專(zhuān)利名稱：光記錄介質(zhì)以及光記錄介質(zhì)的記錄再現(xiàn)方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種具有多個(gè)記錄層的光記錄介質(zhì)以及光記錄介質(zhì)的記錄 再現(xiàn)方法，上述記錄層可通過(guò)激光來(lái)進(jìn)行再現(xiàn)。
背景技術(shù)：
當(dāng)前，作為大容量的光記錄介質(zhì)，藍(lán)光光盤(pán)(Blu-rayDisc)已商品化。 這種藍(lán)光光盤(pán)包括記錄層為單層的光盤(pán)以及如JP特開(kāi)2006-313628號(hào)公報(bào)中 記載的記錄層為2層的光盤(pán)。單層的藍(lán)光光盤(pán)在距離光入射表面100pm的位 置配置有記錄層。另外，2層的藍(lán)光光盤(pán)形成為如下結(jié)構(gòu)，S卩，與單層的情 況同樣，在距離光入射表面100Mm的位置配置有基本記錄層，在光入射表面 側(cè)的距離該基本記錄層25pm的位置配置有另一個(gè)記錄層。
在2層的藍(lán)光光盤(pán)中，如上述說(shuō)明那樣，基本記錄層的配置與單層的情 況相同，由此實(shí)現(xiàn)與BD規(guī)格的匹配。另一方面，在考慮對(duì)彼此的串?dāng)_(cross talk)、表面的損傷、灰塵、指紋的允許程度、光讀寫(xiě)頭的球面像差的修正 范圍、傾斜余量(tiltmargin)、制造時(shí)的誤差的基礎(chǔ)上，可任意決定基本記 錄層和另一記錄層的層伺距離。但是，實(shí)際上，2層藍(lán)光光盤(pán)中的25pm的 層間距離已在藍(lán)光光盤(pán)的規(guī)格中成為標(biāo)準(zhǔn)，可設(shè)想各公司今后也供給相同層 間距離的2層結(jié)構(gòu)的藍(lán)光光盤(pán)。

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的問(wèn)題
然而，當(dāng)具有多層的記錄層時(shí)，g卩，當(dāng)包括基本記錄層在內(nèi)的全部記錄
層為3層以上時(shí)，串?dāng)_、表面的指紋等的影響變得更大，設(shè)計(jì)變得更復(fù)雜。 在距離光入射表面最遠(yuǎn)的LO記錄層中，需要提高光反射率，但是在L0記錄 層以外的記錄層中需要提高光透過(guò)率。另外，使L0記錄層和與該L0記錄層 相鄰的L1記錄層的層間距離盡可能遠(yuǎn)，這樣信號(hào)特性變得更良好。另一方 面，若使層間距離過(guò)遠(yuǎn)，則距離光入射表面最近的記錄層會(huì)接近該光入射表面，因此容易受指紋等的影響。因此，對(duì)于3層以上的光記錄介質(zhì)而言，影 響信號(hào)質(zhì)量的要素復(fù)雜而相互關(guān)聯(lián)，因此存在如下問(wèn)題，即，各個(gè)制造公司 需要利用獨(dú)自的技術(shù)和經(jīng)驗(yàn)獨(dú)自進(jìn)行設(shè)計(jì)，來(lái)提高記錄再現(xiàn)的信號(hào)質(zhì)量，在 多個(gè)制造公司之間難以統(tǒng)一各記錄層的位置。
然而，容易發(fā)生如下問(wèn)題，即，若制造公司側(cè)任意設(shè)定各記錄層的位置， 則在光記錄再現(xiàn)裝置側(cè)，不知道被插入的藍(lán)光光盤(pán)的各記錄層的位置，因此 聚焦作業(yè)需要時(shí)間。
本發(fā)明是鑒于上述問(wèn)題而做成的，其目的在于提供一種光記錄介質(zhì)及其 記錄再現(xiàn)方法，可提高光記錄介質(zhì)的設(shè)計(jì)自由度，可減少記錄再現(xiàn)時(shí)的動(dòng)作 延遲和差錯(cuò)。
用于解決問(wèn)題的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明的發(fā)明人經(jīng)過(guò)專(zhuān)心研究，通過(guò)以下單元來(lái)實(shí)現(xiàn)上述目的。
實(shí)現(xiàn)上述目的的本發(fā)明為一種光記錄介質(zhì)，其具有基本記錄層，配置 在與光入射表面相距90Mm 110^m的位置，能夠利用從所述光入射表面照 射的激光來(lái)再現(xiàn)信息，多個(gè)記錄層，配置成與所述基本記錄層平行，能夠利 用從所述光入射表面照射的所述激光來(lái)再現(xiàn)信息；在所述基本記錄層或所述 信息記錄層上，至少記錄有所述記錄層的位置信息。
在上述發(fā)明中，實(shí)現(xiàn)上述目的的光記錄介質(zhì)在所述基本記錄層的導(dǎo)入?yún)^(qū) 域(lead in area)或?qū)С鰠^(qū)域(lead out area)，或者，在所述記錄層的導(dǎo)入 區(qū)域或?qū)С鰠^(qū)域，記錄有所述位置信息。
在上述發(fā)明中，實(shí)現(xiàn)上述目的的光記錄介質(zhì)在從所述基本記錄層和所述 記錄層中選擇出的多個(gè)記錄層上記錄所述位置信息。
在上述發(fā)明中，實(shí)現(xiàn)上述目的的光記錄介質(zhì)在所述基本記錄層上記錄所 述位置信息。
實(shí)現(xiàn)上述目的的本發(fā)明為一種光記錄介質(zhì)的記錄再現(xiàn)方法，在該光記錄 介質(zhì)的再現(xiàn)方法中，光記錄介質(zhì)的光記錄再現(xiàn)裝置在存儲(chǔ)單元中預(yù)先存儲(chǔ)介 質(zhì)識(shí)別信息以及位置信息，其中，所述介質(zhì)識(shí)別信息用于識(shí)別多個(gè)光記錄介 質(zhì)，所述位置信息為所述光記錄介質(zhì)的記錄層的位置信息；當(dāng)在所述光記錄 再現(xiàn)裝置上安裝了具有3層以上記錄層的光記錄介質(zhì)時(shí)，所述光記錄再現(xiàn)裝置對(duì)所述光記錄介質(zhì)的所述記錄層照射激光，讀出預(yù)先記錄在所述記錄層上 的介質(zhì)識(shí)別信息，并基于所述介質(zhì)識(shí)別信息來(lái)參照存儲(chǔ)在所述存儲(chǔ)單元中的
所述位置信息；基于所述位置信息對(duì)所述記錄層進(jìn)行聚焦控制，以此進(jìn)行記 錄再現(xiàn)。
在上述發(fā)明中，在實(shí)現(xiàn)上述目的的記錄再現(xiàn)方法中，所述光記錄介質(zhì)在 所述記錄層的群刻區(qū)上記錄有所述介質(zhì)識(shí)別信息。
在上述發(fā)明中，在實(shí)現(xiàn)上述目的的記錄再現(xiàn)方法中，所述光記錄介質(zhì)在 基本記錄層上記錄有所述介質(zhì)識(shí)別信息，其中，所述基本記錄層配置在與光 入射表面相距90nm 110nm的位置。
發(fā)明的效果
根據(jù)本發(fā)明，能夠得到如下的良好的效果，即，針對(duì)光記錄介質(zhì)的記錄 層的位置，能夠提高其設(shè)計(jì)自由度，從而能夠提供高質(zhì)量的記錄介質(zhì)。


圖1是表示本發(fā)明的第一實(shí)施方式的光記錄介質(zhì)以及光記錄再現(xiàn)裝置的
整體結(jié)構(gòu)的圖。
圖2是表示該光記錄介質(zhì)的結(jié)構(gòu)的放大圖。
圖3是表示該光記錄介質(zhì)的信息保存結(jié)構(gòu)的圖。
圖4是表示該光記錄介質(zhì)的溝槽(groove)結(jié)構(gòu)的放大剖視圖。
圖5是表示本發(fā)明的第二實(shí)施方式的光記錄介質(zhì)以及光記錄再現(xiàn)裝置的
整體結(jié)構(gòu)的圖。
圖6是表示該光記錄再現(xiàn)裝置所保存的介質(zhì)識(shí)別信息以及位置信息的例 子的圖。
圖7是表示該光記錄介質(zhì)的信息保存結(jié)構(gòu)的圖。
具體實(shí)施例方式
下面，參照附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式的例子進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。 在圖1中，示出了本發(fā)明的第一實(shí)施方式的光記錄介質(zhì)1以及對(duì)該光記 錄介質(zhì)1進(jìn)行記錄再現(xiàn)的光記錄再現(xiàn)裝置100。該光記錄再現(xiàn)裝置100具有馬達(dá)102、光讀寫(xiě)頭106以及線性驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)108。馬達(dá)102旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)光記錄 介質(zhì)l。光讀寫(xiě)頭106對(duì)光記錄介質(zhì)1照射聚束光(beam spot)以記錄和再 現(xiàn)信息。線性驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)108在光記錄介質(zhì)1的半徑方向上對(duì)光讀寫(xiě)頭106進(jìn) 行線性驅(qū)動(dòng)。此外，該光記錄介質(zhì)1是具有多個(gè)用于記錄信息的記錄層的多 層記錄介質(zhì)。
光讀寫(xiě)頭106具有激光光源120、物鏡122、半透半反鏡(half mirror) 124、光檢測(cè)裝置126以及透鏡驅(qū)動(dòng)線圈128，用于將激光Z的焦點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)在光 記錄介質(zhì)1的記錄層上。
激光光源120是產(chǎn)生記錄以及再現(xiàn)用的激光Z的半導(dǎo)體激光器。物鏡122 使激光Z的焦點(diǎn)聚焦以形成微細(xì)的聚束光，并向記錄層照射。半透半反鏡124 取出來(lái)自記錄層的反射光，并將其導(dǎo)向光檢測(cè)裝置126。光檢測(cè)裝置126是 光電檢測(cè)器(photo detector)，其接收激光Z的反射光，并將其轉(zhuǎn)換為電信 號(hào)。透鏡驅(qū)動(dòng)線圈128使物鏡122在光軸方向以及跟蹤(tracking)方向上移 動(dòng)。
進(jìn)而，光記錄再現(xiàn)裝置100具有激光器控制器130、聚焦控制器(focus controller) 132、跟蹤控制器(tracking controller) 134、線性控制器(linear controller) 136、馬達(dá)控制器138、調(diào)制解調(diào)電路140以及記錄再現(xiàn)控制器 143作為控制裝置。激光器控制器130基于調(diào)制解調(diào)電路140以及記錄再現(xiàn) 控制器142的指示，對(duì)光讀寫(xiě)頭106的激光光源120進(jìn)行驅(qū)動(dòng)控制。聚焦控 制器132基于從光檢測(cè)裝置126發(fā)送來(lái)的電信號(hào)，來(lái)檢測(cè)聚焦誤差(FE)， 并利用該聚焦誤差，在聚焦方向(光軸方向)上對(duì)透鏡驅(qū)動(dòng)線圈128進(jìn)行驅(qū) 動(dòng)控制。跟蹤控制器134基于從光檢測(cè)裝置126發(fā)送來(lái)的電信號(hào)來(lái)檢測(cè)跟蹤 誤差，并利用該跟蹤誤差，在跟蹤方向上對(duì)透鏡驅(qū)動(dòng)線圈128進(jìn)行驅(qū)動(dòng)控制。 該跟蹤控制器134還具有向記錄再現(xiàn)控制器142以及線性控制器136傳遞跟 蹤誤差信息的功能。因此，通過(guò)透鏡驅(qū)動(dòng)線圈128所進(jìn)行的跟蹤控制以及線 性控制器136對(duì)光讀寫(xiě)頭106整體的線性驅(qū)動(dòng)，能夠使聚束光追隨記錄軌道 (track)。線性控制器136對(duì)由直線馬達(dá)等構(gòu)成的線性驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)108進(jìn)行驅(qū) 動(dòng)控制，使光讀寫(xiě)頭106在光記錄介質(zhì)1的半徑方向上滑動(dòng)(slide)。馬達(dá) 控制器138用于控制馬達(dá)102的旋轉(zhuǎn)速度，在此通過(guò)區(qū)域CLV(zone - CLV: 區(qū)域恒定線速度)方式，使光記錄介質(zhì)1旋轉(zhuǎn)。CLV方式是如下的記錄方式，
6即，光記錄介質(zhì)1上的光讀寫(xiě)頭106的移動(dòng)線速度恒定，也就是說(shuō)，隨著其 從光記錄介質(zhì)1的內(nèi)周移動(dòng)到外周,將光記錄介質(zhì)1的轉(zhuǎn)速控制為逐漸變慢。 在區(qū)域CLV中，將光記錄介質(zhì)1的記錄層從內(nèi)周開(kāi)始進(jìn)一步分為幾個(gè)區(qū)域 (zone),并通過(guò)CLV方式對(duì)其每一區(qū)域進(jìn)行記錄。
調(diào)制解調(diào)電路140具有調(diào)制功能和解調(diào)功能，作為解調(diào)功能，將從光檢 測(cè)裝置126發(fā)送來(lái)的電信號(hào)解調(diào)為數(shù)字信號(hào)，并傳遞給記錄再現(xiàn)控制器142。 作為調(diào)制功能，對(duì)從記錄再現(xiàn)控制器142發(fā)送來(lái)的記錄用的數(shù)字信號(hào)進(jìn)行脈 沖調(diào)制，并將調(diào)制后的電信號(hào)傳遞給激光器控制器130。記錄再現(xiàn)控制器142 用于對(duì)控制裝置整體進(jìn)行統(tǒng)一控制，尤其使用未圖示的CPU或緩沖存儲(chǔ)器 對(duì)各種控制器和驅(qū)動(dòng)器等進(jìn)行控制，并且與主機(jī)之間進(jìn)行記錄再現(xiàn)信息的輸 入輸出。
此外，在該光記錄再現(xiàn)裝置100中，激光Z的波長(zhǎng)人被設(shè)定為400 410nm，該激光Z的初始再現(xiàn)功率被設(shè)定為0.3 2.0mW。另外，光讀寫(xiě)頭 106中的物鏡122的數(shù)值孔徑數(shù)NA被設(shè)定為0.70 0.90。因此，激光Z的 光點(diǎn)(spot)直徑(A/NA)為444nm 586nm。
為了在光記錄介質(zhì)1上記錄信息，通過(guò)記錄功率使激光光源120發(fā)出激 光Z，并向光記錄介質(zhì)1的特定的記錄層照射聚束光。另一方面，為了再現(xiàn) 信息，通過(guò)再現(xiàn)功率使激光光源120發(fā)出激光Z，并向光記錄介質(zhì)l的記錄 層照射該激光Z以進(jìn)行再現(xiàn)。不管是記錄還是再現(xiàn)，激光Z都在記錄層反射， 并通過(guò)光讀寫(xiě)頭106被取出，在光檢測(cè)裝置126中變成電信號(hào)。該電信號(hào)經(jīng) 過(guò)調(diào)制解調(diào)電路140變成數(shù)字信號(hào)。
下面，對(duì)用于該光記錄再現(xiàn)裝置100的再現(xiàn)的光記錄介質(zhì)1進(jìn)行說(shuō)明。 首先，如圖2(A)所示，該光記錄介質(zhì)1是外形約為120mm、厚度約為1.2mm 的圓盤(pán)狀的介質(zhì)。如圖2 (B)的放大圖所示，該光記錄介質(zhì)1是具有4個(gè) 記錄層的多層介質(zhì)，依次層疊基板IO、成為基本記錄層的L0記錄層20、第 一間隔層(spacer layer) 30、 Ll記錄層22、第二間隔層32、 L2記錄層24、 第三間隔層34、 L3記錄層26、保護(hù)層36以及硬編碼層38而構(gòu)成。
基板10是厚度約為l.lmm的圓盤(pán)狀的構(gòu)件，作為其原料，例如能夠使 用玻璃、陶瓷、樹(shù)脂等各種材料。在此使用聚碳酸酯樹(shù)脂。此外，作為樹(shù)脂， 除了聚碳酸酯樹(shù)脂以外，還可以采用烯烴樹(shù)脂、丙烯樹(shù)脂、環(huán)氧樹(shù)脂、聚苯乙烯樹(shù)脂、聚乙烯樹(shù)脂、聚丙烯樹(shù)脂、硅樹(shù)脂、氟系樹(shù)脂、ABS樹(shù)脂、氨基 甲酸乙酯樹(shù)脂等。根據(jù)加工、成型的容易程度，其中優(yōu)選聚碳酸酯樹(shù)脂或烯 烴樹(shù)脂。另外，在基板10的記錄層一側(cè)的表面，根據(jù)用途形成溝槽(groove)、 平臺(tái)(land)、凹坑(pit)列等。
第一 第三間隔層30、 32、 34、保護(hù)層36以及硬編碼層38均具有光透 過(guò)性，使從外部入射的激光透過(guò)。其結(jié)果，若使用從硬編碼層38的光入射 表面38A入射的激光Z，則能夠?qū)0 L3記錄層20、 22、 24、 26記錄和再 現(xiàn)信息。
第一 第三間隔層30、 32、 34層疊在L0 L3記錄層20、 22、 24、 26 之間，具有使各記錄層20、 22、 24、 26之間分離的功能。在各間隔層30、 32、 34的光入射表面38A —側(cè)的表面上形成有溝槽(平臺(tái))、凹坑列等。 第一 第三間隔層30、 32、 34的材料可以使用各種材料，但是為了使激光Z 透過(guò)，需要使用光透過(guò)性材料。例如，優(yōu)選使用紫外線硬化性丙烯樹(shù)脂。
在該光記錄介質(zhì)1中，第一間隔層30的厚度被設(shè)定為17Mm、第二間隔 層32的厚度被設(shè)定為20mhi、第三間隔層34的厚度被設(shè)定為13^。這樣， 通過(guò)使間隔層30、 32、 34的厚度互不相同，來(lái)減少再現(xiàn)信號(hào)的干擾，從而 能夠減少讀取信號(hào)的噪聲。此外，硬編碼層38的厚度被設(shè)定為2nm、保護(hù) 層36的厚度被設(shè)定為48nm。
因此，在該光記錄介質(zhì)1中，從光入射表面38A到L3記錄層26的距離 約為50|um，從光入射表面38A到L2記錄層24的距離約為63pm，從光入 射表面38A到Ll記錄層22的距離約為83pm，從光入射表面38A到L0記 錄層20的距離約為100|mi?；居涗泴蛹碙0記錄層20配置在與光入射表 面38A相距90Mm 110Mm的位置。另外，在本實(shí)施方式中，L0記錄層20 的記錄容量為25GB。因此，基本記錄層與藍(lán)光光盤(pán)(Blu-ray Disc)的規(guī)格 匹配。另一方面，對(duì)于其他記錄層L1 L3記錄層22、 24、 26而言，配置成 與基本記錄層(L0記錄層20)平行。即，對(duì)基本記錄層追加其他記錄層， 從而將該光記錄介質(zhì)1形成為多層化結(jié)構(gòu)。此外，在此示出了 L0記錄層20 為基本記錄層的情況，但是本發(fā)明并不限定于此。例如，即使是L1記錄層 22、 L2記錄層24、 L3記錄層26，只要這些配置在與光入射表面38A相距 90lam 110拜的位置，就可以成為基本記錄層。當(dāng)對(duì)L0記錄層20記錄和再現(xiàn)信息時(shí)，經(jīng)由L1 L3記錄層22、 24、 26 向LO記錄層20照射激光Z。同樣，當(dāng)對(duì)L1記錄層22記錄和再現(xiàn)信息時(shí)， 經(jīng)由L2、 L3記錄層24、 26向Ll記錄層22照射激光Z。當(dāng)對(duì)L2記錄層24 記錄和再現(xiàn)信息時(shí)，經(jīng)由L3記錄層26向L2記錄層24照射激光Z。當(dāng)對(duì) L3記錄層26記錄和再現(xiàn)信息時(shí)，不經(jīng)由其他記錄層，直接向L3記錄層26 照射激光Z。
如圖3 (A)所示，光記錄介質(zhì)1能夠分成緊固區(qū)域(clampingarea) 70、 過(guò)度區(qū)域(transition area) 80、信息區(qū)域90等。各記錄層20、 22、 24、 26 對(duì)應(yīng)于該信息區(qū)域90，可進(jìn)一步詳細(xì)區(qū)分為導(dǎo)入?yún)^(qū)域94、數(shù)據(jù)區(qū)域96、導(dǎo) 出區(qū)域98等。此外，對(duì)于成為基本記錄層的L0記錄層20而言，在導(dǎo)入?yún)^(qū) 域94的內(nèi)周側(cè)具有群刻區(qū)(burst cutting area， BCA) 92。此外，在此示出 從內(nèi)周向外周依次配置有導(dǎo)入?yún)^(qū)域94、數(shù)據(jù)區(qū)域96、導(dǎo)出區(qū)域98的情況， 但是該配置順序可根據(jù)信息的記錄方向(螺旋方向)而相反。即，當(dāng)從外周 向內(nèi)周記錄信息時(shí)，從外周向內(nèi)周依次配置導(dǎo)入?yún)^(qū)域94、數(shù)據(jù)區(qū)域96、導(dǎo) 出區(qū)域98。
進(jìn)而，如圖3 (B)所示，光記錄介質(zhì)1在各記錄層20、 22、 24、 26的 導(dǎo)入?yún)^(qū)域94記錄L0 L3記錄層20、 22、 24、 26的位置信息62。在本實(shí)施 方式中，作為位置信息62，包括與各記錄層的光入射表面38A之間的距離， 即L0記錄層20: IOO拜，Ll記錄層22: 83pm， L2記錄層24: 63pm， L3 記錄層26: 50Min等信息。此外，在此示出在導(dǎo)入?yún)^(qū)域94記錄位置信息62 的情況，但是也可以在導(dǎo)出區(qū)域98或BCA92上進(jìn)行記錄。此外，各記錄層 20、 22、 24、 26的記錄密度等信息預(yù)先記錄在群刻區(qū)(BCA) 92或?qū)雲(yún)^(qū) 域94。
另外，L0 L3記錄層20、 22、 24、 26的各數(shù)據(jù)區(qū)域96的信息保存形 態(tài)為用戶可寫(xiě)入的所謂的記錄型。對(duì)于記錄型而言，詳細(xì)地說(shuō)，有在寫(xiě)入過(guò) 一次數(shù)據(jù)的區(qū)域無(wú)法再次寫(xiě)入數(shù)據(jù)的補(bǔ)寫(xiě)型、能夠?qū)τ趯?xiě)入了數(shù)據(jù)的區(qū)域刪 除數(shù)據(jù)并再次寫(xiě)入的改寫(xiě)型，但是不管是哪一種都可以。另外，在記錄層20、 22、 24、 26中，也能夠使數(shù)據(jù)的保存形態(tài)互不相同。
如圖4所示，在基板10以及第一 第三間隔層30、 32、 34的表面上形 成有螺旋狀的溝槽42 (平臺(tái)44)，該溝槽42成為各記錄層20、 22、 24、 26的記錄軌道(track) 。 L0記錄層20以及L2記錄層24的溝槽42的螺旋方 向被設(shè)定為同一方向，Ll記錄層22以及L3記錄層26的溝槽42的螺旋方 向被設(shè)定為與L0記錄層20以及L2記錄層24的螺旋方向相反。在L0 L3 記錄層20、 22、 24、 26上形成有記錄膜。溝槽42發(fā)揮數(shù)據(jù)記錄時(shí)的激光Z 的引導(dǎo)軌道(guide track)的作用，通過(guò)對(duì)沿著該溝槽42行進(jìn)的激光Z的能 量強(qiáng)度進(jìn)行調(diào)制，在溝槽42上的記錄層20、 22、 24、 26上形成記錄標(biāo)記46。 此外，當(dāng)數(shù)據(jù)保存形態(tài)為補(bǔ)寫(xiě)型時(shí)，不可逆地形成該紀(jì)錄標(biāo)記46，無(wú)法進(jìn)行 刪除。另一方面，當(dāng)數(shù)據(jù)保存形態(tài)為改寫(xiě)型時(shí)，可逆地形成記錄標(biāo)記46，能 夠進(jìn)行刪除以及再形成。在此，示出了在溝槽42上形成記錄標(biāo)記46的情況， 但是也可以在平臺(tái)44上形成，也可以在溝槽42和平臺(tái)44兩者上形成。此 外，在此示出記錄型，但是本發(fā)明還能夠適用于再現(xiàn)專(zhuān)用型的記錄層。
下面，對(duì)該光記錄再現(xiàn)裝置IOO所進(jìn)行的光記錄介質(zhì)1的記錄再現(xiàn)方法 進(jìn)行說(shuō)明。
當(dāng)從主機(jī)向記錄再現(xiàn)控制器142輸入記錄信息時(shí)，為了開(kāi)始記錄，對(duì)激 光器控制器130、聚焦控制器132、跟蹤控制器134、線性控制器136以及馬 達(dá)控制器138等進(jìn)行控制。進(jìn)而，記錄再現(xiàn)控制器142依次讀出BCA92以 及導(dǎo)入?yún)^(qū)域94，并參照記載在導(dǎo)入?yún)^(qū)域94的位置信息，其中，所述BCA92 以及導(dǎo)入?yún)^(qū)域94位于光記錄介質(zhì)1的L0記錄層20的信息區(qū)域90。其結(jié)果， 光記錄再現(xiàn)裝置100能夠預(yù)先識(shí)別各記錄層20、 22、 24、 26的位置。
假設(shè)選擇L3記錄層26作為要開(kāi)始記錄信息的記錄層時(shí)，基于預(yù)先識(shí)別 的位置信息62，在光軸方向上對(duì)物鏡122進(jìn)行聚焦控制，將激光Z的焦點(diǎn)對(duì) 準(zhǔn)在該L3記錄層26上。由于能夠在事前識(shí)別了位置信息62的狀態(tài)下進(jìn)行 聚焦控制，因此焦點(diǎn)一開(kāi)始就對(duì)準(zhǔn)得大致正確。然后，聚焦控制器132基于 電信號(hào)來(lái)檢測(cè)實(shí)際的聚焦誤差(FE)，并利用該聚焦誤差在聚焦方向(光軸 方向)上對(duì)透鏡驅(qū)動(dòng)線圈128進(jìn)行微細(xì)的驅(qū)動(dòng)控制，其中，所述電信號(hào)為光 檢測(cè)裝置126基于反射光所發(fā)送的信號(hào)。由此，對(duì)于無(wú)法根據(jù)位置信息62 而掌握的制造誤差等進(jìn)行調(diào)整。結(jié)果，能夠大幅縮短對(duì)L3記錄層26的聚焦 時(shí)間。接著，在L3記錄層26上進(jìn)行記錄的試行操作，并且在試行結(jié)束后， 將光讀寫(xiě)頭106定位在要開(kāi)始記錄的目標(biāo)記錄軌道上，并開(kāi)始記錄。
在進(jìn)行記錄時(shí)，主機(jī)所提供的記錄信息被調(diào)制解調(diào)電路140調(diào)制成脈沖
10信號(hào)，并被輸入到激光器控制器130。其結(jié)果，從設(shè)定為記錄功率的激光光 源120以脈沖形式照射規(guī)定的激光Z,所以聚束光入射至L3記錄層26以記 錄信息。
在記錄作業(yè)中，激光Z的反射光經(jīng)由半透半反鏡124而在光檢測(cè)裝置126 中被轉(zhuǎn)換為電信號(hào)。參考該電信號(hào)，聚焦控制器132、跟蹤控制器134以及 線性控制器136隨時(shí)控制光讀寫(xiě)頭106以及線性驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)108。例如，通過(guò) 聚焦控制器132繼續(xù)檢測(cè)聚焦誤差，當(dāng)聚束光的焦點(diǎn)偏離L3記錄層26時(shí)， 對(duì)透鏡驅(qū)動(dòng)線圈128進(jìn)行控制，使物鏡122在光軸方向上移動(dòng)以完成對(duì)焦。 另外，跟蹤控制器134檢測(cè)跟蹤誤差，即檢測(cè)聚束光是否準(zhǔn)確地追隨溝槽42， 當(dāng)偏離溝槽42時(shí)對(duì)透鏡驅(qū)動(dòng)線圈128進(jìn)行控制，并且通過(guò)線性控制器136 使光讀寫(xiě)頭106整體移動(dòng)，以便追隨溝槽42。由此，能夠在溝槽42內(nèi)準(zhǔn)確 地記錄信息。
然后，當(dāng)從L3記錄層26向L2記錄層24移動(dòng)時(shí)，根據(jù)預(yù)先識(shí)別的位置 信息62，在光軸方向上對(duì)物鏡122進(jìn)行聚焦控制，將激光Z的焦點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)在該 L2記錄層24上。由于在此也利用位置信息62，因此一開(kāi)始就能夠?qū)⒓す獾?焦點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)得大致正確。然后，聚焦控制器132基于電信號(hào)來(lái)檢測(cè)實(shí)際的聚焦 誤差(FE)，并利用該聚焦誤差，在聚焦方向(光軸方向)上對(duì)透鏡驅(qū)動(dòng)機(jī) 構(gòu)128進(jìn)行驅(qū)動(dòng)控制，其中，所述電信號(hào)是光檢測(cè)裝置126基于反射光所發(fā) 送的信號(hào)。接著，在L2記錄層24進(jìn)行記錄的試行操作，并且在試行結(jié)束后， 將光讀寫(xiě)頭106定位在要開(kāi)始記錄的目標(biāo)記錄軌道上，并根據(jù)所指定的記錄 密度開(kāi)始進(jìn)行記錄。這樣，對(duì)L0 L3記錄層20、 22、 24、 26進(jìn)行記錄以及 再現(xiàn)。
利用本第一實(shí)施方式的光記錄介質(zhì)，即使形成3層以上的多層化結(jié)構(gòu)， 也能夠迅速對(duì)各記錄層20、 22、 24、 26進(jìn)行聚焦控制。尤其，能夠利用實(shí) 際記錄在光記錄介質(zhì)1上的位置信息62進(jìn)行聚焦，因此一開(kāi)始就能夠進(jìn)行 高精度的控制。另外，通過(guò)采用本實(shí)施方式，能夠由制造公司一方設(shè)定光記 錄介質(zhì)1的各記錄層的位置。其結(jié)果，能夠不依賴于光記錄再現(xiàn)裝置100， 而提高光記錄介質(zhì)l的設(shè)計(jì)自由度。例如，如本光記錄介質(zhì)l那樣，即使各 制造公司獨(dú)自研究使各記錄能夠進(jìn)行準(zhǔn)確的記錄再現(xiàn)處理。
例如，在3層以上的光記錄介質(zhì)中，在再現(xiàn)特定的記錄層的過(guò)程中，很 多情況下來(lái)自相鄰記錄層的反射光同時(shí)入射到光讀寫(xiě)頭106而變成噪聲，導(dǎo) 致信號(hào)質(zhì)量下降。因此，制造公司為了減少來(lái)自相鄰層的串?dāng)_，希望將層間 隔開(kāi)一定距離以上。進(jìn)而，由于還存在3層以上的記錄層間的多重反射引起 的共焦點(diǎn)串?dāng)_，因此，如以上所述，制造公司想盡可能避免各間隔層的厚度 相同。另外，當(dāng)使各記錄層的反射率在各層上互不相同時(shí)，對(duì)于與其中反射 率最高的記錄層(一般為距離光入射表面38A最遠(yuǎn)的L0記錄層20)相鄰的 記錄層，由于來(lái)自該相鄰層的反射光量大，因此最好盡可能拉開(kāi)距離地配置。 結(jié)果，必須考慮對(duì)記錄層或間隔層使用的原料、光入射表面38A的表面處理 方法等各種因素來(lái)設(shè)定3層以上的光記錄介質(zhì)1中的層間距離。
另外，隨著記錄層接近光入射表面38A，光記錄介質(zhì)1的信號(hào)質(zhì)量相對(duì) 于光入射表面38A的損傷、灰塵、指紋等污跡而敏感地變動(dòng)。因此，為了使 信號(hào)質(zhì)量穩(wěn)定，保護(hù)層36的厚度也必須為一定厚度以上。另一方面，有時(shí) 需要根據(jù)從光入射表面38A觀察的各記錄層的深度來(lái)修正球面像差，因此如 果考慮該球面像差修正的范圍，則拉開(kāi)記錄層間距離也受某種程度的限制。 另外，若制造光記錄介質(zhì)l，則在其外形上不少發(fā)生彎曲、傾斜(tilt)，因 此由于這些形狀誤差而產(chǎn)生的彗差(comatic aberration)也成為決定光盤(pán)結(jié) 構(gòu)的重要因素。具體而言，設(shè)激光的波長(zhǎng)為X、設(shè)透鏡的數(shù)值孔徑數(shù)為NA， 另外，設(shè)保護(hù)層的厚度為t，則彗差oc (txNA"/ t，如果保護(hù)層36的厚度t 增大，則彗差也按比例增大，因此對(duì)傾斜余量帶來(lái)較大的影響。
根據(jù)以上說(shuō)明，對(duì)于3層以上的光記錄介質(zhì)1而言，保護(hù)層、間隔層的 膜厚等對(duì)信號(hào)特性帶來(lái)非常大的影響。因此，即使開(kāi)發(fā)了最佳的記錄層，當(dāng)
將保護(hù)層或間隔層的膜厚作為規(guī)格固定時(shí)，由于不與該膜厚兼容，因此很有 可能發(fā)生無(wú)法采用特性良好的記錄層等不良現(xiàn)象。
這樣，對(duì)于3層以上的光記錄介質(zhì)1而言，事實(shí)上，在多個(gè)制造公司之 間統(tǒng)一記錄層位置是困難的。因此根據(jù)本實(shí)施方式，即使各制造公司自由地 設(shè)計(jì)間隔層的膜厚和記錄層的特性，在光記錄再現(xiàn)裝置IOO側(cè)也能夠應(yīng)對(duì)。 結(jié)果，能夠使高性能的光記錄介質(zhì)1普及。
另外，在本實(shí)施方式中，在位于90pm 110Hm的基本記錄層(LO記錄層)20上記錄有位置信息62，因此只要是遵照藍(lán)光光盤(pán)規(guī)格的光記錄再現(xiàn) 裝置IOO，就能夠可靠地讀出位置信息62。進(jìn)而，在該光記錄介質(zhì)l中，通 過(guò)在多個(gè)記錄層20、 22、 24、 26的導(dǎo)入?yún)^(qū)域94記錄全部記錄層的位置信息 62，從而使得位置信息62被多重化。因此，當(dāng)在特定的記錄層因某種故障 無(wú)法讀出位置信息62時(shí)，也能夠在其他記錄層讀出。
接著，參照?qǐng)D5對(duì)本發(fā)明的第二實(shí)施方式的光記錄介質(zhì)201以及光記錄 再現(xiàn)裝置300進(jìn)行說(shuō)明，其中，所述光記錄再現(xiàn)裝置300用于對(duì)該光記錄介 質(zhì)201進(jìn)行記錄以及再現(xiàn)。此外，關(guān)于光記錄介質(zhì)201以及光記錄再現(xiàn)裝置 300，對(duì)于與第一實(shí)施方式中示出的光記錄介質(zhì)1以及光記錄再現(xiàn)裝置100 相同或者類(lèi)似的結(jié)構(gòu)、構(gòu)件，使圖中或者說(shuō)明書(shū)中的附圖標(biāo)記的后兩位一致， 由此省略詳細(xì)的說(shuō)明。
在該光記錄再現(xiàn)裝置300中，記錄再現(xiàn)控制器342具有位置信息存儲(chǔ)部 360A和介質(zhì)識(shí)別部360B。如圖6所示，在位置信息存儲(chǔ)部360A中蓄積有 多個(gè)光記錄介質(zhì)的介質(zhì)識(shí)別信息362、與該介質(zhì)識(shí)別信息362對(duì)應(yīng)的光記錄 介質(zhì)的記錄層的位置信息364。介質(zhì)識(shí)別信息362是用于確定制造公司提供 的光記錄介質(zhì)的種類(lèi)的信息，由所謂的制造公司自身的識(shí)別信息和ID等的 組合而構(gòu)成，其中，所述ID用于識(shí)別各個(gè)記錄介質(zhì)的種類(lèi)。位置信息364 為相對(duì)于光入射表面的位置，其中，所述光入射表面為包含在各光記錄介質(zhì) 中的多個(gè)記錄層的光入射表面。該介質(zhì)識(shí)別信息362以及位置信息364能夠 從外部更新。
介質(zhì)識(shí)別部360B從光記錄介質(zhì)讀出介質(zhì)識(shí)別信息，進(jìn)而，根據(jù)該介質(zhì) 識(shí)別信息，參照存儲(chǔ)在位置信息存儲(chǔ)部360A中的同一介質(zhì)識(shí)別信息362以 及與其對(duì)應(yīng)的位置信息364，其中，所述光記錄介質(zhì)是從外部輸入的記錄介 質(zhì)。其結(jié)果，能夠預(yù)先識(shí)別光記錄介質(zhì)的記錄層的位置。
下面，對(duì)光記錄介質(zhì)201進(jìn)行說(shuō)明。與第一實(shí)施方式同樣，該光記錄介 質(zhì)201具有成為基本記錄層的LO記錄層220、成為第一記錄層的Ll記錄層 222、成為第二記錄層的L2記錄層224、成為第三記錄層的L3記錄層226。 從光入射表面238A到L3記錄層226的距離約為50pm，從光入射表面238A 到L2記錄層224的距離約為63mixi，從光入射表面238A到Ll記錄層222 的距離約為83^m，從光入射表面238A到LO記錄層220的距離約為100^m。作為基本記錄層的L0記錄層220配置在與光入射表面238A相距90|^m 110Mm的位置。此外，L0記錄層220的記錄容量為25GB。結(jié)果，基本記錄 層與藍(lán)光光盤(pán)(Blu-rayDisc)的規(guī)格匹配。
如圖7 (A)所示，光記錄介質(zhì)201的各記錄層220、 222、 224、 226具 有導(dǎo)入?yún)^(qū)域294、數(shù)據(jù)區(qū)域296以及導(dǎo)出區(qū)域298等作為信息區(qū)域290。此 外，限于L0記錄層220的信息區(qū)域290，在最內(nèi)周側(cè)還配置有群刻區(qū)(BCA) 292。
進(jìn)而，如圖7(B)所示，在該光記錄介質(zhì)201的L0記錄層220的BCA292 上記錄有介質(zhì)識(shí)別信息262。介質(zhì)識(shí)別信息262用于識(shí)別光記錄介質(zhì)201的 制造公司以及各個(gè)光記錄介質(zhì)的種類(lèi)。另外，在此示出在BCA292上記錄介 質(zhì)識(shí)別信息262的情況，但該信息也可以記錄在導(dǎo)入?yún)^(qū)域294或?qū)С鰠^(qū)域 298。
下面，對(duì)該光記錄再現(xiàn)裝置300所進(jìn)行的光記錄介質(zhì)201的信息記錄再 現(xiàn)方法進(jìn)行說(shuō)明。
當(dāng)從主機(jī)向記錄再現(xiàn)控制器342輸入記錄信息時(shí)，介質(zhì)識(shí)別部360B讀 出L0記錄層220的信息區(qū)域290上的BCA292以取得介質(zhì)識(shí)別信息262。 然后，介質(zhì)識(shí)別部360B基于該介質(zhì)識(shí)別信息262，參照存儲(chǔ)在位置信息存 儲(chǔ)部360A中的同一介質(zhì)識(shí)別信息362以及與其對(duì)應(yīng)的位置信息364。其結(jié) 果，在光記錄再現(xiàn)裝置300中，能夠預(yù)先取得光記錄介質(zhì)201的全部記錄層 220、 222、 224、 226的位置信息364。
當(dāng)對(duì)于目的記錄層開(kāi)始記錄信息時(shí)，基于預(yù)先取得的位置信息364，在 光軸方向上對(duì)物鏡322進(jìn)行聚焦控制，將激光Z的焦點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)在該記錄層上。 由于利用基于光記錄介質(zhì)201的介質(zhì)識(shí)別信息262來(lái)對(duì)每個(gè)介質(zhì)設(shè)定的位置 信息364，因此一開(kāi)始就就能夠?qū)⒔裹c(diǎn)對(duì)準(zhǔn)得大致正確。然后，聚焦控制器 332基于電信號(hào)來(lái)檢測(cè)實(shí)際的聚焦誤差(FE)，并利用該聚焦誤差，在聚焦 方向(光軸方向)上進(jìn)一步詳細(xì)地對(duì)透鏡驅(qū)動(dòng)線圈328進(jìn)行驅(qū)動(dòng)控制，其中， 所述電信號(hào)是光檢測(cè)裝置362基于反射光所發(fā)送的信號(hào)。結(jié)果，能夠大幅縮 短聚焦吋間。在目的記錄層進(jìn)行記錄的試行操作，并且在試行結(jié)束后，將光 讀寫(xiě)頭306定位在要開(kāi)始記錄的記錄軌道上，開(kāi)始記錄。
利用本第二實(shí)施方式的光記錄介質(zhì)201，盡管形成3層以上的多層化結(jié)構(gòu)，也能夠在光記錄再現(xiàn)裝置300側(cè)預(yù)先識(shí)別各記錄層220、 222、 224、 226 的位置信息364，因此能夠迅速進(jìn)行聚焦控制。尤其，將實(shí)際記錄在光記錄 介質(zhì)201的介質(zhì)識(shí)別信息262與記錄在光記錄再現(xiàn)裝置300的介質(zhì)識(shí)別信息 362及位置信息364進(jìn)行對(duì)照，因此能夠迅速取得位置信息364。尤其，由 于能夠減少介質(zhì)識(shí)別信息262的信息量，因此能夠在讀出的可靠性高的 BCA292上保存該介質(zhì)識(shí)別信息262。結(jié)果，即使在將記錄層形成為多層化 結(jié)構(gòu)時(shí)，也能夠更可靠地取得位置信息364。
另外，在這些本實(shí)施方式中，說(shuō)明了直接利用對(duì)每一個(gè)光記錄介質(zhì)設(shè)定 的位置信息本身來(lái)對(duì)記錄層進(jìn)行聚焦控制的方法，但是本發(fā)明并不限定于 此。例如，在光記錄再現(xiàn)裝置上安裝了光記錄介質(zhì)后，同樣提取位置信息， 進(jìn)一步利用光讀寫(xiě)頭在厚度方向上實(shí)際掃描光記錄介質(zhì)，以取得全部記錄層 的實(shí)測(cè)位置，利用實(shí)測(cè)位置預(yù)先修正上述位置信息。優(yōu)選利用該修正位置信 息對(duì)記錄層進(jìn)行聚焦控制。與不取得位置信息而掃描光記錄介質(zhì)的情況相 比，提高了掃描的準(zhǔn)確率。其結(jié)果，也能夠通過(guò)實(shí)測(cè)來(lái)預(yù)先考慮光記錄介質(zhì) 的制造上的誤差。在將焦點(diǎn)瞬時(shí)切換至各層上時(shí)，與設(shè)計(jì)值之間的差異也會(huì) 帶來(lái)不少影響，因此通過(guò)上述方法，能夠減少實(shí)際的焦點(diǎn)切換錯(cuò)誤。
進(jìn)而，在上述實(shí)施方式中，作為記錄在光記錄介質(zhì)的記錄層的位置信息， 示出了記錄與光入射表面的距離的情況，但是本發(fā)明并不限定于此。例如， 也可以使用與基本記錄層的距離作為位置信息。即，只要是光記錄再現(xiàn)裝置 能夠掌握各記錄層的位置來(lái)執(zhí)行恰當(dāng)?shù)木劢箍刂频男畔⒓纯桑c其信息形態(tài) 無(wú)關(guān)。
另外，在上述實(shí)施方式中，僅示出了光記錄介質(zhì)為記錄型，對(duì)該光記錄 介質(zhì)記錄信息的情況，但是本發(fā)明并不限定于此，也能夠適用于光記錄介質(zhì) 為再現(xiàn)專(zhuān)用、再現(xiàn)該光記錄介質(zhì)的情況。即，本發(fā)明并不限定于對(duì)光記錄介 質(zhì)記錄信息的情況。
另外，本發(fā)明的光記錄介質(zhì)以及光記錄再現(xiàn)裝置并不限定于上述的實(shí)施 方式，當(dāng)然在不脫離本發(fā)明的宗旨的范圍內(nèi)能夠進(jìn)行各種變更。
產(chǎn)業(yè)上的可利用性
本發(fā)明可利用于通過(guò)激光進(jìn)行記錄再現(xiàn)的各種領(lǐng)域。
權(quán)利要求
1.一種光記錄介質(zhì)，其特征在于，具有基本記錄層，配置在與光入射表面相距90μm～110μm的位置，能夠利用從所述光入射表面照射的激光來(lái)再現(xiàn)信息，多個(gè)記錄層，配置成與所述基本記錄層平行，能夠利用從所述光入射表面照射的所述激光來(lái)再現(xiàn)信息；在所述基本記錄層或所述信息記錄層上，至少記錄有所述記錄層的位置信息。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì)，其特征在于，在所述基本記錄層 的導(dǎo)入?yún)^(qū)域或?qū)С鰠^(qū)域，或者，在所述記錄層的導(dǎo)入?yún)^(qū)域或?qū)С鰠^(qū)域，記錄 有所述位置信息。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光記錄介質(zhì)，其特征在于，在從所述基本 記錄層和所述記錄層中選擇出的多個(gè)記錄層上記錄所述位置信息。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1 3中任一項(xiàng)所述的光記錄介質(zhì)，其特征在于，在所 述基本記錄層上記錄所述位置信息。
5. —種光記錄介質(zhì)的記錄再現(xiàn)方法，其特征在于， 光記錄介質(zhì)的光記錄再現(xiàn)裝置在存儲(chǔ)單元中預(yù)先存儲(chǔ)介質(zhì)識(shí)別信息以及位置信息，其中，所述介質(zhì)識(shí)別信息用于識(shí)別多個(gè)光記錄介質(zhì)，所述位置 信息為所述光記錄介質(zhì)的記錄層的位置信息，當(dāng)在所述光記錄再現(xiàn)裝置上安裝了具有3層以上記錄層的光記錄介質(zhì) 時(shí)，所述光記錄再現(xiàn)裝置對(duì)所述光記錄介質(zhì)的所述記錄層照射激光，讀出預(yù) 先記錄在所述記錄層上的介質(zhì)識(shí)別信息，并基于所述介質(zhì)識(shí)別信息來(lái)參照存 儲(chǔ)在所述存儲(chǔ)單元中的所述位置信息，基于所述位置信息對(duì)所述記錄層進(jìn)行聚焦控制，以此進(jìn)行記錄再現(xiàn)。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的光記錄介質(zhì)的記錄再現(xiàn)方法，其特征在于，所 述光記錄介質(zhì)在所述記錄層的群刻區(qū)記錄有所述介質(zhì)識(shí)別信息。
7. 根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的光記錄介質(zhì)的記錄再現(xiàn)方法，其特征在于， 所述光記錄介質(zhì)在基本記錄層上記錄有所述介質(zhì)識(shí)別信息，其中，所述基本 記錄層配置在與光入射表面相距9(^m 110Mm的位置。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光記錄介質(zhì)以及光記錄介質(zhì)的記錄再現(xiàn)方法。在與光記錄介質(zhì)1的光入射表面相距90μm～110μm的位置配置基本記錄層20，將記錄層配置成與基本記錄層平行，在基本記錄層或記錄層上至少記錄有記錄層的位置信息。由此，不僅能夠提高光記錄介質(zhì)的記錄層的設(shè)計(jì)自由度，而且能夠正確地進(jìn)行記錄再現(xiàn)。
文檔編號(hào)G11B7/007GK101529510SQ20078003889
公開(kāi)日2009年9月9日 申請(qǐng)日期2007年12月20日 優(yōu)先權(quán)日2006年12月26日
發(fā)明者三島康兒, 伊藤秀毅, 菊川隆 申請(qǐng)人:Tdk股份有限公司