專利名稱：頭懸架組件和具有該頭懸架組件的信息記錄再現(xiàn)裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及利用對光進行會聚后的點光在記錄介質中記錄再現(xiàn)各種信息的頭懸 架組件(head gimbal assembly)和具有該頭懸架組件的信息記錄再現(xiàn)裝置。本申請根據(jù)2008年7月23日在日本提出的日本特愿2008-189692號以及2009 年1月沈日在日本提出的日本特愿2009-014487號主張優(yōu)先權，并在此引用它們的內容。
背景技術：
近年來，按照希望進行更大量且高密度信息的記錄再現(xiàn)等的需要，計算機設備中 的硬盤等記錄介質(以下稱為盤)要求進一步的高密度化。因此，為了將相鄰磁區(qū)彼此的 影響和熱擾動抑制為最小限度，開始采用頑磁力強的材料作為盤。因此，難以在盤中記錄信 肩、ο因此，為了消除上述不良情況，提供如下的混合磁記錄方式的信息記錄再現(xiàn)裝置 利用對光進行會聚后的點光、或對光進行會聚后的近場光，對磁區(qū)進行局部加熱，使頑磁力 暫時降低，在該期間進行針對盤的寫入。特別地，在利用近場光的情況下，能夠對在現(xiàn)有光 學系統(tǒng)中成為極限的光的波長以下的區(qū)域中的光學信息進行處理。由此，能夠實現(xiàn)超越現(xiàn) 有的光信息記錄再現(xiàn)裝置等的記錄比特的高密度化。作為上述混合磁記錄方式的信息記錄再現(xiàn)裝置，提供了各種裝置，但是，作為其中 之一，公知有如下的信息記錄再現(xiàn)裝置向近場光頭供給用于生成近場光的光，由此，從微 小開口生成足夠大的近場光，能夠實現(xiàn)超高分辨率的再現(xiàn)記錄、高速記錄再現(xiàn)、高SN比化。 該信息記錄再現(xiàn)裝置使具有近場光頭的滑塊在盤上進行掃描，將滑塊配置在盤上的期望位 置。然后，使從光源放射的近場光與從滑塊產(chǎn)生的記錄磁場協(xié)作，由此，能夠在盤中記錄信 肩、ο這里，作為向近場光頭供給光束的結構，例如如專利文獻1所示，公知有如下結 構在滑塊的基端側連接光纖等的光波導，經(jīng)由該光波導將從光源出射的光束引導到近場 光頭。專利文獻1 日本特開2001-297463號公報專利文獻2 日本特開2006-323908號公報但是，在上述信息記錄再現(xiàn)裝置中，公知有如下結構將近場光頭配置在滑塊的前 端面(流出端)側，以使盤面與近場光頭之間的距離更加接近。但是，該情況下，存在如下 問題在滑塊的基端面(流入端)側連接了光波導后，難以將光波導引導到滑塊的前端面 側。即，為了引導光波導，需要從滑塊的基端側到前端側，實施復雜的加工或者配置導光部 件，所以，存在加工工序數(shù)和制造成本增加、制造效率低的問題。這樣，在使用光波導將光束導入近場光頭的情況下，如何將光波導引導到近場光 頭成為問題。因此，例如如專利文獻2所示，公知有如下技術利用具有近場光頭的近場光元件 基板和具有鏡面的鏡基板來構成滑塊。該情況下，在鏡基板上形成將光波導引導到近場光頭的槽等，由此，不對近場光元件基板實施加工，就能夠將光波導引導到近場光頭。但是，除了近場光元件基板以外還使用鏡基板，由此，存在制造成本增加，并且，由 于使用2個基板，所以滑塊的板厚增加，滑塊大型化的問題。

發(fā)明內容
因此，本發(fā)明正是考慮這樣的情況而完成的，其目的在于，提供如下的頭懸架組件 和具有該頭懸架組件的信息記錄再現(xiàn)裝置在滑塊內容易地將光波導配置到點光產(chǎn)生元 件，由此，能夠降低加工成本和制造成本并提高制造效率。為了達成上述目的，本發(fā)明提供以下手段。本發(fā)明的頭懸架組件具有懸浮體，其沿著記錄介質的表面延伸設置，并且能夠 在厚度方向上撓曲變形；滑塊，其以與所述記錄介質的表面相對的方式配置在所述懸浮體 的前端側；支承部，其在中間隔著所述滑塊的、所述記錄介質的相反側，在繞與所述記錄介 質的表面平行且彼此垂直的2個軸轉動自如的狀態(tài)下支承所述滑塊；以及光波導，其與所 述滑塊連接，將從光源出射的光束導入所述滑塊，所述滑塊具有由所述光束產(chǎn)生點光的點 光產(chǎn)生元件，通過所述點光在所述記錄介質中記錄信息，所述頭懸架組件的特征在于，在所 述支承部與所述滑塊之間，配置有用于所述光波導與所述滑塊的定位的具有平坦面的定位 部。在本發(fā)明的頭懸架組件中，僅通過在平坦面與滑塊的位置對準的狀態(tài)下將定位部 固定在滑塊上，就能夠將光波導固定在滑塊上，所以，光波導與滑塊的位置對準和固定變得
各易ο并且，本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，所述光波導具有芯部，其在全反射條件 下引導從所述光源出射的所述光束；以及包層，其由折射率比所述芯部的折射率低的材料 構成，與所述芯部密接來對所述芯部進行密封，所述定位部與所述包層一體形成。在本發(fā)明的頭懸架組件中，與包層一體形成定位部，由此，在形成光波導時不用新 設置用于形成定位部的工序，能夠在與以往相同的工序中形成定位部。因此，能夠提高制造 效率。并且，本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，所述光波導的至少一部分具有芯部，其 在全反射條件下引導從所述光源出射的所述光束；以及包層，其由折射率比所述芯部的折 射率低的材料構成，與所述芯部密接來對所述芯部進行密封，在所述包層的外周面，以覆蓋 所述包層的方式，與所述包層分體設置所述定位部。在本發(fā)明的頭懸架組件中，僅構成為在現(xiàn)有的光波導中設置定位部，所以，即使在 滑塊的外形由于各種滑塊而不同的情況下，通過變更定位部的外形，就能夠容易地與該外 形對應。即，在針對各種滑塊來安裝光波導時，根據(jù)各滑塊的外形來形成定位部，由此，能夠 在滑塊上固定光波導，而不依賴于光波導的形狀。因此，能夠減少安裝工序數(shù)，并容易地固 定在滑塊上。并且，僅構成為在光波導中設置定位部，所以，能夠實現(xiàn)構造的簡化，并降低制 造成本。并且，本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，所述平坦面的至少一部分設于所述光波 導，并且，與所述滑塊和所述支承部的至少一方相對。在本發(fā)明的頭懸架組件中，平坦面的一部分形成于光波導，該平坦面與滑塊和支承部的至少一方相對，所以，使用該平坦面也能夠容易地固定光波導。并且，本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，所述定位部具有收納所述光波導的導向 槽，所述光波導在所述導向槽內被引導到所述點光產(chǎn)生元件。在本發(fā)明的頭懸架組件中，在滑塊上配置定位部，由此，僅通過在形成于定位部的 導向槽內配置光波導，就能夠在滑塊上定位并固定光波導，所以，光波導與滑塊的位置對準 和固定變得容易。并且，分體構成定位部和光波導，由此，能夠根據(jù)用途來固定各種光波導， 所以，能夠提高設計的自由度。并且，本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，所述光波導的至少一部分包含漸變折射
率光纖。在本發(fā)明的頭懸架組件中，隨著從中心朝向外周側，漸變折射率光纖的折射率連 續(xù)減少，所以，通過調整漸變折射率光纖的長度，能夠自由地設定光束的出射角。由此，能夠 調整光束的出射角來優(yōu)化針對滑塊的入射光的點形狀，能夠在點光產(chǎn)生元件中高效地產(chǎn)生
點7 ο并且，本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，所述光波導的至少一部分利用其整體來 傳播光束。在本發(fā)明的頭懸架組件中，利用光波導的整體來傳播光束，所以，能夠在維持從基 端側(流入端)入射的入射角的情況下延長光路。因此，光波導的光路調整變得容易。并且，本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，所述芯部的與該芯部的延伸方向垂直的 截面的橫向寬度和縱向寬度彼此不同。在本發(fā)明的頭懸架組件中，使芯部的橫向寬度和縱向寬度不同，由此，能夠將從光 源出射的光束的振動面保持為恒定方向，所以，能夠在維持線偏振光的狀態(tài)下向滑塊引導 光束。并且，本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，沿著所述芯部的延伸方向在所述包層上 形成隧道部。在本發(fā)明的頭懸架組件中，在包層上配置隧道部，由此，能夠將從光源出射的光束 的振動面保持為恒定方向，所以，能夠在維持線偏振光的狀態(tài)下向滑塊引導光束。并且，本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，所述光波導具有應力施加部，該應力施加 部用于在與所述芯部的延伸方向垂直的方向上施加壓縮應力。在本發(fā)明的頭懸架組件中，配置應力施加部，由此，在芯部作用有壓縮應力。該壓 縮應力使芯部產(chǎn)生雙折射性，能夠將光束的振動面保持為恒定方向，所以，能夠在維持線偏 振光的狀態(tài)下向滑塊弓I導光束。并且，本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，以夾持所述芯部兩側的方式配置所述應 力施加部。在本發(fā)明的頭懸架組件中，以夾持芯部的方式配置應力施加部，由此，能夠在芯部 作用有均等的壓縮應力，所以，更容易維持線偏振光。本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，所述應力施加部配置在所述包層的表面。在本發(fā)明的頭懸架組件中，以夾持芯部的方式配置應力施加部，由此，能夠在芯部 作用有均等的壓縮應力，所以，更容易維持線偏振光。并且，由于是僅在包層的表面配置應力施加部的簡單結構，因此，能夠防止制造效率的增加。并且，本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，所述光波導的前端面是朝向所述點光產(chǎn) 生元件反射被導入所述光波導內的所述光束的鏡面。在本發(fā)明的頭懸架組件中，使在光波導內傳播的光束入射到鏡面，由此，能夠通過 該鏡面來反射光束，向點光產(chǎn)生元件引導光束。并且，本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，在所述定位部中的與所述滑塊接觸的接 觸面?zhèn)?，且在所述鏡面與所述點光產(chǎn)生元件之間，形成有使所述包層的外周面平面狀露出 的平坦面。在本發(fā)明的頭懸架組件中，形成有使包層的外周面平面狀露出的平坦面，由此，鏡 面與點光產(chǎn)生元件之間的邊界面為平坦面。由此，在準直光通過平坦面的情況下，不折射而 直線前進。因此，能夠優(yōu)化針對滑塊的入射光的點形狀，能夠在點光產(chǎn)生元件中高效地產(chǎn)生
點7 ο并且，本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，所述定位部是平板部。在本發(fā)明的頭懸架組件中，設定位部為包含光波導的平板部，由此，僅通過在滑塊 上固定平板部，就能夠在光波導和滑塊位置對準的狀態(tài)下進行固定。由此，不需要如以往那 樣對滑塊的滑塊基板實施復雜的加工或者配置導光部件，所以，能夠減少加工工序數(shù)和制 造成本，并提高制造效率。并且，不用如以往那樣在2個基板(例如近場光元件基板和鏡基板)之間保持光 波導，所以，能夠降低制造成本，并且，能夠抑制滑塊的厚度，能夠實現(xiàn)滑塊的小型薄型化。這里，通過抑制滑塊的厚度，由此，從滑塊的支承部中的支承點到光波導針對滑塊 的固定點的距離縮短。由此，在滑塊的記錄再現(xiàn)動作時，在滑塊以跟隨記錄介質表面的凹凸 或起伏、伴隨記錄介質的旋轉而產(chǎn)生的面抖動的方式變動姿勢的情況下，從光波導對滑塊 作用的旋轉力矩減小。即，能夠防止光波導妨礙滑塊的姿勢控制。因此，能夠維持滑塊的穩(wěn) 定浮起，并盡可能地減小浮起量，所以，對滑塊的浮起特性或跟蹤的精度等造成的影響小。因此，能夠同時實現(xiàn)光的傳播效率和滑塊的浮起特性這雙方，所以，能夠提高滑塊 的掃描性能，并準確且高密度地進行信息的記錄再現(xiàn)。并且，本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，所述平板部的側面中的至少一部分與所 述滑塊的側面中的至少一部分為同一平面。在本發(fā)明的頭懸架組件中，平板部的至少一個側面與滑塊的至少一個側面為同一 平面，由此，組裝時兩者的位置對準變得容易。并且，本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，所述平板部的寬度比所述光波導的寬度
覓ο在本發(fā)明的頭懸架組件中，平板部的寬度形成為比光波導的寬度寬，由此，在滑塊 的記錄再現(xiàn)動作時，在滑塊以跟隨記錄介質表面的凹凸或起伏、伴隨記錄介質的旋轉而產(chǎn) 生的面抖動的方式變動姿勢的情況下，能夠經(jīng)由平板部均等地對滑塊施加來自懸浮體的荷 重。即，能夠防止光波導妨礙滑塊的姿勢控制。因此，能夠維持滑塊的穩(wěn)定浮起，并盡可能 地減小浮起量，所以，對滑塊的浮起特性或跟蹤的精度等造成的影響小。并且，本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，所述頭懸架組件還具有連接部，該連接部 連接所述平板部和所述光波導，所述連接部隨著從所述平板部朝向所述光波導，所述連接部的截面形狀減小。在本發(fā)明的頭懸架組件中，平板部與光波導的連接部的截面形狀形成為逐漸減 小，由此，能夠分散對連接部作用的應力。由此，能夠防止連接部由于使用時的滑塊的姿勢 變動等或制造時針對連接部的應力集中而發(fā)生故障。另一方面，本發(fā)明的信息記錄再現(xiàn)裝置的特征在于，該信息記錄再現(xiàn)裝置具有上 述本發(fā)明的頭懸架組件；在固定方向上旋轉的磁記錄介質；光源，其出射光束，以對所述磁 記錄介質進行加熱；樞軸，其配置在所述磁記錄介質的外側；以及支架，其能夠繞所述樞軸 轉動，并且，具有支承所述頭懸架組件的臂部。在本發(fā)明的信息記錄再現(xiàn)裝置中，使記錄介質旋轉后，使支架繞樞軸轉動，使支承 于臂部的滑塊進行掃描。然后，將滑塊配置在記錄介質上的期望位置。然后，使光束從光源 入射到光波導內。由此，能夠利用頭懸架組件的滑塊，針對記錄介質進行各種信息的記錄再 現(xiàn)。特別地，由于具有本發(fā)明的頭懸架組件，所以，能夠準確且高密度地進行信息的記 錄再現(xiàn)，能夠實現(xiàn)高品質化。根據(jù)本發(fā)明的頭懸架組件，在滑塊內容易地將光波導配置到點光產(chǎn)生元件，由此， 能夠降低加工成本和制造成本并提高制造效率，所以，能夠提供高性能的信息記錄再現(xiàn)裝置。


圖1是示出本發(fā)明的信息記錄再現(xiàn)裝置的一個實施方式的結構圖。圖2是圖1所示的頭懸架組件的立體圖。圖3是圖2所示的懸架的俯視圖。圖4是第1實施方式的沿著圖3的A-A’線的剖面圖。圖5是第1實施方式的滑塊的放大剖面圖。圖6是圖1所示的接線基板的俯視圖。圖7是第1實施方式的沿著圖3的B-B’線的剖面圖。圖8是第1實施方式的沿著圖3的C-C’線的剖面圖。圖9是示出第1實施方式的光波導的前端部分的立體圖。圖10是第2實施方式的懸架單元的剖面圖。圖11是圖10的F部放大圖。圖12是示出第3實施方式的光波導的前端部分的立體圖。圖13是沿著圖12的G-G，線的剖面圖。圖14是第4實施方式的懸架單元的剖面圖。圖15是第4實施方式的滑塊的放大剖面圖。圖16是第4實施方式的相當于圖12的G_G’線的剖面圖。圖17是第5實施方式的滑塊的放大剖面圖。圖18是第6實施方式的懸架單元的剖面圖。圖19是示出第6實施方式的光波導的前端部分的立體圖。圖20是第7實施方式的頭懸架組件的立體圖。
圖21是示出第8實施方式的光波導的前端部分(平板部)的立體圖。圖22是示出本發(fā)明的第9實施方式的相當于圖7的剖面圖。圖23是示出本發(fā)明的其他實施方式的相當于圖7的剖面圖。圖M是示出本發(fā)明的第10實施方式的相當于圖3的1-1’線的剖面圖。圖25是示出本發(fā)明的第11實施方式的相當于圖3的1_1’線的剖面圖。圖沈是示出本發(fā)明的其他實施方式的相當于圖3的1-1’線的剖面圖。圖27是示出本發(fā)明的第12實施方式的頭懸架組件的前端部分的放大立體圖。圖28是沿著圖27的1-1’線的剖面圖。圖四是示出本發(fā)明的其他實施方式的頭懸架組件的前端部分的放大立體圖。圖30是發(fā)明的第13實施方式的相當于圖14的H_H’線的剖面圖。圖31是發(fā)明的第14實施方式的相當于圖14的H_H’線的剖面圖。圖32是發(fā)明的第15實施方式的光波導的剖面圖。圖33是發(fā)明的第15實施方式的相當于圖14的H_H’線的剖面圖。
具體實施例方式(第1實施方式)(信息記錄再現(xiàn)裝置)下面，參照圖1 圖9對本發(fā)明的第1實施方式進行說明。圖1是示出本發(fā)明的 信息記錄再現(xiàn)裝置1的一個實施方式的結構圖。另外，本實施方式的信息記錄再現(xiàn)裝置1 是以垂直記錄方式對具有垂直記錄層的盤(記錄介質)D進行寫入的裝置。如圖1所示，本實施方式的信息記錄再現(xiàn)裝置1具有支架11 ；激光光源20，其從 支架11的基端側經(jīng)由光電復合布線33供給光束；頭懸架組件(HGA) 12，其被支承于支架11 的前端側；致動器6，其使頭懸架組件12向與盤面Dl (盤D的表面)平行的XY方向掃描移 動；主軸電動機7，其使盤D向規(guī)定方向旋轉；控制部5，其對頭懸架組件12的滑塊2供給根 據(jù)信息調制后的電流；以及殼體9，其在內部收納這些構成部件。殼體9是由鋁等金屬材料構成的具有上部開口部的箱形形狀，由俯視為四邊形狀 的底部9a和在底部9a的周緣相對于底部9a沿著鉛直方向豎立設置的周壁(未圖示)構 成。而且，在由周壁包圍的內側形成有收納上述各構成部件等的凹部。另外，在圖1中，為 了使說明容易理解，省略了包圍殼體9的周圍的周壁。并且，在該殼體9上，以堵住殼體9的開口的方式，可裝卸地固定有未圖示的蓋。在 底部9a的大致中心安裝有上述主軸電動機7，將中心孔嵌入該主軸電動機7中，由此，裝卸 自如地固定盤D。在盤D的外側、即底部9a的角部安裝有上述致動器6。在該致動器6上安裝有支 架11，該支架11能夠以樞軸10為中心相對于XY方向轉動。該支架11通過切削加工等，一體形成有沿著盤面Dl從基端部朝向前端部延伸設 置的臂部14、和經(jīng)由基端部懸臂狀地支承臂部14的基部15?；?5形成為長方體形狀，被支承為能夠繞樞軸10轉動。S卩，基部15經(jīng)由樞軸 10與致動器6連接，該樞軸10成為支架11的旋轉中心。臂部14是在基部15的安裝有致動器6的側面15a的相反側的側面(角部的相反側的側面)1 中，與基部15的上表面的面方向(XY方向)平行延伸的平板狀，沿著基部15 的高度方向(Z方向)延伸出三個。具體而言，臂部14形成為隨著從基端部朝向前端部而 變細的錐形形狀，以在各臂部14之間夾入盤D的方式進行配置。S卩，臂部14和盤D以交錯 的方式配置，通過致動器6的驅動，臂部14能夠在與盤D的表面平行的方向(XY方向)上 移動。另外，在盤D的旋轉停止時，通過致動器6的驅動，支架11和頭懸架組件12從盤D 上退避。(頭懸架組件)頭懸架組件12向后述的具有點尺寸轉換器(點光產(chǎn)生元件)40(參照圖幻的近 場光頭即滑塊2引導來自激光光源20的光束，使其產(chǎn)生近場光(點光)，利用該近場光針對 盤D記錄再現(xiàn)各種信息。圖2是在使滑塊2朝上的狀態(tài)下從滑塊2側觀察懸浮體3的立體圖。圖3是在使 滑塊2朝上的狀態(tài)下觀察懸架17的俯視圖。圖4是沿著圖3的A-A’線的剖面圖，圖5是 滑塊的放大剖面圖。如圖2 圖5所示，本實施方式的頭懸架組件12具有使上述滑塊2從盤D浮起的 功能，該頭懸架組件12具有滑塊2 ；懸浮體3，其由金屬性材料形成為薄板狀，并且能夠沿 著與盤面Dl平行的XY方向移動；以及懸架單元16，其在使滑塊2繞與盤面Dl平行且彼此 垂直的2個軸(X軸、Y軸)轉動自如的狀態(tài)下，即以使滑塊2能夠以2個軸為中心扭轉的 方式，固定在懸浮體3的下表面。(滑塊)滑塊2在配置于盤D與懸浮體3之間的狀態(tài)下，隔著后述的懸架17支承于懸浮體 3的下表面。如圖5所示，滑塊2具有滑塊基板60，其在從盤面Dl浮起規(guī)定距離的狀態(tài)下與 盤D(參照圖1)相對配置，并具有與盤面Dl相對的浮起面加；記錄元件42，其固定在滑塊 基板60的前端面(流出端)60c上；上述點尺寸轉換器40，其與記錄元件42鄰接固定；以 及再現(xiàn)元件41，其以中間隔著點尺寸轉換器40的方式固定在記錄元件42的相反側。S卩，在 滑塊基板60的前端面60c上，在并列的狀態(tài)下配置記錄元件42、點尺寸轉換器40以及再現(xiàn) 元件41。但是，在滑塊2的長度方向(Y方向)上，前端側最接近盤面D1。因此，通過在滑 塊基板60的前端面60c側配置記錄元件42、點尺寸轉換器40以及再現(xiàn)元件41，由此，能夠 使記錄元件42、點尺寸轉換器40以及再現(xiàn)元件41盡可能地接近盤面D1，能夠降低盤D的 頑磁力，所以，針對盤D的寫入變得容易?；瑝K基板60通過石英玻璃等的光透射性材料或AlTiC (鋁鈦碳)等的陶瓷等形成 為長方體狀。該滑塊基板60被支承為在使浮起面加為盤D側的狀態(tài)下，經(jīng)由懸架17 (參 照圖幻懸掛在懸浮體3 (參照圖幻的前端。再現(xiàn)元件41是電阻根據(jù)從盤D漏出的磁場的大小而轉換的磁阻效應膜。經(jīng)由后 述的電氣布線31從控制部5(參照圖1)向該再現(xiàn)元件41供給偏置電流。由此，控制部5 能夠檢測從盤D漏出的磁場的變化作為電壓的變化，能夠根據(jù)該電壓的變化來進行信號的 再現(xiàn)。記錄元件42具有副磁極43，其固定在滑塊基板60的前端面60c上；主磁極45， 其經(jīng)由磁氣電路44與副磁極43連接，在與副磁極43之間產(chǎn)生與盤D垂直的記錄磁場；以及線圈46，其以磁氣電路44為中心，渦旋狀卷繞在磁氣電路44的周圍。兩個磁極43、45和 磁氣電路44由磁通密度高的高飽和磁通密度(Bs)材料(例如CoNii^e合金、( 合金等) 形成。并且，線圈46以在相鄰的線圈線之間、與磁氣電路44之間、與兩個磁極43、45之間 空出間隙的方式配置，以便不發(fā)生短路，在該狀態(tài)下通過絕緣體47制模。然后，從控制部5 向線圈46供給根據(jù)信息調制后的電流。另外，主磁極45和副磁極43被設計成，與盤D相 對的端面與滑塊2 (滑塊基板60)的浮起面加為同一平面。點尺寸轉換器40是根據(jù)從基端側導入的光束L來生成點光并從前端側向外部發(fā) 出點光的大致板狀的元件，由SSC (spot size converter)芯部48和SSC包層49構成。這 樣構成的點尺寸轉換器40在基端側朝向滑塊2的上方(Z軸上方)且前端側朝向盤D側的 狀態(tài)下，與主磁極45鄰接固定，在主磁極45附近產(chǎn)生點光。SSC芯部48以與長度方向(Z方向)垂直的截面積沿著從基端側朝向前端側的方 向逐漸減少的方式縮小形成，在內部會聚從基端側導入的光束L而向前端側傳播，從而生 成點光。在本實施方式中，SSC芯部48形成為具有3個側面(在剖面圖中大致為三角形 狀)，并配置成其中一個側面與主磁極45相對。并且，SSC芯部48的端面被設計成與滑塊 2的浮起面加為同一平面。SSC包層49由折射率比SSC芯部48的折射率低的材料構成，與SSC芯部48密接 并對SSC芯部48進行密封，并形成為嵌入再現(xiàn)元件41與記錄元件42之間。而且，由于SSC 芯部48與SSC包層49之間的折射率的差異，從后述的光波導32供給的光束L在全反射條 件下被引導到前端側的端面。另外，記載被用作SSC包層49和SSC芯部48的材料的組合的一例時，例如考慮如 下組合利用石英(SiO2)來形成SSC芯部48，利用摻雜了氟的石英來形成SSC包層49。該 情況下，在光束L的波長為400nm時，SSC芯部48的折射率為1. 47，SSC包層49的折射率 小于1. 47，所以是優(yōu)選的組合。并且，還考慮如下組合利用摻雜了鍺的石英來形成SSC芯 部48，利用石英(SiO2)來形成SSC包層49。該情況下，在光束L的波長為400nm時，SSC芯 部48的折射率大于1. 47，SSC包層49的折射率為1. 47，所以，還是優(yōu)選的組合。特別地，SSC芯部48與SSC包層49的折射率之差越大，將光束L封入SSC芯部48 內的力越大，所以，更加優(yōu)選在SSC芯部48中使用氧化鉭(Ta2O5 波長為550nm時折射率為 2. 16)，在SSC包層49中使用石英等，從而增大兩者的折射率之差。并且，在利用紅外區(qū)域 的光束L的情況下，利用相對于紅外光透明的材料即硅(Si 折射率大約為4)來形成SSC芯 部48也是有效的。并且，如圖2 圖5所示，滑塊2 (滑塊基板60)的下表面如上所述成為與盤面Dl 相對的浮起面加。該浮起面加是利用由旋轉的盤D產(chǎn)生的空氣流的粘性來產(chǎn)生用于浮起 的壓力的面，被稱為ABS (Air Bearing Surface) 0具體而言，被設計成，對要使滑塊2離開 盤面Dl的正壓和要使滑塊2靠近盤面Dl的負壓進行調整，從而使滑塊2在最佳狀態(tài)下浮 起?；瑝K2通過該浮起面加承受從盤面Dl浮起的力，并且，通過懸浮體3承受向盤D 側按壓的力。而且，滑塊2通過這兩個力的平衡，從盤面Dl浮起。(懸浮體)如圖2、3所示，上述懸浮體3由形成為俯視為大致四邊形的基體板22、和經(jīng)由鉸鏈板23與基體板22的前端側連接的俯視為大致三角形的承載梁M構成?；w板22由不銹鋼等厚度較薄的金屬材料構成，在基端側形成有在厚度方向上 貫通的開口 22a。而且，基體板22借助該開口 2 固定在臂部14的前端。在基體板22的 下表面配置有由不銹鋼等金屬材料構成的片狀的鉸鏈板23。該鉸鏈板23是形成在基體板 22的下表面的整個表面的平板狀部件，其前端部分形成為從基體板22的前端沿著基體板 22的長邊方向延伸的延伸部23a。延伸部23a從鉸鏈板23的寬度方向兩端部延伸出兩根， 在其前端部分連接有承載梁24。承載梁對與基體板22同樣，由不銹鋼等厚度較薄的金屬材料構成，其基端在與基 體板22的前端之間具有間隙的狀態(tài)下與鉸鏈板23連接。由此，懸浮體3以基體板22與承 載梁M之間為中心進行彎曲，容易向與盤面Dl垂直的Z方向撓曲。在懸浮體3上設有彎曲件25。彎曲件25是由不銹鋼等金屬材料構成的片狀部件， 通過形成為片狀，從而構成為能夠在厚度方向上撓曲變形。彎曲件25由以下部件構成懸 架17，其固定在承載梁M的前端側，外形形成為俯視為大致五邊形狀；以及支承體18，其形 成為比懸架17的寬度窄，從懸架17的基端沿著懸浮體3延伸。懸架17形成為從中間附近到前端朝向盤面Dl在厚度方向上稍微翹曲。而且，以 施加該翹曲的前端側不與承載梁M接觸的方式，將懸架17從基端側到大致中間附近固定 在承載梁M上。并且，在該浮起狀態(tài)的懸架17的前端側形成有周圍被挖通成二形狀的切口部沈， 在由該切口部26包圍的部分，形成有由連接部17a懸臂狀支承的襯墊部(支承部)17b。即， 該襯墊部17b通過連接部17a從懸架17的前端側朝向基端側伸出形成，在其周圍具有切口 部26。由此，襯墊部17b容易在懸架17的厚度方向上撓曲，以僅該襯墊部17b與懸浮體3 的下表面平行的方式進行角度調整。而且，在該襯墊部17b上載置固定有上述滑塊2。艮口， 滑塊2成為經(jīng)由襯墊部17b懸掛在承載梁M上的狀態(tài)。并且，如圖2 圖4所示，在承載梁M的前端形成有朝向襯墊部17b和滑塊2的 大致中心突出的突起部19。該突起部19的前端成為帶圓角的狀態(tài)。而且，在滑塊2由于從 盤D承受的風壓而向承載梁M側浮起時，突起部19與襯墊部17b的表面(上表面)點接 觸。即，突起部19隔著懸架17的襯墊部17b支承滑塊2，并且，朝向盤面Dl (朝向Z方向) 對滑塊2施加荷重。而且，突起部19與襯墊部17b的接觸點(支承點)成為基于突起部19 的滑塊2的荷重點F。另外，這些突起部19和具有襯墊部17b的懸架17構成懸架單元16。圖2所示的支承體18是一體形成在懸架17上的片狀部件，在懸浮體3上朝向臂 部14延伸設置。即，支承體18構成為在懸浮體3變形時跟隨懸浮體3的變形。支承體18 從臂部14上繞到側面，并引繞到支架11的基部15。(光波導)圖6是在支架11的基部15安裝的接線基板30的俯視圖。如圖1、6所示，在支架11的基部15中的側面15c配置有接線基板30。該接線基 板30成為對設于殼體9的控制部5和滑塊2進行電連接時的中繼點，在其表面形成有各種 控制電路(未圖示)。控制部5與接線基板30通過具有撓性的扁平電纜4電連接，另一方 面，接線基板30與滑塊2通過電氣布線31連接。電氣布線31對應于針對各支架11設置 的滑塊2的數(shù)量而設有三組，經(jīng)由扁平電纜4從控制部5輸出的信號經(jīng)由電氣布線31輸出到滑塊2。并且，在接線基板30上配置有朝向滑塊2的點尺寸轉換器40供給光束的上述激 光光源20。激光光源20接收經(jīng)由扁平電纜4從控制部5輸出的信號，并根據(jù)該信號出射光 束，對應于設于各臂部14的滑塊2的數(shù)量，沿著基部15的高度方向(Z方向)排列有3個。 在各激光光源20的出射側連接有光波導32，該光波導32將從各激光光源20出射的光束引 導到滑塊2的聚光透鏡。如圖2、3所示，與各滑塊2對應的一個光波導32和一組電氣布線31在激光光源 20與滑塊2之間構成為從其基端側到前端一體形成的光電復合布線33。該光電復合布線 33從接線基板30的表面通過臂部14的側面引繞到臂部14上。具體而言，光電復合布線 33在臂部14和懸浮體3上配置在彎曲件25的上述支承體18上，在中間隔著支承體18的 狀態(tài)下引繞到懸浮體3的前端。并且，光電復合布線33在懸浮體3的前端、即懸架17的中間位置分支為電氣布線 31和光波導32。具體而言，光波導32從光電復合布線33的前端側的分支地點起沿著懸架 17的長度方向延伸，跨過懸架17的切口部沈與滑塊2的基端側直接連接。光波導32在光 電復合布線33的分支地點從懸架17的下表面離開，隨著從分支地點朝向滑塊2的基端側， 以架設在襯墊部17b與懸架17之間的方式在稍微浮起的狀態(tài)下延伸。即，在懸架17的下 表面，光波導32在大致直線(曲率半徑大致無限大)延伸的狀態(tài)下，從滑塊2的寬度方向 (X方向)中央部引繞到滑塊2的基端面2b側。另一方面，在分支地點，電氣布線31朝向懸架17的外周部分彎曲，從懸架17的外 周部分、即切口部26的外側引繞。而且，從切口部沈的外側引繞的電氣布線31通過連接 部17a上方與滑塊2的前端面?zhèn)冗B接。即，電氣布線31從滑塊2的外部與設于滑塊2的前 端面?zhèn)鹊纳鲜鲈佻F(xiàn)元件41和記錄元件42分別連接。圖7是沿著圖3的B-B，線的剖面圖。如圖7所示，構成光電復合布線33的電氣布線31由鋁或銅等構成，與芯部35 — 起封入包層34內。另一方面，構成光電復合布線33的光波導32的剖面為矩形狀，其具有 芯部35，其厚度例如形成為3 10 μ m，在全反射條件下引導從激光光源20出射的光束；以 及包層34，其厚度例如形成為數(shù)十μ m,由折射率比芯部35的折射率低的材料構成，與芯部 35密接并對芯部35進行密封。而且，由于芯部35與包層34之間的折射率的差異，從激光 光源20出射的光束在全反射條件下被引導到滑塊2的聚光透鏡。另外，光波導32的構成材料能夠使用與上述SSC芯部48和SSC包層49 (均參照 圖5)相同的材料，但是，在本實施方式中，優(yōu)選使用以下所示的樹脂材料。例如考慮如下組 合通過PMMA(甲基丙烯酸甲酯樹脂)形成厚度為3 10 μ m的芯部35，通過含有氟的聚 合物形成厚度為數(shù)十μ m的包層34。并且，芯部35和包層34也可以均由環(huán)氧樹脂(例如， 芯部折射率為1. 522 1. 523，包層折射率為1. 518 1. 519)構成，或者均由氟化聚酰亞胺 構成。該情況下，對構成芯部35和包層34的樹脂材料的比例等進行調整，優(yōu)選增大兩者的 折射率之差。例如在氟化聚酰亞胺的情況下，能夠調整氟含量，或者通過放射光等的能量照 射來控制折射率。這樣，通過在光波導32的構成材料中使用樹脂材料，能夠通過半導體工 藝來制造光電復合布線33。(平板部)
這里，圖8是沿著圖3的C-C’線的剖面圖，圖9是示出光波導的前端部分(平板 部)的立體圖。如圖4、5、8、9所示，光波導32的前端部分一體形成有在寬度方向(Y方向)上擴 大了光波導32的前端部分后的平板部(定位部)50。具體而言，平板部50是僅在寬度方 向(Y方向)上擴大了光波導32中的包層34后的俯視為矩形狀的部件，與滑塊2的上表面 (XY平面)的外形同樣形成。這樣，與包層34 —體形成平板部50，由此，在形成光波導32 時不用新設置用于形成平板部50的工序，能夠在與以往相同的工序中形成定位部。因此， 能夠提高制造效率。而且，平板部50粘接固定在襯墊部17b上，滑塊2以在中間隔著該平板部50的方 式固定在襯墊部17b上。S卩，不對滑塊2的滑塊基板60實施用于連接光波導32的加工，僅 通過在平板部50上粘接滑塊2，就能夠固定滑塊2與光波導32。而且，光波導32的芯部35 在平板部50內的寬度方向中心部從滑塊2的基端側延伸到前端側，被引導到上述點尺寸轉 換器40。另外，設對滑塊基板60和光波導32 (平板部50)進行粘接固定的區(qū)域中與上述荷 重點F最遠的點為光波導32與滑塊2的固定點T。該固定點T設定在滑塊2中的寬度方向 (X方向)中央部、且長度方向(Y方向)基端部、厚度方向(Z方向)上端部。因此，將從上 述荷重點F、即懸浮體3的突起部19與襯墊部17b的上表面的接觸點到固定點T的空間距 離設定為距離d。并且，光波導32的基端面與平板部50的基端面、以及光波導32與平板部50的兩 側面分別構成為同一平面，另一方面，平板部50的前端面朝向與光波導32的軸方向(延伸 方向)交叉的方向(例如45度左右)被切斷。而且，該切斷面構成用于向與導入方向不同 的方向反射在芯部35內傳播的光束L(參照圖5)的鏡面32a。該鏡面32a以使光束L的朝 向大致改變90度的方式，反射由光波導32導入的光束L。由此，由鏡面3 反射的光束L 被導入上述點尺寸轉換器40內。另外，鏡面32a也可以構成為，通過蒸鍍法等在至少包含 芯部35的區(qū)域形成由鋁等構成的反射板。(信息記錄再現(xiàn)方法)接著，下面說明通過這樣構成的信息記錄再現(xiàn)裝置1在盤D中記錄再現(xiàn)各種信息 的步驟。首先，驅動主軸電動機7使盤D向規(guī)定方向旋轉。接著，使致動器6動作，使支架 11以樞軸10為旋轉中心轉動，經(jīng)由支架11使頭懸架組件12在XY方向上進行掃描。由此， 能夠使滑塊2位于盤D上的期望位置。此時，滑塊2由懸浮體3支承，并且通過規(guī)定力向盤D側按壓。并且，與此同時，滑 塊2的浮起面加與盤D相對，所以，受到由旋轉的盤D產(chǎn)生的風壓的影響而承受浮起的力。 通過這兩個力的平衡，滑塊2成為在從盤D上離開的位置懸浮的狀態(tài)。此時，滑塊2受到風壓而被按向懸浮體3側，所以，固定滑塊2的懸架17的襯墊部 17b與形成于懸浮體3的突起部19成為點接觸的狀態(tài)。然后，該浮起的力經(jīng)由突起部19傳 遞到懸浮體3，以使該懸浮體3朝向與盤面Dl垂直的Z方向撓曲的方式進行作用。由此，如 上所述滑塊2浮起。并且，由于盤D的凹凸或起伏等，在對滑塊2施加朝向XY方向的風壓 時，滑塊2和襯墊部17b以突起部19為中心繞X軸和Y軸這2個軸扭轉。由此，能夠吸收由于盤D的起伏而導致的Z方向的移位(針對與盤面Dl大致垂直的方向的移位)，滑塊2 的姿勢穩(wěn)定。并且，滑塊2即使受到由于盤D的起伏而產(chǎn)生的風壓(朝向XY方向的風壓)，也經(jīng) 由懸架單元16、即與突起部19的前端點接觸的襯墊部17b繞XY軸扭轉。因此，能夠吸收由 于起伏而導致的Z方向的移位，能夠使浮起時的滑塊2的姿勢穩(wěn)定。這里，在本實施方式的信息記錄再現(xiàn)裝置1中，構成為在襯墊部17b與滑塊2之間 配置包含光波導32的平板部50。根據(jù)該結構，不用如以往那樣在2個基板(例如近場光元 件基板和鏡基板)之間保持光波導32，所以，能夠抑制滑塊2的板厚(Z方向)。通過抑制滑塊2的板厚，由此，對滑塊2和光波導32進行固定的固定點T與對滑 塊2施加荷重的荷重點F(突起部19)之間的厚度方向(Z方向)的距離縮短。進而，在滑 塊2的寬度方向(X方向)中央部設定固定點T，由此，固定點T與荷重點F在滑塊2的寬度 方向上一致，所以，也能夠縮短從荷重點F到固定點T的寬度方向(X方向)的距離。由此， 固定點T與荷重點F的空間距離d縮短。由此，在滑塊2的記錄再現(xiàn)動作時，在滑塊2以跟隨盤面Dl的凹凸或起伏、伴隨盤 D的旋轉而產(chǎn)生的面抖動的方式變動姿勢的情況下，從光波導32作用于滑塊2的旋轉力矩 減小。并且，平板部50與滑塊2的上表面(XY平面)的外形同樣形成，所以，能夠經(jīng)由平板 部50均等地對滑塊施加來自懸浮體3的荷重。即，能夠防止光波導32妨礙滑塊2的姿勢 控制。因此，能夠維持滑塊2的穩(wěn)定浮起，并盡可能地減小浮起量，所以，對滑塊2的浮起特 性或跟蹤的精度等造成的影響小。因此，能夠同時實現(xiàn)光的傳播效率和滑塊2的浮起特性 這雙方，所以，能夠提高滑塊2的掃描性能，并準確且高密度地進行信息的記錄再現(xiàn)。這里，在進行信息記錄的情況下，控制部5使激光光源20動作，并且，對線圈46供 給根據(jù)信息調制后的電流，使記錄元件42動作。首先，使光束從激光光源20入射到光波導32 (光電復合布線3 ，將光束L引導到 滑塊2。從激光光源20出射的光束L在光波導32的芯部35內朝向前端(流出端)側前 進，被鏡面3 反射而導入點尺寸轉換器40的SSC芯部48內。導入SSC芯部48內的光束 L朝向位于盤D側的另一端側，在點尺寸轉換器40的SSC芯部48與SSC包層49之間反復 進行反射而傳播。此時，SSC芯部48以與從基端側朝向前端側的長度方向(Z方向)垂直的截面積 逐漸減少的方式縮小形成。因此，在光束通過該點尺寸轉換器40時，逐漸會聚并在SSC芯 部48內部傳播。因此，光束L在到達SSC芯部48的前端側的時點被縮小，點尺寸減小。由 此，能夠生成點光，能夠從基端側的端面向外部發(fā)出。于是，盤D通過該點光被局部加熱，頑 磁力暫時降低。另一方面，通過控制部5對線圈46供給電流時，由于電磁鐵的原理，電流磁場使磁 氣電路44內產(chǎn)生磁場，所以，能夠在主磁極45與副磁極43之間產(chǎn)生與盤D垂直的方向的 記錄磁場。結果，能夠通過使點光與由兩個磁極43、45產(chǎn)生的記錄磁場協(xié)作的混合磁記錄 方式，進行信息記錄。而且，利用垂直記錄方式進行記錄，所以，難以受到熱擾動現(xiàn)象等的影 響，能夠進行穩(wěn)定的記錄。由此，能夠提高寫入的可靠性。而且，能夠在記錄磁場局部作用 的位置包含加熱溫度的加熱器位置，所以，能夠降低盤D的規(guī)定位置的頑磁力。因此，能夠 可靠地進行記錄，能夠實現(xiàn)可靠性的提高，并且，能夠實現(xiàn)高密度記錄。
接著，在對記錄于盤D的信息進行再現(xiàn)的情況下，與點尺寸轉換器40鄰接固定的 再現(xiàn)元件41承受從盤D漏出的磁場，其電阻根據(jù)該磁場的大小而變化。由此，再現(xiàn)元件41 的電壓變化。由此，控制部5能夠檢測從盤D漏出的磁場的變化作為電壓的變化。而且，控 制部5根據(jù)該電壓的變化進行信號的再現(xiàn)，由此能夠進行信息的再現(xiàn)。這樣，能夠利用滑塊2針對盤D記錄再現(xiàn)各種信息。這里，在本實施方式的信息記錄再現(xiàn)裝置1中，構成為在襯墊部17b與滑塊2之間 配置包含光波導32的平板部50。根據(jù)該結構，在襯墊部17b與滑塊2之間配置包含光波導32的平板部50，由此，能 夠與平板部50 —起配置光波導32，所以，能夠容易地將光波導32引導到滑塊2的點尺寸轉 換器40。因此，不需要如以往那樣對滑塊2的滑塊基板60實施復雜的加工或者配置導光部 件，所以，能夠減少加工工序數(shù)和制造成本，提高制造效率。并且，僅通過在滑塊2上固定平 板部50，就能夠在滑塊2上固定光波導32，所以，光波導32與滑塊2的位置對準和固定變
得容易。并且，不用如以往那樣在2個基板(例如近場光元件基板和鏡基板)之間保持光 波導，所以，能夠降低制造成本，并且，能夠抑制滑塊的板厚，能夠實現(xiàn)滑塊的小型薄型化。這樣，本發(fā)明的信息記錄再現(xiàn)裝置1具有上述頭懸架組件12，所以，能夠準確且高 密度地進行信息的記錄再現(xiàn)，能夠實現(xiàn)高品質化。(第2實施方式)接著，根據(jù)圖10、11對本發(fā)明的第2實施方式進行說明。圖10是第2實施方式的 懸架單元的剖面圖，圖11是圖10的F部放大圖。另外，在以下的說明中，對與上述第1實 施方式相同的結構標注相同的標號并省略說明。并且，在本實施方式中，滑塊的結構與上述 第1實施方式不同。如圖10、11所示，本實施方式的滑塊102具有滑塊基板160，該滑塊基板160在使 浮起面10 與盤D (參照圖1)相對的狀態(tài)下，經(jīng)由襯墊部17b被支承為懸掛在懸浮體3的 前端。在本實施方式的滑塊基板160的前端(流出端)側形成有多面體70，該多面體70形 成為從浮起面10 朝向盤D沿著厚度方向(Z方向)突出，并具有相對于所導入的光束L 的光軸傾斜的4個側面(例如側面71、72)。在構成多面體70的前端面?zhèn)鹊膫让?1上形成有再現(xiàn)元件73，該再現(xiàn)元件73輸出 與從盤D漏出的磁場的大小對應的電信號。并且，在構成多面體70的基端面?zhèn)鹊膫让?2 上形成有記錄元件74、以及在構成記錄元件74的主磁極75和副磁極76之間產(chǎn)生記錄磁場 的線圈77。記錄元件74由以在中間隔著絕緣膜78的方式層疊而成的主磁極75和副磁極 76構成，在本實施方式中，從側面72側起依次層疊主磁極75、絕緣膜78、副磁極76。主磁極75通過蒸鍍等從側面72上形成到浮起面10加。副磁極76由與主磁極75 相同的材料構成，以在中間隔著絕緣膜78的方式層疊在主磁極75上。并且，主磁極75和 副磁極76通過磁氣電路79連接。并且，在磁氣電路79的周圍，在絕緣膜78上制模的狀態(tài) 下，設置以磁氣電路79為中心渦旋狀卷繞的線圈77。并且，在滑塊102的上表面，在與多面體70的厚度方向正上方(Z方向)接觸的位 置形成有透鏡80。該透鏡80例如是通過使用灰度掩模的蝕刻來形成的非球面的微型透鏡。進而，在滑塊102的上表面與襯墊部17b之間配置有上述光波導32的平板部50。而且，對 安裝位置進行調整，以使光波導32的鏡面3 位于透鏡80的正上方。這樣，在上述實施方式中，將從激光光源20(參照圖1)入射到光波導32的光束L 引導到前端面(流出端)側，能夠由鏡面32a反射而改變朝向后，出射到透鏡80。并且，出 射的光束L由透鏡80會聚，并沿著厚度方向(Z方向)在滑塊基板160內部前進，被導入多 面體70。然后，會聚后的光束L在到達多面體70的頂部的時點，作為點光漏出到外部。因 此，能夠發(fā)揮與第1實施方式相同的作用效果。(第3實施方式)接著，根據(jù)圖12、13對本發(fā)明的第3實施方式進行說明。圖12是第3實施方式的 光波導的前端部分的立體圖，圖13是沿著圖12的G-G’線的剖面圖。另外，在本實施方式 中，對與上述第1實施方式相同的結構標注相同的標號并省略說明。如圖12、13所示，本實施方式的光波導132使用剖面為圓形狀的具有芯部135和 包層134的光纖(單模(SM)光纖)。該光波導132由與上述SSC芯部48和SSC包層49 (均 參照圖5)相同的構成材料構成，在其前端部分設有平板部150。該平板部150是由樹脂材料或金屬材料等構成的俯視為矩形狀的部件，設計成覆 蓋光波導132的包層134。而且，光波導132的前端面與平板部150的前端面構成為同一平 面，該前端面構成朝向與光波導132的軸方向(延伸方向)交叉的方向(例如45度左右) 被切斷的鏡面132a。另外，在安裝平板部150與光波導132時，能夠在成型了平板部150后， 在平板部150中形成貫通孔，在該貫通孔內安裝光波導132，或者在平板部150的成形時對 光波導132的前端部分進行制模。這樣，根據(jù)本實施方式，構成為在由光纖構成的光波導132的前端部分設置與光 波導132分體的平板部150。根據(jù)該結構，除了上述第1實施方式的效果以外，僅構成為在現(xiàn)有的光波導132中 設置平板部150，所以，即使在滑塊2 (參照圖幻的外形由于各種滑塊2而不同的情況下，僅 變更平板部150的外形，就能夠容易地與該外形對應。即，在針對各種滑塊2來安裝光波導 132時，根據(jù)各滑塊2的外形來形成平板部150，由此，能夠在滑塊2上固定光波導132，而不 依賴于光波導132的形狀。因此，能夠減少安裝工序數(shù)，并容易地固定在滑塊2上。并且， 僅構成為在光波導132中設置平板部150，所以，能夠實現(xiàn)構造的簡化，并降低制造成本。(第4實施方式)接著，對本發(fā)明的第4實施方式進行說明。圖14是第4實施方式的懸架單元的剖 面圖，圖15是滑塊的放大剖面圖。并且，圖16是相當于圖14的H-H’線的剖面。如圖14、15所示，本實施方式的光波導232與上述第3實施方式同樣，是使用光纖 的光波導232，其具有單模光纖(以下稱為SM光纖)90、與SM光纖90的前端側連接的漸 變折射率光纖(graded index fiber)(以下稱為GI光纖)91、以及與GI光纖91的前端側 連接的沒有包層的光纖92 (參照圖15)。SM光纖90由與上述第3實施方式相同的構成材料構成，具有芯部135和包層134。GI光纖91是如下的光纖在傳播光束L的場內，其中心的折射率大于外周的折射 率，隨著從中心朝向徑向外側，折射率連續(xù)減小。由此，在GI光纖91內，以正弦波的光路來 傳播光束L。S卩，通過調整GI光纖91的長度，能夠調整從GI光纖91出射的光束L的出射角。在本實施方式中，GI光纖91的長度被設定為，通過GI光纖91使從SM光纖90的芯部 135出射的光束L成為準直光并出射。另外，也可代替GI光纖91或SM光纖90，使用用于 將光束L的振動面保持為恒定方向的偏振保持光纖。偏振保持光纖在包層內，內裝有用于 從芯部的兩側對芯部施加應力的應力施加部件，由此，能夠在芯部內僅流通特定方向的線 偏振光。沒有包層的光纖92僅由與構成上述SM光纖90的芯部135相同的構成材料構成， 利用與長度方向垂直的剖面整體來傳播從GI光纖91出射的光束L。由此，從GI光纖91出 射的準直光在平行狀態(tài)下向沒有包層的光纖92的流出端側傳播。而且，沒有包層的光纖92 的前端面朝向與沒有包層的光纖92的軸方向(延伸方向)交叉的方向(例如45度)被切 斷，該切斷面構成用于向與導入方向不同的方向反射在沒有包層的光纖92內傳播的光束L 的鏡面92a。該鏡面92a以使光束L的朝向大致改變90度的方式，反射在沒有包層的光纖 92內傳播的光束L，準直光朝向點尺寸轉換器40入射。另外，鏡面92a也可以構成為通過 蒸鍍法等形成由鋁等構成的反射板。這里，如圖14、16所示，在光波導232的前端部分、即滑塊2與襯墊部17b之間，以 覆蓋光波導232的方式設有平板部250。而且，平板部250中的與滑塊基板60的粘接面?zhèn)?(下表面?zhèn)?設有使SM光纖90的包層134的外周面平面狀露出的平坦面250a。關于該平 坦面250a，平板部250中的與滑塊基板60的粘接面在厚度方向上被研磨到使包層134露 出的位置，從滑塊2的基端側到前端面、即GI光纖91和沒有包層的光纖92，形成有平坦面 250a。而且，對平坦面250a與滑塊基板60的粘接面進行粘接，由此，固定滑塊2和光波導 232。而且，由沒有包層的光纖92的鏡面9 反射的光束L (準直光)在通過平坦面250a 與點尺寸轉換器40的邊界部時，進行透射而不是折射。即，相對于平坦面250a與點尺寸轉 換器40的邊界部垂直通過的光束L在邊界部中直線前進，入射到點尺寸轉換器40。因此，根據(jù)本實施方式，除了發(fā)揮與上述第3實施方式相同的效果以外，在光波導 232中采用GI光纖91，所以，通過調整GI光纖91的長度，能夠自由地設定光束L的出射角。并且，在GI光纖91的前端連接有沒有包層的光纖92，所以，在沒有包層的光纖92 內，利用其整體來傳播光束L，所以，能夠在維持從GI光纖91入射的入射角的情況下延長光 路。因此，光波導232的光路調整變得容易。即，能夠通過設定GI光纖91的長度，優(yōu)化入 射到點尺寸轉換器40的光束L。進而，形成使包層134(光波導23 的外周面平面狀露出的平坦面250a，由此，鏡 面9 與點尺寸轉換器40之間的邊界面為平坦面。由此，在準直光通過平坦面250a的情 況下，不折射而直線前進。因此，能夠調整光束L的出射角來優(yōu)化針對滑塊2的入射光的點形狀，能夠在點尺 寸轉換器40中高效地產(chǎn)生點光。(第5實施方式)接著，對本發(fā)明的第5實施方式進行說明。圖17是第5實施方式的滑塊的剖面圖。 另外，在以下的說明中，對與上述第4實施方式相同的結構標注相同的標號并省略說明。如圖17所示，本實施方式的光波導332將GI光纖191的長度設定為比第4實施 方式的GI光纖91 (參照圖15)的長度長。即，將GI光纖191的長度設定為，從GI光纖191 的前端向沒有包層的光纖92出射的光束L會聚。具體而言，在鏡面92a中反射后，在頭波導(點光產(chǎn)生元件)140的波導芯部148內設定焦點。該情況下，不需要在滑塊2上設置用 于使光束L會聚的透鏡或SSC芯部48等。即，頭波導140的波導芯部148與上述第1實施 方式的SSC芯部48不同，在從基端側朝向前端側的方向上，與長度方向(Z方向)垂直的截 面積相同。因此，根據(jù)本實施方式，除了發(fā)揮與上述第4實施方式相同的效果以外，對GI光纖 191的長度進行設定以使光束L會聚，由此，不需要SSC芯部48，所以，能夠降低制造成本。(第6實施方式)接著，對本發(fā)明的第6實施方式進行說明。圖18是第6實施方式的懸架單元的剖 面圖，圖19是示出第6實施方式的光波導的前端部分的立體圖。另外，在以下的說明中，對 與上述第5實施方式相同的結構標注相同的標號并省略說明。如圖18、19所示，在本實施方式中，在滑塊2的長度方向的中途部配置點尺寸轉換 器(未圖示)。該情況下，在光波導332的前端部分形成的平板部350由第1平板部351和配置于 第1平板部351的前端面的第2平板部352構成。第1平板部351在滑塊2與襯墊部17b 之間，配置在從滑塊2的基端面到中途部的區(qū)域，其前端面朝向與光波導332的軸方向(延 伸方向)交叉的方向(例如45度)被切斷，構成鏡面四加。即，光波導332的鏡面四加形 成為位于點尺寸轉換器的正上方。在鏡面四加上，通過蒸鍍法等成膜有鋁等高反射率的金 屬材料。另一方面，第2平板部352構成為，在第1平板部351的前端側即鏡面四加的前 端側，以嵌入滑塊2與襯墊部17b之間的方式，充填與第1平板部351相同的構成材料。另 外，如果利用高反射率的金屬材料來形成第2平板部，則能夠使與第1平板部之間的邊界面 成為鏡面。這樣，根據(jù)本實施方式，即使在滑塊2的中途部存在點尺寸轉換器的情況下，在光 波導332的前端側，在滑塊2與襯墊部17b之間也不會產(chǎn)生間隙。因此，能夠發(fā)揮與第4實 施方式相同的效果，并且，即使在滑塊2的前端面?zhèn)葲]有配置點尺寸轉換器的情況下，也能 夠對應于點尺寸轉換器的配置位置來容易地引導光波導332。(第7實施方式)接著，對本發(fā)明的第7實施方式進行說明。圖20是第7實施方式的頭懸架組件的 立體圖。另外，在以下的說明中，對與上述第1實施方式相同的結構標注相同的標號并省略 說明。如圖20所示，在彎曲件25的支承體118上設有支承光波導132的多個支承部件 400、401。這些支承部件400、401是形成有能夠具有間隙地插入光波導132的貫通孔的部 件，將光波導132支承為能夠相對于滑塊2的移動而在長度方向上移動。多個支承部件400、401中的支承部件401以圍繞光波導132周圍的方式，使在與 沿著支承體118的長度方向的方向垂直的方向上形成的舌部52折曲來形成。在本實施方式中，伴隨信息記錄再現(xiàn)裝置1動作時的滑塊2和承載梁M的姿勢變 動，光波導132也能夠沿著長度方向移動。因此，在浮起時(動作時)不對滑塊2作用來自 光波導132的力，能夠使滑塊2穩(wěn)定地浮起。并且，即使在光波導132以軸方向為中心在扭 轉方向上作用有力的情況下，通過支承部件400、401，光波導132也僅被約束在軸直角方向上，所以，不對滑塊2作用來自光波導132的力。并且，在彎曲件25的支承體118上形成舌 部52，僅通過折曲舌部52，就能夠支承光波導132，所以，能夠利用簡易的結構可靠地支承 光波導132。(第8實施方式)接著，對本發(fā)明的第8實施方式進行說明。圖21是示出第8實施方式的光波導的 前端部分(平板部)的立體圖。另外，在以下的說明中，對與上述第1實施方式相同的結構 標注相同的標號并省略說明。如圖21所示，本實施方式的光波導532與上述第1實施方式同樣，與平板部550 一體形成。而且，在該平板部550的基端側、即光波導532與平板部550的連接部501中， 平板部550的截面形狀形成為隨著朝向基端側而減小。具體而言，平板部550的連接部501 形成為，隨著朝向基端側，寬度方向(X方向)的長度逐漸縮小。而且，連接部501的側面具 有規(guī)定的曲率半徑R的曲面。根據(jù)該結構，平板部550與光波導532的連接部501的截面形狀形成為逐漸減小， 由此，能夠分散對連接部501作用的應力。由此，能夠防止連接部501由于使用時的滑塊2 的姿勢變動等或制造時針對連接部501的應力集中而發(fā)生故障。另外，連接部501形狀能夠適當設計變更，例如形成為朝向基端側直線變細的錐 形形狀等。并且，在上述實施方式中，連接部501形成為，隨著朝向基端側，寬度方向(X方 向)的長度逐漸縮小，但是，也可以形成為高度方向(Z方向)的長度逐漸縮小，或者形成為 寬度方向和高度方向的長度均逐漸縮小。進而，在上述第8實施方式中，對一體形成光波導 532和平板部550的情況進行了說明，但是不限于此，也可以如上述第3實施方式那樣，分體 設置光波導132和平板部150。(第9實施方式)接著，對本發(fā)明的第9實施方式進行說明。圖22是示出本發(fā)明的第9實施方式的 相當于圖7的剖面圖。另外，在以下的說明中，對與上述第1實施方式相同的結構標注相同 的標號并省略說明。如圖22所示，本實施方式的光波導632與上述第1實施方式的不同之處在于，芯 部635的與延伸方向垂直的剖面( 平面)形成為長方形狀。更加詳細地說明時，芯部635 被設定為，在^平面中長邊和短邊的長度不同，在使其長邊方向與Y方向一致、且短邊方向 與Z方向一致的狀態(tài)下形成。該情況下，如果芯部635的長邊長度超過短邊長度的1倍，則 當然能夠發(fā)揮本發(fā)明的效果，更加優(yōu)選為1.1倍以上(即長寬比為1.1 1以上)。這樣，在芯部635的TL平面中使長邊和短邊的長度不同，由此，能夠將光束L的振 動面保持為恒定方向，所以，能夠在維持線偏振光的狀態(tài)下向滑塊2弓丨導光束L (單一偏振 保持)。該情況下，能夠通過與上述各實施方式的剖面為正方形狀的芯部35的制造方法相 同的制造方法，來制造本實施方式的芯部635。即，在利用半導體工藝統(tǒng)一制造光波導632 和電氣布線31時，僅適當變更芯部635的膜厚，因此，能夠防止制造成本的增加和制造效率 的降低。另外，如圖23所示，也可以采用在H平面中使芯部735的長邊與Z方向一致、且 短邊與Y方向一致的光波導732。通過該結構，也能夠發(fā)揮與上述效果相同的效果。并且， 雖然沒有圖示，但是，芯部的截面形狀不限于長方形狀，只要是橢圓形狀等的扁平形狀，就能夠適當設計變更。該情況下，只要芯部的長軸為短軸的1倍以上即可，更加優(yōu)選設定為長 軸與短軸之比為1 1.1以上。即，只要芯部形成為與延伸方向(X方向)垂直的2個方向 (Y方向、Z方向)的長度分別不同即可。(第10實施方式)接著，對本發(fā)明的第10實施方式進行說明。圖M是示出本發(fā)明的第10實施方式 的相當于圖3的1-1’線的剖面圖。另外，在以下的說明中，對與上述第1實施方式相同的 結構標注相同的標號并省略說明。如圖M所示，本實施方式的光波導832在包層34中的芯部35的Y方向兩側形成 有一對隧道部801。這些隧道部801是配置成從兩側夾持芯部35的空間，與芯部35的延伸 方向平行地延伸。即，隧道部801是在包層34內形成的與延伸方向垂直的剖面( 平面) 俯視為矩形狀的空間，在其內部填充有空氣或適當?shù)臍怏w。另外，隧道部801內也可以保持 真空。即，隧道部801的折射率大約為1。因此，根據(jù)本實施方式，發(fā)揮與上述第1實施方式相同的效果，并且，通過在芯部 35的兩側配置隧道部801，由此，能夠將光束L的振動面保持為恒定方向(單一偏振保持)。 因此，能夠在芯部35內僅流通特定方向的線偏振光，所以，能夠優(yōu)化針對滑塊2的入射光的 點形狀，能夠在點尺寸轉換器40中高效地產(chǎn)生點光。另外，隧道部801的截面形狀不限于矩形狀，也可以采用圓形等的各種形狀。并 且，隧道部801的數(shù)量也可以設置2個以上的多個。進而，隧道部801的布局也能夠適當設 計變更，例如在芯部35的X方向兩側配置一對，或者以包圍芯部35周圍的方式進行配置寸。(第11實施方式)接著，對本發(fā)明的第11實施方式進行說明。圖沈是示出本發(fā)明的第11實施方式 的相當于圖3的Α-Α’線的剖面圖。另外，在以下的說明中，對與上述第1實施方式相同的 結構標注相同的標號并省略說明。如圖沈所示，本實施方式的光波導932在包層34中的芯部35的Y方向兩側形成 有一對應力施加部901。這些應力施加部901是配置成從兩側夾持芯部35的剖面為矩形狀 的部件，與芯部35的延伸方向平行地延伸。作為應力施加部901的形成材料，能夠采用線膨脹系數(shù)與構成光波導932的材料 不同的材料，例如鋁、鎳等的金屬或液晶聚合物等的合成樹脂等。該情況下，由于應力施加 部901與包層34的相對熱膨脹/熱收縮，在與芯部35的延伸方向垂直的方向上作用有壓 縮應力。因此，根據(jù)本實施方式，與上述第2實施方式同樣，通過在芯部35的Y方向兩側配 置應力施加部901，由此，均等地從兩側對芯部35作用有壓縮應力。該壓縮應力使芯部35 產(chǎn)生雙折射性，能夠將光束L的振動面保持為恒定方向，所以，能夠在維持線偏振光的狀態(tài) 下向滑塊2引導光束L。另外，作為應力施加部901的制造方法，除了上述方法以外，還能夠通過以下的方 法來形成。即，在包層34的形成材料中使用石英玻璃等，對該包層34的應力施加部901的 形成區(qū)域照射離子束，由此，僅照射區(qū)域局部為高密度。由此，離子束的照射區(qū)域成為應力 施加部901，從該應力施加部901朝向芯部35作用有壓縮應力。該情況下，壓縮應力不由于溫度變化而變化，所以，沒有溫度依賴性，能夠形成可靠性高的應力施加部901。并且，與上述第2實施方式的隧道部801同樣，應力施加部901的截面形狀不限于 矩形狀，也可以采用圓形等的各種形狀。并且，應力施加部901的數(shù)量也可以設置2個以上 的多個。進而，應力施加部901的布局能夠適當設計變更，例如在芯部35的X方向兩側配 置一對，或者以包圍芯部35周圍的方式進行配置等。進而，作為應力施加部的結構，除了上述結構以外，還能夠采用以下所示的結構。 例如如圖26所示，光波導1032具有在包層34的表面(與盤面Dl的相對面)上配置的應 力施加部1001。該應力施加部1001由與上述應力施加部901相同的形成材料構成，配置在 芯部35的正上方。該情況下，在從芯部35的上方對芯部35進行壓縮的方向上，從應力施 加部1001作用有應力。由此，能夠發(fā)揮與上述第3實施方式相同的效果。并且，根據(jù)該結 構，僅是在包層34上配置應力施加部1001的簡單結構，所以，能夠防止制造效率的增加。 (第12實施方式)接著，對本發(fā)明的第12實施方式進行說明。圖27是示出本發(fā)明的第12實施方式 的頭懸架組件的前端部分的放大立體圖，圖28是沿著圖27的1-1’線的剖面圖。另外，在 以下的說明中，對與上述第1實施方式相同的結構標注相同的標號并省略說明。在本實施 方式中，與上述各實施方式的不同之處在于，分割構成本發(fā)明的定位部和光波導。如圖27、28所示，本實施方式的定位部1100配置在滑塊2的背面2c (滑塊2中的 與襯墊部17b (參照圖8)的相對面)上。具體而言，定位部1100在滑塊2的X方向兩側設 置一對，是分別具有沿著Y方向形成的平坦面的平板狀部件。這一對定位部1100的基端面 和兩側面分別與滑塊2的基端面和兩側面構成為同一平面，另一方面，定位部1100的前端 面朝向與光波導232的軸方向(延伸方向)交叉的方向(例如45度左右)被切斷。S卩，定 位部1100的前端面與光波導232的前端面(鏡面92a)形成為同一平面。在一對定位部1100內(各定位部1100之間)，在滑塊2的X方向中央部，沿著Y 方向從滑塊2的前端面到基端面形成有導向槽1101。而且，在該導向槽1101內，以夾入定 位部1100之間的方式配置上述光波導232。具體而言，光波導232例如與上述第4實施方 式同樣，是在與滑塊2的粘接面?zhèn)染哂衅教姑?50a的光纖，在導向槽1101的寬度方向(X 方向)中央部，在導向槽1101的延伸方向與光波導232的延伸方向一致的狀態(tài)下，粘接固 定在滑塊2的背面2c。另外，導向槽1101的寬度只要設定為光波導232的直徑以上即可， 但是，比較窄的話容易定位，能夠沒有晃動地在導向槽1101內配置光波導232。在本實施方式中，在滑塊2上固定光波導232時，首先，在滑塊2的背面2c中的兩 側，在對滑塊2的端面與定位部1100的端面進行了定位的狀態(tài)下，在滑塊2上粘接固定定 位部1100。然后，在形成于定位部1100之間的導向槽1101內配置光波導232，并且，在對 光波導232的鏡面92a與定位部1100的前端面進行了定位的狀態(tài)下，對光波導232和滑塊 2進行粘接固定。由此，能夠在滑塊2上定位并固定光波導232。 根據(jù)本實施方式，發(fā)揮與上述實施方式相同的效果，并且，在滑塊2的背面2c配置 定位部1100，由此，僅通過在形成于兩者之間的導向槽1101內配置光波導232，就能夠在滑 塊2上固定光波導232，所以，光波導232與滑塊2的位置對準和固定變得容易。并且，分體 構成定位部1100和光波導232，由此，能夠根據(jù)用途來固定各種光波導232，所以，能夠提高 設計的自由度。
另外，在上述實施方式中，作為光波導，例如對采用第3實施方式的光纖的情況進 行了說明，但是不限于此，也能夠采用上述各種光纖。并且，如圖29所示，能夠采用如上述第1實施方式那樣具有芯部35和與芯部35 密接并對芯部35進行密封的包層34(均參照圖7)的剖面為矩形狀的樹脂波導1232。該情 況下，樹脂波導1232的厚度(Z方向的厚度)需要與定位部1100的厚度相同，或者形成為 樹脂波導1232較薄。(第13實施方式)接著，對本發(fā)明的第13實施方式進行說明。圖30是發(fā)明的第13實施方式的相當 于圖14的H-H’線的剖面圖。另外，在以下的說明中，對與上述第1實施方式相同的結構標 注相同的標號并省略說明。在上述第12實施方式中，對將本發(fā)明的定位部分割為一對定位 部1100并配置在滑塊2的背面2c的情況進行了說明，但是不限于此，兩側的定位部也可以 在至少一部分連接。具體而言，如圖30所示，定位部1300具有與滑塊2的背面2c (參照圖28)的外 形相同形狀的薄板部1301，在該薄板部1301的X方向兩側形成有向Z方向鼓出的鼓出部 1302。即，本實施方式的定位部1300的剖面形成為C字狀，在鼓出部1302之間形成的槽 作為光波導232的導向槽1303發(fā)揮功能。而且，在該導向槽1303的底部粘接固定光波導 232。另外，薄板部1301設于定位部1300的滑塊2側(圖30的下側)，但是不限于此， 薄板部1301也可以設于定位部1300的滑塊2側的相反側(圖30的上側)。根據(jù)該結構，除了發(fā)揮與上述實施方式相同的效果以外，與第12實施方式那樣分 割構成定位部1100(參照圖27)的情況相比，僅通過按照滑塊2的外形來配置定位部1300 的薄板部1301的背面，就能夠對滑塊2和定位部1300進行定位固定。由此，不需要進行鼓 出部1302之間的位置對準等，所以，更加簡單地進行定位部1300與滑塊2的定位，光波導 232與滑塊2的位置對準和固定變得容易。(第14實施方式)接著，對本發(fā)明的第14實施方式進行說明。圖31是本發(fā)明的第14實施方式的相 當于圖14的H-H’線的剖面圖。另外，在以下的說明中，對與上述實施方式相同的結構標注 相同的標號并省略說明。在上述實施方式中，對朝向滑塊2(參照圖14)側配置光波導232 的平坦面250a的情況、即導向槽1303的底面與光波導232的平坦面250a抵接的情況進行 了說明。與此相對，在本實施方式中，如圖31所示，光波導232的平坦面250a在朝向襯墊 部17b (參照圖14)側配置的狀態(tài)下被收納在導向槽1303內。該情況下，平坦面250a與鼓 出部1302的表面(襯墊部17b側)配置成同一平面。根據(jù)該結構，與上述第3實施方式同樣，僅通過按照滑塊2的外形來配置定位部 1300的背面(薄板部1301的背面)，就能夠對滑塊2和定位部1300進行定位固定。而且，光波導232的平坦面250a與鼓出部1302的表面配置成同一平面，所以，定 位部1300和光波導232與襯墊部17b的表面彼此抵接。即，在固定定位部1300和光波導 232與襯墊部17b時，光波導232的平坦面250a也作為與襯墊部17b進行定位的定位部發(fā) 揮功能。因此，能夠容易且可靠地針對容易撓曲的襯墊部17b固定光波導232。
(第15實施方式)接著，對本發(fā)明的 第15實施方式進行說明。圖32是本發(fā)明的第15實施方式的光 波導的剖面圖，圖33是相當于圖14的H-H’線的剖面圖。另外，在以下的說明中，對與上述 實施方式相同的結構標注相同的標號并省略說明。如圖32、33所示，本實施方式的光波導1432在包層134的外周面，形成有對在周 向上相對的位置(圖32中為Y方向)進行研磨后的平坦面1433、1434。光波導1432被收 納在導向槽1101內，以使平坦面1433、1434與定位部1100的表面和背面分別成為同一平面。根據(jù)該結構，首先，在包層134的外周面形成平坦面1434，由此，與上述第4實施方 式(參照圖14)同樣，鏡面92a與點尺寸轉換器40之間的邊界面為平坦面。由此，能夠調 整光束L的出射角來優(yōu)化針對滑塊2的入射光的點形狀，能夠在點尺寸轉換器40 (參照圖 14)中高效地產(chǎn)生點光。并且，光波導1432的平坦面1433、1434與定位部1100的兩面配置成同一平面，所 以，光波導1432的平坦面1433、1434與滑塊2 (參照圖14)和襯墊部17b的表面彼此分別 抵接。即，在滑塊2上固定定位部1100和光波導1432后，在襯墊部17b上進行固定時，光 波導1432的平坦面1433也作為與襯墊部17b進行定位的定位部發(fā)揮功能。因此，能夠容 易且可靠地針對容易撓曲的襯墊部17b固定光波導1432。另外，本發(fā)明的技術范圍不限于上述各實施方式，還包含在不脫離本發(fā)明主旨的 范圍內對上述實施方式施加各種變更后的實施方式。即，在上述實施方式中列舉的結構等 只不過是一例，能夠適當變更。例如，能夠適當組合來采用上述各實施方式。并且，在上述實施方式中，以使滑塊浮起的空氣浮起類型的信息記錄再現(xiàn)裝置為 例進行了說明，但是不限于該情況，只要與盤面相對配置，則盤與滑塊也可以接觸。即，本發(fā) 明的滑塊也可以是接觸滑塊類型的滑塊。該情況下，也能夠發(fā)揮相同的作用效果。并且，在上述實施方式中，對僅在臂部的單面?zhèn)仍O有頭懸架組件的結構進行了說 明，但是，也可以構成為，以與各盤相對的方式在插入各盤之間的臂部的兩面分別設置頭懸 架組件。該情況下，通過設于臂部的兩面?zhèn)鹊念^懸架組件的各滑塊，能夠進行與各滑塊相對 的盤面的信息的記錄再現(xiàn)。即，能夠通過1個臂部對2張盤的信息進行記錄再現(xiàn)，所以，能 夠實現(xiàn)信息記錄再現(xiàn)裝置的記錄容量的增加以及裝置的小型化。進而，在上述各實施方式中，將本發(fā)明的定位部作為與滑塊2的上表面(XY平面) 的外形相同的平板部(例如平板部50)進行了說明，但是不限于此，也可以形成為比平板部 大，還可以形成為比平板部小。例如，也可以將平板部的寬度和光波導的寬度形成為大致相 同的寬度。即，也可以在光波導的延長線上設置與該光波導的寬度大致相同的平板部。該 情況下，將平板部的上下表面(與滑塊2和襯墊部17b的粘接面)形成為平坦面，由此，針 對滑塊2的光波導的定位變得容易，能夠提高制造效率。產(chǎn)業(yè)上的可利用性在滑塊內容易地將光波導配置到點光產(chǎn)生元件，由此，能夠降低加工成本和制造 成本并提高制造效率。標號說明D 盤(記錄介質)；Dl 盤面(記錄介質的表面)；1 信息記錄再現(xiàn)裝置；2 滑塊；3 懸浮體；10 樞軸；11 支架；12 頭懸架組件；14 臂部；17 懸架；17b 襯墊部(支承 部)；20:激光光源(光源)；32、132、232、332、532、632、732、832、932、1032、1432 光波導； 32a、132a、92a、292a 鏡面；34 包層；35,635,735 芯部；50、150、250、350、550 平板部； 60、160 滑塊基板；40 點尺寸轉換器(點光產(chǎn)生元件)；91 =GI光纖(漸變折射率光纖)； 92 沒有包層的光纖；140 頭波導(點光產(chǎn)生元件)；250a 平坦面；270 鏡基板；501 連接 部；801 隧道部；901,1001 應力施加部；1101,1303 導向槽。
權利要求
1.一種頭懸架組件，該頭懸架組件具有懸浮體，其沿著記錄介質的表面延伸設置，并 且能夠在厚度方向上撓曲變形；滑塊，其以與所述記錄介質的表面相對的方式配置在所述 懸浮體的前端側；支承部，其在中間隔著所述滑塊的、所述記錄介質的相反側，在繞與所述 記錄介質的表面平行且彼此垂直的2個軸轉動自如的狀態(tài)下支承所述滑塊；以及光波導， 其與所述滑塊連接，將從光源出射的光束導入所述滑塊，所述滑塊具有由所述光束產(chǎn)生點光的點光產(chǎn)生元件， 通過所述點光在所述記錄介質中記錄信息， 所述頭懸架組件的特征在于，在所述支承部與所述滑塊之間，配置有用于所述光波導與所述滑塊的定位的具有平坦 面的定位部。
2.根據(jù)權利要求1所述的頭懸架組件，其特征在于，所述光波導具有芯部，其在全反射條件下引導從所述光源出射的所述光束；以及包 層，其由折射率比所述芯部的折射率低的材料構成，與所述芯部密接而對所述芯部進行密 封，所述定位部與所述包層一體形成。
3.根據(jù)權利要求1所述的頭懸架組件，其特征在于，所述光波導的至少一部分具有芯部，其在全反射條件下引導從所述光源出射的所述 光束；以及包層，其由折射率比所述芯部的折射率低的材料構成，與所述芯部密接而對所述 芯部進行密封，在所述包層的外周面，以覆蓋所述包層的方式，與所述包層分體地設置所述定位部。
4.根據(jù)權利要求3所述的頭懸架組件，其特征在于，所述平坦面的至少一部分屬于所述光波導，并且，與所述滑塊和所述支承部中的至少一方相對。
5.根據(jù)權利要求3所述的頭懸架組件，其特征在于， 所述定位部具有收納所述光波導的導向槽，所述光波導在所述導向槽內被引導到所述點光產(chǎn)生元件。
6.根據(jù)權利要求3 5中的任意一項所述的頭懸架組件，其特征在于， 所述光波導的至少一部分包含漸變折射率光纖。
7.根據(jù)權利要求6所述的頭懸架組件，其特征在于， 所述光波導的至少一部分利用其整體來傳播光束。
8.根據(jù)權利要求2所述的頭懸架組件，其特征在于，所述芯部的與該芯部的延伸方向垂直的截面的橫向寬度和縱向寬度彼此不同。
9.根據(jù)權利要求2所述的頭懸架組件，其特征在于， 沿著所述芯部的延伸方向在所述包層上形成隧道部。
10.根據(jù)權利要求2所述的頭懸架組件，其特征在于，所述光波導具有應力施加部，該應力施加部用于在與所述芯部的延伸方向垂直的方向 上施加壓縮應力。
11.根據(jù)權利要求10所述的頭懸架組件，其特征在于， 以夾著所述芯部的兩側的方式配置所述應力施加部。
12.根據(jù)權利要求10所述的頭懸架組件，其特征在于， 所述應力施加部配置在所述包層的表面。
13.根據(jù)權利要求2所述的頭懸架組件，其特征在于，所述光波導的前端面是朝向所述點光產(chǎn)生元件反射被導入所述光波導內的所述光束 的鏡面。
14.根據(jù)權利要求1所述的頭懸架組件，其特征在于，在所述定位部的與所述滑塊接觸的接觸面?zhèn)龋以谒鲧R面與所述點光產(chǎn)生元件之 間，形成有使所述包層的外周面平面狀露出的平坦面。
15.根據(jù)權利要求1所述的頭懸架組件，其特征在于， 所述定位部是平板部。
16.根據(jù)權利要求15所述的頭懸架組件，其特征在于，所述平板部的側面中的至少一部分與所述滑塊的側面中的至少一部分為同一平面。
17.根據(jù)權利要求16所述的頭懸架組件，其特征在于， 所述平板部的寬度比所述光波導的寬度寬。
18.根據(jù)權利要求15所述的頭懸架組件，其特征在于，所述頭懸架組件還具有連接部， 該連接部連接所述平板部和所述光波導，所述連接部隨著從所述平板部朝向所述光波導， 所述連接部的截面形狀減小。
19.一種信息記錄再現(xiàn)裝置，其特征在于，該信息記錄再現(xiàn)裝置具有 權利要求1所述的頭懸架組件；在固定方向上旋轉的磁記錄介質；光源，其出射光束，以對所述磁記錄介質進行加熱；樞軸，其配置在所述磁記錄介質的外側；以及支架，其能夠繞所述樞軸轉動，并且，具有支承所述頭懸架組件的臂部。
全文摘要
本發(fā)明提供頭懸架組件和具有該頭懸架組件的信息記錄再現(xiàn)裝置。該頭懸架組件具有懸浮體，其沿著記錄介質的表面延伸設置，并且能夠在厚度方向上撓曲變形；滑塊，其以與所述記錄介質的表面相對的方式配置在所述懸浮體的前端側；支承部，其在中間隔著所述滑塊的、所述記錄介質的相反側，在繞與所述記錄介質的表面平行且彼此垂直的2個軸轉動自如的狀態(tài)下支承所述滑塊；以及光波導，其與所述滑塊連接，將從光源出射的光束導入所述滑塊。所述滑塊具有根據(jù)所述光束產(chǎn)生點光的點光產(chǎn)生元件，通過所述點光在所述記錄介質中記錄信息。在所述支承部與所述滑塊之間，配置有用于所述光波導與所述滑塊的定位的具有平坦面的定位部。
文檔編號G11B5/60GK102105932SQ20098012857
公開日2011年6月22日 申請日期2009年7月10日 優(yōu)先權日2008年7月23日
發(fā)明者大海學, 平田雅一, 樸馬中, 田邊幸子 申請人:精工電子有限公司