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光學(xué)拾取裝置以及光學(xué)記錄和再現(xiàn)裝置的制作方法

文檔序號:6770277閱讀:155來源:國知局
專利名稱:光學(xué)拾取裝置以及光學(xué)記錄和再現(xiàn)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及光學(xué)系統(tǒng)、光學(xué)拾取裝置、和光盤裝置,并尤其涉及用于從 光束中提取信號光分量的光學(xué)系統(tǒng)、包括該光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)拾取裝置、包括 該光學(xué)拾取裝置的光盤裝置以及光學(xué)記錄和再現(xiàn)裝置。
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背景技術(shù)
近些年來而且持續(xù)地,由于數(shù)字技術(shù)的發(fā)展和數(shù)據(jù)壓縮技術(shù)的改進(jìn),用 于記錄計(jì)算機(jī)程序、音頻信息、視頻信息(下面成為"內(nèi)容")的光盤(例如, CD (致密盤)和DVD (數(shù)字多用途盤))正獲得更多的注意。因此,隨著光 盤變得價格低廉,用于讀出記錄在光盤中的信息的光盤裝置已經(jīng)逐漸得到廣 泛的使用。
要記錄在光盤中的信息量逐年增加。因此,期望單個光盤的記錄容量的 進(jìn)一步增加。關(guān)于正被開發(fā)的用于增加光盤記錄容量的措施,例如存在有增 加記錄層數(shù)目的措施。因此,正在對具有多個記錄層的光盤(以下稱為"多 層盤")和存取這些多層盤的光盤裝置進(jìn)行積極研究。
在多層盤中,如果各記錄層之間的間距太大,則存在來自目標(biāo)記錄層的 信號受球面像差不利影響的可能性。因此,傾向于減少各記錄層之間的間距。 然而,減少各記錄層之間的間距導(dǎo)致在各記錄層之間的串音(所謂的"層間 串音")。因此,從多層盤返回(反射)的光束不僅包含從目標(biāo)記錄層反射的 期望光束(以下稱為"信號光"),而且還包括從除該目標(biāo)記錄層之外的記錄 層反射的大量不想要的光束(以下稱為"雜光(stray light)")。這導(dǎo)致再現(xiàn)信 號的S/N比的下降。
例如,圖51A和51B是用于描述從雙層記錄介質(zhì)中讀出信息的操作的示 意圖。圖51A是示出讀取記錄在第一記錄層MB0中的信息的情況的射線圖,
而圖51B是示出讀取記錄在第二記錄層MB1中的信息的情況的射線圖(也 參見圖2)。
在圖50A中,物鏡104遠(yuǎn)離基板表面定位,以便在第一層L'O上形成準(zhǔn) 直射束點(diǎn)(fine beam spot )。在圖50B中,物鏡104更接近基板表面定位,以 便在第二層L'1上形成準(zhǔn)直射束點(diǎn)。如圖50A和50B所示,當(dāng)從第一和第二 層L'0和L'1反射的信號光線通過物鏡104傳輸時,它們改變?yōu)槠叫泄饩€,而 且如果檢測透鏡106布置在固定位置處,則它們在相同的光接收表面108處 會聚并且被檢測。
圖52示出了在減少在雙層DVD盤的第一和第二層MB0和MB1之間的 中間層的厚度的情況下、觀察從第一層MBO再現(xiàn)的信號的抖動的降級的結(jié)果。
如圖51A中的虛線所示,在從第一層MBO中讀出信息的情況下,從第 二層MB1生成雜光。如圖51B中的虛線所示,在從第二層MB1中讀出信息 的情況下,從第一記錄層MBO生成雜光。雜光的一部分與從目標(biāo)記錄層反射 的光束相重疊,并且在光一企測器108處^D險(xiǎn)測。
這個雜光通常被檢測為各種信號的偏移(在Shintani等人所著, "Analyses for Design of Drives and Disks for Dual-layer Phase Change Optical Disks"的第281 - 283頁中進(jìn)行了更詳細(xì)的描述)。
此外,在減少中間層厚度的情況下,在到達(dá)光學(xué)4企測單元108之前,在 信號光和雜光之間存在干擾。這個干擾產(chǎn)生了聚焦誤差信號、軌道誤差信號、 和盤再現(xiàn)信號中的噪聲分量(抖動)。例如,在觀察^^第一記錄層MBO再現(xiàn) 的信號中的抖動中,圖52示出了當(dāng)中間層以小于30(im的厚度形成時,抖動 受到不利的影響。這個現(xiàn)象通常稱為串音。因此,在減少雙層記錄介質(zhì)中的 中間層的厚度的情況下,在光學(xué)拾取裝置中消除或者減少雜光是所期望的。
在一個相關(guān)技術(shù)示例中,可以通過在光學(xué)檢測系統(tǒng)中提供衍射光柵以便 把信號光和雜光劃分為主光和輔助光、利用不同的光檢測器檢測來自多個層 的雜光、并且計(jì)算在信號光和雜光之間的差別,來消除由雜光所導(dǎo)致的偏移 (參見日本公開專利申請2001-273640)。然而,利用這個相關(guān)技術(shù)示例,不 僅雜光由衍射光柵衍射,而且信號光也經(jīng)受衍射。這導(dǎo)致在從光盤反射的光 束中包括的信號光分量的損失。此外,這個相關(guān)技術(shù)不能消除由在到達(dá)光學(xué) 檢測表面之前、在信號光和雜光之間的干擾所導(dǎo)致的光量改變,由此導(dǎo)致信
號光的強(qiáng)度發(fā)生改變。
在另 一個相關(guān)技術(shù)示例中,可以通過在光學(xué)檢測系統(tǒng)中提供會聚透鏡和
小孔(pinhole)來減少雜光的影響(參見日本公開專利申請2003-323736 )。 然而,利用這個相關(guān)技術(shù)示例,雜光的最強(qiáng)分量可以通過該小孔并且由光檢 測器檢測到。因此,不能充分防止對雜光的檢測。此外,因?yàn)橥ǔQ貙ぼ壏?向驅(qū)動物鏡,所以很可能出現(xiàn)光軸的偏離。在這種情況下,可能由于小孔的 位置而堵塞信號光,由此導(dǎo)致信號光強(qiáng)度的改變。
作為另一個相關(guān)技術(shù)示例,日本已登記的專利2624255提出了一種用于 當(dāng)從多層盤中讀出時減少層間串音的裝置。
這個裝置要求進(jìn)一步減少其檢測器中的小孔的直徑,以便減少入射到檢 測器上的雜光的分量。然而,減少小孔的直徑還導(dǎo)致入射在檢測器上的信號 光分量的損失。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一般目的是提供一種光學(xué)系統(tǒng)、光學(xué)拾取裝置、和光盤裝置, 其基本上避免了由相關(guān)技術(shù)中的限制和缺點(diǎn)所導(dǎo)致的一個或多個問題。
本發(fā)明的特征和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中闡明,并部分地將根據(jù)該描述和 附圖而變得明顯,或者可以通過根據(jù)該描述中提供的示教的、本發(fā)明的實(shí)踐 而得知。本發(fā)明的目的以及其它特征和優(yōu)點(diǎn)可以通過在說明書中明確指出的 光學(xué)系統(tǒng)、光學(xué)拾取裝置、和光盤裝置而實(shí)現(xiàn)和獲得,這些光學(xué)系統(tǒng)、光學(xué) 拾取裝置、和光盤裝置通過這樣的完整、清晰、簡明、和確切的術(shù)語在說明 書中指出,使得本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員能夠?qū)嵺`本發(fā)明。
為了實(shí)現(xiàn)這些及其他優(yōu)點(diǎn)以及根據(jù)本發(fā)明的目的,如此處體現(xiàn)和廣泛描 述的那樣,本發(fā)明提供了 一種用于從包括信號光分量和雜光分量的光束中提 取信號光分量的光學(xué)系統(tǒng),該光學(xué)系統(tǒng)包括聚光光學(xué)元件,位于光束的光 徑上,用于會聚該光束;偏振改變單元,用于改變在穿過聚光光學(xué)元件的入 射光束中包括的信號光分量和雜光分量中的至少一個的偏振態(tài);以及提取元 件,用于提取在穿過該偏振改變單元的光束中包括的信號光分量。
此外, 一種用于從包括信號光分量和雜光分量的光束中提取信號光分量 的光學(xué)系統(tǒng),該光學(xué)系統(tǒng)包括聚光光學(xué)元件,位于光束的光徑上,用于會 聚該光束;偏振改變單元,包括偏振改變元件和反射部件的組合,用于改變
在穿過聚光光學(xué)元件的入射光束中包括的信號光分量和雜光分量中的至少一
個的偏振態(tài);以及提取元件,用于提取在穿過該偏振改變單元的光束中包括 的信號光分量。
此外,本發(fā)明提供了一種光學(xué)拾取裝置,包括光源,用于發(fā)射光束; 光學(xué)系統(tǒng),包括物鏡,用于將該光束會聚到具有多個記錄層的光盤中的目標(biāo) 記錄層上;根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光學(xué)系統(tǒng);以及光學(xué)檢測系統(tǒng),用于根據(jù)所 提取信號光分量的光量而生成信號。
此外,本發(fā)明提供了一種光盤裝置,包括根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光學(xué)拾 取裝置;以及處理裝置,用于根據(jù)該光學(xué)檢測系統(tǒng)生成的信號而讀出記錄在 該光盤中的信息。
此外,本發(fā)明提供了 一種用于從包括信號光分量和雜光分量的光束中提 取信號光分量的光學(xué)系統(tǒng),該光學(xué)系統(tǒng)包括聚光光學(xué)元件,位于光束的光 徑上,用于會聚該光束,該聚光光學(xué)元件將信號光分量會聚在第一焦點(diǎn)處, 并且將雜光分量會聚在第二焦點(diǎn)處;第一偏振改變元件,位于聚光光學(xué)元件 和第二焦點(diǎn)之間,該第二焦點(diǎn)比第一焦點(diǎn)更接近該聚光光學(xué)元件定位,該第 一偏振改變元件包括由與該聚光光學(xué)元件的光軸垂直相交的線劃分的第一和 第二區(qū)域,該第一偏振改變元件具有將入射在該第一區(qū)域上的光束的偏振方 向改變90度角的光學(xué)特征;第一分離元件,位于第一和第二焦點(diǎn)之間,該第 一分離元件可操作為反射或者吸收比該第一焦點(diǎn)更靠近該聚光光學(xué)元件會聚 的雜光分量;第二分離元件,位于第一焦點(diǎn)和第三焦點(diǎn)之間,其中穿過第一 分離元件的雜光分量會聚在第三焦點(diǎn)處,第二分離元件可操作為反射或者吸 收穿過第一分離元件的雜光分量;以及第二偏振改變元件,包括由與聚光光 學(xué)元件的光軸垂直相交的線劃分的第一和第二區(qū)域,該第二偏振改變元件具 有將入射到第二偏振改變元件的第一區(qū)域和第二區(qū)域中的至少一個上的光束 的偏振方向改變90度角的光學(xué)特征。
此外,本發(fā)明提供了一種光學(xué)拾取裝置,包括光源,用于發(fā)射光束; 光學(xué)系統(tǒng),包括物鏡,用于將光束會聚到具有多個記錄層的光盤中的目標(biāo)記 錄層上,以及根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光學(xué)系統(tǒng);以及光學(xué)檢測系統(tǒng),用于根據(jù) 所提取信號光分量的光量而生成信號。
此外,本發(fā)明提供了一種光盤裝置,包括根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光學(xué)拾 取裝置;以及處理裝置,用于根據(jù)由該光學(xué)檢測系統(tǒng)生成的信號而讀出記錄
在該光盤中的信息。
此外,本發(fā)明提供了一種光學(xué)拾取裝置,該光學(xué)拾取裝置具有光源、準(zhǔn) 直透鏡、檢測器和分離部件、物鏡、光學(xué)檢測系統(tǒng)、以及光檢測器,用于向
和從具有多層的光盤記錄和讀出信息,該光學(xué)拾取裝置包括聚光光學(xué)元件, 用于會聚從該光盤的多個層反射的光束,該光束包括從多個層中的第m層反 射的信號光束Lm、從多個層中的第m+l層反射的第一雜光束Lm+l、以及從 多個層中的第m-l層反射的第二雜光束Lm-l,該信號光束Lm會聚在第一焦 點(diǎn)fm處,第一雜光束Lm+1會聚在第二焦點(diǎn)fm+l處,而第二雜光束Lm-l 會聚在第三焦點(diǎn)ftn-l處;前屏蔽部件,位于第一焦點(diǎn)fm和第二焦點(diǎn)fm+l 之間,用于屏蔽定向到第一區(qū)域的光束;以及后屏蔽部件,位于第一焦點(diǎn)fm 和第三焦點(diǎn)fm-l之間,用于屏蔽定向到第二區(qū)域的光束;其中第一和第二區(qū) 域由聚光光學(xué)元件的光軸劃分。
此外,本發(fā)明提供了一種光學(xué)拾取裝置,該光學(xué)拾取裝置具有光源、準(zhǔn) 直透鏡、檢測器和分離部件、物鏡、光學(xué)檢測系統(tǒng)、以及光檢測器,用于向 和從具有多層的光盤記錄和讀出信息,該光學(xué)拾取裝置包括聚光光學(xué)元件,
用于會聚從該光盤的多個層反射的光束,該光束包括從多個層中的第m層反 射的信號光束Lm、從多個層中的第m+l層反射的第一雜光束Lm+l、以及從 多個層中的第m-l層反射的第二雜光束Lm-l,該信號光束Lm會聚在第一焦 點(diǎn)fm處,第一雜光束Lm+l會聚在第二焦點(diǎn)fm+l處,而且第二雜光束Lm-l 會聚在第三焦點(diǎn)fm-l處;分束部件,比第二焦點(diǎn)fm+l更接近聚光器部分定 位,用于將光束分裂為由聚光光學(xué)元件的光軸劃分的第一和第二區(qū)域;前屏 蔽部件,位于第一區(qū)域側(cè)的第一焦點(diǎn)fin和第二焦點(diǎn)fm+l之間,用于屏蔽第 一雜光束Lm+l;以及后屏蔽部件,位于第二區(qū)域側(cè)的第一焦點(diǎn)fm和第三焦 點(diǎn)fm-l之間,用于屏蔽第二雜光束Lm-l。
此外,本發(fā)明提供了一種光學(xué)拾取裝置,該光學(xué)拾取裝置具有光源、準(zhǔn) 直透鏡、檢測器和分離部件、物鏡、光學(xué)檢測系統(tǒng)、以及光檢測器,用于向 和從具有多層的光盤記錄和讀出信息,該光學(xué)拾取裝置包括聚光光學(xué)元件, 用于會聚從該光盤的多個層反射的光束,該光束包括從多個層中的第m層反 射的信號光束Lm、從多個層中的第m+l層反射的第一雜光束Lm+l、以及從 多個層中的第m-l層反射的第二雜光束Lm-l,該信號光束Lm會聚在第一焦 點(diǎn)fm處,第一雜光束Lm+l會聚在第二焦點(diǎn)fm+l處,而且第二雜光束Lm-l會聚在第三焦點(diǎn)fm-l處;分束部件,位于第一焦點(diǎn)fm和第二焦點(diǎn)fm+l之 間,用于將光束分裂為由聚光光學(xué)元件的光軸劃分的第一和第二區(qū)域;以及 屏蔽部件,位于第一焦點(diǎn)fm和第三焦點(diǎn)fm-l之間,用于屏蔽第一雜光束Lm+l 和第二雜光束Lm-l。
此外,本發(fā)明提供了一種光學(xué)記錄裝置,包括根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光 學(xué)拾取裝置。
此外,本發(fā)明提供了一種光學(xué)再現(xiàn)裝置,包括根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光 學(xué)拾取裝置。
此外,本發(fā)明提供了一種光學(xué)記錄和再現(xiàn)裝置,包括根據(jù)本發(fā)明實(shí)施 例的光學(xué)拾取裝置。


圖1是示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光盤裝置的示范配置的示意圖2是用于描述根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光盤的配置的示意圖3A是用于描述根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光學(xué)系統(tǒng)和包括該光學(xué)系統(tǒng)的
光學(xué)拾取裝置的示意圖3B是用于描述根據(jù)本發(fā)明的另一個實(shí)施例的光學(xué)系統(tǒng)和包括該光學(xué)
系統(tǒng)的光學(xué)拾取裝置的示意圖4A和4B是用于描述信號光(信號光分量)和雜光(雜光分量)的示
意圖5A和5B是用于描述圖3A所示的光學(xué)系統(tǒng)的示范操作的示意圖5C和5D是用于描述圖3B所示的光學(xué)系統(tǒng)的示范操作的示意圖6A是用于描述根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的1/4波片的示意圖6B和6C是用于描述根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的1/2波片的示意圖7A是用于描述根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的另一個1/4波片的示意圖7B和7C是用于描述根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的光學(xué)偏振元件的示意
圖8A是示出根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的圖3A所示的光學(xué)系統(tǒng)的操作(效果) 的表格;
圖8B是示出根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的圖3B所示的光學(xué)系統(tǒng)的操作 (效果)的表格;圖9A和犯是用于描述根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的由圖1所示的再現(xiàn)信號處 理電路獲得的聚焦誤差信號和總信號的圖示;
圖IOA和IOB是用于描述根據(jù)傳統(tǒng)示例獲得的聚焦誤差信號和總信號的
圖示;
圖11是用于描述在從上層裝置接收了存取請求的情況下,根據(jù)本發(fā)明實(shí) 施例的光盤裝置的處理(操作)的流程圖12A是用于描述根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的圖3A所示的光學(xué)系統(tǒng)的第一 修改示例的示意圖12B是用于描述根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的圖3B所示的光學(xué)系統(tǒng)的 第一修改示例的示意圖13A是用于描述根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的圖3A所示的光學(xué)系統(tǒng)的第二 修改示例的示意圖13B是用于描述根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的圖3B所示的光學(xué)系統(tǒng)的 第二修改示例的示意圖14是用于描述根據(jù)圖13A和13B所示的光學(xué)系統(tǒng)、在光束直徑和光 盤中間層的厚度之間的關(guān)系的圖示;
圖15A是用于描述根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的圖3A所示的光學(xué)系統(tǒng)的第三 修改示例的示意圖15B是用于描述根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的圖3B所示的光學(xué)系統(tǒng)的 第三修改示例的示意圖16A是用于描述根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的圖3A所示的光學(xué)系統(tǒng)的第四 修改示例的示意圖16B是用于描述根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的圖3B所示的光學(xué)系統(tǒng)的 第四修改示例的示意圖17A是用于描述根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的圖3A所示的光學(xué)系統(tǒng)的第五 修改示例的示意圖17B是用于描述根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的圖3B所示的光學(xué)系統(tǒng)的 第五修改示例的示意圖18A是用于描述根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的圖3A所示的光學(xué)系統(tǒng)的第六 修改示例的示意圖18B是用于描述根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的圖3B所示的光學(xué)系統(tǒng)的
第六修改示例的示意圖19是用于描述根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的圖l所示的光學(xué)拾取裝置的第一 修改示例的示意圖20是示出在其中1/4波片旋轉(zhuǎn)180度的情況下、根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例 在圖3A所示的光學(xué)系統(tǒng)中的操作(效果)的表格;
圖21是用于描述根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的其中圖3A所示的1/4波片由1/2 波片替代的情況的示意圖22是用于描述根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的其中圖3A所示的另一個1/4波 片由另一個1/2波片替代的情況的示意圖23是示出根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例、使用圖21和22所示的1/2波片的光 學(xué)系統(tǒng)的操作(效果)的表格;
圖24是示出根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例、在其中另一個1/2波片旋轉(zhuǎn)180度的 情況下的光學(xué)系統(tǒng)的操作(效果)的表格;
圖25是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例、用于描述其中圖3A所示的1/4波片由旋 轉(zhuǎn)器(rotator)替代的情況的示意圖26是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例、用于描述其中圖3A所示的另一個1/4波 片由另 一個旋轉(zhuǎn)器替代的情況的示意圖27是示出根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例、使用圖25和26所示的旋轉(zhuǎn)器的光學(xué) 系統(tǒng)的操作(效果)的表格;
圖28是示出根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例、在其中另一個旋轉(zhuǎn)器旋轉(zhuǎn)180度的情 況下的光學(xué)系統(tǒng)的操作(效果)的表格;
圖29是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例、用于描述圖1所示的光學(xué)拾取裝置的第二 修改示例的示意圖30是用于描述根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例、包括在圖29所示的光學(xué)系統(tǒng)中 的1/2波片的示意圖31是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例、用于描述圖29所示的光學(xué)系統(tǒng)的操作(效 果)的示意圖32是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例、示出圖29所示的光學(xué)系統(tǒng)的操作(效果) 的表格;
圖33是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例、用于描述圖1所示的光學(xué)拾取裝置的第三 修改示例的示意圖34是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例、用于描述圖33所示的光學(xué)系統(tǒng)的操作(效 果)的示意圖35是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例、示出圖33所示的光學(xué)系統(tǒng)的操作(效果) 的表格;
圖36是用于描述根據(jù)本發(fā)明又一個實(shí)施例的光學(xué)拾取裝置的基本配置 的示意圖37是根據(jù)本發(fā)明又一個實(shí)施例、用于防止光量(光通量)損失的配置 的示意圖38是用于描述根據(jù)本發(fā)明又一個實(shí)施例的光學(xué)拾取裝置的修改示例 的示意圖39是用于描述根據(jù)本發(fā)明又一個實(shí)施例的光學(xué)拾取裝置的另一個修 改示例的示意圖40是用于描述根據(jù)本發(fā)明又一個實(shí)施例的光學(xué)拾取裝置的另一個修 改示例的示意圖41是用于描述根據(jù)本發(fā)明又一個實(shí)施例的、圖41所示的光學(xué)拾取裝 置的進(jìn)一步修改示例的示意圖42A和42B是根據(jù)本發(fā)明的又一個實(shí)施例、用于描述將圖40和41所 示的分束部件和一個或多個屏蔽(shielding )部分形成到聯(lián)合體中的示例的示 意圖43是用于描述根據(jù)本發(fā)明又一個實(shí)施例的光學(xué)拾取裝置的另一個修 改示例的示意圖44是用于描述根據(jù)本發(fā)明又一個實(shí)施例的光學(xué)拾取裝置的另一個修 改示例的示意圖45A、 45B和45C是根據(jù)本發(fā)明的又一個實(shí)施例,用于描述光束、一 個或多個屏蔽部件、和分束部件的位置關(guān)系的示意圖46A和46B是示出根據(jù)本發(fā)明的又一個實(shí)施例、用于獲得軌道誤差信 號的示范配置的示意圖47A和47B是示出根據(jù)本發(fā)明的又一個實(shí)施例、用于獲得聚焦誤差信 號和軌道誤差信號二者的示范配置的示意圖48是示出根據(jù)本發(fā)明的又一個實(shí)施例的光學(xué)拾取裝置的整體配置的 示意圖49是用于描述根據(jù)本發(fā)明的又一個實(shí)施例的光學(xué)單元示例的示意圖; 圖50是用于描述根據(jù)本發(fā)明的又一個實(shí)施例的衍射光柵示例的示意圖; 圖51A和51B是用于描述從光盤(雙層信息記錄介質(zhì))中讀出信息以及
在其中記錄信息的操作的示意圖52是示出在減少雙層DVD盤的中間層的厚度的情況下、觀察從第一
層L'0再現(xiàn)的信號中的抖動的降級的結(jié)果的圖示;以及
圖53A和53B示出其中分束部件和屏蔽部件形成為聯(lián)合體的、圖39所
示配置的修改示例。
具體實(shí)施例方式
基于附圖中所示的實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)描述。 圖1是示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光盤裝置20的示意圖。 例如,光盤裝置20包括,起到用于驅(qū)動光盤15的旋轉(zhuǎn)的馬達(dá)的作用的 主軸馬達(dá)22、光學(xué)拾取裝置23、用于沿滑架(sledge)方向驅(qū)動光學(xué)拾取器 23的尋道(seek)馬達(dá)21、激光控制電路24、編碼器25、驅(qū)動控制電路26 (例如包括,馬達(dá)驅(qū)動器27和伺服控制器33)、再現(xiàn)信號處理電路28、緩存 RAM 34、緩存管理器37、接口 38、閃速存儲器(或者ROM) 39、 CPU 40、 和RAM 41。圖1所述的箭頭表明信號和信息的示范流動,而并非表明在所 述組件(塊)當(dāng)中的所有連接。此外,根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光盤裝置20可應(yīng) 用于多層盤。此外,光盤裝置20包括專用于在光盤中記錄信息的裝置(光盤 裝置)、專用于從光盤中讀出信息的裝置(光學(xué)再現(xiàn)裝置)、以及專用于在光 盤中記錄信息/從光盤中再現(xiàn)信息的裝置。
如圖2所示,例如,光盤15包括以從光盤15的光入射方向(圖2中的 箭頭方向)開始按照順序分層的第一基板MO、第一記錄層LO、中間記錄層 ML、第二記錄層Ll、和第二基板Ml。此外,在第一記錄層LO和中間層 ML之間提供了由例如金屬材料(例如銀、鋁)或者介電材料(例如硅)形 成的半透明薄膜MBO。此外,在第二記錄層Ll和第二基板Ml之間提供了 由例如金屬材料(例如銀,鋁)形成的反射薄膜MB1。中間層ML包含折射 率類似于基板的UV硫化樹脂材料。也就是說,光盤15是單面雙層盤。每個 記錄層具有由螺旋或者同心導(dǎo)槽形成的一個或多個軌道。以第 一個記錄層LO 比第二記錄層L1更靠近光盤裝置20的方式設(shè)置光盤15。因此,入射在光盤
15上的光線的波段中的一部分在半透明薄膜MB0處反射,而且該光線的波 段中的剩余部分穿過該半透明薄膜MB0。然后,穿過該半透明薄膜MBO的 光線的波段由反射薄膜MB1反射。在這個實(shí)施例中,光盤15是DVD類型 的信息記錄介質(zhì)。
光學(xué)拾取裝置23用于將激光束照射在對其尋求存取的、光盤15的兩個 記錄層之一(以下稱為"目標(biāo)記錄層")上,以及用于接收從光盤15反射的 光。如圖3A所示,光學(xué)拾取裝置23包括例如,光源單元51、耦合(coupling) 透鏡52、偏振光束分光器54、 1/4波片55、物鏡60、光學(xué)系統(tǒng)70(也稱為 光偏振系統(tǒng))、聚光透鏡(檢測透鏡)58、光學(xué)檢測單元伺服PD (也稱為光 電檢測器)、和用于驅(qū)動物鏡60的包括聚焦致動器AC和尋軌致動器(未示 出)在內(nèi)的驅(qū)動系統(tǒng)。
光源單元51包括例如起光源作用的半導(dǎo)體激光LD,該光源用于發(fā)射其 波長符合光盤15 (在這個示例中,大約為660 nm)的激光束。在本發(fā)明的這 個實(shí)施例中,從光源單元51發(fā)射的最大強(qiáng)度激光束的方向?yàn)?X方向。此外, 光源單元51發(fā)射例如與偏振光束分光器54的入射面平行的一束偏振光線(P 偏振光)。
位于光源單元51的+X側(cè)的耦合透鏡52使得從光源單元51發(fā)射的光束 變?yōu)榛旧掀叫械墓饩€。
偏振光束分光器54位于該耦合透鏡54的+X側(cè)。偏振光束分光器54的
增加的反射率。也就是說,大部分從光源單元51發(fā)射的光束可以穿過偏振光 束分光器54。 1/4波片位于偏振光束分光器54的+X側(cè)。
1/4波片55對于入射在該1/4波片55上的光束提供了 1/4波長的相差。 位于該1/4波片55的+X側(cè)的物鏡60將穿過該1/4波片的光束會聚在目標(biāo)記 錄層上。
位于偏振光束分光器54的-Z側(cè)的光學(xué)系統(tǒng)70有選擇地允許從目標(biāo)記錄 層反射的反射束的一部分(經(jīng)由偏振光束分光器54)穿過。光學(xué)系統(tǒng)70的 配置在下面進(jìn)行詳細(xì)描述。
位于光學(xué)系統(tǒng)70的-Z側(cè)的聚光透鏡58將穿過光學(xué)系統(tǒng)70的反射束會 聚在光學(xué)檢測單元PD的光學(xué)檢測表面上。光學(xué)檢測單元PD具有多個用于生
成信號(光電轉(zhuǎn)換信號)的光檢測器(或者光學(xué)檢測區(qū)域),這些光檢測器最
適宜用于在再現(xiàn)信號處理電路28中檢測例如RF信號、擺動信號、和伺服信
聚焦致動器AC用于沿聚焦方向(也就是說,物鏡60的光軸方向)精確 地驅(qū)動(移動)物鏡60。為了方便起見,在其中目標(biāo)記錄層為第一記錄層L0 的情況下,物鏡60相對于聚焦方向的最佳位置被稱為"第一透鏡位置",以 及在其中目標(biāo)記錄層是第二記錄層L1的情況下,物鏡60相對于聚焦方向的 最佳位置被稱為"第二透鏡位置"。與其中物鏡60處于第一透鏡位置的情況 相比,在其中物鏡60處于第二透鏡位置的情況下,在物鏡60和光盤15之間 的距離較短(參見圖4A和4B )。
尋軌致動器(未示出)用于沿尋軌方向精確地驅(qū)動(移動)物鏡60。 接下來,參考圖4A和4B描述從光盤15反射的光束。 如圖4A所示,在其中目標(biāo)記錄層為第一記錄層LO的情況下,物鏡60 的位置被定義為第一透鏡位置。因此,物鏡60將從光源單元51發(fā)射的光束 會聚在第一記錄層上。然后,光束的一部分從半透明薄膜MBO反射,并且入 射到物鏡60上。從半透明薄膜MBO反射的這部分光束包括信號光分量(信 號光)。同時,光束的剩余部分穿過半透明薄膜MBO,從反射薄膜MB1反射, 并且入射在物鏡60上。從反射薄膜MB1反射的光束的剩余部分包括雜光分 量(雜光)。
也就是說,與目標(biāo)記錄層是第一記錄層L0還是第二記錄層L1無關(guān),從 光盤15反射的光束包括從半透明薄膜MBO反射的光束(以下稱為"第一反 射光")和從反射薄膜MB1反射的光線束(以下稱為"第二反射光")。在這 個示例中,在其中目標(biāo)記錄層是第一記錄層LO的情況下,第一反射光包括信 號光分量(信號光),而第二反射光包括雜光分量(雜光)。同時,在其中目 標(biāo)記錄層是第二記錄層L1的情況下,第二反射光包括信號光分量(信號光), 而第一反射光包括雜光分量(雜光)。因?yàn)楫?dāng)在再現(xiàn)信號處理電路28中檢測 各種信號時,雜光分量導(dǎo)致S/N比惡化,所以從光盤15反射的光束中提取信 號光分量是所期望的。
接下來,描述根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的光學(xué)系統(tǒng)70。在這個實(shí)施例中, 圖3A所示的光學(xué)系統(tǒng)70包括透鏡(聚光光學(xué)元件)61、兩個l/4波片(62, 63)、和偏振光學(xué)元件(提取元件)64。
位于偏振光束分光器54的-Z側(cè)的透鏡61會聚從偏振光束分光器54反 射的返回光束。因?yàn)榘胪该鞅∧B0和反射薄膜MB1在聚焦方向上彼此分 離,所以第一反射光的焦點(diǎn)和第二反射光的焦點(diǎn)不相配,也就是說,第一反 射光的焦點(diǎn)和第二反射光的焦點(diǎn)在透鏡61的光軸方向上彼此分離。
例如,如圖5A所示,在其中目標(biāo)記錄層是第一記錄層LO的情況下,穿 過透鏡61的第二反射光的焦點(diǎn)被設(shè)置為"f+1",而穿過透鏡61的第一反射光 的焦點(diǎn)被設(shè)置為"fo"。此外,如圖5B所示,在其中目標(biāo)記錄層是第二記錄 層L1的情況下,穿過透鏡61的第二反射光的焦點(diǎn)被設(shè)置為"fo",而穿過透 鏡61的第一反射光的焦點(diǎn)被設(shè)置為"fV'。也就是說,信號光的焦點(diǎn)(第一 焦點(diǎn))被設(shè)置為"f。"。同時,從比目標(biāo)記錄層更遠(yuǎn)離物鏡60的記錄層反射的 雜光的焦點(diǎn)(第二焦點(diǎn))被設(shè)置為"f+1"。從比目標(biāo)記錄層更接近物鏡60的 記錄層反射的雜光的焦點(diǎn)(第三焦點(diǎn))被設(shè)置為"fV,。此外,在下文中也將 透鏡61的光軸的+X側(cè)稱為"區(qū)域1",并且在下文中也將透鏡61的光軸的-X 側(cè)稱為"區(qū)域2"(參見圖5A和5B)。
1/4波片(第一偏振改變元件)62位于透鏡61的-Z側(cè)上,并且位于第二 焦點(diǎn)fn和第一焦點(diǎn)f()之間(參見圖5A)。例如,如圖6A所示,1/4波片62 由沿Y方向延伸的分界線62d劃分為兩個區(qū)域(62a, 62b )。在這個示例中, 相對于分界線62d在+X側(cè)的區(qū)域被表明為區(qū)域62a,而相對于分界線62d在 -X側(cè)的區(qū)域^皮表明為區(qū)域62b。區(qū)域62a對于入射在該1/4波片上的光束提 供了+l/4波長的相差。應(yīng)當(dāng)注意,才艮據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的"+l/4波長"包括"+ 1/4x(2n+l)波長",其中"n"是自然數(shù)。區(qū)域62b對于入射在該1/4波片62 上的光束提供了- 1/4波長的相差。應(yīng)當(dāng)注意到,根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的"-1/4 波長"包括"-1/4x(2n-l)波長",其中"n"是自然數(shù)。在其中物鏡60沿尋軌 方向移動的情況下,入射在l/4波片62上的返回光束向與尋軌方向相對應(yīng)的 方向(在這個示例中,Y方向)移動。
1/4波片63 (第二偏振改變元件)位于1/4波片62的-Z方向上,并且位 于第一焦點(diǎn)f。和第三焦點(diǎn)t之間(參見圖5B)。例如,如圖7A所示,1/4波 片63由沿Y方向延伸的分界線63d劃分為兩個區(qū)域(63a, 63b )。在這個示 例中,相對于分界線63d在+X側(cè)的區(qū)域被表明為區(qū)域63a,而相對于分界線 63d在-X側(cè)的區(qū)域被表明為區(qū)域63b。區(qū)域63a對于入射在該1/4波片63上 的光束提供了+1/4波長的相差。區(qū)域63b對于入射在該1/4波片63上的光束
提供了-1/4波長的相差。換句話說,1/4波片63具有與1/4波片62相同的光 學(xué)特征。在這種情況下,同樣,當(dāng)物鏡60沿尋軌方向移動時,入射在l/4波 片63上的返回光束向與尋軌方向相對應(yīng)的方向(在這個示例中,Y方向)移 動。
例如,扭曲向列液晶、子波長線柵、或者光子晶體可以用作1/4波片62、63。
位于1/4波片63的-Z側(cè)的偏振光學(xué)元件64僅僅允許在來自1/4波片63 的光束中包括的S偏振分量穿過。
接下來,參考圖5A、 5B和圖8A描述上述光學(xué)拾取裝置23的操作。在 圖8A所示的表格以及根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的以下附圖中的表格中,字母"S" 指示"S偏振光",字母"P"指示"P偏振光",字母"R"指示"右圓(circularly ) 偏振光",以及字母"L"指示"左圓偏振光"。此外,在圖8A所示的表格以 及根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的以下附圖中的表格中,應(yīng)當(dāng)注意到,相對于透鏡61的 光軸方向,在透鏡61和第二焦點(diǎn)fw之間的光徑稱為"光徑A",在第二焦點(diǎn) f+,和l/4波片62之間的光徑稱為"光徑B",在l/4波片62和第一焦點(diǎn)fo之 間的光徑稱為"光徑C",在第一焦點(diǎn)f。和1/4波片63之間的光徑稱為"光 徑D",在l/4波片63和第三焦點(diǎn)f.,之間的光徑稱為"光徑E",在第三焦點(diǎn) f.,和偏振光學(xué)元件64之間的光徑稱為"光徑F",以及在偏振光學(xué)元件64和 聚光透鏡58之間的光徑稱為"光徑G"(參見圖5A和5B )。
從光源單元51發(fā)射的直接偏振光(在這個示例中,為P偏振光)光束由 耦合透鏡52轉(zhuǎn)變成一束基本上平行的光線。然后,該平行光線變得入射在偏
器54,由1/4波片55進(jìn)行圓偏振,并且經(jīng)由物鏡60會聚到光盤15的目標(biāo)記 錄層上的準(zhǔn)直射束點(diǎn)中。從光盤15反射的光束(包括信號光分量和雜光分量) (相對于照射到光盤15上的圓偏振光線)以相反旋轉(zhuǎn)方向被圓偏振,并且由 物鏡60再次轉(zhuǎn)變?yōu)榛旧掀叫械墓饩€。然后,在l/4波片55處,將平行光 線的反射束轉(zhuǎn)變?yōu)榕c照射光線的方向垂直相交的線偏振光(在這個示例中,S 偏振光)。然后,該反射束變得入射在偏振光束分光器54上。由偏振光束分 光器54沿-Z方向反射的光束會聚在透鏡61處。
然后,穿過透鏡61的反射束變?yōu)槿肷涞?/4波片62上。在透鏡61和1/4 波片62之間的光徑A、 B處,包括在反射束內(nèi)的信號光和雜光都是S偏振光
(參見圖5A和5B )。 1/4波片62對于入射在區(qū)域62a上的光束提供了+1/4 波長的相差,并且對于入射在區(qū)域62b上的光束提供了-1/4波長的相差(參 見圖6A)。由此,信號光和雜光二者在光徑C處的區(qū)域1中是沿順時針方向 的圓偏振光(右圓偏振光),并且二者在光徑C處的區(qū)域2中是沿順時針方向 的圓偏振光(右圓偏振光)。此外,在光徑D處的區(qū)域1中,盡管雜光保持 為沿順時針方向的圓偏振光(右圓偏振光),但是信號光變?yōu)檠啬鏁r針方向的 圓偏振光(左圓偏振光)。此外,在光徑D處的區(qū)域2中,盡管雜光保持為 沿逆時針方向的圓偏振光(左圓偏振光),但是信號光變?yōu)檠仨槙r針方向的圓 偏振光(右圓偏振光)。
然后,穿過1/4波片62的反射束變?yōu)槿肷涞?/4波片63上。1/4波片63 對于入射在區(qū)域63a上的光束提供了+1/4波長的相差,并且對于入射在區(qū)域 63b上的光束提供了-1/4波長的相差(參見圖7A)。在1/4波片63和偏振光 學(xué)元件64之間的光徑(光徑E和F)中,信號光是S偏振光,而雜光是P偏 振光。
然后,穿過1/4波片63的反射束變?yōu)槿肷涞狡窆鈱W(xué)元件64上。偏振 光學(xué)元件64僅僅允許在來自1/4波片63的光束內(nèi)包括的S偏振分量穿過。 因此,在光徑G處的光束僅僅包括信號光分量。換句話說,提取了包括在反 射束中的信號光分量。
然后,穿過偏振光學(xué)元件64的反射束經(jīng)由聚光透鏡58由光學(xué)檢測單元 PD接收。在光學(xué)檢測單元PD中的每個光檢測器(或者光檢測區(qū)域)處,對 該反射束執(zhí)行光電轉(zhuǎn)換處理。然后,該光學(xué)檢測單元PD將光電轉(zhuǎn)換后的信 號輸出到再現(xiàn)信號處理電路28。因?yàn)樵诠鈱W(xué)檢測單元PD處僅僅接收了在該 反射束中包括的信號光分量(信號光),所以光學(xué)檢測單元PD可以輸出具有 高S/N比的光電轉(zhuǎn)換信號。
接下來,描述根據(jù)本發(fā)明修改實(shí)施例的光學(xué)系統(tǒng)70。在本發(fā)明這個修改 的實(shí)施例中,圖3B所示的光學(xué)系統(tǒng)70包括透鏡(聚光光學(xué)元件)61、兩個 1/2波片(62a, 62b)、和兩個偏振光學(xué)元件(64a, 64b )。
位于偏振光束分光器54的-Z側(cè)的透鏡61會聚從偏振光束分光器54反 射的返回光束。因?yàn)榘胪该鞅∧B0和反射薄膜MB1在聚焦方向上彼此分 離,所以第一反射光的焦點(diǎn)和第二反射光的焦點(diǎn)不匹配,也就是說,第一反 射光的焦點(diǎn)和第二反射光的焦點(diǎn)在透鏡61的光軸方向上彼此分離。
例如,如圖5C所示,在其中目標(biāo)記錄層是第二記錄層L1的情況下,穿
過透鏡61的第一反射光的焦點(diǎn)被設(shè)置為"f+1",而穿過透鏡61的第二反射光 的焦點(diǎn)被設(shè)置為"fo"。此外,如圖5D所示,在其中目標(biāo)記錄層為第一記錄 層L0的情況下,穿過透鏡61的第一反射光的焦點(diǎn)^皮設(shè)置為"fo",而穿過透 鏡61的第二反射光的焦點(diǎn)被設(shè)置為"fV'。也就是說,信號光的焦點(diǎn)被設(shè)置 為"f。"。同時,從比目標(biāo)記錄層更靠近物鏡60的記錄層反射的雜光的焦點(diǎn)被 設(shè)置為"f+1"。從比目標(biāo)記錄層更遠(yuǎn)離物鏡60的記錄層反射的雜光的焦點(diǎn)被 設(shè)置為"fV,。此外,在下文中也將透鏡61的光軸的+X側(cè)稱為"區(qū)域1",并 且在下文中也將透鏡61的光軸的-X側(cè)稱為"區(qū)域2"(參見圖5C和5D)。
1/2波片(第一偏振改變元件)62a位于透鏡61的-Z側(cè)上,并且位于透 鏡61和焦點(diǎn)f+1之間(參見圖5C )。例如,如圖6B所示,1/2波片62a由沿 Y方向延伸的分界線623劃分為兩個區(qū)域(621, 622)。在這個示例中,相對 于分界線623在+X側(cè)的區(qū)域被表明為區(qū)域621 ,而相對于分界線623在-X側(cè) 的區(qū)域被表明為區(qū)域622。區(qū)域621允許入射光按照原樣穿過。區(qū)域622對 于入射在1/2波片62a上的光束提供了 1/2波長(+ 1/2波長)的相差。應(yīng)當(dāng) 注意到,"+l/2波長"包括"+l/2x (2n+l)波長,,,其中"n"是自然數(shù)。在 其中物鏡60沿尋軌方向移動的情況下,入射在l/2波片62a上的返回光束向 與尋軌方向相對應(yīng)的方向(在這個示例中,Y方向)移動。
偏振光學(xué)元件64a (第一分離元件)位于焦點(diǎn)f+1和焦點(diǎn)fo之間(參見圖 5B)。例如,如圖7B所示,偏振光學(xué)元件64a由沿Y方向延伸的分界線643 劃分為兩個區(qū)域(641, 642 )。在這個示例中,相對于分界線643在+X側(cè)的區(qū) 域被表明為區(qū)域641,而相對于分界線643在-X側(cè)的區(qū)域被表明為區(qū)域642。 區(qū)域641允許S偏振光穿過,并且反射或者吸收P偏振光。區(qū)域642允許P 偏振光穿過,并且反射或者吸收S偏振光。在其中物鏡60沿尋軌方向移動的 情況下,入射在偏振光學(xué)元件64a上的返回光束向與該尋軌方向相對應(yīng)的方 向移動。
偏振光學(xué)元件64b (第二分離元件)位于焦點(diǎn)fo和焦點(diǎn)f.,之間(參見圖 5C )。例如,如圖7C所示,偏振光學(xué)元件64b由沿Y方向延伸的分界線647 劃分為兩個區(qū)域(645, 646)。在這個示例中,相對于分界線647在+X側(cè)的區(qū) 域被表明為區(qū)域645,而相對于分界線647在-X側(cè)的區(qū)域被表明為區(qū)域646。 區(qū)域645允許P偏振光穿過,并且反射或者吸收S偏振光。區(qū)域646允許S
偏振光穿過,并且反射或者吸收P偏振光。在其中物鏡60沿尋軌方向移動的 情況下,入射在偏振光學(xué)元件64b上的返回光束向與該尋軌方向相對應(yīng)的方 向移動。
1/2波片(第二偏振改變元件)62b位于偏振光學(xué)元件64b和聚光透鏡58 之間(參見圖5D)。例如,如圖6C所示,1/2波片62b由沿Y方向延伸的分 界線627劃分為兩個區(qū)域(625, 626)。在這個示例中,相對于分界線627在 +X側(cè)的區(qū)域被指示為區(qū)域625,而相對于分界線627在-X側(cè)的區(qū)域被指示為 區(qū)域626。區(qū)域625對于入射在該1/2波片62b上的光束提供了 1/2波長的相 差。區(qū)域626允許入射光按照原樣穿過。在其中物鏡60沿尋軌方向移動的情 況下,入射在1/ 2波片62b上的返回光束向與該尋軌方向相對應(yīng)的方向移 動。
例如,扭曲向列液晶、子波長線柵、或者光子晶體可以用作1/2波片62a、
62b。
接下來,參考圖5C、 5D和圖8B描述根據(jù)本發(fā)明修改實(shí)施例的上述光學(xué) 拾取裝置23的操作。這里,相對于透鏡61的光軸方向,在透鏡61和l/2波 片62a之間的光徑稱為"光徑A",在1/2波片62a和焦點(diǎn)f+,之間的光徑稱為 "光徑B",在焦點(diǎn)f+1和偏振光學(xué)元件64a之間的光徑稱為"光徑C",在偏 振光學(xué)元件64a和焦點(diǎn)f。之間的光徑稱為"光徑D",在焦點(diǎn)f。和偏振光學(xué)元 件64b之間的光徑稱為"光徑E",在偏振光學(xué)元件64b和1/2波片62b之間 的光徑稱為"光徑F",以及在1/2波片62b和聚光透鏡58之間的光徑稱為"光 徑G"(參見圖5C和5D)。
從光源單元51發(fā)射的直接偏振光(在這個示例中,為P偏振光)光束由 耦合透鏡52轉(zhuǎn)變成一束基本上平行的光線。然后,該平行光線變?yōu)槿肷湓谄?br> 54,由1/4波片55進(jìn)行圓偏振,并且經(jīng)由物鏡60會聚到光盤15的目標(biāo)記錄 層上的準(zhǔn)直射束點(diǎn)中。從光盤15反射的光束(包括信號光分量和雜光分量) 變?yōu)?相對于照射到光盤15上的圓偏振光線)以相反旋轉(zhuǎn)方向圓偏振,并且 由物鏡60再次轉(zhuǎn)變?yōu)榛旧掀叫械墓饩€。然后,在l/4波片55處,將平行 光線的反射束轉(zhuǎn)變?yōu)榕c所發(fā)射光線的方向垂直相交的線偏振光(在這個示例 中,S偏振光)。然后,該反射束變?yōu)槿肷湓谄窆馐止馄?4上。由偏振 光束分光器54沿-Z方向反射的光束被會聚在透鏡61處。[在其中目標(biāo)記錄層是L0的情況下]
然后,穿過透鏡61的反射束變?yōu)槿肷涞?/2波片62a上。在透鏡61和 1/2波片62a之間的光徑A處,在反射束內(nèi)包括的信號光和雜光兩者都是S 偏振光(參見圖5D)。 1/2波片62允許入射在區(qū)域621上的光束穿過,并且 對于入射在區(qū)域622上的光束提供1/2波長的相差。因此,信號光和雜光二 者在光徑B處的區(qū)域1中都是S偏振光,并且在光徑B處的區(qū)域2中都是P 偏振光。此外,信號光和雜光二者在光徑C處的區(qū)域1中都保持為S偏振光, 而且信號光和雜光二者在光徑C處的區(qū)域1中都保持為P偏振光。
然后,穿過1/2波片62a的反射束變?yōu)槿肷涞狡窆鈱W(xué)元件64a上。因 為入射在區(qū)域641上的信號光和雜光都是S偏振光,所以每種光都穿過區(qū)域 641。因?yàn)槿肷湓趨^(qū)域642上的信號光和雜光都是P偏振光,所以每種光都穿 過區(qū)域642。因此,信號光和雜光二者在光徑D處的區(qū)域1中都保持為S偏 振光,而且信號光和雜光二者在光徑D處的區(qū)域2中都保持為P偏振光。此 外,盡管雜光在光徑E處的區(qū)域1中保持為S偏振光,但是信號光在光徑E 處的區(qū)域1中變?yōu)镻偏振光。此外,盡管雜光在光徑E處的區(qū)域2中保持為 P偏振光,但是信號光在光徑E處的區(qū)域2中變?yōu)镾偏振光。
然后,穿過偏振光學(xué)元件64a的反射束變?yōu)槿肷涞狡窆鈱W(xué)元件64b上。 因?yàn)槿肷湓趨^(qū)域645上的雜光是S偏振光,所以入射的雜光在區(qū)域645處被 反射或者吸收。因?yàn)槿肷湓趨^(qū)域645上的信號光是P偏振光,所以入射的信 號光穿過區(qū)域645。因?yàn)槿肷湓趨^(qū)域646上的信號光是S偏振光,所以入射 的信號光穿過區(qū)域646。因此,入射在光徑F處的區(qū)域1上的反射束僅僅包 括P偏振信號光,而入射在光徑F處的區(qū)域2上的反射束僅僅包括S偏振信 號光。換句話說,提取了包括在反射束中的信號光(信號光分量)和雜光(雜 光分量)。
然后,穿過偏振光學(xué)元件64b的反射束入射到1/2波片62b上。1/2波片 62b對于入射在區(qū)域625上的光束提供1/2波長的相差,并且允許入射在區(qū)域 626上的光束穿過。因此,信號光在光徑G處的區(qū)域1中變?yōu)镾偏振光,而 且信號光在光徑G處的區(qū)域2中保持為S偏振光。
然后,穿過透鏡61的反射束變?yōu)槿肷涞?/2波片62a上。在透鏡61和 1/2波片62a之間的光徑A處,包括在反射束內(nèi)的信號光和雜光都是S偏振
光(參見圖5C)。 1/2波片62a允許入射在區(qū)域621上的光束穿過,并且對于 入射在區(qū)域622上的光束提供1/2波長的相差。因此,信號光和雜光二者在 光徑B處的區(qū)域1中都是S偏振光,并且在光徑B處的區(qū)域2中都是P偏振 光。此外,信號光和雜光二者在光徑C處的區(qū)域1中都保持為S偏振光,而 且信號光和雜光二者在光徑C處的區(qū)域1中都保持為P偏振光。
然后,穿過1/2波片62a的反射束變?yōu)槿肷涞狡窆鈱W(xué)元件64a上。因 為入射在區(qū)域641上的信號光是S偏振光,所以信號光穿過區(qū)域642。另一 方面,因?yàn)槿肷湓趨^(qū)域641上的雜光是P偏振光,所以雜光在區(qū)域641處被 反射或者吸收。因?yàn)槿肷湓趨^(qū)域642上的信號光是P偏振光,所以該信號光 穿過區(qū)域642。另一方面,因?yàn)槿肷湓趨^(qū)域642上的雜光是S偏振光,所以 雜光在區(qū)域642處被反射或者吸收。因此,反射束在光徑D處的區(qū)域1中僅 僅包括S偏振信號光,而且反射束在光徑D處的區(qū)域2中僅僅包括P偏振信 號光。因此,在光徑D處的光束僅僅包括信號光(信號光分量)。也就是說, 可以提取包括在反射束中的信號光和雜光。
信號光在光徑E處的區(qū)域1中變?yōu)镻偏振光。此外,在光徑E處的區(qū)域 2中的信號光變?yōu)镾偏振光。
然后,穿過偏振光學(xué)元件64a的反射束變?yōu)槿肷涞狡窆鈱W(xué)元件64b上。 因?yàn)槿肷湓趨^(qū)域645上的信號光是P偏振光,所以入射的信號光穿過區(qū)域645。 因?yàn)槿肷湓趨^(qū)域646上的信號光是S偏振光,所以入射的信號光穿過區(qū)域646。
然后,穿過偏振光學(xué)元件64b的反射束入射到1/2波片62b上。1/2波片 62b對于入射在區(qū)域625上的光束提供1/2波長的相差,并且允許入射在區(qū)域 626上的光束穿過。因此,信號光在光徑G處的區(qū)域1中變?yōu)镾偏振光,而 且信號光在光徑G處的區(qū)域2中保持為S偏振光。
然后,穿過1/ 2波片62b的反射束經(jīng)由聚光透鏡58由光學(xué)檢測單元PD 接收。在光學(xué)檢測單元PD中的每個光檢測器(或者光檢測區(qū)域)處,對該 反射束執(zhí)行光電轉(zhuǎn)換處理。然后,該光學(xué)檢測單元PD將光電轉(zhuǎn)換后的信號 輸出到再現(xiàn)信號處理電路28。因?yàn)樵诠鈱W(xué)檢測單元PD處僅僅接收了包括在 該反射束中的信號光分量(信號光),所以光學(xué)檢測單元PD可以輸出具有高 S/N比的光電轉(zhuǎn)換信號。
接下來,返回到圖1,根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的再現(xiàn)信號處理電路28基于從 光學(xué)檢測單元PD輸出的信號(光電轉(zhuǎn)換后的信號),而獲得例如伺服信號(例
如包括聚焦誤差信號和軌道誤差信號)、地址信息、同步信號、和RF信號。
因?yàn)閺墓鈱W(xué)檢測單元PD輸出的光電轉(zhuǎn)換后的信號具有高S /N比,所以再現(xiàn) 信號處理電路28可以準(zhǔn)確地獲得伺服信號、地址信息、同步信息(同步信號)、 和RF信號。例如,如圖9A所示,與傳統(tǒng)的示例(圖IOA所示)相比,聚焦 誤差信號的線性部分更長。這允許準(zhǔn)確地檢測出焦距的偏離(位置偏離)量。 圖9A中的縱軸被標(biāo)準(zhǔn)化了。例如,在其中光學(xué)^r測單元PD由沿與尋軌方向
縱軸表示為(Sa-Sb) / (Sa+Sb),其中從相應(yīng)已劃分區(qū)域輸出的信號是Sa、 Sb。此外,如圖9B所示,與傳統(tǒng)示例(圖10B)相比,包括RF信號的總信 號(將光電轉(zhuǎn)換后的信號加在一起的總和)也是穩(wěn)定的,可以準(zhǔn)確地獲得RF 信號。圖9B中的縱軸被標(biāo)準(zhǔn)化了,其中將總信號的最大值設(shè)置為1。圖9A 和9B基于其中中間層ML的厚度大約為9pm、物鏡的NA (數(shù)值孔徑)大約 為0.65、以及激光束的波長大約為660nm的情況下的凝:據(jù)。
例如,將所獲得的伺服信號輸出到驅(qū)動控制電路26,將所獲得的地址信 息輸出到CPU 40,以及將同步信號輸出到編碼器25或者驅(qū)動控制電路26。 此外,再現(xiàn)信號處理電路28對RF信號執(zhí)行解碼處理和誤差檢測處理。在其 中檢測到誤差的情況下,對該RF信號執(zhí)行糾錯處理。然后,經(jīng)由緩存管理 器37將已校正的信號作為再現(xiàn)數(shù)據(jù)存儲在緩存RAM 34中。將包括在再現(xiàn)數(shù) 據(jù)中的地址信號輸出到CPU 40。
驅(qū)動控制電路26基于來自再現(xiàn)信號處理電路28的軌道誤差信號,而生 成尋軌致動器的驅(qū)動信號,以便相對于尋軌方向校正物鏡60的位置偏離。此 外,驅(qū)動控制電路26基于來自再現(xiàn)信號處理電路28的聚焦誤差信號,而生 成聚焦致動器AC的驅(qū)動信號,以便校正物鏡60的焦距偏離。將每個致動器 的驅(qū)動信號輸出到光學(xué)拾取裝置23。由此,執(zhí)行尋軌控制和聚焦控制。此外, 驅(qū)動控制電路26基于來自CPU 40的指令生成用于驅(qū)動尋道馬達(dá)21的驅(qū)動信 號和用于驅(qū)動主軸馬達(dá)22的驅(qū)動信號。將每個馬達(dá)的驅(qū)動信號分別輸出到尋 道馬達(dá)21和主軸馬達(dá)22。
緩存RAM 34暫時存儲要記錄到光盤15中的數(shù)據(jù)(記錄數(shù)據(jù))以及要從 光盤15再現(xiàn)的數(shù)據(jù)(再現(xiàn)數(shù)據(jù))。緩存管理器37管理數(shù)據(jù)到緩存RAM 34的 輸入/輸出。
編碼器25基于來自CPU 40的指令,經(jīng)由緩存管理器37而提取存儲在
緩存RAM 34中的記錄數(shù)據(jù)。編碼器25對提取的記錄數(shù)據(jù)執(zhí)行數(shù)據(jù)調(diào)制和糾 錯碼添加,以由此生成用于將數(shù)據(jù)寫到光盤15上的信號(寫入信號)。將所 生成的寫入信號輸出到激光控制電路24。
激光控制電路24控制半導(dǎo)體激光器LD的照射功率。例如,在將數(shù)據(jù)記 錄到光盤15中時,激光控制電路24基于寫入信號、記錄條件、和半導(dǎo)體激 光器LD的照射特征,而生成用于驅(qū)動半導(dǎo)體激光器LD的驅(qū)動信號。
接口 38起到用于與諸如個人計(jì)算機(jī)之類的上層裝置(或者主機(jī))90執(zhí) 行雙向通信的接口的作用。接口 38符合諸如ATAPI(AT附件分組接口 )、SCSI (小型計(jì)算機(jī)系統(tǒng)接口 )、和USB (通用串行總線)之類的接口標(biāo)準(zhǔn)。
閃速存儲器(ROM) 39例如存儲以CPU 40可讀代碼的形式編寫的各種 程序、記錄條件(例如記錄功率、記錄策略信息)和半導(dǎo)體激光器LD的照 射特征。
CPU 40根據(jù)存儲在閃速存儲器39中的各種程序控制各個部分,并且在 RAM 41和緩存RAM 34中存儲用于該控制的數(shù)據(jù)。
接下來,參考圖11,描述在其中光盤裝置20從上層裝置90接收了存取 請求的情況下、根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光盤裝置20的操作。
圖11中的流程圖示出了包括由CPU 40執(zhí)行的 一 系列步驟的算法。
當(dāng)從上層裝置90接收到記錄命令或者再現(xiàn)命令(以下稱為"請求命令") 時,通過將與圖11所示的流程圖相對應(yīng)的程序的頭部地址設(shè)置到CPU40的 程序計(jì)數(shù)器中,來開始CPU40的操作。
在步驟S401中,CPU40指示驅(qū)動控制電路26以預(yù)定線速度(或者角速 度)旋轉(zhuǎn)光盤15。 CPU40還向再現(xiàn)信號處理電路28報(bào)告從上層裝置90接收 了請求命令。
然后,在步驟S403, CPU 40從請求命令中提取指定的地址,并且基于 所指定的地址而識別目標(biāo)記錄層(是第一記錄層LO還是第二記錄層Ll )。
然后,在步驟S405, CPU 40將有關(guān)所識別的目標(biāo)記錄層的信息報(bào)告給 例如驅(qū)動控制電路26。
然后,在步驟S409, CPU40指示驅(qū)動控制電路26在與指定地址相對應(yīng) 的目標(biāo)位置附近形成射束點(diǎn)。借此,執(zhí)行了尋道操作。如果不需要執(zhí)行尋道 操作,則可以跳過步驟S409中的處理。
然后,在步驟S411, CPU 40允許根據(jù)該請求命令記錄數(shù)據(jù)或者再現(xiàn)數(shù) 據(jù)。
然后,在步驟S413, CPU 40確定記錄處理或者再現(xiàn)處理是否完成了。 如果記錄處理或者再現(xiàn)處理沒有完成,則CPU 40將記錄處理或者再現(xiàn)處理的 完成確定為否定的,并且在過去預(yù)定時間之后重新嘗試該確定過程。如果記 錄處理或者再現(xiàn)處理完成了 ,則CPU40將記錄處理或者再現(xiàn)處理的完成確定 為肯定的,以由此結(jié)束該操作。
在根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光盤裝置20中,再現(xiàn)信號處理電路28、 CPU 40、
可以使用其它附加硬件,而部分地或者完全地執(zhí)行由CPU40執(zhí)行的處理(步驟)。
利用根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的上述光學(xué)拾取裝置23,從光源單元51發(fā)射的 這束線偏振光線(在這個示例中,P偏振光)經(jīng)由耦合透鏡52、偏振光束分 光器54、 1/4波片55、和物鏡60而會聚,以在光盤15的目標(biāo)記錄層上形成 準(zhǔn)直射束點(diǎn)。從光盤15反射的反射束(包括信號光和雜光)轉(zhuǎn)變?yōu)榕c從光源 單元51發(fā)射的光線的方向垂直相交的線偏振光(在這個示例中,S偏振光), 并且入射在偏振光束分光器54上。在偏振光束分光器54中沿-Z方向反射的 光束變?yōu)橥哥R61 (聚光光學(xué)元件)處的會聚光,并且入射在1/4波片62 (第 一偏振改變元件)上。1/4波片62對于入射在區(qū)域62a上的光束提供了+1/4 波長的相差,并且對于入射在區(qū)域62b上的光束提供了-1/4波長的相差。穿 過1/4波片62的反射束入射到1/4波片63 (第二偏振改變元件)上。1/4波 片63對于入射在區(qū)域63a上的光束提供了+l/4波長的相差,并且對于入射在 區(qū)域63b上的光束提供了-l/4波長的相差。因此,穿過1/4波片63的信號光 變?yōu)镾偏振光,而且穿過l/4波片63的雜光變?yōu)镻偏振光。穿過l/4波片63 的反射束入射到偏振光學(xué)元件64 (提取元件)上。該偏振光學(xué)元件64僅僅 允許反射束中的信號光穿過。換句話說,偏振光學(xué)元件64從反射束中提取信 號光。穿過偏振光學(xué)元件64的反射束經(jīng)由聚光透鏡58由光學(xué)檢測單元PD 接收。因?yàn)橛晒鈱W(xué)檢測單元PD接收的反射束僅僅包括信號光(信號光分量), 所以可以輸出具有高S/N比的光電轉(zhuǎn)換后的信號。因此,可以準(zhǔn)確地獲得來 自具有多個記錄層的光盤15的預(yù)定信號。
此外,因?yàn)?/4波片62和1/4波片63的分界線與對應(yīng)于尋軌方向的方向 相匹配,所以即使在其中物鏡60向?qū)ぼ壏较蛞莆坏那闆r下,也可以精確地分
離出信號光和雜光。
此外,因?yàn)閺墓鈱W(xué)拾取裝置23輸出了具有高S/N比的光電轉(zhuǎn)換后的信號,
所以可以精確和穩(wěn)定地執(zhí)行對具有多個記錄層的光盤的存取。因此,可以從 具有多個記錄層的光盤中精確地再現(xiàn)信息。
在一個示例中,如圖12所示,1/4波片62和1/4波片63還可以經(jīng)由折 射率大于1的透明部件TB而形成為聯(lián)合體。這允許分界線62d和分界線63d 在制造過程期間容易地彼此面對定位。因此,可以容易地定義每個偏振光學(xué) 部件的位置。換句話說,可以簡化裝配處理和位置調(diào)整處理。在這種情況下, 因?yàn)槠窆鈱W(xué)部件要安裝在透明部件TB上,所以優(yōu)選使用子波長線柵或者 光子晶體,這是因?yàn)樽硬ㄩL線柵和光子晶體可以相對容易地形成。
在根據(jù)本發(fā)明修改實(shí)施例的另一個示例中,如圖13B所示,除了經(jīng)由折 射率大于1的透明部件TB將偏振光學(xué)元件形成為聯(lián)合體之外,還可以分別 在焦點(diǎn)f+,和偏振光學(xué)元件64a之間以及在偏振光學(xué)元件64b和焦點(diǎn)之間提 供透明部件TB。由于與本發(fā)明的上述實(shí)施例相比,在焦點(diǎn)fw和焦點(diǎn)fo之間 的距離和在焦點(diǎn)fo和焦點(diǎn)f.,之間的距離中的每個都變得更大,所以這擴(kuò)大了 入射到每個偏振光學(xué)元件上的反射束的光束直徑。因此,即使在其中光盤15 的中間層ML薄的情況下,也可以增加l/4波片62、 63的分界線的匹配方面 的容許誤差。換句話說,可以簡化裝配處理和位置調(diào)整處理。圖14示出了在 其中透明部件TB的折射率為1.46的示范情況下、在中間層ML的厚度和光 束直徑之間的關(guān)系。
在另一個示例中,如圖15A所示,1/4波片62、 1/4波片63、和偏振光 學(xué)元件64可以形成為4關(guān)合體。在這種情況下,通過例如在1/4波片62和1/4 波片63以及偏振光學(xué)元件64之間、以及在焦點(diǎn)f+1和1/4波片62之間提供折 射率大于1的透明部件TB,將1/4波片62、 1/4波片63、和偏振光學(xué)元件64 形成為聯(lián)合體。由此,可以簡化裝配處理和位置調(diào)整處理。
在另一個示例中,1/4波片62、 63、和偏振光學(xué)元件64中的每個都可以 形成為棱鏡。如圖16A所示,這些棱鏡可以形成為聯(lián)合體。在這種情況下, 1/4波片62、 63、和偏振光學(xué)元件64可以通過使用例如多層介電薄膜而形成 為棱鏡。
在另一示例中,如圖17A所示,1/4波片62、 63可以是傾斜的。這向穿 過l/4波片62、 63的反射束提供了散光(astigmatism )。因此,在其中采用散
光方法執(zhí)行聚焦誤差檢測的情況下,將不需要用于提供散光的透鏡(例如, 柱面透鏡)。也就是說,可以減少組件的數(shù)目。
在另一個示例中,如圖18A所示,除了讓1/4波片62、 63傾斜之外,這 些1/4波片還可以經(jīng)由透明部件TB形成為聯(lián)合體。
如圖19所示,偏振分離光學(xué)元件66 (分離光學(xué)元件)可以布置在透鏡 61和1/4波片62之間,以便從光源單元51發(fā)射的光束由偏振分離光學(xué)元件 66反射,由透鏡61變?yōu)榛酒叫械墓饩€,并且入射在l/4波片55上。因此, 將不需要耦合透鏡52和偏振光束分光器54。因此,可以實(shí)現(xiàn)光學(xué)拾取裝置 的尺寸減少和成本降低。
利用根據(jù)本發(fā)明修改實(shí)施例的上述光學(xué)拾取裝置23,從光源單元51發(fā) 射的線偏振光線束(在這個示例中,P偏振光)經(jīng)由耦合透鏡52、偏振光束 分光器54、 1/4波片55、和物鏡60會聚,以在光盤15的目標(biāo)記錄層上形成 準(zhǔn)直射束點(diǎn)。從光盤15反射的反射束(包括信號光和雜光)轉(zhuǎn)變?yōu)榕c從光源 單元51發(fā)射的光線的方向垂直相交的線偏振光(在這個示例中,S偏振光), 并且入射在偏振光束分光器54上。在偏振光束分光器52中沿-Z方向反射的 光束變?yōu)橥哥R61 (聚光光學(xué)元件)處的會聚光,并且入射在1/2波片62a (第 一偏振改變元件)上。1/2波片62a允許入射在區(qū)域621上的光束穿過,并且 對于入射在區(qū)域622上的光束提供1/2波長的相差。穿過1/2波片62a的反射 束入射到偏振光學(xué)元件64a (第一分離光學(xué)元件)上。偏振光學(xué)元件64a允許 S偏振光穿過區(qū)域641以及P偏振光穿過區(qū)域642。穿過偏振光學(xué)元件64a的 反射束入射在偏振光學(xué)元件64b (第二分離光學(xué)元件)上。偏振光學(xué)元件64b 允許P偏振光穿過區(qū)域645以及S偏振光穿過區(qū)域646。穿過偏振光學(xué)元件 64b的光束入射到1/2波片62b (第二偏^振改變元件)上。1/2波片62b對于 入射在區(qū)域625上的光束提供1/2波長的相差,并且允許入射在區(qū)域626上 的光束穿過。因此,穿過1/2波片62b的反射束僅僅包括信號光。換句話說, 可以提取包括在反射束中的信號光和雜光。穿過1/2波片62b的反射束經(jīng)由 聚光透鏡58由光學(xué)檢測單元PD接收。因?yàn)橛晒鈱W(xué)檢測單元PD接收的反射 束僅僅包括信號光(信號光分量),所以可以輸出具有高S/N比的光電轉(zhuǎn)換后 的信號。因此,可以準(zhǔn)確地獲得來自具有多個記錄層的光盤15的預(yù)定信號。
向的方向相匹配,所以即使在其中物鏡60向?qū)ぼ壏较蛞莆坏那闆r下,也可以
精確地分離出信號光和雜光。
此外,因?yàn)閺墓鈱W(xué)拾取裝置23輸出了具有高S/N比的光電轉(zhuǎn)換后的信號 和RF信號,所以可以精確和穩(wěn)定地執(zhí)行對具有多個記錄層的光盤的存取。
根據(jù)本發(fā)明的上述實(shí)施例,偏振光學(xué)元件64b被描述為允許P偏振光穿 過區(qū)域645并且在區(qū)域645處反射或者吸收S偏振光,同時允許S偏振光穿 過區(qū)域646并且在區(qū)域646處反射或者吸收P偏振光,偏振光學(xué)元件64b還 可以允許S偏振光穿過區(qū)域645并且在區(qū)域645處反射或者吸收P偏振光, 同時允許P偏振光穿過區(qū)域646并且在區(qū)域646處反射或者吸收S偏振光。 在這種情況下,由光學(xué)檢測單元PD接收的光束是P偏振光。
在根據(jù)本發(fā)明修改實(shí)施例的另一個示例中,每個1/2波片和每個偏振光 學(xué)元件在區(qū)域1和2處的特征可以相對于本發(fā)明的上述修改實(shí)施例是相反的。 也就是說,通過改變信號光和雜光的偏振態(tài)中的至少一個以使得信號光的偏 振態(tài)和雜光的偏振態(tài)彼此不同,來提取信號光和雜光。
在根據(jù)本發(fā)明修改實(shí)施例的另一個示例中,如圖12B所示,偏振光學(xué)元 件64a和偏振光學(xué)元件64b還可以經(jīng)由折射率大于1的透明部件TB形成為 聯(lián)合體。這允許分界線643和分界線647在制造過程期間容易地彼此面對定 位。因此,可以容易地定義1/4波片62和1/4波片63的位置。換句話說,可 以簡化裝配處理和位置調(diào)整處理。在這種情況下,因?yàn)?/波片62和1/4波片 63要安裝在透明部件TB上,所以優(yōu)選使用子波長線柵或者光子晶體,這是 因?yàn)樽硬ㄩL線柵和光子晶體可以相對容易地形成。
在另一個示例中,如圖13A所示,除了經(jīng)由折射率大于1的透明部件 TB將1/4波片62和1/4波片63形成為聯(lián)合體之外,還分別在焦點(diǎn)f+1和1/4 波片62之間以及在1/4波片63和焦點(diǎn)t之間提供透明部件TB。由于與本發(fā) 明的上述修改實(shí)施例相比,在焦點(diǎn)f+1和焦點(diǎn)fo之間的距離和在焦點(diǎn)fQ和焦點(diǎn) fd之間的距離中的每個都變得更大,所以這擴(kuò)大了入射到1/4波片62、 63上 的反射束的光束直徑。
因此,即使在其中光盤15的中間層ML薄的情況下,也可以增加在每個 偏振光學(xué)元件的分界線的匹配方面的容許誤差。換句話說,可以筒化裝配處 理和位置調(diào)整處理。圖14示出了在其中透明部件TB的折射率為1.46的示范 情況下、在光束直徑和中間層ML的厚度之間的關(guān)系。
在根據(jù)本發(fā)明修改實(shí)施例的另一示例中,如圖15B所示,相應(yīng)的l/2波
片和相應(yīng)的偏振光學(xué)元件可以形成為聯(lián)合體。由此,可以簡化裝配處理和位 置調(diào)整處理。
在根據(jù)本發(fā)明修改實(shí)施例的另一示例中,相應(yīng)的1/2波片和相應(yīng)的偏振
光學(xué)元件可以形成為棱鏡。如圖16B所示,這些棱鏡可以形成為聯(lián)合體。由 此,可以簡化裝配處理和位置調(diào)整處理。在這種情況下,相應(yīng)的1/2波片和 相應(yīng)的偏振光學(xué)元件可以通過使用例如多層介電薄膜而形成為棱鏡。
在根據(jù)本發(fā)明修改實(shí)施例的另一示例中,如圖17B所示,偏振光學(xué)元件 可以傾斜。這向穿過偏振光學(xué)元件的反射束提供了散光。因此,在其中采用 散光方法執(zhí)行聚焦誤差檢測的情況下,將不需要用于提供散光的透鏡(例如, 柱面透鏡)。也就是說,可以減少組件的數(shù)目。
在根據(jù)本發(fā)明修改實(shí)施例的另一示例中,如圖18B所示,偏振光學(xué)元件 也可以經(jīng)由透明部件TB形成為聯(lián)合體。由此,可以簡化裝配處理和位置調(diào) 整處理。
在根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的另一示例中,可以這樣定位光學(xué)系統(tǒng)70中的1/4 波片63,以使得光軸旋轉(zhuǎn)180度。也就是說,區(qū)域63a可以是相對于分界線
這種情況下,穿過1/4波片63的信號光變?yōu)镻偏振光,而且穿過1/4波片63 的雜光變?yōu)镾偏振光。因此,有必要改變透射軸90度,以使P偏振光分量穿 過偏振光學(xué)元件64。
接下來,參考圖20描述光學(xué)系統(tǒng)70的操作。 由偏振光束分光器54沿-Z方向反射的光束被會聚在透鏡61處。 然后,穿過透鏡61的反射束變?yōu)槿肷涞?/4波片62上。在透鏡61和1/4 波片62之間的光徑A、 B處,包括在反射束內(nèi)的信號光和雜光兩者都是S偏 振光(參見圖5A和5B)。l/4波片62對于入射在區(qū)域62a上的光束提供了+l/4 波長的相差,并且對于入射在區(qū)域62b上的光束提供了-1/4波長的相差(參 見圖6A)。因此,信號光和雜光二者在光徑C處的區(qū)域1中都是沿順時針方 向的圓偏振光,并且二者在光徑C處的區(qū)域2中都是沿順時針方向的圓偏振 光。此外,在光徑D處的區(qū)域1中,盡管雜光保持為沿順時針方向的圓偏振 光,但是信號光變?yōu)檠啬鏁r針方向的圓偏振光。此外,在光徑D處的區(qū)域2 中,盡管雜光保持為沿逆時針方向的圓偏振光,但是信號光變?yōu)檠仨槙r針方
向的圓偏^展光。
然后,穿過1 /波片62的反射束變?yōu)槿肷涞?/4波片63上。1/4波片63 對于入射在區(qū)域63a上的光束提供了+l/4波長的相差,并且對于入射在區(qū)域 63b上的光束提供了-1/4波長的相差(參見圖7A)。在1/4波片63和偏振光 學(xué)元件64之間的光徑(光徑E和F)中,信號光是S偏振光而雜光是P偏振光。
然后,穿過l/4波片63的反射束變?yōu)槿肷涞狡窆鈱W(xué)元件64上。偏振 光學(xué)元件64僅僅允許在來自1/4波片63的光束內(nèi)包括的S偏振分量穿過。 因此,在光徑G處的光束僅僅包括信號光分量。換句話說,提取了包括在反 射束中的信號光分量。因此,可以獲得本發(fā)明上述實(shí)施例的效果。
作為選l奪,光學(xué)系統(tǒng)70中的1/4波片62可以由1/2波片(以下稱為"1/2 波片172")替代,而且1/4波片63可以由另一個1/2波片(以下稱為"1/2 波片173")替代。
例如,如圖21所示,1/2波片172由沿Y方向延伸的分界線172d劃分 為兩個區(qū)域(172a, 172b)。在這個示例中,相對于分界線172d在+X側(cè)的區(qū) 域被指示為區(qū)域172a,而相對于分界線172d在-X側(cè)的區(qū)域被指示為區(qū)域 172b。區(qū)域172a對于入射在該1/2波片172上的光束提供了 1/2波長的相差。 區(qū)域172b允許入射在1/2波片172上的光束穿過。在其中物鏡60沿尋軌方 向移位的情況下,入射在1/2波片172上的返回光束向與尋^L方向相對應(yīng)的 方向(在這個示例中,Y方向)移位。
例如,如圖22所示,1/2波片173由沿Y方向延伸的分界線173d劃分 為兩個區(qū)域(173a, 173b)。在這個示例中,相對于分界線173d在+X側(cè)的區(qū) 域被指示為區(qū)域173a,而相對于分界線173d在-X側(cè)的區(qū)域被指示為區(qū)域 173b。區(qū)域173a允許入射在1/2波片173上的光束穿過。區(qū)域173b對于入 射在該1/2波片173上的光束提供了 1/2波長的相差。也就是說,1/2波片173 中的區(qū)域173a與1/2波片172中的區(qū)域172b具有相同的光學(xué)特征,而且1/2 波片173中的區(qū)域173b與1/2波片172中的區(qū)域172a具有相同的光學(xué)特征。 在其中物鏡60沿尋軌方向移位的情況下,入射在1/2波片173上的返回光束 向與尋軌方向相對應(yīng)的方向(在這個示例中,Y方向)移位。
圖23示出了這個示例中的光學(xué)系統(tǒng)70的結(jié)果。 由偏振光束分光器54沿-Z方向反射的光束被會聚在透鏡61處。
然后,穿過透鏡61的反射束變?yōu)槿肷涞?/2波片172上。如圖23所示, 在透鏡61和1/2波片172之間的光徑A、 B處,包括在反射束內(nèi)的信號光和 雜光兩者都是S偏振光。1/2波片172僅僅對于入射在區(qū)域172a上的光束提 供了 1/2波長的相差。因此,信號光和雜光二者在光徑C處的區(qū)域1中都是P 偏振光,并且在光徑C處的區(qū)域2中都是S偏振光。此外,在光徑D處的區(qū) 域1中,盡管雜光保持為P偏振光,但是信號光變?yōu)镾偏振光。此外,在光 徑D處的區(qū)域2中,盡管雜光保持為S偏振光,但是信號光變?yōu)镻偏振光。
然后,穿過l/2波片172的反射束變?yōu)槿肷涞?/2波片173上。1/2波片 173僅僅對于入射在區(qū)域173b上的光束提供了 1/2波長的相差。因此,在1/2 波片173和偏振光學(xué)元件64之間的光徑(光徑E和F )中,信號光變?yōu)镾偏 #展光,而且雜光變?yōu)镻偏振光。
然后,穿過l/2波片173的反射束變?yōu)槿肷涞狡窆鈱W(xué)元件64上。偏振 光學(xué)元件64僅僅允許在來自1/2波片173的光束內(nèi)包括的S偏振分量穿過。 因此,在光徑G處的光束僅僅包括信號光分量。換句話說,提取了包括在反 射束中的信號光分量。因此,可以獲得本發(fā)明上述實(shí)施例的效果。
在根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的另一示例中,可以這樣定位l/2波片173,以使得 光軸旋轉(zhuǎn)180度。也就是說,區(qū)域173a可以是相對于分界線173d在-X側(cè)的 區(qū)域,而區(qū)域173b可以是相對于分界線173d在+X側(cè)的區(qū)域。在這種情況下, 穿過l/2波片173的信號光變?yōu)镻偏振光,而且穿過1/2波片173的雜光變?yōu)?S偏振光。因此,有必要改變透射軸90度,以使P偏振光分量穿過偏振光學(xué) 元件64。
圖24示出了這個示例中的光學(xué)系統(tǒng)70的結(jié)果。 由偏振光束分光器54沿-Z方向反射的光束被會聚在透鏡61處。 然后,穿過透鏡61的反射束變?yōu)槿肷涞?/2波片172上。如圖24所示, 在透鏡61和1/2波片172之間的光徑A、 B處,包括在反射束內(nèi)的信號光和 雜光都是S偏振光。1/2波片172僅僅對于入射在區(qū)域172a上的光束提供了 +1/2波長的相差。因此,信號光和雜光二者在光徑C處的區(qū)域1中都是P偏 振光,并且在光徑C處的區(qū)域2中都是S偏振光。此外,在光徑D處的區(qū)域 1中,盡管雜光保持為P偏振光,但是信號光變?yōu)镾偏振光。此外,在光徑D 處的區(qū)域2中,盡管雜光保持為S偏振光,但是信號光變?yōu)镻偏振光。
然后,穿過l/2波片172的反射束變?yōu)槿肷涞?/2波片173上。1/2波片 173僅僅對于入射在區(qū)域173a上的光束提供了 1/2波長的相差。因此,在1/2 波片173和偏振光學(xué)元件64之間的光徑(光徑E和F )中,信號光變?yōu)镻偏 振光,而且雜光變?yōu)镾偏振光。
在其中子波長線柵或者光子晶體用作1/2波片的情況下,可以更容易地 制造l/2波片,其中越容易制造,有效區(qū)域變得越窄。因此,1/2波片172、 173可以例如具有其直徑基本上等于信號光的有效光束直徑的有效區(qū)域,并 且具有作為在該有效區(qū)域周圍的外部區(qū)域而形成的透明部件。在這種情況下, 盡管偏離有效區(qū)域的雜光可以按照原樣穿過1/2波片172、 173,但是雜光在 1/2波片173和偏振光學(xué)元件64之間的光徑(光徑E和F )中是S偏振光(即, 與穿過有效區(qū)域的S偏振光的雜光相同)。
然后,穿過l/2波片173的反射束變?yōu)槿肷涞狡窆鈱W(xué)元件64上。偏振 光學(xué)元件64僅僅允許在來自1/2波片173的光束內(nèi)包括的P偏振分量穿過。 因此,在光徑G處的光束僅僅包括信號光分量。換句話說,提取了包括在反 射束中的信號光分量。因此,可以獲得本發(fā)明上述實(shí)施例的效果。
作為選擇,光學(xué)系統(tǒng)70中的1/4波片62可以由旋轉(zhuǎn)器(以下稱為"旋 轉(zhuǎn)器182")所替代,而且1/4波片63可以由另一個旋轉(zhuǎn)器(以下稱為"旋轉(zhuǎn) 器183")所替代。
例如,如圖25所示,旋轉(zhuǎn)器182由沿Y方向延伸的分界線182d劃分為 兩個區(qū)域(182a, 182b)。在這個示例中,相對于分界線182d在+X側(cè)的區(qū)域 被指示為區(qū)域182a,而相對于分界線182d在-X側(cè)的區(qū)域被指示為區(qū)域182b。 區(qū)域182a將入射光束的偏振方向旋轉(zhuǎn)+45度角度,而區(qū)域182b將入射光束 的偏振方向旋轉(zhuǎn)-45度角度。在其中物鏡60沿尋軌方向移位的情況下,入射 在旋轉(zhuǎn)器182上的返回光束向與尋軌方向相對應(yīng)的方向(在這個示例中,Y 方向)移位。
例如,如圖26所示,旋轉(zhuǎn)器183由沿Y方向延伸的分界線183d劃分為 兩個區(qū)域(183a, 183b)。在這個示例中,相對于分界線183d在+X側(cè)的區(qū)域 被指示為區(qū)域183a,而相對于分界線183d在-X側(cè)的區(qū)域被指示為區(qū)域183b。 區(qū)域183a將入射光束的偏振方向旋轉(zhuǎn)+45度角度,而區(qū)域183b將入射光束的偏振方向旋轉(zhuǎn)-45度角度。也就是說,旋轉(zhuǎn)器183具有與旋轉(zhuǎn)器182相同的 光學(xué)特征。在其中物鏡60沿尋軌方向移位的情況下,入射在旋轉(zhuǎn)器183上的 返回光束向與尋軌方向相對應(yīng)的方向(在這個示例中,Y方向)移位。
圖27示出了這個示例中的光學(xué)系統(tǒng)70的結(jié)果。這里,為了方便起見, 基于S偏振光的偏振方向描述偏振方向的角度。因此,在其中線偏振光具有 +90度或者-90度偏振方向的情況下,該線偏振光是P偏振光。
由偏振光束分光器54沿-Z方向反射的光束被會聚在透鏡61處。 然后,穿過透鏡61的反射束變?yōu)槿肷涞叫D(zhuǎn)器182上。如圖27所示, 在透鏡61和旋轉(zhuǎn)器182之間的光徑A、 B處,包括在反射束內(nèi)的信號光和雜 光兩者都是S偏振光。旋轉(zhuǎn)器182對于入射在區(qū)域182a上的光束旋轉(zhuǎn)偏振方 向+45度角度,并且對于入射到區(qū)域182b上的光束旋轉(zhuǎn)偏振方向-45度角度。 因此,信號光和雜光二者在光徑C處的區(qū)域1中都是偏振角為+45度的線偏 振光,而且在光徑C處的區(qū)域2中都是偏振角為-45度的線偏振光。此外, 在光徑D處的區(qū)域1中,盡管雜光保持為偏振角為+45度的線偏振光,但是 信號光變?yōu)槠窠菫?45度的線偏振光。此外,在光徑D處的區(qū)域2中,盡 管雜光保持為偏振角為-45度的線偏振光,但是信號光變?yōu)槠窠菫?45度的 線偏振光。
然后,穿過旋轉(zhuǎn)器182的反射束變?yōu)槿肷涞叫D(zhuǎn)器183上。旋轉(zhuǎn)器183 對于入射在區(qū)域183a上的光束旋轉(zhuǎn)偏振方向+45度角度,并且對于入射到區(qū) 域183b上的光束旋轉(zhuǎn)偏振方向-45度角度。因此,在旋轉(zhuǎn)器183和偏振光學(xué) 元件64之間的光徑(光徑E和F )中,信號光變?yōu)槠窠菫?度的線偏振光 (即,S偏振光),而雜光變?yōu)槠窠菫?90度或者-90度的線偏振光(即,P 偏振光)。
然后,穿過旋轉(zhuǎn)器183的反射束變?yōu)槿肷涞狡窆鈱W(xué)元件64上。偏振光 學(xué)元件64僅僅允許在來自旋轉(zhuǎn)器183的光束內(nèi)包括的S偏振分量穿過。因此, 在光徑G處的光束僅僅包括信號光分量。換句話說,提取了包括在反射束中 的信號光分量。因此,可以獲得本發(fā)明上述實(shí)施例的效果。
在根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的另一示例中,可以這樣定位旋轉(zhuǎn)器183以使得光 軸旋轉(zhuǎn)180度。也就是說,區(qū)域183a可以是相對于分界線183d在-X側(cè)的區(qū) 域,而區(qū)域183b可以是相對于分界線183d在+X側(cè)的區(qū)域。在這種情況下,
穿過旋轉(zhuǎn)器183的信號光變?yōu)镻偏振光,而穿過旋轉(zhuǎn)器183的雜光變?yōu)镾偏 振光。因此,有必要改變透射軸90度,以使P偏振光分量穿過偏振光學(xué)元件 64。
圖28示出了這個示例中的光學(xué)系統(tǒng)70的結(jié)果。 由偏振光束分光器54沿-Z方向反射的光束被會聚在透鏡61處。 然后,穿過透鏡61的反射束變?yōu)槿肷涞叫D(zhuǎn)器182上。如圖28所示, 包括在反射束內(nèi)的信號光和雜光二者在透鏡61和旋轉(zhuǎn)器182之間的光徑A、 B處都是S偏振光(即,偏振角為90度的線偏振光)。旋轉(zhuǎn)器182對于入射 在區(qū)域182a上的光束旋轉(zhuǎn)偏振方向+45度角度,并且對于入射到區(qū)域182b 上的光束旋轉(zhuǎn)偏振方向-45度角度。因此,信號光和雜光二者在光徑C處的 區(qū)域1中都是偏振角為+45度的線偏振光,而且在光徑C處的區(qū)域2中都是 偏振角為-45度的線偏振光。此外,在光徑D處的區(qū)域1中,盡管雜光保持 為偏振角為+45度的線偏振光,但是信號光變?yōu)槠窠菫?45度的線偏振光。 此外,在光徑D處的區(qū)域2中,盡管雜光保持為偏振角為-45度的線偏振光, 但是信號光變?yōu)槠窠菫?45度的線偏振光。
然后,穿過旋轉(zhuǎn)器182的反射束變?yōu)槿肷涞叫D(zhuǎn)器183上。旋轉(zhuǎn)器183 對于入射在區(qū)域183a上的光束旋轉(zhuǎn)偏振方向-45度角度,并且對于入射到區(qū) 域183b上的光束旋轉(zhuǎn)偏振方向+45度角度。因此,在旋轉(zhuǎn)器183和偏振光學(xué) 元件64之間的光徑(光徑E和F)中,信號光變?yōu)槠窠菫?90度或者-卯 度的線偏振光(即,P偏振光),而雜光變?yōu)槠窠菫镺度的線偏振光(即, S偏振光)。
在其中子波長線柵或者光子晶體用作旋轉(zhuǎn)器的情況下,可以更容易地制 造旋轉(zhuǎn)器,其中越容易制造,有效區(qū)域變得越窄。因此,旋轉(zhuǎn)器182、 183可 以例如具有其直徑基本上等于信號光的有效光束直徑的有效區(qū)域,并且具有 作為在該有效區(qū)域周圍的外部區(qū)域而形成的透明部件。在這種情況下,盡管 偏離有效區(qū)域的雜光可以按照原樣穿過1/2波片182、 183,但是雜光在旋轉(zhuǎn) 器183和偏振光學(xué)元件64之間的光徑(光徑E和F )中是S偏振光(即,與 穿過有效區(qū)域的S偏振光的雜光相同)。
然后,穿過旋轉(zhuǎn)器183的反射束變?yōu)槿肷涞狡窆鈱W(xué)元件64上。偏振光 學(xué)元件64僅僅允許在來自旋轉(zhuǎn)器183的光束內(nèi)包括的P偏振分量穿過。因此, 在光徑G處的光束僅僅包括信號光分量。換句話說,提取了包括在反射束中
的信號光分量。因此,可以獲得本發(fā)明上述實(shí)施例的效果。
圖29示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光學(xué)拾取裝置23的另一個示例。在圖 29所示的光學(xué)拾取裝置23中,聚光透鏡(檢測透鏡)58和光學(xué)檢測單元PD 布置在偏振光學(xué)元件64的+Z側(cè),而且通過采用1/2波片67和反射鏡65來代 替上述l/4波片62、 63和偏振光學(xué)元件64。在這種情況下,光學(xué)系統(tǒng)70包 括偏振光束分光器54、透鏡61、 1/2波片67、和反射鏡65。
1/2波片67位于透鏡61的-Z側(cè)并且位于焦點(diǎn)f+1和焦點(diǎn)fo之間。例如,
67b )。在這個示例中,相對于分界線67d在+X側(cè)的區(qū)域被指示為區(qū)域67a, 而相對于分界線67d在-X側(cè)的區(qū)域被指示為區(qū)域67b。區(qū)域67a對于入射在 該1/2波片67上的光束提供了+1/2波長的相差。區(qū)域67b對于入射在該1/2 波片67上的光束沒有提供相差。在其中物鏡60沿尋軌方向移位的情況下,
Y方向)移位。
例如,扭曲向列液晶、子波長線柵、或者光子晶體可以用作1/2波片67。
參見圖31,反射鏡65位于焦點(diǎn)fo處。反射鏡65將來自1/2波片67中 的區(qū)域67a的光束反射到1/2波片67中的區(qū)域67b,并且將來自1/2波片67 中的區(qū)域67b的光束反射到1/2波片67中的區(qū)域67a。
接下來,參考圖31和32描述根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的上述光學(xué)系統(tǒng)的操作。 這里,對于透鏡61的光軸方向,從偏振光束分光器54前進(jìn)到焦點(diǎn)fn的光徑 稱為"光徑A',,從焦點(diǎn)f+,前進(jìn)到1/2波片67的光徑稱為"光徑B",從l / 波片67前進(jìn)到焦點(diǎn)fo的光徑稱為"光徑C",從焦點(diǎn)fo前進(jìn)到1/4波片67的 光徑稱為"光徑D",從l/2波片67前進(jìn)到焦點(diǎn)f+,的光徑稱為"光徑E",從 焦點(diǎn)fn前進(jìn)到偏振光束分光器54的光徑稱為"光徑F",以及從偏振光束分 光器54前進(jìn)到聚光透鏡58的光徑稱為"光徑G"(參見圖31和32 )。
由偏振光束分光器54沿-Z方向反射的光束被會聚在透鏡61處。然后, 穿過透鏡61的反射束變?yōu)槿肷涞?/2波片67上。如圖32所示,在光徑A、 B處,包括在反射束中的信號光和雜光二者都是S偏振光。1/2波片67對于 入射在區(qū)域67a上的光束提供+1/2波長的相差,并且對于入射在區(qū)域67b上 的光束不提供相差。因此,信號光和雜光二者在光徑C處的區(qū)域1中都是P 偏振光,并且在光徑C處的區(qū)域2中都是S偏振光。然后,來自1/2波片67的光束變?yōu)槿肷涞?/2波片67上。反射鏡65將 來自1/2波片67中的區(qū)域67a的光束反射到1/2波片67中的區(qū)域67b,并且 將來自1/2波片67中的區(qū)域67b的光束反射到1/2波片67中的區(qū)域67a。因 此,在光徑D處的區(qū)域1中,盡管雜光保持為P偏振光,但是信號光變?yōu)镾 偏振光。此外,在光徑D處的區(qū)域2中,盡管雜光保持為S偏振光,但是信 號光變?yōu)镻偏振光。
然后,從反射鏡65反射的光束變?yōu)槿肷湓?/2波片67上。1/2波片67 對于入射在區(qū)域67a上的光束提供+1/2波長的相差,并且對于入射在區(qū)域67b 上的光束不提供相差。因此,在光徑E和F中,信號光變?yōu)镻偏振光,而且 雜光變?yōu)镾偏振光。
然后,來自1/2波片63的光束變?yōu)榻?jīng)由透鏡61入射在偏振光束分光器 54上。該偏振光束分光器54僅僅允許P偏振分量穿過并且入射在聚光透鏡 58上。因此,在光徑G處的光束僅僅包括信號光分量。因此,可以獲得本發(fā) 明上述實(shí)施例的效果。因此,可以減少光學(xué)拾取裝置的組件數(shù)目以及尺寸。
作為選擇,如圖33所示,耦合透鏡52可以布置在偏振光束分光器54 的+X處。在這種情況下,相對于反射束,耦合透鏡52提供了與透鏡61相同 的功能。也就是說,在這種情況下的光學(xué)系統(tǒng)70包括偏振光束分光器54、 耦合透鏡52、 1/2波片67、和反射鏡65。如圖34和35所示,在這種情況下 的光學(xué)系統(tǒng)70可以獲得與圖29所示的光學(xué)系統(tǒng)70相同的效果。因此,可以 進(jìn)一步減少光學(xué)拾取裝置的組件數(shù)目以及尺寸。
此外,因?yàn)閘/2波片67的分界線與對應(yīng)于尋軌方向的方向相匹配,所以 即使在其中物鏡60向?qū)ぼ壏较蛞莆坏那闆r下也可以精確地分離出信號光和 雜光。
在圖29和/或33所示的光學(xué)系統(tǒng)70中,1/2波片67和反射鏡65可以作 為選擇形成為聯(lián)合體。在這種情況下,1/2波片67和反射鏡65可以經(jīng)由折射 率大于1的透明部件TB而形成為聯(lián)合體。由此,可以簡化裝配處理和位置 調(diào)整處理。
此外,在圖29和/或33所示的光學(xué)系統(tǒng)70中,可以在焦點(diǎn)f+1和fo之間 提供折射率大于1的透明部件TB。由此,可以簡化裝配處理和位置調(diào)整處理。
雖然圖29和33所示的光學(xué)系統(tǒng)70使用反射鏡65作為反射部分,但是 作為選擇可以使用棱鏡。也就是說,只要反射部分可以將來自1/2波片67中
的區(qū)域67a的光束反射到1/2波片67中的區(qū)域67b,并且將來自1/2波片67 中的區(qū)域67b的光束反射到1/2波片67中的區(qū)域67a,就可以采用其它反射 部分。
雖然本發(fā)明的上述實(shí)施例將物鏡描述為無焦點(diǎn)系統(tǒng)(無限系統(tǒng)),但是物 鏡還可以是有焦點(diǎn)系統(tǒng)(有限系統(tǒng))。即使在這種情況下,也可以獲4尋本發(fā)明 上述實(shí)施例的效果。
雖然上面將根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光盤裝置20描述為可以向光盤15記錄 信息/從光盤15再現(xiàn)信息的裝置,但是只要光盤裝置20可以至少再現(xiàn)光盤中 的信息,該光盤裝置20就可以包括其它光學(xué)裝置。
此外,雖然光盤15被描述為具有兩層,但是光盤15不局限于具有兩層。 作為選擇,光盤15可以具有三個或更多層。在這種情況下,當(dāng)目標(biāo)記錄層位 于兩個記錄層之間時,反射束包括會聚在更接近信號光的焦點(diǎn)的位置處的第 一雜光(第一雜光分量)、和會聚在遠(yuǎn)離信號光的焦點(diǎn)的位置處的第二雜光(第 二雜光分量)。
此外,4艮據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光盤15不僅包括DVD類型的光盤,而且還 包括CD類型光盤、以及與波長大約405nm的光束相對應(yīng)的下一代^f言息記錄介質(zhì)。
此外,盡管使用單個半導(dǎo)體激光器的示例描述了光學(xué)拾取裝置23,但是 也可以釆用多個激光器。例如,可以使用發(fā)射不同波長的光束的多個半導(dǎo)體 激光器。在這種情況下, 一個半導(dǎo)體激光器可以發(fā)射具有大約405 nm波長的 光束,另一個半導(dǎo)體激光器可以發(fā)射具有大約660nm波長的光束,而且還有 另一個半導(dǎo)體激光器可以發(fā)射具有大約780nm波長的光束。換句話說,根據(jù) 本發(fā)明實(shí)施例的光盤裝置20包括與各種不同標(biāo)準(zhǔn)的光盤兼容的光盤裝置,其 中的光盤之一可以是具有多個記錄層的光盤。
圖36是示出根據(jù)本發(fā)明的又一個實(shí)施例、包括在光學(xué)拾取裝置23中的 光學(xué)檢測系統(tǒng)200的示范配置的示意圖。應(yīng)當(dāng)注意到,類似的組件用與本發(fā) 明上述實(shí)施例相同的附圖標(biāo)記表示,并且被進(jìn)一 步闡述。
在圖36中,附圖標(biāo)記111指示前屏蔽部件,以及附圖標(biāo)記112指示后屏 蔽部件。圖36是從光盤15的尋軌方向看的剖視圖。光學(xué)檢測系統(tǒng)200用于 分離和檢測從光盤15反射的信號光和雜光。
在其中從光盤20反射的包括信號光線束(在下文中也稱為"信號光束")
和雜光線束(在下文中也稱為"雜光束")在內(nèi)的光束被入射到聚光透鏡106 上的情況下,光束的放大率取決于從其反射光束的層(表面)的位置而不同。 也就是說,在其中"m"被設(shè)置為從目標(biāo)記錄層的上表面開始計(jì)數(shù)的層的情況 下,在入射到聚光透鏡106上的光束當(dāng)中,從目標(biāo)記錄層反射的信號光束Lm 的放大率不同于從光盤20的其它層(除目標(biāo)記錄層之外)反射的雜光束Lm 士n的放大率,其中"m,,是其最大值為記錄介質(zhì)15中的總層數(shù)的整數(shù),以 及"n"是給定整數(shù)(如果滿足關(guān)系n>l以及m〉n)。因此,穿過聚光透鏡 106的每束的焦點(diǎn)是不同的。在這個示例中,焦點(diǎn)fm對應(yīng)于信號光束Lm, 而且焦點(diǎn)fm士n對應(yīng)于雜光束Lm士n。在本發(fā)明的這個實(shí)施例中,為了方便起 見,n被設(shè)置為滿足關(guān)系n=l。應(yīng)當(dāng)注意到,當(dāng)m=l時,在反面(負(fù))側(cè)沒 有雜光。另一方面,當(dāng)m為最大值時,在正面(正)側(cè)沒有雜光。
如上參考圖50A和50B所述,由于信號光束Lm被設(shè)置為相對于聚光透 鏡的光軸是平行的,所以焦點(diǎn)fm的位置位于光學(xué)檢測系統(tǒng)中的固定位置處, 而不用考慮m的值。此外,除非在經(jīng)受記錄/再現(xiàn)的光盤的中間層厚度方面有 顯著的差別,否則在相應(yīng)的焦點(diǎn)fm+l、 fm、和fm-l之間的間隔(間距)可 以在可預(yù)測的范圍之內(nèi),這是因?yàn)榻裹c(diǎn)fm+l和fm-l的位置根據(jù)光盤15的中 間層厚度而定義。換句話說,可以認(rèn)為這些焦點(diǎn)基本上是固定點(diǎn),而與m的 值無關(guān)。
從比光束會聚在其上的目標(biāo)記錄層(參見圖51A和51B )更遠(yuǎn)離物鏡104 的層反射的雜光束Lm+n形成了比信號光束Lm的焦點(diǎn)fm更接近聚光透鏡 106的焦點(diǎn)fm+n。位于最接近焦點(diǎn)fm的正側(cè)的焦點(diǎn)是fm+l。另一方面,從 比光束會聚在其上的目標(biāo)記錄層(參見圖51A和51B )更接近物鏡104的層 反射的雜光束Lm-n形成了比信號光束Lm的焦點(diǎn)fm更接近光檢測器108的 焦點(diǎn)fm-n。位于最接近焦點(diǎn)fm的反面?zhèn)鹊慕裹c(diǎn)是fm-l。
參見圖36和37,相對于光束傳播方向的中心軸C (聚光透鏡106的光 軸)的上半?yún)^(qū)域稱為"區(qū)域A",而且相對于光束傳播方向的中心軸C的下半 區(qū)域稱為"區(qū)域B"。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的前屏蔽部件111位于焦點(diǎn)fm+l和 焦點(diǎn)fm之間,用于在區(qū)域A中屏蔽穿過聚光透鏡106的光束。此外,后屏 蔽部件112位于焦點(diǎn)fm和焦點(diǎn)fm+l之間,用于屏蔽在區(qū)域B中穿過聚光透 鏡106的光束。
在穿過聚光透鏡106的區(qū)域A的部分的光束中包括的信號光束Lm和雜光束Lm-n由前屏蔽部件111所屏蔽。因?yàn)殡s光束Lm+n在到達(dá)前屏蔽部件 111之前就會聚(收斂)了 ,所以雜光束Lm+n的位置反轉(zhuǎn)到區(qū)域B。因此, 在后屏蔽部件112處屏蔽雜光束Lm+n。
在穿過聚光透鏡106的區(qū)域B的部分的光束中包括的雜光束Lm-n在后 屏蔽部件112處被屏蔽。因?yàn)殡s光束Lm+n在到達(dá)前屏蔽部件111之前就會 聚(收斂)了,所以雜光束Lm+n的位置反轉(zhuǎn)到區(qū)域A。因此,在前屏蔽部 件111處屏蔽雜光束Lm+n。信號光束Lm的焦點(diǎn)在前屏蔽部件111和后屏蔽 部件112之間的點(diǎn)處匯合。因此,信號光束Lm的位置反轉(zhuǎn)到區(qū)域A。因此, 僅僅信號光束Lm穿過前和后屏蔽部件111和112,并且在光檢測器118處被 檢測。
盡管在上述描述中,前屏蔽部件111位于區(qū)域A側(cè),但是可以通過將前 屏蔽部件111定位到區(qū)域B側(cè)并且將后屏蔽部件112定位到區(qū)域A側(cè),來由 光檢測器108檢測穿過聚光透鏡106的該區(qū)域A的部分的信號光束Lm。
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的上述光學(xué)檢測系統(tǒng)還可以應(yīng)用于在諸如雙層光盤之 類的光盤上記錄信息以及從中讀出信息的光學(xué)系統(tǒng)。
這里,更接近物鏡104定位的光盤20 (在這個示例中,為雙層光盤)中 的層被稱為第一層LO,而更遠(yuǎn)離物鏡104定位的雙層光盤中的層被稱為第二 層L1。在其中射束點(diǎn)在第一記錄層LO上形成的情況下,從光盤15反射的光 束包括第一記錄層LO的信號光束Lm和第二記錄層Ll的雜光束Lm+1。因 為單個光束Lm會聚在前屏蔽部件111和后屏蔽部件112之間的點(diǎn)處,所以 信號光束Lm可以到達(dá)光檢測器108。同時,因?yàn)殡s光束Lm+l由后屏蔽部件 112和前屏蔽部件111屏蔽,所以雜光束Lm+l不能到達(dá)光^r測器108。因此, 可以獲得令人滿意的信號。
在其中射束點(diǎn)在第二記錄層L1上形成的情況下,從光盤15反射的光束 包括第二記錄層L1的信號光束Lm和第一記錄層Ll的雜光束Lm-l。因?yàn)閱?個光束Lm會聚在前屏蔽部件111和后屏蔽部件112之間的點(diǎn)處,所以信號 光束Lm可以到達(dá)光檢測器108。同時,因?yàn)殡s光束Lm-l由前屏蔽部件111 和后屏蔽部件112屏蔽,所以雜光束Lm-l不能到達(dá)光檢測器108。因此,可
以獲得令人滿意的信號。
因此,可以將根據(jù)本發(fā)明上述實(shí)施例的上述配置適當(dāng)?shù)貞?yīng)用于雙層光盤, 以便除去雜光(雜光分量)。然而要注意到,根據(jù)本發(fā)明又一個實(shí)施例的配置可以應(yīng)用于其它多層記錄介質(zhì)。此外,雖然在附圖中將后屏蔽部件描述和說 明為與光檢測器分離的組件,但是后屏蔽部件和光檢測器可以形成為聯(lián)合體。 此外,可以通過使在屏蔽側(cè)的 一部分光檢測器變?yōu)椴荒軝z測入射到所述部分 上的光束的狀態(tài)(例如,通過僅僅在與后屏蔽部件所處區(qū)域相反的區(qū)域處提 供光學(xué)檢測區(qū)域),來獲得相同的效果。
圖37是用于防止光量(光通量)損失的、根據(jù)本發(fā)明又一個實(shí)施例的另 一個配置的示意圖。在圖37中,附圖標(biāo)記113指示用于分裂光束的分束部分。 圖37示出了用于分離和檢測信號光和雜光的光學(xué)檢測系統(tǒng)200的另 一示例。
在這個示例中,光學(xué)檢測系統(tǒng)200具有在聚光透鏡106和前屏蔽部件112 之間提供的分束部件113,用于將入射光束分裂為兩個區(qū)域(區(qū)域A,區(qū)域B)。 在這個示例中的分束部件113是反射單元。在這個示例中,如圖37所示,區(qū) 域A相對于向上反射束位于彎曲中心軸C的右側(cè),并且相對于向下反射束位 于彎曲中心軸C的左側(cè)。這也適用于在下述附圖38-47A中的指示。此外, 應(yīng)當(dāng)注意到,通過向其附圖標(biāo)記添加撇號","來指示位于分束部件下面的光 學(xué)系統(tǒng)和部件。
除了用于前屏蔽部件111和后屏蔽部件112的相應(yīng)區(qū)域轉(zhuǎn)換了它們的位 置之外,這個相對于中心軸的上半?yún)^(qū)域(區(qū)域A)的配置與圖37所示的配置 基本上相同。
如圖37所示,穿過聚光透鏡6的區(qū)域A的部分的光束由分束部件113 反射到光檢測器108。前屏蔽部件111位于焦點(diǎn)fm+l和焦點(diǎn)fm之間,用于 屏蔽區(qū)域B。后屏蔽部件112位于焦點(diǎn)fm和焦點(diǎn)fm-l之間,用于屏蔽區(qū)域 A。因?yàn)殡s光束Lm+n在到達(dá)前屏蔽部件lll之前就會聚(收斂)了,所以雜 光束Lm+n的位置反轉(zhuǎn)到區(qū)域B。因此,在前屏蔽部件111處屏蔽雜光束 Lm+n。在后屏蔽部件112處屏蔽雜光束Lm-n。信號光束Lm的焦點(diǎn)在前屏 蔽部件111和后屏蔽部件112之間的點(diǎn)處匯合。因此,信號光束Lm的位置 反轉(zhuǎn)到區(qū)域B。因此,僅僅信號光束Lm穿過前和后屏蔽部件111和112,并 且在光檢測器108處被檢測。
穿過聚光透鏡6的區(qū)域B的部分的光束由分束部分113反射到光檢測器 108'。前屏蔽部件lll'位于焦點(diǎn)fm+l和焦點(diǎn)fm之間,用于屏蔽區(qū)域A。后 屏蔽部件112'位于焦點(diǎn)fm和焦點(diǎn)fm-l之間,用于屏蔽區(qū)域B。因?yàn)殡s光束 Lm+n在到達(dá)前屏蔽部件lll'之前就會聚(收斂)了 ,所以雜光束Lm+n的位
置反轉(zhuǎn)到區(qū)域A。因此,在前屏蔽部件111'處屏蔽雜光束Lm+n。在后屏蔽部 件112'處屏蔽雜光束Lm-n。信號光束Lm的焦點(diǎn)在前屏蔽部件lll'和后屏蔽 部件112'之間的點(diǎn)處匯合。因此,信號光束Lm的位置反轉(zhuǎn)到區(qū)域A。因此, 僅僅信號光束Lm穿過前和后屏蔽部件lll'和112',并且在光檢測器108'處被檢測。
因?yàn)榭梢栽诠鈾z測器108處檢測到穿過聚光透鏡6的區(qū)域A的部分的信 號光束Lm,而且可以在光檢測器108'處檢測到穿過聚光透鏡6的區(qū)域B的 部分的信號光束Lm,所以可以充分地檢測出包括在光束中的信號光束。
雖然在圖37中將分束部件13說明為具有兩個外表面的直角棱鏡,但是 分束部件13還可以是兩個平面反射鏡的組合,其中這兩個平面反射鏡的交叉 角不局限于直角。換句話說,在分束部件13中,作為選擇可以采用諸如兩個 平面反射鏡的組合之內(nèi)的其它反射器,只要其中的兩個平面反射鏡的交叉位 置與中心軸C相匹配,而且其中的組件(例如屏蔽部件)辟皮這樣定位,以便 它們不接觸或者妨礙其它組件。
圖38是根據(jù)本發(fā)明的又一個實(shí)施例的另一配置的示意圖。在圖38中, 附圖標(biāo)記114指示用于屏蔽光束的屏蔽部件。圖38示出了用于分離和檢測信 號光和雜光的光學(xué)檢測系統(tǒng)200的另 一示例。
在這個配置中,分束部件113的位置位于遠(yuǎn)離聚光透鏡106處定位,以 便分束部件113位于焦點(diǎn)fm+l和焦點(diǎn)fm之間。
因此,對于由分束部件113沿向上方向反射的光束,Lm+1和Lm-l中的 雜光束二者都位于區(qū)域A中。同時,信號光束Lm在通過焦點(diǎn)fm之后位于 區(qū)域B中。因此,屏蔽部件114相對于聚光透鏡106位于超過焦點(diǎn)fm的位 置處,以便屏蔽區(qū)域A。因此,僅僅信號光束Lm能夠到達(dá)光檢測器108。
這適用于沿向下方向反射的光束,其中屏蔽部件114'相對于聚光透鏡106 位于超過焦點(diǎn)fm的位置處,以便屏蔽區(qū)域B。因此,僅僅信號光束Lm能夠 到達(dá)光檢測器108'。
因?yàn)槠帘尾考?14、 114'提供了與圖36和37所示的后屏蔽部件112、 112' 相同的功能,所以屏蔽部件114、 114'可以分別與光學(xué)檢測部件108、 108'形 成為聯(lián)合體。
圖39是根據(jù)本發(fā)明的又一個實(shí)施例的另一配置的示意圖。在圖39中, 附圖標(biāo)記115指示另一個用于分裂光束的分束部件。圖39示出了用于分離和
檢測信號光和雜光的光學(xué)檢測系統(tǒng)200的另 一示例。
分束部件115位于焦點(diǎn)fm+1和焦點(diǎn)fm之間以便將光束分裂為兩個區(qū)域 (區(qū)域A,區(qū)域B)。如圖39所示,分束部件115包括一對光楔(optical wedges ), 其中這些光楔的較薄側(cè)相配,以便光楔對于中心軸C (聚光透鏡106的光軸) 彼此對稱。
在其中穿過聚光透鏡106中的區(qū)域A部分的光束在到達(dá)分束部件115之 前不會聚(收斂)的情況下,該光束由分束部件115折射并且送往光檢測器 108。屏蔽部件114位于焦點(diǎn)fm和焦點(diǎn)fm-l之間用于屏蔽區(qū)域A。
在其中穿過聚光透鏡106中的區(qū)域B部分的光束在到達(dá)分束部件115之 前不會聚(收斂)的情況下,該光束由分束部件115折射并且送往光檢測器 108'。屏蔽部件114'位于焦點(diǎn)fm和焦點(diǎn)fm-l之間用于屏蔽區(qū)域B。
因?yàn)榇┻^聚光透鏡106的區(qū)域A部分的雜光束Lm+n在到達(dá)分束部件115 之前就會聚了,所以雜光束Lm+n的位置反轉(zhuǎn)到區(qū)域B。因此,在屏蔽部件 114'處屏蔽雜光束Lm+n。在屏蔽部件114處屏蔽雜光束Lm-n。信號光束Lm 的焦點(diǎn)在分束部件115和屏蔽部件114之間的點(diǎn)處匯合。因此,信號光束Lm 的位置反轉(zhuǎn)到區(qū)域B。因此,僅僅信號光束Lm穿過屏蔽部件114并且在光 檢測器108處被檢測。
因?yàn)榇┻^聚光透鏡106的區(qū)域B部分的雜光束Lm+n在到達(dá)分束部件115 之前就會聚了,所以雜光束Lm+n的位置反轉(zhuǎn)到區(qū)域A。因此,在屏蔽部件 114處屏蔽雜光束Lm+n。在屏蔽部件114'處屏蔽雜光束Lm-n。信號光束Lm 的焦點(diǎn)在分束部件115和屏蔽部件114之間的點(diǎn)處匯合。因此,信號光束Lm 的位置反轉(zhuǎn)到區(qū)域A。因此,僅僅信號光束Lm穿過屏蔽部件114'并且在光 檢測器108'處被檢測。
因?yàn)榭梢栽诠鈾z測器108處檢測到穿過聚光透鏡106的區(qū)域A部分的信 號光束Lm,而且可以在光檢測器108'處檢測到穿過聚光透鏡106的區(qū)域B 部分的信號光束Lm,所以可以充分地檢測出包括在光束中的信號光束。此外, 可以簡化光學(xué)檢測系統(tǒng)的配置,因?yàn)榭梢酝ㄟ^準(zhǔn)備兩個相同的屏蔽部件ll4、 114'來基本上屏蔽全部雜光束Lm土n。
作為選擇,分束部件115可以位于比焦點(diǎn)fm+l更接近聚光透鏡106處。 在這種情況下,其原理與圖37所示的配置基本上相同,在圖37中,與相應(yīng) 的已分裂光束相對應(yīng)地提供前后屏蔽部件。在這種情況下,與相應(yīng)已分裂光 束相對應(yīng)的后屏蔽部件可以形成為聯(lián)合體,這是因?yàn)樗鼈儽舜私咏ㄎ弧?br> 圖40是根據(jù)本發(fā)明的又一個實(shí)施例的另一配置的示意圖。在圖40中,
附圖標(biāo)記116指示起分束部件作用的衍射光柵。圖40示出了用于分離和檢測 信號光和雜光的光學(xué)檢測系統(tǒng)200的另一示例。
在這個示例中使用的衍射光柵116是閃耀光柵(blazed grating )。
閃耀光柵使用布拉格衍射條件來增強(qiáng)給定級的衍射效率。雖然將下述光 柵闡述為為了一級(-1級,+1級)衍射設(shè)計(jì)的閃耀光柵,但是還可以應(yīng)用其 它級的衍射。此外,優(yōu)選為采用這樣的閃耀光柵,其對于在給定環(huán)路(cycle ) 中而非一個傾斜的固定環(huán)路中的入射光束滿足全部布拉格條件。
在這個示例中的衍射光柵116通過對于區(qū)域A中的光束生成呈現(xiàn)強(qiáng)+1 級衍射的衍射光、以及對于區(qū)域B中的光束生成呈現(xiàn)強(qiáng)-1級衍射的衍射光, 來對于每個區(qū)域提供不同的衍射。
分束部件(即衍射光柵)116位于焦點(diǎn)fm+l和焦點(diǎn)fm之間,以便將該 光束分裂為兩個區(qū)域(區(qū)域A,區(qū)域B)。
在其中穿過聚光透鏡106中的區(qū)域A部分的光束在到達(dá)分束部件116之 前不會聚(收斂)的情況下,該光束由分束部件115衍射并且被送往光檢測 器108。屏蔽部件114位于焦點(diǎn)fm和焦點(diǎn)fm-l之間用于屏蔽區(qū)域A。
在其中穿過聚光透鏡106中的區(qū)域B部分的光束在到達(dá)分束部件116之 前不會聚(收斂)的情況下,該光束由分束部件116衍射并且被送往光檢測 器108'。屏蔽部件114'位于焦點(diǎn)fm和焦點(diǎn)fm-l之間用于屏蔽區(qū)域B。
因?yàn)榇┻^聚光透鏡106的區(qū)域A部分的雜光束Lm+n在到達(dá)分束部件116 之前就會聚了,所以雜光束Lm+n的位置反轉(zhuǎn)到區(qū)域B。因此,在屏蔽部件 114'處屏蔽雜光束Lm+n。在屏蔽部件114處屏蔽雜光束Lm-n。信號光束Lm 的焦點(diǎn)在分束部件116和屏蔽部件114之間的點(diǎn)處匯合。因此,信號光束Lm 的位置反轉(zhuǎn)到區(qū)域B。因此,僅僅信號光束Lm穿過屏蔽部件114并且在光 ;險(xiǎn)測器108處被;險(xiǎn)測。
因?yàn)榇┻^聚光透鏡106的區(qū)域B部分的雜光束Lm+n在到達(dá)分束部件116 之前就會聚了,所以雜光束Lm+n的位置反轉(zhuǎn)到區(qū)域A。因此,在屏蔽部件 114處屏蔽雜光束Lm+n。在屏蔽部件114'處屏蔽雜光束Lm-n。信號光束Lm 的焦點(diǎn)在分束部件116和屏蔽部件114之間的點(diǎn)處匯合。因此,信號光束Lm 的位置反轉(zhuǎn)到區(qū)域A。因此,僅僅信號光束Lm穿過屏蔽部件114'并且在光
檢測器108'處被檢測。
因?yàn)榭梢栽诠鈾z測器108處檢測到穿過聚光透鏡106的區(qū)域A部分的信 號光束Lm,而且可以在光檢測器108'處檢測到穿過聚光透鏡106的區(qū)域B 部分的信號光束Lm,所以可以充分地檢測出包括在光束中的信號光束。此外, 因?yàn)榭梢酝ㄟ^準(zhǔn)備兩個相同的屏蔽部件114、 114'來屏蔽基本上全部雜光束 Lm土n,所以可以筒化光學(xué)檢測系統(tǒng)的配置。此外,因?yàn)殚W耀光柵具有平面 結(jié)構(gòu),所以可以減少光學(xué)檢測系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)尺寸。
作為選擇,分束部件116可以位于比焦點(diǎn)fm+l更接近聚光透鏡106處。 在這種情況下,其原理與圖39所示的配置基本上相同,在圖39中,與相應(yīng) 的已分裂光束相對應(yīng)地提供前后屏蔽部件。
圖41是圖40所示結(jié)構(gòu)的修改示例。在圖41中,附圖標(biāo)記117指示另一 個衍射光柵,而且附圖標(biāo)記118指示另一個屏蔽部件。圖41示出了用于分離 和檢測信號光和雜光的光學(xué)檢測系統(tǒng)200的另一示例。
在這個修改示例中的衍射光柵117通過對于區(qū)域A中的光束生成呈現(xiàn)強(qiáng) -1級衍射的衍射光、以及對于區(qū)域B中的光束生成呈現(xiàn)強(qiáng)+1級衍射的衍射光, 來對于每個區(qū)域提供不同的衍射。因此,在衍射光柵(閃耀光柵)117處衍 射一次的每個信號光束在到達(dá)屏蔽部件118之前相交。
分束部件(即衍射光柵)117位于焦點(diǎn)fm+l和焦點(diǎn)fm之間,以便將該 光束分裂為兩個區(qū)域(區(qū)域A,區(qū)域B)。
在其中穿過聚光透鏡106中的區(qū)域A部分的光束在到達(dá)分束部件117之 前不會聚(收斂)的情況下,該光束由分束部件117衍射并且被送往光檢測 器108'。屏蔽部件118位于焦點(diǎn)fm和焦點(diǎn)fm-l之間,其中該屏蔽部件118 的下半部118a屏蔽區(qū)域A。
在其中穿過聚光透鏡106中的區(qū)域B部分的光束在到達(dá)分束部件117之 前不會聚(收斂)的情況下,該光束由分束部件117衍射并且被送往光檢測 器108'。屏蔽部件118位于焦點(diǎn)fm和焦點(diǎn)fm-l之間,其中上半部118b屏蔽 區(qū)域B。
雖然屏蔽部件118中的上半部和下半部118a、 118b可以作為分離的組件 提供,但是因?yàn)樗鼈儽舜私咏ㄎ?,所以上半部和下半?18a、 118b被形成 為聯(lián)合體。
因?yàn)榇┻^聚光透鏡106的區(qū)域A部分的雜光束Lm+n在到達(dá)分束部件117之前就會聚了,所以雜光束Lm+n的位置反轉(zhuǎn)到區(qū)域B。因此,在屏蔽部件 118處屏蔽雜光束Lm+n。在屏蔽部件118處屏蔽雜光束Lm-n。信號光束Lm 的焦點(diǎn)在分束部件117和屏蔽部件118之間的點(diǎn)處匯合。因此,信號光束Lm 的位置反轉(zhuǎn)到區(qū)域B。因此,僅僅信號光束Lm穿過屏蔽部件118并且在光 檢測器108'處被檢測。
因?yàn)榇┻^聚光透鏡106的區(qū)域B部分的雜光束Lm+n在到達(dá)分束部件117 之前就會聚了,所以雜光束Lm+n的位置反轉(zhuǎn)到區(qū)域A。因此,在屏蔽部件 118處屏蔽雜光束Lm+n。在屏蔽部件118處屏蔽雜光束Lm-n。信號光束Lm 的焦點(diǎn)在分束部件117和屏蔽部件118之間的點(diǎn)處匯合。因此,信號光束Lm 的位置反轉(zhuǎn)到區(qū)域A。因此,僅僅信號光束Lm穿過屏蔽部件118并且在光 檢測器108處被一企測。
因?yàn)榭梢栽诠鈾z測器108'處檢測到穿過聚光透鏡106的區(qū)域A部分的信 號光束Lm,而且可以在光檢測器108處檢測到穿過聚光透鏡106的區(qū)域B 部分的信號光束Lm,所以可以充分地檢測出包括在光束中的信號光束。此外, 因?yàn)榭梢酝ㄟ^準(zhǔn)備單個屏蔽部件118而基本上屏蔽全部雜光束Lm土n,所以 可以簡化光學(xué)檢測系統(tǒng)的配置。此外,因?yàn)殚W耀光柵具有平面結(jié)構(gòu),所以可 以減少光學(xué)檢測系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)尺寸。
作為選擇,通過使用與使用包括一對光楔的分束部件115的配置(參見 圖39)相類似的配置,可以獲得與上述使用分束部件118的配置相類似的光 徑。然而,在這種情況下,光楔的較厚側(cè)相配以便這些光楔相對于中心軸C (聚光透鏡106的光軸)彼此對稱。因此,光束的折射方向變?yōu)榕c圖39所示 的相反,以由此允許使用單個屏蔽部件。
圖42A和42B是其中分束部件和屏蔽部件形成為聯(lián)合體的配置的示意 圖。圖42A對應(yīng)于圖40,而且圖42B對應(yīng)于圖41。在圖42A和42B中,附 圖標(biāo)記119和120指示分束單元。圖42A和42B示出了用于分離和斗企測信號 光和雜光的光學(xué)檢測系統(tǒng)200的另一示例。
在這個示例中,通過采用衍射光柵19a、 20a作為分束部件,可以安裝衍 射光柵19a、 20a和屏蔽部件19b、 19b'、 20以形成聯(lián)合體。因此,可以提供 分束單元119、 120作為單個組件。
圖43示出了用于分離和檢測信號光和雜光的光學(xué)檢測系統(tǒng)200的另 一示例。
在這個示例中,使用了圖40所示的配置。如圖43所示,光源101位于 屏蔽部件114、 114'之間。此外,在這個示例中使用的分束部件116是閃耀類 型偏振光柵。分束部件116允許沿偏振方向從光源IOI發(fā)出的一束光穿過而 沒有衍射,并且衍射沿與偏振方向垂直相交的方向從光源IOI發(fā)出的一束光。
從光源101發(fā)出的光束被送往聚光透鏡106而不受光柵116的影響。接 下來,下面描述在光束穿過聚光透鏡106之后的操作(雖然未在附圖中示出)。 首先,由聚光透鏡106變?yōu)槠叫泄饩€的光束由A74波片圓偏振并且被會聚到 物鏡104,因此照射在光盤15上。從光盤15反射的信號光束在物鏡處變?yōu)?平行光線。通過穿過A74波片,平行光線變?yōu)榕c從光源101發(fā)射的光束的偏 振方向垂直相交的線偏振光。線偏振光穿過聚光透鏡106,以由此由分束部 件116的衍射光柵分裂和衍射。因此,由光檢測器108、 108'檢測該衍射光線。
如上所述,從光盤15反射的雜光束可以由屏蔽部件114屏蔽,以便僅僅 信號光束可以在光纟企測器108、 108'處#皮4全測。
光源101、分束部件(衍射光柵)116、屏蔽部件114、和光檢測器108、 108'可以形成為聯(lián)合體。因此,可以獲得小型的光學(xué)拾取裝置。
圖44示出了用于分離和檢測信號光和雜光的光學(xué)檢測系統(tǒng)200的另 一示例。
在圖44中,附圖標(biāo)記121指示第二聚光透鏡,附圖標(biāo)記U2指示被劃分 的光檢測器,參考字母S指示從光檢測器接收的輸出信號。圖44示出了用于 分離和檢測信號光和雜光以及用于獲得聚焦誤差信號的光學(xué)檢測系統(tǒng)200的 另一示例。
在這個示例中,第二聚光透鏡121位于后屏蔽部件112和被劃分的光檢 測器之間。在位于信號光束Lm的焦點(diǎn)處的被劃分的光檢測器122處檢測該 信號光束Lm。
接下來,描述根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的用于獲得聚焦誤差信號的方法(原理)。
在其中穿過物鏡104的光束會聚在光盤15上的情況下,從光盤15反射 的信號光束Lm會聚到在被劃分的光檢測器122的光檢測器部分122a和光檢 測器部分122b之間的區(qū)域處。在光檢測器部分122a的輸出(Sa)和光檢測 器部分122b的輸出(Sb)之間的差值(Sa-Sb)變?yōu)?。同時,在其中物鏡 104位于遠(yuǎn)離光盤15處的情況下,在第二聚光透鏡121處會聚的光束在到達(dá)
被劃分的光檢測器122之前就收斂了,以致半球狀光束變?yōu)槿肷涞焦鈾z測器 部分122b上(由在圖44中的第二聚光透鏡121右側(cè)的點(diǎn)線所示)。也就是說, 輸出的差值變?yōu)樾∮? (Sa-Sb<0)。另一方面,在其中物鏡104位于更接近 光盤15處的情況下,在第二聚光透鏡121處會聚的光束在(超過)被劃分的 光檢測器122之后收斂,以致半球狀光束(在變?yōu)闀壑?變?yōu)槿肷涞焦?檢測器部分122a上(由在圖44中的第二聚光透鏡121右側(cè)的虛線所示)。也 就是說,輸出的差值變?yōu)榇笥? (Sa-Sb > 0)。因此,通過計(jì)算輸出的差值 (Sa-Sb ),可以獲得指示相對于光盤15的物鏡104的焦點(diǎn)的信號(聚焦誤差 信號)。在這種情況下,可以依據(jù)Sa+Sb獲得信號光束。檢測聚焦誤差信號的 結(jié)構(gòu)不僅可以應(yīng)用于圖36所示的結(jié)構(gòu),而且還可以應(yīng)用于圖37到42所示的 結(jié)構(gòu)。
在這個示例中,因?yàn)榈诙酃馔哥R121位于后屏蔽部件112和被劃分的 光學(xué)檢測部分122之間,所以后屏蔽部件112和被劃分的光學(xué)檢測部分122 不能形成為聯(lián)合體。然而,有可能將第二聚光透鏡121和后屏蔽部件112形 成為聯(lián)合體。在第二聚光透鏡121的入射側(cè),第二聚光透鏡121可以在相對 于光軸的至少一側(cè)上具有透鏡功能。只要光束不傳輸?shù)较鄬τ诠廨S的另一側(cè), 就可以以各種形狀形成第二聚光透鏡。
圖45A-45C是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的用于描述光束、(多個)屏蔽部件、 和分束部件的位置關(guān)系的示意圖。圖45A示出了在前后屏蔽部件和光束之間 的關(guān)系,圖45B示出了在分束部件和光束之間的關(guān)系,以及圖45C示出了其 中相對于圖45A和45B 、光軸沿尋軌方向偏離的情況。
在圖45A-45C中,附圖標(biāo)記124指示射束點(diǎn),附圖標(biāo)記125指示分界 線,以及附圖標(biāo)記126指示分束線。圖45A-45C用來描述用于分離和檢測信 號光和雜光的光學(xué)檢測系統(tǒng)200的另一示例,其中即使在物鏡的光軸沿尋軌 方向移位的情況下也不改變信號光束的絕對量。
從光盤15反射的光束在光盤15的凹槽處衍射,由此形成如圖45B所示、 類似于棒球形狀的圖案(軌道圖案)。在由圖45B的曲線所描繪的區(qū)域當(dāng)中, 中心區(qū)域是從光盤15的軌道區(qū)域反射的光中獲得的圖案,而且側(cè)邊區(qū)域是從 由在該軌道區(qū)域兩側(cè)提供的平臺(step)(岸臺(land))區(qū)域衍射的光中獲得 的圖案。典型地,側(cè)邊區(qū)域具有大于中心區(qū)域的光量。下面基于側(cè)邊區(qū)域具 有大于中心區(qū)域的光量的前提進(jìn)行描述。
在這個示例中,用于為前后屏蔽部件111、 112劃分光束的分界線125(參 見圖45A)和用于分裂分束部件中的光束的分裂線126(參見圖45B)沿信號 光束的尋軌方向定位。如圖45C所示,在其中光軸沿尋軌方向偏離的情況下, 光束相對于光學(xué)系統(tǒng)而朝向分界線125或者分裂線126的方向移動。因此, 即使在對于信號光束出現(xiàn)物鏡104沿尋軌方向和光軸移位的情況下,高于和 低于分界線125和分裂線126的光束分布也不改變。因此,可以令人滿意地 檢測信號,而沒有在到達(dá)光檢測器122的信號光束的光量方面的任何改變。
圖46A和46B是用于描述獲得軌道誤差信號的操作的附圖。圖46A是 光線圖,而圖46B是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光檢測器的平面圖。圖46A-46B用 來描述用于分離和檢測信號光和雜光以及用于獲得軌道誤差信號的光學(xué)檢測 系統(tǒng)200的另一示例。
在這個示例中,另一個被劃分的光檢測器122 ( 122c, 122d)檢測信號 光束Lm。被劃分的光檢測器122由分界線125或者與分裂線126垂直相交的 線而沿?cái)?shù)據(jù)記錄方向(Y方向)劃分為至少兩個區(qū)域。
接下來,描述根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的用于獲得軌道誤差信號的方法(原理)。
穿過(多個)屏蔽部件的信號光束變?yōu)榘肭蛐伟l(fā)散光束,并且在被劃分 的光檢測器122處被檢測。
在其中射束點(diǎn)在光盤15的凹槽中心上形成的情況下,軌道圖案變?yōu)樽笥?側(cè)對稱。因此,在光檢測器部分122c的輸出(Sc)和光檢測器部分122d的 輸出(Sd)之間的差值(Sc-Sd)為0。在其中射束點(diǎn)偏離凹槽中心的情況下, 如圖45C所示,軌道圖案變?yōu)樽笥覀?cè)不對稱。因此,差值Sc-Sd變?yōu)榇笥? (Sc-Sd>0)或者小于0 (Sc-Sd<0)。因此,通過計(jì)算輸出的差值(Sc-Sd ), 可以獲得指示在光盤15上尋軌的射束點(diǎn)的位置的信號(軌道誤差信號)。在 這種情況下,可以依據(jù)Sc+Sd獲得信號光束。
圖47A和47B是用于描述獲得聚焦誤差信號和軌道誤差信號的操作的示 意圖。圖47A-47B用來描述用于分離和檢測信號光和雜光以及用于獲得聚焦 誤差信號和軌道誤差信號的光學(xué)檢測系統(tǒng)200的另一個示例。
在這個示例中,分束部件113位于聚光透鏡106和前屏蔽部件111之間, 用于將光束分裂為兩個區(qū)域(區(qū)域A和區(qū)域B)。這個部分與圖37所示的結(jié) 構(gòu)基本上相同。聚光透鏡106位于后屏蔽部件112和光檢測器之間,該光檢 測器用于接收穿過聚光透鏡106的區(qū)域A部分的信號光束。因此,在信號光 束Lm的焦點(diǎn)處,在被劃分的光檢測器123 ( 123a, 123b )處檢測信號光束 Lm。此外,在沿?cái)?shù)據(jù)記錄方向(在圖47B中的Y方向)被分成至少兩個部 分的被劃分的光檢測器123' ( 123'c, 123'd)處,檢測穿過聚光透鏡106中的 區(qū)域B部分的信號光束Lm。
因此,可以獲得不具有雜光束的相應(yīng)信號,其中依據(jù)Sa-Sb獲得聚焦誤 差信號,依據(jù)Sc-Sd獲得軌道誤差信號,以及依據(jù)Sa+Sb+Sc+Sd獲得再現(xiàn)信 號區(qū)域。
圖53A和53B示出了圖39所示的結(jié)構(gòu)的修改示例作為另一個示例,其 中分束部件和屏蔽部件形成為聯(lián)合體。
在圖53A和53B中,附圖標(biāo)記124和125指示包括棱鏡(124a, 125a) 和屏蔽部件(124b, 125b)的分束單元。因?yàn)閳D53A和53B所示結(jié)構(gòu)的操作 與圖42A和42B所示的基本相同,所以省略其進(jìn)一步闡述。在圖53A所示的 結(jié)構(gòu)中,雖然分束單元124中的棱鏡124a的厚度可能是大的,但是可以截去 有效光束的一部分(例如,參見圖53A中的點(diǎn)劃線)。此外,應(yīng)當(dāng)注意到,
忽略了。
圖48是示出根據(jù)本發(fā)明又一個實(shí)施例的光學(xué)拾取裝置的整體結(jié)構(gòu)的示 意圖。在圖48中,附圖標(biāo)記101指示光源,附圖標(biāo)記102指示耦合透鏡,附 圖標(biāo)記103指示檢測器和分離部件,附圖標(biāo)記104指示物鏡,附圖標(biāo)記105 指示光盤,附圖標(biāo)記106指示檢測透鏡,附圖標(biāo)記107指示衍射光柵,以及 附圖標(biāo)記108指示光檢測器。
參見圖48,根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光學(xué)拾取器包括,例如光源101,用 于發(fā)射光以便從光盤105中讀出信息以及將信息記錄其中;耦合透鏡102, 用于使來自光源101的發(fā)散光束變?yōu)榛旧掀叫械墓馐粰z測器和分離部件 103,用于分離從光源101向光盤105照射的光束以及從光盤105反射的光束; 物鏡104,用于會聚到光盤105的入射光束/來自光盤105的入射光束;檢測 透鏡106,用于會聚從信號層(記錄層)反射到(多個)光檢測器108的光 束;衍射光柵107,用于生成聚焦誤差信號和尋軌誤差信號,以便保持沿尋 軌方向的預(yù)定位置;以及(多個)光檢測器108,用于從光盤105獲得信號 信息。在這個示例中的物鏡104由致動器沿光軸方向驅(qū)動,以便將光束聚焦
到光盤105的信號信息表面(記錄表面)上的點(diǎn)處。
從光源101發(fā)射的光束在耦合透鏡103處變?yōu)榛旧掀叫械墓饩€,并且 穿過檢測器和分離部件103,以由此在光盤105的信息記錄表面(記錄表面) 上形成準(zhǔn)直射束點(diǎn)。從光盤105反射的光束再次由物鏡104變?yōu)榛旧掀叫?的光線,然后由檢測器和分離部件103反射,然后會聚在聚光透鏡106處, 然后由衍射光柵107衍射,以便由(多個)光檢測器108的光學(xué)檢測表面所 檢測。
在上述示例中,其中光束從光源101發(fā)射到光盤105的光徑(光學(xué)系統(tǒng)) 可以稱為照射路徑(光學(xué)照射系統(tǒng))或者前進(jìn)路徑。同時,其中光束從光盤 105反射的光徑(光學(xué)系統(tǒng))可以稱為檢測路徑(光學(xué)檢測系統(tǒng))或者返回路徑。
圖49中示出了包括例如光源101、衍射光柵107、和光檢測器的光學(xué)單 元的實(shí)施例。在這個示例中,從光源101發(fā)射的發(fā)散光穿過衍射光柵107, 前進(jìn)到在光學(xué)拾取器中提供的耦合透鏡(未示出),并且前進(jìn)到光盤(未示出)。 從光盤反射的光束再次穿過耦合透鏡并且以會聚光的形式入射在衍射光柵 107上。相對于入射光束,衍射光柵107被劃分(分離)為多個區(qū)域。依據(jù) 所劃分的區(qū)域而被劃分(分離)的光束由光檢測器(被劃分的光檢測器)108 接收。在一個示例中,如圖50所示,衍射光柵107被分成三個部分。通過檢 測(通過使用刀刃衍射)在區(qū)域AB處衍射的光,獲得了聚焦誤差信號,并 且通過接收在相應(yīng)區(qū)域C和D處的光,獲得尋軌誤差信號。
此外,本發(fā)明不限于這些實(shí)施例,而且可以進(jìn)行改變和修改,而沒有背 離本發(fā)明的范圍。
本申請基于分別在2005年3月2號、2005年3月14日、2005年3月 15日、2005年3月31日、2005年5月9日和2005年8月30日向日本專利 局提交的日本優(yōu)先權(quán)申請2005-056976 、 2005-070366 、 2005-074031 、 2005-103441、 2005-135509和2005-248548,這些申請的全部內(nèi)容通過引用在
權(quán)利要求
1、一種光學(xué)拾取裝置,具有光源、準(zhǔn)直透鏡、檢測器和分離部件、物鏡、光學(xué)檢測系統(tǒng)、以及光檢測器,用于向和從具有多層的光盤記錄和讀出信息,該光學(xué)拾取裝置包含聚光光學(xué)元件,用于會聚從所述光盤的多個層反射的光束,所述光束包括從多個層中的第m層反射的信號光束Lm、從多個層中的第m+1層反射的第一雜光束Lm+1、以及從多個層中的第m-1層反射的第二雜光束Lm-1,所述信號光束Lm會聚在第一焦點(diǎn)fm處,所述第一雜光束Lm+1會聚在第二焦點(diǎn)fm+1處,而且所述第二雜光束Lm-1會聚在第三焦點(diǎn)fm-1處;前屏蔽部件,位于第一焦點(diǎn)fm和第二焦點(diǎn)fm+1之間,用于屏蔽定向到第一區(qū)域的光束;以及后屏蔽部件,位于第一焦點(diǎn)fm和第三焦點(diǎn)fm-1之間,用于屏蔽定向到第二區(qū)域的光束;其中所述第一和第二區(qū)域由聚光光學(xué)元件的光軸所劃分。
2、 一種光學(xué)拾取裝置,具有光源、準(zhǔn)直透鏡、檢測器和分離部件、物鏡、 光學(xué)檢測系統(tǒng)、以及光檢測器,用于向和從具有多層的光盤記錄和讀出信息, 該光學(xué)拾取裝置包含聚光光學(xué)元件,用于會聚從所述光盤的多個層反射的光束,所述光束包 括從多個層中的第m層反射的信號光束Lm 、從多個層中的第m+1層反射的 第一雜光束Lm+l、以及從多個層中的第m-l層反射的第二雜光束Lm-l,所 述信號光束Lm會聚在第一焦點(diǎn)fm處,所述第 一雜光束Lm+1會聚在第二焦 點(diǎn)fm+l處,而且所述第二雜光束Lm-l會聚在第三焦點(diǎn)fm-l處;分束部件,比第二焦點(diǎn)fm+l更接近該聚光器部分定位,用于將光束分 裂為由聚光光學(xué)元件的光軸劃分的第 一和第二區(qū)域;前屏蔽部件,位于在第一區(qū)域側(cè)的第一焦點(diǎn)fm和第二焦點(diǎn)fm+l之間, 用于屏蔽第一雜光束Lm+l;以及后屏蔽部件,位于在第二區(qū)域側(cè)的第一焦點(diǎn)fm和第三焦點(diǎn)fm-l之間, 用于屏蔽第二雜光束Lm-l。
3、 一種光學(xué)拾取裝置,具有光源、準(zhǔn)直透鏡、檢測器和分離部件、物鏡、 光學(xué)檢測系統(tǒng)、以及光檢測器,用于向和從具有多層的光盤記錄和讀出信息,該光學(xué)拾取裝置包含聚光光學(xué)元件,用于會聚從所述光盤的多個層反射的光束,所述光束包括從多個層中的第m層反射的信號光束Lm、從多個層中的第m+l層反射的 第一雜光束Lm+l、以及從多個層中的第m-l層反射的第二雜光束Lm-l,所 述信號光束Lm會聚在第一焦點(diǎn)fm處,所述第一雜光束Lm+l會聚在第二焦 點(diǎn)fm+l處,而且所述第二雜光束Lm-l會聚在第三焦點(diǎn)fm-l處;分束部件,位于第一焦點(diǎn)fm和第二焦點(diǎn)fm+l之間,用于將光束分裂為 由聚光光學(xué)元件的光軸劃分的第一和第二區(qū)域;以及屏蔽部件,位于第一焦點(diǎn)fm和第三焦點(diǎn)fm-l之間,用于屏蔽第一雜光 束Lm+l和第二雜光束Lm-l。
4、 如權(quán)利要求3所述的光學(xué)拾取裝置,其中,所述分束部件包括一對光 楔,其中所述光楔的較薄側(cè)相配,以便所述光楔相對于聚光光學(xué)元件的光軸 4皮此對稱。
5、 如權(quán)利要求3所述的光學(xué)拾取裝置,其中,所述分束部件包括一對光 楔,其中所述光楔的較厚側(cè)相配,以便所述光楔相對于聚光光學(xué)元件的光軸
6、 如權(quán)利要求4所述的光學(xué)拾取裝置,其中,所述分束部件和屏蔽部件 形成為聯(lián)合體。
7、 如權(quán)利要求5所述的光學(xué)拾取裝置,其中,所述分束部件和屏蔽部件 形成為聯(lián)合體。
8、 如權(quán)利要求3所述的光學(xué)拾取裝置,其中,所述分束部件包括衍射光 柵,其用于相對于第一和第二區(qū)域提供不同的衍射。
9、 如權(quán)利要求8所述的光學(xué)拾取裝置,其中,所述衍射光柵被配置為衍 射所述光束,以便反轉(zhuǎn)所衍射的光束。
10、 如權(quán)利要求9所述的光學(xué)拾取裝置,其中,所述衍射光柵和屏蔽部 件形成為聯(lián)合體。
11、 如權(quán)利要求8所述的光學(xué)拾取裝置,其中,如果沒有提供所述衍射 光柵,則所述光源位于焦點(diǎn)fm處,其中所述光源以不能被所述衍射光柵衍射的方向發(fā)射線偏振光。
12、 如權(quán)利要求8所述的光學(xué)拾取裝置,其中,所述衍射光柵和屏蔽部件形成為聯(lián)合體。
13、 如權(quán)利要求8所述的光學(xué)拾取裝置,其中,所述衍射光柵、屏蔽部 件、光源、和光檢測器形成為聯(lián)合體。
14、 如權(quán)利要求1所述的光學(xué)拾取裝置,還包含另一個聚光光學(xué)元件, 被提供在所述光檢測器之前,其中所述光檢測器包括由平行于尋軌方向的線 劃分為兩個部分的部分。
15、 如權(quán)利要求1所述的光學(xué)拾取裝置,其中,所述光檢測器包括由與 尋軌方向垂直相交的線劃分的部分。
16、 如權(quán)利要求2所述的光學(xué)拾取裝置,還包含另一個聚光光學(xué)元件, 相對于由所述分束部件分裂的光束中的一部分而被提供在所述光檢測器的前 面,其中由所述另一個聚光光學(xué)元件會聚的信號光束由所述光學(xué)檢測部分斗企分。八 一 一。"、、,、;、
17、 如權(quán)利要求2所述的光學(xué)拾取裝置,其中,在其中沒有在所述光學(xué) 檢測部分的前面提供其它聚光光學(xué)元件的情況下,用于檢測由所述分束部件個部分的部分。
18、 如權(quán)利要求2所述的光學(xué)拾取裝置,還包含另一個聚光器部分, 被提供在光檢測器的前面,該光檢測器用于檢測經(jīng)由所述另 一個聚光器部分 而由所述分束部件分裂的光束的一部分;以及另 一個光檢測器,用于在由所述分束部件分裂的光束的另 一部分中檢測 信號光。
19、 一種光學(xué)記錄裝置,包含 如權(quán)利要求1所述的光學(xué)拾取裝置。
20、 一種光學(xué)再現(xiàn)裝置,包含 如權(quán)利要求1所述的光學(xué)拾取裝置。
21、 一種光學(xué)記錄和再現(xiàn)裝置,包含 如權(quán)利要求1所述的光學(xué)拾取裝置。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種光學(xué)拾取裝置以及光學(xué)記錄和再現(xiàn)裝置。該光學(xué)拾取裝置具有光源、準(zhǔn)直透鏡、檢測器和分離部件、物鏡、光學(xué)檢測系統(tǒng)、以及光檢測器,用于向和從具有多層的光盤記錄和讀出信息,該光學(xué)拾取裝置包含聚光光學(xué)元件,用于會聚從所述光盤的多個層反射的光束;前屏蔽部件,用于屏蔽定向到第一區(qū)域的光束;以及后屏蔽部件,用于屏蔽定向到第二區(qū)域的光束;其中所述第一和第二區(qū)域由聚光光學(xué)元件的光軸所劃分。
文檔編號G11B7/1381GK101354898SQ200810214299
公開日2009年1月28日 申請日期2006年3月2日 優(yōu)先權(quán)日2005年3月2日
發(fā)明者小形哲也 申請人:株式會社理光
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