專利名稱：單面雙層光盤生產(chǎn)系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種光盤生產(chǎn)系統(tǒng)，尤其涉及一種用于制造單面雙層光盤的生產(chǎn) 系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
DVD光盤即數(shù)字多功能光盤(Digital Versatile Disc)，又稱數(shù)字激光視盤 (Digital Video Disc)，由于其具有存儲(chǔ)密度高、體積小、存儲(chǔ)期限長、成本低廉、兼容性高 以及錯(cuò)誤率低等優(yōu)點(diǎn)，已成為目前光學(xué)信息存儲(chǔ)介質(zhì)的主流，從技術(shù)上來說，DVD光盤意在 以一種單一的數(shù)字格式覆蓋家庭娛樂、電腦及情報(bào)商務(wù)，它已經(jīng)取代了激光碟片，并得到了 來自所有電子企業(yè)和計(jì)算機(jī)硬件企業(yè)、電影和音樂演播室的支持，已經(jīng)成為光盤存儲(chǔ)技術(shù) 史上最成功的存儲(chǔ)介質(zhì)，其使信息流通更加方便快捷，因此在社會(huì)生活中起到越來越重要 的作用。DVD光盤主要有單面單層光盤(DVD-5)、單面雙層光盤(DVD-9)、雙面單層光盤 (DVD-10)及雙面雙層光盤(DVD-18)等多種形式光盤；以單面雙層光盤(DVD-9)為例，其 結(jié)構(gòu)包括兩加工帶有信息記錄溝槽的基片Ltl和基片L1,并將基片Ltl和基片L1粘合以形成 完整的DVD-9光盤，具體生產(chǎn)過程中，需兩臺(tái)注塑機(jī)連接于DVD光盤生產(chǎn)線上，聚碳酸酯 (Polycarbonate,簡稱PC)材料顆粒分別經(jīng)過兩臺(tái)注塑機(jī)加熱注塑壓合成厚度為0. 6mm的 光盤基片，并在注塑時(shí)通過母盤分別在兩基片上預(yù)制信息記錄溝槽以形成Ltl基片和L1基 片，L0基片和L1基片經(jīng)冷卻之后傳輸?shù)綖R射單元，在Ltl基片的信息面上濺射半反射層，半反 射層材料通常為硅，在L1基片的信息面上濺射全反射層，全反射層材料通常為金屬銀、鋁、 金及其合金；濺射完成后的Ltl基片和L1基片通過UV固化膠反轉(zhuǎn)粘合，再經(jīng)過UV燈照射固 化，最后經(jīng)過檢測即完成其生產(chǎn)流程。然而，現(xiàn)有的DVD-9光盤生產(chǎn)方法存在以下缺點(diǎn)首先，需兩臺(tái)注塑機(jī)將顆粒狀的 PC材料經(jīng)過加熱注塑壓合，成型為帶有信息記錄溝槽的Ltl基片和L1基片，由于注塑過程本 身是高溫高能耗過程，因此使整個(gè)DVD-9光盤生產(chǎn)過程中的大部分能源消耗在這一環(huán)節(jié)； 其次，PC材料源自石油工業(yè)，在其拉料形成呈顆粒狀的PC材料時(shí)還需消耗巨大的能源，且 碳排放很高，而現(xiàn)有DVD-9光盤的結(jié)構(gòu)中兩基片均為PC材質(zhì)，PC材料用量較大，不利于環(huán) 保和節(jié)能；再次，制備好的PC材料在光盤生產(chǎn)過程中經(jīng)過注塑過程時(shí)由于經(jīng)過二次加溫熔 化，使生產(chǎn)出來的基片的雙折射率相對(duì)于在PC材料工廠直接成型基片的雙折射率要高，影 響DVD光盤質(zhì)量。綜上，由于現(xiàn)有的DVD-9光盤的結(jié)構(gòu)具有兩PC材質(zhì)的基片，生產(chǎn)過程中，需利用兩 臺(tái)注塑機(jī)來加熱注塑形成基片，因此其制造工藝不僅能耗高，且PC材料用量大，導(dǎo)致碳的 排放量較大，不利于環(huán)保要求，且利用顆粒狀的PC材料二次加溫熔化的制成的基片雙折射 率高，影響DVD-9光盤質(zhì)量。因此，急需一種節(jié)省PC材料、能耗低且環(huán)保、并能提高光盤質(zhì)量的光盤生產(chǎn)系統(tǒng)。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種節(jié)省PC材料、能耗低且環(huán)保、并能提高光盤質(zhì)量 的單面雙層光盤生產(chǎn)系統(tǒng)。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案為提供一種單面雙層光盤生產(chǎn)系統(tǒng)，其 包括傳輸帶及連接于所述傳輸帶上的第一記錄層成型裝置、第二記錄層成型裝置、緩沖層 成型裝置、粘合裝置及檢測裝置，所述第一記錄層成型裝置及所述第二記錄層成型裝置用 于形成記錄層，所述緩沖層成型裝置用于形成緩沖層，所述粘合裝置用于將基片與蓋板粘 合，所述檢測機(jī)構(gòu)用于檢測質(zhì)量；所述緩沖層成型裝置設(shè)置于所述第一記錄層成型裝置與 所述第二記錄層成型裝置之間，所述第二記錄層成型裝置與所述粘合裝置連接，所述粘合 裝置與所述檢測裝置連接，其中，所述第一記錄層成型裝置包括第一旋涂機(jī)構(gòu)、第一壓模機(jī) 構(gòu)、第一凈化機(jī)構(gòu)及第一濺鍍站，所述第一旋涂機(jī)構(gòu)的一端與所述第一壓模機(jī)構(gòu)連接，所述 第一旋涂機(jī)構(gòu)的另一端連接于所述傳輸帶上，所述第一凈化機(jī)構(gòu)設(shè)置于所述第一旋涂機(jī)構(gòu) 與所述第一濺鍍站之間并與所述傳輸帶連接，所述第一濺鍍站連接于所述傳輸帶上；所述 第二記錄層成型裝置包括第二旋涂機(jī)構(gòu)、第二壓模機(jī)構(gòu)、第二凈化機(jī)構(gòu)及第二濺鍍站，所述 第二旋涂機(jī)構(gòu)的一端與所述第二壓模機(jī)構(gòu)連接，所述第二旋涂機(jī)構(gòu)的另一端連接于所述傳 輸帶上，所述第二凈化機(jī)構(gòu)設(shè)置于所述第二旋涂機(jī)構(gòu)與所述第二濺鍍站之間并與所述傳輸 帶連接，所述第二濺鍍站連接于所述傳輸帶上；所述緩沖層成型裝置包括第三旋涂機(jī)構(gòu)及 第一固化機(jī)構(gòu)，所述第三旋涂機(jī)構(gòu)通過所述傳輸帶與所述第一濺鍍站連接，所述第一固化 機(jī)構(gòu)通過所述傳輸帶與所述第二旋涂機(jī)構(gòu)連接；所述第二濺鍍站與所述粘合裝置連接，所 述粘合裝置與所述檢測裝置連接。較佳地，所述單面雙層光盤生產(chǎn)系統(tǒng)還包括基片暫存裝置及蓋板處理裝置，所述 基片暫存裝置通過所述傳輸帶與所述第一旋涂機(jī)構(gòu)連接，所述蓋板處理裝置與所述粘合裝 置連接；基片暫存裝置用于向生產(chǎn)系統(tǒng)提供空白基片，蓋板處理裝置用于向生產(chǎn)系統(tǒng)提供 紙質(zhì)蓋板，在粘合裝置將形成有記錄層的基片與紙質(zhì)蓋板粘合形成光盤，采用紙質(zhì)蓋板代 替現(xiàn)有的DVD9結(jié)構(gòu)中的PC蓋板，節(jié)省PC材料的用量，進(jìn)而減少碳排量，且在回收時(shí)不會(huì)造 成對(duì)環(huán)境的污染，具有環(huán)保特點(diǎn)。較佳地，所述第一旋涂機(jī)構(gòu)包括具有下膠手的第一旋涂碗，所述第一旋涂碗連接 于所述傳輸帶與所述第一壓模機(jī)構(gòu)之間，更具體地，所述第一旋涂機(jī)構(gòu)還包括與所述第一 旋涂碗并排的且具有下膠手的第四旋涂碗，所述第一旋涂碗與第四旋涂碗通過具有三個(gè)機(jī) 械臂的第一機(jī)械手連接于所述傳輸帶與所述第一壓模機(jī)構(gòu)之間；因此，節(jié)約生產(chǎn)系統(tǒng)的空 間，使布局緊湊，同時(shí)減少各機(jī)構(gòu)之間的連接部件；在生產(chǎn)中兩旋涂碗同時(shí)對(duì)基片旋涂膠 水，提高了本單元的處理速度且不影響整個(gè)生產(chǎn)周期，提高生產(chǎn)效率。較佳地，所述第二旋涂機(jī)構(gòu)包括具有下膠手的第二旋涂碗，所述第二旋涂碗連接 于所述傳輸帶與所述第二壓模機(jī)構(gòu)之間，更具體地，所述第二旋涂機(jī)構(gòu)還包括與所述第二 旋涂碗并排的且具有下膠手的第五旋涂碗，所述第二旋涂碗與第五旋涂碗通過具有三個(gè)機(jī) 械臂的第二機(jī)械手連接于所述傳輸帶與所述第二壓模機(jī)構(gòu)之間；因此，節(jié)約生產(chǎn)系統(tǒng)的空 間，使布局緊湊，同時(shí)減少各機(jī)構(gòu)之間的連接部件；在生產(chǎn)中兩旋涂碗同時(shí)對(duì)基片旋涂膠 水，提高了本單元的處理速度且不影響整個(gè)生產(chǎn)周期，提高生產(chǎn)效率。較佳地，所述第三旋涂機(jī)構(gòu)包括具有下膠手的第三旋涂碗，所述第三旋涂碗與所
5述傳輸帶連接，更具體地，所述第三旋涂機(jī)構(gòu)還包括與所述第三旋涂碗并排的且具有下膠 手的第六旋涂碗，所述第三旋涂碗與第六旋涂碗通過呈“V”型的第三機(jī)械手與所述傳輸帶 連接，生產(chǎn)中兩旋涂碗同時(shí)對(duì)基片旋涂形成緩沖層，提高了本單元的處理速度且不影響整 個(gè)生產(chǎn)周期，提高生產(chǎn)效率。較佳地，所述粘合裝置包括下膠機(jī)構(gòu)、粘合機(jī)構(gòu)、甩膠機(jī)構(gòu)及第二固化機(jī)構(gòu)，所述 下膠機(jī)構(gòu)連接于所述傳輸帶的末端與所述甩膠機(jī)構(gòu)之間，所述甩膠機(jī)構(gòu)與所述第二固化機(jī) 構(gòu)連接，所述第二固化機(jī)構(gòu)與所述檢測裝置連接，所述粘合機(jī)構(gòu)一端與所述下膠機(jī)構(gòu)連接， 另一端與所述蓋板處理裝置連接，更具體地，所述粘合裝置還包括第一暫存轉(zhuǎn)盤，所述第一 暫存轉(zhuǎn)盤設(shè)置于所述檢測裝置與所述甩膠機(jī)構(gòu)之間，所述第一暫存轉(zhuǎn)盤、所述甩膠機(jī)構(gòu)及 所述下膠機(jī)構(gòu)之間通過呈直角型的第四機(jī)械手連接，所述第一固化機(jī)構(gòu)連接于所述第一暫 存轉(zhuǎn)盤上；甩膠機(jī)構(gòu)及粘合機(jī)構(gòu)均與下膠機(jī)構(gòu)連接，且三者之間呈直角關(guān)系排布，使各機(jī)構(gòu) 之間的連接簡單，傳輸快捷。較佳地，所述檢測裝置包括第二暫存轉(zhuǎn)盤、檢測機(jī)構(gòu)及光盤存儲(chǔ)轉(zhuǎn)盤，所述第一暫 存轉(zhuǎn)盤、第二暫存轉(zhuǎn)盤、檢測機(jī)構(gòu)及光盤存儲(chǔ)轉(zhuǎn)盤圍成圓弧形，所述圓弧的圓心處設(shè)置有具 有三個(gè)機(jī)械臂的第五機(jī)械手，所述第一暫存轉(zhuǎn)盤、第二暫存轉(zhuǎn)盤、檢測機(jī)構(gòu)及光盤存儲(chǔ)轉(zhuǎn)盤 通過所述第五機(jī)械手連接；四者之間連接簡單，布局緊湊。與現(xiàn)有技術(shù)相比，由于本實(shí)用新型單面雙層光盤生產(chǎn)系統(tǒng)包括傳輸帶及連接于所 述傳輸帶上的第一記錄層成型裝置、第二記錄層成型裝置、緩沖層成型裝置、粘合裝置及檢 測裝置，其中，所述第一記錄層成型裝置包括第一旋涂機(jī)構(gòu)、第一壓模機(jī)構(gòu)、第一凈化機(jī)構(gòu) 及第一濺鍍站，所述第一旋涂機(jī)構(gòu)的一端與所述第一壓模機(jī)構(gòu)連接，所述第一旋涂機(jī)構(gòu)的 另一端連接于所述傳輸帶上，所述第一凈化機(jī)構(gòu)設(shè)置于所述第一旋涂機(jī)構(gòu)與所述第一濺鍍 站之間并與所述傳輸帶連接，所述第一濺鍍站連接于所述傳輸帶上；所述第二記錄層成型 裝置包括第二旋涂機(jī)構(gòu)、第二壓模機(jī)構(gòu)、第二凈化機(jī)構(gòu)及第二濺鍍站，所述第二旋涂機(jī)構(gòu)的 一端與所述第二壓模機(jī)構(gòu)連接，所述第二旋涂機(jī)構(gòu)的另一端連接于所述傳輸帶上，所述第 二凈化機(jī)構(gòu)設(shè)置于所述第二旋涂機(jī)構(gòu)與所述第二濺鍍站之間并與所述傳輸帶連接，所述第 二濺鍍站連接于所述傳輸帶上；所述緩沖層成型裝置包括第三旋涂機(jī)構(gòu)及第一固化機(jī)構(gòu)， 所述第三旋涂機(jī)構(gòu)通過所述傳輸帶與所述第一濺鍍站連接，所述第一固化機(jī)構(gòu)通過所述傳 輸帶與所述第二旋涂機(jī)構(gòu)連接；所述第二濺鍍站與所述粘合裝置連接，所述粘合裝置與所 述檢測裝置連接。生產(chǎn)光盤時(shí)，在一空白基片上相繼形成兩記錄層，然后將形成有記錄層 的基片與紙質(zhì)蓋板粘合形成光盤，由于空白基片上無預(yù)制信息，可以通過非注塑成型工藝 制得，適用于大批量生產(chǎn)，大大節(jié)約成本，同時(shí)免去了利用注塑機(jī)將PC材料再次加熱并高 溫壓合注塑成型的工藝環(huán)節(jié)，一方面降低了產(chǎn)業(yè)鏈能耗，另一方面降低了 PC基片的雙折射 率，提高產(chǎn)品質(zhì)量；同時(shí)，光盤的封裝蓋板采用創(chuàng)新型的紙質(zhì)蓋板，代替了現(xiàn)有的DVD9結(jié)構(gòu) 中的PC蓋板，不僅節(jié)省了 PC材料的用量，減少碳排量，且在回收時(shí)不會(huì)造成對(duì)環(huán)境的污染 且還可被再利用，具有環(huán)保特點(diǎn)。相應(yīng)地，本實(shí)用新型提供的制造單面雙層光盤的方法同樣 節(jié)省PC材料、能耗低且環(huán)保、并能提高光盤質(zhì)量。

圖1是本實(shí)用新型單面雙層光盤生產(chǎn)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。[0017]圖2是圖1中A部分的放大示意圖。圖3是圖1中B部分的放大示意圖。圖4是圖1中C部分的放大示意圖。
具體實(shí)施方式
現(xiàn)在參考附圖描述本實(shí)用新型的實(shí)施例，附圖中類似的元件標(biāo)號(hào)代表類似的元 件。如圖1所示，本實(shí)用新型單面雙層光盤生產(chǎn)系統(tǒng)10包括傳輸帶及連接于傳輸帶上 的第一記錄層成型裝置100、第二記錄層成型裝置200、緩沖層成型裝置300、粘合裝置400、 檢測裝置500、蓋板處理裝置600及基片暫存裝置700，基片暫存裝置700用于向生產(chǎn)系統(tǒng) 提供空白基片，蓋板處理裝置600用于向生產(chǎn)系統(tǒng)提供紙質(zhì)蓋板，第一記錄層成型裝置100 及第二記錄層成型裝置200用于在基片上形成記錄層，緩沖層成型裝置300用于形成緩沖 層，粘合裝置400用于將基片與紙質(zhì)蓋板粘合，檢測裝置500用于檢測質(zhì)量；本實(shí)用新型單 面雙層光盤生產(chǎn)系統(tǒng)10的基片暫存裝置700通過傳輸帶與第一記錄層成型裝置100連接， 緩沖層成型裝置300設(shè)置于第一記錄層成型裝置100與第二記錄層成型裝置200之間，第 二記錄層成型裝置200與粘合裝置400連接，粘合裝置400與檢測裝置500連接，蓋板處 理裝置600連接于粘合裝置400上，粘合裝置400將形成有記錄層的基片與紙質(zhì)蓋板粘合 形成光盤；其中，第一記錄層成型裝置100包括第一旋涂機(jī)構(gòu)101、第一壓模機(jī)構(gòu)102、第一 凈化機(jī)構(gòu)103及第一濺鍍站104，第一旋涂機(jī)構(gòu)101的一端與第一壓模機(jī)構(gòu)102連接，第一 旋涂機(jī)構(gòu)101的另一端連接于傳輸帶上，第一凈化機(jī)構(gòu)103設(shè)置于第一旋涂機(jī)構(gòu)101與第 一濺鍍站104之間并與傳輸帶連接，第一濺鍍站104連接于傳輸帶上；第二記錄層成型裝 置200包括第二旋涂機(jī)構(gòu)201、第二壓模機(jī)構(gòu)202、第二凈化機(jī)構(gòu)203及第二濺鍍站204，第 二旋涂機(jī)構(gòu)201的一端與第二壓模機(jī)構(gòu)202連接，第二旋涂機(jī)構(gòu)201的另一端連接于傳輸 帶上，第二凈化機(jī)構(gòu)203設(shè)置于第二旋涂機(jī)構(gòu)201與第二濺鍍站204之間并與傳輸帶連接， 第二濺鍍站204連接于傳輸帶上；緩沖層成型裝置300包括并列設(shè)置的第三旋涂機(jī)構(gòu)301 及第一固化機(jī)構(gòu)302，第三旋涂機(jī)構(gòu)301通過傳輸帶與第一濺鍍站104連接，第一固化機(jī)構(gòu) 302通過傳輸帶與第二旋涂機(jī)構(gòu)201連接；粘合裝置400 —端與第二濺鍍站204連接，另一 端與檢測裝置500連接。如圖2所示，本實(shí)用新型單面雙層光盤生產(chǎn)系統(tǒng)10的基片暫存裝置為暫存轉(zhuǎn)盤 700，暫存轉(zhuǎn)盤700用于暫存空白基片，暫存轉(zhuǎn)盤700位于傳輸帶的一端并通過單臂機(jī)械手 連接于傳輸帶上，暫存轉(zhuǎn)盤700通過傳輸帶與第一記錄層成型裝置100的第一旋涂機(jī)構(gòu)101 連接；第一旋涂機(jī)構(gòu)101包括相互并列的第一旋涂碗IOla和第四旋涂碗101b，第一旋涂碗 IOla和第四旋涂碗IOlb均具有下膠手，第一旋涂碗IOla和第四旋涂碗IOlb設(shè)置于傳輸 帶的一側(cè)且位于傳輸帶與第一壓模機(jī)構(gòu)102之間，第一旋涂碗IOla和第四旋涂碗IOlb與 傳輸帶平行，傳輸帶、第一旋涂碗101a、第四旋涂碗IOlb及第一壓模機(jī)構(gòu)102的中間位置 處設(shè)置有具有三個(gè)機(jī)械臂的第一機(jī)械手105連接，四者通過第一機(jī)械手105連接；第一凈化 機(jī)構(gòu)103設(shè)置于第一旋涂機(jī)構(gòu)101的第四旋涂碗IOlb與第一濺鍍站104之間，第一凈化機(jī) 構(gòu)103通過雙臂機(jī)械手106連接于傳輸帶上，第一濺鍍站104與傳輸帶連接；第三旋涂機(jī)構(gòu) 301包括并列設(shè)置的第三旋涂碗301a和第六旋涂碗301b，第三旋涂碗301a和第六旋涂碗301b均具有下膠手，第三旋涂碗301a和第六旋涂碗301b位于傳輸帶的一側(cè)并與傳輸帶平 行，第三旋涂碗301a與第六旋涂碗301b通過呈“V”型的第三機(jī)械手303與所述傳輸帶連接。如圖3所示，與第三旋涂機(jī)構(gòu)301并列設(shè)置的第一固化機(jī)構(gòu)302通過雙臂機(jī)械手 304連接于傳輸帶上，第一固化機(jī)構(gòu)302通過傳輸帶與第二旋涂機(jī)構(gòu)201連接；第二旋涂機(jī) 構(gòu)201包括相互并列的第二旋涂碗201a和第五旋涂碗201b，第二旋涂碗201a和第五旋涂 碗201b均具有下膠手，第二旋涂碗201a和第五旋涂碗201b設(shè)置于傳輸帶的一側(cè)且位于傳 輸帶與第二壓模機(jī)構(gòu)202之間，第二旋涂碗201a和第五旋涂碗201b與傳輸帶平行，傳輸 帶、第二旋涂碗20la、第五旋涂碗201b及第二壓模機(jī)構(gòu)202的中間位置處設(shè)置有具有三個(gè) 機(jī)械臂的第二機(jī)械手205，四者通過第二機(jī)械手205連接；第二凈化機(jī)構(gòu)203設(shè)置于第二旋 涂機(jī)構(gòu)201的第五旋涂碗201b與第二濺鍍站204之間，第二凈化機(jī)構(gòu)203通過雙臂機(jī)械手 206連接于傳輸帶上，第二濺鍍站204與傳輸帶連接。如圖1、圖4所示，粘合裝置400包括下膠機(jī)構(gòu)401、粘合機(jī)構(gòu)402、甩膠機(jī)構(gòu)403、 第二固化機(jī)構(gòu)404及第一暫存轉(zhuǎn)盤405，粘合機(jī)構(gòu)402及甩膠機(jī)構(gòu)403均與下膠機(jī)構(gòu)401連 接，且粘合機(jī)構(gòu)402、下膠機(jī)構(gòu)401、甩膠機(jī)構(gòu)403三者之間呈直角關(guān)系排布；其中，下膠機(jī)構(gòu) 401包括下膠轉(zhuǎn)盤401a、下膠托盤401b及下膠頭401c，下膠轉(zhuǎn)盤401a位于傳輸帶的末端 且其一端通過單臂機(jī)械手與傳輸帶連接，下膠轉(zhuǎn)盤401a的另一端與甩膠機(jī)構(gòu)403連接，下 膠托盤401b設(shè)置于下膠轉(zhuǎn)盤401a上，下膠頭401c設(shè)置于下膠轉(zhuǎn)盤401a的一側(cè)并與下膠 托盤401b相對(duì)應(yīng)；甩膠機(jī)構(gòu)402包括兩相互對(duì)稱設(shè)置的甩膠碗403a、403b，兩甩膠碗403a、 403b設(shè)置于下膠轉(zhuǎn)盤401a與第一暫存轉(zhuǎn)盤405之間，下膠轉(zhuǎn)盤40la、甩膠碗403a、甩膠碗 403b、第一暫存轉(zhuǎn)盤405的中間位置處設(shè)置有呈直角形的第四機(jī)械手406，四者通過第四機(jī) 械手406連接；第二固化機(jī)構(gòu)404連接于第一暫存轉(zhuǎn)盤405上；粘合機(jī)構(gòu)402包括粘合雙臂 機(jī)械手402a及粘合轉(zhuǎn)盤402b，粘合轉(zhuǎn)盤402b的一端通過粘合雙臂機(jī)械手402a連接于下膠 轉(zhuǎn)盤401a上，粘合轉(zhuǎn)盤402b的另一端與蓋板處理裝置600連接，具體地，蓋板處理裝置600 包括蓋板暫存轉(zhuǎn)盤601和保護(hù)膜形成機(jī)構(gòu)602，保護(hù)膜形成機(jī)構(gòu)602、蓋板暫存轉(zhuǎn)盤601、粘 合轉(zhuǎn)盤402b三者之間通過雙臂機(jī)械手603連接；檢測裝置500包括第二暫存轉(zhuǎn)盤501、檢測 機(jī)構(gòu)502及光盤存儲(chǔ)轉(zhuǎn)盤503，第二暫存轉(zhuǎn)盤501設(shè)置于第一暫存轉(zhuǎn)盤405與檢測機(jī)構(gòu)502 之間，且第一暫存轉(zhuǎn)盤405、第二暫存轉(zhuǎn)盤501、檢測機(jī)構(gòu)502及光盤存儲(chǔ)轉(zhuǎn)盤503圍成圓弧 形，在所述圓弧的圓心處設(shè)置有具有三個(gè)機(jī)械臂的第五機(jī)械手504，四者之間通過第五機(jī)械 手504連接。使用本實(shí)用新型單面雙層光盤生產(chǎn)系統(tǒng)10制造單面雙層光盤的方法，包括如下 步驟(1)拾起空白基片并將所述空白基片放至傳輸帶上傳輸；(2)在所述第一旋涂機(jī)構(gòu)中對(duì)所述空白基片旋涂形成膠水層；(3)將旋涂有膠水層的基片傳輸至第一壓模機(jī)構(gòu)，對(duì)所述基片進(jìn)行壓模并固化；(4)將壓模后的基片傳輸至第一凈化機(jī)構(gòu)，清理壓模過程中脫落于基片上的膠 水；(5)將清理后的基片傳輸至第一濺鍍站，濺鍍形成半反射層；(6)將濺鍍有半反射層的基片傳輸至緩沖層成型裝置，旋涂形成緩沖層并固化；
8[0032](7)將旋涂有緩沖層的基片傳送至第二旋涂機(jī)構(gòu)，旋涂形成膠水層；(8)將旋涂有膠水層的基片傳輸至第二壓模機(jī)構(gòu)，對(duì)所述基片進(jìn)行壓模并固化；(9)將壓模后的基片傳輸至第二凈化機(jī)構(gòu)，清理壓模過程中脫落于基片上的膠 水；(10)將清理后的基片傳輸至第二濺鍍站，濺鍍形成全反射層；(11)在所述粘合裝置將濺鍍有全反射層的基片與紙質(zhì)蓋板粘合形成光盤，并對(duì)所 述光盤進(jìn)行甩膠和固化；(12)將固化后的所述光盤傳輸至檢測裝置進(jìn)行檢測，檢測完成后分級(jí)存放。較佳者，步驟(S006)包括如下步驟(61)將濺鍍完半反射層的所述基片通過呈 “V”型的第三機(jī)械手放置于相同的第三旋涂碗及第六旋涂碗內(nèi)；(62)所述第三旋涂碗及第 六旋涂碗的下膠手分別對(duì)所述旋涂碗內(nèi)的基片旋涂形成緩沖層；(63)將旋涂有緩沖層的 所述基片傳輸至所述第一固化機(jī)構(gòu)，對(duì)所述基片的緩沖層進(jìn)行固化。較佳者，所述步驟(11)包括如下步驟(111)將濺鍍有全反射層的所述基片傳輸 至所述下膠機(jī)構(gòu)，對(duì)所述基片下粘合膠；(112)在粘合機(jī)構(gòu)將下粘合膠后的所述基片與紙 質(zhì)蓋板粘合形成光盤；(113)在甩膠機(jī)構(gòu)將所述光盤的粘合膠甩開；(114)在第二固化機(jī)構(gòu) 對(duì)所述光盤的粘合膠進(jìn)行固化。結(jié)合圖1-圖4，對(duì)使用本實(shí)用新型單面雙層光盤生產(chǎn)系統(tǒng)10制造單面雙層光盤的 方法進(jìn)行詳細(xì)說明。如圖1、圖2所示，先將空白基片加入基片暫存轉(zhuǎn)盤700內(nèi)，空白基片由市面上PC 材料供應(yīng)商在PC材料工廠直接成型，不需用注塑機(jī)注塑成型，且改變現(xiàn)有基片在注塑成型 時(shí)一并成型有信息記錄溝槽的制程，因此空白基片上無預(yù)制信息，空白基片厚度為0. 6mm, 中孔直徑15mm，外徑120mm，且其厚度均勻性及翹曲度要求與利用PC料顆粒經(jīng)注塑機(jī)注塑 成型的基片要求相當(dāng)，通過單臂機(jī)械手將暫存轉(zhuǎn)盤內(nèi)的空白基片放置于傳輸帶上傳輸，傳 輸過程中，第一機(jī)械手105拾起傳輸帶上的空白基片并將空白基片放置于第一旋涂機(jī)構(gòu) 101的第一旋涂碗IOla和第四旋涂碗IOlb內(nèi)，第一旋涂碗IOla和第四旋涂碗IOlb的下 膠手分別對(duì)兩旋涂碗內(nèi)的空白基片旋涂形成膠水層，利用兩旋涂碗同時(shí)對(duì)基片旋涂膠水， 提高了本單元的處理速度且不影響整個(gè)生產(chǎn)周期，提高生產(chǎn)效率；旋涂完成后，第一機(jī)械手 105將旋涂有膠水層的基片放置于第一壓模機(jī)構(gòu)102內(nèi)，第一壓模機(jī)構(gòu)102對(duì)基片的膠水 層進(jìn)行壓模形成信息坑道，并對(duì)壓模后的基片進(jìn)行固化，完成后經(jīng)第一機(jī)械手105將基片 放回到傳輸帶上傳輸；基片經(jīng)過第一凈化機(jī)構(gòu)103位置處時(shí)，雙臂機(jī)械手106將傳輸帶上的 基片拾起并放置于第一凈化機(jī)構(gòu)103內(nèi)，清除在壓模過程中從壓模機(jī)構(gòu)的母盤上脫落于基 片上的膠水；完成后，雙臂機(jī)械手106將其放回到傳輸帶上繼續(xù)傳輸，基片經(jīng)過第一濺鍍站 104時(shí)，基片被放置于第一濺鍍站104內(nèi)濺鍍形成半反射層，濺鍍完成后將基片放回到傳輸 帶上繼續(xù)傳輸。如圖2、圖3所示，濺鍍有半反射層的基片經(jīng)過第三旋涂機(jī)構(gòu)301時(shí)，呈“V”型的第 三機(jī)械手303將基片放置在相同的第三旋涂碗301a與第六旋涂碗301b內(nèi)，兩旋涂碗的下 膠手分別對(duì)旋涂碗內(nèi)的基片旋涂形成緩沖層，利用兩旋涂碗同時(shí)對(duì)基片旋涂，提高了第三 旋涂機(jī)構(gòu)301的處理速度且不影響整個(gè)生產(chǎn)線的生產(chǎn)周期，提高生產(chǎn)效率；旋涂完成后，通 過呈“V”型的第三機(jī)械手303將基片放置到傳輸帶上繼續(xù)傳輸，基片經(jīng)過第一固化機(jī)構(gòu)302時(shí)，雙臂機(jī)械手304將旋涂有緩沖層的基片放置到第一固化機(jī)構(gòu)302內(nèi)對(duì)緩沖層進(jìn)行固化， 固化完成后，再經(jīng)雙臂機(jī)械手304放回到傳輸帶上繼續(xù)傳輸。經(jīng)過第二旋涂機(jī)構(gòu)201時(shí)，具 有三個(gè)機(jī)械臂的第二機(jī)械手205拾起傳輸帶上的旋涂有緩沖層的基片，并將基片放置于第 二旋涂機(jī)構(gòu)201的第二旋涂碗201a和第五旋涂碗201b內(nèi)，兩旋涂碗的下膠手分別對(duì)旋涂 碗內(nèi)的基片旋涂形成膠水層，兩旋涂碗同時(shí)對(duì)基片旋涂膠水，提高了本單元的處理速度且 不影響整個(gè)生產(chǎn)周期，提高生產(chǎn)效率；旋涂完成后，第二機(jī)械手205將旋涂有膠水層的基片 放置于第二壓模機(jī)構(gòu)202內(nèi)，第二壓模機(jī)構(gòu)202對(duì)基片的膠水層進(jìn)行壓模形成信息坑道，并 對(duì)壓模后的基片進(jìn)行固化，完成后經(jīng)第二機(jī)械手205將基片放回到傳輸帶上傳輸；壓模后 的基片在傳輸過程中，經(jīng)過第二凈化機(jī)構(gòu)203位置處時(shí)，雙臂機(jī)械手206將傳輸帶上的基片 拾起并放置于第二凈化機(jī)構(gòu)203內(nèi)，清除在壓模過程中從壓模機(jī)構(gòu)的母盤上脫落于基片上 的膠水；完成后，雙臂機(jī)械手206將其放回到傳輸帶上繼續(xù)傳輸，經(jīng)過第二濺鍍站204時(shí)，基 片被放置于第二濺鍍站204內(nèi)濺鍍形成全反射層，濺鍍完成后將基片傳輸?shù)絺鬏攷侠^續(xù) 傳輸。如圖4所示，濺鍍有全反射層的基片到達(dá)傳輸帶的末端時(shí)，單臂機(jī)械手將基片拾 起并放置到下膠轉(zhuǎn)盤401a上，下膠轉(zhuǎn)盤401a轉(zhuǎn)動(dòng)把基片送到下膠位置，基片被帶動(dòng)到下 膠位置處時(shí)，下膠托盤401b上升托起基片并旋轉(zhuǎn)，粘合膠通過下膠頭401c涂布在基片上， 下膠完成后，下膠轉(zhuǎn)盤401a繼續(xù)旋轉(zhuǎn)，將下膠后的基片旋轉(zhuǎn)到與粘合機(jī)構(gòu)402的粘合轉(zhuǎn)盤 402b相對(duì)應(yīng)的位置處，通過粘合雙臂機(jī)械手402a放置于粘合轉(zhuǎn)盤402b上等待與紙質(zhì)蓋板 粘合；在基片被旋涂粘合膠的同時(shí)，暫存于蓋板暫存轉(zhuǎn)盤601內(nèi)的紙質(zhì)蓋板通過雙臂機(jī)械 手603傳輸?shù)奖Ｗo(hù)膜形成機(jī)構(gòu)602，在紙質(zhì)蓋板的一表面上形成一層保護(hù)膜，保護(hù)膜在產(chǎn)品 使用過程中對(duì)粘合膜層及反射膜層起到保護(hù)作用，然后再通過雙臂機(jī)械手603將形成有保 護(hù)膜的紙質(zhì)蓋板傳輸?shù)秸澈限D(zhuǎn)盤402b，與等待在這里的基片粘合形成光盤，采用紙質(zhì)蓋板 代替現(xiàn)有的DVD9結(jié)構(gòu)中的PC蓋板，節(jié)省PC材料的用量，進(jìn)而減少碳排量，且在回收時(shí)不會(huì) 造成對(duì)環(huán)境的污染，具有環(huán)保特點(diǎn)；粘合后形成的光盤經(jīng)粘合機(jī)械雙臂手402a放回到下膠 轉(zhuǎn)盤401a上，下膠轉(zhuǎn)盤401a繼續(xù)旋轉(zhuǎn)將光盤帶到甩膠機(jī)構(gòu)403 —側(cè)，通過呈直角形的第四 機(jī)械手406將光盤放置于甩膠機(jī)構(gòu)403的兩甩膠碗403a、403b內(nèi)，兩甩膠碗403a、403b對(duì)光 盤進(jìn)行高速甩膠處理，使粘合膠通過離心力和浸潤作用在基片和蓋板之間迅速平穩(wěn)鋪開， 在基片與蓋板之間形成一厚度均勻的粘合膠層，多余的粘合膠甩掉；甩膠完成后，再通過呈 直角形的第四機(jī)械手406將光盤傳輸?shù)降谝粫捍孓D(zhuǎn)盤405，第一暫存轉(zhuǎn)盤405旋轉(zhuǎn)，將光盤 送到第二固化機(jī)構(gòu)404內(nèi)，第二固化機(jī)構(gòu)404通過紫外線燈照射粘合膠，使之固化，固化后 的光盤通過具有三個(gè)機(jī)械臂的第五機(jī)械手504放置于第二暫存轉(zhuǎn)盤501內(nèi)等待檢測，第二 暫存轉(zhuǎn)盤501內(nèi)的光盤經(jīng)第五機(jī)械手504傳輸?shù)綑z測機(jī)構(gòu)502內(nèi)進(jìn)行檢測，檢測完成后，將 合格的光盤和不合格的光盤分別存放到光盤存儲(chǔ)轉(zhuǎn)盤503內(nèi)，完成光盤的生產(chǎn)。由于本實(shí)用新型單面雙層光盤生產(chǎn)系統(tǒng)10包括傳輸帶及連接于所述傳輸帶上的 第一記錄層成型裝置100、第二記錄層成型裝置200、緩沖層成型裝置300、粘合裝置400及 檢測裝置500，其中，所述第一記錄層成型裝置100包括第一旋涂機(jī)構(gòu)101、第一壓模機(jī)構(gòu) 102、第一凈化機(jī)構(gòu)103及第一濺鍍站104，第一旋涂機(jī)構(gòu)101的一端與第一壓模機(jī)構(gòu)102連 接，第一旋涂機(jī)構(gòu)101的另一端連接于所述傳輸帶上，所述第一凈化機(jī)構(gòu)103設(shè)置于第一旋 涂機(jī)構(gòu)101與第一濺鍍站104之間并與傳輸帶連接，第一濺鍍站104連接于傳輸帶上；第二記錄層成型裝置200包括第二旋涂機(jī)構(gòu)201、第二壓模機(jī)構(gòu)202、第二凈化機(jī)構(gòu)203及第二 濺鍍站204，第二旋涂機(jī)構(gòu)201的一端與第二壓模機(jī)構(gòu)202連接，第二旋涂機(jī)構(gòu)201的另一 端連接于所述傳輸帶上，第二凈化機(jī)構(gòu)203設(shè)置于第二旋涂機(jī)構(gòu)201與第二濺鍍站204之 間并與所述傳輸帶連接，第二濺鍍站204連接于傳輸帶上；緩沖層成型裝置300包括第三旋 涂機(jī)構(gòu)301及第一固化機(jī)構(gòu)302，第三旋涂機(jī)構(gòu)300通過所述傳輸帶與所述第一濺鍍站104 連接，第一固化機(jī)構(gòu)302通過所述傳輸帶與所述第二旋涂機(jī)構(gòu)201連接；第二濺鍍站204與 粘合裝置400連接，粘合裝置400與檢測裝置500連接。生產(chǎn)光盤時(shí)，在一空白基片上相繼 形成兩記錄層，然后將形成有記錄層的基片與紙質(zhì)蓋板粘合形成光盤，由于空白基片上無 預(yù)制信息，可以通過非注塑成型工藝制得，適用于大批量生產(chǎn)，大大節(jié)約成本，同時(shí)免去了 利用注塑機(jī)將PC材料再次加熱高溫壓合注塑成型的工藝環(huán)節(jié)，一方面降低了產(chǎn)業(yè)鏈能耗， 另一方面降低了 PC基片的雙折射率，提高產(chǎn)品質(zhì)量；同時(shí)，光盤的封裝蓋板采用創(chuàng)新型的 紙質(zhì)蓋板，代替了現(xiàn)有的DVD9結(jié)構(gòu)中的PC蓋板，不僅節(jié)省了 PC材料的用量，減少碳排量， 且在回收時(shí)不會(huì)造成對(duì)環(huán)境的污染且還可被再利用，具有環(huán)保特點(diǎn)。本實(shí)用新型所涉及的壓模、濺鍍等技術(shù)均為本領(lǐng)域普通技術(shù)人員所熟知，在此不 再做詳細(xì)的說明。以上所揭露的僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例而已，當(dāng)然不能以此來限定本實(shí)用新 型之權(quán)利范圍，因此依本實(shí)用新型申請(qǐng)專利范圍所作的等同變化，仍屬本實(shí)用新型所涵蓋 的范圍。
權(quán)利要求一種單面雙層光盤生產(chǎn)系統(tǒng)，包括傳輸帶及連接于所述傳輸帶上的第一記錄層成型裝置、第二記錄層成型裝置、緩沖層成型裝置、粘合裝置及檢測裝置，所述第一記錄層成型裝置及所述第二記錄層成型裝置用于形成記錄層，所述緩沖層成型裝置用于形成緩沖層，所述粘合裝置用于將基片與蓋板粘合，所述檢測機(jī)構(gòu)用于檢測質(zhì)量；所述緩沖層成型裝置設(shè)置于所述第一記錄層成型裝置與所述第二記錄層成型裝置之間，所述第二記錄層成型裝置與所述粘合裝置連接，所述粘合裝置與所述檢測裝置連接，其特征在于所述第一記錄層成型裝置包括第一旋涂機(jī)構(gòu)、第一壓模機(jī)構(gòu)、第一凈化機(jī)構(gòu)及第一濺鍍站，所述第一旋涂機(jī)構(gòu)的一端與所述第一壓模機(jī)構(gòu)連接，所述第一旋涂機(jī)構(gòu)的另一端連接于所述傳輸帶上，所述第一凈化機(jī)構(gòu)設(shè)置于所述第一旋涂機(jī)構(gòu)與所述第一濺鍍站之間并與所述傳輸帶連接，所述第一濺鍍站連接于所述傳輸帶上；所述第二記錄層成型裝置包括第二旋涂機(jī)構(gòu)、第二壓模機(jī)構(gòu)、第二凈化機(jī)構(gòu)及第二濺鍍站，所述第二旋涂機(jī)構(gòu)的一端與所述第二壓模機(jī)構(gòu)連接，所述第二旋涂機(jī)構(gòu)的另一端連接于所述傳輸帶上，所述第二凈化機(jī)構(gòu)設(shè)置于所述第二旋涂機(jī)構(gòu)與所述第二濺鍍站之間并與所述傳輸帶連接，所述第二濺鍍站連接于所述傳輸帶上；所述緩沖層成型裝置包括第三旋涂機(jī)構(gòu)及第一固化機(jī)構(gòu)，所述第三旋涂機(jī)構(gòu)通過所述傳輸帶與所述第一濺鍍站連接，所述第一固化機(jī)構(gòu)通過所述傳輸帶與所述第二旋涂機(jī)構(gòu)連接；所述第二濺鍍站與所述粘合裝置連接，所述粘合裝置與所述檢測裝置連接。
2.如權(quán)利要求1所述的單面雙層光盤生產(chǎn)系統(tǒng)，其特征在于還包括基片暫存裝置及 蓋板處理裝置，所述基片暫存裝置通過所述傳輸帶與所述第一旋涂機(jī)構(gòu)連接，所述蓋板處 理裝置與所述粘合裝置連接。
3.如權(quán)利要求1所述的單面雙層光盤生產(chǎn)系統(tǒng)，其特征在于所述第一旋涂機(jī)構(gòu)包括 具有下膠手的第一旋涂碗，所述第一旋涂碗連接于所述傳輸帶與所述第一壓模機(jī)構(gòu)之間。
4.如權(quán)利要求3所述的單面雙層光盤生產(chǎn)系統(tǒng)，其特征在于所述第一旋涂機(jī)構(gòu)還包 括與所述第一旋涂碗并排的且具有下膠手的第四旋涂碗，所述第一旋涂碗與第四旋涂碗通 過具有三個(gè)機(jī)械臂的第一機(jī)械手連接于所述傳輸帶與所述第一壓模機(jī)構(gòu)之間。
5.如權(quán)利要求1所述的單面雙層光盤生產(chǎn)系統(tǒng)，其特征在于所述第二旋涂機(jī)構(gòu)包括 具有下膠手的第二旋涂碗，所述第二旋涂碗連接于所述傳輸帶與所述第二壓模機(jī)構(gòu)之間。
6.如權(quán)利要求5所述的單面雙層光盤生產(chǎn)系統(tǒng)，其特征在于所述第二旋涂機(jī)構(gòu)還包 括與所述第二旋涂碗并排的且具有下膠手的第五旋涂碗，所述第二旋涂碗與第五旋涂碗通 過具有三個(gè)機(jī)械臂的第二機(jī)械手連接于所述傳輸帶與所述第二壓模機(jī)構(gòu)之間。
7.如權(quán)利要求1所述的單面雙層光盤生產(chǎn)系統(tǒng)，其特征在于所述第三旋涂機(jī)構(gòu)包括 具有下膠手的第三旋涂碗，所述第三旋涂碗與所述傳輸帶連接。
8.如權(quán)利要求7所述的單面雙層光盤生產(chǎn)系統(tǒng)，其特征在于所述第三旋涂機(jī)構(gòu)還包 括與所述第三旋涂碗并排的且具有下膠手的第六旋涂碗，所述第三旋涂碗與第六旋涂碗通 過呈“V”型的第三機(jī)械手與所述傳輸帶連接。
9.如權(quán)利要求2所述的單面雙層光盤生產(chǎn)系統(tǒng)，其特征在于所述粘合裝置包括下膠 機(jī)構(gòu)、粘合機(jī)構(gòu)、甩膠機(jī)構(gòu)及第二固化機(jī)構(gòu)，所述下膠機(jī)構(gòu)連接于所述傳輸帶的末端與所述 甩膠機(jī)構(gòu)之間，所述甩膠機(jī)構(gòu)與所述第二固化機(jī)構(gòu)連接，所述第二固化機(jī)構(gòu)與所述檢測裝置連接，所述粘合機(jī)構(gòu)一端與所述下膠機(jī)構(gòu)連接，另一端與所述蓋板處理裝置連接。
10.如權(quán)利要求9所述的單面雙層光盤生產(chǎn)系統(tǒng)，其特征在于所述粘合裝置還包括第 一暫存轉(zhuǎn)盤，所述第一暫存轉(zhuǎn)盤設(shè)置于所述檢測裝置與所述甩膠機(jī)構(gòu)之間，所述第一暫存 轉(zhuǎn)盤、所述甩膠機(jī)構(gòu)及所述下膠機(jī)構(gòu)之間通過呈直角型的第四機(jī)械手連接，所述第一固化 機(jī)構(gòu)連接于所述第一暫存轉(zhuǎn)盤上。
11.如權(quán)利要求10所述的單面雙層光盤生產(chǎn)系統(tǒng)，其特征在于所述檢測裝置包括第 二暫存轉(zhuǎn)盤、檢測機(jī)構(gòu)及光盤存儲(chǔ)轉(zhuǎn)盤，所述第一暫存轉(zhuǎn)盤、第二暫存轉(zhuǎn)盤、檢測機(jī)構(gòu)及光 盤存儲(chǔ)轉(zhuǎn)盤圍成圓弧形，所述圓弧的圓心處設(shè)置有具有三個(gè)機(jī)械臂的第五機(jī)械手，所述第 一暫存轉(zhuǎn)盤、第二暫存轉(zhuǎn)盤、檢測機(jī)構(gòu)及光盤存儲(chǔ)轉(zhuǎn)盤通過所述第五機(jī)械手連接。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種單面雙層光盤生產(chǎn)系統(tǒng)，包括傳輸帶及連接于傳輸帶上的第一旋涂機(jī)構(gòu)，第一旋涂機(jī)構(gòu)的一端與第一壓模機(jī)構(gòu)連接，另一端連接于傳輸帶上，第一凈化機(jī)構(gòu)設(shè)置于第一旋涂機(jī)構(gòu)與第一濺鍍站之間并與傳輸帶連接，第一濺鍍站通過傳輸帶與第三旋涂機(jī)構(gòu)連接，與第三旋涂機(jī)構(gòu)并列設(shè)置的第一固化機(jī)構(gòu)通過傳輸帶與第二旋涂機(jī)構(gòu)連接，第二旋涂機(jī)構(gòu)的一端與第二壓模機(jī)構(gòu)連接，另一端連接于傳輸帶上，第二凈化機(jī)構(gòu)設(shè)置于第二旋涂機(jī)構(gòu)與第二濺鍍站之間并與傳輸帶連接，第二濺鍍站連接于傳輸帶上；第二濺鍍站與粘合裝置連接，粘合裝置與檢測裝置連接；利用該系統(tǒng)生產(chǎn)光盤節(jié)省PC材料、能耗低且環(huán)保、并能提高光盤質(zhì)量。
文檔編號(hào)G11B7/26GK201629147SQ20102010523
公開日2010年11月10日 申請(qǐng)日期2010年1月27日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月27日
發(fā)明者楊明生, 范繼良 申請(qǐng)人:東莞宏威數(shù)碼機(jī)械有限公司