專利名稱：：用于光拾取裝置的物鏡光學(xué)元件單元，光拾取裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及用于光拾取裝置的物鏡光學(xué)元件單元以及光拾取裝置，尤其涉及用于能夠?qū)Σ煌N類的光盤進行信息記錄及/或再生的光拾取裝置的物鏡光學(xué)元件單元，以及光拾取裝置。
背景技術(shù)：
：近年來，能夠利用波長400nm左右的藍紫色半導(dǎo)體激光進行信息記錄及/或再生(以下將"記錄及/或再生"寫成"記錄/再生，，)的高密度光盤的研究和開發(fā)正在迅速進展。例如，用NA0.85、光源波長405nm的規(guī)格進行信息記錄/再生的光盤、即所謂Blu-rayDisc(稱為BD)，對于其大小與DVD(NA0.6、光源波長650nm、記憶容量4.7GB)相同的直徑12cm的光盤每1層能夠記錄25GB左右的信息；還有用NAO.65、光源波長405nm的規(guī)格進行信息記錄/再生的光盤、即所謂HDDVD(稱為HD),對于其直徑12cm的光盤每l層能夠記錄l5GB左右的信息。本說明書中，稱這種光盤為"高密度光盤"?？紤]到現(xiàn)在有記錄著多種多樣信息的DVD(數(shù)字多用途光盤)、CD(小型光盤)出售，希望盡可能用一臺信息記錄再生裝置對各種光盤確切地進行信息記錄/再生。進一步考慮到光拾取裝置被搭載于筆記本型電腦等中，則單有對多種光盤的互換性還不夠，進一步推進小型化也很重要。作為能夠?qū)Ω呙芏裙獗P、DVD和CD的任何一種既維持互換性又確切地記錄/再生信息的方法，可以考慮相應(yīng)記錄/再生信息光盤的記錄密度、選擇性地替換高密度光盤用光學(xué)系統(tǒng)和DVD用光學(xué)系統(tǒng)的方法，但是這樣需要多個光學(xué)系統(tǒng)所以不利于小型化，而且成本上升。為了降低成本實現(xiàn)光拾取裝置的結(jié)構(gòu)簡單化，在具有互換性的光拾取裝置中優(yōu)選使高密度光盤用的光學(xué)系統(tǒng)和DVD/CD用的光學(xué)系統(tǒng)通用化，盡量減少構(gòu)成光拾取裝置的光學(xué)部件數(shù)。專利文獻1中公開了一種光拾取裝置，其中采用衍射構(gòu)造，能夠?qū)崿F(xiàn)保護基板厚度不同光盤的互換使用。專利文獻1:特開2005-158217號公報
發(fā)明內(nèi)容發(fā)明欲解決的問題根據(jù)專利文獻1的技術(shù)雖然可以提供能夠?qū)崿F(xiàn)對高密度光盤和其他光盤互換使用的光拾取裝置，但是，因為物鏡光學(xué)元件單元是采用形成了用來修正起因于光盤保護基板厚度的球面像差的衍射構(gòu)造(用來互換的光程差付與構(gòu)造)的塑料平行平板和玻璃透鏡，所以導(dǎo)致成本上升存在問題。對此，為了降低成本，可以考慮塑料透鏡，但是塑料的特性成為問題。塑料與玻璃相比隨溫度變化的折射率變化大，所以塑料材料的透鏡在溫度變化時產(chǎn)生較大的球面像差。這個問題在使用高NA的高密度光盤中尤其顯著。但在為了修正起因于溫度變化的球面像差而另設(shè)修正溫度變化的光程差付與構(gòu)造時，本發(fā)明者發(fā)現(xiàn)該光程查付與構(gòu)造的設(shè)置場所成為問題。例如，在平行平板的一個光學(xué)面上設(shè)用來互換的光程差付與構(gòu)造、在另一光學(xué)面上設(shè)修正溫度變化的光程差付與構(gòu)造時，兩者的成型模具不同所以產(chǎn)生偏心，這樣發(fā)生殘留彗形像差，存在問題。即使通過理想的成型使不產(chǎn)生偏心，但在為了不使光拾取裝置的光檢測器接受來自于平行平板的無用的反射光而相對入射光束傾斜地配置平行平板時，也會發(fā)生同樣的問題。也就是說，一光學(xué)面上設(shè)有用來互換的光程差付與構(gòu)造另一光學(xué)面上設(shè)有修正溫度變化的光程差付與構(gòu)造的平行平板一旦傾斜，則比如入射到衍射構(gòu)造中心的光束在平行平板內(nèi)穿過其間發(fā)生位移從偏離光程差付與構(gòu)造中心的位置射出，此時與偏心的情況同樣有發(fā)生殘留彗形像差的擔憂。本發(fā)明鑒于上述本發(fā)明者發(fā)現(xiàn)的問題點，以提供一種低成本并且能夠?qū)Σ煌墓庑畔⒂涗浗橘|(zhì)確切地進行信息的記錄及/或再生的光拾取裝置用的物鏡光學(xué)元件單元以及光拾取裝置為目的。用來解決問題的手段技術(shù)方案1記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，是用于下述光拾取裝置的物鏡光學(xué)元件單元，該光拾取裝置具有射出波長X1(nm)之第1光束的第1光源、射出波長(nm)(Xl〈人2)之第2光束的第2光源、物鏡光學(xué)元件單元，所述物鏡光學(xué)元件單元使所述第1光束經(jīng)由厚度t1的保護基板聚光于必要數(shù)值孔徑為NA1的第1光盤的信息記錄面上，從而能夠進行信息記錄及/或再生，或使所述第2光束經(jīng)由厚度t2(t1^t2)的保護基板聚光必要數(shù)值孔徑為NA2(NA1^NA2)的第2光盤的信息記錄面上，從而能夠進行信息記錄及/或再生，光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元的特征在于，所述物鏡光學(xué)元件單元包括分別以塑料為原材料的第l光學(xué)元件和第2光學(xué)元件，所述第1光學(xué)元件和所述第2光學(xué)元件被并排配置在光軸方向，所述第1光學(xué)元件具有相互面對的第1光學(xué)面和第2光學(xué)面，所述第1光學(xué)元件的所述第I光學(xué)面具有第1光程差付與構(gòu)造，所述第1光程差付與構(gòu)造是第1基礎(chǔ)構(gòu)造和第2基礎(chǔ)構(gòu)造的重疊構(gòu)造，所述第l基礎(chǔ)構(gòu)造和所述第2基礎(chǔ)構(gòu)造都具有同心圓狀的多個階梯，所述第1基礎(chǔ)構(gòu)造和所述第2基礎(chǔ)構(gòu)造都對所述波長X2的所述第2光束具有焦強。技術(shù)方案2記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，是技術(shù)方案1中記載的發(fā)明，其特征在于，所述第1光程差付與構(gòu)造在所述第1光束的所述波長人l為設(shè)計波長時沒有焦強，在所迷第1光束的所述波長人l偏離設(shè)計波長時具有焦強。技術(shù)方案3記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，是技術(shù)方案1或2中記載的發(fā)明，其特征在于，滿足下式(1):IfL2UD/fI^0,3(1)，其中，f所述第l光束入射到所述第l光學(xué)元件上時的焦點距離f所述第1光束入射到所述第2光學(xué)元件上時的焦點距離。技術(shù)方案4記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，是技術(shù)方案1至3的任何一項中記載的發(fā)明，其特征在于，所述第l光學(xué)元件的所述第2光學(xué)面，是所述第2光學(xué)元件側(cè)的光學(xué)面。技術(shù)方案5記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，是技術(shù)方案1至4的任何一項中記載的發(fā)明，其特征在于，所述第1光學(xué)元件是具有所述第1光程差付與構(gòu)造的平行平板。技術(shù)方案6記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，是技術(shù)方案1至5的任何一項中記載的發(fā)明，其特征在于，所述第2光學(xué)元件是具有有聚光功能的球面或非球面之光學(xué)面的透鏡。技術(shù)方案7記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，是技術(shù)方案6中記載的發(fā)明，其特征在于，所述第2光學(xué)元件可以沒有所述第1光學(xué)元件而只通過所述第2光學(xué)元件使得從所述第1光源射出的所述第1光束經(jīng)由厚度t1的保護基板聚光于所述第1光盤的信息記錄面。技術(shù)方案8記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，是技術(shù)方案1至7的任何一項中記載的發(fā)明，其特征在于，所述第1光學(xué)元件的光軸傾斜于所述第2光學(xué)元件的光軸。技術(shù)方案9記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，是技術(shù)方案1至8的任何一項中記載的發(fā)明，其特征在于，所述第l基礎(chǔ)構(gòu)造具有下述功能對所述第1光束修正起因于環(huán)境溫度變化的球面像差。技術(shù)方案IO記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，是技術(shù)方案1至9的任何一項中記載的發(fā)明，其特征在于，所述第2基礎(chǔ)構(gòu)造具有下述功能利用所述第1光束的所述波長人1和所述第2光束的所述波長X2的波長差，修正起因于所述第1光盤保護基板厚度tl和所述第2光盤保護基板厚度t2之差而發(fā)生的球面像差。技術(shù)方案11記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，是技術(shù)方案1至10的任何一項中記載的發(fā)明，其特征在于，所述第1光程差付與構(gòu)造被形成在所述第1光學(xué)元件的所述第1光學(xué)面上的像側(cè)數(shù)值孔徑(NA)相當于所述NA2以下的范圍上。技術(shù)方案12記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，是技術(shù)方案1至11的任何一項中記載的發(fā)明，其特征在于，所述第1光學(xué)元件的所述第1光學(xué)面在所述第1光程差付與構(gòu)造的周圍具有第3光程差付與構(gòu)造，所述第3光程差付與構(gòu)造僅具有所述第1基礎(chǔ)構(gòu)造。技術(shù)方案13記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，是技術(shù)方案12中記載的發(fā)明，其特征在于，所述第1光程差付與構(gòu)造以及所述第3光程差付與構(gòu)造的所述第1基礎(chǔ)構(gòu)造，在整個所述第1光學(xué)元件的所述第1光學(xué)面上，隨著從光軸起的高度升高而在光軸方向上變深，在超過任意高度后，隨著從光軸起的高度升高而在光軸方向上變淺。技術(shù)方案14記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，是技術(shù)方案1至13的任何一項中記載的發(fā)明，其特征在于，所述光拾取裝置具有射出波長X3(nm)(人2〈X3)之第3光束的第3光源，所述物鏡光學(xué)元件單元使所述第3光束經(jīng)由厚度t3(t2<t3)的保護基板聚光于必要數(shù)值孔徑為NA3(NA2〉NA3)的第3光盤的信息記錄面上，從而能夠進行信息的記錄及/或再生，所述第1光學(xué)元件的所述第2光學(xué)面具有第2光程差付與構(gòu)造，所述第2光程差付與構(gòu)造僅對所述第3光束持有焦強。技術(shù)方案15記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，是技術(shù)方案14中記載的發(fā)明，其特征在于，所述第2光程差付與構(gòu)造具有下述功能利用所述第1光束的所述波長X1和所述第3光束的所述波長人3的波長差，修正起因于所述第1光盤保護基板厚度t1和所述第3光盤保護基板厚度t3之差而發(fā)生的球面像差。技術(shù)方案16記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，是技術(shù)方案14或15中記載的發(fā)明，其特征在于，所述第1光程差付與構(gòu)造的所述第l基礎(chǔ)構(gòu)造是下述光程差付與構(gòu)造使得穿過所述第1基礎(chǔ)構(gòu)造的所述第l光束的2次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量；所述第2光束的1次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量；所述第3光束的1次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量。技術(shù)方案17記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，是技術(shù)方案14至16的任何一項中記載的發(fā)明，其特征在于，所述第l光程差付與構(gòu)造的所述第2基礎(chǔ)構(gòu)造是下述光程差付與構(gòu)造使得穿過所述第2基礎(chǔ)構(gòu)造的所述第1光束的0次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量；所述第2光束的1次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量；所述第3光束的0次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量。技術(shù)方案18記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，是技術(shù)方案14至17的任何一項中記載的發(fā)明，其特征在于，所述第2光程差付與構(gòu)造是下述光程差付與構(gòu)造，使得穿過所述第2光程差付與構(gòu)造的所述第1光束的0次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量；所述第2光束的0次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量；所述第3光束的士l次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量。技術(shù)方案19記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，是技術(shù)方案14至18的任何一項中記載的發(fā)明，其特征在于，所述第2光程差付與構(gòu)造被形成在所述第1光學(xué)元件的所述第2光學(xué)面上的像側(cè)數(shù)值孔徑(NA)相當于所述NA3以下的范圍上。技術(shù)方案20記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，是用于下述光拾取裝置的物鏡光學(xué)元件單元，該光拾取裝置具有射出波長X1(nm)之第1光束的第1光源、射出波長(nm)(Xl〈X2)之第2光束的第2光源、物鏡光學(xué)元件單元，所迷物鏡光學(xué)元件單元使所述第1光束經(jīng)由厚度t1的保護基板聚光于—必要數(shù)值孔徑.為NA1的第1光盤的信息記錄面上，從而能夠進行信息記錄及/或再生，或使所述第2光束經(jīng)由厚度t2(t1^t2)的保護基板聚光必要數(shù)值孔徑為NA2(NA1^NA2)的第2光盤的信息記錄面上，從而能夠進行信息記錄及/或再生，光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元的特征在于，所述物鏡光學(xué)元件單元包括分別以塑料為原材料的第l光學(xué)元件和第2光學(xué)元件，所述第1光學(xué)元件和所述第2光學(xué)元件被并排配置在光軸方向，所述第1光學(xué)元件具有相互面對的第1光學(xué)面和第2光學(xué)面，所述第1光學(xué)元件的所述第1光學(xué)面在小于等于所述NA2的區(qū)域上具有由同心圓狀的多個階梯切割成的同心圓狀的第1光程差付與構(gòu)造，所述第1光程差付與構(gòu)造的階梯的高低差dX滿足下列條件式0.9-a-U/(n-l)5dX(nm)化1-a-人l/(n-1)(2)，所述第1光學(xué)元件的所述第1光學(xué)面在大于所述NA2小于等于所述NA1的區(qū)域上，具有由同心圓狀的多個階梯切割成的第3光程差付與構(gòu)造，所述第3光程差付與構(gòu)造的高低差dY滿足下列條件式0.9.b.U/(n-1)^dY(nm)化1.b.U/(n-1)(3)，其中，n表示所述第1光束時的所述第1光學(xué)元件的折射率，a表示2、4、6、8或10的任何一個整數(shù)，在一個所述第1光程差付與構(gòu)造中可以采用多種a,b表示l、2、3、4或5的任何一個整數(shù)，在一個所述第3光程差付與構(gòu)造中可以采用多種b。技術(shù)方案21記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，是技術(shù)方案20中記載的發(fā)明，其特征在于，所述第1光程差付與構(gòu)造中采用多種所述高低差dX的a值，所述a值至少滿足2及8。技術(shù)方案22記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，是技術(shù)方案21中記載的發(fā)明，其特征在于，所述第1光程差付與構(gòu)造中采用多種所述高低差dX的a值，所述a值至少滿足2及8,并且滿足4、6或10的任何一個。技術(shù)方案23記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，是技術(shù)方案20至22的任何一項中記載的發(fā)明，其特征在于，所述第3光程差付與構(gòu)造中所述高低差dY的b值僅為一種。技術(shù)方案24記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，是技術(shù)方案20至23的任何一項中記載的發(fā)明，其特征在于，所述第3光程差付與構(gòu)造中所述高低差dY的b值為2、3或4的任何一個整數(shù)。技術(shù)方案25記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，是技術(shù)方案20至24的任何一項中記載的發(fā)明，其特征在于，所述第1光程差付與構(gòu)造從整體上看具有隨著從光軸起的高度升高而在光軸方向上變深之構(gòu)造。技術(shù)方案26記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，是技術(shù)方案20至25的任何一項中記載的發(fā)明，其特征在于，所述第1光程差付與構(gòu)造是第1基礎(chǔ)構(gòu)造和第2基礎(chǔ)構(gòu)造的重疊構(gòu)造，所述第1基礎(chǔ)構(gòu)造具有隨著從光軸起的高度升高而在光軸方向上變深之構(gòu)造，"所述第2基礎(chǔ)構(gòu)造是具有多個4階小階梯構(gòu)造之構(gòu)造。技術(shù)方案27記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，是技術(shù)方案20至26的任何一項中記載的發(fā)明，其特征在于，所述第3光程差付與構(gòu)造具有隨著從光軸起的高度升高而在光軸方向上變淺之構(gòu)造。技術(shù)方案28記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，是技術(shù)方案20至27的任何一項中記載的發(fā)明，其特征在于，所述光拾取裝置具有射出波長X3(nm)(X2〈人3)之第3光束的第3光源，所述物鏡光學(xué)元件單元使所述第3光束經(jīng)由厚度t3(t2<t3)的保護基板聚光于必要數(shù)值孔徑為NA3(NA2>NA3)的第3光盤的信息記錄面上，從而能夠進行信息的記錄及/或再生，所述第1光學(xué)元件的所述第2光學(xué)面在小于等于所述NA3的區(qū)域中具有由同心圓狀的多個階梯切割成的第2光程差付與構(gòu)造，所述第2光程差付與構(gòu)造的高低差dD滿足下列條件式(4):0.9-5-入l/(n-l)^dD(nm)^1.1-5.Xl/(n-1)(4)。技術(shù)方案29記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，是技術(shù)方案20至28的任何一項中記載的發(fā)明，其特征在于，所述第l光學(xué)元件的光軸傾斜于所述第2光學(xué)元件的光軸。技術(shù)方案30記載的光拾取裝置，其特征在于，具有技術(shù)方案1至29的任何一項中記載的物4竟光學(xué)元件單元。技術(shù)方案31記載的光拾取裝置，是技術(shù)方案30中記載的發(fā)明，其特征在于，所述第1光學(xué)元件被配置在光源側(cè)，所述第2光學(xué)元件被配置在光盤側(cè)。本發(fā)明光拾取裝置備有第1光源、第2光源，除此之外，還可以進一步備有第3光源。本發(fā)明光拾取裝置備有包括物鏡光學(xué)元件單元的聚光光學(xué)系統(tǒng)，該物鏡光學(xué)元件單元用來使第1光源射出的第1光束聚光于第1光盤(又稱光信息記錄介質(zhì)，以下相同)的信息記錄面上、使第2光源射出的第2光束聚光于第2光盤的信息記錄面上，上述聚光光學(xué)系統(tǒng)還可以使第3光源射出的第3光束聚光于第3光盤的信息記錄面上。本發(fā)明的光拾取裝置備有受光元件，其接受第l光盤、第2光盤信息記錄面的反射光，該受光元件也可以接受第3光盤信息記錄面的反射光。第1光盤具有厚度t1的保護基板和信息記錄面。第2光盤具有厚度t2(t1^t2)的保護基板和信息記錄面。采用第3光盤時以第3光盤具有厚度t3(t2<t3)的保護基板和信息記錄面。優(yōu)選第1光盤是高密度光盤，第2光盤是DVD,采用第3光盤時優(yōu)選第3光盤是CD,但并不局限于此。t1<t2時(例如第1光盤為BD、第2光盤為DVD時)用一個物鏡光學(xué)元件單元進行3種不同光盤的記錄及/或再生要比t1=t2時(例如第1光盤為HD、第2光盤為DVD時)來得更加困難，但本發(fā)明卻使之成為可能。第1光盤、第2光盤又第3光盤也可以是具有多個信息記錄面的多層光盤。本說明書中，作為高密度光盤的例子可以舉出由NA0.85的物鏡光學(xué)元件進行信息記錄/再生的保護基板厚度為0.1mm左右規(guī)格的光盤(例如BD:藍光光盤)。作為其他高密度光盤的例子可以舉出由NA0.65至0.67的物鏡光學(xué)元件進行信息記錄/再生的保護基板厚度為0.6mm左右規(guī)格的光盤(例如HDI)V1):簡稱HD)。高密度光盤中也包括信息記錄面上有數(shù)至數(shù)十nm程度厚度保護膜(本說明書中保護基板也包括保護膜)的光盤、保護基板厚度為0的光盤。另外高密度光盤中也包括采用藍紫色半導(dǎo)體激光和藍紫色SIIG激光作為信息記錄/再生用光源的光磁盤。本說明書中，DVD是由NAO..60-0.67程度的物鏡光學(xué)元件進行信息記錄/再生、保護基板的厚度為O.6mm左右的DVD系列光盤的總稱，包4舌DVD-ROM、DVD-Video、DVD-Audio、DVD-RAM、DVD-R、DVD-RW、DVD+R、DVD+RW等。另外本說明書中，CD是由NA0.45-0.51程度的物鏡光學(xué)元件進行信息記錄/再生、保護基板的厚度為12mm左右的CD系列光盤的總稱，包括CD-ROM、CD-Audio、CD-Video、CD-R、CD-RW等。記錄密度是高密度光盤的記錄密度最高，接下去按DVD、CD順序降低。優(yōu)選保護基板的厚度t1、12、t3滿足下列條件式(5)、(6)、(7),但并不局限于此。0.0750mm^t1^0.1125mm或0.5mm^t1^0.7mm(5)0.5mm^t2^0.7mm(6)0.9mm^t3^1.3mm(7)以用來對第1光盤再生及/或記錄信息所必需的物鏡光學(xué)元件的像側(cè)數(shù)值孔徑為NA1、用來對第2光盤再生及/或記錄信息所必需的物鏡光學(xué)元件的像側(cè)數(shù)值孔徑為NA2(NA1^NA2)、用來對第3光盤再生及/或記錄信息所必需的物鏡光學(xué)元件的像側(cè)數(shù)值孔徑為NA3(NA2>NA3)。優(yōu)選NA1在0.8以上0.9以下或在0.55以上0.7以下。優(yōu)選NA2在0.55以上0.7以下。優(yōu)選NA3在0.4以上0.5第1光源射出波長X1的第1光束。第2光源射出波長人2(X1<入2)的第2光束。采用第3光源時第3光源射出波長X3(X2<人3)的第3光束。本說明書中優(yōu)選第l光源、第2光源為激光光源。采用第3光源時也可以用激光光源。作為激光光源可以優(yōu)選采用半導(dǎo)體激光、硅激光、SHG激光等。優(yōu)選人1及X2滿足下列條件式(8)。采用第3光源時優(yōu)選X3滿足下列條件式(9)。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage17</formula>分別用BD或HD、DVD作為第1光盤、'第2光盤時，優(yōu)選第1光源的第1波長Xl在350nm以上44Onm以下，較優(yōu)選在380nm以上415nm以下，優(yōu)選第2光源的第2波長在570nm以上680nm以下，較優(yōu)選在630nm以上670nm以下。用CD作為第3光盤時，優(yōu)選第3光源的第3波長X3在750nm以上880nm以下，專交優(yōu)選在760nm以上820nm以下。第1光源和第2光源可以單元化，使用第3光源時第3光源也可以一起單元化。單元化是指例如第1光源和第2光源被固定收納在1插件中，但不局限于此，廣義則包括2個光源被固定在像差修正不能之狀態(tài)。除了光源之外，后述受光元件也可以l插件化。受光元件優(yōu)選采用光敏二極管等光檢測器。光盤信息記錄面的反射光向受光元件入射，利用其輸出信號能夠得到各光盤記錄信息的讀取信號。進一步檢測受光元件上斑點的形狀變化、位置變化的光量變化，進行對焦;^測和蹤跡檢測，可以根據(jù)該檢測移動物鏡光學(xué)元件以z使對焦、跟蹤。受光元件也可以由多個光檢測器構(gòu)成。受光元件也可以具備主光束檢測器和副光束檢測器，例如可以在接受信息記錄再生用之主光束的光檢測器的兩側(cè)設(shè)2個副光檢測器，通過這2個副光檢測器接受跟蹤調(diào)整用的副光束。受光元件也可以備有與各光源相應(yīng)的多個受光部。聚光光學(xué)系統(tǒng)(或后述物鏡光學(xué)元件單元)使第1光束經(jīng)由厚度t1的保護基板聚光于第光盤的信息記錄面上從而能夠進行信息的記錄及/或再生，使第2光束經(jīng)由厚度t2的保護基板聚光于第2光盤的信息記錄面上從而能夠進行信息的記錄及/或再生。有第3光源時，聚光光學(xué)系統(tǒng)使第3光束經(jīng)由厚度t3的保護基板聚光于第3光盤的信息記錄面上從而能夠進行信息的記錄及/或再生。聚光光學(xué)系統(tǒng)備有物鏡光學(xué)元件單元。聚光光學(xué)系統(tǒng)可以只有物鏡光學(xué)元件單元，也可以除了物鏡光學(xué)元件單元之外還備有其他準直透鏡等耦合透鏡。耦合透鏡是被配置在物鏡光學(xué)元件單元和光源之間的、改變光束發(fā)散角的單透鏡或透鏡組。聚光光學(xué)系統(tǒng)還可以備有衍射光學(xué)元件等光學(xué)元件，用來將光源射出的光束分割成用于信息記錄再生的主光束和用于跟蹤等的二個副光束。本說明書中，物鏡光學(xué)元件單元是指在光拾取裝置中裝有光盤的狀態(tài)下被配置在面對光盤之位置上的、具備將光源射出的光束聚光于光盤的信息記錄面上之功能的光學(xué)元件的單元。本發(fā)明的物鏡光學(xué)元件單元備有分開的第1光學(xué)元件和第2光學(xué)元件。第1光學(xué)元件和第2光學(xué)元件被排列在光軸方向上，相對位置固定?？梢允沟?光學(xué)元件及/或第2光學(xué)元件在光軸方向上有延伸的部分，使該延伸部分接到對方光學(xué)元件，從而第1光學(xué)元件和第2光學(xué)元件相互接合，形成物鏡光學(xué)元件單元。也可以把第1光學(xué)元件和第2光學(xué)元件固定到與第1光學(xué)元件及第2光學(xué)元件分開的別的框體上，由此形成物鏡光學(xué)元件單元。通常將物鏡光學(xué)元件單元配置到光拾取裝置中時，第l光學(xué)元件在光源側(cè)，第2光學(xué)元件在光盤側(cè)。第1光學(xué)元件第2光學(xué)元件都由塑料構(gòu)成。塑料只要是一般被用作光學(xué)材料的都可以，但優(yōu)選環(huán)狀烯烴類樹脂材料。較優(yōu)選使用下述樹脂材料溫度25。C時對波長405nm的折射率在1.54至1.60范圍內(nèi)，在溫度從-5。C到70。C的范圍內(nèi)伴隨溫度變化的對波長405nm的折射率變化率dN/dT(。C—')在-20xl0—5至-5xl0-5(較優(yōu)選-10x10—5至-8x10—5)范圍內(nèi)。第l光學(xué)元件及第2光學(xué)元件為塑料制時優(yōu)選耦合透鏡也是塑料透鏡。把第1光學(xué)元件和第2光學(xué)元件固定到與第1光學(xué)元件及第2光學(xué)元件分開的別的框體上從而形成物鏡光學(xué)元件單元時，優(yōu)選框體也由塑料構(gòu)成。第1光學(xué)元件有面對的第1光學(xué)面和第2光學(xué)面。優(yōu)選第2光學(xué)面在第2光學(xué)元件側(cè)。通常將物鏡光學(xué)元件單元配置到光拾取裝置中時，第1光學(xué)面在光源側(cè)，第2光學(xué)面在光盤側(cè)，但不局限于此。第1光學(xué)面?zhèn)溆械?光程差付與構(gòu)造。采用第3光盤時，第2光學(xué)面可以備有第2光程差付與構(gòu)造。因此，優(yōu)選第1光學(xué)元件光源側(cè)的光學(xué)面上設(shè)有第1光程差付與構(gòu)造，且第1光學(xué)元件光盤側(cè)的光學(xué)面上設(shè)有第2光程差付與構(gòu)造，也可以反過來。優(yōu)選第1光學(xué)元件是備有第1光程差付與構(gòu)造的平行平板狀元件，但不局限于平板狀元件，也可以有有若千折射力的光學(xué)面。尤其優(yōu)選第1光學(xué)元件是備有第1光程差付與構(gòu)造及第2光程差付與構(gòu)造的平板狀元件。本說明書中，光程差付與構(gòu)造是對入射光束附加光程差之構(gòu)造的總稱。一般光程差付與構(gòu)造中包括付與相位差的相位差付與構(gòu)造。相位差付與構(gòu)造中包括衍射構(gòu)造。優(yōu)選光程差付與構(gòu)造是衍射構(gòu)造。光程差付與構(gòu)造備有階梯，優(yōu)選備有多個階梯。由該階梯對入射光束附加光程差及/或相位差。被稱之為NPS構(gòu)造的構(gòu)造也可以認為是光程差付與構(gòu)造的一種，還可以認為是衍射構(gòu)造的一種。第1光程差付與構(gòu)造是第1基礎(chǔ)構(gòu)造和第2基礎(chǔ)構(gòu)造的重疊構(gòu)造。第1基礎(chǔ)構(gòu)造和第2基礎(chǔ)構(gòu)造都是對第2光束具有焦強的光程差付與構(gòu)造。這里的所謂"具有焦強"是指光程差付與構(gòu)造具有通過衍射作用彎折所定光束的行進方向之能力。第1光程差付與構(gòu)造在基準狀態(tài)(設(shè)計溫度設(shè)計波長)時至少對第2光束具有上述概念的焦強。優(yōu)選第1光程差付與構(gòu)造在基準狀態(tài)時對第1光束沒有焦強。第1光程差付與構(gòu)造在基準狀態(tài)時對第3光束可以有也可以沒有焦強。優(yōu)選第1光程差付與構(gòu)造是由同心圓狀的階梯切割成的環(huán)帶狀構(gòu)造。優(yōu)選第1光程差付與構(gòu)造被設(shè)在第1光學(xué)元件的第1光學(xué)面的像側(cè)數(shù)值孔徑(NA)相當于NA2以下的區(qū)域上。尤其優(yōu)選NA2在0.55以上O.7以下的情況。優(yōu)選第1光學(xué)元件的第1光學(xué)面在第1光程差付與構(gòu)造的周圍備有第3光程差付與構(gòu)造。優(yōu)選在第1光學(xué)元件的第1光學(xué)面的像側(cè)數(shù)值孔徑(NA)相當于大于NA2小于等于NA1的區(qū)域上設(shè)第3光程差付與構(gòu)造。優(yōu)選連續(xù)設(shè)置第1光程差付與構(gòu)造和第3光程差付與構(gòu)造。尤其優(yōu)選NA1在0.8以上0.9以下，NA2在0.55以上0.7以下。優(yōu)選第3光程差付與構(gòu)造僅有第1基礎(chǔ)構(gòu)造構(gòu)成。這樣第3光程差付與構(gòu)造也是對第2光束具有焦強的光程差付與構(gòu)造。優(yōu)選第1光程差付與構(gòu)造中的第1基礎(chǔ)構(gòu)造及第3光程差付與構(gòu)造中的第1基礎(chǔ)構(gòu)造合在一起19后設(shè)有第1基礎(chǔ)構(gòu)造的區(qū)域為整個第1光學(xué)面的70%以上，優(yōu)選在90%以上較優(yōu)選設(shè)在整個面上。接下去對第1基礎(chǔ)構(gòu)造作詳細說明。第1基礎(chǔ)構(gòu)造是對第1光束修正伴隨環(huán)境溫度變化而產(chǎn)生的球面像差之構(gòu)造。優(yōu)選是下述構(gòu)造在伴隨環(huán)境溫度變化而第1光束波長變化時及光學(xué)元件折射率變化時，修正伴隨這些變化而產(chǎn)生的球面像差。作為優(yōu)選的構(gòu)造例可以舉出所謂NPS構(gòu)造。如上所述第1基礎(chǔ)構(gòu)造是至少對第2光束持有焦強的光程差付與構(gòu)造。另外，優(yōu)選第1基礎(chǔ)構(gòu)造在第1光束的波長X1為設(shè)計波長時對第1光束沒有焦強(使第1光束透過)。但優(yōu)選當?shù)?光束的波長、1由于溫度變化和光源制造時的誤差而偏離設(shè)計波長時對第1光束有焦強。第1基礎(chǔ)構(gòu)造具有上述功能由此能夠修正伴隨溫度變化而發(fā)生的球面像差。光拾取裝置備有第3光源時優(yōu)選第1基礎(chǔ)構(gòu)造在第3光束的波長人3為設(shè)計波長時對第3光束沒有焦強(使第3光束透過)。但優(yōu)選當?shù)?光束的波長X3由于溫度變化和光源制造時的誤差而偏離設(shè)計波長時對第3光束有焦強。因此，優(yōu)選第1光程差付與構(gòu)造第3光程差付與構(gòu)造都是在第1光束的波長X1或第3光束的波長X3為設(shè)計波長時，對第1光束或第3光束沒有焦強，在第1光束的波長人1或第3光束的波長X3偏離設(shè)計波長時，對第1光束或第3光束有焦強。這里的"波長偏離設(shè)計波長，，優(yōu)選是在±10nm以內(nèi)。如圖1~圖4概略所示，第1基礎(chǔ)構(gòu)造可以取各種截面形狀(圖1~圖4所示例子是第1光學(xué)元件為平板形狀的情況)。圖l是鋸齒狀，圖2是高低差方向全部一致的階梯形狀。圖3是高低差方向在中途反轉(zhuǎn)的階梯形狀，即含光軸的階梯構(gòu)造的截面形狀如下到離開光軸所定高度為止是越離開光軸光程越長、離開光軸所定高度以后是越離開光軸光程越短；或者，到離開光軸所定高度為止是越離開光軸光程越短、離開光軸所定高度以后是越離開光軸光程越長。圖4表示包括光軸的截面形狀是同心圓狀地配列階梯狀圖案，每各所定的基準面(圖4所示例中基準面?zhèn)€數(shù)為5)使段位移各基準面對應(yīng)階數(shù)分(圖4所示例中是4階)的高度。優(yōu)選第1基礎(chǔ)構(gòu)造的階梯在光軸垂直方向持非周期性間隔?？傊瑑?yōu)選第1基礎(chǔ)構(gòu)造也是由同心圓狀的階梯切割成的環(huán)帶狀的構(gòu)造。尤其優(yōu)選第1光程差付與構(gòu)造中的第1基礎(chǔ)構(gòu)造和第3光程差付與構(gòu)造中的第1基礎(chǔ)構(gòu)造合在一起后整個第1基礎(chǔ)構(gòu)造含光軸的截面形狀如圖3(a)或圖5(b)所示，是到離開光軸所定高度為止是越離開光軸光程越長、離開光軸所定高度以后是越離開光軸光程越短之階梯構(gòu)造。換而言之，優(yōu)選是離開光軸的高度越高光軸方向越深，超過任意高度后光軸方向漸漸變淺之構(gòu)造。例如可以使第1光程差付與構(gòu)造的第1基礎(chǔ)構(gòu)造是離開光軸的高度越高光軸方向越深之構(gòu)造，使第3光程差付與構(gòu)造的第1基礎(chǔ)構(gòu)造(也就是第3光程差付與構(gòu)造本身)是離開光軸的高度越高光軸方向越淺之構(gòu)造。另外，第1光程差付與構(gòu)造的第1基礎(chǔ)構(gòu)造在第1光程差付與構(gòu)造的大多區(qū)域(例如面積比率80%以上)是離開光軸的高度越高光軸方向越深之構(gòu)造，但一部分也可以具有離開光軸的高度越高光軸方向漸漸變淺之構(gòu)造。相反，第3光程差付與構(gòu)造的第1基礎(chǔ)構(gòu)造(也就是第3光程差付與構(gòu)造本身)在第3光程差付與構(gòu)造的大多區(qū)域(例如面積比率80%以上)是離開光軸的高度越高光軸方向越淺之構(gòu)造，但一部分也可以具有離開光軸的高度越高光軸方向漸漸變深之構(gòu)造。尤其優(yōu)選第1光程差付與構(gòu)造中的第1基礎(chǔ)構(gòu)造是使穿過第1基礎(chǔ)構(gòu)造的第1光束的2次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、第2光束的1次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量之光程差付與構(gòu)造。采用第3光盤時，優(yōu)選上述第1基礎(chǔ)構(gòu)造使穿過第1基礎(chǔ)構(gòu)造的第3光束的1次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量。通過使第1基礎(chǔ)構(gòu)造為上述構(gòu)造，能夠抑制波長變動時衍射效率的變動幅度，而且能夠得到容易制造的光學(xué)元件。此時優(yōu)選第1基礎(chǔ)構(gòu)造是由同心圓狀的階梯切割成的環(huán)帶狀的構(gòu)造，其光軸方向的高低差dA(例如參照圖5(b))滿足下列條件式(10):0.9,2Al/(n-l)^dA(nm)化l*2.Xl/(n-1)(10),其中，人1表示第1光束的波長(nm)，n表示第1光學(xué)元件對第1光束的折射率。作為第l光程差付與構(gòu)造中的第1基礎(chǔ)構(gòu)造的其他例子，是使穿過第1基礎(chǔ)構(gòu)造的第1光束的10次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、第2光束的6次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量之光程差付與構(gòu)造。采用第3光盤時，優(yōu)選上述第1基礎(chǔ)構(gòu)造使穿過第1基礎(chǔ)構(gòu)造的第3光束的5次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量。此時優(yōu)選第1基礎(chǔ)構(gòu)造是由同心圓狀的階梯切割成的環(huán)帶狀的構(gòu)造，其光軸方向的高低差dA(例如參照圖5(b))滿足下列條件式(10'):0.9-10-U/(n-l)SdA(nm)化1-IO-入I/(n_1)(10'),其中，X1表示第1光束的波長(nm),n表示第1光學(xué)元件對第1光束的折射率。光拾取裝置不僅與第1、第2光盤而且還與第3光盤對應(yīng)時,可以使第1光程差付與構(gòu)造中的第1基礎(chǔ)構(gòu)造在相當于NA2以下的區(qū)域全都是相同的構(gòu)造，也可以以NA3為界使其構(gòu)造有所變化。例如可以構(gòu)成下述光程差付與構(gòu)造在小于等于NA3的區(qū)域中，使穿過第1基礎(chǔ)構(gòu)造的第1光束的2次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、第2光束的1次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、第3光束的1次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量；在大于NA3小于等于NA2的區(qū)域中，使穿過第1基礎(chǔ)構(gòu)造的第1光束的5次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、第2光束的3次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、第3光束的3次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量?；蛘呖梢詷?gòu)成下述光程差付與構(gòu)造在小于等于NA3的區(qū)域中，使穿過第l基礎(chǔ)構(gòu)造的第l光束的2次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、第2光束的1次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、第3光束的1次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量；在大于NA3小于等于NA2的區(qū)域中，使穿過第l基礎(chǔ)構(gòu)造的第1光束的10次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、第2光束的6次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、第3光束的5次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量。此時優(yōu)選小于等于NA3的區(qū)域中第1基礎(chǔ)構(gòu)造的高低差dA滿足上述條件式；大于NA3小于等于NA2的區(qū)域中第l基礎(chǔ)構(gòu)造在其光軸方向的高低差ciA'滿足下列條件式(11):0.9-5-X1/(n-l)^dA'(nm)化1.5Al/(n-1)(11)。還可以構(gòu)成下述光程差付與構(gòu)造在小于等于NA3的區(qū)域中，<吏穿過第1基礎(chǔ)構(gòu)造的第1光束的2次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、第2光束的1次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、第3光束的1次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量；在大于NA3小于等于NA2的區(qū)域中，使穿過第l基礎(chǔ)構(gòu)造的第1光束的10次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、第2光束的6次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、第3光束的5次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量。此時優(yōu)選小于等于NA3的區(qū)域中第1基礎(chǔ)構(gòu)造的高低差dA滿足上述條件式；大于NA3小于等于NA2的區(qū)域中第1基礎(chǔ)構(gòu)造在其光軸方向的高低差dA'滿足下列條件式(11'):0.9*10'入1/(n-1)^dA'(nm)化1*10.U/(n-1)(11')。另外，第3光程差付于構(gòu)造中的第1基礎(chǔ)構(gòu)造表示使穿過第1基礎(chǔ)構(gòu)造的第1光束的b次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量之光程差付與構(gòu)造時，b可以是任何整數(shù)。優(yōu)選b是1、2、3、4或5的任何一個整數(shù)。更優(yōu)選b是2、3或4的任何一個整數(shù)。此時，優(yōu)選第3光程差付與構(gòu)造是由同心圓狀的階梯切割成的環(huán)帶狀的構(gòu)造，其光軸方向的高低差dY滿足下列條件式(3)。并且優(yōu)選第3光程差付與構(gòu)造的所有高低差都滿足下列條件式(3):0.9.b-U/(n-l)^dY(nm)化1-b-U/(n-1)(3),其中，X1表示第1光束的波長(nm)，n表示第1光學(xué)元件對第1光束的折射率，b表示l、2、3、4、5的任何一個整數(shù)。一個第3光程差付與構(gòu)造中也可以采用多種b。較優(yōu)選滿足下列條件式(3'):0.95-b.U/(n-l)^dY(nm)^1.05-b-人l/(n_1)(3')。更優(yōu)選滿足下列條件式(3'，)dY(nm)=b.U/(n-1)(3'，)。優(yōu)選第3光程差付與構(gòu)造中的高低差dY的b值只有一種。還優(yōu)選高23低差dY的b值是2、3或4的任何一個整數(shù)。說明由上述第1基礎(chǔ)構(gòu)造修正因溫度變化而產(chǎn)生的球面像差的原理。圖6中的線(A)表示具有2個非球面光學(xué)面的塑料單透鏡的一例(例如第2光學(xué)元件)在溫度從設(shè)計基準溫度開始上升時的波面樣子，橫軸表示光學(xué)面的有效半徑，縱軸表示光程差。單透鏡因受伴隨溫度上升的折射率變化的影響而發(fā)生球面像差，如線(A)所示波面發(fā)生變化。尤其在單透鏡是塑料制的情況時，由于伴隨溫度變化的折射率變化大，所以球面像差的發(fā)生量大。線(B)是由第1基礎(chǔ)構(gòu)造(此時是第1光程差付與構(gòu)造的第1基礎(chǔ)構(gòu)造和第3光程差付與構(gòu)造的第1基礎(chǔ)構(gòu)造加在一起的構(gòu)造)附加在透過波面上的光程差，線(C)是溫度從設(shè)計基準溫度開始上升時透過上述第1基礎(chǔ)構(gòu)造和單透鏡的波面樣子示意圖。由線(B)及線(C)可知，透過上述第1基礎(chǔ)構(gòu)造的波面與溫度從設(shè)計基準溫度開始上升時單透鏡的波面相抵消，所以聚光于光盤信息記錄面上的激光波面從整體上看是沒有光程差的良好波面，由上述第1基礎(chǔ)構(gòu)造修正溫度變化引起的像差。接下去詳述第2基礎(chǔ)構(gòu)造。第2基礎(chǔ)構(gòu)造是下述構(gòu)造利用第1光束波長人1和第2光束波長X2的波長差，修正起因于第1光盤保護基板厚度tl和第2光盤保護基板厚度t2的差而發(fā)生的球面像差。如上所述，第2基礎(chǔ)構(gòu)造對第2光束具有焦強。優(yōu)選是對第1光束及第3光束沒有焦強(透過第1光束及第3光束)而僅僅對第2光束具有焦強的構(gòu)造。第2基礎(chǔ)構(gòu)造也如圖1~圖4概略所示，可以取各種截面形狀。優(yōu)選第2基礎(chǔ)構(gòu)造的階梯在光軸垂直方向持周期性間隔?？傊瑑?yōu)選第2基礎(chǔ)構(gòu)造也是由同心圓狀的階梯切割成的環(huán)帶狀的構(gòu)造。尤其優(yōu)選第2基礎(chǔ)構(gòu)造如圖4(a)、(b)或圖5(a)所示，包括光軸的截面形狀是同心圓狀地配列多個小階梯狀圖案，每各所定的基準面(尤其優(yōu)選基準面?zhèn)€數(shù)為5)使段位移各基準面對應(yīng)階數(shù)分(尤其優(yōu)選4階)的高度。尤其優(yōu)選第2基礎(chǔ)構(gòu)造是使穿過第2基礎(chǔ)構(gòu)造的第1光束的0次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、第2光束的1次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量之光程差付與構(gòu)造。采用第3光盤時，優(yōu)選上述第2基礎(chǔ)構(gòu)造使第3光束的0次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量。作為第2基礎(chǔ)構(gòu)造的優(yōu)選例，可以舉出例如如上述如圖5(a)所示的4階階梯狀之構(gòu)造。此時，優(yōu)選階梯狀構(gòu)造的小階梯在光軸方向的高低差dB和大階梯在光軸方向的高低差dC滿足下列條件式(12)、(13):<formula>formulaseeoriginaldocumentpage25</formula>其中，人1表示第1光束的波長(nm),n表示第1光學(xué)元件對第1光束的折射率。其他優(yōu)選的第2基礎(chǔ)構(gòu)造是使穿過第2基礎(chǔ)構(gòu)造的第1光束的0次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、第2光束的-1次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量之光程差付與構(gòu)造。采用第3光盤時，上述第2基礎(chǔ)構(gòu)造可以舉出是使第3光束的-2次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量之構(gòu)造。采用該第2基礎(chǔ)構(gòu)造時與使第1光束、第2光束及第3光束都作為平行光束入射到物鏡光學(xué)元件上相比，優(yōu)選使第2光束及/或第3光束的區(qū)域中，優(yōu)選是使穿過第2基礎(chǔ)構(gòu)造的第1光束的0次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、第2光束的-1次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、第3光束的-2次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量之構(gòu)造。而在大于NA3小于等于NA2的區(qū)域中，只要是使穿過第2基礎(chǔ)構(gòu)造的第1光束的0次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、第2光束的-1次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量之構(gòu)造，不特別過問使第3光束的幾次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量。重疊第1基礎(chǔ)構(gòu)造和第2基礎(chǔ)構(gòu)造可以得到例如如圖5(c)所示的第1光程差付與構(gòu)造。如圖5(c)所示，第1光程差付與構(gòu)造復(fù)雜且圖案沒有周期性，但從整體上看是離開光軸的高度越高光軸方向越深的構(gòu)造，此優(yōu)選。通過重疊第1基礎(chǔ)構(gòu)造和第2基礎(chǔ)構(gòu)造，這樣在第1光程差付與構(gòu)造中可以使穿過第1基礎(chǔ)構(gòu)造中心的光束必定穿過第2基礎(chǔ)構(gòu)造中心，所以殘留彗形像差減少，不管溫度變化如何，能夠確切地進行信息記錄及/或再生。優(yōu)選第1基礎(chǔ)構(gòu)造和第2基礎(chǔ)構(gòu)造重疊的第1光程差付與構(gòu)造是由同心圓狀的階梯切割成的環(huán)帶狀構(gòu)造，其光軸方向的高低差dX滿足下列條件式(2)。并且優(yōu)選第1光程差付與構(gòu)造的所有高低差都滿足下列條件式(2):0.9.a-Xl/(n-1)^(IX(nm)化1-a-Xl/(n_1)(2),其中，X1表示第1光束的波長(nm)，n表示第1光學(xué)元件對第1光束的折射率，a表示2、4、6、8或10的任何一個整數(shù)。一個第1光程差付與構(gòu)造中可以采用多種a。較優(yōu)選滿足下列條件式(2'):0.95,a.Xl/(n-1)SdX(nm)^1.05-a-U/(n_1)(2')。更優(yōu)選滿足下列條件式(2'，)dX(nm)=a.ll/(n-l)(2'，)。優(yōu)選第1光程差付與構(gòu)造的高低差dX的a值至少滿足2及8。即優(yōu)選第1光程差付與構(gòu)造至少具有2種類的高低差(這里的所謂"種類，，是把a值相同視為相同種類、a值不同視為不同種類)。具體是比如第1光程差付與構(gòu)造的所有高低差滿足2人1/(n-1)高低差和8■X1/(n-1)高低差的任何一個的情況。除了2及8之外，dX的a值也可以滿足4、6或10的任何一個。也就是說第1光程差付與構(gòu)造可以有3至5種高低差。具體是比如第1光程差付與構(gòu)造的所有高低差滿足2.X1/(n-1)高低差、8.X1/(n-1)高低差、10.Xl/(n-l)高低差的任何一個的情況。采用第3光盤時，優(yōu)選第1光學(xué)元件在第2光學(xué)面上具有第2光程差付與構(gòu)造。優(yōu)選在第1光學(xué)元件的第2光學(xué)元件側(cè)的光學(xué)面上設(shè)第2光程差付與構(gòu)造。優(yōu)選第2光程差付與構(gòu)造是下述構(gòu)造利用第1光束波長人1和第3光束波長X3的波長差，修正起因于第1光盤保護基板厚度t1和第3光盤保護基板厚度t3的差而發(fā)生的球面像差。優(yōu)選是對第1光束及第2光束沒有焦強(透過第1光束及第2光束)而僅對第3光束具有焦強的構(gòu)造。第2光程差付與構(gòu)造也如圖1~圖4概略所示可以取各種截面形狀，但優(yōu)選圖8中D2所示的二進位形狀。尤其優(yōu)選第2光程差付與構(gòu)造是使穿過第2光程差付與構(gòu)造的第1光束的0次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、第2光束的0次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、第3光束的士l次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量之構(gòu)造。第2光程差付與構(gòu)造為二進位形狀時，優(yōu)選圖8所示的二進位形狀構(gòu)造的階梯在光軸方向的高低差dD滿足下列條件式(4)。優(yōu)選第2光程差付與構(gòu)造的所有高低差都滿足條件式(4):0.9.5-入l/(n-l)$dD(nm)Sl.1.5-Xl/(n-1)(4)，其中，人1表示第1光束的波長(nm),n表示第1光學(xué)元件對第1光束的折射率。較優(yōu)選滿足下列條件式(4'):0.95-5.U/(n-1)^dl)(nm)化05-5.U/(n-1)(4')。更優(yōu)選滿足下列條件式(4'，)dD(nm)=5-U/(n-l)(4',)。優(yōu)選第2光程差付與構(gòu)造是由同心圓狀的階梯切割成的環(huán)帶狀構(gòu)造。優(yōu)選在第1光學(xué)元件的第2光學(xué)面的像側(cè)數(shù)值孔徑(NA)相當于小于等于NA3的區(qū)域上設(shè)第2光程差付與構(gòu)造。優(yōu)選NA3在0.4以上0.55以下。但是，在第1光程差付與構(gòu)造中的第2基礎(chǔ)構(gòu)造是使穿過第2基礎(chǔ)構(gòu)造的第1光束的0次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、第2光束的-1次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、第3光束的-2次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量之光程差付與構(gòu)造時，優(yōu)選不設(shè)第2光程差付與構(gòu)造。第2光學(xué)元件優(yōu)選是具有聚光功能的球面或非球面透鏡。尤其優(yōu)選僅由非球面的折射面構(gòu)成的單個塑料透鏡。優(yōu)選是最適合于使用第1光束對第1光盤進行信息記錄及/或再生的透鏡。即，優(yōu)選第2光學(xué)元件被設(shè)計成能夠不經(jīng)過第1光學(xué)元件而僅由第2光學(xué)元件使第l光束經(jīng)由厚度tl的保護基板聚光于第1光盤的信息記錄面上、從而能夠進行信息記錄及/或再生。優(yōu)選物鏡光學(xué)元件單元對第3光盤的工作距離WD3滿足下列(14)式0.20^WD3(mm)^0.50(14)。在以第1光束入射到第1光學(xué)元件上時的焦點距離為fL1ad、第1光束入射到第2光學(xué)元件上時的焦點距離為f,」un時，優(yōu)選滿足下列(1)式Ifl2an/fuuhI3(1)。較優(yōu)選滿足下列(1')式IfL2ai)/fL1U1)ISO05(1')。如果為了使fua,,/fuan大于(1)式下限地使第1光學(xué)元件持有焦強的話，這樣有利于容易抑制起因于溫度變化而產(chǎn)生的球面像差劣化。但是使第1光學(xué)元件過分持有焦強的話，擔憂對第3光盤的工作距離WD3縮短。在此通過使f,」q,)/f、，.，(,，)在(1)式的上限以下，這樣能夠在(1)式所示的范圍內(nèi)設(shè)定工作距離WD3。也可以使fuaD:①。使第1光學(xué)元件不持折射力(例如平行平板)時，如后面將要敘述的那樣，優(yōu)選傾斜設(shè)置第1光學(xué)元件。第1光學(xué)元件為平板形狀時，優(yōu)選在第1光學(xué)元件的光軸正好相對第2光學(xué)元件的光軸傾斜所定量的狀態(tài)下、固定第1光學(xué)元件及第2光學(xué)元件。即，優(yōu)選傾斜配置第1光學(xué)元件。可以說第1光學(xué)元件為平板形狀時，優(yōu)選使光拾取裝置光源射出的光束的主光線的光軸不平行于平板法線地配置第1光學(xué)元件。優(yōu)選光拾取裝置光源射出的光束的主光線的光軸與第2光學(xué)元件的光軸平行。通過這個構(gòu)成，第1光學(xué)元件反射的光束成為重像，能夠防止在光檢測器的受光面上產(chǎn)生不良影響，能夠進行更安定的記錄及/或再生。優(yōu)選所定量大于0度小于等于5度。較優(yōu)選在O.5度以上3度以下。物鏡光學(xué)元件中優(yōu)選即使多少犧牲波長特性也要改善溫度特性。優(yōu)選波長特性和溫度特性保持良好平衡。更優(yōu)選改善第1光盤記錄及/或再生時的溫度特性。為了滿足上述特性，優(yōu)選物鏡光學(xué)元件具有本發(fā)明構(gòu)造，滿足下列條件式(15)及(16):28+0.00045^5SATl/f(WFE入rms/(。C.mm))$+0.0027(15)，-0.045^5SAX/f(WFEhms/(nm.mm))￡-0.0045(16)。其中，SSATl表示使用波長(此時沒有伴隨溫度變化的波長變動)對第1光盤進行記錄及/或再生時物鏡光學(xué)元件的5SA3/ST。所謂使用波長是指備有物鏡光學(xué)元件的光拾取裝置中所采用的光源的波長。優(yōu)選使用波長是400nm以上415nm以下范圍的波長，是經(jīng)由物鏡光學(xué)元件能夠?qū)Φ?光盤進行記錄及/或再生的波長。使用波長不能如上所述設(shè)定時，也可以將405nm作為使用波長，求得物鏡光學(xué)元件的SSAT1及后述5SAT2、3SAT3。即，SSAT1是指使用波長(沒有波長變動)對第1光盤進行記錄及/或再生時物鏡光學(xué)元件的3次球面像差的溫度變化率(溫度特性)。WFE表示用波面像差表現(xiàn)3次球面像差。SSAX表示環(huán)境溫度一定的狀況下使用波長對第1光盤進行記錄及/或再生時的5SA3/5X。即，5SA人是指環(huán)境溫度一定的狀況下使用波長對第1光盤進行記錄及/或再生時物鏡光學(xué)元件的3次球面像差的波長變化率(波長特性)。優(yōu)選環(huán)境溫度為室溫。室溫是指10。C以上4(TC以下，優(yōu)選25°C。f是第1光束的使用波長(優(yōu)選405nm)時物鏡光學(xué)元件的焦點距離。較優(yōu)選滿足下列條件式(15)，+0.0009l￡5SATl/r(WFEXrms/(°C.mm))$+0.0018(15)，。另外，優(yōu)選滿足下列條件式(16)，-O.032^3SA人/f(WFEXrms/(nm,mm))^-0.0091(16),。更優(yōu)選滿足下列條件式(16)":-0.015^SSA人/f(WFE入rms/(nm.mm))^-0.011(16),,。進一步優(yōu)選物鏡光學(xué)元件具有下述球面像差的波長依存性能夠通過伴隨溫度變化的第1波長的波長變化，修正伴隨物鏡光學(xué)元件溫度變化的折射率變化所引起的球面像差變化。優(yōu)選滿足下列條件式(17):<formula>formulaseeoriginaldocumentpage30</formula>其中，SSAT2表示使用波長(伴隨溫度變化的波長變動為0.05nm/°C)(優(yōu)選405nm)對第光盤進行記錄及/或再生時物鏡光學(xué)元件的5SA3/ST。即，5SAT2是指使用波長(伴隨溫度變化的波長變動為0.05nm/。C)對第1光盤進行記錄及/或再生時物鏡光學(xué)元件的3次球面像差的溫度變化率(溫度特性)。光拾取裝置的聚光光學(xué)系統(tǒng)備有準直透鏡等耦合透鏡，所述耦合透鏡為塑料透鏡時，優(yōu)選滿足下列條件式(18):<formula>formulaseeoriginaldocumentpage30</formula>其中，SSAT3表示使用波長(伴隨溫度變化的波長變動為0.05nm/°C)(優(yōu)選405nm)對第光盤進行記錄及/或再生時包括耦合透鏡和物鏡光學(xué)元件的整個光學(xué)系統(tǒng)的SSA3/ST。即，SSAT3是指使用波長(伴隨溫度變化的波長變動為0.05nm/i:)對第i光盤進行記錄及/或再生時整個光學(xué)系統(tǒng)的3次球面像差的溫度變化率(溫度特性)。本發(fā)明涉及的光信息記錄再生裝置備有具有上述光拾取裝置的光盤驅(qū)動裝置。裝備在光信息記錄再生裝置中的光盤驅(qū)動裝置有下述方式只有搭載且支撐光盤的托盤能夠從藏有光拾取裝置等的光信息記錄再生裝置本體向外部抽出；連同藏有光拾取裝置等的光盤驅(qū)動裝置本體一起，向外部抽出。采用上述各方式的光信息記錄再生裝置中大致備有下述構(gòu)成部件，但不局限于此被收納在外殼中的光拾取裝置；連同外殼一起使光拾取裝置向光盤內(nèi)周或外周移動的搜索馬達等光拾取裝置的驅(qū)動源；光拾取裝置的移送手段，其中備有向光盤內(nèi)周或外周導(dǎo)向光拾取裝置外殼的導(dǎo)向軌等；進行光盤旋轉(zhuǎn)驅(qū)動的主軸馬達等。上述前者的方式除了上述各構(gòu)成部件之外還設(shè)有裝填機構(gòu)等，用來使搭載并支撐光盤的托盤滑動，后者的方式中沒有托盤及裝填機構(gòu)，優(yōu)選在相當于底架的抽屜上設(shè)各構(gòu)成部件，能夠向外部拉出。發(fā)明的效果根據(jù)本發(fā)明，能夠提供一種低成本并且能夠?qū)Σ煌墓庑畔⒂涗浗橘|(zhì)確切地進行信息的記錄及/或再生的光拾取裝置用的物鏡光學(xué)元件單元及光拾取裝置。圖1:光程差付與構(gòu)造例子示意圖。圖2:光程差付與構(gòu)造例子示意圖。圖3:光程差付與構(gòu)造例子示意圖。圖4:光程差付與構(gòu)造例子示意圖。圖5:第1光程差付與構(gòu)造的說明圖。圖6:由第1基礎(chǔ)構(gòu)造修正起因于溫度變化的像差劣化的原理說明圖。圖7:本實施方式的光拾取裝置的概略結(jié)構(gòu)示意圖。圖8:本實施方式的物鏡光學(xué)元件單元OBU的截面圖。圖9:物鏡光學(xué)元件單元OBU的一部分放大截面示意圖。符號說明AC12軸傳動裝置AC21軸傳動裝置C1區(qū)域C2區(qū)域C3區(qū)域C4區(qū)域CL準直光學(xué)系統(tǒng)D1第1光程差付與構(gòu)造D2第2光程差付與構(gòu)造HL鏡框L1第1光學(xué)元件L2第2光學(xué)元件LD1藍紫色半導(dǎo)體激光31LD2紅色半導(dǎo)體激光LD3紅外半導(dǎo)體激光LL激光M1標識M2標識ML反光鏡0A1光軸〇A2光軸〇BU物鏡光學(xué)元件單元Pl第1棱鏡P2第2棱鏡P3第3棱鏡PD光檢測器PL1保護基板PL2保護基板PL3保護基板PU光拾取裝置RL1信息記錄面RL2信息記錄面RL3信息i己錄面S1光源側(cè)的光學(xué)面S2光盤側(cè)的光學(xué)面SE傳感光學(xué)系統(tǒng)ST0光圈具體實施例方式接下去參照本發(fā)明的實施方式。先參照圖7說明采用本發(fā)明物鏡光學(xué)元件單元的光拾取裝置。圖7是對高密度光盤BD(第l光盤)、I〕VD(第2光盤)、CD(第3光盤)的任何一種都能夠確切地進行信息記錄再生的光拾取裝置PU的結(jié)構(gòu)概略示意圖。BD的規(guī)格是第l波長(設(shè)計波長)X1=405nm、保護基板PL1的厚度t1=00875mm、凄t值孔徑NA1=0.85(以該數(shù)值孔徑為NA1);DVD的失見格是第2波長(設(shè)計波長)X2=658nm、保護基板PL2的厚度t2=0.6mm、凄史值孔徑NA2=0.6(以該數(shù)值孔徑為NA2);CD的規(guī)格是第3波長(設(shè)計波長)X3=785iim、保護基板PL3的厚度t3=1.2mm、數(shù)值孔徑NA3=0.45(以該數(shù)值孔徑為NA3)。波長、保護基板的厚度及數(shù)值孔徑的組合不局限于上述。光拾取裝置PU包括B)用的射出波長Xl之第1光束的藍紫色半導(dǎo)體激光LD1(第1光源)；射出波長X2之第2光束的DVD用的紅色半導(dǎo)體體激光LD2(第2光源)；射出波長X3之第3光束的CD用的紅外半導(dǎo)體體激光LD3(第3光源)；BD/DVD/CD通用的受光元件PD;物鏡光學(xué)元件單元OBU;準直光學(xué)系統(tǒng)CL;2軸傳動裝置AC1;1軸傳動裝置AC2;第1棱鏡P1;第2棱鏡P2;第3棱鏡P3;反光鏡ML;用來對各光盤信息記錄面的反射光附加像散的傳感光學(xué)系統(tǒng)SE。圖8是本實施方式的物鏡光學(xué)元件單元OBU的截面圖。物鏡光學(xué)元件單元OBU是用塑料鏡框HL連結(jié)塑料平板狀的第1光學(xué)元件L1和塑料非球面透鏡的第2光學(xué)元件L2之結(jié)構(gòu)。圖中沒有出示，第1光學(xué)元件L1的光軸相對第2光學(xué)元件L2的光軸傾斜2.5度。第1光學(xué)元件L1以聚烯烴類塑料為原材料，對波長人l之第1光束的折射率為1.56、阿貝數(shù)50以上60以下，光源側(cè)的第1光學(xué)面S1被分割成相當于數(shù)值孔徑NA2以下的區(qū)域C2和相當于數(shù)值孔徑NA2以上NA1以下的區(qū)域C3,光盤側(cè)的第2光學(xué)面S2被分割成相當于數(shù)值孔徑NA3內(nèi)的區(qū)域C1和相當于數(shù)值孔徑NA3以上NA1以下的區(qū)域C4。第1光學(xué)元件L1第1光學(xué)面S1的區(qū)域C2上形成了第1光程差付與構(gòu)造D1。第1光程差付與構(gòu)造〕1是第1基礎(chǔ)構(gòu)造和第2基礎(chǔ)構(gòu)造的重疊，其中，第1基礎(chǔ)構(gòu)造如圖5(b)所示，取光軸方向截面形狀時，離開光軸的高度越高光軸方向深度越深；第2基礎(chǔ)構(gòu)造如圖5(a)所示，取光軸方向截面形狀時，有多個4階小階梯構(gòu)造；重疊的第1光程差付與構(gòu)造D1具有如圖5(c)所示的形狀第1基礎(chǔ)構(gòu)造是對第1光束修正伴隨溫度變化產(chǎn)生的球面像差之構(gòu)造。是所謂NPS構(gòu)造。第1光程差付與構(gòu)造的第1基礎(chǔ)構(gòu)造是使穿過第l基礎(chǔ)構(gòu)造的第1光束的2次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、第2光束的1衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、第3光束的1衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量之光程差付與構(gòu)造，是對第2光束具有焦強的光程差付與構(gòu)造。第1基礎(chǔ)構(gòu)造還是下述光程差付與構(gòu)造在第1光束及第3光束的波長是設(shè)計波長時，對第1光束及第3光束沒有焦強；在第1光束及第3光束的波長偏離設(shè)計波長時，對第1光束及第3光束有焦強。第1光程差付與構(gòu)造的第1基礎(chǔ)構(gòu)造是由階梯切割成的同心圓狀的環(huán)帶狀構(gòu)造，其光軸方向的高低差dA約為1.5nm。第2基礎(chǔ)構(gòu)造是利用第1光束波長人1和第2光束波長X2的波長差、修正起因于BD森護基板厚度t1和I)VD保護基板厚度t2的差而發(fā)生的球面像差之構(gòu)造。第2基礎(chǔ)構(gòu)造是使穿過第2基礎(chǔ)構(gòu)造的第1光束的0次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、第2光束的1衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、第3光束的0衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量之光程差付與構(gòu)造，是只對第2光束具有焦強的光程差付與構(gòu)造。第2基礎(chǔ)構(gòu)造的形狀如圖5(a)所示，是有多個4階小階梯狀構(gòu)造的構(gòu)造。此時，小階梯狀構(gòu)造中的小的階梯在光軸方向的高低差dB約為1.5pm，大的階梯在光軸方向的高低差dC約為5.7(im。第1基礎(chǔ)構(gòu)造和第2基礎(chǔ)構(gòu)造重疊的第1光程差付與構(gòu)造有3種高低差，分別為約1.5pm、約5.7ym、約71pm。通過重疊第1基礎(chǔ)構(gòu)造和第2基礎(chǔ)構(gòu)造，這樣能夠使穿過第1基礎(chǔ)構(gòu)造中心的光束必定穿過第2基礎(chǔ)構(gòu)造的中心，所以殘留彗形像差減少，不管溫度變化如何都能夠進行確切的信息記錄及/或再生。并且，在第1光學(xué)面S1的區(qū)域C3上設(shè)有僅由第1基礎(chǔ)構(gòu)造構(gòu)成的第3光程差付與構(gòu)造。第3光程差付與構(gòu)造使穿過第3光程差付與構(gòu)造的第1光束的4次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、第2光束的3及2次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、第3光束的2衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量。此時，第3光程差付與構(gòu)造在光軸方向的高低差dY約為2.9fim。第1光程差付與構(gòu)造及第3光程差付與構(gòu)造的第1基礎(chǔ)構(gòu)造在區(qū)域C2及區(qū)域C3整體看時是階梯構(gòu)造，含光軸的截面形狀如下到離開光軸所定高度為止是越離開光軸深度越深，離開光軸所定高度以后是越離開光軸深度越淺。第1光學(xué)元件L1第2光學(xué)面S2的區(qū)域C1上形成了二進位形狀構(gòu)造的第2光程差付與構(gòu)造D2。第2光程差付與構(gòu)造D2是利用第1光束波長X1和第3光束波長X3的波長差、修正起因于BD保護基板厚度t1和CD保護基板厚度t3的差而產(chǎn)生的球面像差之構(gòu)造。第2光程差付與構(gòu)造是使穿過第2光程差付與構(gòu)造的第1光束的0次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、第2光束的0次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、第3光束的±1次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量之構(gòu)造。二進位形狀構(gòu)造的階梯在光軸方向的高低差dD約為3.6)im。第2光學(xué)元件是非球面透鏡，由折射率1.56的聚烯烴類塑料構(gòu)成。第2光學(xué)元件被設(shè)計成不通過第1光學(xué)元件能夠單獨將第1光束聚光于BD的信息記錄面上。圖9是物鏡光學(xué)元件單元OBU的一部分放大截面示意圖。物鏡光學(xué)元件單元OBU中，第1光學(xué)元件L1的光軸OA1相對第2光學(xué)元件L2的光軸OA2傾斜角度0=2.5。。這樣能夠減少第1光學(xué)元件L1的反射光被光檢測器受光之擔憂。如圖9所示，第1光學(xué)元件Ll光源側(cè)的第1光學(xué)面(即設(shè)有第1光程差付與構(gòu)造和第3光程差付與構(gòu)造的光學(xué)面)的中心(光軸位置)上設(shè)有標識M1,第2光學(xué)元件L2的中心(光軸位置)上設(shè)有標識M2。用這些標識M1、M2來調(diào)準第1光學(xué)元件L1和第2光學(xué)元件L2?？梢栽O(shè)涂料標識也可以設(shè)凹部或凸部。為了使第1光學(xué)元件的傾斜不影響物鏡光學(xué)元件單元OBU的成像特性劣化，優(yōu)選調(diào)準到使例如從光源側(cè)平行于第2光學(xué)元件L2光軸OA2入射的激光LL能夠穿過第1光學(xué)元件L1中心標識M1并且穿過第2光學(xué)元件L2的中心標識M2沿著光軸OA2行進。如上所述，利用標識M1、M2就有關(guān)光軸OA2方向把第2光學(xué)元件L2和第1光學(xué)元件L1的中心調(diào)準在同一光程上，這樣不管第1光學(xué)元件L1的傾斜角e值如何，至少能夠降低作為物鏡光學(xué)元件單元OBU產(chǎn)生的彗形像差(尤其對第1光束第2光束)。第1光程差付與構(gòu)造、第3光程差付與構(gòu)造不是設(shè)在第1光學(xué)元件光源側(cè)的面上而是設(shè)在光盤側(cè)的面上時，優(yōu)選第1光學(xué)元件的標識也設(shè)在光35盤側(cè)的面上，調(diào)準到第1光學(xué)元件的標識和第2光學(xué)元件的標識在同一光程上。作為將第1光學(xué)元件L1的標識M—1配置在第2光學(xué)元件光軸OA2上的手法，從圖面左側(cè)在光軸OA2上觀察裝在鏡框HL上的第2光學(xué)元件L2，與此同時將第1光學(xué)元件L1配置在第2光學(xué)元件L2跟前，在鏡框內(nèi)移動第1光學(xué)元件L1使兩標識M1、M2—致。由此達成如圖9所示狀態(tài)，能夠確保物鏡光學(xué)元件單元OBU的成像特性。光拾取裝置PU中對BD進行信息記錄/再生時，由1軸傳動裝置AC2在光軸方向調(diào)整準直光學(xué)系CL位置，使波長X1的藍紫色激光光束(第1光束)以平行光束狀態(tài)從準直光學(xué)系CL射出，之后使i紫色半導(dǎo)體激光LD1發(fā)光。從藍紫色半導(dǎo)體激光LD1射出的發(fā)散光束其光線經(jīng)路如圖7中實線所示，經(jīng)第1棱鏡P1反射后依次透過第2棱鏡P2、第3棱鏡P3,由準直光學(xué)系CL變換成平行光束。經(jīng)反光鏡ML反射之后由光圈STO規(guī)制光束徑，由物鏡光學(xué)元件單元OBU經(jīng)由BD的保護基板PL1在信息記錄面上RL1形成聚光斑點。物鏡光學(xué)元件單元OBU通過被配置在其周圍的2軸傳動裝置AC1進行聚焦和跟蹤。第1光束透過第1光學(xué)元件L1的第1光學(xué)面S1并透過第2光學(xué)面S2，以平行光束狀態(tài)入射到第2光學(xué)元件L2，在NA1以內(nèi)(即C2和C3的重疊區(qū)域或C1和C4的重疊區(qū)域)范圍的第1光束全部由第2光學(xué)元件L2聚光于BD的信息記錄面。環(huán)境溫度變化時，通過上述裝置機構(gòu)能夠抑制球面像差的變動。在信息記錄面RL1經(jīng)信息槽調(diào)制的反射光束再次透過物鏡光學(xué)元件單元OBU,然后被反光鏡ML反射，穿過準直光學(xué)系CL時變成收斂光束。之后依次透過第3棱鏡P3、第2棱鏡P2及第1棱鏡P1,由傳感光學(xué)系SE附加像散，收束于光檢測器IM〕的受光面上。用光檢測器PD的輸出信號能夠讀取BD中的記錄信息。光拾取裝置PU中對DVD進行信息記錄/再生時，由1軸傳動裝置AC2在光軸方向調(diào)整準直光學(xué)系CL位置，使波長X2的紅色激光光束(第2光束)以平行光束狀態(tài)從準直光學(xué)系CL射出，之后使紅色半導(dǎo)體激光LI〕2發(fā)光。從紅色半導(dǎo)體激光LD2射出的發(fā)散光束其光線經(jīng)路如圖7中虛線所示，經(jīng)第2棱鏡P2反射后透過第3棱鏡P3，由準直光學(xué)系CL變換成平行光束。然后經(jīng)反光鏡ML反射后，由物鏡光學(xué)元件單元OBU經(jīng)由DVD的保護基板PL2在信息記錄面上RL2形成聚光斑點。物鏡光學(xué)元件單元OBU通過被配置在其周圍的2軸傳動裝置AC1進行聚焦和跟蹤。第2光束在第1光學(xué)元件L1第1光學(xué)面S1的區(qū)域C2中被變換成發(fā)散光，在區(qū)域C3中透過。穿過區(qū)域C2被變換成發(fā)散光的第2光束透過第2光學(xué)面S2，作為發(fā)散光入射到第2光學(xué)元件，聚光于DVD的信息記錄面上。而透過區(qū)域C3的第2光束就此以平行光束入射到第2光學(xué)元件，經(jīng)第2光學(xué)元件不形成聚光斑點，在DVD的信息記錄面上成為耀斑。因此，NA2以內(nèi)范圍(即C2區(qū)域)的第2光束被聚光于DVD的信息記錄面上，大于NA2之范圍(即C3區(qū)域)的第2光束成為耀斑。在信息記錄面RL2經(jīng)信息槽調(diào)制的反射光束再次透過物鏡光學(xué)元件單元OBU,然后被反光鏡ML反射，穿過準直光學(xué)系CL時變成收斂光束。之后依次透過第3棱鏡P3、第2棱鏡P2及第1棱鏡P1，由傳感光學(xué)系SE附加像散，收束于光檢測器Pl)的受光面上。用光檢測器PD的輸出信號能夠讀取DVD中的記錄信息。光拾取裝置PU中對CD進行信息記錄/再生時，由1軸傳動裝置AC2在光軸方向調(diào)整準直光學(xué)系CL位置，使波長人3的紅外激光光束(第三光束)以平行光束狀態(tài)從準直光學(xué)系CL射出，之后使紅外半導(dǎo)體激光LD3發(fā)光。從紅外半導(dǎo)體激光LI)3射出的發(fā)散光束其光線經(jīng)路如圖7中點劃線所示，經(jīng)第3棱鏡P3反射后由準直光學(xué)系CL變換成平行光束。然后經(jīng)反光鏡ML反射后，由物鏡光學(xué)元件單元OBU經(jīng)由CD的保護基板PL3在信息記錄面上RL3形成聚光斑點。物鏡光學(xué)元件單元OBU通過被配置在其周圍的2軸傳動裝置AC1進行聚焦和跟蹤。第3光束透過第1光學(xué)元件L1的第1光學(xué)面S1。然后第3光束在第1光學(xué)元件L1第2光學(xué)面S2的區(qū)域C1中被變換成發(fā)散光，在區(qū)域C4中透過。穿過區(qū)域Cl被變換成發(fā)散光的第3光束作為發(fā)散光入射到第2光學(xué)元件，聚光于CD的信息記錄面上。而透過區(qū)域C4的第3光束就此以平行光束入射到第2光學(xué)元件，經(jīng)第2光學(xué)元件不形成聚光斑點，在CD的信息記錄面上成為耀斑。因此，NA3以內(nèi)范圍(即C1區(qū)域)的第3光束^皮聚光于CD的信息記錄面上，大于NA3之范圍(即C4區(qū)域)的第3光束成為耀斑。在信息記錄面RL2經(jīng)信息槽調(diào)制的反射光束再次透過物鏡光學(xué)元件單元OBU，然后被反光鏡ML反射，穿過準直光學(xué)系CL時變成收斂光束。之后依次透過第3棱鏡P3、第2棱鏡P2及第1棱鏡P1，由傳感光學(xué)系SE附加像散，收束于光檢測器PD的受光面上。用光檢測器PD的輸出信號能夠讀取CD中的記錄信息。光拾取裝置PU中，通過由1軸傳動裝置AC2在光軸方向驅(qū)動準直光學(xué)系CL，能夠修正BD使用時的球面像差。這種球面像差修正機構(gòu)能夠修正起因于藍紫色半導(dǎo)體激光LI〕1的制造誤差引起的波長參差、伴隨溫度變化的物鏡光學(xué)系統(tǒng)的折射率變化和折射率分布、多層盤信息記錄面間的聚焦跳躍、保護基板PL1的制造誤差引起的厚度參差和厚度分布等的球面像差。也可以通過該球面像差修正機構(gòu)修正DVD使用時和CD使用時的球面像差。實施例接下去，說明能夠用于上述實施方式的實施例。下面的實施例中，物鏡光學(xué)元件單元如上所述，第1光學(xué)元件是聚烯烴類塑料平板狀光學(xué)元件，第2光學(xué)元件是聚烯烴類塑料非球面透鏡。在表1~表3中出示實施例的透鏡數(shù)據(jù)。下面(包括表中的透鏡數(shù)據(jù))10的冪(例如2.5x10—'，')用E(例如2.5E—3)表示。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage39</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage40</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage41</column></row><table>物鏡光學(xué)元件的光學(xué)面被形成為繞光軸軸對稱的非球面，該非球面分別由在數(shù)1式中代入表2中出示的系數(shù)后的數(shù)式規(guī)定。上式中，X(h)是光軸方向的軸(以光的行進方向為正)，K是圓錐常數(shù)，A2i是非球面系數(shù)，h是離開光軸的高度。X是入射光束的波長，XB是制造波長(閃耀化波長)，dor是衍射次數(shù)，B2i是光程差函數(shù)系數(shù)。本實施例中，雖然第1光學(xué)元件傾斜2.5度，但是調(diào)芯后的彗形像差BD為0入rms、DVD為0.001Xrms、CD為—0.0171rms，被抑制在很低。環(huán)境溫度變化時的像差量的變化也被抑制為較小。本實施例中，因為fliUi>=①、{'l2a,)=2.2，所以IfL2"i)/fu(入hI=0。關(guān)于本實施例物鏡光學(xué)元件的溫度特性，5SAT1為+0.0037WFEXrms/"C,SSAT2為+0.0022WFEXrms/。C。另外，因為第一波長時物鏡光學(xué)元件的f為2.2mm,所以5SATl/f為+0.0017WFEXrms/(°C.mm)。AT2/f為+0.001WFEXrms/rC'mm)。關(guān)于本實施例物鏡光學(xué)元件的波長特性，3SAX為-0.0284WFE人rms/nm，5SAAVf為—0.01rms/(nm,mm)。采用透鏡數(shù)據(jù)如表4中所示的準直光學(xué)系時，5SAT3為+0.0005WFEXrms/。C,5S八T3/「為+0.00023WFE入rms/(。C■mm)。數(shù)1由在數(shù)2式的光程差函42<table>tableseeoriginaldocumentpage43</column></row><table>權(quán)利要求1.一種光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，是下述光拾取裝置用的物鏡光學(xué)元件單元，該光拾取裝置具有射出波長λ1(nm)之第1光束的第1光源、射出波長λ2(nm)(λ1＜λ2)之第2光束的第2光源、物鏡光學(xué)元件單元，所述物鏡光學(xué)元件單元使所述第1光束經(jīng)由厚度t1的保護基板聚光于必要數(shù)值孔徑為NA1的第1光盤的信息記錄面上，從而能夠進行信息記錄及/或再生，或使所述第2光束經(jīng)由厚度t2(t1≤t2)的保護基板聚光必要數(shù)值孔徑為NA2(NA1≥NA2)的第2光盤的信息記錄面上，從而能夠進行信息記錄及/或再生，光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元的特征在于，所述物鏡光學(xué)元件單元包括分別以塑料為原材料的第1光學(xué)元件和第2光學(xué)元件，所述第1光學(xué)元件和所述第2光學(xué)元件在光軸方向并排配置，所述第1光學(xué)元件具有相互面對的第1光學(xué)面和第2光學(xué)面，所述第1光學(xué)元件的所述第1光學(xué)面具有第1光程差付與構(gòu)造，所述第1光程差付與構(gòu)造是重疊第1基礎(chǔ)構(gòu)造和第2基礎(chǔ)構(gòu)造之構(gòu)造，所述第1基礎(chǔ)構(gòu)造和所述第2基礎(chǔ)構(gòu)造都具有同心圓狀的多個階梯，所述第1基礎(chǔ)構(gòu)造和所述第2基礎(chǔ)構(gòu)造對所述波長λ2的所述第2光束都具有焦強。2.如權(quán)利要求1中記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，其特征在于，所述第1光程差付與構(gòu)造在所述第1光束的所述波長Xl為設(shè)計波長時沒有焦強，在所述第1光束的所述波長X1偏離設(shè)計波長時具有焦強。3.如權(quán)利要求1或2中記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，其特征在于滿足下式(1):<formula>formulaseeoriginaldocumentpage2</formula>(1)，其中，fu(u):所述第l光學(xué)元件上所述第l光束入射時的焦點距離，f所述第2光學(xué)元件上所述第l光束入射時的焦點距離。4.如權(quán)利要求1至3的任何一項中記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，其特征在于，所述第1光學(xué)元件的所述第2光學(xué)面是所述第2光學(xué)元件側(cè)的光學(xué)面。5.如權(quán)利要求1至4的任何一項中記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，其特征在于，所述第1光學(xué)元件是具有所述第1光程差付與構(gòu)造的平行平板。6.如權(quán)利要求1至5的任何一項中記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，其特征在于，所述第2光學(xué)元件是具有有聚光功能的球面或非球面之光學(xué)面的透鏡。7.如權(quán)利要求6中記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，其特征在于，所述第2光學(xué)元件能夠沒有所述第1光學(xué)元件而只通過所述第2光學(xué)元件使從所述第1光源射出的所述第1光束經(jīng)由厚度tl的保護基板聚光于所述第1光盤的信息記錄面。8.如權(quán)利要求1至7的任何一項中記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，其特征在于，所述第1光學(xué)元件的光軸相對所述第2光學(xué)元件的光軸傾斜。9.如權(quán)利要求1至8的任何一項中記載的光拾取裝置用物4竟光學(xué)元件單元，其特征在于，所述第1基礎(chǔ)構(gòu)造具有下述功能對所述第1光束修正起因于環(huán)境溫度變化而產(chǎn)生的球面像差。10.如權(quán)利要求1至9的任何一項中記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，其特征在于，所述第2基礎(chǔ)構(gòu)造具有下述功能利用所述第1光束的所述波長人1和所述第2光束的所述波長X2的波長差，修正起因于所述第1光盤保護基板厚度t1和所述第2光盤保護基板厚度t2之差而發(fā)生的球面像差。11.如權(quán)利要求1至10的任何一項中記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，其特征在于，所述第1光程差付與構(gòu)造被形成在所述第1光學(xué)元件的所述第1光學(xué)面上的像側(cè)數(shù)值孔徑(NA)相當于所述NA2以下的區(qū)域上。12.如權(quán)利要求1至11的任何一項中記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，其特征在于，所述第1光學(xué)元件的所述第1光學(xué)面在所述第1光程差付與構(gòu)造的周圍具有第3光程差付與構(gòu)造，所述第3光程差付與構(gòu)造僅具有所述第l基礎(chǔ)構(gòu)造。13.如權(quán)利要求12中記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，其特征在于，所述第1光程差付與構(gòu)造以及所述第3光程差付與構(gòu)造的所述第1基礎(chǔ)構(gòu)造，在所述第1光學(xué)元件的所述第1光學(xué)面的整個面上，是隨離開光軸的高度增加而在光軸方向上漸漸變深，超過任意高度后，隨離開光軸的高度增加而在光軸方向上漸漸變淺之構(gòu)造。14.如權(quán)利要求1至13的任何一項中記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，其特征在于，所述光拾取裝置具有射出波長X3(nm)(X2<人3)之第3光束的第3光源，所述物鏡光學(xué)元件單元使所述第3光束經(jīng)由厚度t3(t2<t3)的保護基板聚光于必要數(shù)值孔徑為NA3(NA2〉NA3)的第3光盤的信息記錄面上，從而能夠進4亍信息的記錄及/或再生，所述第1光學(xué)元件的所述第2光學(xué)面具有第2光程差付與構(gòu)造，所述第2光程差付與構(gòu)造僅對所述第3光束具有焦強。15.如權(quán)利要求14中記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，其特征在于，所述第2光程差付與構(gòu)造具有下述功能利用所述第l光束的所述波長人1和所述第3光束的所述波長X3的波長差，修正起因于所述第1光盤保護基板厚度tl和所述第3光盤保護基板厚度t3之差而發(fā)生的球面像差。16.如權(quán)利要求14或15中記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，其特征在于，所述第1光程差付與構(gòu)造的所述第1基礎(chǔ)構(gòu)造是下述光程差付與構(gòu)造使穿過所述第1基礎(chǔ)構(gòu)造的所述第1光束的2次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、所述第2光束的1次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、所述第3光束的1次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量。17.如權(quán)利要求14至16的任何一項中記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，其特征在于，所述第1光程差付與構(gòu)造的所述第2基礎(chǔ)構(gòu)造是下述光程差付與構(gòu)造使穿過所述第2基礎(chǔ)構(gòu)造的所述第1光束的0次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、所述第2光束的1次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、所述第3光束的0次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量。18.如權(quán)利要求14至17的任何一項中記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，其特征在于，所述第2光程差付與構(gòu)造是下述光程差付與構(gòu)造使穿過所述第2光程差付與構(gòu)造的所述第1光束的0次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量、所述第2光束的0次衍射光量大于其他任何次^:的衍射光量、所述第3光束的±1次衍射光量大于其他任何次數(shù)的衍射光量。19.如權(quán)利要求14至18的任何一項中記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，其特征在于，所述第2光程差付與構(gòu)造被形成在所述第1光學(xué)元件的所述第2光學(xué)面上的像側(cè)數(shù)值孔徑(NA)相當于所述NA3以下的范圍上。20.—種光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，是下述光拾取裝置用的物鏡光學(xué)元件單元，該光拾取裝置具有射出波長人1(nm)之第1光束的第l光源、射出波長X2(nm)(X1<X2)之第2光束的第2光源、物鏡光學(xué)元件單元，所述物鏡光學(xué)元件單元使所述第1光束經(jīng)由厚度tl的保護基板聚光于必要數(shù)值孔徑為NA1的第1光盤的信息記錄面上，從而能夠進行信息記錄及/或再生，或使所述第2光束經(jīng)由厚度t2(tl￡t2)的保護基板聚光必要數(shù)值孔徑為NA2(NA1^NA2)的第2光盤的信息記錄面上，從而能夠進行信息記錄及/或再生，光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元的特征在于，所述物鏡光學(xué)元件單元包括分別以塑料為原材料的第l光學(xué)元件和第2光學(xué)元件，所述第1光學(xué)元件和所述第2光學(xué)元件在光軸方向并排配置，所述第1光學(xué)元件具有相互面對的第1光學(xué)面和第2光學(xué)面，所述第1光學(xué)元件的所述第1光學(xué)面在小于等于所述NA2的區(qū)域上具有由同心圓狀的多個階梯切割成的第1光程差付與構(gòu)造，所述第1光程差付與構(gòu)造的階梯的高低差dX滿足下列條件式<formula>formulaseeoriginaldocumentpage5</formula>所述第1光學(xué)元件的所述第1光學(xué)面在大于所述NA2小于等于所述NA1的區(qū)域上，具有由同心圓狀的多個階梯切割成的第3光程差付與構(gòu)造，所述第3光程差付與構(gòu)造的高低差dY滿足下列條件式<formula>formulaseeoriginaldocumentpage5</formula>其中，n表示所述第1光束時的所述第1光學(xué)元件的折射率；a表示`2、4、6、8或10的任何一個整數(shù)，在一個所述第1光程差付與構(gòu)造中可以采用多種a;b表示l、2、3、4或5的任何一個整凄t，在一個所述第3光程差付與構(gòu)造中可以采用多種b。21.如權(quán)利要求20中記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，其特征在于，所述第1光程差付與構(gòu)造中采用多種所述高低差dX的a值，所述a值至少滿足2及8。22.如權(quán)利要求21中記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，其特征在于，所述第1光程差付與構(gòu)造中采用多種所述高低差dX的a值，所述a值至少滿足2及8，并且滿足4、6或10的任何一個。23.如權(quán)利要求20至22的任何一項中記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，其特征在于，所述第3光程差付與構(gòu)造中所述高低差dY的b值4叉為一種。24.如權(quán)利要求20至23的任何一項中記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，其特征在于，所述第3光程差付與構(gòu)造中所述高低差dY的b值為2、3或4的任何一個整數(shù)。25.如權(quán)利要求20至24的任何一項中記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，其特征在于，所述第1光程差付與構(gòu)造從整體上看具有下迷構(gòu)造隨離開光軸的高度增加而在光軸方向上漸漸變深。26.如權(quán)利要求20至25的任何一項中記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，其特征在于，所述第1光程差付與構(gòu)造是重疊第1基礎(chǔ)構(gòu)造和第2基礎(chǔ)構(gòu)造之構(gòu)造，所述第1基礎(chǔ)構(gòu)造具有下述構(gòu)造隨離開光軸的高度增加而在光軸方向上漸漸變深，所述第2基礎(chǔ)構(gòu)造是具有多個4階小階梯構(gòu)造之構(gòu)造。27.如權(quán)利要求20至26的任何一項中記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，其特征在于，所述第3光程差付與構(gòu)造具有下述構(gòu)造隨離開光軸的高度增加而在光軸方向上漸漸變淺。28.如權(quán)利要求20至27的任何一項中記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，其特征在于，所述光拾取裝置具有射出波長X3(nm)U2<人3)之第3光束的第3光源，所述物鏡光學(xué)元件單元使所述第3光束經(jīng)由厚度t3(t2<t3)的保護基板聚光于必要數(shù)值孔徑為NA3(NA2>NA3)的第3光盤的信息記錄面上，從而能夠進行信息的記錄及/或再生，所述第1光學(xué)元件的所述第2光學(xué)面在小于等于所述NA3的區(qū)域中具有由同心圓狀的多個階梯切割成的第2光程差付與構(gòu)造，所述第2光程差付與構(gòu)造的高低差dD滿足下列條件式(4):0.9-5,U/(n-l)^dD(nm)化1.5.U/(n-1)(4)。29.如權(quán)利要求20至28的任何一項中記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元，其特征在于，所述第i光學(xué)元件的光軸相對所述第2光學(xué)元件的光軸傾斜。30.—種光拾取裝置，其特征在于，備有如權(quán)利要求1至29的任何一項中記載的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元。31.如權(quán)利要求30中記載的光拾取裝置，其特征在于，所述第l光學(xué)元件被配置在光源側(cè)，所述第2光學(xué)元件配置在光盤側(cè)。全文摘要為了提供一種低成本并且能夠?qū)Σ煌庑畔⒂涗浗橘|(zhì)確切地進行信息記錄及/或再生的光拾取裝置用物鏡光學(xué)元件單元以及光拾取裝置，通過在第1光學(xué)元件L1光源側(cè)的光學(xué)面上重疊第1基礎(chǔ)構(gòu)造和第2基礎(chǔ)構(gòu)造，能夠使穿過第1基礎(chǔ)構(gòu)造中心的光束也必定穿過第2基礎(chǔ)構(gòu)造的中心，所以殘留彗形像差減少，不管溫度變化如何，都能夠確切地進行信息記錄及/或再生。文檔編號G11B7/1353GK101641739SQ200880009808公開日2010年2月3日申請日期2008年3月11日優(yōu)先權(quán)日2007年3月28日發(fā)明者中村健太郎,木村徹申請人:柯尼卡美能達精密光學(xué)株式會社