，其特征在于 加密化或賦予數(shù)字署名后記錄所述物理位置信息。
28、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光盤，其特征在于當(dāng)設(shè)所述第1記錄層與所述第2記錄層的層間隔為M、記錄所述第1 記錄標(biāo)志時照射的激光波長為入、照射所述激光的光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑為 NA時，M為入/(NA一2)以下。
29、 一種光盤再現(xiàn)裝置，該光盤具有由第1記錄標(biāo)志形成螺旋狀軌 道的第l記錄層；和在所述第l記錄層的讀出面的深部或淺部、形成包含 光盤識別信息的第2記錄標(biāo)志的第2記錄層，該光盤再現(xiàn)裝置具備聚焦部，向所述第l記錄層控制激光照射的聚焦位置； 跟蹤部，根據(jù)所述第1記錄層的所述軌道，控制激光照射位置； 再現(xiàn)信號抽取部，根據(jù)所述聚焦部和所述跟蹤部，對所述光盤執(zhí)行激光照射，從所述激光照射的反射光中，抽取再現(xiàn)信號；第1再現(xiàn)部，根據(jù)所述再現(xiàn)信號的第1振幅分量，再現(xiàn)所述第1記錄層的所述第l記錄標(biāo)志；和第2再現(xiàn)部，從比所述再現(xiàn)信號的所述第1振幅分量小的第2振幅分量，再現(xiàn)所述第2記錄層的所述第2記錄標(biāo)志，抽取所述識別信息。
30、 根據(jù)權(quán)利要求29所述的光盤再現(xiàn)裝置，其特征在于 所述光盤的所述第2記錄層具有在半徑方向記錄了長的預(yù)記錄標(biāo)志的記號區(qū)域，所述識別信息包含第1物理位置信息，其表示以所述第1記錄層的所 述第1記錄標(biāo)志的一定位置為基準(zhǔn)的所述預(yù)記錄標(biāo)志的記錄時的物理位 置，還具備物理位置信息抽取部，抽取用于表示以所述第1記錄層的所述第1記 錄標(biāo)志的所述一定位置為基準(zhǔn)的所述預(yù)記錄標(biāo)志的再現(xiàn)時的物理位置之 第2物理位置信息；比較驗證部，比較驗證所述第1物理位置信息與所述第2物理位置信 息；和再現(xiàn)停止部，根據(jù)所述比較驗證部的結(jié)果，停止再現(xiàn)動作。
31、 根據(jù)權(quán)利要求30所述的光盤再現(xiàn)裝置，其特征在于還具備聚焦位置移動部，從所述第1記錄層向所述第2記錄層移動 聚焦位置；和聚焦存儲部，在所述聚焦位置移動之后，存儲所述第2記錄層的聚焦 控制信息，所述物理位置信息抽取部，在所述聚焦位置移動之后，根據(jù)由所述聚 焦存儲部存儲的所述聚焦控制信息，抽取所述第2物理位置信息。
32、 根據(jù)權(quán)利要求30所述的光盤再現(xiàn)裝置，其特征在于還具備用于抽取以所述第1記錄層的所述第1記錄標(biāo)志的規(guī)定間隔所 賦予的地址信息的地址抽取部，所述地址抽取部，抽取用于抽取所述第2物理位置信息的目的地址， 所述物理位置信息抽取部，抽取與從所述第1記錄層的所述目的地址的扇區(qū)位置至所述第2記錄層的所述預(yù)記錄標(biāo)志的距離或角度相關(guān)的信息，作為所述第2物理位置信息，所述比較驗證部，將所述第l物理位置信息、即與所述預(yù)記錄標(biāo)志的記錄時的距離或角度相關(guān)的信息與由所述物理位置信息抽取部抽取的所述第2物理位置信息、即所述預(yù)記錄標(biāo)志的再現(xiàn)時的距離或角度信息進(jìn)行比較驗證，所述再現(xiàn)停止部，在所述比較驗證部的結(jié)果、判定為不一致的情況下，使再現(xiàn)動作停止。
33、 根據(jù)權(quán)利要求29所述的光盤再現(xiàn)裝置，其特征在于 所述第2再現(xiàn)部具有同步碼檢測部，從所述第1記錄層的所述第1記錄標(biāo)志中檢測同步碼;禾口相關(guān)系列生成部，與檢測所述同步碼的定時同步，生成相關(guān)系列，根據(jù)所述相關(guān)系列與所述第2振幅分量的相關(guān)運算，抽取所述識別信息。
34、 根據(jù)權(quán)利要求33所述的光盤再現(xiàn)裝置，其特征在于 所述第2再現(xiàn)部還具有用于PE調(diào)制所述相關(guān)系列的PE調(diào)制部， 根據(jù)所述PE調(diào)制后的相關(guān)系列與所述第2振幅分量的相關(guān)運算，抽取所述識別信息。
35、 根據(jù)權(quán)利要求29所述的光盤再現(xiàn)裝置，其特征在于還具備解讀部，解讀加密化后記錄的所述識別信息；和 再現(xiàn)停止部，根據(jù)所述解讀部的結(jié)果，停止再現(xiàn)動作。
36、 根據(jù)權(quán)利要求29所述的光盤再現(xiàn)裝置，其特征在于還具備署名驗證部，驗證賦予數(shù)字署名后記錄的所述識別信息的所述數(shù)字署名；和再現(xiàn)停止部，根據(jù)所述署名驗證部的結(jié)果，停止再現(xiàn)動作。
37、 一種光盤記錄裝置，該光盤具有由第l記錄標(biāo)志形成螺旋狀軌 道的第l記錄層；和在所述第1記錄層的讀出面的深部或淺部、可利用激 光照射形成記錄標(biāo)志的第2記錄層，該光盤記錄裝置具備聚焦部，向所述第l記錄層控制激光照射的聚焦位置；跟蹤部，根據(jù)所述第1記錄層的所述軌道，控制激光照射的半徑位置；禾口識別信息記錄部，根據(jù)所述跟蹤部執(zhí)行的控制，通過在所述第2記錄 層中形成所述第2記錄標(biāo)志，來記錄所述光盤的識別信息。
38、 根據(jù)權(quán)利要求37所述的光盤記錄裝置，其特征在于-還具備記號部，在所述第2記錄層中記錄預(yù)記錄標(biāo)志；和位置信息抽取部，抽取所述預(yù)記錄標(biāo)志的、以所述第l記錄層的所述 第1記錄標(biāo)志的一定位置為基準(zhǔn)的物理位置信息， 所述識別信息包含所述物理位置信息。
39、 根據(jù)權(quán)利要求38所述的光盤記錄裝置，其特征在于-所述記號部利用CAV(Constant Angular Velocity)方式的旋轉(zhuǎn)控制， 在光盤的所述第2記錄層中記錄預(yù)記錄標(biāo)志，在所述光盤的半徑方向，以成為所述第1記錄層的所述第1記錄標(biāo)志 的所述軌道的寬度以上的方式來記錄所述預(yù)記錄標(biāo)志。
40、 根據(jù)權(quán)利要求38所述的光盤記錄裝置，其特征在于-還具備地址抽取部，從所述第1記錄層的所述第1記錄標(biāo)志中抽取地址信息，所述位置信息抽取部，根據(jù)抽取到的所述地址信息，以所述第1記錄 層的所述一定位置為基準(zhǔn)，抽取與所述第2記錄層的所述預(yù)記錄標(biāo)志的距 離或角度相關(guān)的信息。
41、 根據(jù)權(quán)利要求38所述的光盤記錄裝置，其特征在于具備從所述第1記錄層的所述第1記錄標(biāo)志中抽取地址信息的地址抽 取部，所述物理位置信息是將所述第1記錄層的所述一定位置與所述地址信 息帶有對應(yīng)的信息。
42、 根據(jù)權(quán)利要求37所述的光盤記錄裝置，其特征在于-還具備-.聚焦移動部，用于從所述第1記錄層向所述第2記錄層移動聚焦控制;禾口聚焦存儲部，存儲向所述第2記錄層的聚焦控制結(jié)果， 所述位置信息抽取部，根據(jù)由所述聚焦存儲部存儲的聚焦控制結(jié)果， 抽取所述預(yù)記錄標(biāo)志的所述物理位置信息。
43、 根據(jù)權(quán)利要求37所述的光盤記錄裝置，其特征在于所述跟蹤部還具備跟蹤存儲部，在執(zhí)行按照所述第1記錄層的所述第1記錄標(biāo)志的跟蹤控制的同時，存儲利用所述跟蹤控制抽取的跟蹤控制信 所述識別信息記錄部，通過根據(jù)存儲在所述跟蹤存儲部中的所述跟蹤控制信息來執(zhí)行所述激光照射的位置控制，在所述第2記錄層中記錄識別自
44、 根據(jù)權(quán)利要求37所述的光盤記錄裝置，其特征在于還具備聚焦移動部，使聚焦位置從所述第1記錄層移動到所述第2記錄層； 和 —聚焦存儲部，在由所述聚焦移動部從所述第1記錄層向所述第2記錄 層移動完成所述聚焦位置之后，存儲所述第2記錄層的聚焦控制信息，所述識別信息記錄部，根據(jù)存儲在所述聚焦存儲部中的所述聚焦控制 信息，將聚焦控制從所述第1記錄層移動到所述第2記錄層，在所述第2 記錄層中記錄識別信息。
45、 根據(jù)權(quán)利要求37所述的光盤記錄裝置，其特征在于-所述第1記錄層是由再現(xiàn)專用的記錄膜構(gòu)成的記錄層， 所述識別信息記錄部，利用所述聚焦部，聚焦到所述第1記錄層，通過在所述第2記錄層中所述聚焦位置錯位的狀態(tài)下執(zhí)行所述激光照射，在所述第2記錄層中記錄所述識別信息。
46、 根據(jù)權(quán)利要求37所述的光盤記錄裝置，其特征在于-以規(guī)定間隔賦予同步碼后記錄所述第1記錄層的所述第1記錄標(biāo)志， 所述識別信息記錄部，以與賦予所述第1記錄標(biāo)志的同步碼的規(guī)定間隔同步的方式，在所述規(guī)定間隔平均記錄至少1比特所述識別信息。
47、 根據(jù)權(quán)利要求37所述的光盤記錄裝置，其特征在于 所述識別信息被重復(fù)記錄在所述第2記錄層的多個區(qū)域中。
48、 根據(jù)權(quán)利要求37所述的光盤記錄裝置，其特征在于 還具備用于執(zhí)行所述識別信息的加密化的加密部， 所述識別信息記錄部，記錄由所述加密部加密化后的所述識別信息。
49、 根據(jù)權(quán)利要求37所述的光盤記錄裝置，其特征在于還具備用于生成所述識別信息的數(shù)字署名的署名生成部，所述識別信息記錄部，記錄由所述署名生成部賦予數(shù)字署名后的所述 識別信息。
50、 根據(jù)權(quán)利要求37所述的光盤記錄裝置，其特征在于 還具備同步碼檢測部，檢測賦予所述第1記錄層的所述第1記錄標(biāo)志的同步碼；模擬隨機(jī)數(shù)系列生成部，與檢測所述同步碼的定時同步，生成模擬隨 機(jī)數(shù)系列；和頻譜擴(kuò)散部，利用所述模擬隨機(jī)數(shù)系列，對所述識別信息實施頻譜擴(kuò)散，所述識別信息記錄部記錄頻譜擴(kuò)散后的所述識別信息。
51、 根據(jù)權(quán)利要求50所述的光盤記錄裝置，其特征在于 還具備PE調(diào)制部，對頻譜擴(kuò)散后的所述識別信息實施PE調(diào)制， 所述識別信息記錄部，記錄被頻譜擴(kuò)散且實施了 PE調(diào)制后的所述識別信息。
52、 根據(jù)權(quán)利要求37所述的光盤記錄裝置，其特征在于 所述識別信息記錄部，至少配置在與跟蹤所述第1記錄層的所述第1記錄標(biāo)志的頭相同的頭中。
53、 根據(jù)權(quán)利要求37所述的光盤記錄裝置，其特征在于 當(dāng)設(shè)所述光盤的所述第1記錄層與所述第2記錄層的層間隔為M、記錄所述第1記錄標(biāo)志時照射的激光波長為入、照射所述激光的光學(xué)系統(tǒng)的 數(shù)值孔徑為NA時，M為入/(NA"2)以下。
54、 一種光盤制造方法，具備校對環(huán)規(guī)步驟，形成第l記錄標(biāo)志，制作形成了螺旋狀的軌道構(gòu)造的 光盤的壓模；第1記錄層生成步驟，在所述光盤的基板上，在利用所述壓模壓印后， 賦予反射膜，形成第l記錄層；第2記錄層生成步驟，從利用所述壓模進(jìn)行壓印的方向，向所述第l 記錄層的淺部或深部，形成賦予了可利用激光照射來記錄記錄標(biāo)志的記錄 膜的第2記錄層；跟蹤步驟，執(zhí)行按照所述第1記錄層的所述第1記錄標(biāo)志的跟蹤控制；禾口識別信息記錄步驟，根據(jù)所述跟蹤步驟的所述跟蹤控制，通過在所述第2記錄層形成第2記錄標(biāo)志，來記錄所述光盤的識別信息。
55、 根據(jù)權(quán)利要求54所述的光盤制造方法，其特征在于還具備記號步驟，在由所述識別信息記錄步驟記錄所述識別信息之前，在所述第2記錄層記錄預(yù)記錄標(biāo)志；和位置信息抽取步驟，抽取由所述記號步驟記錄在所述第2記錄層中的所述預(yù)記錄標(biāo)志的、以所述第1記錄層的所述第1記錄標(biāo)志的一定位置為 基準(zhǔn)的物理位置信息，包含所述物理位置信息地記錄所述識別信息。
56、 根據(jù)權(quán)利要求55所述的光盤制造方法，其特征在于 所述記號步驟，通過對光盤執(zhí)行基于CAV (Constant Angular Velocity)控制的旋轉(zhuǎn)控制，在所述第2記錄層中記錄所述預(yù)記錄標(biāo)志，在所述光盤的半徑方向，以所述第1記錄層的所述第1記錄標(biāo)志的軌 道寬度以上的寬度，來記錄所述預(yù)記錄標(biāo)志。
57、 根據(jù)權(quán)利要求55所述的光盤制造方法，其特征在于 還具備聚焦移動步驟，用于從所述第1記錄層向所述第2記錄層移動聚焦控 制；和聚焦存儲步驟，在從所述第1記錄層向所述第2記錄層的聚焦控制的 移動完成之后，存儲對所述第2記錄層的聚焦控制結(jié)果，所述位置信息抽取步驟，根據(jù)由所述聚焦存儲步驟存儲的所述聚焦控 制結(jié)果，從所述第1記錄層向所述第2記錄層移動聚焦控制，以所述第1 記錄層的所述第1記錄標(biāo)志的所述一定位置為基準(zhǔn)，抽取所述第2記錄層 的所述預(yù)記錄標(biāo)志的物理位置信息。
58、 根據(jù)權(quán)利要求55所述的光盤制造方法，其特征在于 具備地址抽取步驟，其從所述第l記錄層的所述第l記錄標(biāo)志中，抽取地址信息，所述位置信息抽取步驟，根據(jù)由所述地址抽取步驟抽取出的所述地址 信息，以所述第1記錄層的所述一定位置為基準(zhǔn)，抽取與所述第2記錄層 的所述預(yù)記錄標(biāo)志的距離或角度相關(guān)的信息。
59、 根據(jù)權(quán)利要求55所述的光盤制造方法，其特征在于具備地址抽取步驟，其從所述第l記錄層的所述第l記錄標(biāo)志中，抽 取地址信息，所述物理位置信息是與由所述地址抽取步驟抽取出的所述第1記錄層 的所述地址信息帶有對應(yīng)的信息。
60、 根據(jù)權(quán)利要求54所述的光盤制造方法，其特征在于所述跟蹤步驟具有跟蹤存儲步驟，在執(zhí)行按照所述第1記錄層的所述 第1記錄標(biāo)志的跟蹤控制的同時，存儲利用所述跟蹤控制抽取的跟蹤控制{曰息，所述識別信息記錄步驟，根據(jù)所述跟蹤存儲步驟中存儲的所述跟蹤控制信息，通過控制激光照射位置，在所述第2記錄層中記錄所述識別信息。
61、 根據(jù)權(quán)利要求54所述的光盤制造方法，其特征在于-還具備從所述第1記錄層向所述第2記錄層移動聚焦位置的聚焦移動步驟；和聚焦存儲步驟，在由所述聚焦移動步驟從所述第1記錄層向所述第2 記錄層移動完成聚焦位置之后，存儲所述第2記錄層的所述聚焦控制信息，所述識別信息記錄步驟，根據(jù)所述聚焦存儲步驟中存儲的所述聚焦控 制信息，通過從所述第1記錄層向所述第2記錄層移動聚焦位置，來在所 述第2記錄層中記錄所述識別信息。
62、 根據(jù)權(quán)利要求54所述的光盤制造方法，其特征在于-還具備向所述第1記錄層聚焦激光照射的聚焦步驟， 所述識別信息記錄步驟，在所述聚焦步驟中聚焦到所述第1記錄層的狀態(tài)下，利用在所述第2記錄層中聚焦位置錯位的激光照射，來記錄所述 識別信息，所述第1記錄層是由再現(xiàn)專用的記錄膜構(gòu)成的記錄層。
63、 根據(jù)權(quán)利要求54所述的光盤制造方法，其特征在于以規(guī)定間隔賦予同步碼后記錄所述第1記錄層的所述第1記錄標(biāo)志， 與所述規(guī)定間隔同步，平均記錄至少l比特所述識別信息。
64、 根據(jù)權(quán)利要求54所述的光盤制造方法，其特征在于 在所述識別信息記錄步驟中，所述識別信息被重復(fù)記錄在多個區(qū)域中。
65、 根據(jù)權(quán)利要求54所述的光盤制造方法，其特征在于還具備執(zhí)行所述識別信息的加密化的加密化步驟， 在所述識別信息記錄步驟中，記錄由所述加密化步驟加密化后的所述識別信息。
66、 根據(jù)權(quán)利要求54所述的光盤制造方法，其特征在于 還具備生成所述識別信息的數(shù)字署名的署名生成步驟， 在所述識別信息記錄步驟中，記錄由所述署名生成步驟賦予數(shù)字署名后的所述識別信息。
67、 根據(jù)權(quán)利要求54所述的光盤制造方法，其特征在于還具備頻譜擴(kuò)散步驟，對所述識別信息實施頻譜擴(kuò)散， 在所述識別信息記錄步驟中，記錄利用所述頻譜擴(kuò)散步驟頻譜擴(kuò)散后 的所述識別信息。
68、 根據(jù)權(quán)利要求54所述的光盤制造方法，其特征在于 還具備PE調(diào)制步驟，對所述識別信息實施PE調(diào)制， 在所述識別信息記錄步驟中，記錄在所述PE調(diào)制步驟中PE調(diào)制后的所述識別信息。
69、 根據(jù)權(quán)利要求54所述的光盤制造方法，其特征在于 在所述第2記錄層生成步驟中，形成所述第2記錄層，使得當(dāng)設(shè)所述第1記錄層與所述第2記錄層的層間隔為M、記錄所述第1記錄標(biāo)志時照 射的激光波長為A 、照射所述激光的光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑為NA時，M為 入/(NA—2)以下。
70、 根據(jù)權(quán)利要求54所述的光盤制造方法，其特征在于 在所述識別信息記錄步驟中，將所述第2記錄層的所述第2記錄標(biāo)志記錄在與用于跟蹤所述第1記錄層的所述第1記錄標(biāo)志的頭相同的頭中。
71、 一種集成電路，用于執(zhí)行光盤的再現(xiàn)，該光盤具有由第l記錄標(biāo)志形成螺旋狀軌道的第1記錄層；和在所述第1記錄層的讀出面的深部或淺部、形成包含光盤的識別信息的第2記錄標(biāo)志的第2記錄層，該集成電路具備聚焦部，向所述第l記錄層控制激光照射的聚焦位置；跟蹤部，根據(jù)所述第1記錄層的所述軌道，控制激光照射位置；再現(xiàn)信號抽取部，根據(jù)所述聚焦部和所述跟蹤部，對所述光盤執(zhí)行激 光照射，從所述激光照射的反射光中，抽取再現(xiàn)信號；第1再現(xiàn)部，根據(jù)所述再現(xiàn)信號的第1振幅分量，再現(xiàn)所述第1記錄 層的所述第l記錄標(biāo)志；和第2再現(xiàn)部，從比所述再現(xiàn)信號的所述第1振幅分量小的第2振幅分 量，再現(xiàn)所述第2記錄層的所述第2記錄標(biāo)志，抽取所述識別信息。
72、 一種集成電路，用于執(zhí)行光盤的記錄，該光盤具有由第1記錄 標(biāo)志形成螺旋狀軌道的第1記錄層；和在所述第1記錄層的讀出面的深部 或淺部、可利用激光照射形成記錄標(biāo)志的第2記錄層，該集成電路具備聚焦部，向所述第1記錄層控制激光照射的聚焦位置；跟蹤部，根據(jù)所述第1記錄層的所述軌道，控制激光照射的半徑位置;禾口識別信息記錄部，根據(jù)所述跟蹤部執(zhí)行的控制，通過在所述第2記錄 層中形成所述第2記錄標(biāo)志，來記錄所述光盤的識別信息。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種光盤(101)，是可利用激光照射來再現(xiàn)和記錄信息的光盤，具備第1記錄層(102)與第2記錄層(104)。第1記錄層(102)在螺旋狀的軌道中形成第1記錄標(biāo)志(103)。第2記錄層(104)位于第1記錄層(102)的讀出面的深部或淺部，均未形成基于激光照射來再現(xiàn)或記錄信息用的軌道和擺動軌道。并且，第2記錄層(104)通過激光照射，對應(yīng)于第1記錄層的螺旋狀的軌道上的規(guī)定位置，形成在光盤的半徑方向定位的第2記錄標(biāo)志(105)。光盤(101)在確保記錄的著作權(quán)保護(hù)信息或光盤(101)具有的著作權(quán)保護(hù)功能的隱匿性的同時，具有對不正當(dāng)復(fù)制的耐性。
文檔編號G11B20/10GK101427311SQ20078001395
公開日2009年5月6日 申請日期2007年4月16日 優(yōu)先權(quán)日2006年4月18日
發(fā)明者東海林衛(wèi), 山岡勝, 近藤健二, 錦織圭史 申請人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會社