專利名稱：：不平衡盤(pán)片的判斷方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及光盤(pán)讀寫(xiě)裝置，特別是有關(guān)于光盤(pán)讀寫(xiě)裝置內(nèi)不平衡盤(pán)片的判斷方法。
背景技術(shù)：
：隨著光驅(qū)制造技術(shù)的進(jìn)步，光驅(qū)的讀寫(xiě)速度不斷地向上更新，而高倍的讀寫(xiě)速度需要高轉(zhuǎn)速的馬達(dá)，此時(shí)，光盤(pán)片的質(zhì)量就會(huì)對(duì)讀取效能產(chǎn)生很大的影響。不平衡盤(pán)片(imbalancedisc)是因?yàn)橹圃鞎r(shí)的誤差，使得光盤(pán)片的質(zhì)量中心不在光盤(pán)片的中心。而不平衡盤(pán)片在高速旋轉(zhuǎn)時(shí)會(huì)產(chǎn)生不悅耳的振動(dòng)噪音，并有可能加速光驅(qū)的機(jī)械耗損，更重要的是還可能會(huì)使光盤(pán)片刮傷或磨損光學(xué)頭物鏡，因此針對(duì)不平衡盤(pán)片所產(chǎn)生的振動(dòng)進(jìn)行良好的控制是極為重要的課題?！愣?，當(dāng)光盤(pán)片的不平衡程度過(guò)大時(shí)，光驅(qū)必須降低轉(zhuǎn)速以減小不平衡盤(pán)片所產(chǎn)生的震動(dòng)，即犧牲讀取速度以確保讀取過(guò)程的穩(wěn)定與安全。然而市面上光盤(pán)片質(zhì)量參差不齊，其瑕疵品的不平衡程度也有差異，若是對(duì)任何不平衡盤(pán)片大幅降低轉(zhuǎn)速以適應(yīng)其所造成的震動(dòng)，則光驅(qū)的讀取速度將大受影響，降低光驅(qū)產(chǎn)品的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力。所以能準(zhǔn)確的判斷不平衡盤(pán)片的不平衡程度，據(jù)以適度的自動(dòng)調(diào)整光驅(qū)的轉(zhuǎn)速，便成了提升平均讀取速度的關(guān)鍵?！銇?lái)說(shuō)，光盤(pán)片的不平衡程度會(huì)影響光驅(qū)的讀取速度，而目前常用的判斷光盤(pán)片不平衡程度的方法會(huì)因?yàn)楣怛?qū)擺放的方式或是光盤(pán)片上的刮痕損傷而影響判斷結(jié)果。美國(guó)專利號(hào)6934232B2和美國(guó)專利號(hào)6965548B2分別是利用計(jì)算時(shí)間內(nèi)聚焦誤差(Focuserror,FE)信號(hào)和尋軌誤差(Trackerror,TE)信號(hào)的周期數(shù)量做為判斷不平衡盤(pán)片的程度。美國(guó)公開(kāi)號(hào)2004/0013066Al是利用推挽信號(hào)(push-pullsignal,PP)的電壓值與預(yù)設(shè)的臨界電壓值做比較，當(dāng)推挽信號(hào)電壓值大于臨界電壓值，則判定該光盤(pán)片為不平衡盤(pán)片。然而上述這些信號(hào)可能會(huì)因?yàn)楣怛?qū)擺放的方式(例如平放或是直立)以及光盤(pán)片上的刮痕等缺陷而使得信號(hào)受到噪聲干擾，進(jìn)而影響對(duì)不平衡盤(pán)片判斷的精準(zhǔn)度。因此本發(fā)明提出一種降低噪聲干擾，能夠精準(zhǔn)判斷不平衡盤(pán)片程度的方法。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的是提供一種不平衡盤(pán)片的判斷方法，利用光驅(qū)內(nèi)部控制光學(xué)讀寫(xiě)頭聚焦位置的軸向控制信號(hào)來(lái)判斷光驅(qū)中的光盤(pán)片是否為不平衡盤(pán)片。為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的技術(shù)解決方案是提出一種光盤(pán)讀寫(xiě)裝置的不平衡盤(pán)片的判斷方法，其簡(jiǎn)述如下移動(dòng)一光學(xué)讀寫(xiě)頭至一盤(pán)片的一第一位置；旋轉(zhuǎn)該盤(pán)片至一指定轉(zhuǎn)速；將該光學(xué)讀寫(xiě)頭產(chǎn)生的一聚焦誤差信號(hào)轉(zhuǎn)換為一軸向控制電壓信號(hào)；利用該軸向控制電壓信號(hào)控制該光學(xué)讀寫(xiě)頭，使得該光學(xué)讀寫(xiě)頭所產(chǎn)生的一聚焦光點(diǎn)可維持在該盤(pán)片上；以及根據(jù)該軸向控制電壓信號(hào)來(lái)判斷該盤(pán)片是否為一不平衡盤(pán)片。3本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是提供一種不平衡盤(pán)片的判斷方法，利用軸向控制電壓信號(hào)經(jīng)過(guò)低通濾波后的信號(hào)來(lái)判定是否為不平衡盤(pán)片。圖1所繪示為本發(fā)明方法的光驅(qū)系統(tǒng)示意圖；圖2所繪示為本發(fā)明判斷不平衡盤(pán)片的流程圖；圖3A所繪示為數(shù)字信號(hào)處理器中的均衡器的設(shè)計(jì)示意圖；圖3B所繪示為低通濾波器的均衡器的設(shè)計(jì)示意圖；圖4A所繪示為光驅(qū)水平擺放的示意圖；圖4B所繪示為光驅(qū)水平擺放時(shí)，濾波后的軸向控制電壓信號(hào)圖；圖5A所繪示為光驅(qū)左側(cè)向上擺放的示意圖；圖5B所繪示為光驅(qū)左側(cè)向上擺放時(shí)，濾波后的軸向控制電壓信號(hào)圖；圖6A所繪示為光驅(qū)右側(cè)向上擺放的示意圖，以及圖6B所繪示為光驅(qū)右側(cè)向上擺放時(shí)，濾波后的軸向控制電壓信號(hào)圖。圖號(hào)說(shuō)明10旋轉(zhuǎn)馬達(dá)11聚焦誤差20旋轉(zhuǎn)平臺(tái)21軸向控制電壓信號(hào)30夾鉗裝置31濾波信號(hào)40光盤(pán)片50物鏡60光學(xué)讀寫(xiě)頭70放大器80數(shù)字信號(hào)處理單元90低通濾波器100判斷單元110電源驅(qū)動(dòng)器120控制電路130光驅(qū)具體實(shí)施例方式為了使能更進(jìn)一步了解本發(fā)明特征及技術(shù)內(nèi)容，請(qǐng)參閱以下有關(guān)本發(fā)明的詳細(xì)說(shuō)明與附圖，然而所附圖僅提供參考與說(shuō)明用，并非用來(lái)對(duì)本發(fā)明加以限制。請(qǐng)參照?qǐng)D1，其所繪示為本發(fā)明的光驅(qū)系統(tǒng)示意圖，光盤(pán)片40放置在旋轉(zhuǎn)平臺(tái)(turntable)20上，而光盤(pán)片40上方由一夾鉗裝置(clamper)30使光盤(pán)片40穩(wěn)定地固定在旋轉(zhuǎn)平臺(tái)20上，且旋轉(zhuǎn)平臺(tái)20由旋轉(zhuǎn)馬達(dá)IO驅(qū)動(dòng)，并以選定的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)。光學(xué)讀寫(xiě)頭60發(fā)出激光經(jīng)由物鏡50聚焦至光盤(pán)片40上，經(jīng)由光盤(pán)片40的反射層反射，再經(jīng)由物鏡50轉(zhuǎn)成準(zhǔn)直光進(jìn)入光學(xué)讀寫(xiě)頭60，由光學(xué)讀寫(xiě)頭內(nèi)的感光元件接收，將光信號(hào)轉(zhuǎn)化成電信號(hào)再經(jīng)過(guò)放大器70處理，產(chǎn)生聚焦誤差(Focusingerror,FE)11、尋軌誤差(Trackingerror,TE)及射頻(Radiofrequency,RF)等信號(hào)。在控制電路120中，當(dāng)聚焦伺服系統(tǒng)為閉回路時(shí)，系統(tǒng)會(huì)控制光學(xué)讀寫(xiě)頭的致動(dòng)器(actuator)，且物鏡50在致動(dòng)器上，因此使得激光聚焦點(diǎn)鎖在盤(pán)片的記錄層，也就是激光聚焦點(diǎn)隨著盤(pán)片的上下偏移而跟著移動(dòng)，所以此時(shí)的聚焦誤差(FE)ll會(huì)趨近一穩(wěn)定狀態(tài)，而系統(tǒng)控制致動(dòng)器移動(dòng)所需要的電壓是根據(jù)聚焦誤差11信號(hào)經(jīng)過(guò)數(shù)字信號(hào)處理單元80(Digitalsignalprocessor，DSP)運(yùn)算處理后，可得一軸向控制電壓21(FOSO)，再傳送至電源驅(qū)動(dòng)器110以控制物鏡50與光盤(pán)片40的距離。采用軸向驅(qū)動(dòng)電壓21可克服一般采用尋軌誤差信號(hào)時(shí)，因光驅(qū)130擺放方式所產(chǎn)生的誤差，而導(dǎo)致判斷錯(cuò)誤的問(wèn)題。當(dāng)光驅(qū)130不是水平擺放時(shí)，由于地心引力的影響，使得光驅(qū)受到重力作用，因此尋軌誤差信號(hào)會(huì)產(chǎn)生偏差量，使得判斷的規(guī)則錯(cuò)誤而誤判。另外在控制電路120中還可將軸向驅(qū)動(dòng)電壓21信號(hào)通過(guò)低通濾波器90來(lái)降低光盤(pán)片40上的刮痕等缺陷所造成的噪聲影響，提升判斷的精準(zhǔn)性。最后將通過(guò)濾波器的信號(hào)31送到判斷單元100做運(yùn)算處理來(lái)判斷光盤(pán)片40是否為不平衡盤(pán)片。請(qǐng)參照?qǐng)D2，其所繪示為本發(fā)明判斷不平衡盤(pán)片的方法的流程圖。此方法可用固件來(lái)實(shí)行，包含下列步驟步驟SO，光盤(pán)片40放入光驅(qū)130，開(kāi)始旋轉(zhuǎn)；步驟S1，將聚焦伺服(Focusservo)系統(tǒng)開(kāi)啟，尋軌伺服(Trackservo)系統(tǒng)關(guān)閉，使得聚焦伺服系統(tǒng)為閉回路控制系統(tǒng)，尋軌伺服系統(tǒng)為開(kāi)回路控制系統(tǒng)；步驟S2，將物鏡50移動(dòng)至光盤(pán)片40外圈區(qū)域，例如距盤(pán)片中心半徑56毫米處；步驟S3，將旋轉(zhuǎn)馬達(dá)10的轉(zhuǎn)速設(shè)定至選定的轉(zhuǎn)速，例如每分鐘轉(zhuǎn)七千零五十圈；步驟S4，設(shè)定量測(cè)用的特定均衡器(Equalizer,EQ);步驟S5，量測(cè)軸向控制電壓信號(hào)21;步驟S6，將軸向控制電壓信號(hào)21通過(guò)低通濾波器90，其中此低通濾波器90的頻寬為所選定的旋轉(zhuǎn)速度頻率，例如每分鐘七千兩百轉(zhuǎn)，則頻寬為一百二十赫茲(Hz)。步驟S7，量測(cè)濾波后電壓信號(hào)的峰對(duì)峰值(Peaktopeakvalue);步驟S8，判斷單元100將量測(cè)的峰對(duì)峰值與該選定轉(zhuǎn)速相對(duì)應(yīng)的臨界值做比較，若大于臨界值，則進(jìn)入步驟S9判斷此光盤(pán)片40為不平衡盤(pán)片。若小于臨界值，則進(jìn)入步驟S10判斷此光盤(pán)片40為一般平衡盤(pán)片。請(qǐng)參照?qǐng)D3A，其所繪示為均衡器的示意圖。在圖2中的步驟S4為設(shè)定量測(cè)用的特定均衡器，其具體實(shí)施例如圖3A所示，在控制電路120中的數(shù)字信號(hào)處理單元80可設(shè)定此均衡器，將低頻的增益(Gain)提高，而將高頻的增益降低，使得轉(zhuǎn)頻的信號(hào)較其它信號(hào)明顯。請(qǐng)參照?qǐng)D3B，其所繪示為低通濾波器90示意圖。圖2中的步驟S6為通過(guò)低通濾波器90，此低通濾波器90的具體實(shí)施例如圖3B所示，在控制電路120中，可設(shè)定此低通濾波器90，將高頻的信號(hào)濾掉，低頻的增益增加，使得頻寬內(nèi)的信號(hào)相對(duì)明顯，而頻寬與轉(zhuǎn)速是成正比相關(guān)的，例如轉(zhuǎn)速為每分鐘七千兩百轉(zhuǎn)時(shí)，頻寬為一百二十赫茲，其關(guān)系為轉(zhuǎn)速除以六十為頻寬。請(qǐng)參照?qǐng)D4A，其所繪示為光驅(qū)130水平擺放的示意圖，圖4B為光驅(qū)130在水平擺放時(shí)，通過(guò)低通濾波器90的軸向控制電壓信號(hào)21。FOSO-0為使用標(biāo)準(zhǔn)盤(pán)片濾波后的信號(hào)，F(xiàn)0S0-1為使用不平衡盤(pán)片(0.3公分公克)濾波后的信號(hào)，兩者的峰對(duì)峰值皆未超過(guò)臨界值，因此系統(tǒng)會(huì)判別為一般平衡盤(pán)片。F0S0-2為使用不平衡盤(pán)片(0.75公分公克)濾波后的信號(hào)，F(xiàn)0S0-3為使用不平衡盤(pán)片(1.0公分公克)濾波后的信號(hào)，由圖上可知，兩者的峰對(duì)峰值已達(dá)到臨界值，故系統(tǒng)會(huì)判斷為不平衡盤(pán)片。請(qǐng)參照?qǐng)D5A，其所繪示為光驅(qū)130左側(cè)向上擺放的示意圖，圖5B為光驅(qū)130在左側(cè)向上擺放時(shí)，通過(guò)低通濾波器90的軸向控制電壓信號(hào)21。F0S0-0為使用標(biāo)準(zhǔn)盤(pán)片濾波后的信號(hào)，F(xiàn)0S0-1為使用不平衡盤(pán)片(0.3公分公克)濾波后的信號(hào)，兩者的峰對(duì)峰的皆未超過(guò)臨界值，因此系統(tǒng)會(huì)判斷為一般平衡盤(pán)片。F0S0-2為使用不平衡盤(pán)片(0.75公分公克)5濾波后的信號(hào)，F(xiàn)0S0-3為使用不平衡盤(pán)片(1.0公分公克)濾波后的信號(hào)，由圖上可知，兩者的峰對(duì)峰值已達(dá)到臨界值，故系統(tǒng)會(huì)判斷為不平衡盤(pán)片。請(qǐng)參照?qǐng)D6A，其所繪示為光驅(qū)130右側(cè)向上擺放的示意圖，圖6B為光驅(qū)130在右側(cè)向上擺放時(shí)，通過(guò)低通濾波器90的軸向控制電壓信號(hào)21。F0S0-0為使用標(biāo)準(zhǔn)盤(pán)片濾波后的信號(hào)，F(xiàn)0S0-1為使用不平衡盤(pán)片(0.3公分公克)濾波后的信號(hào)，兩者的峰對(duì)峰值皆未超過(guò)臨界值，因此系統(tǒng)會(huì)判斷為一般平衡盤(pán)片。F0S0-2為使用不平衡盤(pán)片(0.75公分公克)濾波后的信號(hào)，F(xiàn)0S0-3為使用不平衡盤(pán)片(1.0公分公克)濾波后的信號(hào)，由圖上可知，兩者的峰對(duì)峰值已達(dá)到臨界值，故系統(tǒng)會(huì)判斷為不平衡盤(pán)片。因此，本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是提供一種不平衡盤(pán)片的判斷方法。利用軸向控制電壓信號(hào)經(jīng)過(guò)低通濾波后的信號(hào)來(lái)判定是否為不平衡盤(pán)片。綜上所述，雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何熟習(xí)此技藝者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作各種的更動(dòng)與潤(rùn)飾，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)視權(quán)利要求的保護(hù)范圍所界定者為準(zhǔn)。權(quán)利要求一種不平衡盤(pán)片的判斷方法，使用于光盤(pán)讀寫(xiě)裝置，其特征在于，包括下列步驟移動(dòng)一光學(xué)讀寫(xiě)頭至一盤(pán)片的一第一位置；旋轉(zhuǎn)該盤(pán)片至一指定轉(zhuǎn)速；將該光學(xué)讀寫(xiě)頭產(chǎn)生的一聚焦誤差信號(hào)轉(zhuǎn)換為一軸向控制電壓信號(hào)；利用該軸向控制電壓信號(hào)控制該光學(xué)讀寫(xiě)頭，使得該光學(xué)讀寫(xiě)頭所產(chǎn)生的一聚焦光點(diǎn)維持在該盤(pán)片上；以及根據(jù)該軸向控制電壓信號(hào)來(lái)判斷該盤(pán)片是否為一不平衡盤(pán)片。2.如權(quán)利要求1所述的不平衡盤(pán)片的判斷方法，其特征在于，利用一數(shù)字信號(hào)處理器來(lái)處理該聚焦誤差信號(hào)而產(chǎn)生該軸向控制電壓信號(hào)。3.如權(quán)利要求2所述的不平衡盤(pán)片的判斷方法，其特征在于，所述數(shù)字信號(hào)處理器包含一均衡器，設(shè)定該均衡器的增益在低頻較大而高頻較低。4.如權(quán)利要求1所述的不平衡盤(pán)片的判斷方法，其特征在于，所述軸向控制電壓信號(hào)通過(guò)一低通濾波器，且其濾波頻寬與盤(pán)片轉(zhuǎn)速為正比關(guān)系。5.如權(quán)利要求4所述的不平衡盤(pán)片的判斷方法，其特征在于，所述正比關(guān)系為盤(pán)片轉(zhuǎn)速除以頻寬為六十。6.如權(quán)利要求1所述的不平衡盤(pán)片的判斷方法，其特征在于，所述根據(jù)該軸向控制電壓信號(hào)來(lái)判斷該盤(pán)片是否為一不平衡盤(pán)片的依據(jù)為該軸向控制電壓信號(hào)的峰對(duì)峰值是否超過(guò)一默認(rèn)值。7.如權(quán)利要求6所述的不平衡盤(pán)片的判斷方法，其特征在于，所述軸向控制電壓信號(hào)的峰對(duì)峰值大于該預(yù)設(shè)值則判斷為不平衡盤(pán)片，該軸向控制電壓信號(hào)的峰對(duì)峰值小于該預(yù)設(shè)值則判斷為一般平衡盤(pán)片。8.如權(quán)利要求1所述的不平衡盤(pán)片的判斷方法，其特征在于，所述盤(pán)片的一第一位置為該光盤(pán)片外圈區(qū)域。全文摘要本發(fā)明一種不平衡盤(pán)片的判斷方法，使用于光盤(pán)讀寫(xiě)裝置，包括下列步驟移動(dòng)一光學(xué)讀寫(xiě)頭至一盤(pán)片的一第一位置；旋轉(zhuǎn)該盤(pán)片至一指定轉(zhuǎn)速；將該光學(xué)讀寫(xiě)頭產(chǎn)生的一聚焦誤差信號(hào)轉(zhuǎn)換為一軸向控制電壓信號(hào)；利用該軸向控制電壓信號(hào)控制該光學(xué)讀寫(xiě)頭，使得該光學(xué)讀寫(xiě)頭所產(chǎn)生的一聚焦光點(diǎn)可維持在該盤(pán)片上；以及根據(jù)該軸向控制電壓信號(hào)來(lái)判斷該盤(pán)片是否為一不平衡盤(pán)片。文檔編號(hào)G11B7/095GK101727928SQ200810172930公開(kāi)日2010年6月9日申請(qǐng)日期2008年10月24日優(yōu)先權(quán)日2008年10月24日發(fā)明者吳金億,李瑞政申請(qǐng)人:飛利浦建興數(shù)位科技股份有限公司