專利名稱：光盤的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及存儲(chǔ)介質(zhì)技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種光盤。
背景技術(shù)：
隨著計(jì)算機(jī)技術(shù)的不斷發(fā)展，作為計(jì)算機(jī)存儲(chǔ)介質(zhì)之一的光盤已經(jīng)成為
人們用于存儲(chǔ)計(jì)算機(jī)數(shù)據(jù)的主要存儲(chǔ)媒介。讀取光盤數(shù)據(jù)的原理為光盤在 讀取裝置中繞光盤固定軸高速旋轉(zhuǎn)，在從光盤上讀取數(shù)據(jù)時(shí)，讀取裝置的激 光束在光盤的表面上迅速移動(dòng)，并檢測激光束經(jīng)過的每一個(gè)點(diǎn)，以確定其代 表的二進(jìn)制數(shù)值，最后將所有的得到的位二進(jìn)制數(shù)通過計(jì)算機(jī)合成光盤上存 儲(chǔ)的數(shù)據(jù)信息。
圖1為現(xiàn)有光盤數(shù)據(jù)讀取示意圖，如圖1所示，光盤1在讀取裝置2內(nèi) 高速旋轉(zhuǎn)，其中光盤1分為數(shù)據(jù)區(qū)11和非數(shù)據(jù)區(qū)12,讀取裝置的激光頭3 在光盤1的數(shù)據(jù)區(qū)11內(nèi)移動(dòng)檢測該區(qū)域內(nèi)的每一個(gè)點(diǎn)，并記錄相應(yīng)數(shù)據(jù)信息。 由于光盤的高速旋轉(zhuǎn)，光盤1和其下方的空氣相互摩擦生熱，空氣霧化，因 此在光盤1和激光頭3之間形成靜電場4;光盤旋轉(zhuǎn)時(shí)間越長，靜電場4的 強(qiáng)度也就越大，由于靜電場4的強(qiáng)度達(dá)到一定強(qiáng)度之后，將使得激光頭發(fā)射 的光和光盤的反射光發(fā)生偏轉(zhuǎn)，進(jìn)而影響激光頭對(duì)光盤數(shù)據(jù)讀取的速度和準(zhǔn) 確度；造成數(shù)據(jù)采集失真，出現(xiàn)例如音頻數(shù)據(jù)的走音或圖像數(shù)據(jù)的模糊等不 良現(xiàn)象，更為嚴(yán)重的將影響光盤和激光頭的使用壽命。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種光盤，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中因靜電場的影響造成光盤數(shù) 據(jù)讀取失真的缺陷，達(dá)到光盤數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確讀取，提高光盤數(shù)據(jù)讀取速度的目的。
3為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種光盤，包括數(shù)據(jù)區(qū)和非數(shù)據(jù)區(qū)，在所 述非數(shù)據(jù)區(qū)內(nèi)設(shè)置有至少兩個(gè)對(duì)稱分布的通孔。
所述通孔靠近所述數(shù)據(jù)區(qū)；所述通孔在所述非數(shù)據(jù)區(qū)內(nèi)傾斜設(shè)置；所述 通孔具體為梯形孔；在所述非數(shù)據(jù)區(qū)內(nèi)沿半徑方向還設(shè)置有至少兩個(gè)對(duì)稱分 布的凹槽。
本發(fā)明提供的光盤通過在非數(shù)據(jù)區(qū)內(nèi)對(duì)稱位置上設(shè)置通孔，通過光盤旋 轉(zhuǎn)時(shí)的氣體流動(dòng)，減小因摩擦生熱導(dǎo)致的靜電場對(duì)數(shù)據(jù)讀取的影響，保證了 光盤數(shù)據(jù)讀取的準(zhǔn)確性，提高了光盤數(shù)據(jù)讀取的速度。


圖1為現(xiàn)有光盤數(shù)據(jù)讀取示意圖； 圖2為本發(fā)明光盤的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖3為本發(fā)明光盤數(shù)據(jù)讀取示意圖； 圖4為本發(fā)明光盤設(shè)置三個(gè)通孔示意圖； 圖5為本發(fā)明光盤設(shè)置四個(gè)通孔示意圖； 圖6為本發(fā)明光盤上設(shè)置傾斜通孔示意圖； 圖7為本發(fā)明光盤上設(shè)置梯形形狀通孔示意圖； 圖8為本發(fā)明設(shè)置有凹槽的光盤示意圖。
具體實(shí)施例方式
下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例進(jìn)一步說明本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案。 圖2為本發(fā)明光盤的結(jié)構(gòu)示意圖，如圖2所示，該光盤包括數(shù)據(jù)區(qū)11和 非數(shù)據(jù)區(qū)12,其中數(shù)據(jù)區(qū)11位于光盤的外環(huán)位置，非數(shù)據(jù)區(qū)12位于光盤的 內(nèi)環(huán)位置，在非數(shù)據(jù)區(qū)12中心還設(shè)置有固定孔13,用于將光盤固定在數(shù)據(jù) 讀取裝置的轉(zhuǎn)軸上，并隨轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)；在光盤的非數(shù)據(jù)區(qū)12內(nèi)設(shè)置數(shù)個(gè)通孔 14，并且要求通孔14對(duì)稱分布在光盤的非數(shù)據(jù)區(qū)12內(nèi)，如圖2所示的光盤
4的非數(shù)據(jù)區(qū)12內(nèi)設(shè)置有兩個(gè)對(duì)稱分布的通孔14。下面以具有如圖2所示結(jié)構(gòu) 的光盤為例，介紹光盤非數(shù)據(jù)區(qū)中設(shè)置的通孔在光盤數(shù)據(jù)讀取過程中的作用。
圖3為本發(fā)明光盤數(shù)據(jù)讀取示意圖，如圖3所示，光盤1中的固定孔13 固定在讀取裝置2的轉(zhuǎn)軸上，并隨轉(zhuǎn)軸沿V方向高速旋轉(zhuǎn)；由于光盤l和位 于光盤1和激光頭3之間空氣相互摩擦生熱，空氣發(fā)生霧化，堆積電子物， 在光盤1和激光頭3之間將要形成靜電場；但由于光盤的非數(shù)據(jù)區(qū)12上設(shè)置 有通孔14，當(dāng)光盤l旋轉(zhuǎn)后，光盤1與激光頭3之間的空氣會(huì)通過光盤1上 的通孔14從下至上沿W方向流動(dòng)，從而破壞了在光盤1和激光頭3之間所 要形成的空氣渦流，光盤I和激光頭3之間不會(huì)因光盤旋轉(zhuǎn)而在二者之間形 成相對(duì)穩(wěn)定的靜電場，進(jìn)而提高激光頭讀取光盤數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確度和速度。
本發(fā)明提供的具有特殊結(jié)構(gòu)的光盤，通過在光盤的非數(shù)據(jù)區(qū)上打孔，使 得在光盤高速旋轉(zhuǎn)時(shí)，光盤與激光頭之間的空氣通過通孔進(jìn)行流動(dòng)，破壞了 原有在光盤和激光頭之間產(chǎn)生的因空氣渦流而生成靜電場，既保證了光盤數(shù) 據(jù)讀取的準(zhǔn)確性，而且提高了數(shù)據(jù)的讀取速度。
本發(fā)明提供的光盤非數(shù)據(jù)區(qū)上設(shè)置通孔，由于光盤要在數(shù)據(jù)讀取裝置中 高速旋轉(zhuǎn)，要求光盤的重心保持在光盤的中心位置，為保證打孔光盤在旋轉(zhuǎn) 過程中不出現(xiàn)顫抖等重心不穩(wěn)現(xiàn)象，對(duì)光盤上設(shè)置的通孔有一定的要求，當(dāng) 然首先光盤非數(shù)據(jù)區(qū)上的通孔至少為兩個(gè)，因?yàn)橐粋€(gè)通孔無法保持光盤旋轉(zhuǎn) 時(shí)的平衡狀態(tài)；還要求數(shù)個(gè)通孔應(yīng)在光盤的非數(shù)據(jù)區(qū)內(nèi)對(duì)稱分布，即通孔應(yīng) 位于相對(duì)于光盤中心的對(duì)稱位置上。圖4為本發(fā)明光盤設(shè)置三個(gè)通孔示意圖， 圖5為本發(fā)明光盤設(shè)置四個(gè)通孔示意圖，如圖4、 5所示，分別在光盤的非數(shù) 據(jù)區(qū)對(duì)稱位置設(shè)置3個(gè)和4個(gè)通孔，以保證光盤工作狀態(tài)的穩(wěn)定性。還可以 是在光盤的非數(shù)據(jù)區(qū)上設(shè)置更多的對(duì)稱分布的通孔，在保證光盤固定和正常 工作的前提下，設(shè)置多個(gè)通孔將對(duì)空氣的流動(dòng)、破壞光盤和激光頭之間的靜 電場的效果更好。
進(jìn)一步地，由于激光頭是讀取光盤數(shù)據(jù)區(qū)上的信息，因此形成在光盤數(shù)據(jù)區(qū)與激光頭之間的空氣渦流而生成的靜電場，對(duì)激光頭讀取光盤數(shù)據(jù)的影 響較大，所以要求光盤非數(shù)據(jù)區(qū)上設(shè)置的通孔盡量靠近數(shù)據(jù)區(qū)，使得通過通 孔更加有效地防止因靜電場的影響而造成數(shù)據(jù)讀取的錯(cuò)誤。若光盤的數(shù)據(jù)是 分區(qū)分布的，則還可在數(shù)據(jù)區(qū)內(nèi)沒有存儲(chǔ)數(shù)據(jù)的區(qū)域上打孔。
為了更好地破壞因空氣渦流生成的靜電場對(duì)光盤數(shù)據(jù)讀取的影響，打孔 光盤上的通孔可以具有多種特殊形狀，可以將通孔按照光盤在數(shù)據(jù)讀取裝置
中的旋轉(zhuǎn)方向傾斜設(shè)置，圖6為本發(fā)明光盤上設(shè)置傾斜通孔示意圖，如圖6 所示，光盤1在數(shù)據(jù)讀取裝置2中沿V方向旋轉(zhuǎn)，為了更好地排放光盤與激 光頭之間的空氣，將通孔14如圖傾斜設(shè)置。
基于上述各實(shí)施例提供的光盤，再進(jìn)一步地，可將通孔設(shè)置成梯形形狀， 圖7為本發(fā)明光盤上設(shè)置梯形形狀通孔示意圖，如圖7所示，通孔14被設(shè)置 成底部開口大于頂部開口的梯形形狀，加快空氣的流通速度。還可以將通孔
設(shè)置成傾斜的梯形形狀等。
基于上述實(shí)施例，還可以在光盤的非數(shù)據(jù)區(qū)向內(nèi)方向設(shè)置數(shù)個(gè)對(duì)稱分布 的凹槽。圖8為本發(fā)明設(shè)置有凹槽的光盤示意圖，如圖8所示在光盤1的非 數(shù)據(jù)區(qū)12上，設(shè)置3個(gè)對(duì)稱分布的凹槽15,凹槽15沿光盤的半徑方向，其 寬度應(yīng)不妨礙光盤固定即可，凹槽的作用與光盤上的通孔的作用一致，都是 通過空氣的流動(dòng)破壞光盤與激光頭之間形成的靜電場。
本發(fā)明提供的非數(shù)據(jù)區(qū)上具有通孔等的特殊結(jié)構(gòu)的光盤，通過光盤旋轉(zhuǎn) 時(shí)的氣體流動(dòng)，減小因摩擦生熱導(dǎo)致的靜電場對(duì)數(shù)據(jù)讀取的影響，保證了光 盤數(shù)據(jù)讀取的準(zhǔn)確性，提高光盤數(shù)據(jù)讀取速度。
最后應(yīng)說明的是以上實(shí)施例僅用以說明本發(fā)明的技術(shù)方案，而非對(duì)其 限制；盡管參照前述實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)的說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù) 人員應(yīng)當(dāng)理解其依然可以對(duì)前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或 者對(duì)其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換；而這些修改或者替換，并不使相應(yīng)技 術(shù)方案的本質(zhì)脫離本發(fā)明各實(shí)施例技術(shù)方案的精神和范圍。
權(quán)利要求
1、一種光盤，包括數(shù)據(jù)區(qū)和非數(shù)據(jù)區(qū)，其特征在于，在所述非數(shù)據(jù)區(qū)內(nèi)設(shè)置有至少兩個(gè)對(duì)稱分布的通孔。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤，其特征在于，所述通孔靠近所述數(shù)據(jù)區(qū)。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光盤，其特征在于，所述通孔在所述非數(shù) 據(jù)區(qū)內(nèi)傾斜設(shè)置。
4、 根據(jù)權(quán)利要求l或2所述的光盤，其特征在于，所述通孔具體為梯形孔。
5、 根據(jù)權(quán)利要求4所述的光盤，其特征在于，所述通孔在所述非數(shù)據(jù)區(qū) 內(nèi)傾斜設(shè)置。
6、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤，其特征在于在所述非數(shù)據(jù)區(qū)內(nèi)沿半徑方 向還設(shè)置有至少兩個(gè)對(duì)稱分布的凹槽。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光盤，包括數(shù)據(jù)區(qū)和非數(shù)據(jù)區(qū)，在所述非數(shù)據(jù)區(qū)內(nèi)設(shè)置有至少兩個(gè)對(duì)稱分布的通孔。本發(fā)明提供的光盤通過在非數(shù)據(jù)區(qū)內(nèi)對(duì)稱位置上設(shè)置通孔，通過光盤旋轉(zhuǎn)時(shí)的氣體流動(dòng)，減小因摩擦生熱導(dǎo)致的靜電場對(duì)數(shù)據(jù)讀取的影響，保證了光盤數(shù)據(jù)讀取的準(zhǔn)確性，提高了光盤數(shù)據(jù)讀取的速度。
文檔編號(hào)G11B7/24GK101515464SQ20081000831
公開日2009年8月26日 申請(qǐng)日期2008年2月22日 優(yōu)先權(quán)日2008年2月22日
發(fā)明者力 張, 畢征慶, 趙明慧 申請(qǐng)人:趙明慧;畢征慶;張 力