專利名稱：光盤裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光盤裝置。作為一個例子，涉及光盤裝置的球面像差校正和傾斜校正 方法。
背景技術(shù)：
有以下的文獻涉及光盤裝置中的球面像差校正。例如，在專利文獻1中，在其摘要中有如下記載“對于至少具備第一記錄層和第 二記錄層的多層光盤”，“在從第一記錄層向第二記錄層的移動完成之前，開始球面像差的 校正量從適于第一記錄層的值向規(guī)定值的變更。”。另外，例如在引用文獻2中，在其摘要中有如下記載“在所安裝的光盤為未記錄 狀態(tài)的情況下，基于推挽信號對球面像差校正量和物鏡的聚焦偏移量(offset)進行調(diào)整， 在光盤記錄規(guī)定的數(shù)據(jù)，進而基于由此得到的再現(xiàn)信號，調(diào)整光拾取器的球面像差校正元 件的球面像差校正量和物鏡的聚焦偏移量。”。另外，例如在引用的文獻3中，在其摘要中有如下記載“利用物鏡移動信號使物 鏡沈從能夠位移的范圍內(nèi)的下限位置向上限位置連續(xù)地移位，使用該物鏡沈位移時的聚 焦錯誤信號對從覆蓋層的表面LO至各記錄層L1、L2、L3的各距離D1、D2、D3進行計算。然 后，分別存儲對應(yīng)各距離Dl、D2、D3的球面像差校正量Rl、R2、R3?！?。另夕卜，例如在引用的文獻4中，在其摘要中有如下記載“在光盤為⑶/DVD-ROM或 已記錄完的CD-R/RW、DVD-R/RW的情況下，間斷地測量抖動，對物鏡的傾斜進行校正。另外， 在為未記錄和已記錄一部分的⑶-R/RW、DVD-R/RW光盤的情況下，根據(jù)推挽誤差信號和擺 動(wobbling)信號對光盤的彎曲進行檢測并進行物鏡的傾斜校正?！薄＠墨I1 日本特開2002-157750號公報專利文獻2 日本特開2006-139841號公報專利文獻3 日本特開2007-164927號公報專利文獻4 日本特開2003-346369號公報作為高密度化的光盤，一般已知的有DVD、BD(Blu_ray Disc)、HD-DVD等具有多個 記錄層的多層光盤。對于這些多層光盤中的各記錄層，各個記錄面被由透明材料形成的保 護層覆蓋，防止由于激光照射而引起該記錄層的熱變形、氧化。對這樣的多層光盤的各記錄 層照射激光時，激光透過的保護層的厚度根據(jù)各記錄層而不同，因此在從各記錄層反射的 反射光中包含不同的球面像差。該球面像差與物鏡的數(shù)值孔徑NA的4次方成比例地增大。 該球面像差增大時，對物鏡相對于各記錄層的焦點控制(聚焦伺服控制)產(chǎn)生不良影響，因 此有必要從該反射光中將其排除。因此，在經(jīng)數(shù)值孔徑NA大的物鏡向多層光盤照射激光進 行信號的記錄或再現(xiàn)的光盤記錄再現(xiàn)裝置中，具備用于對從各記錄層反射的反射光中包含 的球面像差進行校正的球面像差校正機構(gòu)。為了實現(xiàn)光盤的高記錄密度，有必要對于光盤介質(zhì)、光盤記錄再現(xiàn)裝置的個體偏 差實現(xiàn)高的信號品質(zhì)。光頭與光盤介質(zhì)的位置關(guān)系的偏差，特別是作為所述球面像差、散焦(defocus)、偏離軌道(offtrack)(光點從軌道的中心偏離)、切向傾斜(Tangential tilt) (記錄軌道切線方向的傾斜)、徑向傾斜(radial tilt)(光盤半徑方向的傾斜)等引起的 再現(xiàn)信息信號的特性變化被指出，期望由這些原因?qū)е碌腻e誤率的增加小的裝置。在此，例如，對在以下結(jié)構(gòu)的光盤進行記錄的記錄再現(xiàn)裝置中進行球面像差的情 況進行研究，該光盤為至少具有1個未記錄或能夠追加記錄的記錄層(以下令其為未記錄 層J)，且至少具有1個存在至少一部分已被記錄的地方的記錄層或再現(xiàn)專用層(以下令其 為已記錄層X)的構(gòu)成為多層的光盤(以下令其為光盤A)。用專利文獻1中記載的技術(shù)不能夠在未記錄層J對球面像差進行校正。另外，在所述專利文獻2所記載的裝置中，如光盤記錄再現(xiàn)裝置那樣對來自各記 錄層的推挽振幅分別評價、檢測校正量的工作，隨著記錄層的多層化的發(fā)展，與層的疊層的 量相應(yīng)地需要長的時間。期望縮短插入光盤后到能夠進行記錄再現(xiàn)為止的設(shè)置(setup)時 間，因此存在需要更有效率地校正球面像差的問題。另外，根據(jù)所述專利文獻3所記載的技術(shù)，能夠縮短校正時間。但是，在該光盤記 錄再現(xiàn)裝置中使物鏡位移的致動器線圈，以致動器線圈具有的固有諧振頻率附近的頻率進 行振動，因此連續(xù)位移時的物鏡位置相對于位移時間不會單純地線性增加，而是包含諧振 的量的誤差，因此校正精度產(chǎn)生偏差(不均勻)。另外，考慮對以下結(jié)構(gòu)的光盤的傾斜調(diào)整時，該光盤為至少具有一個存在至少一 部分已被記錄的地方的能夠追加記錄的記錄層(以下令其為未記錄層K)、且至少具有一個 再現(xiàn)專用層或已整面記錄完的記錄層(以下令其為已記錄層Y)的構(gòu)成為多層的光盤(以 下令其為光盤B)，存在以下的問題。例如根據(jù)專利文獻4記載的技術(shù)，對于不能得到再現(xiàn)信號的未記錄光盤，能夠得 到傾斜的校正值。但是，以該方式得到的傾斜校正值并非符合再現(xiàn)信號的值，因此從校正的 精度方面考慮存在使再現(xiàn)信號的品質(zhì)劣化的可能性。因此，為了提高再現(xiàn)品質(zhì)，對于未記錄 層也期望根據(jù)再現(xiàn)信號得到的傾斜的校正值。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種光盤裝置在對至少具有1個未記錄層或能夠追加記 錄的記錄層、且至少具有1個存在至少一部分已被記錄的地方的記錄層或再現(xiàn)專用層的構(gòu) 成為多層的光盤進行記錄的記錄再現(xiàn)裝置中，能夠縮短對未記錄的記錄層進行的球面像差 校正的處理時間。另外，本發(fā)明的目的在于提供一種光盤裝置在向至少具有1個存在至少一部分 已被記錄的地方的能夠追加記錄的記錄層、且至少具有1個再現(xiàn)專用層或已整面記錄完的 記錄層、的形成為多層的光盤進行記錄時，在能夠追加記錄的記錄層能夠進行提高再現(xiàn)品 質(zhì)的傾斜調(diào)整。上述目的能夠通過記載于發(fā)明內(nèi)容的范圍內(nèi)的發(fā)明而解決。另外上述的目的也能 夠通過以下記載的方式解決。本發(fā)明提供一種光盤裝置，其對光盤進行信息的記錄或再現(xiàn)，該光盤裝置的特征 在于，包括對激光進行集光的物鏡；驅(qū)動上述物鏡的驅(qū)動部；接收來自上述光盤的反射光 的光接收部；對球面像差進行校正的球面像差校正部；和取得上述球面像差的校正量的取得部，其中，在所安裝的光盤為至少具備一層第一層和一層第二層的光盤的情況下，上述取 得部根據(jù)來自上述第二層的反射光取得上述第二層的球面像差校正量，并根據(jù)上述第二層 的球面像差校正量取得上述第一層的球面像差校正量，其中，該第一層為未記錄或能夠追 加記錄的記錄層，該第二層為存在至少一部分已被記錄的地方的記錄層或再現(xiàn)專用層。本發(fā)明提供另一種光盤裝置，其對光盤進行信息的記錄或再現(xiàn)，該光盤裝置的特 征在于，包括對激光進行集光的物鏡；驅(qū)動上述物鏡的驅(qū)動部；接收來自上述光盤的反射 光的光接收部；對傾斜進行校正的傾斜校正部；和取得上述傾斜的校正量的取得部，其中， 在上述光盤為至少具備一層第一層和一層第二層的光盤的情況下，上述取得部根據(jù)來自上 述第二層的反射光取得上述第二層的傾斜校正量，并根據(jù)上述第二層的傾斜校正量取得上 述第一層的傾斜校正量，其中，該第一層為存在至少一部分已被記錄的地方的能夠追加記 錄的記錄層，該第二層為再現(xiàn)專用層或已整面記錄完的記錄層。本發(fā)明提供又一種光盤裝置，其對光盤進行信息的記錄或再現(xiàn)，該光盤裝置的特 征在于，包括對激光進行集光的物鏡；驅(qū)動上述物鏡的驅(qū)動部；接收來自上述光盤的反射 光的光接收部；對球面像差進行校正的球面像差校正部；對傾斜進行校正的傾斜校正部； 和取得上述球面像差的校正量和上述傾斜的校正量的取得部，其中，在上述光盤為至少具 備一層第一層和一層第二層的光盤的情況下，其中，該第一層為未記錄或能夠追加記錄的 記錄層，該第二層為再現(xiàn)專用層或已整面記錄完的記錄層，上述取得部根據(jù)來自上述第二 層的反射光取得上述第二層的傾斜校正量和球面像差校正量，根據(jù)上述第二層的傾斜校正 量取得上述第一層的傾斜校正量，并根據(jù)上述第二層的球面像差校正量取得上述第一層的 球面像差校正量。例如，本發(fā)明的特征的一例為，對于多個記錄層形成的光盤A在作為目的的層形 成光點(光卜光spot)，具備光拾取器，該光拾取器具有根據(jù)反射光的光接收量進 行驅(qū)動的聚焦致動器，具備接受光點的反射光、計算再現(xiàn)信息信號、生成與再現(xiàn)信息信號相 應(yīng)的球面像差信號的機構(gòu)，基于已記錄層X的球面像差校正量，對作為校正目標(biāo)的未記錄 層J的球面像差校正量分別根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)中確定的層間距離作為第一球面像差校正量進行計 算，用該第一球面像差校正量在試寫區(qū)域進行記錄，對記錄在試寫區(qū)域的信息進行再現(xiàn)，求 得對應(yīng)于該再現(xiàn)信息信號的第二球面像差校正量。優(yōu)選光盤裝置具有物鏡位置檢測單元，在以已記錄層X的球面像差校正量為基礎(chǔ) 進行各未記錄層的第一球面像差校正量的計算時，該物鏡位置檢測單元檢測激光的光軸方 向的物鏡位置，該光盤裝置基于標(biāo)準(zhǔn)所確定的層間距離，使用規(guī)定的計算方法計算至各未 記錄層的距離，基于其結(jié)果計算球面像差校正量。例如本發(fā)明的特征的其他的一例是，對由多個記錄層形成的光盤B，根據(jù)相對于已 記錄層Y的半徑方向的軸，在內(nèi)圈、中圈(中級圈)、外圈各位置的與再現(xiàn)信息信號的振幅或 錯誤率(error rate 誤差率)等再現(xiàn)性能指標(biāo)相應(yīng)的傾斜校正值，和在作為各校正目標(biāo)的 未記錄層K的已記錄區(qū)域得到的按照再現(xiàn)信息信號生成的傾斜校正值，對作為校正目標(biāo)的 各記錄層的、半徑方向上的已記錄完數(shù)據(jù)的區(qū)域以外的區(qū)域的傾斜校正值進行計算。例如，本發(fā)明的特征的其他的一例是，光盤裝置在插入光盤時的調(diào)整序列中進行 球面像差校正和傾斜校正這兩方的情況下，使球面像差校正和傾斜調(diào)整各自的順序為先進 行球面像差校正之后，再進行傾斜調(diào)整。7
發(fā)明的效果根據(jù)本發(fā)明，能夠提供如下的光盤裝置向至少具有1個未記錄層或能夠追加記 錄的記錄層、且至少具有1個存在至少一部分已被記錄的地方的記錄層或再現(xiàn)專用層的構(gòu) 成為多層的光盤進行記錄時，能夠縮短在未記錄的記錄層進行的球面像差校正的處理時 間。根據(jù)本發(fā)明，能夠提供如下光盤裝置在向至少具有1個存在至少一部分已被記 錄的地方的能夠追加記錄的記錄層、且至少具有1個再現(xiàn)專用層或已整面記錄完的記錄層 的、形成為多層的光盤進行記錄時，在能夠追加記錄的記錄層能夠進行提高再現(xiàn)品質(zhì)的傾 斜調(diào)整。


圖1為表示光盤記錄再現(xiàn)裝置的概略結(jié)構(gòu)的框圖。圖2為表示圖1所示的光盤記錄再現(xiàn)裝置的球面像差校正的調(diào)整處理算法的一例 的流程圖。圖3為表示球面像差校正量與至覆蓋層的表面的距離的關(guān)系的關(guān)系圖。圖4為表示圖1所示的光盤記錄再現(xiàn)裝置的傾斜調(diào)整的調(diào)整處理算法的一例的流 程圖。圖5為基于圖1所示的光盤記錄再現(xiàn)裝置的實施方式中的尋位(seek position) 位置的光盤的彎曲與傾斜校正值說明圖。圖6為上述圖5所示的未記錄層中的中間/外圈的傾斜校正值計算算法的流程 圖。圖7為插入BD時的初始調(diào)整處理算法的流程圖。圖8為表示第一球面像差校正量的計算和包括中間/外圈的傾斜調(diào)整中能夠使用 的、存在多個再現(xiàn)專用層或已整面記錄完的記錄層的光盤的一例的說明圖。圖9為在第一球面像差校正量的計算和包括中間/外圈的傾斜調(diào)整中，使用多個 再現(xiàn)專用層或已整面記錄完的記錄層的情況下的初始調(diào)整處理算法的流程圖。圖10為總結(jié)實施例1至符號的說明100光盤101光拾取器102激光光源104準(zhǔn)直透鏡105偏光束分離器1061/4波片107球面像差元件組107a凸透鏡107b凹透鏡108全反射鏡109物鏡
110物鏡聚焦致動器111柱面透鏡(cylindrical lens)112檢測透鏡113光檢測器115物鏡傾斜致動器121主軸電動機122移動電動機130系統(tǒng)控制電路131球面像差誤差檢測電路132再現(xiàn)信號生成電路133伺服信號生成電路134推挽信號生成電路135球面像差校正元件驅(qū)動電路136激光驅(qū)動電路137聚焦致動器驅(qū)動電路138移動進給電動機139主軸電動機驅(qū)動電路140光點141傾斜致動器驅(qū)動電路150系統(tǒng)控制電路內(nèi)置存儲器
具體實施例方式以下，參照附圖，對本發(fā)明的實施方式進行說明。(實施例1)圖1為實施例中在光盤100進行記錄或再現(xiàn)的光盤記錄再現(xiàn)裝置的整體框圖。該光盤100的激光入射側(cè)表面被透明的保護層(以下令其為覆蓋層)覆蓋，并且 在各記錄層之間也分別設(shè)置有透明的保護層(以下令其為中間層)，防止激光照射至各記 錄層而產(chǎn)生的熱變形和氧化。另外，作為光盤100的例子，存在多層的藍光光盤。另外，作 為光盤100的例子，存在混合型光盤。另外，在以下的說明中，令未記錄或能夠追加記錄的記錄層為未記錄層J。另外， 在以下的說明中，令存在至少一部分已被記錄的地方的記錄層或再現(xiàn)專用層為已記錄層X。 另外，在以下的說明中，令存在至少一部分已被記錄的地方的能夠追加記錄的記錄層為未 記錄層K。另外，在以下的說明中，令再現(xiàn)專用層或已整面記錄完的記錄層為已記錄層Y。在該光盤記錄再現(xiàn)裝置中，101為光拾取器，102為激光光源，104為準(zhǔn)直 (collimate)透鏡，105為偏光束分離器，106為1/4波片，107為球面像差校正元件組，在 球面像差校正元件組107中，107a為凸透鏡、107b為凹透鏡，108為全反射鏡，109為物鏡， 110為物鏡聚焦致動器，111為柱面(cylindrical)透鏡，112為檢測透鏡，113為光檢測器， 115為物鏡傾斜致動器，121為主軸(spindle)電動機，122為移動電動機(^ > ^ K 一 夕sled motor)，130為系統(tǒng)控制電路，131為球面像差誤差檢測電路，132為再現(xiàn)信號生成9電路，133為伺服信號生成電路，134為推挽信號生成電路，135為球面像差校正元件驅(qū)動電 路，136為激光驅(qū)動電路，137為聚焦致動器驅(qū)動電路，138為移動進給電動機(力> ？ K送 ” 一夕:sled feed moter)驅(qū)動電路，139為主軸電動機驅(qū)動電路，140為光點，141為傾 斜致動器驅(qū)動電路，150為系統(tǒng)控制電路中內(nèi)置的存儲器。在該圖中，光拾取器101為了對安裝的光盤100進行信息信號的再現(xiàn)或記錄再現(xiàn)， 具備發(fā)射與該光盤100對應(yīng)的波長λ的激光光束的激光光源102。另外，光拾取器101具 備將從激光光源102發(fā)射的光束變換為平行光束的準(zhǔn)直透鏡104。另外光拾取器101具備 使規(guī)定的直線偏光(偏振光)大致100%透過、使與該直線偏光正交的直線偏光大致100% 反射的偏光束分離器105。另外，光拾取器101具備將直線偏光變換為圓偏光，此外，將圓偏 光變換為直線偏光的1/4波片106。另外，光拾取器101具備全反射鏡108和物鏡109，該 物鏡109用于將來自該全反射鏡108的光束以規(guī)定的NA調(diào)整像差(與像差一致)在光盤 100的規(guī)定記錄層形成光點140。另外光拾取器101具備使該物鏡109在聚焦(focusing) 方向和循軌(tracking 跟蹤)方向位移的物鏡致動器110，和用于對射向物鏡109的光束 的球面像差進行校正、對因光盤100的基板厚度誤差等而產(chǎn)生的在光盤100上的光點140 的球面像差進行校正的球面像差校正元件107。從激光光源102發(fā)射的直線偏光的光束，在準(zhǔn)直透鏡104被變換為平行光束。偏 光束分離器105具備使規(guī)定的直線偏光大致100%透過、使與該直線偏光正交的直線偏光 大致100%反射的功能。在該實施方式中，被形成為使從激光光源102射出的直線偏光的光 束大致100%透過，將一部分反射。透過偏光束分離器105的光束，接著在1/4波片106被 變換為圓偏光。接著，光束在球面像差校正元件107被賦予規(guī)定的球面像差之后，在全反射 鏡108被反射、被導(dǎo)向物鏡109。物鏡109對應(yīng)于入射的光束，在光盤100的記錄層形成光 點 140。來自光盤100的反射光束再次通過物鏡109、全反射鏡108、球面像差校正元件 107，在1/4波片106被變換為與從激光光源102射出的直線偏光正交的直線偏光。因此， 該反射光束在偏光束分離器105被大致100%反射，通過柱面透鏡111。其后，反射光束在 檢測透鏡112被變換為規(guī)定的會聚(收束)光束、被導(dǎo)向光檢測器113。該球面像差校正元件107，由透鏡間距離可變的凸透鏡107a和凹透鏡107b這2片 組合透鏡形成。另外，球面像差校正元件107具備通過使組合透鏡的透鏡間距離變化，能夠 對透過光束的球面像差進行校正的光束擴展器(expander)。具體而言，使入射的激光產(chǎn)生 與因光盤100的覆蓋層和中間層而產(chǎn)生的球面像差符號相反的球面像差，并將該激光導(dǎo)向 1/4波片106。該球面像差校正元件群107中的凸透鏡107a，以相對于凹透鏡107b能夠在 激光的光軸方向位移(變位)的狀態(tài)被組裝，通過凸透鏡107a的相對于凹透鏡107b的相 對位置校正上述球面像差。該凸透鏡107a的相對于激光的光軸方向的位移，通過球面像差 校正元件驅(qū)動電路135進行。但是，球面像差校正元件并非限定于此，例如也可以為具有同 心圓狀的圖案、通過在光束的內(nèi)部與外周部之間賦予相位差而能夠進行球面像差校正的液 晶元件。光拾取器101具備光檢測器113。光檢測器113接收來自光盤100的反射光、并將 其轉(zhuǎn)換為與來自光盤100的反射光束的強度變化相應(yīng)的電信號。從光檢測器113輸出的電 信號，被供向再現(xiàn)信號生成電路132和伺服信號生成電路133。在再現(xiàn)信號生成電路132，基于上述電信號，得到記錄在光盤100的再現(xiàn)信息信號。另外，在伺服信號生成電路133，基 于上述電信號，檢測聚焦錯誤(focus error 聚集誤差)信號、循軌錯誤(tracking error 循軌誤差)信號等各種伺服信號。特別是，循軌錯誤信號能夠通過伺服信號生成電路133 的推挽信號生成電路134、利用推挽(push pull)法檢測出。因此，作為光檢測器113，例如能夠使用具備4個光接收區(qū)域的四劃分光檢測器， 該4個光接收區(qū)域由與光盤100的切線方向和半徑方向平行的2條劃分線將光接收面劃分 而形成的。另外，一般從光檢測器113能夠得到該切線方向的劃分線一側(cè)的2個光接收區(qū) 域的光接收量對應(yīng)的輸出信號和另一側(cè)的2個光接收區(qū)域的光接收量對應(yīng)的輸出信號。使 用該四劃分光檢測器，利用設(shè)置在檢測透鏡112和光檢測器113之間的柱面透鏡111，能夠 通過像散法(Astigmatic method)檢測聚焦錯誤信號。系統(tǒng)控制電路130具備控制該光盤記錄再現(xiàn)裝置整體的功能。也就是說，系統(tǒng)控 制電路130通過主軸電動機驅(qū)動電路139進行安裝于主軸電動機121的光盤100的旋轉(zhuǎn)控 制。另外，系統(tǒng)控制電路130通過進給電動機(送>9 一夕=Feed motor)驅(qū)動電路138將 光拾取器101在光盤100的半徑方向上驅(qū)動，進行訪問控制和進給控制。另外，系統(tǒng)控制電 路130通過致動器驅(qū)動電路137驅(qū)動物鏡致動器110，由此進行聚焦控制、循軌控制。進而， 系統(tǒng)控制電路130通過球面像差校正元件驅(qū)動電路135檢測光拾取器101的球面像差，進 行校正。對于球面像差的檢測原理及其校正順序，在后面敘述。另外，系統(tǒng)控制電路作為取 得球面像差的校正量、傾斜的校正量的取得部起作用。另外，系統(tǒng)控制電路130通過激光驅(qū)動電路136驅(qū)動該激光光源102，使得激光光 源102的射出光量達到規(guī)定的光量。由此，在記錄時，系統(tǒng)控制電路130根據(jù)記錄信息信號 驅(qū)動激光光源102，以對應(yīng)于該記錄信息信號的光強度和脈沖幅度(strategy 策略、方案) 使激光光源102發(fā)射激光束。來自光盤100的反射光束在光檢測器113被接收、被轉(zhuǎn)換成電信號，被送向再現(xiàn)信 號生成電路132和伺服信號生成電路133。在伺服信號生成電路133，根據(jù)所安裝的光盤 100以最適當(dāng)?shù)臋z測方法進行各種伺服信號的選擇、生成，然后供向系統(tǒng)控制電路130。在 系統(tǒng)控制電路130，基于被供給的這些伺服信號，通過致動器驅(qū)動電路137驅(qū)動物鏡致動器 110，使聚焦伺服和循軌伺服動作。在此，用圖2的流程圖，對通過上述系統(tǒng)控制電路130進行的球面像差校正步驟的 基本的順序進行說明。在此，令在說明中使用的光盤100為至少具有1個未記錄層J、且至少具有1個已 記錄層X的構(gòu)成為多層的光盤A。處理開始時，在步驟200，光盤裝置首先將聚焦伺服的目標(biāo)點設(shè)置為預(yù)設(shè)值。另外， 光盤裝置根據(jù)所安裝的光盤A的記錄層驅(qū)動球面像差校正元件107，將球面像差校正量設(shè) 定為預(yù)設(shè)值。例如，在光盤A中，記錄層為由LO層、Ll層、L2層這3層形成的情況下，光盤 裝置根據(jù)已記錄層X為LO或為L1、L2的情況將球面像差校正元件107設(shè)定為不同的位置。 以下，為了便于說明和理解，假設(shè)LO層為已記錄層X，L1、L2均為未記錄層J，對由這樣的3 層形成的光盤A進行記錄的情況進行說明。此外，關(guān)于循軌伺服的目標(biāo)點、激光記錄能量以 及記錄方案等，為了使說明簡略化，令其被設(shè)定為預(yù)設(shè)值。另外，在設(shè)定為預(yù)設(shè)值的情況下，有必要對所安裝的光盤是否為光盤A進行判斷。另外，在設(shè)定預(yù)設(shè)值的情況下，有必要取得表示哪個層為已記錄層X的信息。對于這些，例 如也可以在光盤裝置進行聚焦控制，基于聚焦錯誤信號的振幅進行判斷。另外，例如也可以 通過光盤裝置對BCA (Burst Cutting Area 燒錄區(qū)、群刻區(qū))、DI (Disinformation 光盤 信息)等管理信息進行再現(xiàn)而判斷。另外，也可以構(gòu)成為例如在光盤的裝入時，用戶能夠 通過主機(host)裝置輸入表示光盤的種類的信息。上述初始值的預(yù)設(shè)置完畢時，在步驟201，光盤裝置首先使聚焦伺服為啟動狀態(tài)， 使得光點集光于已記錄面1上。因為在已記錄層X已記錄有數(shù)據(jù)，所以在步驟202，光盤裝 置將光點向已記錄有數(shù)據(jù)的軌道區(qū)域移動。其后，光盤裝置在步驟203，使循軌伺服為啟動 狀態(tài)，其后移至步驟204，進行后述的再現(xiàn)信號的振幅的校正。在步驟204，光盤裝置進行基于再現(xiàn)信號的振幅信息的校正(以下，稱為再現(xiàn)信號 振幅校正)，結(jié)束在已記錄層X的球面像差校正的調(diào)整學(xué)習(xí)。在步驟204進行的球面像差校 正的結(jié)果是，已記錄層X的球面像差校正結(jié)果作為LO層的第二球面像差校正量SABO存儲 在存儲器150中。在步驟205，光盤裝置根據(jù)存儲在存儲器150中的已記錄層X的球面像差校正結(jié)果 SAB0、和根據(jù)由標(biāo)準(zhǔn)決定的層間隔計算出的各記錄層LO與Li、LO與L2的各層間距離D1、 D2，根據(jù)規(guī)定的計算方法對各記錄層Li、L2各自的第一球面像差校正量SAA1、SAA2進行計 算。接著，在步驟206，作為計算結(jié)果的SAA1、SAA2均被存儲至存儲器150。接著，在步驟207，光盤裝置使聚焦伺服為啟動狀態(tài)，以使光點集光于未記錄層J 的面上。此外，在對未記錄層J的聚焦時的球面像差校正量中，使用在步驟205計算出的第 一球面像差校正量。在步驟208，光盤裝置對在上述步驟207中啟動了聚焦伺服的未記錄層J是未記錄 層還是至少一部分已記錄的層進行判別。在步驟208，在光盤裝置判斷未記錄層J為未記錄層的情況下，處理轉(zhuǎn)移至步驟 209，使得成為在試寫區(qū)域啟動循軌伺服的狀態(tài)。接著，光盤裝置在步驟210進行數(shù)據(jù)寫入 之后，在步驟211利用規(guī)定的再現(xiàn)信號的振幅進行球面像差校正，得到第二球面像差校正 量SAB。此次的例子的作為校正結(jié)果的SAB1、SAB2 —起被存儲在存儲器150中。在此，在上述的步驟208中，在未記錄層J被判斷為一部分已記錄的層的情況下， 處理轉(zhuǎn)移至步驟212，使得成為在該已記錄區(qū)域啟動循軌伺服的狀態(tài)。接著，光盤裝置在步 驟213利用規(guī)定的再現(xiàn)信號振幅進行球面像差校正，得到第二球面像差校正量SAB。與步驟 211同樣地，作為校正結(jié)果的SAB均被存儲在存儲器150中。接著，在步驟214，光盤裝置對除了剛剛已校正的記錄層以外是否還存在未校正的 記錄層進行判斷。在此，在上述步驟214中判斷為存在未校正的記錄層的情況下，有必要針對余下 的記錄層也進行球面像差校正。于是，在此情況下，處理轉(zhuǎn)移至步驟207，進行從上述的步驟 209至步驟211、或從步驟212至步驟213的一系列的球面像差校正。通過該步驟214進行 校正處理，直至所有記錄層的球面像差校正結(jié)束為止。另一方面，在上述步驟214中，在判斷已在所有的記錄層進行了球面像差校正的 調(diào)整學(xué)習(xí)的情況下，結(jié)束球面像差校正的校正處理。此外，如果已記錄層X特別為再現(xiàn)專用層或已整面記錄完的記錄層時，上述步驟203的循軌伺服并非必須使循軌伺服為啟動狀態(tài)(ON)。另外，上述步驟204、步驟211、步驟213中的再現(xiàn)信號振幅校正不僅限于再現(xiàn)信號 振幅，也能夠變更為對抖動、錯誤率這些所謂的再現(xiàn)性能進行評價的指標(biāo)。進而，對在圖2的流程圖的步驟205進行的、根據(jù)已記錄層X的球面像差的校正結(jié) 果計算各未記錄層J的第一球面像差校正量的詳細情況，在以下進行說明。系統(tǒng)控制電路130由CPU、ROM、RAM等構(gòu)成，具備對光盤記錄再現(xiàn)裝置全體進行控 制的功能。通過執(zhí)行光盤檢查程序能夠?qū)獗PA進行檢查，并且能夠使該檢查的執(zhí)行過程 以及執(zhí)行結(jié)果在由外部顯示器、打印機等構(gòu)成的輸出記錄再現(xiàn)裝置上適當(dāng)?shù)仫@示。在此情 況下，系統(tǒng)控制電路130在進行光盤A的檢查之前，先執(zhí)行圖2的步驟205的球面像差校正 量計算程序。于是，系統(tǒng)控制電路130通過執(zhí)行球面像差校正量計算程序，計算出光盤A的 各記錄層的球面像差校正量，存儲于內(nèi)置的存儲器150。球面像差校正量為與從光盤A的覆蓋層的表面到記錄層的各距離相應(yīng)的球面像 差的校正量，即凸透鏡107a的相對于凹透鏡107b的相對位置(距離)。另外，球面像差校 正量基于由在系統(tǒng)控制電路130內(nèi)設(shè)計的球面像差校正量計算程序中定義的校正量計算 用函數(shù)被計算出。如圖3所示，球面像差校正量按隨著與光盤A的覆蓋層的表面相距的距 離的增加而線性地增加的方式被計算。在此，所謂的距離對應(yīng)于激光透過的覆蓋層和中間 層形成的保護層的厚度。此外，也可以代替計算用的函數(shù)，使用預(yù)先存儲有與凸透鏡107a 相對于凹透鏡107b的相對位置對應(yīng)的球面像差校正量的表。接著，在步驟205，系統(tǒng)控制電路130如上述那樣地進行動作，分別計算第一球面 像差校正量SAA1、SAA2。具體而言，系統(tǒng)控制電路130在步驟205，在球面像差校正量計算 程序中定義的校正量計算用函數(shù)中，將各記錄層L0、Li、L2各自的與LO的層間距離Dl、D2 作為參數(shù)計算SAA1、SAA2。此時，用作參數(shù)的層間距離，以盤管理區(qū)域中記錄的盤種類為基 礎(chǔ)，基于系統(tǒng)控制電路130中預(yù)先準(zhǔn)備好的層間距離表被計算出。接著，系統(tǒng)控制電路130 在步驟206中，將上述那樣計算出的SAA1、SAA2對應(yīng)于各記錄層L1、L2存儲于存儲器150。另外，在本實施例中雖然已省略，但在通常的校正中，與球面像差校正一起也進行 聚焦偏移(offset)調(diào)整。根據(jù)以上在本實施例中敘述的多層光盤記錄方法，在至少具有1個未記錄層J、且 至少具有ι個已記錄層X的、形成為多層的光盤A中，能夠縮短球面像差校正所需時間。另 外基于至少1個以上的面的正確的校正值和由標(biāo)準(zhǔn)確定的層間隔，計算出其他的層的值， 從而能夠以高精度進行球面像差校正。(實施例2)接著，參照圖4的流程圖對最適當(dāng)?shù)膬A斜調(diào)整方法進行說明。令本實施例的光盤100為至少具有1個未記錄層K、且至少具有1個已記錄層Y 的、形成為多層的光盤B。以下，為了便于說明，在本實施例中，假設(shè)僅LO層為已記錄層Y、L1、L2均為未記錄 層K、對由這樣的3層形成的光盤A進行記錄的情況進行說明。令Ll和L2的已記錄的地方 為在半徑方向上位于內(nèi)圈(內(nèi)周)側(cè)的試寫區(qū)域。處理開始時，在步驟400，首先將聚焦伺服的驅(qū)動值設(shè)置為預(yù)設(shè)值。接著在步驟401，光盤裝置使聚焦伺服為啟動狀態(tài)，使光點集光于目標(biāo)的已記錄層13Y的記錄面上。另外，在設(shè)定預(yù)設(shè)值的情況下，有必要對所安裝的光盤是否為光盤B進行判斷。另 外，在設(shè)定預(yù)設(shè)值的情況下，有必要取得表示哪個層為已記錄層Y的信息。對于這些，例如 也可以在光盤裝置進行聚焦控制，基于聚焦錯誤信號的振幅進行判斷。另外，例如也可以通 過光盤裝置對BCA (Burst Cutting Area)、DI (Disc Information)等管理信息進行再現(xiàn)而 判斷。另外，例如也可以構(gòu)成為在安裝光盤時，用戶能夠通過主機(host)裝置輸入表示光 盤的種類的信息。進而在步驟402，光盤裝置使光點向已記錄層Y的數(shù)據(jù)區(qū)域的內(nèi)圈側(cè)移動。其后， 在步驟403，光盤裝置使循軌伺服為啟動狀態(tài)。進而，光盤裝置在步驟404進行基于規(guī)定的 再現(xiàn)信號的振幅的傾斜校正，將已記錄層Y的內(nèi)圈傾斜調(diào)整結(jié)果IN作為INO存儲在存儲器 150 中。在步驟405，光盤裝置使光點向上述進行了內(nèi)圈的傾斜調(diào)整的已記錄層Y的數(shù)據(jù) 區(qū)域的中間圈側(cè)移動。其后，在步驟406，光盤裝置使循軌伺服為啟動狀態(tài)。另外，光盤裝 置在步驟407與內(nèi)圈時同樣地進行基于再現(xiàn)信號的振幅的傾斜調(diào)整。傾斜調(diào)整的結(jié)果作為 MD記錄在存儲器150中。在本次的例子中，MDO的值被記錄。進而在步驟408，光盤裝置使 光點向進行了內(nèi)/中間圈的傾斜調(diào)整的已記錄層的數(shù)據(jù)區(qū)域的外圈側(cè)移動。其后，在步驟 409，光盤裝置使循軌伺服為啟動狀態(tài)。另外，光盤裝置在步驟410與內(nèi)/中間圈時同樣地 進行基于再現(xiàn)信號振幅的傾斜調(diào)整。該傾斜調(diào)整的結(jié)果作為OT記錄在存儲器150。在本次 的例子中，OTO被記錄。接著，在步驟411，光盤裝置將未調(diào)整的未記錄層K作為目標(biāo)層，將聚焦伺服的驅(qū) 動值設(shè)置為預(yù)設(shè)值。在本次的例子中，光盤裝置對內(nèi)圈側(cè)的區(qū)域均已記錄的Li、L2進行設(shè) 置。其后，光盤裝置在步驟412使聚焦伺服為啟動狀態(tài)，以使光點集光于目標(biāo)面上。進而光 盤裝置在步驟413通過移動電動機122使光點移動至光盤的已記錄數(shù)據(jù)的區(qū)域。在本次的 例子中，移動至存在試寫區(qū)域的內(nèi)圈側(cè)。接著，在步驟414，使循軌伺服為啟動狀態(tài)，在步驟 415，利用基于再現(xiàn)信號的振幅的傾斜調(diào)整法進行傾斜調(diào)整。其結(jié)果是，得到未記錄層的內(nèi) 圈的傾斜校正值IN。在本次的例子中分別對Ll和L2得到mi和IN2。該校正結(jié)果即IN 存儲在存儲器150中。在步驟416，光盤裝置對在上述步驟415校正后的半徑方向，根據(jù)規(guī) 定的計算方法計算已記錄數(shù)據(jù)的區(qū)域以外的位置的校正結(jié)果。在本次的例子中，光盤裝置 根據(jù)內(nèi)圈的傾斜校正值IN，算出中間/外圈的校正結(jié)果MD/0T。當(dāng)上述步驟416結(jié)束時，在步驟417對是否存在傾斜調(diào)整未校正的未記錄層K進 行判斷。在上述步驟417判斷存在未校正的未記錄層K的情況下，有必要對余下的記錄層 進行傾斜調(diào)整學(xué)習(xí)。于是，在此情況下，處理轉(zhuǎn)移至步驟411，進行從上述步驟411至步驟 416的一系列的傾斜調(diào)整學(xué)習(xí)。通過該步驟417，直至所有記錄層的傾斜調(diào)整結(jié)束為止，進 行調(diào)整學(xué)習(xí)。另一方面，在上述步驟417，判斷為已在所有的記錄層進行了傾斜調(diào)整的情況下， 光盤裝置結(jié)束傾斜調(diào)整的初始調(diào)整。以下，對在同一記錄面對半徑方向上的多個點進行傾斜調(diào)整的理由，用圖5進行 詳細說明。
圖5的上部分表示盤的半徑方向上的盤的彎曲，下部分表示對應(yīng)于彎曲的傾斜校 正值。在此，L表示光盤的半徑距離。如圖5的上部圖所示那樣，一般而言，光盤的彎曲隨 著向盤的半徑方向前進而增大。對此，在本發(fā)明中，在盤的半徑方向上在多個點進行傾斜調(diào) 整，測定點之間的傾斜校正值通過函數(shù)進行插補(補足)。以下，為了便于說明，如圖5的下 部圖所示那樣，傾斜調(diào)整在內(nèi)圈1點、中間圈1點、外圈1點共三點進行，測定點間的傾斜校 正值使用將測定點以直線連接的線性插補的值，由此進行說明。上述傾斜調(diào)整的測定點，并非限定為3點，也可以在2點或4點以上的測定點進 行。例如，一般而言，盤的彎曲(翹曲)在盤的端部急劇增加，因此通過增加L與L/2之間 的測定點，能夠得到更高精度的傾斜調(diào)整結(jié)果。另外，針對測定點的插補，不僅可以是線性 插補，也可以進行曲線插補。但是，一般而言，當(dāng)盤的基板厚度增大時，彗形像差(comaticaberration)的影響 增大。彗形像差CA，在令盤的基板厚度為“T”、物鏡的數(shù)值孔徑為“NA”時，用以下的式子表示。(數(shù)1)CA κ T · NA3也就是說，根據(jù)上式可知，彗形像差與物鏡的NA的3次方和盤的基板厚度成比例。如光盤100那樣，疊層有2層以上的記錄層的構(gòu)造的光盤中，就各記錄層而言，盤 基板厚度變化，因此產(chǎn)生彗形像差。因此，考慮到基板厚度，有必要在所涉及的多層構(gòu)造的 光盤進行彗形像差調(diào)整。在此，利用圖6的流程圖，對在上述步驟416中，使用已記錄層Y的內(nèi)/中間/外圈 的傾斜校正值的、傾斜未調(diào)整的記錄層的傾斜校正量的計算方法進行詳細說明。具體而言， 對在傾斜未調(diào)整的未記錄層K中，數(shù)據(jù)已記錄區(qū)域以外的半徑位置的傾斜校正值的計算方 法進行說明。換言之，對未記錄層K的數(shù)據(jù)未記錄區(qū)域的傾斜校正值的計算方法進行說明。另外，在該說明中，令傾斜未調(diào)整的記錄層為Li。此外，為了使說明簡單，令已記錄 層Y的內(nèi)/中間/外圈的傾斜校正值為IN0、MD0、0T0，令Ll的內(nèi)圈的傾斜校正值1附為已 存儲在存儲器150中的值。在圖6中，首先在步驟600，光盤裝置根據(jù)存儲在存儲器150中的、已記錄層Y的內(nèi) /中間/外圈的傾斜校正值ΙΝ0,MD0,OTO計算DFl和DF2。在此，DFl和DF2為表示中間/ 外圈各自的傾斜校正值與內(nèi)圈的傾斜校正值的差的值。DFl和DF2用以下的式子計算。(數(shù)2)DFl = MDO-INODF2 = 0Τ0-ΙΝ0接著，在步驟601，光盤裝置算出未調(diào)整的未記錄層K相對于已記錄層Y的、盤基板 厚度的比率P。就盤基板厚度的比率P而言，由于彗形像差如上述那樣與盤基板厚度成比 率，因此令已記錄層Y為L0、未記錄層K為Ll時，Ll相對于LO的盤基板厚度Pl用以下的 式子計算。(數(shù)3)Pl = IN1/IN0在上述步驟601，求得盤基板厚度的比率之后，在步驟602，光盤裝置對未記錄層K的中間圈傾斜校正值MD進行計算。中間圈傾斜校正值MD根據(jù)未記錄層的內(nèi)圈傾斜校正值 IN、傾斜校正值的差DF和盤基板厚度的比率P計算。在令已記錄層Y為L0、未記錄層K為 Ll時，Ll的中間圈傾斜校正值MDl由以下的式子計算。(數(shù)4)MDl = IN1+P1 XDFl接著，在步驟603，光盤裝置對未記錄層K的外圈傾斜校正值OT進行計算。外圈 傾斜校正值根據(jù)未記錄層K的內(nèi)圈傾斜校正值IN、傾斜校正值的差DF、盤基板厚度的比率 P計算。令已記錄層Y為L0、未記錄層K為Ll時，Ll的外圈傾斜校正值OTl用以下的式子 表達。(數(shù)5)OTl = IN1+P1XDF2通過以上的圖10的流程圖所示的步驟600至步驟603，使用在上述圖7的步驟416 所示的已記錄層Y的內(nèi)/中間/外圈的傾斜校正值的、未記錄層K的中間/外圈的傾斜校 正值的計算結(jié)束。就上述表示的未記錄層K的傾斜校正值的導(dǎo)出而言，雖然調(diào)整精度下降，但也可 以直接將已記錄層Y的內(nèi)/中間/外圈的調(diào)整結(jié)果用作未記錄層K的內(nèi)/中間/外圈的調(diào) 整結(jié)果。另外，在上述所示的未記錄層K的傾斜校正值的計算中，在步驟601的盤基板厚度 的比率計算中，也可以不使用未記錄層K的內(nèi)圈的傾斜校正結(jié)果，而是根據(jù)由標(biāo)準(zhǔn)確定的 層間距離計算盤基板厚度的比率。另外，根據(jù)在本實施例所述的多層光盤記錄方法，在至少具有1個未記錄層K、且 至少具有ι個已記錄層Y的、形成為多層的光盤B中，對于至今為止只能夠進行與推挽信 號、擺動信號的振幅相應(yīng)的校正的、未記錄層的傾斜調(diào)整，能夠進行與再現(xiàn)性能指標(biāo)相應(yīng)的 校正。另外，與至今為止的傾斜調(diào)整方法相比，有望提高再現(xiàn)品質(zhì)。(實施例3)在本實施例中，對在光盤插入時的序列調(diào)整中，進行實施例1所示的球面像差校 正和實施例2的傾斜校正這兩方的情況進行說明。令本實施例中的光盤100為至少具有1 個未記錄層J、且至少具有1個已記錄層Y的構(gòu)成為多層的光盤(以下稱其為光盤C)。在本實施例中，在BD插入時的上述調(diào)整序列的球面像差校正、傾斜調(diào)整序列的順 序為先進行球面像差校正的順序。關(guān)于其理由，在以下進行說明。在本實施例中，調(diào)整的指標(biāo)優(yōu)選使用符合再現(xiàn)性能的值。其理由如上述那樣，是因 為有望提高再現(xiàn)品質(zhì)。另外，作為符合再現(xiàn)的指標(biāo)，例如有再現(xiàn)信號振幅。于是，為了得到 再現(xiàn)信號振幅，有必要在能夠追加記錄的記錄層進行記錄。球面像差校正量SA使用盤的基板厚度誤差ΔΤ和物鏡的數(shù)值孔徑NA、用以下的關(guān) 系式表達。(數(shù)6)SA Δ T · (NA)4也就是說，根據(jù)上述式子可知，球面像差與物鏡的NA的4次方和盤的基板厚度誤 差Δ T成比例。
BD與HD_DVD、DVD等高密度光盤相比較，數(shù)值孔徑更大。另外，由于盤的基板厚度 較薄，因此在制造工序產(chǎn)生的基板厚度誤差Δ T也較大。所以，與其他的光盤相比較，BD的 球面像差校正量對記錄/再現(xiàn)精度的作用更大。但是，為了在BD的傾斜未調(diào)整層得到再現(xiàn)信號振幅，有必要在記錄層的至少一部 分記錄有數(shù)據(jù)。另外，在此時，基于上述記錄精度的理由，有必要在記錄時球面像差校正已 結(jié)束。因此，令上述調(diào)整序列(即序列調(diào)整)中的球面像差校正和傾斜調(diào)整的序列中的順 序為先進行球面像差校正。在此，針對上述調(diào)整序列中的球面像差校正、傾斜調(diào)整的序列，用圖7進行詳細說 明。在圖7中，首先在步驟701，光盤裝置根據(jù)由標(biāo)準(zhǔn)確定的值，對光盤C的各層的與 LO相距的層間距離D進行計算。接著，在步驟702，光盤裝置使得成為對在上述步驟701計 算出的層間距離D為最小的已記錄層Y啟動聚焦伺服的狀態(tài)。接著，在步驟703，光盤裝置進行在上述步驟702中啟動聚焦伺服的已記錄層Y的 球面像差校正處理。該步驟703的球面像差校正處理，等同于圖2的流程圖的步驟203至 步驟206。在步驟704，光盤裝置進行已記錄層Y的傾斜調(diào)整處理。該步驟704的傾斜調(diào)整處 理等同于圖4的流程圖的步驟402至步驟410。接著，在步驟705，光盤裝置在從上述步驟701至步驟704進行了調(diào)整的已記錄層 Y以外的層，對未調(diào)整且從LO起的層間距離D最小的層啟動聚焦伺服，形成為這種狀態(tài)。接 著，在步驟706，光盤裝置對在上述步驟705啟動聚焦伺服的層是否為至少一部分已記錄的 層進行判斷。在上述步驟706，在判斷啟動了聚焦伺服的層為完全未記錄過的層的情況下，移至 步驟707。在步驟707，光盤裝置針對完全未記錄的層進行球面像差校正處理。該步驟707 的球面像差校正處理等同于圖2的步驟209至步驟211。接著，在步驟708，光盤裝置進行傾斜調(diào)整處理。該步驟708的傾斜調(diào)整等同于圖 4的步驟413至步驟416。另一方面，在上述步驟706中，在判斷啟動了聚焦伺服的層為至少一部分已記錄 的層的情況下，移至步驟709。在步驟709，光盤裝置針對至少一部分已記錄的層進行球面 像差校正處理。該步驟709的球面像差校正處理等同于圖2的步驟212至步驟213。接著，在步驟710，針對至少一部分已記錄的層進行傾斜調(diào)整處理。該步驟710的 傾斜調(diào)整等同于圖4的步驟413至步驟416。在上述步驟710中，在調(diào)整層為已記錄層Y的情況下，在內(nèi)圈進行基于再現(xiàn)信號振 幅的傾斜調(diào)整，以該結(jié)果為基礎(chǔ)計算中間/外圈的傾斜調(diào)整結(jié)果。上述步驟708或步驟710終止時，向步驟711轉(zhuǎn)移。在步驟711，光盤裝置判斷是 否存在未進行球面像差和傾斜調(diào)整的層。在上述步驟711中，在判斷存在未調(diào)整的層的情況下，向步驟705轉(zhuǎn)移，對未調(diào)整 層進行調(diào)整。另一方面，在步驟711，在判斷在所有的記錄層中已進行光盤插入時的初始調(diào)整序 列的情況下，光盤裝置終止傾斜調(diào)整的初始調(diào)整學(xué)習(xí)。
以上，在BD盤插入時的初始調(diào)整序列中，在球面像差校正處理之后實施傾斜調(diào)整 處理時，能夠在傾斜調(diào)整中將再現(xiàn)信號的振幅用作指標(biāo)。但是，在圖7的實施例中，在各層的球面像差校正和傾斜調(diào)整雙方的調(diào)整處理都 結(jié)束后，對調(diào)整序列中的未調(diào)整層進行聚焦伺服。該聚焦伺服的時機，也可以在球面像差校 正處理和傾斜調(diào)整處理的各處理每次在各層結(jié)束時進行。在此情況下，由于每次在各調(diào)整 結(jié)束時必須對各層啟動聚焦伺服，因此與圖7所示的調(diào)整序列相比較，認(rèn)為調(diào)整所需的時 間增加。此外，在上述實施例中，從與LO相距的層間距離近的層起進行了調(diào)整序列，但調(diào) 整的層的順序也可以不為從與LO相距的層間距離近的層開始。在上述實施例中，對第一球面像差校正量的計算和包括中間/外圈的傾斜調(diào)整中 使用的已記錄層Y以外的、在已記錄層Y的傾斜調(diào)整中中間/外圈的調(diào)整值通過計算求得 的例子進行了說明。但是不僅局限于該例子，光盤裝置在光盤C等同于光盤B的情況下，也 可以在中間/外圈的已記錄區(qū)域中實際進行傾斜調(diào)整而求得該調(diào)整值。也可以使上述實施例中的、光盤插入時的初始調(diào)整處理的順序根據(jù)所插入的盤的 種類而變化。例如在插入的盤為HD-DVD的情況下，使初始調(diào)整序列中的球面像差校正和傾 斜調(diào)整的順序為先進行傾斜調(diào)整。其原因是，HD-DVD與BD相比較，基板厚度T更大，因此 由數(shù)1表示的彗形像差的影響更大。這樣，根據(jù)本實施例的光盤裝置，能夠提高進行球面像差校正和傾斜校正雙方的 情況下的處理速度。(實施例4)在實施例3的調(diào)整序列中，對在第一球面像差校正量的計算和包括中間/外圈的 傾斜調(diào)整時能夠使用的、再現(xiàn)專用層或已整面記錄完的記錄層存在多層的情況下，使用其 中最接近LO的、唯一層的例子進行了說明。本實施例在盤插入時的調(diào)整序列中，考慮在光 盤100的第一球面像差校正量的計算和包括中間/外圈的傾斜調(diào)整中，使用多個再現(xiàn)專用 層或已整面記錄完的記錄層的情況。本實施例的光盤100例如像圖8所示的光盤那樣，為至少具有1個未記錄層J、且 至少具有2個以上已記錄層Y的、形成為多層的光盤(以下稱其為光盤D)。以下，參照圖9，對上述光盤D插入時的調(diào)整序列進行詳細說明。在圖9中，光盤裝置首先在步驟901根據(jù)由標(biāo)準(zhǔn)確定的值，對光盤D的、各層與LO 相距的層間距離D進行計算。接著，在步驟902，光盤裝置首先判斷與在步驟901計算出的層間距離D最小的未 調(diào)整的未記錄層J相比，在LO側(cè)是否還存在已記錄層Y。在判斷在層間距離D最小的未調(diào) 整的未記錄層J的LO側(cè)、存在已記錄層Y的情況下，光盤裝置對層間距離D最大的已記錄 層Y啟動聚焦伺服，形成這樣的狀態(tài)。另一方面，在判斷為在層間距離D最小的未調(diào)整的未 記錄層J的LO側(cè)、不存在已記錄層Y的情況下，光盤裝置對層間距離D最小的已記錄層Y 啟動聚焦伺服，形成這樣的狀態(tài)。在上述的步驟902結(jié)束時，接著向步驟903轉(zhuǎn)移。在步驟903，光盤裝置針對聚焦 伺服已啟動的已記錄層Y進行球面像差校正處理。該步驟903的球面像差校正處理等同于 圖2的步驟203至步驟206。
接著，在步驟904，光盤裝置對已啟動聚焦伺服的已記錄層Y進行傾斜調(diào)整處理。 該步驟904的傾斜調(diào)整處理等同于圖4的流程圖的步驟402至步驟410。接著，在步驟905，光盤裝置使得成為對層間距離D最小的未記錄層J啟動聚焦伺 服的狀態(tài)。在步驟906，光盤裝置對層間距離D最小的未記錄層J進行球面像差校正處理。該 步驟906的球面像差校正處理等同于圖2的步驟209至步驟211。在步驟907，光盤裝置對層間距離D最小的未記錄層J進行傾斜調(diào)整處理。該步驟 907的傾斜調(diào)整等同于圖4的步驟413至步驟416。
在步驟908，光盤裝置對是否存在未調(diào)整的已記錄層Y進行判斷。在步驟908判斷 為存在未調(diào)整的已記錄層Y的情況下，向步驟909轉(zhuǎn)移。在步驟909，光盤裝置對是否存在 未記錄層J進行判斷。另一方面，在上述步驟908，在判斷為不存在未調(diào)整的已記錄層Y的情況下，向步 驟910轉(zhuǎn)移。在步驟910，光盤裝置對是否存在未調(diào)整的未記錄層J進行判斷。在上述步驟909，判斷為存在未調(diào)整的未記錄層J的情況下，向步驟902轉(zhuǎn)移，從已 記錄層X開始進行調(diào)整。另一方面，在上述步驟909判斷為不存在未調(diào)整的未記錄層J的情況下，向步驟 911轉(zhuǎn)移。在步驟911，光盤裝置對未調(diào)整的已記錄層Y進行球面像差校正處理。該步驟 911的球面像差校正處理等同于圖2的步驟203至步驟204。在上述步驟910中，判斷為存在未調(diào)整的未記錄層J的情況下，光盤裝置向步驟 905轉(zhuǎn)移，進行未調(diào)整的未記錄層J的調(diào)整。另一方面，在上述步驟910中判斷為不存在未調(diào)整的未記錄層J的情況下，光盤裝 置終止盤插入時的初始調(diào)整序列。上述步驟911終止后，向步驟912轉(zhuǎn)移。在步驟912，光盤裝置在內(nèi)圈進行基于再 現(xiàn)信號振幅的傾斜調(diào)整。該步驟912的傾斜調(diào)整處理等同于圖7的步驟709至步驟710。接著，向步驟913轉(zhuǎn)移。在步驟913，光盤裝置對是否存在未調(diào)整的已記錄層Y進 行判斷。在上述步驟913中，判斷為為存在未調(diào)整的已記錄層Y的情況下，向步驟911轉(zhuǎn) 移，再次進行未調(diào)整的已記錄層Y的球面像差校正，反復(fù)進行直到所有的已記錄層Y的調(diào)整 結(jié)束為止。另一方面，在上述步驟913，判斷為不存在未調(diào)整的已記錄層Y的情況下，光盤裝 置終止盤插入時的初始調(diào)整學(xué)習(xí)。以上，針對在盤插入時的初始調(diào)整序列中，在第一球面像差校正量的計算和包括 中間/外圈的傾斜調(diào)整中使用多個已記錄層Y的情況進行了說明。上述實施例所示的調(diào)整 使用基于在多層盤中比調(diào)整對象更近的層的調(diào)整值的計算結(jié)果，因此計算所得的調(diào)整值的 精度得以提高。另外，多層盤一般地從LO側(cè)開始疊層而制作。鑒于此，如本實施例所示那樣，通過 使用基于與調(diào)整對象層相比位于LO側(cè)的已記錄層Y的計算值，能夠抑制盤制作過程中的疊 層導(dǎo)致的層間隔不均勻的影響。在圖10中對以上的實施例1至實施例4的各實施例中光盤的定義進行總結(jié)。計算層表示通過計算求取校正值的層，基準(zhǔn)層表示進行成為計算的基準(zhǔn)的調(diào)整的層。如以上那樣，各實施例的光盤裝置的球面像差校正和傾斜調(diào)整有助于提高記錄再 現(xiàn)性能，在考慮在多層盤中進行兩種校正的情況下，根據(jù)本發(fā)明能夠縮短時間。特別對一個 光盤介質(zhì)而言，在為混合有再現(xiàn)專用層和記錄層的盤的情況下，能夠縮短球面像差校正時 間，提高傾斜調(diào)整的校正精度，本發(fā)明能夠發(fā)揮這樣的優(yōu)秀的效果。另外，在盤插入時的調(diào)整序列中，在進行球面像差校正和傾斜調(diào)整雙方的情況下， 能夠縮短球面像差校正和傾斜調(diào)整的全體的調(diào)整時間。此外，本發(fā)明不僅限于上述的實施例，還包括多種多樣的變形例。例如，上述的實 施例是為了便于理解本發(fā)明而詳細說明的例子，并非限定于必須具備已說明的全部結(jié)構(gòu)。 另外，能夠?qū)⒛硨嵤├慕Y(jié)構(gòu)的一部分置換為其他的實施例的結(jié)構(gòu)，另外，也能夠在某實施 例的結(jié)構(gòu)中添加其他的實施例的結(jié)構(gòu)。另外，針對各實施例的結(jié)構(gòu)的一部分，能夠進行其他 的結(jié)構(gòu)的追加、去除、置換。另外，就上述的各結(jié)構(gòu)而言，它們的一部分或全部可以由硬件構(gòu)成，也可以被形成 為通過處理器執(zhí)行程序而實現(xiàn)。另外，控制線、信息線表示在說明中有必要考慮到的線，在 產(chǎn)品上并不一定表示所有的控制線、信息線。實際上也可以考慮幾乎所有的結(jié)構(gòu)都相互連 接。20
權(quán)利要求
1.一種光盤裝置，其對光盤進行信息的記錄或再現(xiàn)，該光盤裝置的特征在于，包括 對激光進行集光的物鏡；驅(qū)動所述物鏡的驅(qū)動部； 接收來自所述光盤的反射光的光接收部； 對球面像差進行校正的球面像差校正部；和 取得所述球面像差的校正量的取得部，其中，在所安裝的光盤為至少具備一層第一層和一層第二層的光盤的情況下，所述取得部根 據(jù)來自所述第二層的反射光取得所述第二層的球面像差校正量，并根據(jù)所述第二層的球面 像差校正量取得所述第一層的球面像差校正量，其中，該第一層為未記錄或能夠追加記錄 的記錄層，該第二層為存在至少一部分已被記錄的地方的記錄層或再現(xiàn)專用層。
2.如權(quán)利要求1所述的光盤裝置，其特征在于令所述第一層的球面像差的校正量和所述第二層的球面像差的校正量為球面像差校 正的初始校正量。
3.如權(quán)利要求1所述的光盤裝置，其特征在于所述取得部根據(jù)所述第二層的再現(xiàn)信號的振幅、抖動和錯誤率中的一個以上的指標(biāo)， 取得所述第二層的球面像差校正量。
4.如權(quán)利要求1所述的光盤裝置，其特征在于所述取得部對于在所述第二層調(diào)整得到的球面像差校正量，根據(jù)由標(biāo)準(zhǔn)決定的層間距 離計算并取得所述第一層的球面像差校正量。
5.如權(quán)利要求1所述的光盤裝置，其特征在于令根據(jù)所述第二層的球面像差校正量得到的所述第一層的球面像差校正量為初始校正量，所述取得部，在所述第一層記錄有數(shù)據(jù)的情況下，根據(jù)將所述球面像差校正量作為所 述初始校正量而得到的來自所述第二層的反射光，取得所述第一層的球面像差校正量。
6.如權(quán)利要求1所述的光盤裝置，其特征在于令根據(jù)所述第二層的球面像差校正量得到的所述第一層的球面像差校正量為初始校正量，所述取得部，在所述第一層未記錄數(shù)據(jù)的情況下，在所述第一層將所述初始校正量作 為所述球面像差校正量而在試寫區(qū)域記錄數(shù)據(jù)，根據(jù)來自該試寫區(qū)域的反射光取得所述第 一球面像差校正量。
7.—種光盤裝置，其對光盤進行信息的記錄或再現(xiàn)，該光盤裝置的特征在于，包括 對激光進行集光的物鏡；驅(qū)動所述物鏡的驅(qū)動部； 接收來自所述光盤的反射光的光接收部； 對傾斜進行校正的傾斜校正部；和 取得所述傾斜的校正量的取得部，其中，在所述光盤為至少具備一層第一層和一層第二層的光盤的情況下，所述取得部根據(jù)來 自所述第二層的反射光取得所述第二層的傾斜校正量，并根據(jù)所述第二層的傾斜校正量取 得所述第一層的傾斜校正量，其中，該第一層為存在至少一部分已被記錄的地方的能夠追加記錄的記錄層，該第二層為再現(xiàn)專用層或已整面記錄完的記錄層。
8.如權(quán)利要求7所述的光盤裝置，其特征在于所述取得部根據(jù)第一傾斜校正量與第二傾斜校正量之比和第三傾斜校正量，取得所述 第一層的傾斜校正量，其中，該第一傾斜校正量是根據(jù)所述第一層的已記錄有信息的半徑 位置的反射光取得的傾斜校正量，該第二傾斜校正量是根據(jù)所述第二層的該半徑位置的反 射光取得的傾斜校正量，該第三傾斜校正量是所述第二層的其他半徑位置的傾斜校正量。
9.如權(quán)利要求7所述的光盤裝置，其特征在于所述取得部根據(jù)基于所述反射光得到的再現(xiàn)信號的振幅、抖動和錯誤率中的一個以上 的指標(biāo)，取得所述第二層的傾斜校正量。
10.一種光盤裝置，其對光盤進行信息的記錄或再現(xiàn)，該光盤裝置的特征在于，包括 對激光進行集光的物鏡；驅(qū)動所述物鏡的驅(qū)動部； 接收來自所述光盤的反射光的光接收部； 對球面像差進行校正的球面像差校正部； 對傾斜進行校正的傾斜校正部；和取得所述球面像差的校正量和所述傾斜的校正量的取得部，其中， 在所述光盤為至少具備一層第一層和一層第二層的光盤的情況下，其中，該第一層為 未記錄或能夠追加記錄的記錄層，該第二層為再現(xiàn)專用層或已整面記錄完的記錄層，所述取得部根據(jù)來自所述第二層的反射光取得所述第二層的傾斜校正量和球面像差 校正量，根據(jù)所述第二層的傾斜校正量取得所述第一層的傾斜校正量，并根據(jù)所述第二層 的球面像差校正量取得所述第一層的球面像差校正量。
11.如權(quán)利要求10所述的光盤裝置，其特征在于所述取得部根據(jù)基于來自所述第二層的反射光得到的再現(xiàn)信號的振幅、抖動和錯誤率 中的一個以上的指標(biāo)，取得最優(yōu)化所述第二層的再現(xiàn)數(shù)據(jù)的球面像差校正量。
12.如權(quán)利要求10所述的光盤裝置，其特征在于令根據(jù)所述第二層的球面像差校正量取得的所述第一層的球面像差校正量為初始校正量，所述取得部在所述第一層存在已記錄的區(qū)域的情況下，將所述初始校正量作為所述球 面像差校正部的校正量，從而根據(jù)從所述第一層得到的反射光取得所述第一層的球面像差 校正量。
13.如權(quán)利要求10所述的光盤裝置，其特征在于令根據(jù)所述第二層的球面像差校正量取得的所述第一層的球面像差校正量為初始校正量，所述取得部在所述第一層沒有已記錄的區(qū)域的情況下，將所述初始校正量作為所述球 面像差校正部的校正量，在所述第一層的試寫區(qū)域記錄數(shù)據(jù)，根據(jù)從所述第一試寫區(qū)域得 到的反射光取得所述第一層的球面像差校正量。
14.如權(quán)利要求10所述的光盤裝置，其特征在于所述取得部利用根據(jù)所述第二層的多個半徑位置的反射光取得的傾斜校正量、和根據(jù) 所述第一層的已記錄區(qū)域的反射光得到的傾斜校正量，取得所述第一層的其他半徑位置的傾斜校正量。
15.如權(quán)利要求10所述的光盤裝置，其特征在于所述取得部在各個記錄層先取得球面像差校正量之后，再取得傾斜校正量。
16.如權(quán)利要求10所述的光盤裝置，其特征在于在所述光盤具備多個所述第二層的情況下，在進行光盤插入時的序列調(diào)整時，將所述 多個層作為基準(zhǔn)層加以設(shè)定，所述取得部在取得所述第一層的傾斜校正量時，根據(jù)所述基準(zhǔn)層中的與所述第一層之 間的層間距離最小的基準(zhǔn)層的球面像差校正量和傾斜校正量，取得所述第一層的傾斜校正量。
全文摘要
本發(fā)明涉及光盤裝置。通過多層光盤的球面像差校正和傾斜調(diào)整的高效化，縮短調(diào)整時間、提高傾斜調(diào)整的精度。在具備物鏡的球面像差校正量計算單元、再現(xiàn)信息信號生成單元和球面像差校正單元的光盤裝置中，進行球面像差校正，以得到的球面像差校正量為基礎(chǔ)，通過計算求取適于其他層的球面像差校正量，令該校正量為球面像差校正的初始校正量。在具備傾斜校正量計算單元、再現(xiàn)信息信號生成單元和傾斜調(diào)整單元的光盤裝置中，進行傾斜調(diào)整，以得到的傾斜校正量為基礎(chǔ)，通過計算求取適于其他層的傾斜校正量，令該校正量為傾斜調(diào)整的初始校正量。
文檔編號G11B7/095GK102044270SQ20101017092
公開日2011年5月4日 申請日期2010年4月28日 優(yōu)先權(quán)日2009年10月23日
發(fā)明者山田健一郎, 片岡丈祥 申請人:日立民用電子株式會社