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微致動(dòng)器校正方法

文檔序號(hào):6778059閱讀:297來源:國知局
專利名稱:微致動(dòng)器校正方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種微致動(dòng)器校正方法,特別是涉及光驅(qū)光學(xué)讀取頭中,利用微致 動(dòng)器移動(dòng)物鏡偏移誤差的校正方法。
背景技術(shù)
一般光學(xué)讀取頭是利用微致動(dòng)器(Actuator)承載物鏡,并控制供給電壓大小所 形成相對(duì)的電磁力,在磁場中水平及垂直方向驅(qū)動(dòng)物鏡,使物鏡投射的激光束,鎖定聚 焦在光盤片,以讀寫光盤片。如圖1所示,為現(xiàn)有技術(shù)的微致動(dòng)器1,具有一基座2,四支彈性的金屬線3分 別由基座2的兩側(cè),延伸連接在承座4的兩側(cè),支撐承座4在基座2中漂浮移動(dòng)。承座 4中央承載投射激光束的物鏡5,承座4四周纏繞水平電磁線圈6,前后則設(shè)有垂直電磁 線圈7?;?延伸L型底板8,在底板8的兩端分別設(shè)磁塊9,使承座4介于兩磁塊9 的間。微致動(dòng)器1利用控制適量電壓至水平電磁線圈6及垂直電磁線圈7產(chǎn)生不同電磁 力,與兩磁塊9的磁力形成交互作用,驅(qū)動(dòng)承座4抵抗四支金屬線3的彈性,沿著聚焦方 向F上下移動(dòng),或沿著循軌方向T左右移動(dòng)。如圖2所示,為微致動(dòng)器1驅(qū)動(dòng)物鏡5聚焦的示意圖。現(xiàn)有技術(shù)的微致動(dòng)器1 固定在光學(xué)讀取頭10中,并隨著光學(xué)讀取頭10粗調(diào)移動(dòng)至光盤片11的目標(biāo)位置附近, 即由微致動(dòng)器1利用電壓產(chǎn)生電磁力,抵抗金屬線3的彈性細(xì)微移動(dòng)物鏡5,進(jìn)行目標(biāo)位 置的定位及聚焦。由于金屬線3的彈性與電壓的電磁力大小有一定的比例關(guān)系,微致動(dòng) 器1在循軌方向T,施加一定量的電壓,將移動(dòng)物鏡5離開未受電壓的中心相對(duì)比例的位 置,以控制物鏡5在循軌方向T移動(dòng)定位。對(duì)循軌方向T上每一位置,同樣在聚焦方向 F供給一定量電壓V,可使物鏡5移動(dòng)相同的高度H,以控制物鏡5在聚焦方向F的焦點(diǎn) 移動(dòng),聚焦在光盤片D的數(shù)據(jù)層。然而,微致動(dòng)器1常因制造組裝的誤差、金屬線3材質(zhì)不均、線圈纏繞質(zhì)量不良 及電磁線圈間相互作用,尤其在磁場變化較大的周邊區(qū)域,造成物鏡5未依電壓大小比 例移動(dòng),導(dǎo)致循軌方向T位置及聚焦高度誤差h。在閉回路的聚焦控制,雖然可藉由零 穿越的聚焦誤差,隨時(shí)將循軌方向T上不同位置的焦點(diǎn)鎖定在光盤片D的數(shù)據(jù)層。但是 在開回路中,尤其是在無法進(jìn)行聚焦的標(biāo)簽面,并無法消除循軌方向T上不同位置所造 的聚焦高度誤差h,導(dǎo)致微致動(dòng)器移動(dòng)物鏡5精度不足,不能精確在循軌方向T不同位置 上將焦點(diǎn)聚焦在特定位置,不利于光學(xué)讀取頭越來越精密的讀寫的要求。因此,現(xiàn)有技 術(shù)微致動(dòng)器在移動(dòng)物鏡的方法上,仍有校正的問題亟待解決
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在提供一種微致動(dòng)器校正方法,藉由校正微致動(dòng)器循軌方向T上 不同位置的聚焦電壓,形成聚焦電壓偏移曲線,以提高微致動(dòng)器聚焦精度。本發(fā)明另一目的在提供一種微致動(dòng)器校正方法,利用不同高度的參考反射面,校正微致動(dòng)器不同的 聚焦高度,形成的聚焦電壓偏移曲面,以提高微致動(dòng)器聚焦方向的 移動(dòng)精度。本發(fā)明再一目的在提供一種微致動(dòng)器校正方法,利用校正出的聚焦電壓偏移曲 線,直接補(bǔ)償卷標(biāo)面的聚焦電壓電平,以改善標(biāo)簽打印正確性。為了達(dá)到前述發(fā)明的目的,本發(fā)明的微致動(dòng)器校正方法,是設(shè)定參考反射面; 物鏡在微致動(dòng)器中循軌方向移動(dòng)數(shù)個(gè)校正位置,一一進(jìn)行聚焦行程,并記錄平移電壓與 聚焦電壓;設(shè)定一校正位置的聚焦電壓為基準(zhǔn)聚焦電壓,計(jì)算其它校正位置聚焦電壓對(duì) 基準(zhǔn)聚焦電壓的偏移量;利用各校正位置的偏移量及平移電壓,適應(yīng)出聚焦電壓偏移曲 線,根據(jù)該物鏡在該微致動(dòng)器中循軌方向移動(dòng)的平移電壓,內(nèi)插或外插計(jì)算聚焦電壓的 偏移量,補(bǔ)償物鏡在聚焦方向的電壓。本發(fā)明的微致動(dòng)器校正方法,校正打印卷標(biāo)的聚焦電壓時(shí),是將卷標(biāo)面對(duì)著物 鏡,開始進(jìn)行打印標(biāo)簽;根據(jù)卷標(biāo)面的打印位置,由卷標(biāo)面預(yù)先測試出的聚焦電壓電平 曲線,計(jì)算相對(duì)的聚焦電壓電平;根據(jù)微致動(dòng)器移動(dòng)物鏡對(duì)正打印位置的平移電壓,由 聚焦電壓偏移曲線,計(jì)算打印位置的聚焦電壓偏移量;將打印位置的聚焦電壓電平減去 聚焦電壓偏移量,補(bǔ)償聚焦電壓電平,以打印標(biāo)簽。本發(fā)明另一實(shí)施例微致動(dòng)器校正方法,設(shè)定數(shù)個(gè)不同高度的參考反射面,面對(duì) 微致動(dòng)器;分別對(duì)該每一參考反射面,以微致動(dòng)器的物鏡在循軌方向移動(dòng)數(shù)個(gè)校正位 置,一一進(jìn)行聚焦行程,并記錄平移電壓與聚焦電壓;設(shè)定一校正位置的聚焦電壓為基 準(zhǔn)聚焦電壓,計(jì)算其它校正位置聚焦電壓對(duì)基準(zhǔn)聚焦電壓的偏移量;以及利用各校正位 置不同高度參考反射面的偏移量及平移電壓,適應(yīng)出聚焦電壓偏移曲面。


圖1為現(xiàn)有技術(shù)微致動(dòng)器的立體圖。圖2為現(xiàn)有技術(shù)微致動(dòng)器聚焦的示意圖。圖3為本發(fā)明微致動(dòng)器進(jìn)行校正的示意圖。圖4為本發(fā)明微致動(dòng)器校正記錄的坐標(biāo)圖。圖5為本發(fā)明微致動(dòng)器的聚焦電壓偏移曲線。圖6為本發(fā)明微致動(dòng)器校正方法的流程圖。圖7為本發(fā)明對(duì)卷標(biāo)面聚焦電壓校正方法的示意圖。圖8為本發(fā)明對(duì)卷標(biāo)面聚焦電壓校正方法的流程圖。圖9為本發(fā)明對(duì)任一聚焦高度的比例補(bǔ)償示意圖。圖10為本發(fā)明微致動(dòng)器校正方法的聚焦電壓偏移曲面。附圖符號(hào)說明20光學(xué)讀取頭21微致動(dòng)器22參考反射面23 物鏡
具體實(shí)施例方式有關(guān)本發(fā)明為實(shí)現(xiàn)上述目的,所采用的技術(shù)手段及其功效,茲舉較佳實(shí)施例,并結(jié)合

如下。請(qǐng)參考圖3,圖3為本發(fā)明微致動(dòng)器進(jìn)行校正的示意圖。首先利用光學(xué)讀取頭20將微致動(dòng)器21移動(dòng)至一參考反射面22,使微致動(dòng)器21面對(duì)平整的參考反射面22,參 考反射面22在聚焦方向F距離微致動(dòng)器21預(yù)定高度K,且可以正常光盤片的數(shù)據(jù)層或卷 標(biāo)層取代參考反射面22。在開回路下,分別供給不同平移電壓Tv,讓微致動(dòng)器21驅(qū)動(dòng) 物鏡23在循軌方向T的移動(dòng)范圍內(nèi)分散移動(dòng)至數(shù)個(gè)校正位置。校正位置最佳包含平移電 壓Τν = 0,即物鏡23位于微致動(dòng)器21中央的校正位置。在每一校正位置,進(jìn)行聚焦行 程,供給聚焦電壓Fv,在聚焦方向F上下移動(dòng)物鏡23,使物鏡23激光束投射至參考反射 面22,達(dá)到最大的光總合訊號(hào),作為確認(rèn)聚焦在參考反射面22,并記錄該校正位置的平 移電壓Tv與聚焦電壓Fv。如圖4所示,為本發(fā)明微致動(dòng)器的校正記錄。將每一校正位置所記錄的平移電 壓Tv與聚焦電壓Fv,列于坐標(biāo)圖。顯示數(shù)個(gè)校正位置對(duì)相同高度的參考反射面,聚焦電 壓Fv并不相同。設(shè)定一校正位置的聚焦電壓為基準(zhǔn)聚焦電壓FvO,因物鏡位于微致動(dòng)器中 央,平移電壓Τν = 0,電磁的交互作用最少的校正位置,最佳以其聚焦電壓設(shè)為基準(zhǔn)聚焦 電壓FvO。計(jì)算出其它校正位置聚焦電壓Fv對(duì)基準(zhǔn)聚焦電壓FvO的偏移聚焦電壓Δ V。如圖5所示,為本發(fā)明微致動(dòng)器的聚焦電壓偏移曲線。將計(jì)算出的各校正位置 的偏移聚焦電壓Δ V及其平移電壓Τν,列為圖中的坐標(biāo)圖。即可利用數(shù)個(gè)校正位置的校 正數(shù)據(jù),適應(yīng)(Curve Fitting)出微致動(dòng)器的聚焦電壓偏移曲線G。因此,如參考反射面 在聚焦方向F距離微致動(dòng)器的預(yù)定高度K,等于微致動(dòng)器聚焦在光盤片的距離。則對(duì)于 微致動(dòng)器在循軌方向T移動(dòng)物鏡的任何位置,即可利用其所移動(dòng)物鏡的平移電壓Tv,由 聚焦電壓偏移曲線G內(nèi)插或外插,取得光盤片聚焦電壓的偏移量,作為在聚焦方向F移 動(dòng)物鏡的電壓補(bǔ)償,以校正微致動(dòng)器的聚焦移動(dòng)誤差。前述本發(fā)明微致動(dòng)器校正的過程,雖以在開回路進(jìn)行舉例說明,但本發(fā)明校正 聚焦電壓亦可在閉回路下執(zhí)行。即微致動(dòng)器可藉由閉回路的聚焦誤差,將焦點(diǎn)鎖在參考 反射面時(shí),擷取包含平移電壓Tv = O的數(shù)個(gè)校正位置的平移電壓Tv及其相對(duì)應(yīng)的聚焦電 壓Fv。再依前述校正過程,同樣可獲得聚焦電壓偏移曲線P。如圖6所示,為本發(fā)明微致動(dòng)器校正方法的流程。本發(fā)明利用聚焦電壓偏移曲 線校正微致動(dòng)器移動(dòng)精度的詳細(xì)步驟,說明如下首先在步驟R1,設(shè)定預(yù)定高度的參考 反射面,使微致動(dòng)器面對(duì)參考反射面的反射面。在步驟R2,物鏡在循軌方向T移動(dòng)范圍 內(nèi)的數(shù)個(gè)校正位置,校正位置最佳包含平移電壓Tv = O的校正位置,進(jìn)行聚焦行程,并 一一記錄校正位置的平移電壓Tv與聚焦電壓Fv。進(jìn)入步驟R3設(shè)定平移電壓Tv = O的 校正位置,以其聚焦電壓Fv為基準(zhǔn)聚焦電壓FvO,計(jì)算出其它校正位置聚焦電壓Fv對(duì)基 準(zhǔn)聚焦電壓FvO的偏移聚焦電壓△ V。接著在步驟R4,將計(jì)算出的各校正位置的偏移聚 焦電壓Δν及平移電壓Tv,適應(yīng)出微致動(dòng)器的聚焦電壓偏移曲線G。最后在步驟R5, 根據(jù)物鏡在循軌方向T移動(dòng)的平移電壓Τν,由聚焦電壓偏移曲線內(nèi)插或外插,取得聚焦 電壓的偏移量,補(bǔ)償聚焦方向F的電壓,以校正微致動(dòng)器的聚焦移動(dòng)誤差。因此,本發(fā)明微致動(dòng)器校正方法,即可藉由微致動(dòng)器在循軌方向T上不同校正位置的平移電壓及聚焦電壓,形成聚焦電壓偏移曲線,利用循軌方向T移動(dòng)物鏡的平移 電壓Tv,內(nèi)插或外插相對(duì)的偏移量,補(bǔ)償聚焦方向F的電壓,達(dá)到提高微致動(dòng)器聚焦移 動(dòng)精度的目的。如圖7所示,為本發(fā)明對(duì)卷標(biāo)面聚焦電壓校正方法的示意圖。本發(fā)明微致動(dòng)器校正方法可用于光雕盤片打印卷標(biāo)圖案。由于微致動(dòng)器無法對(duì)標(biāo)簽面進(jìn)行鎖定聚焦打印 卷標(biāo)圖案,現(xiàn)有技術(shù)是以一預(yù)先測試出的聚焦電壓電平曲線L,作為微致動(dòng)器在聚焦方向 F移動(dòng)物鏡的電壓目標(biāo)。因此,微致動(dòng)器在卷標(biāo)面打印卷標(biāo)的任一位置P,均可由聚焦電 壓電平曲線L獲得一相對(duì)的聚焦電壓電平Fvl。由于微致動(dòng)器到達(dá)位置P附近,以平移 電壓Tv細(xì)調(diào)移動(dòng)物鏡對(duì)正位置P時(shí),因物鏡在聚焦方向上的偏移,聚焦電壓電平Fvl無 法將焦點(diǎn)聚焦在標(biāo)簽面上,利用該平移電壓Tv由聚焦電壓偏移曲線G,取得聚焦電壓偏 移量Fv2做為補(bǔ)償量,因此,聚焦電壓電平Fvl必需補(bǔ)償偏移量Fv2,即Fvl+Fv2,才能 將焦點(diǎn)聚焦在標(biāo)簽面上,列出正確的卷標(biāo)圖案。如圖8所示,本發(fā)明對(duì)卷標(biāo)面聚焦電壓校正方法的流程。本發(fā)明利用微致動(dòng)器 校正方法補(bǔ)償卷標(biāo)面聚焦電壓的詳細(xì)步驟,說明如下首先在步驟Si,執(zhí)行前述微致動(dòng) 器校正偏移量,形成聚焦電壓偏移曲線。在步驟S2,將標(biāo)簽面對(duì)著物鏡,開始進(jìn)行打印 標(biāo)簽。步驟S3根據(jù)卷標(biāo)打印位置,由卷標(biāo)面的聚焦電壓電平曲線,計(jì)算獲得相對(duì)的聚 焦電壓電平Fvl。在步驟S4根據(jù)微致動(dòng)器移動(dòng)物鏡對(duì)正打印位置的平移電壓Tv,由聚 焦電壓偏移曲線,內(nèi)插或外插計(jì)算打印位置的聚焦電壓偏移量Fv2。進(jìn)入步驟S5,利用 Fvl+Fv2補(bǔ)償聚焦電壓電平Fvl。最后在步驟S5,將焦點(diǎn)聚焦在標(biāo)簽面上,列出正確的 卷標(biāo)圖案。因此,本發(fā)明微致動(dòng)器校正方法,即可利用校正出的微致動(dòng)器聚焦電壓偏移曲 線,配合卷標(biāo)面的聚焦電壓電平曲線,直接補(bǔ)償卷標(biāo)面的聚焦電壓電平,改善卷標(biāo)面的 聚焦誤差,達(dá)到提高標(biāo)簽打印正確性的目的。如圖9所示,為本發(fā)明微致動(dòng)器校正方法對(duì)任一聚焦方向高度的比例補(bǔ)償示意 圖。前述微致動(dòng)器校正方法,是針對(duì)焦點(diǎn)在例如光盤片數(shù)據(jù)層或卷標(biāo)面等特定高度的 參考反射面,進(jìn)行校正。至于焦點(diǎn)在聚焦方向不同高度的電壓補(bǔ)償,可由已知特定高度 的聚焦電壓偏移曲線G及其基準(zhǔn)聚焦電壓FvO,根據(jù)所在的平移電壓Tvl由聚焦電壓偏 移曲線G內(nèi)插或外插取得聚焦電壓偏移量AFv,利用微致動(dòng)器的聚焦電壓V與基準(zhǔn)聚 焦電壓FvO大小比例關(guān)系,計(jì)算出聚焦電壓V的聚焦電壓偏移量Δν,即AV= (FvO/ VD X AFv。以補(bǔ)償不同聚焦高度的移動(dòng)誤差。但為取得更精確的移動(dòng)精度,如圖10所示,為本發(fā)明另一實(shí)施例微致動(dòng)器校正 方法。本實(shí)施例利用數(shù)個(gè)不同預(yù)定高度K的參考反射面,對(duì)每一預(yù)定高度K的參考反射 面,如前實(shí)施例校正循軌方向數(shù)個(gè)平移電壓Tv的校正位置,記錄的平移電壓Tv與相對(duì) 應(yīng)的聚焦電壓Fv,并設(shè)定基準(zhǔn)聚焦電壓FvO,計(jì)算出偏移電壓Δν。再將各個(gè)校正位置 不同預(yù)定高度K的偏移電壓Δν,適應(yīng)出聚焦電壓偏移曲面Μ。微致動(dòng)器實(shí)際移動(dòng)物鏡 時(shí),利用平移電壓Tvn控制驅(qū)動(dòng)物鏡在循軌方向的位置,控制物鏡在聚焦方向所需移動(dòng) 的高度Κη,由聚焦電壓偏移曲面M對(duì)應(yīng)點(diǎn)N,內(nèi)插或外插取得聚焦電壓偏移量Δ Vn, 對(duì)微致動(dòng)器學(xué)習(xí)的聚焦方向高度控制電壓進(jìn)行補(bǔ)償。由于本實(shí)施例對(duì)每一預(yù)定高度K的參考反射面,都有一設(shè)定基準(zhǔn)聚焦電壓FvO,因此,本發(fā)明微致動(dòng)器校正方法,亦可利用設(shè)定基準(zhǔn)聚焦電壓FvO取代預(yù)定高度K,適應(yīng) 出聚焦電壓偏移曲面。讓微致動(dòng)器以循軌方向上的平移電壓,及其所用聚焦電壓,經(jīng)由 對(duì)照基準(zhǔn)聚焦電壓FvO,直接由聚焦電壓偏移曲面內(nèi)插或外插取得聚焦電壓偏移量,達(dá)到 提高微致動(dòng)器聚焦方向的移動(dòng)精度。
以上所述僅用以方便說明本發(fā)明的較佳實(shí)施例,本發(fā)明的范圍不限于上述較佳 實(shí)施例,凡依本發(fā)明所做的任何變更,于不脫離本發(fā)明的精神下,皆屬本發(fā)明的權(quán)利要 求的范圍。
權(quán)利要求
1.一種微致動(dòng)器校正方法,包含步驟(1)設(shè)定參考反射面,面對(duì)微致動(dòng)器;(2)該微致動(dòng)器的物鏡在循軌方向移動(dòng)數(shù)個(gè)校正位置,一一進(jìn)行聚焦行程,并記錄平 移電壓與聚焦電壓;(3)設(shè)定一校正位置的聚焦電壓為基準(zhǔn)聚焦電壓,計(jì)算其它校正位置聚焦電壓對(duì)該基 準(zhǔn)聚焦電壓的偏移量;以及(4)利用各校正位置的偏移量及平移電壓,適應(yīng)出聚焦電壓偏移曲線。
2.如權(quán)利要求1所述的微致動(dòng)器校正方法,其中該參考反射面為光盤片的數(shù)據(jù)層。
3.如權(quán)利要求1所述的微致動(dòng)器校正方法,其中該物鏡是在該微致動(dòng)器中循軌方向的 移動(dòng)范圍內(nèi),移動(dòng)數(shù)個(gè)校正位置。
4.如權(quán)利要求3所述的微致動(dòng)器校正方法,其中該校正位置包含該物鏡位于該微致動(dòng) 器中央的位置,且該基準(zhǔn)聚焦電壓以該物鏡位于該微致動(dòng)器中央,平移電壓=0的聚焦 電壓設(shè)定。
5.如權(quán)利要求1所述的微致動(dòng)器校正方法,其中該校正方法是在開回路下進(jìn)行。
6.如權(quán)利要求1所述的微致動(dòng)器校正方法,其中該校正方法是在閉回路下進(jìn)行。
7.如權(quán)利要求1所述的微致動(dòng)器校正方法,其中該聚焦電壓偏移曲線,可根據(jù)該物鏡 在該微致動(dòng)器中循軌方向移動(dòng)的平移電壓,計(jì)算聚焦電壓的偏移量,補(bǔ)償物鏡在聚焦方 向的電壓。
8.如權(quán)利要求7所述的微致動(dòng)器校正方法,其中該物鏡的聚焦電壓偏移的偏移量,是 由該聚焦電壓偏移曲線內(nèi)插或外插取得。
9.如權(quán)利要求1所述的微致動(dòng)器校正方法,其中該微致動(dòng)器校正打印卷標(biāo)的聚焦電壓 時(shí),在步驟(4)后進(jìn)一步包含步驟(4-1)將標(biāo)簽面對(duì)著該物鏡,開始進(jìn)行打印標(biāo)簽;(4-2)根據(jù)該卷標(biāo)面的打印位置,由該卷標(biāo)面的聚焦電壓電平曲線,計(jì)算相對(duì)的聚焦 電壓電平;(4-3)根據(jù)該微致動(dòng)器移動(dòng)該物鏡對(duì)正該打印位置的平移電壓,由該聚焦電壓偏移曲 線,計(jì)算該打印位置的聚焦電壓偏移量;以及(4-4)將該打印位置的聚焦電壓電平加上該聚焦電壓偏移量,補(bǔ)償聚焦電壓電平,以 打印標(biāo)簽。
10.如權(quán)利要求9所述的微致動(dòng)器校正方法,其中該聚焦電壓電平曲線是預(yù)先測試 出,作為該微致動(dòng)器在聚焦方向移動(dòng)該物鏡聚焦的電壓目標(biāo)。
11.如權(quán)利要求9所述的微致動(dòng)器校正方法,其中該參考反射面為光盤片的卷標(biāo)面。
12.如權(quán)利要求1所述的微致動(dòng)器校正方法,其中該微致動(dòng)器校在聚焦方向不同焦點(diǎn) 高度的聚焦電壓V的偏移量Δν,根據(jù)所在的平移電壓由聚焦電壓偏移曲線內(nèi)插或外插 取得聚焦電壓偏移量AFv,利用聚焦電壓V與基準(zhǔn)聚焦電壓FvO大小比例關(guān)系,計(jì)算偏 移量 AV= (FvO/V) X Δ Fvο
13.—種微致動(dòng)器校正方法,包含步驟(1)設(shè)定數(shù)個(gè)不同高度的參考反射面,面對(duì)微致動(dòng)器;(2)分別對(duì)該每一參考反射面,以該微致動(dòng)器的物鏡在循軌方向移動(dòng)數(shù)個(gè)校正位置,一一進(jìn)行聚焦行程,并記錄平移電壓與聚焦電壓;(3)對(duì)該每一參考反射面,設(shè)定一校正位置的聚焦電壓為基準(zhǔn)聚焦電壓,計(jì)算該每一 參考反射面其它校正位置聚焦電壓對(duì)該基準(zhǔn)聚焦電壓的偏移量;以及(4)利用各校正位置不同高度參考反射面的偏移量及平移電壓,適應(yīng)出聚焦電壓偏移 曲面。
14.如權(quán)利要求13所述的微致動(dòng)器校正方法,其中該物鏡是在該微致動(dòng)器中循軌方向 的移動(dòng)范圍內(nèi),移動(dòng)數(shù)個(gè)校正位置。
15.如權(quán)利要求14所述的微致動(dòng)器校正方法,其中該校正位置對(duì)該每一參考反射面, 包含該物鏡位于該微致動(dòng)器中央的位置,且該基準(zhǔn)聚焦電壓以該物鏡位于該微致動(dòng)器中 央,平移電壓=0的聚焦電壓設(shè)定。
16.如權(quán)利要求13所述的微致動(dòng)器校正方法,其中該步驟(4)不同高度參考反射面, 以相對(duì)的基準(zhǔn)聚焦電壓取代,適應(yīng)出聚焦電壓偏移曲面。
全文摘要
一種微致動(dòng)器校正方法,是設(shè)定參考反射面;物鏡在微致動(dòng)器中循軌方向移動(dòng)數(shù)個(gè)校正位置,一一進(jìn)行聚焦行程,并記錄平移電壓與聚焦電壓;設(shè)定一校正位置的聚焦電壓為基準(zhǔn)聚焦電壓,計(jì)算其它校正位置聚焦電壓對(duì)基準(zhǔn)聚焦電壓的偏移量;利用各校正位置的偏移量及平移電壓,適應(yīng)出聚焦電壓偏移曲線,取得聚焦電壓的偏移量,以補(bǔ)償聚焦方向的電壓。
文檔編號(hào)G11B7/08GK102024465SQ200910174639
公開日2011年4月20日 申請(qǐng)日期2009年9月21日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月21日
發(fā)明者蘇怡賓, 郭起祥 申請(qǐng)人:廣明光電股份有限公司
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