專利名稱：：光學(xué)拾取單元，用于記錄/再生數(shù)據(jù)的設(shè)備，用于控制該設(shè)備的方法，控制方法和記錄介質(zhì)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及光學(xué)拾取單元、用于記錄/再生數(shù)據(jù)的設(shè)備、控制方法和記錄介質(zhì)，并且更具體地涉及光學(xué)拾取單元、利用近場的記錄/再生設(shè)備、用于有效地利用光學(xué)拾取單元和記錄/再生設(shè)備的控制方法以及同時使用的記錄介質(zhì)。
背景技術(shù)：
：通常，光學(xué)記錄/再生裝置已經(jīng)被用于在/從記錄介質(zhì)中(例如，光盤(CD)或數(shù)字化視頻光盤(DVD))記錄/再生數(shù)據(jù)。隨著消費(fèi)者的品味提高，消費(fèi)者需要用于處理高質(zhì)量移動圖像的技術(shù)。隨著移動圖像壓縮技術(shù)的發(fā)展，消費(fèi)者也需要高密度記錄介質(zhì)。在用于研制高密度記錄介質(zhì)的各種核心技術(shù)中，一種有代表性的技術(shù)是與光學(xué)拾取單元有關(guān)的技術(shù)。上面提到的記錄介質(zhì)的記錄密度受照射到記錄介質(zhì)的記錄層上的光學(xué)信號直徑的影響。換句話說，會聚到記錄介質(zhì)上的光學(xué)信號的直徑越小，記錄密度越高。在這種情況下，會聚的光學(xué)信號的直徑主要取決于兩種因素。一種因素是表明用于會聚光學(xué)信號的透鏡的通過量的數(shù)值孔徑(NA)，并且另一種因素是會聚到透鏡上的光學(xué)信號的波長。會聚的光學(xué)信號的波長越短，記錄密度越高。因此，短波長光學(xué)信號用于增加記錄密度。如果代替紅色光學(xué)信號而使用了藍(lán)色光學(xué)信號，則記錄密度變得更高。然而，釆用普通透鏡的遠(yuǎn)場記錄系統(tǒng)的頭在衍射光學(xué)信號方面具有局限性，從而在減小光學(xué)信號的直徑方面具有局限性。為解決上面提到的問題，許多硏發(fā)人員正在深入地研究基于近場光學(xué)的近場記錄(NFR)裝置，從而使NFR裝置能夠記錄或再生比光學(xué)信號的波長小的信息。包含近場形成透鏡的NFR裝置利用具有比物鏡的折射率大的折射率的改進(jìn)型近場形成透鏡獲取小于衍射限制的光學(xué)信號。光學(xué)信號被構(gòu)造成倏逝波形式，并隨后傳播到鄰近界面或者邊界的記錄介質(zhì)，從而高密度位信息被存儲在記錄介質(zhì)中。在這種情況下，為便于描述，用于形成倏逝波的區(qū)域被稱為近場。
發(fā)明內(nèi)容技術(shù)問題然而，上面提到的傳統(tǒng)技術(shù)具有以下問題。上面提到的基于近場的光學(xué)記錄/再生裝置不能與傳統(tǒng)的記錄介質(zhì)兼容。此外，上面提到的光學(xué)記錄/再生裝置難以解決由遇到的傾斜或振動而引起的碰撞問題，并同時維持記錄介質(zhì)和透鏡之間的預(yù)期的短距離。技術(shù)方案因此，本發(fā)明涉及光學(xué)拾取單元、用于記錄/再生數(shù)據(jù)的設(shè)備、控制方法以及記錄介質(zhì)，基本上消除了由于現(xiàn)有技術(shù)的局限性和缺點(diǎn)而引起的一個或多個問題。本發(fā)明的一個目的是提供一種適合用于近場記錄/再生裝置的透鏡、裝配有所述透鏡的光學(xué)拾取單元、和/或裝配有所述透鏡的光學(xué)記錄/再生設(shè)備。本發(fā)明的另一個目的是提供一種能夠利用傳統(tǒng)記錄介質(zhì)的近場記錄/再生設(shè)備。本發(fā)明的另一目的是提供用于利用近場記錄/再生設(shè)備有效地控制傾斜或振動的方法和設(shè)備。本發(fā)明的另一目的是提供能夠有效地用于近場記錄/再生設(shè)備的記錄介質(zhì)。有益效果根據(jù)本發(fā)明，有可能提供有效的透鏡單元，以便當(dāng)在/從記錄介質(zhì)上記錄/再生數(shù)據(jù)時執(zhí)行記錄/再生。根據(jù)本發(fā)明，有可能將近場記錄介質(zhì)和遠(yuǎn)場記錄介質(zhì)一起使用。根據(jù)本發(fā)明，有可能當(dāng)在/從記錄介質(zhì)上記錄/再生數(shù)據(jù)時有效地控制傾斜或振動。根據(jù)本發(fā)明，有可能提供用于采用近場記錄或再生的記錄介質(zhì)。為提供對本發(fā)明的進(jìn)一步理解而被包含的以及含入并構(gòu)成本申請一部分的附圖解釋說明了本發(fā)明的實(shí)施例，而且和說明書一起用于解釋本發(fā)明的原理。圖中-圖1為解釋說明根據(jù)本發(fā)明的記錄/再生設(shè)備的方塊圖2為解釋說明包含在根據(jù)本發(fā)明的記錄/再生設(shè)備中的光學(xué)拾取單元的方塊圖3為解釋說明根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)拾取單元的透鏡和記錄介質(zhì)的橫截面圖4A-4C為根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的記錄/再生設(shè)備的近場形成透鏡的橫截面圖5為解釋說明根據(jù)本發(fā)明的受近場形成透鏡的厚度(d)變化影響的球面像差變化的對應(yīng)曲線圖6為解釋說明近場形成透鏡和用于補(bǔ)償根據(jù)本發(fā)明的近場形成透鏡的球面像差的物鏡的橫截面圖7A和7B為解釋說明根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的記錄/再生設(shè)備的近場形成透鏡的透視圖8為解釋說明受根據(jù)本發(fā)明的透鏡和記錄介質(zhì)之間的間隔影響的間隙誤差(GE)信號變化的相關(guān)圖9為解釋說明根據(jù)本發(fā)明的間隔控制方法的流程圖10為解釋說明根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的包含在記錄/再生設(shè)備中的透鏡和記錄介質(zhì)的橫截面圖IIA顯示出根據(jù)本發(fā)明的透鏡和記錄介質(zhì)；圖11B為根據(jù)本發(fā)明的在圖11A中所示的虛線圓圈部分的局部放大圖12A為根據(jù)本發(fā)明的記錄介質(zhì)的振動示例；圖12B為由根據(jù)本發(fā)明的記錄介質(zhì)振動而引起的變化曲線；圖13為解釋說明受根據(jù)本發(fā)明的透鏡的數(shù)值孔徑(NA)影響的球面像差變化的相關(guān)圖；并且圖14A和14B為解釋說明根據(jù)本發(fā)明的記錄介質(zhì)的透視圖。最佳方式本發(fā)明另外的優(yōu)勢、目的和特征將部分在隨后的說明中闡明，并且當(dāng)本領(lǐng)域技術(shù)人員分析下述內(nèi)容時部分將是顯而易見的，或者可以從本發(fā)明的實(shí)施中獲知。通過在書面的說明書和本文的權(quán)利要求以及附圖中具體指出的結(jié)構(gòu)，能夠?qū)崿F(xiàn)和達(dá)到本發(fā)明的目的及其它優(yōu)勢。為實(shí)現(xiàn)這些目的和其它優(yōu)勢，并且根據(jù)本發(fā)明的目的，如在本文中包含并廣義描述的，光學(xué)拾取器包括第一透鏡單元，所述第一透鏡單元包括第一物鏡和高折射透鏡；第二透鏡單元，所述第二透鏡單元包括第二物鏡；以及分離/組合單元，所述分離/組合單元用于分離或組合通過所述第一或第二透鏡單元的光學(xué)信號的路徑。優(yōu)選地，在第一透鏡單元和第二透鏡單元之間存在高度差。優(yōu)選地，根據(jù)記錄/再生操作期間的傾斜限制角或振動范圍確定所述高度差。優(yōu)選地，第二透鏡單元和記錄介質(zhì)之間的距離不超過焦距。優(yōu)選地，第一透鏡單元的中心軸和第二透鏡單元的中心軸之間的最小中心距離等于第一透鏡單元的半徑和第二透鏡單元的半徑之和。優(yōu)選地，中心距離的最大值比最小中心距離大2mm。優(yōu)選地，所述高折射透鏡具有的折射率至少為2。優(yōu)選地，第一透鏡單元的數(shù)值孔徑(NA)為1.45-1.85。優(yōu)選地，光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑(NA)小于記錄介質(zhì)的基片或鈍化層的折射率。優(yōu)選地，所述高折射透鏡具有球面像差，并且第一物鏡補(bǔ)償所述高折射透鏡的球面像差。優(yōu)選地，所述高折射透鏡被構(gòu)造成圓錐形結(jié)構(gòu)形狀。優(yōu)選地，所述高折射透鏡的一端為半球形的，以面對所述第一物鏡，并且所述高折射透鏡的另一端為圓錐形的，以面對記錄介質(zhì)。優(yōu)選地，所述圓錐形結(jié)構(gòu)的底部區(qū)域的直徑為30|am-40(am。在本發(fā)明的另一方面中，提供了一種用于記錄/再生數(shù)據(jù)的設(shè)備，所述設(shè)備包括第一透鏡單元，所述第一透鏡單元包括第一物鏡和高折射透鏡；第二透鏡單元，所述第二透鏡單元包括第二物鏡；分離/組合單元，所述分離/組合單元用于分離或組合通過所述第一或第二透鏡單元的光學(xué)信號的路徑；信號發(fā)生器，所述信號發(fā)生器用于利用從所述第一透鏡單元接收的光學(xué)信號產(chǎn)生對應(yīng)于所述第一透鏡單元和記錄介質(zhì)之間的間隔的控制信號；以及控制部，所述控制部被構(gòu)造成利用所述控制信號將所述第一透鏡單元和記錄介質(zhì)之間的間隔控制在一預(yù)定的范圍內(nèi)。優(yōu)選地，所述信號發(fā)生器產(chǎn)生對應(yīng)于從所述高折射透鏡全部地反射的光學(xué)信號的強(qiáng)度的控制信號。優(yōu)選地，所述控制部能夠使控制信號維持在預(yù)定的數(shù)值。優(yōu)選地，所述控制部將高折射透鏡的傾斜限制到最大值為0.1°。優(yōu)選地，所述控制部將所述記錄介質(zhì)的振動范圍限制到最大值為O.lmm。在本發(fā)明的另一方面中，提供了一種控制方法，所述方法包括檢測相互隔開一預(yù)定距離設(shè)置的透鏡和記錄介質(zhì)之間的物理傾斜限制角；檢測入射到透鏡上的光學(xué)信號的光學(xué)限制入射角；以及將所述物理傾斜限制角與所述光學(xué)限制入射角進(jìn)行比較，并且基于這兩個角中的較小者控制所述透鏡或記錄介質(zhì)的傾斜。優(yōu)選地，物理傾斜限制角的檢測步驟包括釆用公式a-tan-'(!)檢測物理傾斜限制角，其中，"d"為透鏡和記錄介質(zhì)之間的距離，^且"r"為面對記錄介質(zhì)的透鏡的橫截面的半徑。優(yōu)選地，所述方法進(jìn)一步包括利用檢測到的物理傾斜限制角控制透鏡的傾斜。優(yōu)選地，所述透鏡的中心軸和記錄介質(zhì)之間的角度被限制為0.085。-0.115。。優(yōu)選地，光學(xué)限制入射角的檢測步驟包括利用慧形像差檢測光學(xué)限制入射角。優(yōu)選地，所述方法進(jìn)一步包括限制所述記錄介質(zhì)的振動范圍。優(yōu)選地，所述記錄介質(zhì)的振動范圍被限制到O.lmm。用在記錄/再生設(shè)備中的記錄介質(zhì)包括至少一個記錄層，其中，第一記錄層的位置是固定的。單層記錄介質(zhì)的第一記錄層L0和多層記錄介質(zhì)的第一記錄層L0被設(shè)置在相同的位置，從而記錄/再生設(shè)備能夠很容易地接近所述第一記錄層(L0)。在這種情況下，所述記錄介質(zhì)可以包括鈍化層，并且所述鈍化層的厚度根據(jù)物理傾斜限制角而確定。所述鈍化層具有5pm的厚度。將要理解，前面對本發(fā)明的概括說明和后面對本發(fā)明的詳細(xì)說明都是示例性和解釋性的，并且希望提供對所要求保護(hù)的本發(fā)明的進(jìn)一步解釋說明。關(guān)于本發(fā)明的方式現(xiàn)在將詳細(xì)地參照本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，附圖中解釋說明其實(shí)例。在任何可能的地方，貫穿附圖將使用相同的參考數(shù)字以代表相同或相似的部件。在描述本發(fā)明之前，應(yīng)當(dāng)注意在本發(fā)明中公開的大多數(shù)術(shù)語對應(yīng)于本領(lǐng)域公知的通用術(shù)語，但必要時申請人選擇了一些術(shù)語并且將在下文中在對本發(fā)明的以下描述中公開。因此，優(yōu)選的是，由申請人定義的術(shù)語應(yīng)當(dāng)基于它們在本發(fā)明中的含義理解。圖1為解釋說明根據(jù)本發(fā)明的記錄/再生設(shè)備的方塊圖。下文中將參照圖2和3描述上面提到的記錄/再生設(shè)備。參照圖1，光學(xué)拾取單元(P/U)1將光學(xué)信號照射到記錄介質(zhì)上，會聚從記錄介質(zhì)反射的光學(xué)信號，并產(chǎn)生預(yù)期的信號。光學(xué)拾取單元1的光學(xué)系統(tǒng)(未示出)能夠被構(gòu)造為如圖2所示。圖2為解釋說明包含在根據(jù)本發(fā)明的記錄/再生設(shè)備中的光學(xué)拾取單元的方塊圖。包含在光學(xué)拾取單元1中的光學(xué)系統(tǒng)包括光源10、分離/組合單元20和30、透鏡單元40以及第一和第二光檢測單元60和70。光源10可以采用具有良好線性的激光器實(shí)現(xiàn)。例如，光源10可以采用激光二極管。將從光源IO發(fā)射的光學(xué)信號可以是平行的光學(xué)信號，從而平行的光學(xué)信號將照射到記錄介質(zhì)上。因此，為了實(shí)現(xiàn)平行的光學(xué)信號，諸如準(zhǔn)直器這樣的透鏡可以被設(shè)置到從光源IO發(fā)射的光學(xué)信號的行進(jìn)路徑上。分離/組合單元20和30將在相同方向上接收的光學(xué)信號的路徑相互分離，或者將在不同方向上接收的其它光學(xué)信號的路徑組合起來。根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備包括第一分離/組合單元20和第二分離/組合單元30，并且所述第一和第二分離/組合單元20和30的詳細(xì)描述將在下文中進(jìn)行說明。所述第一分離/組合單元20使入射的光學(xué)信號部分通過，并且使入射的光學(xué)信號部分反射。根據(jù)本發(fā)明，所述第一分離/組合單元20采用非偏振分束器(NBS)實(shí)現(xiàn)。第二分離/組合單元30根據(jù)偏振方向僅通過特定方向的偏振。根據(jù)本發(fā)明，第二分離/組合單元30可以采用偏振分束器(PBS)實(shí)現(xiàn)。例如，在利用線偏振的情況下，第二分離/組合單元30可以僅通過垂直偏振分量，同時反射水平偏振分量。另外，第二分離/組合單元30也可以僅通過水平偏振分量，同時反射垂直偏振分量。透鏡單元40將從光源10發(fā)射的光學(xué)信號會聚到記錄介質(zhì)50上。圖3為解釋說明根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)拾取單元的透鏡和記錄介質(zhì)的橫截面圖。參照圖3，根據(jù)本發(fā)明的透鏡單元40包括物鏡41和高折射透鏡42，二者設(shè)置在如下所述的路徑上，即，沿著所述路徑，從物鏡41產(chǎn)生的光學(xué)信號入射到記錄介質(zhì)50上。換句話說，由于透鏡單元40包括高折射透鏡和物鏡41，從而透鏡單元40的NA增加，導(dǎo)致出現(xiàn)倏逝波。在這種情況下，為便于描述并更好地理解本發(fā)明，所述高折射透鏡42被稱為近場形成透鏡。近場形成透鏡42可采用固態(tài)浸沒透鏡(SIL)實(shí)現(xiàn)，或者也可以采用通過切割球形透鏡而形成的半球形透鏡或超半球形透鏡實(shí)現(xiàn)。近場形成透鏡42的詳細(xì)實(shí)施例將在下文中參照附圖進(jìn)行描述。根據(jù)近場形成透鏡42的第一實(shí)施例，近場形成透鏡42可以通過切割球形透鏡的一端而制造，如圖4所示。如果球形透鏡被切割，能夠獲得具有不同厚度(d)的近場形成透鏡42的各種尺寸，如圖4所示。圖4A-4C為根據(jù)本發(fā)明一種實(shí)施例的記錄/再生設(shè)備的近場形成透鏡的橫截面圖。圖5為解釋說明根據(jù)本發(fā)明的受近場形成透鏡的厚度(d)變化影響的球面像差變化的對應(yīng)曲線圖。受近場形成透鏡42的厚度影響的球面像差顯示在圖5中。圖4A的球面像差在點(diǎn)"dl"處指示。圖4B的球面像差在點(diǎn)"d2"處指示。圖4C的球面像差在點(diǎn)"d3"處指示。如圖5所示，如果近場形成透鏡42具有的厚度為dl或d3，則不存在球面像差。點(diǎn)dl或d3被稱為等光程點(diǎn)。在采用如圖4A或4C所示的不具有球面像差的近場形成透鏡42的情況下，能夠最小化由球面像差引起的影響。在這種情況下，透鏡單元的有效數(shù)值孔徑(NA)與記錄介質(zhì)的折射率具有恒定的關(guān)系。在這種情況下，NA代表包括上面提到的近場形成透鏡42的透鏡單元40的NA總數(shù)。當(dāng)使用半球形近場形成透鏡時獲取的第一NA和當(dāng)使用超半球形近場形成透鏡時獲取的第二NA可采用以下公式計算。<table>tableseeoriginaldocumentpage16</column></row><table>優(yōu)選地，近場形成透鏡42的折射率可以被設(shè)定為"2"。如果超半球形近場形成透鏡42由LaSF35制成并且物鏡41的NA被設(shè)定為大約0.7，則超半球形近場形成透鏡42的NA為1.85。在這種情況下，由物鏡41和近場形成透鏡42形成的NA與記錄介質(zhì)50的折射率相互關(guān)聯(lián)。更詳細(xì)地，如果NA1或NA2被設(shè)定為"1"或者更高，如在上面提到的表l中所示，并且大于記錄介質(zhì)50的折射率，則在光學(xué)上實(shí)現(xiàn)了全反射。為防止產(chǎn)生全反射，NA必須小于記錄介質(zhì)50的基片或鈍化層的折射率。將在下文中詳細(xì)地描述近場形成透鏡42的第二實(shí)施例。具有球面像差的特定透鏡被用作近場形成透鏡42。在這種情況下，物鏡41被設(shè)計成補(bǔ)償上面提到的近場形成透鏡42的球面像差。用于補(bǔ)償球面像差的方法的詳細(xì)說明將在下文中參照附圖進(jìn)行描述。參照表1，圖4A中所示的半球形透鏡的NA1相對小于超半球形透鏡的NA2。如上面所描述的，NA被定義為nsin9。如果介質(zhì)的折射率(n)或角度(。增加，則NA增加，并且用于鑒別兩個鄰近點(diǎn)的分辨率也增加。另一方面，圖4C中所示的超半球形透鏡的NA被定義為n2Sine，從而圖4C的超半球形透鏡的NA大于圖4A的球形透鏡的NA，并且近場記錄/再生設(shè)備優(yōu)選使用超半球形透鏡。然而，很難制造圖4C的超半球形透鏡。如圖5所示，球面像差的傾斜在對應(yīng)于超半球形透鏡的點(diǎn)"d3"處突然改變。換句話說，如果超半球形透鏡的制造過程遇到的厚度誤差發(fā)生，則球面像差具有嚴(yán)重的誤差。因此，超半球形透鏡必須被切割以具有適當(dāng)?shù)暮穸龋瑥亩茈y制造預(yù)期的超半球形透鏡。因此，如圖4B所示，必須研制一種改進(jìn)的近場形成透鏡42，該透鏡具有的NA大于球形透鏡的NA，并且能容易制造。在這種情況下，近場形成透鏡42的球面像差能夠被物鏡41補(bǔ)償。圖6為解釋說明根據(jù)本發(fā)明的近場形成透鏡和用于補(bǔ)償近場形成透鏡的球面像差的物鏡的橫截面圖。更詳細(xì)地，圖6的透鏡單元40采用物鏡41補(bǔ)償圖4B中厚度為大約"d2"的近場形成透鏡42的球面像差。在這種情況下，物鏡41被設(shè)計成具有與上面提到的制造的近場形成透鏡42的球面像差相反的球面像差，從而能夠?qū)崿F(xiàn)預(yù)期的透鏡單元40。所述預(yù)期的透鏡單元40具有補(bǔ)償?shù)那蛎嫦癫?，能夠很容易地制造，并且具有高NA。在這種情況下，如圖5所示，在具有的厚度為大約d2的透鏡的情況下，受厚度變化影響的球面像差根據(jù)平緩曲線而變化，從而制造過程遇到的誤差范圍非常狹窄，導(dǎo)致有效性的實(shí)現(xiàn)。具體地，切線的斜率在球面像差局部最大點(diǎn)處變?yōu)榱?，?dǎo)致實(shí)現(xiàn)更高的有效性。換句話說，如果制造具有球面像差局部最大點(diǎn)的厚度"d2"的近場形成透鏡42，球面像差不大大改變，盡管在厚度"d2"處出現(xiàn)不希望有的誤差。結(jié)果，能夠利用物鏡41制造具有適當(dāng)補(bǔ)償?shù)那蛎嫦癫畹耐哥R單元40。透鏡單元40的NA對應(yīng)于1.8。圖7A和7B為解釋說明根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的記錄/再生設(shè)備的近場形成透鏡的透視圖。根據(jù)近場形成透鏡的第三實(shí)施例，能夠制造圓錐形的近場形成透鏡，如圖7所示。例如，近場形成透鏡42的切割的橫截面能夠被構(gòu)造成圓錐形結(jié)構(gòu)形狀。圖7中面對物鏡41的部分以與上面提到的實(shí)施例相同的方式被形成為半球形的，但面對記錄介質(zhì)50的其它部分被形成為圓錐形的。物理傾斜限制角a增加，這是因為接觸記錄介質(zhì)50的部分的面積被最小化，并且同時實(shí)現(xiàn)了用于將光學(xué)信號照射到記錄介質(zhì)上的最小區(qū)域。后面將描述對其的詳細(xì)說明。包含透鏡單元40的光學(xué)拾取單元1的光學(xué)系統(tǒng)非?？拷涗浗橘|(zhì)50。更詳細(xì)地，如果透鏡單元40和記錄介質(zhì)50之間的間隔小于大約1/4的光波長(即A/4)(或更小)，則入射到透鏡單元40上的一部分光學(xué)信號不全部從記錄介質(zhì)50的表面反射形成倏逝波，并通過記錄介質(zhì)50，從而倏逝波被施加到記錄層。施加到記錄層的倏逝波能夠被用于記錄/再生數(shù)據(jù)。然而，如果透鏡單元40和記錄介質(zhì)50之間的間隔大于至少A/4，則光學(xué)信號的波長喪失倏逝波的特征并返回到原始波長，從而倏逝波全部從記錄介質(zhì)50的表面反射。因此，基于近場的記錄/再生設(shè)備的透鏡單元40和記錄介質(zhì)50之間的間隔被維持在超過義/4的數(shù)值。在這種情況下，A/4代表近場限制。第一和第二光檢測單元60和70接收反射的光學(xué)信號，在接收的反射光學(xué)信號上執(zhí)行光電轉(zhuǎn)化，并且產(chǎn)生對應(yīng)于光通量的電信號。根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備包括第一光檢測單元60和第二光檢測單元70。第一光檢測單元60和第二光檢測單元70可以采用在記錄介質(zhì)50的徑向或信號軌道方向上被分成幾個單元的光檢測器實(shí)現(xiàn)。例如，所述第一光檢測單元60和第二光檢測單元70可以分別采用兩個光檢測器PDA和PDB實(shí)現(xiàn)。在這種情況下，光檢測器PDA產(chǎn)生與接收的光通量成比例的電信號A，并且另一光檢測器PDB產(chǎn)生與接收的光通量成比例的電信號B。另外，光檢測單元60和70也可以釆用四個光檢測器PDA、PDB、PDC和PDD實(shí)現(xiàn)，其每一個都在記錄介質(zhì)50的徑向或信號軌道方向上被分為兩個單元。上面提到的包含在光檢測單元60和70中的光檢測器的結(jié)構(gòu)不局限于上面提到的實(shí)施例，并且也能夠以各種方式進(jìn)行修改。圖1的信號發(fā)生器2利用從光學(xué)拾取單元1產(chǎn)生的信號產(chǎn)生為再生數(shù)據(jù)所需的射頻(RF)信號，并且也產(chǎn)生間隙誤差(GE)信號和跟蹤誤差信號以控制伺服系統(tǒng)?？刂破?接收從光檢測單元或信號發(fā)生器2產(chǎn)生的信號，并產(chǎn)生控制信號或驅(qū)動信號。例如，控制器3在GE信號上執(zhí)行信號處理，并且輸出能夠控制透鏡單元40和記錄介質(zhì)50之間的間隔的驅(qū)動信號至間隔伺服系統(tǒng)驅(qū)動器4?？刂破?根據(jù)物理傾斜限制角(a)或光學(xué)限制入射角(卩)限制透鏡單元40或記錄介質(zhì)50的動態(tài)范圍。間隔伺服系統(tǒng)驅(qū)動器4驅(qū)動包含在光學(xué)拾取單元中的致動器(未示出)，從而垂直地移動光學(xué)拾取單元1或光學(xué)拾取單元的透鏡單元40。結(jié)果，透鏡單元40和記錄介質(zhì)50之間的間隔能夠被維持恒定。間隔伺服系統(tǒng)驅(qū)動器4也可以被用作會聚伺服系統(tǒng)。例如，當(dāng)接收到來自控制器3的會聚控制信號時，光學(xué)拾取單元1或光學(xué)拾取單元1的透鏡單元40可以不僅跟蹤記錄介質(zhì)50的旋轉(zhuǎn)，而且也跟蹤記錄介質(zhì)50的垂直運(yùn)動。跟蹤伺服系統(tǒng)驅(qū)動器5驅(qū)動包含在光學(xué)拾取單元1中的跟蹤致動器(未示出)，從而光學(xué)拾取單元1或光學(xué)拾取單元的透鏡單元40在徑向上移動以校正光學(xué)信號的位置。因此，光學(xué)拾取單元1或者光學(xué)拾取單元的透鏡單元40能夠跟蹤包含在記錄介質(zhì)50中的預(yù)定磁道。跟蹤伺服系統(tǒng)驅(qū)動器5根據(jù)磁道的磁道移動指令在徑向上移動光學(xué)拾取單元！或光學(xué)拾取單元1的透鏡單元40。滑動伺服系統(tǒng)驅(qū)動器6驅(qū)動用于移動光學(xué)拾取單元1的滑動馬達(dá)(未示出)，從而它能夠根據(jù)磁道移動指令在徑向上移動光學(xué)拾取單元1。上面提到的記錄/再生設(shè)備可以連接到主機(jī)，諸如PC。主機(jī)將記錄/再生指令經(jīng)由接口發(fā)送到微處理器100，從解碼器7接收再生的數(shù)據(jù)，并將待記錄的數(shù)據(jù)傳送到編碼器8。當(dāng)接收來自主機(jī)的記錄/再生指令時，微處理器100控制解碼器7、編碼器8和控制器3。在這種情況下，上面提到的接口可以采用AT(AdvancedTechnology)附件包接口(ATAPI)llO。在這種情況下，ATAPI110為光學(xué)記錄/再生設(shè)備(例如CD或DVD驅(qū)動器)和主機(jī)之間的接口標(biāo)準(zhǔn)，并且用于將由光學(xué)記錄/再生設(shè)備解碼的數(shù)據(jù)傳輸?shù)街鳈C(jī)。ATAPI110將解碼的數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)化為能夠被主機(jī)處理的數(shù)據(jù)包形狀的協(xié)議，并且傳輸轉(zhuǎn)化的結(jié)果。在用于上面提到的記錄/再生設(shè)備中的光學(xué)拾取單元1的情況下，下文中將基于從光學(xué)系統(tǒng)的光源10發(fā)射的光學(xué)信號的行進(jìn)方向描述用于操作光學(xué)拾取單元1的方法。在除了上面提到的情況的其余情況下，將基于信號流描述用于操作光學(xué)拾取單元1的方法。從拾取單元l的光源l發(fā)射的光學(xué)信號入射到第一分離/組合單元20上，從而一部分光學(xué)信號被反射，并且一部分光學(xué)信號入射到第二分離/組合單元30上。第二分離/組合單元30通過包含在線偏振光學(xué)信號中的垂直偏振分量，并且反射水平偏振分量。不必說明的是，必要時第二分離/組合單元30通過水平偏振分量，并且反射垂直偏振分量。偏振轉(zhuǎn)化表面(未示出)可以被進(jìn)一步包含在通過第二分離/組合單元30的光學(xué)信號的路徑中，并且下文中將詳細(xì)地描述上面提到的偏振轉(zhuǎn)化表面。通過第二分離/組合單元30的光學(xué)信號入射到透鏡單元40上。在這種情況下，入射到透鏡單元40的物鏡上的光學(xué)信號產(chǎn)生倏逝波，同時通過近場形成透鏡。更詳細(xì)地，如果光學(xué)信號以閾值角度或更大的角度入射到近場形成透鏡上，則光學(xué)信號從透鏡表面全部地反射。然而，大約50nm的短間隔被維持在近場形成透鏡和記錄介質(zhì)之間以形成近場，從而一些光學(xué)信號由于倏逝波耦合作用不被反射，而是施加到記錄介質(zhì)。倏逝波到達(dá)記錄介質(zhì)50的記錄層，從而能夠記錄或再生預(yù)期的數(shù)據(jù)。從記錄介質(zhì)50反射的光學(xué)信號經(jīng)由透鏡單元40再次施加到第二分離/組合單元30上。在這種情況下，偏振轉(zhuǎn)化表面(未示出)可以位于朝向第二分離/組合單元30的光路中。偏振轉(zhuǎn)化表面改變到達(dá)記錄介質(zhì)50的光學(xué)信號和反射的光學(xué)信號的偏振方向。例如，如果1/4波板(QWP)被用作偏振轉(zhuǎn)化表面，貝ijQWP在入射到記錄介質(zhì)50上的光學(xué)信號上執(zhí)行左旋圓偏振，并且在反方向行進(jìn)的其它光學(xué)信號上執(zhí)行右旋圓偏振。結(jié)果，通過QWP的反射光學(xué)信號的偏振方向變成不同于入射光學(xué)信號的另一偏振方向，并且在這兩個偏振方向之間存在90。的差值。因此，當(dāng)僅其水平偏振分量通過第二分離/組合單元30的光學(xué)信號從記錄介質(zhì)50反射并再次進(jìn)入第二分離/組合單元30時，光學(xué)信號可以具有垂直偏振分量。具有垂直偏振分量的反射光學(xué)信號從第二分離/組合單元30反射并進(jìn)入第二光檢測單元70。同時，近場記錄/再生設(shè)備的透鏡單元40的數(shù)值孔徑(NA)大于"1"，從而當(dāng)光學(xué)信號照射到透鏡單元40并經(jīng)由透鏡單元40反射時，光學(xué)信號的偏振方向具有不希望的扭曲。換句話說，進(jìn)入第二分離/組合單元30的一部分反射光學(xué)信號具有水平偏振分量，并且通過第二分離/組合單元30。通過第二分離/組合單元30的反射光學(xué)信號被施加到第一分離/組合單元20上。第一分離/組合單元20使一部分入射光學(xué)信號通過，并且使一部分入射光學(xué)信號反射。從第一分離/組合單元20反射的光學(xué)信號入射到第一光檢測單元60上。第一光檢測單元60和第二光檢測單元70輸出對應(yīng)于接收的反射光學(xué)信號的光通量的電信號。信號發(fā)生器2利用從第一和第二光檢測單元60和70產(chǎn)生的電信號產(chǎn)生間隙誤差(GE)信號、跟蹤誤差(TE)信號或者RF信號。下文中將參照圖4描述上面提到的在信號發(fā)生器2中產(chǎn)生的信號。在這種情況下，第一光檢測單元60和第二光檢測單元70中的每一個都由兩個光檢測器組成，如圖3所示。包含在第一光檢測單元60中的兩個光檢測器分別輸出對應(yīng)于接收的光通量的電信號A和B。包含在第二光檢測單元70中的兩個光檢測器分別輸出對應(yīng)于接收的光通量的電信號C和D。當(dāng)接收來自第一光檢測單元60的A和B信號時，信號發(fā)生器2能夠產(chǎn)生間隙誤差(GE)信號以控制透鏡和記錄介質(zhì)50之間的間隔。當(dāng)包含在第一光檢測單元60中的所有光檢測器的輸出信號被相加時產(chǎn)生GE信號。最終的GE信號可以由以下公式l表示[公式1]GE=A+B在公式1中，GE信號對應(yīng)于與光通量對應(yīng)的電信號的總和，從而與施加到第一光檢測單元60的反射光學(xué)信號的光通量成比例。當(dāng)接收來自第二透鏡單元70的C和D信號時，信號發(fā)生器2可以產(chǎn)生用于記錄/再生數(shù)據(jù)的RF信號，或者用于控制跟蹤操作的TE信號。當(dāng)包含在第二光檢測單元70中的光檢測器的輸出信號被相加時產(chǎn)生RF信號，并且通過RF-C+D表示。TE信號指示包含在第二光檢測單元70中的光檢測器的輸出信號之間的差異，并且通過TE=C-D表示。圖8為解釋說明根據(jù)本發(fā)明的受透鏡和記錄介質(zhì)之間的間隔影響的間隙誤差(GE)信號變化的相關(guān)圖。參照圖8，在近場中隨著透鏡單元40和記錄介質(zhì)50之間的間隔(d)增加，GE信號呈指數(shù)增加。在脫離近場的遠(yuǎn)場中，透鏡單元40和記錄介質(zhì)50之間的間隔(d)是恒定的。下文中將對其詳細(xì)說明進(jìn)行描述。如果透鏡單元40和記錄介質(zhì)50之間的間隔(d)脫離近場(即，如果間隔(d)到達(dá)近場和遠(yuǎn)場之間的邊界值義/4)，則具有的入射角大于閾值角度的光學(xué)信號從記錄介質(zhì)50全部地反射。如果透鏡單元40和記錄介質(zhì)50之間的間隔(d)小于義/4從而形成近場，則具有的入射角大于閾值的光學(xué)信號部分通過記錄介質(zhì)50，盡管透鏡單元40不接觸記錄介質(zhì)50，從而最終的信號到達(dá)記錄層。因此，透鏡單元40和記錄介質(zhì)50之間的間隔(d)越小，光學(xué)信號通過記錄介質(zhì)50的光通量越大。而且，透鏡單元40和記錄介質(zhì)50之間的間隔(d)越小，從記錄介質(zhì)50全部反射的光學(xué)信號的光通量越少。透鏡單元40和記錄介質(zhì)50之間的間隔(d)越長，光學(xué)信號通過記錄介質(zhì)50的光通量越少。而且，透鏡單元40和記錄介質(zhì)50之間的間隔(d)越長，從記錄介質(zhì)50全部反射的光學(xué)信號的光通量越大。結(jié)果，獲得了圖8的曲線圖。在近場中隨著透鏡單元40和記錄介質(zhì)50之間的間隔(d)增加，與反射的光學(xué)信號的強(qiáng)度成比例的GE信號的強(qiáng)度呈指數(shù)增加。如果透鏡單元40和記錄介質(zhì)50之間的間隔(d)脫離近場，則GE信號的強(qiáng)度具有恒定的數(shù)值(即，最大值)?；谏厦嫣岬降脑?，在透鏡單元40和記錄介質(zhì)50之間的恒定間隔(d)被維持于近場中的條件下，GE信號具有恒定的數(shù)值。換句話說，執(zhí)行反饋控制以維持具有預(yù)定數(shù)值的GE信號，從而透鏡單元40和記錄介質(zhì)50之間的間隔(d)能夠被維持恒定。用于采用GE信號保持透鏡單元40和記錄介質(zhì)50之間的恒定間隔的方法將在下文中參照圖9進(jìn)行描述。圖9為解釋說明根據(jù)本發(fā)明的間隔控制方法的流程圖。參照圖9，在步驟SIO，透鏡單元40和記錄介質(zhì)50之間的間隔(x)被確定以便檢測反射的光學(xué)信號。在步驟Sll，檢測在確定的間隔(x)處檢測的GE信號(y)。在步驟S12，存儲檢測的GE信號(y)。在這種情況下，數(shù)值"y"可以比近場限制數(shù)值義/4高大約10-20%，從而降低在透鏡單元40和記錄介質(zhì)50之間產(chǎn)生碰撞的可能性。而且，數(shù)值"y"可以比近場限制數(shù)值/1/4的大約80-90%小，從而降低產(chǎn)生特定情況的可能性，其中，透鏡單元40和記錄介質(zhì)50之間的間隔(d)變長并脫離近場。根據(jù)需要，上面提到的步驟可以在數(shù)據(jù)被記錄在記錄介質(zhì)50中或從記錄介質(zhì)50中再生之前執(zhí)行。當(dāng)數(shù)據(jù)被記錄在旋轉(zhuǎn)的記錄介質(zhì)50中或從旋轉(zhuǎn)的記錄介質(zhì)50中再生時，光學(xué)信號被照射到記錄介質(zhì)的磁道上，并且在第一光檢測單元60中被接收。信號發(fā)生器80利用第一光檢測單元60的輸出信號產(chǎn)生GE信號。在這種情況下，在步驟S13，確定檢測的GE信號(yl)是否對應(yīng)于存儲的GE信號(y)。在這種情況下，如果檢測的GE信號(yl)對應(yīng)于在步驟S13存儲的GE信號(y)，這就意味著保持了預(yù)期的設(shè)定間隔，從而在步驟S14能夠繼續(xù)執(zhí)行數(shù)據(jù)的記錄/再生過程。另外，如果檢測的GE信號(yl)不對應(yīng)于在步驟S13存儲的GE信號(y),這就意味著出現(xiàn)設(shè)定間隔的變化，從而能夠調(diào)節(jié)透鏡單元40和記錄介質(zhì)50之間的間隔(d)。以這種方式，在記錄/再生過程，根據(jù)利用檢測的GE信號的反饋控制方法，控制透鏡單元40，從而能夠恒定地保持透鏡單元40和記錄介質(zhì)50之間的間隔。根據(jù)另一實(shí)施例的記錄/再生設(shè)備包括兩個透鏡單元。例如，為確保包含近場形成透鏡的近場記錄/再生設(shè)備和傳統(tǒng)的記錄/再生設(shè)備之間的兼容性，上面提到的記錄/再生設(shè)備也包括傳統(tǒng)的透鏡。為確保記錄/再生設(shè)備和藍(lán)光(blu-ray)光盤(BD)之間的兼容性，上面提到的實(shí)施例也包括BD的透鏡。然而，上面提到的實(shí)施例不局限于上面提到的示例，而且也能應(yīng)用到其它示例中。為便于描述并更好的理解本發(fā)明，這里將省略與前面指明的實(shí)施例的那些部分相同的部分，并且下文中將僅描述不同的部分。根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)系統(tǒng)包括第一物鏡單元和第二物鏡單元。第一物鏡單元包括第一物鏡41和近場形成透鏡42。第二物鏡單元包括第二物鏡43。在這種情況下，第一透鏡單元和第二透鏡單元之間的位置關(guān)系是需要特別注意的。第一透鏡單元的中心點(diǎn)Cl和第二透鏡單元的中心點(diǎn)C2之間的距離(在下文中稱為中心距離)應(yīng)當(dāng)大于各透鏡單元的半徑之和。例如，如圖11所示，最小中心距離等于第一物鏡40的半徑和第二物鏡43的半徑之和。同時，如果中心距離很長，則其它的透鏡單元(即，第二透鏡單元)可能由于利用第一透鏡單元記錄或再生數(shù)據(jù)時遇到的傾斜或振動而與記錄介質(zhì)50碰撞。因此，中心距離可以被限制到特定的數(shù)值，該數(shù)值比各透鏡單元的半徑之和大2mm。同時，第一透鏡單元和記錄介質(zhì)50之間的間隔不同于第二透鏡單元和記錄介質(zhì)50之間的間隔。例如，如果采用第一透鏡單元記錄數(shù)據(jù)，近場形成透鏡42和記錄介質(zhì)50之間的間隔被保持在幾納米的數(shù)值，如圖11所示。在這種情況下，如果第二透鏡單元位于與所述第一透鏡單元相同的高度，盡管出現(xiàn)了少量的振動，則第二透鏡單元與記錄介質(zhì)50碰撞。因此，第二透鏡單元和記錄介質(zhì)50之間的間隔必須大于第一透鏡單元和記錄介質(zhì)50之間的間隔。在這種情況下，第一透鏡單元和第二透鏡單元之間出現(xiàn)高度差，如圖11中的"H"所指示的。圖12B為根據(jù)本發(fā)明的由記錄介質(zhì)的振動而引起的變化曲線。在考慮如圖12B所示的振動的情況下，獲取對應(yīng)于第一和第二透鏡單元的中心距離的振動范圍(H)，從而根據(jù)獲取的結(jié)果確定H的數(shù)值。如果中心距離為2mm，并且物理傾斜限制角(a)被限制為0.085°-0.115°(大約0.1°),在具有最高振動的拐點(diǎn)處對應(yīng)于角度0.1°的高度差(H)為0.035mm。因此，圖10的第二物鏡43和記錄介質(zhì)50之間的距離比近場形成透鏡42和記錄介質(zhì)50之間的距離至少長0.035mm。然而，第二物鏡43和記錄介質(zhì)之間的距離不大于第二物鏡43的焦距。為正確地利用第一透鏡單元和第二透鏡單元，記錄/再生設(shè)備的光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)一步包括另外的分離/組合單元(未示出)，該單元能夠?qū)⒊虻谝煌哥R單元的光學(xué)信號與朝向第二透鏡單元的其它光學(xué)信號分離。如上所描述的，記錄介質(zhì)50和透鏡單元40之間的間隔非常短以形成近場。因此，如果在記錄/再生過程期間或者在記錄/再生設(shè)備的使用時間不控制記錄介質(zhì)50或透鏡單元40的傾斜，則在記錄介質(zhì)50和透鏡單元之間產(chǎn)生碰撞的可能性增加。為解決碰撞問題，本發(fā)明提供了一種用于在物理上和光學(xué)上控制包含在記錄/再生設(shè)備中的透鏡單元或記錄介質(zhì)50的傾斜的方法。在這種情況下，應(yīng)當(dāng)注意，根據(jù)本發(fā)明的傾斜控制方法不局限于上面提到的記錄/再生設(shè)備的任何一個實(shí)施例。傾斜控制方法的詳細(xì)說明將在下文中進(jìn)行描述。關(guān)于記錄介質(zhì)50和透鏡單元40之間的傾斜，本發(fā)明檢測物理傾斜限制角，從而控制記錄介質(zhì)50和透鏡單元40不脫離物理傾斜限制角。下文中將參照圖IIA和IIB描述其詳細(xì)說明。圖11A顯示出包括物鏡4和近場形成透鏡42的透鏡單元40以及記錄介質(zhì)50。在這種情況下，如上指明的，近場形成透鏡40和記錄介質(zhì)50之間的間隔為幾納米的數(shù)值，從而近場形成透鏡40非常接近記錄介質(zhì)50。圖IIB為根據(jù)本發(fā)明的在圖IIA中所示的虛圓圈部分的局部放大圖。如圖11B所示，假定位于近場形成透鏡42下部的底部半徑為"r"并且近場形成透鏡42和記錄介質(zhì)50之間的間隔為"d"。在這種情況下，假定物理范圍限制角被設(shè)定為物理傾斜限制角(a)，按照所述物理范圍限制角，透鏡單元相對于記錄介質(zhì)最大傾斜，直到透鏡單元和記錄介質(zhì)重疊，可以采用以下公式2計算物理傾斜限制角(a):<formula>formulaseeoriginaldocumentpage29</formula>為便于說明，下文中將描述詳細(xì)的實(shí)施例。數(shù)值"r"越高，物理傾斜限制角(cO越小。例如，根據(jù)采用圖3所示的半球形近場形成透鏡42的實(shí)施例，如果半球的半徑為lmm，則物理傾斜限制角(a)非常小，從而上面提到的實(shí)施例可能難以控制記錄/再生設(shè)備。因此，為解決上面提到的問題，實(shí)施例可以采用能夠最小化接觸記錄介質(zhì)50的區(qū)域的近場形成透鏡42,從而物理傾斜限制角(a)也增加。因此，下文中將利用與圖7A的近場形成透鏡42相關(guān)的具體情況作為示例而描述該實(shí)施例。在這種情況下，如果圖7A的底部區(qū)域42b的半徑非常短，很難將光學(xué)信號照射到記錄介質(zhì)的記錄層上。因此，近場形成透鏡42的底部區(qū)域的半徑(r)被示例性地設(shè)定為30pm-4Opm。然而，近場形成透鏡42的底部區(qū)域的半徑(r)不局限于30)im-40iam的數(shù)值，并且在必要時也能夠設(shè)定成其它數(shù)值。在這種情況下，"d"的數(shù)值可以被設(shè)定到30nm，從而能夠在近場限制范圍內(nèi)清楚地觀察由反射的光學(xué)信號形成的信號。在利用公式2計算上面提到的數(shù)值(a)的情況下，如果"r"值為30fim，則物理傾斜限制角(a)被設(shè)定為0.115°，并且，如果"r"值為40|am，則物理傾斜限制角(a)被設(shè)定為0.085°。因此，在利用物理傾斜限制角(a)控制記錄介質(zhì)的情況下，上面提到的實(shí)施例控制透鏡單元40或記錄介質(zhì)50以不超過0.115?；蛘?.085°。在這種情況下，可以利用拾取單元的致動器限制透鏡單元40的傾斜范圍，并且也能夠以各種方式修改以實(shí)現(xiàn)相同的效果。同時，根據(jù)記錄介質(zhì)50和透鏡單元40之間的傾斜，檢測光學(xué)限制入射角，從而記錄介質(zhì)50和透鏡單元40之間的傾斜能夠被控制到不超過光學(xué)限制入射角。更詳細(xì)地，利用慧形像差確定光學(xué)信號的入射角。當(dāng)記錄介質(zhì)不垂直于光軸時出現(xiàn)慧形像差。在光學(xué)上，慧形像差必須不超過0.07X的范圍，從而能夠計算光學(xué)信號的入射角的可允許范圍。在第一種情況下，在透鏡單元40的NA為1.6并且鈍化層的折射率為1.7n的條件下，為將慧形像差限制在0.07入內(nèi)，光學(xué)信號的入射角誤差應(yīng)當(dāng)?shù)扔诨蛘咝∮诖蠹s0.6°。在第二種情況下，在NA為1.85并且鈍化層的折射率(n)為1.95的條件下，為將慧形像差限制在0.07、內(nèi)，光學(xué)信號的入射角誤差應(yīng)當(dāng)?shù)扔诨蛘咝∮诖蠹s0.4。。因此，記錄/再生設(shè)備控制透鏡單元40，從而在上面提到的第一種情況下入射光學(xué)信號不超過0.6。，或者在上面提到的第二種情況下入射光學(xué)信號不超過0.4°。根據(jù)本發(fā)明的控制方法將物理傾斜限制角(a)與光學(xué)限制入射角(p)進(jìn)行比較，從而透鏡單元40能夠通過任何一個角度(a，卩)被控制。例如，物理傾斜限制角(oc)比光學(xué)限制入射角03)小0.6°或0.4°。因此，如果上面提到的控制方法僅控制物理傾斜限制角(oc)，則能夠滿足光學(xué)限制入射角((3)的范圍。在這種情況下，透鏡單元40的傾斜被控制，并且同時記錄介質(zhì)50的振動也被控制。在這種情況下，振動指示受記錄介質(zhì)50的旋轉(zhuǎn)影響的記錄介質(zhì)50的垂直運(yùn)動。例如，如圖12A所示，記錄介質(zhì)旋轉(zhuǎn)的同時在垂直方向振動。沿著記錄介質(zhì)50的圓周，旋轉(zhuǎn)的記錄介質(zhì)40的最大振動發(fā)生，并且具有圖12B中所示的周期。在這種情況下，如果記錄介質(zhì)50的半徑為R，則總長(1)為2兀R。如果在半徑R為6cm的情況下測量最大點(diǎn)和最小點(diǎn)之間的間隔，則間隔變化的最大值M為O.lmm。因此，控制器3能夠?qū)⒂涗浗橘|(zhì)50的振動范圍限制到O.lmm。由于透鏡單元40的高NA以及記錄介質(zhì)50的基片或鈍化層的折射率，根據(jù)本發(fā)明的記錄介質(zhì)50具有高球面像差(SA)。在這種情況下，球面像差指示在單點(diǎn)被反射或折射的光由于曲率而不再次在該單點(diǎn)處被聚集。如果控制方法不補(bǔ)償球面像差，則不能在記錄介質(zhì)50的適當(dāng)位置記錄或再生數(shù)據(jù)。在這種情況下，可以通過以下公式3計算球面像差(SA):[公式3]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage31</formula>在公式3中，如果記錄介質(zhì)50具有基片或鈍化層，則數(shù)值"n"代表鈍化層的折射率。而且，"入"代表光學(xué)信號的波長，"d"代表距離誤差，并且NA代表透鏡單元40的數(shù)值孔徑。圖13為解釋說明根據(jù)本發(fā)明的受透鏡的數(shù)值孔徑(NA)影響的球面像差變化的相關(guān)圖。當(dāng)記錄介質(zhì)50的基片或鈍化層的折射率為1.7時，獲得圖13的球面像差。如果NA為〗.5，則出現(xiàn)30mX/ljum的球面像差。如果不補(bǔ)償上述30mX的球面像差，則不能記錄或者再生數(shù)據(jù)。在記錄介質(zhì)50中，主要被記錄/再生設(shè)備接近以獲取記錄介質(zhì)50的信息的第一記錄層(LO)被固定到特定的位置以防止球面像差變化。下文中將包含鈍化層的記錄介質(zhì)50作為示例進(jìn)行描述。如圖HA所示，第一記錄層L0與包含鈍化層的記錄介質(zhì)50隔開并固定在一特定的位置。在圖14A所示的單層介質(zhì)和圖14B所示的多層介質(zhì)中，所述第一記錄層LO具有相同的位置。在這種情況下，包含在記錄介質(zhì)50中的鈍化層51的厚度是需要特別注意的。如果鈍化層51的厚度逐漸增加，圖11B中所示的近場形成透鏡42的底部半徑r應(yīng)當(dāng)逐漸增加以便將光學(xué)信號照射到記錄層(LO)上。然而，如果圖11B的近場形成透鏡42的底部半徑r逐漸增加，則物理傾斜限制角(a)逐漸減小。同時，如果鈍化層51具有很薄的厚度，則難以將記錄層保護(hù)起來。因此，應(yīng)當(dāng)根據(jù)物理傾斜限制角(a)而適當(dāng)?shù)卮_定鈍化層51的厚度。假定NA值為1.6-1.85并且記錄介質(zhì)鈍化層的折射率為1.7-2.0,基片或鈍化層必須具有大約5pm的厚度，從而近場形成透鏡42的半徑r能夠達(dá)到40|Lmi。從以上描述中很明顯的是，根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)拾取單元、記錄/再生設(shè)備、控制方法和記錄介質(zhì)具有以下效果。本發(fā)明提供了一種有效的透鏡，能夠有效地利用近場記錄/再生數(shù)據(jù)。本發(fā)明提供了一種光學(xué)拾取單元和一種記錄/再生設(shè)備，能夠在使用傳統(tǒng)記錄介質(zhì)的同時利用近場。本發(fā)明提供了一種用于有效地控制傾斜或振動同時利用近場記錄或再生數(shù)據(jù)的方法和設(shè)備。本發(fā)明提供了一種在近場中使用的記錄介質(zhì)。對本領(lǐng)域技術(shù)人員將顯而易見的是，在不偏離本發(fā)明的精神或范圍的前提下能夠?qū)Ρ景l(fā)明做各種修改和變化。因此，希望本發(fā)明涵蓋對該發(fā)明的修改和變化，假定它們都處于附屬的權(quán)利要求及其等效物的范圍內(nèi)。工業(yè)實(shí)用性根據(jù)本發(fā)明，有可能提供用于記錄/再生的有效的透鏡單元、設(shè)備或者記錄介質(zhì)D權(quán)利要求1.一種光學(xué)拾取設(shè)備，所述設(shè)備包括第一透鏡單元，所述第一透鏡單元包括第一物鏡和高折射透鏡；第二透鏡單元，所述第二透鏡單元包括第二物鏡；以及分離/組合單元，所述分離/組合單元用于分離或組合通過所述第一或第二透鏡單元的光學(xué)信號的路徑。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述第一透鏡單元和所述第二透鏡單元之間存在高度差。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中，所述高度差根據(jù)記錄/再生操作期間的傾斜限制角或振動范圍來確定。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中，所述第二透鏡單元和記錄介質(zhì)之間的距離不超過焦距。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述第一透鏡單元的中心軸和所述第二透鏡單元的中心軸之間的最小中心距離等于所述第一透鏡單元的半徑和所述第二透鏡單元的半徑之和。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述中心距離的最大值比最小中心距離大2mm。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述高折射透鏡具有至少為2的折射率。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述第一透鏡單元的數(shù)值孔徑(NA)為1.45-1.85。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑(NA)小于記錄介質(zhì)的基片或鈍化層的折射率。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述高折射透鏡具有球面像差，并且所述第一物鏡補(bǔ)償所述高折射透鏡的球面像差。11.根據(jù)權(quán)利要求l所述的設(shè)備，其中，所述高折射透鏡被構(gòu)造成圓錐形結(jié)構(gòu)形狀。12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述高折射透鏡的一端為半球形的，以面對所述第一物鏡，并且所述高折射透鏡的另一端為圓錐形的，以面對記錄介質(zhì)。13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的設(shè)備，其中所述圓錐形結(jié)構(gòu)的底部區(qū)域的直徑為30)am-40|am。14.一種用于記錄/再生數(shù)據(jù)的設(shè)備，所述設(shè)備包括第一透鏡單元，所述第一透鏡單元包括第一物鏡和高折射透鏡；第二透鏡單元，所述第二透鏡單元包括第二物鏡；分離/組合單元，所述分離/組合單元用于分離或組合通過所述第一或第二透鏡單元的光學(xué)信號的路徑；信號發(fā)生器，所述信號發(fā)生器利用從所述第一透鏡單元接收的光學(xué)信號產(chǎn)生對應(yīng)于所述第一透鏡單元和記錄介質(zhì)之間的間隔的控制信號；以及控制部，所述控制部被配置成利用所述控制信號將所述第一透鏡單元和所述記錄介質(zhì)之間的間隔控制在預(yù)定的范圍內(nèi)。15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的設(shè)備，其中，所述信號發(fā)生器產(chǎn)生對應(yīng)于從所述高折射透鏡全部反射的光學(xué)信號的強(qiáng)度的控制信號。16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的設(shè)備，其中，所述控制部能夠使所述控制信號保持在預(yù)定的數(shù)值。17.根據(jù)權(quán)利要求14所述的設(shè)備，其中，所述控制部將所述高折射透鏡的傾斜限制到最大為0.1°。18.根據(jù)權(quán)利要求14所述的設(shè)備，其中，所述控制部將所述記錄介質(zhì)的振動的范圍限制到最大為O.lmm。19.根據(jù)權(quán)利要求14所述的設(shè)備，進(jìn)一步包括-接口，所述接口用于接收記錄指令或再生指令，并且發(fā)送對應(yīng)于接收的指令的信號至所述控制部。20.—種控制方法，所述方法包括檢測相互隔開預(yù)定距離的透鏡和記錄介質(zhì)之間的物理傾斜限制角；檢測入射到所述透鏡上的光學(xué)信號的光學(xué)限制入射角；以及將所述物理傾斜限制角與所述光學(xué)限制入射角進(jìn)行比較，并且基于這兩個角中的較小者控制所述透鏡或所述記錄介質(zhì)的傾斜。21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的方法，其中，所述檢測所述物理傾斜限制角的步驟包括通過公式"=tan一^)檢測物理傾斜限制角，其中，"d"為所述透鏡和所述記錄介質(zhì)之間的距離，并且"r"為面對所述記錄介質(zhì)的所述透鏡的橫截面的半徑。22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法，進(jìn)一步包括-利用檢測到的所述物理傾斜限制角控制所述透鏡的傾斜。23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的方法，其中所述透鏡的中心軸和所述記錄介質(zhì)之間的角度被限制為0.085°-0.115。。24.根據(jù)權(quán)利要求20所述的方法，其中，所述光學(xué)限制入射角的檢測步驟包括利用慧形像差檢測所述光學(xué)限制入射角。25.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法，進(jìn)一步包括限制所述記錄介質(zhì)的振動范圍。26.根據(jù)權(quán)利要求25所述的方法，其中，所述記錄介質(zhì)的所述振動范圍被限制為O.lmm。27.—種用在權(quán)利要求14的所述記錄/再生設(shè)備中的記錄介質(zhì)，所述記錄介質(zhì)包括至少一個記錄層，其中，第一記錄層的位置是固定的。28.根據(jù)權(quán)利要求27所述的記錄介質(zhì)，進(jìn)一步包括鈍化層，其中，所述鈍化層的厚度根據(jù)物理傾斜限制角來確定。29.根據(jù)權(quán)利要求28所述的記錄介質(zhì)，其中，所述鈍化層具有5pm的厚度。全文摘要本發(fā)明公開了光學(xué)拾取單元、用于記錄/再生數(shù)據(jù)的設(shè)備、控制方法和記錄介質(zhì)。所述光學(xué)拾取單元和記錄/再生設(shè)備中的每一個都包括近場透鏡，并且使用了圓錐形的高折射透鏡，以便有效地利用近場。兩個透鏡單元需要與傳統(tǒng)的記錄介質(zhì)兼容。根據(jù)記錄介質(zhì)和透鏡之間的距離而設(shè)計透鏡單元，并且透鏡單元的傾斜或振動受到控制。文檔編號G11B7/00GK101529507SQ200780038670公開日2009年9月9日申請日期2007年10月12日優(yōu)先權(quán)日2006年10月16日發(fā)明者崔仁好,徐丁教,閔丙薰申請人:Lg電子株式會社