專利名稱：盤狀記錄介質(zhì)、光斑位置控制裝置、光斑位置控制方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及盤狀記錄介質(zhì)。另外，具體地，本發(fā)明涉及下述光斑位置控制裝置及其方法該裝置作為對照射到盤狀記錄介質(zhì)上的光的光斑位置進行控制的光斑位置控制裝置，很適于基于與信息記錄/再現(xiàn)光分開照射的光來執(zhí)行對信息的記錄/再現(xiàn)位置的控制的情況。
背景技術(shù)：
例如，在下述專利文獻中，已知通過信號光和參考光的干涉圖案來執(zhí)行數(shù)據(jù)記錄的全息圖記錄/再現(xiàn)系統(tǒng)。在這個全息圖記錄/再現(xiàn)系統(tǒng)中，在記錄時，被進行了與記錄數(shù)據(jù)相應(yīng)的空間光調(diào)制(例如光強度調(diào)制)的信號光和與這里的信號光分開的參考光被照射到全息圖記錄介質(zhì)上，并且其干涉圖案被形成在全息圖記錄介質(zhì)上，從而執(zhí)行數(shù)據(jù)記錄。另外，在再現(xiàn)時，參考光被照射到全息圖記錄介質(zhì)上。從而，通過照射參考光，獲得與如上所述在全息圖記錄介質(zhì)上形成的干涉圖案相應(yīng)的衍射光。從而，這樣獲得了與記錄數(shù)據(jù)相符的再現(xiàn)光(再現(xiàn)信號光)。利用諸如CCD(電荷耦合器件)傳感器或CMOS (互補金屬氧化物半導(dǎo)體)傳感器之類的圖像傳感器來檢測這樣獲得的再現(xiàn)光，從而再現(xiàn)記錄數(shù)據(jù)?，F(xiàn)在，作為全息圖記錄再現(xiàn)系統(tǒng)，與諸如CD (壓縮盤)或DVD (數(shù)字多功能盤)之類的傳統(tǒng)光盤記錄/再現(xiàn)系統(tǒng)類似，正在考慮沿著形成于記錄介質(zhì)上的軌道而記錄數(shù)據(jù)。也就是說，通過與傳統(tǒng)光盤的情況類似地執(zhí)行諸如針對軌道的循軌伺服(tracking servo)之類的記錄/再現(xiàn)位置控制，在盤上的適當位置執(zhí)行數(shù)據(jù)記錄。將利用圖32中的截面構(gòu)造圖來描述在執(zhí)行這種記錄/再現(xiàn)位置控制的情況下使用的全息圖記錄介質(zhì)的構(gòu)造的示例。在圖32中，示出了具有反射膜的反射型的全息圖記錄介質(zhì)100的構(gòu)造示例。如圖所示，全息圖記錄介質(zhì)100具有彼此分開形成的記錄層(106)和位置控制信息記錄層，在該記錄層(106)上利用上述信號光和參考光的干涉圖案來執(zhí)行全息圖的記錄，而在該位置控制信息記錄層上，利用基板110上的不平坦截面構(gòu)造執(zhí)行了用于位置控制的地址信息等等的記錄。具體而言，全息圖記錄介質(zhì)100按照從上層起的順序具有覆蓋層105、記錄層106、 反射膜107、中間層108、反射膜109和基板110。在再現(xiàn)時用于再現(xiàn)全息圖的激光(上述的參考光)被照射到形成在記錄層106的下層的反射膜107上，并且在獲得與記錄在記錄層106上的全息圖相應(yīng)的再現(xiàn)圖像時，這被設(shè)為以反射光的形式返回到裝置側(cè)。另外，在基板110上以螺旋狀或同心狀形成用于引導(dǎo)記錄層106上的全息圖的記錄/再現(xiàn)位置的軌道。例如，可以通過利用凹坑列(pit row)執(zhí)行地址信息等等的信息記錄來形成軌道。形成在基板110的上層的反射膜109被設(shè)置來獲得與凹坑列相應(yīng)的反射光。注意，中間層108例如是諸如樹脂之類的粘合材料。用于在記錄層106上執(zhí)行全息圖的記錄/再現(xiàn)的記錄/再現(xiàn)光和用于獲得來自位置控制信息的反射光的位置控制光被各自分別照射到具有例如以上所述的截面構(gòu)造的全息圖記錄介質(zhì)100上。現(xiàn)在，如果我們假定僅用一類光，既用于全息圖的記錄/再現(xiàn)又用于位置控制，則存在這樣的風(fēng)險，即與基板110(反射膜109)的不平坦截面形狀相對應(yīng)的成分將作為噪聲疊加在全息圖的再現(xiàn)圖像上，從而使再現(xiàn)能力惡化。因此，對于全息圖記錄/再現(xiàn)系統(tǒng)中的位置控制，隨同全息圖的記錄/再現(xiàn)光一起，單獨照射用于獲得來自位置控制信息記錄層的反射光的位置控制光。另外，在這樣照射全息圖記錄/再現(xiàn)光和單獨的位置控制光的情況下，使用具有不同波長帶的光。其原因是，在將具有相同波長帶的光用于位置控制光和記錄/再現(xiàn)光的情況下，存在記錄層106由于位置控制光的照射而變得光敏的風(fēng)險，因此這是為了防止這種風(fēng)險。例如，對于全息圖記錄/再現(xiàn)光，使用具有大約λ = 405nm的波長的紫色激光，而對于位置控制光，使用具有大約λ = 650nm的波長的紅色激光?，F(xiàn)在，為了通過位置控制光的照射來獲得來自位置控制信息記錄層的反射光，位置控制光必須到達其上反映了基板Iio的不平坦截面形狀的反射層109。也就是說，位置控制光必須透過形成在反射膜109的上層的反射膜107。另一方面，全息圖記錄/再現(xiàn)光必須在反射膜107處反射，以使得與記錄在記錄層 106上的全息圖相應(yīng)的再現(xiàn)圖像以反射光的形式被返回到裝置側(cè)?？紤]到這些點，具有波長選擇性的反射膜被用于反射膜107，從而用于記錄/再現(xiàn)的紫色激光反射，而用于位置控制的紅色激光透過。從而，位置控制光到達反射膜109，并且用于位置控制的反射光被適當?shù)胤祷氐窖b置側(cè)，同時，記錄在記錄層106上的全息圖的再現(xiàn)圖像可被反射膜107反射并適當?shù)胤祷氐窖b置側(cè)?，F(xiàn)在，在這樣使用與全息圖記錄/再現(xiàn)光分開的光來執(zhí)行對記錄/再現(xiàn)位置的控制的情況下，在記錄/再現(xiàn)裝置側(cè)，全息圖記錄/再現(xiàn)光和位置控制光被合成在同一光軸上，如接來下的圖33中所示，并且對全息圖記錄介質(zhì)100照射該合成光。然后執(zhí)行基于位置控制光的反射光的循軌伺服控制。這樣，通過在在同一光軸上合成全息圖記錄/再現(xiàn)光和位置控制光并將其照射到全息圖記錄介質(zhì)100上的同時執(zhí)行基于位置控制光的反射光的位置控制，全息圖記錄/再現(xiàn)位置被控制在沿著形成于全息圖記錄介質(zhì)100中的軌道(凹坑列)的位置處。引文列表專利文獻1 日本專利申請公布No. 2005-250038專利文獻2 日本專利申請公布No. 2007-79438

發(fā)明內(nèi)容
然而，如上所述的對于全息圖記錄/再現(xiàn)位置的傳統(tǒng)控制方法是一種假定位置控制光和記錄/再現(xiàn)光的光軸將會匹配的方法，從而在如圖34所示由于時間性變化或溫度變化而引起兩個光軸中存在偏移的情況下，可能就無法將全息圖記錄/再現(xiàn)位置控制到沿著凹坑列的準確位置。也就是 說，從這一點我們可以理解，在利用上述方法執(zhí)行位置控制的傳統(tǒng)全息圖記錄/再現(xiàn)系統(tǒng)中，存在這樣的可能性即，在再現(xiàn)時不能準確地跟蹤記錄全息圖列，并且相應(yīng)地，擔心不能正確地再現(xiàn)全息圖。另外，在利用在外部裝置上執(zhí)行記錄的盤執(zhí)行再現(xiàn)的情況下，也可能類似地發(fā)生由兩個光軸的偏移引起的全息圖記錄位置和再現(xiàn)位置之間的偏移的問題。例如，在在另一裝置上記錄全息圖時位置控制光與記錄/再現(xiàn)光之間的光軸偏移量是α的情況下，如果在裝置本身處位置控制光與記錄再現(xiàn)光之間的光軸偏移量是β，則在此裝置處不能準確地再現(xiàn)在該另一裝置上記錄的全息圖?，F(xiàn)在，可以設(shè)想使用一種用于對全息圖記錄位置與再現(xiàn)位置之間的這種偏移進行校正的方法。對于這種具體的方法，可以建議一種方法，其中，在單獨地設(shè)有諸如致動器 (actuator)之類的調(diào)整記錄/再現(xiàn)光的光軸位置的調(diào)整機構(gòu)時，再現(xiàn)時記錄/再現(xiàn)光(參考光)的光軸位置被使得與全息圖記錄位置的實際位置相匹配并被調(diào)整。更具體地說，在使用此方法的情況下，在執(zhí)行全息圖再現(xiàn)之前，預(yù)先用致動器(調(diào)整機構(gòu))在多個位置振動記錄/再現(xiàn)光(參考光)的光軸位置以執(zhí)行識別出獲得最多的再現(xiàn)光量的光軸位置的校準。也就是說，因此，識別出實際記錄全息圖的位置。通過將記錄/ 再現(xiàn)光的光軸位置調(diào)整在這樣獲得的位置，可以獲得全息圖記錄位置與再現(xiàn)位置之間的偏移。然而，這里要注意的是以下這點，即在再現(xiàn)全息圖時，即使對記錄的全息圖的記錄 /再現(xiàn)光(參考光)的照射位置的偏移是微小的，這也會引起衍射效果的減小(即再現(xiàn)光量的減小)。換言之，如上所述那樣校正記錄/再現(xiàn)光的光軸位置要求高精度的調(diào)整(例如亞微米程度的精度)。從而，由于必須進行這種高精度的調(diào)整，在使用如上所述的設(shè)置一調(diào)整機構(gòu)來對記錄/再現(xiàn)光的光軸位置執(zhí)行校正的方法的情況下，技術(shù)難易度增大了，并且調(diào)整機構(gòu)也必須是具有極高精度和極高剛性的機構(gòu)，因此從裝置制造成本角度等來看，將其實現(xiàn)為產(chǎn)品變得非常困難。根據(jù)本發(fā)明，作為盤狀記錄介質(zhì)作出以下構(gòu)造，來解決上述問題。也就是說，本發(fā)明的盤狀記錄介質(zhì)具有多個凹坑列相位，其中，以螺旋狀或同心狀形成凹坑列，對于這些凹坑列，一圈凹坑可形成位置之間的間隔受限于預(yù)定的第一間隔；在半徑方向上排列的凹坑列中，凹坑可形成位置在凹坑列形成方向上的間隔被設(shè)定到偏移了預(yù)定的第二間隔的位置。另外，本發(fā)明提出了如下所述的構(gòu)造，作為光斑位置控制裝置的第一構(gòu)造。也就是說，設(shè)置了第一光源，用于對本發(fā)明的盤狀記錄介質(zhì)照射第一光，該盤狀記錄介質(zhì)具有多個凹坑列相位，其中，以螺旋狀或同心狀形成凹坑列，對于這些凹坑列，一圈凹坑可形成位置之間的間隔受限于預(yù)定的第一間隔，在半徑方向上排列的凹坑列中，凹坑可形成位置在凹坑列形成方向上的間隔被設(shè)定到偏移了預(yù)定的第二間隔的位置。另外，設(shè)置了第二光源，用于對盤狀記錄介質(zhì)照射第二光。另外，設(shè)置了物鏡，第一光和第二光被輸入到該物鏡，該物鏡用作第一光和第二光對盤狀記錄介質(zhì)的輸出端。另外，循軌控制機構(gòu)被構(gòu)造成使經(jīng)由物鏡照射的第一光和第二光的光軸與盤狀記錄介質(zhì)之間在半徑方向上的相對位置關(guān)系改變，從而對第一光和第二光執(zhí)行循軌控制。

另外，設(shè)置了光接收單元，用于接收第二光從盤狀記錄介質(zhì)反射的反射光。另外，設(shè)置了第一循軌誤差信號生成單元，其基于從光接收單元獲得的接收信號來生成第一循軌誤差信號，該第一循軌誤差信號表示第二光的光斑相對于在盤狀記錄介質(zhì)上形成的凹坑在半徑方向上的位置誤差。另外，設(shè)置了時鐘生成單元，其基于從光接收單元獲得的光接收信號，來生成與凹坑可形成位置的間隔相應(yīng)的時鐘。另外，設(shè)置了定時選擇信號生成單元，其基于由時鐘生成單元生成的時鐘，來生成多個定時選擇信號，每個定時選擇信號表示在盤狀記錄介質(zhì)上形成的多個凹坑列(這些凹坑列各自具有不同的凹坑列相位)中每個凹坑列處凹坑可形成位置的定時。另外，設(shè)置了第一定時選擇信號選擇單元，其從多個定時選擇信號中選擇第一定時選擇信號。此外，設(shè)置了第一循軌伺服控制單元，用于基于根據(jù)由第一定時選擇信號選擇單元選擇的定時選擇信號所表示的定時而提取的、由第一循軌誤差信號生成單元生成的第一循軌誤差信號的部分區(qū)間的信號，來控制循軌控制機構(gòu)以執(zhí)行對第二光的光斑的循軌伺服。另外，本發(fā)明提出了如下所述的構(gòu)造，作為光斑位置控制裝置的第二構(gòu)造。也就是說，設(shè)置了第一光源，用于對本發(fā)明的盤狀記錄介質(zhì)照射第一光，該盤狀記錄介質(zhì)具有多個凹坑列相位，其中，以螺旋狀或同心狀形成凹坑列，對于這些凹坑列，一圈凹坑可形成位置之間的間隔受限于預(yù)定的第一間隔，在半徑方向上排列的凹坑列中，凹坑可形成位置在凹坑列形成方向上的間隔被設(shè)定到偏移了預(yù)定的第二間隔的位置。另外，設(shè)置了第二光源，用于對盤狀記錄介質(zhì)照射第二光。另外，設(shè)置了物鏡，第一光和第二光被輸入到該物鏡，該物鏡用作第一光和第二光對盤狀記錄介質(zhì)的輸出端。另外，設(shè)置了循軌控制機構(gòu)，其被構(gòu)造成使經(jīng)由物鏡照射的第一光和第二光的光軸和盤狀記錄介質(zhì)之間在半徑方向上的相對位置關(guān)系改變，從而對第一光和第二光執(zhí)行循軌控制。另外，設(shè)置了光接收單元，用于接收第二光的來自盤狀記錄介質(zhì)的反射光。另外，設(shè)置了第一循軌誤差信號生成單元，用于基于從光接收單元獲得的接收信號來生成第一循軌誤差信號，該第一循軌誤差信號表示第二光的光斑相對于在盤狀記錄介質(zhì)上形成的凹坑在半徑方向上的位置誤差。另外，設(shè)置了時鐘生成單元，用于基于從光接收單元獲得的光接收信號，來生成與凹坑可形成位置的間隔相應(yīng)的時鐘。另外，設(shè)置了定時選擇信號生成單元，用于基于由時鐘生成單元生成的時鐘，來生成定時選擇信號，每個定時選擇信號表示在盤狀記錄介質(zhì)上形成的、各自具有不同的凹坑列相位的多個凹坑列中每個凹坑列處凹坑可形成位置的定時。另外，設(shè)置了第二定時選擇信號選擇單元，用于從多個定時選擇信號中選擇分別與兩個凹坑列相對應(yīng)的定時選擇信號，這兩個凹坑列與作為循軌伺服的對象的凹坑列的相位差相同。另外，設(shè)置了凹坑存在與否反映信號采樣單元，用于在由第二定時選擇信號選擇單元選擇的定時選擇信號所表示的各個定時，對由凹坑存在與否反映信號生成單元生成的凹坑存在與否反映信號的值進行采樣。另外，設(shè)置了第二循軌誤差信號生成單元，用于通過計算由凹坑存在與否反映信號采樣單元采樣的各個凹坑存在與否反映信號值的差分，來生成第二循軌誤差信號，該第二循軌誤差信號表示第二光的光斑位置相對于作為循軌伺服的對象的凹坑列在半徑方向上的位置誤差。另外，設(shè)置了第二循軌伺服控制單元，用于基于由第二循軌誤差信號生成單元生成的第二循軌誤差信號，來控制循軌控制機構(gòu)以執(zhí)行對第二光的光斑的循軌伺服。本發(fā)明提出了如下所述的構(gòu)造，作為光斑位置控制裝置的第三構(gòu)造。也就是說，設(shè)置了第一光源，用于對本發(fā)明的盤狀記錄介質(zhì)照射第一光，該盤狀記錄介質(zhì)具有多個凹坑列相位，其中，以螺旋狀或同心狀形成凹坑列，對于這些凹坑列，一圈凹坑可形成位置之間的間隔受限于預(yù)定的第一間隔，在半徑方向上排列的凹坑列中，凹坑可形成位置在凹坑列形成方向上的間隔被設(shè)定到偏移了預(yù)定的第二間隔的位置。另外，設(shè)置了第二光源，用于對盤狀記錄介質(zhì)照射第二光。另外，設(shè)置了物鏡，第一光和第二光被輸入到該物鏡，該物鏡用作第一光和第二光對盤狀記錄介質(zhì)的輸出端。另外，設(shè)置了循軌控制機構(gòu)，其被構(gòu)造成使經(jīng)由物鏡照射的第一光和第二光的光軸和盤狀記錄介質(zhì)之間在半徑方向上的相對位置關(guān)系改變，從而對第一光和第二光執(zhí)行循軌控制。另外，設(shè)置了光接收單元，用于接收第二光從盤狀記錄介質(zhì)反射的反射光。另外，設(shè)置了第一循軌誤差信號生成單元，用于基于從光接收單元獲得的接收信號來生成第一循軌誤差信號，該第一循軌誤差信號表示第二光的光斑相對于在盤狀記錄介質(zhì)上形成的凹坑在半徑方向上的位置誤差。另外，設(shè)置了時鐘生成單元，用于基于從光接收單元獲得的光接收信號，來生成與凹坑可形成位置的間隔相應(yīng)的時鐘。另外，設(shè)置了定時選擇信號生成單元，用于基于由所述時鐘生成單元生成的時鐘， 來生成多個定時選擇信號，每個定時選擇信號表示在盤狀記錄介質(zhì)上形成的多個凹坑列 (它們各自具有不同的凹坑列相位)中每個凹坑列處凹坑可形成位置的定時。另外，設(shè)置了第一定時選擇信號選擇單元，用于從多個定時選擇信號中選擇第一定時選擇信號。另外，設(shè)置了凹坑部循軌誤差信號值采樣單元，用于在由第一定時選擇信號選擇單元選擇的定時選擇信號所表示的定時，對由第一循軌誤差信號生成單元生成的第一循軌誤差信號的值進行采樣。另外，設(shè)置了反射鏡部循軌誤差信號值采樣單元，用于基于由時鐘生成單元生成的時鐘，在與反射鏡部相對應(yīng)的定時，對由第一循軌誤差信號生成單元生成的第一循軌誤差信號的值進行采樣，其中該反射鏡部是盤狀記錄介質(zhì)上并非凹坑可形成位置的部分。
另外，設(shè)置了第三循軌誤差信號生成單元，用于通過從由凹坑部循軌誤差信號值采樣單元采樣的凹坑部循軌誤差信號值中減去由反射鏡部循軌誤差信號值采樣單元采樣的反射鏡部循軌誤差信號值，來生成第三循軌誤差信號。另 外，設(shè)置了第三循軌伺服控制單元，用于基于由第三循軌誤差信號生成單元生成的第三循軌誤差信號，來控制循軌控制機構(gòu)以執(zhí)行對第二光的光斑的循軌伺服。根據(jù)上述的本發(fā)明的盤狀記錄介質(zhì)，如果該構(gòu)造具有“多個凹坑列相位，其中，以螺旋狀或同心狀形成凹坑列，這些凹坑列的一圈凹坑可形成位置之間的間隔受限于預(yù)定的第一間隔，在半徑方向上排列的凹坑列中，凹坑可形成位置在凹坑列形成方向上的間隔被設(shè)定到偏移了預(yù)定的第二間隔的位置”，那么即使各個凹坑列的半徑方向上的排列間隔被縮窄到使半徑方向上的凹坑形成位置重疊的地步，也可防止超過光學(xué)極限。換言之，因此， 可以按比利用傳統(tǒng)方法可實現(xiàn)的最小軌道間距(傳統(tǒng)極限的軌道間距)更窄的間距來排列各個凹坑列。從而，如果使用具有在半徑方向上按比傳統(tǒng)極限的軌道更窄的間距排列的凹坑列的盤狀記錄介質(zhì)，則可以按超越傳統(tǒng)極限的軌道寬度的精微單位來執(zhí)行光斑循軌方向上的位置控制。也就是說，當對信息記錄位置與再現(xiàn)位置之間的偏移進行校正時，可以以更高的精度來執(zhí)行對第一光照射位置的調(diào)整。另外，從以上描述我們還可以理解，根據(jù)本發(fā)明，例如，在利用第一光的照射來校正信息記錄位置與再現(xiàn)位置之間的偏移時要執(zhí)行的對第一光照射位置的調(diào)整是通過選擇作為循軌伺服的對象的凹坑列來執(zhí)行的。也就是說，根據(jù)這樣的本發(fā)明，當利用第一光的照射來校正信息記錄位置與再現(xiàn)位置之間的偏移時，不像如前所例示的那樣需要在第一光 (記錄/再現(xiàn)光)側(cè)設(shè)置單獨的調(diào)整機構(gòu)用于調(diào)整光軸位置，而可以利用為了通過第二光的照射進行位置控制而設(shè)置的現(xiàn)有循軌控制機構(gòu)來進行校正。因此，根據(jù)本發(fā)明，可以避免如上所述在設(shè)置單獨的調(diào)整機構(gòu)用于第一光的光軸位置校正的情況下發(fā)生的問題。根據(jù)如上所述的本發(fā)明，在通過對與第一光(記錄/再現(xiàn)光)分開照射的第二光 (位置控制光)執(zhí)行照射位置控制來執(zhí)行對第一光的照射位置控制的情況下，可以以高精度執(zhí)行在通過第一光的照射來校正信息記錄位置與再現(xiàn)位置之間的偏移時對第一光的照射位置的調(diào)整。由于可以以這種高精度進行調(diào)整，所以可以提高再現(xiàn)能力。另外，在通過第一光的照射來對信息記錄位置與再現(xiàn)位置之間的偏移執(zhí)行校正時，本發(fā)明不設(shè)置單獨的調(diào)整機構(gòu)用于調(diào)整第一光(記錄/再現(xiàn)光)的光軸位置，而是利用為了通過第二光的照射進行位置控制而設(shè)置的已知循軌控制機構(gòu)來執(zhí)行校正。在設(shè)置單獨的調(diào)整機構(gòu)用于光軸位置調(diào)整的情況下，為了執(zhí)行高精度校正，例如以比傳統(tǒng)的一個軌道寬度更窄的寬度執(zhí)行校正，其技術(shù)難度極大，并且調(diào)整機構(gòu)需要是具有極高精度和極高剛性的機構(gòu)，從而有其實際使用變得極為困難的問題。相反，根據(jù)本發(fā)明，可以避免這種問題， 并且可以使作為產(chǎn)品的實際使用更為容易。


圖1是作為本發(fā)明一實施例的盤狀記錄介質(zhì)的截面構(gòu)造圖。
圖2是形成在根據(jù)一實施例的盤狀記錄介質(zhì)上的位置控制信息記錄層的表面的示圖(平面圖)，其一部分被放大示出。圖3是示出在整個位置控制信息記錄層上的凹坑形成狀態(tài)的示圖。圖4是示出地址信息的格式的示圖。圖5是示出根據(jù)本發(fā)明一實施例的記錄/再現(xiàn)裝置的主要是全息圖記錄/再現(xiàn)系統(tǒng)和用于位置控制的光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)造的框圖。圖6是示出在空間光調(diào)制(SLM)中設(shè)定的各個區(qū)域的示圖。圖7是示出再現(xiàn)位置的校正(調(diào)整)方法的示圖。圖8是示意性示出伴隨著記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動在位置控制信息記錄層上移動的位置控制光的光斑的狀態(tài)，以及此時獲得的加和信號(sum signal)、加和微分信號(sum differential signal) ^P PP(Push Pull，推拉)信號的波形之間的關(guān)系的示圖。圖9是示出當生成時鐘時基于加和微分信號和加和信號生成的定時信號的示圖。圖10是示意性示出從定時信號生成的時鐘、基于時鐘生成的各個選擇器信號的波形以及在位置控制信息記錄層上形成的各個凹坑列(的一部分)之間的關(guān)系的示圖。圖11是示出根據(jù)一實施例的整體記錄再現(xiàn)裝置的內(nèi)部構(gòu)造的框圖。圖12是示出時鐘生成電路的內(nèi)部構(gòu)造的框圖。圖13是描述對于每次旋轉(zhuǎn)執(zhí)行的相位調(diào)整處理的過程的流程圖。圖14是示出反射鏡部分的檢測方法的示圖。圖15是示出根據(jù)第二實施例的記錄/再現(xiàn)裝置的內(nèi)部構(gòu)造的框圖。圖16是示出伴隨著傾斜或透鏡偏移的反射光的接收光斑位置偏移的示圖。圖17是示出根據(jù)第三實施例的循軌誤差信號的生成方法的示圖。圖18是示出根據(jù)第三實施例的記錄再現(xiàn)裝置的內(nèi)部構(gòu)造的框圖。圖19是示出根據(jù)第四實施例的記錄/再現(xiàn)裝置的內(nèi)部構(gòu)造的框圖。圖20是示出根據(jù)第五實施例的記錄/再現(xiàn)裝置的內(nèi)部構(gòu)造的框圖。圖21是示出體(bulk)記錄方法的示圖。圖22是示出(a)正型微全息圖和(b)負型微全息圖的方法的示圖。圖23是示出負型微全息圖方法的示圖。圖M是示出體型記錄介質(zhì)的截面構(gòu)造的示圖。圖25是示出在對體型記錄介質(zhì)的標記記錄時的操作的示圖。圖沈是示出用于執(zhí)行體型記錄介質(zhì)的記錄/再現(xiàn)的光學(xué)系統(tǒng)的概要的示圖。圖27是示出在體型記錄介質(zhì)的再現(xiàn)時的伺服控制的示圖。圖觀是示出根據(jù)第六實施例的記錄/再現(xiàn)裝置所設(shè)有的光學(xué)拾取器的內(nèi)部構(gòu)造的示圖。圖四是示出根據(jù)第六實施例的記錄/再現(xiàn)裝置的除光學(xué)拾取器以外的部分的內(nèi)部構(gòu)造的框圖。圖30是示出根據(jù)第七實施例的記錄/再現(xiàn)裝置的內(nèi)部構(gòu)造的框圖。圖31是示出體型記錄介質(zhì)的另一構(gòu)造示例的示圖。圖32是示出作為傳統(tǒng)示例的全息圖記錄介質(zhì)的截面構(gòu)造的示圖。圖33是示出照射到全息圖記錄介質(zhì)上的記錄/再現(xiàn)光與位置控制光之間的關(guān)系的示圖。圖34是表現(xiàn)照射到全息圖記錄介質(zhì)上的記錄/再現(xiàn)光和位置控制光的光軸偏移的示圖。
具體實施方式
下面將描述實現(xiàn)本發(fā)明的實施例(以下稱為實施例)。注意，將按以下順序來進行描述。<1.第一實施例〉[1-1.記錄介質(zhì)的構(gòu)造]截面構(gòu)造位置控制信息記錄層的構(gòu)造地址信息的格式[1-2.記錄/再現(xiàn)裝置的構(gòu)造]全息圖記錄/再現(xiàn)系統(tǒng)和用于位置控制的光學(xué)系統(tǒng)光斑位置的精微調(diào)整方法用于光斑位置控制的構(gòu)造[1-3.實施例的總結(jié)]<2.第二實施例〉[2-1.反射鏡單元處的聚焦誤差信號的采樣][2-2.記錄/再現(xiàn)裝置的構(gòu)造]<3.第三實施例〉[3-1.通過加和信號的差分生成循軌誤差信號][3-2.記錄/再現(xiàn)裝置的構(gòu)造]<4.第四實施例〉[4-1.利用反射鏡單元處的推拉信號生成循軌誤差信號][4-2.記錄/再現(xiàn)裝置的構(gòu)造]<5.第五實施例〉[5-1.利用反射鏡單元處的推拉信號進行傾斜檢測][5-2.記錄/再現(xiàn)裝置的構(gòu)造]<6.第六實施例〉[6-1.體型記錄介質(zhì)][6-2.體型記錄介質(zhì)的記錄/再現(xiàn)方法][6-3.記錄/再現(xiàn)裝置的構(gòu)造]<7.第七實施例〉<8.變形例 ><1.第一實施例>[1-1.記錄介質(zhì)的構(gòu)造]截面構(gòu)造圖1示出了作為根據(jù)本發(fā)明的盤狀記錄介質(zhì)的一實施例的全息圖記錄介質(zhì)HM的截面構(gòu)造。首先，根據(jù)本實施例的全息圖記錄介質(zhì)HM是反射型記錄介質(zhì)，并且如圖所示具有反射膜L3和反射膜L5。另外，在全息圖記錄介質(zhì)HM上分開形成了記錄層L2 (在其上執(zhí)行全息圖記錄/再現(xiàn))和位置控制信息記錄層(在其上利用圖中的基板L6上的不平坦截面構(gòu)造來執(zhí)行用于位置控制的地址信息等等的記錄)。另外，根據(jù)本實施例的全息圖記錄介質(zhì)HM是盤狀記錄介質(zhì)。如圖所示，在全息圖記錄介質(zhì)HM上，按從頂層起的順序，形成了覆蓋層Li、記錄層 L2、反射膜L3、中間層L4、反射膜L5和基板L6。覆蓋層Ll由塑料基底或玻璃板等等構(gòu)成，并且被設(shè)置用來保護記錄層L2。選擇例如光敏聚合物作為記錄層L2的材料，并且利用紫色激光(例如波長λ大約等于405nm)來執(zhí)行全息圖記錄/再現(xiàn)，該紫色激光以下文中用圖5描述的第一激光器2 作為其光源。另外，設(shè)置了反射膜L3，使得在再現(xiàn)時照射來自紫色激光器的參考光時獲得與記錄層L2上記錄的干涉圖案(數(shù)據(jù))相應(yīng)的再現(xiàn)光的情況下，其以反射光的形式返回到記錄 /再現(xiàn)裝置那側(cè)。設(shè)置了基板L6和反射膜L5用于記錄/再現(xiàn)位置控制。以螺旋狀或同心狀在基板L6上形成凹坑列，用于在記錄層L2中引導(dǎo)全息圖的記錄/再現(xiàn)位置。在此情況下，如下文所述，通過用是否形成凹坑的樣式執(zhí)行諸如地址信息之類的信息記錄來形成凹坑列。在基板L6上的形成凹坑列的面(表面)上通過例如濺射或氣相沉積等方式形成反射膜L5。形成在反射膜L5與反射膜L3之間的中間層L4例如是諸如樹脂之類的粘合材料?，F(xiàn)在，如下文中也將描述的，根據(jù)本實施例，將具有圖5中所示的第二激光器20的紅色激光(即大約λ = 650nm的波長)照射到全息圖記錄介質(zhì)HM上，并且利用這樣從反射膜L5獲得的反射光來執(zhí)行位置控制(循軌伺服控制等等)，從而通過紫色激光來執(zhí)行對全息圖記錄/再現(xiàn)位置的控制。
在此情況下，為了正確執(zhí)行位置控制，紅色激光必須到達設(shè)為用于位置控制的不平坦截面形狀的反射膜L5。也就說，紅色激光必須透過形成在反射膜L5的上層的反射膜 L3。另一方面，反射層L3必須反射紫色激光，以使得與記錄在記錄層L2上的全息圖相應(yīng)的再現(xiàn)光以反射光的形式被返回到記錄/再現(xiàn)裝置側(cè)。因此，反射膜L3使用具有波長選擇性的反射膜，用于全息圖記錄/再現(xiàn)的紫色激光透過該反射膜，并且用于位置控制的紅色激光透過該反射膜。也就是說，其具有波長選擇性，其中被識別為紫色激光的波長帶的光被反射，而除此波長帶以外的光透過。通過使用具有這種波長選擇性的反射膜L3，紅色激光正確到達反射層L5并且用于位置控制的反射光在記錄/再現(xiàn)裝置側(cè)被正確檢測到，同時記錄在記錄層L2上的全息圖的再現(xiàn)光被記錄/再現(xiàn)裝置正確檢測到。位置控制信息記錄層的構(gòu)造圖2是全息圖記錄介質(zhì)HM上的位置控制信息記錄層(在反射膜L5上反映并形成
16基板L6上的不平坦)的表面的示圖(平面圖)，其一部分被放大示出。根據(jù)本實施例的全息圖記錄介質(zhì)HM具有在位置控制信息記錄層上排列凹坑列的特征。首先，在圖2中，紙面上從左側(cè)向右側(cè)的方向是凹坑列形成方向，即軌道形成方向。如上所述用于位置控制的紅色激光的光斑伴隨著全息圖記錄介質(zhì)HM的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動從紙面的左側(cè)向右側(cè)移動。另外，與凹坑列形成方向正交的方向(紙面上的垂直方向)是全息圖記錄介質(zhì)HM 的半徑方向。另外，在圖2中，圖中用白圈示出的A至F示出了凹坑可形成位置。也就是說，在位置控制信息記錄層上，僅在凹坑可形成位置上形成凹坑，在非凹坑可形成位置處不執(zhí)行凹坑形成。 另外，圖中的各個標號A至F指示各個凹坑列(在半徑方向上排列的各個凹坑列)，并且附加到標號A至F的數(shù)字指示凹坑列上的各個凹坑可形成位置?，F(xiàn)在，圖中用粗黑線指示的間隔指示利用傳統(tǒng)的全息圖記錄介質(zhì)100可實現(xiàn)的最小軌道間距(傳統(tǒng)極限的軌道間距)。從這個我們也可以理解，利用全息圖記錄介質(zhì)HM，在傳統(tǒng)極限的一個軌道的寬度內(nèi)在半徑方向上排列了 A至F的總共6個凹坑列。然而，單純在傳統(tǒng)極限的一個軌道的寬度內(nèi)排列這多個凹坑列可能導(dǎo)致凹坑形成位置在凹坑列形成方向上重疊，即凹坑列形成方向上的凹坑間隔可能超越光學(xué)極限。從而，根據(jù)本實施例，在傳統(tǒng)極限的一個軌道的寬度內(nèi)排列的A至F的多個凹坑列之間，限定以下條件，以使得凹坑列形成方向上的凹坑之間的間隔不超越光學(xué)極限。也就是說，1)在A至F的每個凹坑列中，凹坑可形成位置的間隔被限制到預(yù)定的第一間隔。2)這樣，A至F的每個凹坑列(在這些凹坑列中，凹坑可形成位置的間隔受到限制)被排列成使得各個凹坑可形成位置在凹坑列形成方向上各自被偏移了預(yù)定的第二間隔(即每個凹坑列的相位偏移第二間隔)?，F(xiàn)在，我們假定在半徑方向上排列的A至F的凹坑列中的每個凹坑可形成位置在凹坑列形成方向上的間隔(上述的第二間隔)是η。此時，A至F的每個凹坑列被排列成滿足以上2)中的條件，從而凹坑列Α-Β、凹坑列B-C、凹坑列C-D、凹坑列D-E、凹坑列E-F和凹坑列F-A的每個凹坑可形成位置之間的間隔都成了 η，如圖所示。另外，A至F的每個凹坑列的凹坑可形成位置的間隔(上述的第一間隔)實現(xiàn)了從A至F的總共六個凹坑列相位，因此在此情況下成了 6η。根據(jù)本實施例，位置控制信息記錄層上的信息再現(xiàn)是在波長λ = 650并且數(shù)值孔徑NA = 0.65的條件下執(zhí)行的，與DVD (數(shù)字多功能盤)的情況類似。與此相對應(yīng)，在本實施例中，每個凹坑可形成位置的區(qū)間長度是相當于3Τ的區(qū)間長度，這與DVD上的最短標記相同，并且凹坑列形成方向上的A至F的每個凹坑可形成位置的邊緣之間的間隔也被設(shè)定為類似的相當于3Τ的長度。結(jié)果，滿足了以上的條件1)和2)?，F(xiàn)在，為了理解整個位置控制信息記錄層上的凹坑形成情形，將參考接下來的圖3 來描述更具體的凹坑列形成方法。
圖3示意性示出了在全息圖記錄介質(zhì)HM的位置控制信息記錄層上形成的凹坑列的一部分(相當于七列)。在圖中，黑圓指示凹坑可形成位置。參考此圖3我們可以看出，根據(jù)本實施例的全息圖記錄介質(zhì)HM中的凹坑列被形成為螺旋狀。根據(jù)本實施例，對于每一圈凹坑列，凹坑可形成位置被限定成凹坑列相位僅偏移第二間隔(“η”)的量，從而關(guān)于在半徑方向上排列的凹坑列，滿足了上述的條件1)和2)。例如，在圖3所示的示例中，在第一圈凹坑列中，凹坑可形成位置被限定成能夠獲得凹坑列F的凹坑列相位，并且在具有圖中的一圈開始位置(預(yù)定的角度位置)的第二圈的凹坑列中，凹坑可形成位置被限定成能夠獲得凹坑列E的凹坑列相位。之后類似地，在第三圈中，凹坑可形成位置被限定成能夠獲得凹坑列D的凹坑列相位，對于第四圈是凹坑列 C，對于第五圈是凹坑列B，對于第六圈是凹坑列Α，并且對于第七圈又是凹坑列F，等等，使得每圈凹坑列的凹坑可形成位置被限定成凹坑列相位偏移第二間隔η的量。地址信息的格式接下來，將利用圖4來描述位置控制信息記錄層上記錄的地址信息的格式的示例。在圖4中，首先，圖4(a)示意性示出了各自具有不同的凹坑列相位的每個凹坑列 (Α至F)的凹坑可形成位置之間的關(guān)系。注意，在圖4(a)中，凹坑可形成位置由“*”標記指示。
現(xiàn)在，如下文中將描述的，根據(jù)本實施例的記錄/再現(xiàn)裝置(記錄/再現(xiàn)裝置1) 從A至F的凹坑列中選擇一個凹坑列，并且使用循軌伺服來瞄準所選擇的一個凹坑列。然而，此時的問題在于以下這點，即A至F的每個凹坑列在半徑方向上是以超越傳統(tǒng)的光學(xué)極限的間隔排列的。也就是說，在此情況下，通過在軌道上移動(掃描)束斑而獲得的循軌誤差信號(推拉信號)，導(dǎo)致反映了 A至F所有的凹坑，從而即使基于該循軌誤差信號使用循軌伺服，也不能對一個所選的凹坑列循軌。因此，根據(jù)本實施例的記錄/再現(xiàn)裝置提取所選凹坑列中的凹坑可形成位置的區(qū)間的循軌誤差信號，并且使用基于所提取的循軌誤差信號的(所謂間歇式的)循軌伺服。類似地，在讀取地址信息的情況下，也使用一種方法，用以提取所選凹坑列中的凹坑可形成位置的區(qū)間的加和信號(下文中描述的加和信號)，以使得只讀出在所選凹坑列中記錄的信息，并且基于提取的加和信號來檢測地址信息。為了與這種信息檢測方法相對應(yīng)，根據(jù)本實施例，使用了一種格式，以通過凹坑可形成位置中是否形成了凹坑來表達通道數(shù)據(jù)的“0”“1”。也就是說，一個凹坑可形成位置應(yīng)對相當于一個通道比特的信息。此外，根據(jù)本實施例，利用這種多個通道比特的“0” “1”數(shù)據(jù)樣式來表達數(shù)據(jù)比特的一個比特。具體而言，在本示例中，如圖4(b)中所示，四個通道比特表達數(shù)據(jù)比特的“0”“1”， 并且例如四通道比特樣式“1011”表達數(shù)據(jù)比特“0”，并且四通道比特樣式“1101”表達數(shù)據(jù)比特“1”?，F(xiàn)在重要的是通道比特“0”不重復(fù)。也就是說，如果通道比特“0”重復(fù)，則這意味著，當如上所述間歇地利用循軌誤差信號來執(zhí)行伺服時，無法獲得誤差信號的時段將會持續(xù)，從而確保循軌伺服的精度相應(yīng)地變得極為困難。因此，根據(jù)本實施例，利用如上所述的數(shù)據(jù)比特定義，滿足了通道比特“0”不重復(fù)的條件。也就是說，利用這樣的數(shù)據(jù)比特定義，循軌伺服的精度降低可被抑制到最低限度。圖4(c)示出了 sync樣式的示例。
例如，如圖所示，利用12個通道比特來表達sync樣式，從而前一半的8個比特是不符合上述的數(shù)據(jù)比特定義的通道比特樣式“11111111”，并且利用后4個通道比特樣式來表達不同(類型)的sync。具體而言，如果上述8個比特之后的4個通道比特樣式是 “1011”，則類型是Sync 1，而如果是“ 1101 ”，則類型是Sync2。在根據(jù)本實施例的全息圖記錄介質(zhì)HM中，如上所述在sync之后記錄地址信息。現(xiàn)在，地址信息被至少記錄為半徑位置信息和角度位置信息。注意，確認一下，在本示例中，在傳統(tǒng)極限的一個軌道寬度內(nèi)排列A至F的若干個凹坑列，但是地址信息的記錄是如下執(zhí)行的信息按凹坑列分開，使得每個凹坑列的半徑位置被分別表達。也就是說，對于在傳統(tǒng)極限的一個軌道寬度內(nèi)排列的A至F的每個凹坑列， 不記錄相同的地址信息。[1-2.記錄/再現(xiàn)裝置的構(gòu)造]全息圖記錄/再現(xiàn)系統(tǒng)和用于位置控制的光學(xué)系統(tǒng)圖5是僅抽取示出作為記錄/再現(xiàn)裝置1的內(nèi)部構(gòu)造的主要是全息圖記錄/再現(xiàn)系統(tǒng)和用于位置控制的光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)造的示圖，其中該記錄/再現(xiàn)裝置1執(zhí)行與作為上述實施例的全息圖記錄介質(zhì)HM相對應(yīng)的信息的記錄/再現(xiàn)。首先，根據(jù)本實施例的記錄/再現(xiàn)裝置1使用所謂的同軸方法作為全息圖記錄/ 再現(xiàn)方法。也就是說，信號光和參考光被部署在相同的軸上，它們一起被照射到設(shè)定在預(yù)定位置處的全息圖記錄介質(zhì)HM上以利用干涉圖案執(zhí)行信息記錄，并且在再現(xiàn)時，對全息圖記錄介質(zhì)HM照射參考光，從而執(zhí)行對利用干涉圖案記錄的信息的再現(xiàn)。在圖5中，在記錄/再現(xiàn)裝置1中設(shè)有用于旋轉(zhuǎn)驅(qū)動全息圖記錄介質(zhì)HM的主軸電機29。當全息圖記錄介質(zhì)HM被裝載在記錄/再現(xiàn)裝置1中時，全息圖記錄介質(zhì)HM被維持在能夠被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動的狀態(tài)中。全息圖頁(hologram page)的記錄/再現(xiàn)是通過以圖中的第一激光器2作為光源的激光被照射到這樣維持的全息圖記錄介質(zhì)HM上來執(zhí)行的。第一激光器2例如是具有外部諧振器的激光二極管，并且輸出具有λ = 405nm的波長的紫色激光。以下，使用第一激光器2作為光源的激光也可被稱為記錄/再現(xiàn)激光或
第一激光。從第一激光器2發(fā)射的記錄/再現(xiàn)激光經(jīng)過隔離器3并且經(jīng)過設(shè)在IS(圖像穩(wěn)定器)功能單元4中的Α0Μ(聲光調(diào)制器)4A — AOD (聲光偏轉(zhuǎn)器)4B，之后被擴展器 (expander) 5調(diào)整成期望的光束直徑，并且經(jīng)由反射鏡6 —反射鏡7被照射到SLM(空間光調(diào)制器)8中。注意，IS功能單元4將在下文中描述。SLM 8對照射的記錄/再現(xiàn)光執(zhí)行空間光調(diào)制以生成上述的參考光和信號光。排列多個微小反射鏡的衍射型空間光調(diào)制器或者以像素為單位執(zhí)行空間光調(diào)制的裝置(例如使用液晶面板的那種)例如被選擇作為SLM 8。從而，可以生成反映記錄數(shù)據(jù)的信號光和具有預(yù)定的強度樣式的參考光。從而，在使用同軸方法作為全息圖記錄/再現(xiàn)方法的情況下，在SLM 8中設(shè)定了如接下來的圖6中所示的各個區(qū)域。如圖6中所示，在SLM 8中，在其中心部形成了圓形的信號光區(qū)域A2，并且在外圍部分，經(jīng)環(huán)狀間隙區(qū)域A3，類似地設(shè)定了環(huán)狀參考光區(qū)域Al。信號光區(qū)域A2是被設(shè)定為信號光生成區(qū)域的區(qū)域。類似地，參考光區(qū)域Al是被設(shè)定為參考光生成區(qū)域的區(qū)域。注意，間隙區(qū)域A3被設(shè)定為緩沖區(qū)域，用于防止經(jīng)由參考光區(qū)域Al和信號光區(qū)域 A2的光相互干擾并成為噪聲。返回圖5，SLM 8基于來自圖中的調(diào)制控制單元27的驅(qū)動信號DS，在記錄時生成信號光和參考光，并且在再現(xiàn)時生成參考光。調(diào)制控制單元27對于每個像素設(shè)定驅(qū)動信號值，使得SLM 8的信號光區(qū)域A2中的像素樣式(例如對于每個像素的0N/0FF樣式)變成與輸入的記錄數(shù)據(jù)相應(yīng)的樣式。另外，與此同時，對于每個像素設(shè)定驅(qū)動信號值，使得參考光區(qū)域Al中的像素樣式變成預(yù)先確定的預(yù)定樣式，并且除此以外的包括間隙區(qū)域A3在內(nèi)的區(qū)域全都是OFF。來自這樣設(shè)定的值的驅(qū)動信號DS被提供給SLM 8。從而，在記錄時，從SLM 8生成了具有與記錄數(shù)據(jù)相應(yīng)的光強度樣式的信號光和具有預(yù)定的光強度樣式的參考光。另外，在再現(xiàn)時，設(shè)定驅(qū)動信號值并且驅(qū)動SLM 8的各個像素，使得只有參考光區(qū)域Al中的像素樣式變成預(yù)先確定的預(yù)定樣式，而其他區(qū)域全都是OFF，從而只有參考光從 SLM 8輸出。在SLM 8處經(jīng)歷了空間光調(diào)制的光如圖所示被照射到偏振分束器9。偏振分束器 9使這樣從SLM 8照射來的記錄/再現(xiàn)激光透過。透過了偏振分束器9的激光在經(jīng)過由中繼透鏡(relay lens) 10 —中繼透鏡11構(gòu)成的中繼透鏡系統(tǒng)之后被照射到分色鏡(dichroic mirror) 12中。分色鏡12具有波長選擇性，并且被構(gòu)造成使得經(jīng)由中繼透鏡系統(tǒng)照射來的記錄/ 再現(xiàn)激光被透過，而使用下文中描述的第二激光器20作為光源的位置控制激光則被反射。因此，經(jīng)由中繼透鏡系統(tǒng)的記錄/再現(xiàn)激光透過分色鏡12。透過了分色鏡12的記錄/再現(xiàn)激光的光軸如圖所示被用反射鏡13彎曲90°，并且被照射到1/4波長板14中。經(jīng)1/4波長板的記錄/再現(xiàn)激光經(jīng)由物鏡15被照射到全息圖記錄介質(zhì)HM上。物鏡15被聚焦致動器16B保持成能夠在聚焦方向(與全息圖記錄介質(zhì)HM接/離的方向)上位移。另外，循軌致動器16A能夠使[物鏡15/聚焦致動器16B/1/4波長板14/ 反射鏡13]以一體的方式在循軌方向(全息圖記錄介質(zhì)HM的半徑方向)上位移。來自下文中描述的伺服電路34(參見圖11)的循軌驅(qū)動信號TD和聚焦驅(qū)動信號 FD分別被提供給循軌致動器16A和聚焦致動器16B。從而，執(zhí)行了對經(jīng)由物鏡15照射到全息圖記錄介質(zhì)HM上的光和全息圖記錄介質(zhì)HM在循軌方向上的相對位置關(guān)系的控制和對經(jīng)由物鏡15照射到全息圖記錄介質(zhì)HM上的光的聚焦控制，從而實現(xiàn)聚焦/循軌的各種伺服操作和諸如軌道跳躍之類的操作。注意，雖然為了圖示方便而省略了，但實際上還設(shè)置了滑動機構(gòu)，用于改變包括物鏡15的圖中的光學(xué)拾取器OPl和全息圖記錄介質(zhì)HM的循軌方向上的位置關(guān)系。
現(xiàn)在，依據(jù)如上所述由SLM 8進行的記錄時的空間光調(diào)制，基于以第一激光器2作為其光源的記錄/再現(xiàn)光來生成信號光和參考光。也就是說，在記錄時，對全息圖記錄介質(zhì) HM照射信號光和參考光，并且相應(yīng)地，通過信號光和參考光的干涉圖案(全息圖)將數(shù)據(jù)記錄在全息圖記錄介質(zhì)HM(記錄層L2)上。另外，在再現(xiàn)時，SLM 8只生成參考光，并且通過如上所述的光路徑對全息圖記錄介質(zhì)HM照射該參考光。從而，通過對全息圖記錄介質(zhì)HM照射參考光，根據(jù)干涉圖案獲得衍射光(再現(xiàn)圖像)。這樣獲得的再現(xiàn)圖像以來自形成在全息圖記錄介質(zhì)HM上的反射膜L3 的反射光的形式被返回到裝置側(cè)。在經(jīng)由物鏡1 5被變成平行光后，這里返回的光傳播經(jīng)過1/4波長板14 —反射鏡 13，并且進一步經(jīng)過分色鏡12 —中繼透鏡11 —中繼透鏡10，在此其被照射到偏振分束器9中?，F(xiàn)在，這樣照射到偏振分束器9中的來自全息圖記錄介質(zhì)HM的返回光通過與1/4 波長板14和形成在全息圖記錄介質(zhì)HM上的反射膜(L3)的作用，變成了線性偏振光，其偏振方向與在去路上透過了偏振分束器9的線性偏振光正交。從而，來自全息圖記錄介質(zhì)HM 的返回光被偏振分束器9反射。被偏振分束器9反射的返回光如圖所示經(jīng)過由中繼透鏡17 —中繼透鏡18構(gòu)成的中繼透鏡系統(tǒng)被照射到圖像傳感器19中。圖像傳感器19例如是CXD (電荷耦合器件)傳感器或CMOS (互補金屬氧化物半導(dǎo)體)傳感器等等，并且接收如上所述照射的來自全息圖記錄介質(zhì)HM的返回光(再現(xiàn)圖像) 并且將其轉(zhuǎn)換成電信號以獲得圖像信號。這樣獲得的圖像信號反映了在記錄時對信號光設(shè)置的光強度樣式(即“0”“1”樣式)。也就是說，利用圖像傳感器19這樣檢測到的圖像信號成為了對全息圖記錄介質(zhì)HM記錄的數(shù)據(jù)的讀出信號。注意，利用圖像傳感器19獲得的讀出信號(圖像信號)被稱為讀出信號D-img。數(shù)據(jù)再現(xiàn)單元28輸入利用圖像傳感器19獲得的讀出信號D-img并且執(zhí)行預(yù)定的信號處理(解碼處理)，從而執(zhí)行對來自兩個值“0”和“1”的組合的記錄數(shù)據(jù)的再現(xiàn)。注意，在再現(xiàn)這種具有“0”和“1”的記錄數(shù)據(jù)時，對于圖像傳感器19的讀出信號 D-img，執(zhí)行用于執(zhí)行SLM 8的以數(shù)據(jù)像素為單位的“0”“1”數(shù)據(jù)識別的信號處理。這樣， 有各種類型的技術(shù)用于從圖像傳感器19的輸出生成“0”和“1”的記錄數(shù)據(jù)，并且這里對其不應(yīng)有特別限定?，F(xiàn)在，基于上述的全息圖的記錄/再現(xiàn)方法，將描述以上提及的IS功能單元4。在像本實施例的情況中那樣旋轉(zhuǎn)驅(qū)動全息圖記錄介質(zhì)HM以執(zhí)行全息圖的記錄/ 再現(xiàn)的情況下，為了對記錄介質(zhì)的同一位置連續(xù)照射記錄/再現(xiàn)激光達預(yù)定的時間，按固定間隔周期性地掃描記錄/再現(xiàn)激光。也就是說，通過執(zhí)行激光的掃描，例如在記錄時可以更準確地形成干涉圖案，并且在再現(xiàn)時可以增大檢測到的光量，從而可以執(zhí)行更準確的讀出。這樣按固定間隔周期性執(zhí)行掃描、其中對記錄介質(zhì)上的同一位置照射記錄/再現(xiàn)激光僅達預(yù)定量的時間的功能被稱為IS(圖像穩(wěn)定)功能。在圖5中，IS功能單元4設(shè)有AOM 4A和AOD 4B以及用于對它們進行驅(qū)動控制的 IS控制單元4C。AOM 4A由如下的裝置(聲光介質(zhì))構(gòu)成該裝置例如被大約一百幾十MHz的高頻信號驅(qū)動并且透過率根據(jù)該高頻信號的幅度變化而變化。也就是說，通過這種透過率變化實現(xiàn)了遮光器功能。另外，AOD 4B被與AOM 4A類似的高頻信號驅(qū)動，但是用如下聲光介質(zhì)構(gòu)成的該聲光介質(zhì)被構(gòu)造為根據(jù)該高頻信號的頻率變化來改變光的偏振角度。AOD 4B通過對偏振角度的這種控制來掃描所照射的激光。現(xiàn)在，為了作為IS功能在順次的各位置上照射激光達固定量的時間，對于將激光光斑從一定位置移動到下一位置的時段，消隱時段成為了必要。在消隱時段期間，如果繼續(xù)照射激光，則不止是少量的記錄材料將會反應(yīng)，從而尤其是在記錄時，殘像將會伴隨著激光光斑的移動而附加到記錄的全息圖(衍射光柵)，并且成為噪聲的原因。因此，為了實現(xiàn)IS功能，除了掃描激光的裝置(AOD 4B)以外，還必須有用于在消隱時段期間大大降低激光的透過率以防止記錄材料的反應(yīng)的遮光器(AOM 4A)。在IS功能單元4中，IS控制單元4C執(zhí)行對AOM 4A和AOD 4B的驅(qū)動控制，以提供激光的偏振角度和透過率的變化，以便實現(xiàn)上述的圖像穩(wěn)定功能。具體而言，向AOD 4B提供具有鋸齒狀波形的驅(qū)動信號，以獲得如上所述按固定間隔的周期性掃描操作，并且另一方面，向AOM 4A提供具有矩形波形的驅(qū)動信號，使得激光在掃描時段期間透過，而在掃描時段之間的消隱時段期間則被阻擋。以這種方式實現(xiàn)了 IS功能。注意，如圖所示，取代AOM 4A，可以使用機械遮光器。接下來，將描述用于執(zhí)行對記錄/再現(xiàn)激光的記錄/再現(xiàn)位置的控制的光學(xué)系統(tǒng)。在圖5中，用于這種位置控制的光學(xué)系統(tǒng)由第二激光器20、透鏡21、準直透鏡22、 偏振分束器23、會聚透鏡M、柱面透鏡25和光電檢測器沈構(gòu)成。第二激光器20被構(gòu)造為輸出具有與以第一激光器2作為其光源的記錄/再現(xiàn)激光不同的波長的激光。具體而言，在此情況下，構(gòu)造成輸出具有大約650nm的波長的紅色激光，與DVD等類似。從第二激光器20發(fā)射的光在經(jīng)由透鏡21 —準直透鏡22、透過了偏振分束器23之后，被照射到分色鏡12中。如上所述，分色鏡12被構(gòu)造成使得來自第二激光器20的位置控制激光被反射。被分色鏡12反射的位置控制激光經(jīng)由反射鏡13 — 1/4波長板14 —物鏡15被照射到全息圖記錄介質(zhì)HM上，與上述的記錄/再現(xiàn)激光的情況類似。注意，從這里的描述我們可以理解，分色鏡12是這樣一個裝置其被設(shè)置來使得記錄/再現(xiàn)激光和位置控制激光被合成在同一光軸上并且對全息圖記錄介質(zhì)HM照射。如上對全息圖記錄介質(zhì)HM照射的位置控制激光由于上述的反射膜L3具有波長選擇性而到達設(shè)在其下層的反射膜L5(位置控制信息記錄層)。也就是說，獲得了反映在位置控制信息記錄層處形成的凹坑列的反射光。來自反射膜L5的反射光(返回光)經(jīng)由物鏡 15被返回到裝置側(cè)。經(jīng)由物鏡15的位置控制激光的返回光經(jīng)由1/4波長板14 —反射鏡13被照射到分色鏡12中。在分色鏡12處，位置控制激光的返回光被反射，并且其反射光被照射到偏振分束器23中。與以上的偏振分束器9的情況類似，利用偏振分束器23，這樣照射的返回光被反射。結(jié)果，經(jīng)由會聚透鏡M —柱面透鏡25對光電檢測器沈照射位置控制激光的返回光。
光電檢測器26接收如上所述照射的位置控制激光的返回光，并且獲得與形成在全息圖記錄介質(zhì)HM的位置控制信息記錄層上的凹坑列相應(yīng)的接收光信號D-pd。
從而，基于利用光電檢測器26獲得的位置控制激光的接收光(反射光信號)D-pd， 作為以下將描述的實施例，可以執(zhí)行光斑位置的微調(diào)整控制、地址信息檢測等等。注意，下文中將再次描述用于實現(xiàn)根據(jù)實施例的光斑位置的微調(diào)整控制和地址信息檢測的具體構(gòu)造。光斑位置的微調(diào)整方法基于以上對記錄/再現(xiàn)裝置1的構(gòu)造的描述，將描述作為實施例的光斑位置的微調(diào)整方法。如參考圖34所述，在使用與全息圖記錄/再現(xiàn)光分開的光來執(zhí)行對全息圖記錄/ 再現(xiàn)位置的控制的情況下，例如作為時間性變化或溫度變化的結(jié)果，可能發(fā)生兩個光軸的偏移。在發(fā)生這種光軸偏移的情況下，即使位置控制激光的反射光被用于循軌伺服等的位置控制 ，也會發(fā)生全息圖記錄/再現(xiàn)位置無法被控制到沿著凹坑列的正確位置的問題。也就是說，因為這一點，在全息圖記錄再現(xiàn)系統(tǒng)中，在再現(xiàn)時可能不能準確地跟蹤記錄全息圖列，并且可能不會適當?shù)卦佻F(xiàn)全息圖?；蛘?，在對在另一裝置上執(zhí)行記錄的盤執(zhí)行再現(xiàn)的情況下，也可發(fā)生由這種雙軸偏移導(dǎo)致的全息圖記錄位置與再現(xiàn)位置之間的偏移的問題。例如，在另一裝置處的全息圖位置控制光與記錄/再現(xiàn)光之間的光軸偏移量是α，并且本裝置處的位置控制光與記錄再現(xiàn)光之間的光軸偏移量是β的情況下，則在當前裝置上無法適當?shù)卦佻F(xiàn)利用該另一裝置記錄的全息圖。因此，在全息圖記錄/再現(xiàn)系統(tǒng)中，必須提供某種手段來校正全息圖記錄位置與再現(xiàn)位置之間的這種偏移。然而，要注意的一點是，在再現(xiàn)全息圖時，即使對記錄的全息圖的記錄/再現(xiàn)光 (參考光)的照射位置偏移是微小的，這也會導(dǎo)致衍射效果的減小(即再現(xiàn)光量的減小)。 因此，為了對全息圖記錄位置執(zhí)行再現(xiàn)位置校正，需要極高精度的調(diào)整。具體而言，此時的調(diào)整精度必須是亞微米程度的精度。為了解決這一點，本實施例提出了在執(zhí)行這種全息圖記錄位置與再現(xiàn)位置之間的偏移的校正的情況中適宜的光斑位置的微調(diào)整方法。首先，將參考圖7來描述用于校正全息圖記錄位置與再現(xiàn)位置之間的偏移的具體方法。圖7 (a)示意性示出了全息圖記錄位置與再現(xiàn)位置之間的偏移。首先，在如上所述在全息圖記錄位置與再現(xiàn)位置之間發(fā)生光軸偏移的情況下，即使利用在記錄時存在的凹坑列(地址)作為對象來執(zhí)行全息圖記錄，實際記錄的全息圖列 (全息圖記錄位置)也未形成在上述的對象凹坑列上(圖34中的狀態(tài))。此時，如果再現(xiàn)時兩個光軸的偏移量與記錄時相同，則沒有問題，但再現(xiàn)時光軸位置偏移量不一定與記錄時的偏移量相同(由于溫度變化或裝置的差別)。因此，如圖7(a)中所示，即使在再現(xiàn)時跟蹤作為對象的凹坑列，在實際全息圖記錄位置與再現(xiàn)位置之間也可發(fā)生偏移，從而無法執(zhí)行適當?shù)脑佻F(xiàn)。從而，在利用某種方法檢測實際記錄位置與再現(xiàn)位置之間的偏移量的同時，利用這里的偏移量作為目標校正量，將伺服位置偏置這里的校正量，如圖7(b)中所示。也就是說，作為基于位置控制光執(zhí)行的循軌伺服的對象的凹坑列被改變成位置與記錄對象凹坑列 (再現(xiàn)對象凹坑列)分離與該校正量相應(yīng)的量的凹坑列，從而其結(jié)果是記錄/再現(xiàn)光的照射位置被放置在實際記錄/再現(xiàn)位置以執(zhí)行校正。 此時，在根據(jù)上述實施例的全息圖記錄介質(zhì)HM中，凹坑列是以比傳統(tǒng)極限的一軌道寬度窄的間隔排列的。因此，來自如上所述的伺服位置的偏置的調(diào)整寬度是極微小的。也就是說，可以進行超越傳統(tǒng)光學(xué)極限的高精度校正?，F(xiàn)在，在根據(jù)本實施例的全息圖記錄介質(zhì)HM中，凹坑列半徑方向上的間距窄于傳統(tǒng)極限的軌道間距，從而，如果沿著一個凹坑列執(zhí)行全息圖記錄，則全息圖記錄間距變得過窄，并且無法執(zhí)行正確的記錄/再現(xiàn)。因此，對根據(jù)本實施例的全息圖記錄介質(zhì)HM的全息圖記錄不是通過跟蹤一個凹坑列來執(zhí)行的，而是被執(zhí)行來獲得適當?shù)陌霃椒较蜷g距。例如，在適當形成的全息圖半徑方向上的間距等于10個凹坑列的情況下，可以利用在完成了一圈凹坑列的記錄之后跳過接下來的10列的方法來執(zhí)行全息圖記錄。也就是說，記錄一圈的某個凹坑列一跳過10個凹坑列一記錄跳過后的一圈凹坑列一跳過10個凹坑列一記錄跳過后的一圈凹坑列...被重復(fù)，從而以接近同心記錄的形式執(zhí)行全息圖記錄。不管怎樣，在使用根據(jù)本實施例的全息圖記錄介質(zhì)HM的情況下，如果執(zhí)行沿著一個凹坑列的記錄，則全息圖半徑方向間距變得過窄，從而以半徑方向上的全息圖形成間距作為適當間距來執(zhí)行全息圖記錄。因此，從這個我們可以理解，在根據(jù)本實施例的全息圖記錄介質(zhì)HM中，在位置控制信息記錄層上形成的凹坑列的形成間距與記錄全息圖的軌道的間距相比變得相當?shù)谜，F(xiàn)在，實現(xiàn)上述校正方法所需的目標校正量可以例如通過在再現(xiàn)前執(zhí)行校準來獲得。具體而言，如果以用于再現(xiàn)的凹坑列(用于記錄的凹坑列)為基準，獲得附近凹坑列中具有最大再現(xiàn)光量的凹坑列，則到這個凹坑列的凹坑列數(shù)目成為了目標校正量。注意，本實施例僅提出了用于如上所述執(zhí)行再現(xiàn)位置的校正的微調(diào)整方法，而沒有提出再現(xiàn)位置校正方法本身。也就是說，本實施例提出了實現(xiàn)這種再現(xiàn)位置校正所必需的再現(xiàn)位置微調(diào)整方法。因此，在本實施例中，可以使用任何方法作為獲得目標校正量的方法，而不應(yīng)限于上述的方法?；谝陨厦枋?，將參考圖8至圖10來描述用于實現(xiàn)如上所述的再現(xiàn)位置的微調(diào)整的具體方法。圖8示意性示出了伴隨著全息圖記錄介質(zhì)HM的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動而在位置控制信息記錄層上移動的位置控制光斑的狀態(tài)，以及加和信號、加和微分信號和PP (推拉)信號波形的關(guān)系。加和信號是利用作為圖5中所示的光電檢測器26的多個光接收器件獲得的記錄光信號D-pd的加和信號，并且加和微分信號是通過對該加和信號取微分而獲得的信號。PP 信號是循軌誤差信號，其中從光電檢測器26的光接收信號計算對凹坑的光斑位置的循軌方向上的位置偏移量。現(xiàn)在，為了易于描述，在此圖中，在圖中的所有凹坑可形成位置中形成凹坑。
如圖所示，當位置控制光的束斑根據(jù)全息圖記錄介質(zhì)HM的旋轉(zhuǎn)而移動時，加和信號的信號電平以與各個凹坑A至F的凹坑列形成方向的排列間隔相對應(yīng)的周期達到峰值。 也就是說，加和信號示出了各個凹坑A至F的凹坑列形成方向上的間隔(形成周期)。在此圖中的示例中，光斑沿著凹坑列A移動，從而加和信號的峰值當在凹坑形成方向上經(jīng)過凹坑A形成位置時變成最大，并且峰值傾向于伴隨著凹坑B至凹坑D的各個形成位置而逐漸減小。然后，峰值按凹坑E形成位置一凹坑F形成位置的順序變成上升傾向， 并且峰值在再次到達凹坑A形成位置時為最大。也就是說，在凹坑列形成方向上的凹坑E 和F的形成位置處，在外側(cè)鄰接的凹坑列E和F處受到凹坑的影響，從而加和信號的峰值按凹坑E和F的形成位置的順序增大。另外，通過對加和信號進行微分而獲得的加和微分信號和作為循軌誤差信號的PP 信號分別獲得如圖所示的波形。加和微分信號被用于如下所述生成與各個凹坑列A至F的凹坑形成位置(更確切地說是凹坑可形成位置)的凹坑列形成方向上的間隔相應(yīng)的時鐘CLK。圖9是描述在生成時鐘CLK時基于加和微分信號和加和信號生成的定時信號的示圖。根據(jù)本實施例，時鐘CLK生成一信號，其中與每個凹坑的中心位置(峰位置)相當?shù)奈恢?定時)是脈沖位置(定時)。具體而言，生成一信號，其中以圖8所示的預(yù)定閾值 Thl切削加和信號，并且生成一信號，其中類似地以預(yù)定閾值Th2切削加和微分信號，并且通過取其AND來生成具有與峰位置相當?shù)拿}沖定時的定時信號。圖10示意性示出從利用上述過程生成的定時信號生成的時鐘CLK和基于時鐘CLK 生成的各個選擇器信號的波形，和在全息圖記錄介質(zhì)HM的位置控制信息記錄層上形成的各個凹坑列(的一部分)之間的關(guān)系。如圖所示，時鐘CLK是在與每個凹坑的峰位置(凹坑可形成位置)相對應(yīng)的定時上升的信號，并且各個脈沖位置之間的中間點成為了基線位置。這種時鐘CLK是通過執(zhí)行PLL (鎖相環(huán))來生成的，其中如上所述生成的定時信號是輸入信號(基準信號)。另外，根據(jù)本實施例，從具有與凹坑A至F的形成間隔相應(yīng)的周期的時鐘CLK，生成指示A至F中每一個的凹坑可形成位置的定時的六類選擇器信號。具體而言，這些選擇器信號是通過對時鐘CLK進行1/6分頻來生成的，并且其每個相位偏移1/6周期。換言之，每個選擇器信號的脈沖信號偏移1/6周期，并且是通過在每個定時對時鐘CLK進行1/6分頻來生成的。這些選擇器信號各自作為指示與A至F相對應(yīng)的凹坑列的凹坑可形成位置的定時的信號。根據(jù)本實施例，在生成這些選擇器信號時，選擇任選的選擇器信號，并且根據(jù)所選的選擇器信號所示的時段內(nèi)的PP信號來執(zhí)行循軌伺服控制，從而在凹坑列A至F之中的任選凹坑列上跟蹤位置控制光的束斑。也就是說，通過這樣做，可以在A至F的任選凹坑列上跟蹤位置控制光的束斑位置。從而，可以用凹坑列A至F之中的任選凹坑列作為對象來執(zhí)行循軌伺服控制，從而可以按凹坑列A至F的間隔執(zhí)行在再現(xiàn)位置偏移校正時要執(zhí)行的對位置控制光的調(diào)整。也就是說，這樣可以按比傳統(tǒng)的一個軌道寬度更窄的間隔來微調(diào)整全息圖再現(xiàn)位置。
用于光斑位置控制的構(gòu)造圖11示出了用于實現(xiàn)根據(jù)上述實施例的微調(diào)整方法的根據(jù)實施例的整個記錄/ 再現(xiàn)裝置1的內(nèi)部構(gòu)造。注意， 在圖11中，光學(xué)拾取器0P1、調(diào)制控制單元27、數(shù)據(jù)再現(xiàn)單元28和主軸電機 29已經(jīng)利用圖5來描述過，因此將省略重復(fù)描述。在圖11中，在矩陣電路30中輸入利用圖5中描述的光學(xué)拾取器OPl內(nèi)的光電檢測器26獲得的光接收信號D-pd?；诠饨邮招盘朌-pd，矩陣電路30生成作為上述加和信號的加和信號、作為循軌誤差信號的PP信號和聚焦誤差信號FE (基于象散法)。由矩陣電路30生成的PP信號被提供給采樣保持電路SH1。另外，加和信號被提供給時鐘生成電路31，并且還被提供給地址檢測電路33。另外，聚焦誤差信號FE被提供給伺服電路34。時鐘生成電路31根據(jù)上述過程生成時鐘CLK。圖12示出了時鐘生成電路31的內(nèi)部構(gòu)造。如圖12中所示，時鐘生成電路31設(shè)有切削電路40、加和微分電路41、切削電路42、與門電路43以及PLL電路44。 如圖所示，來自矩陣電路30的加和信號被提供給切削電路40和加和微分電路41。 切削電路40基于設(shè)定的閾值Thl來切削加和信號，并且將其結(jié)果輸出到與門電路43。加和微分電路41對上述加和信號進行微分并且生成上述的加和微分信號。切削電路42基于設(shè)定的閾值Th2來切削由加和微分電路41生成的加和微分信號，并將其結(jié)果輸出到與門電路43。與門電路43取切削電路42的輸出和切削電路42的輸出的AND，并且生成上述的
定時信號。PLL電路44利用以與門電路43獲得的定時信號為輸入信號來執(zhí)行PLL處理，并且生成上述的時鐘CLK。返回圖11，由時鐘生成電路31生成的時鐘CLK被提供給選擇器信號生成/選擇電路32 ο基于時鐘CLK，選擇器信號生成/選擇電路32生成表達凹坑列A至F中每一個的凹坑可形成位置的定時的六類選擇器信號，并且從所生成的六類選擇器信號中選擇由下文中描述的控制單元35指定的一個選擇器信號。具體而言，選擇器信號生成/選擇電路32生成作為時鐘CLK被1/6分頻的信號的、 相位偏移了 1/6周期的信號，從而獲得六類選擇器信號。選擇器信號生成/選擇電路32選擇并輸出具有由控制單元35提供的選擇器信號SLCT指定的相位的選擇器信號。從而，由選擇器信號生成/選擇電路32選擇/輸出的選擇器信號被提供給采樣保持電路SHl和地址檢測電路33中的每一個?，F(xiàn)在，選擇器信號生成/選擇電路32還基于由控制單元35提供的調(diào)整信號ADJ 來執(zhí)行調(diào)整所選擇的選擇器信號的相位的處理，但這將在下文中描述。采樣保持電路SHl具有A/D轉(zhuǎn)換器，并且在選擇器信號的前沿對從矩陣電路30提供來的PP信號進行采樣-保持。 從而，根據(jù)選擇器信號經(jīng)歷了由采樣保持電路SHl進行的采樣保持的PP信號被記為循軌誤差TE，如圖所示。伺服電路34通過基于由上述采樣保持處理獲得的循軌誤差信號TE執(zhí)行伺服計算來生成循軌伺服信號，并且對光學(xué)拾取器OPl中的循軌致動器16A提供基于循軌伺服信號生成的循軌驅(qū)動信號TD?；谶@種循軌驅(qū)動信號TD，循軌致動器16A受到驅(qū)動控制，從而在各個凹坑列A至 F之中的一個凹坑列上跟蹤以第二激光器20作為光源的位置控制激光的光斑位置。另外，伺服電路34根據(jù)來自控制單元35的跳躍命令(凹坑跳躍命令)關(guān)閉循軌伺服環(huán)，并且輸出作為循軌驅(qū)動信號TD的跳躍脈沖，從而執(zhí)行凹坑列之間的跳躍操作。另外，伺服電路34基于從矩陣電路30提供來的聚焦誤差信號FE執(zhí)行伺服計算以生成聚焦伺服信號，并將與之相對應(yīng)的聚焦驅(qū)動信號FD提供給光學(xué)拾取器OPl中的聚焦致動器16B，從而執(zhí)行聚焦伺服控制。注意，雖然在圖中省略了，但如上所述實際上設(shè)有用于在循軌方向上移動整個光學(xué)拾取器OPl的滑動機構(gòu)，并且與之相對應(yīng)的，伺服電路34基于根據(jù)循軌誤差信號TE生成的滑動誤差信號和來自控制單元35的搜尋操作控制等等，使滑動機構(gòu)經(jīng)歷驅(qū)動控制，并在循軌方向上移動整個光學(xué)拾取器OPl。地址檢測電路33基于根據(jù)從選擇器信號生成/選擇電路32提供的選擇器信號所示出的定時識別從矩陣電路30提供的加和信號的H/L的結(jié)果，來執(zhí)行對利用凹坑列記錄的地址信息的檢測。如參考圖4所述，在本實施例的情況下，各個凹坑列的地址信息被記錄為關(guān)于在該凹坑列中的凹坑可形成位置處是否形成凹坑的一個通道比特的信息。因此，地址檢測電路33在選擇器信號的脈沖定時識別加和信號的H/L，從而執(zhí)行對一個通道比特的“0” “1” 的數(shù)據(jù)識別，并且基于其結(jié)果，根據(jù)圖4中描述的格式執(zhí)行地址譯碼處理，并且執(zhí)行對所記錄的地址信息的檢測(再現(xiàn))。利用地址檢測電路33檢測到的地址信息被提供給控制單元35?？刂茊卧?5由CPU(中央處理單元)、R0M(只讀存儲器)、RAM(隨機訪問存儲器) 等等構(gòu)成，并且例如基于存儲在ROM等等中的程序執(zhí)行各種計算處理和控制處理，從而執(zhí)行對記錄/再現(xiàn)裝置1的整體控制。 例如，控制單元35對上述選擇器信號生成/選擇電路32和伺服電路34執(zhí)行控制， 從而執(zhí)行對全息圖記錄/再現(xiàn)位置的控制。具體而言，在全息圖記錄時，執(zhí)行記錄控制處理以如上所述將半徑方向上的全息圖形成間距設(shè)定成適當間距。具體而言，執(zhí)行控制以例如重復(fù)如先前所例示的記錄一圈的某個凹坑列一跳過10個凹坑列一記錄跳過后的一圈凹坑列一跳過10個凹坑列一記錄跳過后的一圈凹坑列。另外，當?shù)竭_要執(zhí)行對記錄在全息圖記錄介質(zhì)HM上的某個數(shù)據(jù)的再現(xiàn)的狀態(tài)時， 首先，指定目標地址并且執(zhí)行搜尋操作控制?，F(xiàn)在，此時設(shè)定的“目標地址”是反映在預(yù)先執(zhí)行的校準中獲得的“目標校正量”的地址。也就是說，用于再現(xiàn)的地址(即其中記錄了數(shù)據(jù)的地址)可能是從實際記錄位置偏移開的，如圖7(a)中所示，因此如下地址被設(shè)定為“目標地址”:該地址相對于要再現(xiàn)的地址偏置了預(yù)先通過校準獲得的目標校正量。通過執(zhí)行到這樣設(shè)定的“目標地址”的搜尋操作控制，可以校正實際記錄位置與再現(xiàn)位置之間的偏移。在執(zhí)行這種“目標地址”設(shè)定時，此情況下的搜尋操作控制例如大致是按以下順序執(zhí)行的。

1)通過移動整個光學(xué)拾取器OPl來移動到目標地址附近2)開啟聚焦伺服3)基于加和信號生成時鐘CLK和每個選擇器信號4)基于任選的選擇器信號，以任選凹坑列為對象進行循軌伺服控制，5)可從以上4)中的循軌伺服讀取地址(半徑位置和各個凹坑列A至F)，因此執(zhí)行從該地址到“目標地址”的凹坑列跳躍?？刂茊卧?5對伺服電路34執(zhí)行指示，以使得以上1)和2)中的操作被執(zhí)行。另夕卜，控制單元35向選擇器信號生成/選擇電路32提供用于指示按預(yù)定相位選擇選擇器信號的選擇信號SLCT，以便選擇以上4)中的任選選擇器信號。另外，為了實現(xiàn)以上5)中的操作，控制單元35輸入根據(jù)使用以上4)中的循軌伺服而由地址檢測電路33檢測到的地址信息，并且基于該地址信息，計算到“目標地址”需要跳躍的凹坑列的數(shù)目，對伺服電路34執(zhí)行指示以執(zhí)行此數(shù)目的跳躍列的凹坑列跳躍操作。注意，明確一下，在本實施例的情況下，使用循軌伺服需要對選擇器信號的選擇。 也就是說，如以上4)中那樣，當使用用于讀出移動目的地的地址信息的循軌伺服時，選擇任選的選擇器信號并且選擇任選的凹坑列這一點是傳統(tǒng)上沒有的獨特構(gòu)造。另外，在本實施例的情況下，全息圖記錄不是沿著一個凹坑列執(zhí)行的，而是如上所述被執(zhí)行成實現(xiàn)適當?shù)拈g距。也就是說，與之相對應(yīng)，控制單元35在如上所述執(zhí)行到目標地址的搜尋操作控制時，執(zhí)行控制以使得光斑位置移動以與記錄時類似的方法來執(zhí)行。具體而言，在采取如上所述每次在一周期的記錄完成時執(zhí)行凹坑列跳躍的記錄方法的情況下，控制單元35對伺服電路34執(zhí)行控制，以使得每次在一周期的再現(xiàn)完成時執(zhí)行預(yù)定列數(shù)的凹坑列跳躍，并且對選擇器信號生成選擇電路32執(zhí)行選擇器信號的選擇指示。另外，控制單元35在循軌伺服處于ON狀態(tài)中時還執(zhí)行控制處理，以對于每個軌道周期調(diào)整選擇器信號的相位。這里，從圖4中的描述我們可以理解，在根據(jù)本實施例的全息圖記錄介質(zhì)HM中，凹坑列相位在凹坑列的每個周期中是不同的。也就是說，因此，在凹坑列周期結(jié)束的位置(即下一周期的開始位置)之后，在每個選擇器信號的相位中發(fā)生偏移。因此，在本實施例中，執(zhí)行處理以對于每個周期調(diào)整選擇器信號的相位偏移。具體而言，在每個周期，控制單元35基于預(yù)先確定的每個周期的相位調(diào)整量信息，利用圖中的調(diào)整信號ADJ對選擇器信號生成/選擇電路32指示適用的相位調(diào)整量。選擇器信號生成/選擇電路32按照由調(diào)整信號ADJ指示的相位調(diào)整量的量來調(diào)整選擇器信號的相位。從而，每個周期在選擇器信號中發(fā)生的相位偏移可被校正。確認一下，將利用圖13中的流程圖來描述控制單元35執(zhí)行的對每個周期的相位調(diào)整控制處理的過程。首先，在圖中的步驟SlOl和步驟S102中的處理中，直到滿足到達一個周期結(jié)束位置或者再現(xiàn)結(jié)束的條件為止。
此時，如上所述，根據(jù)本實施例，預(yù)定的角度位置被設(shè)定到周期的開始位置，從而步驟SlOl中的關(guān)于是否到達周期結(jié)束位置的判定可基于利用地址檢測電路33檢測的地址信息來執(zhí)行。在步驟SlOl中，在獲得已經(jīng)到達周期結(jié)束位置的肯定結(jié)果的情況下，流程前進到步驟S103，并且在執(zhí)行根據(jù)當前半徑信息輸出指示相位調(diào)整量的調(diào)整信號ADJ的處理后， 流程返回到步驟SlOl。也就是說，作為上述的“對于每個周期預(yù)先確定的相位調(diào)整量信息”，在此情況下， 使用表格信息，其中每個凹坑列(半徑位置)和與之相對應(yīng)的相位調(diào)整量信息相關(guān)聯(lián)，并且在步驟S103中，基于該表格信息，獲得與當前半徑位置相應(yīng)的相位調(diào)整量的信息，并且通過調(diào)整信號ADJ將其指示給選擇器信號生成/選擇電路32。另外，在步驟S102中，在獲得已完成再現(xiàn)的肯定結(jié)果的情況下，圖13中所示的處
理操作結(jié)束。注意，在以上描述中，要預(yù)先定義每個周期的相位調(diào)整量，但是例如在每個周期的相位調(diào)整量有規(guī)則性的情況下，例如可以對每個相位計算并獲得相位調(diào)整量。[1-3.對實施例的總結(jié)]如上所述，根據(jù)本實施例，使用了全息圖記錄介質(zhì)HM，其具有在傳統(tǒng)極限的一個軌道寬度內(nèi)排列的多個凹坑列。此外，使用了一種方法，其中，在記錄再現(xiàn)裝置1側(cè)，生成示出各自具有不同相位的每個凹坑列處的凹坑可形成位置的定時的選擇器信號，從中選擇與被使用循軌伺服的凹坑列相應(yīng)的選擇器信號，并且基于由所選擇的選擇器信號示出的時段內(nèi)的循軌誤差信號來使用循軌伺服。從而，可以按比傳統(tǒng)極限的一個軌道寬度窄(即超越光學(xué)極限)的間距來調(diào)整全息圖再現(xiàn)位置。換言之，可以按超越傳統(tǒng)光學(xué)極限的精微間隔微調(diào)整全息圖再現(xiàn)位置，并且可以提供一種在執(zhí)行要求極高精度的調(diào)整(例如以亞微米為單位)的全息圖記錄/再現(xiàn)位置之間的校正的情況下適宜的微調(diào)整方法。另外，根據(jù)本實施例，對全息圖再現(xiàn)位置的調(diào)整是通過使位置控制激光的光斑位置相對于記錄時作為對象的凹坑列有所偏置來執(zhí)行的。也就是說，此情況下的調(diào)整是利用被設(shè)置來控制位置控制激光的照射位置的當前循軌控制機構(gòu)(循軌致動器16A)來執(zhí)行的。通過使用這種調(diào)整方法，在調(diào)整全息圖再現(xiàn)位置時，則不必添加單獨的構(gòu)造，例如設(shè)置用于調(diào)整記錄/再現(xiàn)激光側(cè)的光軸位置的致動器。如上所述，在設(shè)置單獨的調(diào)整機構(gòu)用于這種光軸位置調(diào)整的情況下，為了執(zhí)行例如超越傳統(tǒng)的光學(xué)極限的高精度校正，其技術(shù)難度變得極高，并且調(diào)整機構(gòu)也需要極高精度/剛性的機構(gòu)，從而其實際使用成了非常困難的問題。相反，根據(jù)本實施例，可以避免這種問題，并且使作為產(chǎn)品的實際使用更容易了。<2.第二實施例>[2-1.反射鏡單元處的聚焦誤差信號的采樣]現(xiàn)在，根據(jù)第一實施例，主要論述了循軌方向上的伺服控制，而關(guān)于聚焦方向，描述了簡單基于象散法生成聚焦誤差信號FE?，F(xiàn)在，如所公知的，在利用象散法(astigmatic method)檢測聚焦誤差成分的情況下，在盤上形成的凹坑的衍射光成分(推拉信號成分)作為噪聲成分與聚焦誤差信號FE重疊，從而可能難以執(zhí)行適當?shù)木劢顾欧刂?。特別地，在如本示例的情況中那樣以超越光學(xué)極限的窄間距形成各個凹坑列的情況下，對聚焦誤差信號FE的噪聲重疊可能很大，并且對其采取對策是有效的。作為用于避免來自凹坑的噪聲影響的聚焦誤差檢測方法，例如已知光束大小方法。然而，光束大小方法與簡單的象散法相比有更大的光學(xué)設(shè)計約束，并且相應(yīng)地要求光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計成本和調(diào)整成本?；蛘?，作為用于避免來自凹坑的噪聲影響的聚焦誤差檢測方法，也已知雙象散法， 但是雙象散法需要諸如光柵等等之類的額外光學(xué)部件，從而部件成本和調(diào)整成本增大了。第二實施例提出了一種方法，用于獲得抑制來自凹坑的噪聲影響的良好聚焦誤差信號，同時避免傳統(tǒng)的聚焦誤差檢測方法所具有的問題。

從以上描述我們也可以理解，對聚焦誤差信號FE的推拉信號成分的重疊發(fā)生在凹坑形成部分中。因此，在第二實施例中，使用一種方法，其在不包括這種凹坑形成部分的反射鏡部分處采樣并使用聚焦誤差信號FE。圖14是描述反射鏡部分檢測方法的示圖，并且示意性示出了在全息圖記錄介質(zhì) HM上形成的凹坑列與時鐘CLK之間的關(guān)系。通過參考圖14我們可以看出，圖10中描述的時鐘CLK的基線定時表現(xiàn)了全息圖記錄介質(zhì)HM的反射鏡部分的定時。為了應(yīng)對這一點，本實施例在時鐘CLK的基線定時對利用象散法獲得聚焦誤差信號FE采樣，并且獲得抑制了噪聲的良好的聚焦誤差信號(稱為FE-m)。[2-2.記錄/再現(xiàn)裝置的構(gòu)造]圖15是示出作為第二實施例的記錄再現(xiàn)裝置的內(nèi)部構(gòu)造的框圖。注意，在圖15中，省略了對以上的圖5和圖11中示出的調(diào)制控制單元27、數(shù)據(jù)再現(xiàn)單元28和主軸電機29的圖示。另外，在以下描述中，已經(jīng)描述過的部分將用相同的標號來標記并且省略對其的描述。通過比較圖15和以上的圖11我們可以看出，第二實施例的記錄再現(xiàn)裝置對第一實施例的記錄再現(xiàn)裝置1添加了采樣保持電路SH2。在采樣保持電路SH2中輸入來自矩陣電路30的聚焦誤差信號FE，并且還輸入來自時鐘生成電路31的時鐘CLK。與圖11中的情況不同，聚焦誤差信號FE不被提供到伺服電路34，而只被提供到采樣保持電路SH2。采樣保持電路SH2在時鐘CLK的基線定時使聚焦誤差信號FE被采樣保持，并且將其結(jié)果作為聚焦誤差信號FE-m輸出到伺服電路34。利用這種構(gòu)造，可以獲得良好的聚焦誤差信號FE-m，其可防止推拉信號成分的重疊，結(jié)果可以實現(xiàn)更穩(wěn)定且高精度的聚焦伺服控制。另外，此時，聚焦誤差檢測方法本身可以使用簡單的象散法，從而與使用諸如上述的光束大小方法或雙象散法之類的用于避免推拉信號成分的影響的傳統(tǒng)方法的情況相比， 光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)造可以很簡單，結(jié)果光學(xué)拾取器OPl (即整個記錄/再現(xiàn)裝置)的制造成本可得以降低。
<3.第三實施例>[3-1.通過加和信號的差分生成循軌誤差信號]接下來，將描述第三實施例。第三實施例利用與第一實施例的情況不同的方法來生成循軌誤差信號。現(xiàn)在，在第一實施例中，在作為循軌伺服的對象的凹坑列的凹坑可形成位置處獲得的推拉信號PP經(jīng)歷采樣保持，并且其結(jié)果被用作對作為循軌伺服的對象的凹坑列的循軌誤差信號。然而，已知會疊加所謂的傾斜(偏斜)和透鏡偏移的成分。確認一下，透鏡偏移指的是物鏡15相對于基準位置(設(shè)計上的中心位置)在循軌方向上的位移，并且例如是由于循軌伺服控制跟隨盤的偏心成分而發(fā)生的。圖16是描述伴隨著傾斜和透鏡偏移的反射光的光接收光斑位置偏移的示圖，圖 16 (a)示出了未發(fā)生傾斜/透鏡偏移的理想狀態(tài)中的光電檢測器沈上的光接收光斑，并且圖16(b)示出了在發(fā)生了傾斜/透鏡偏移的情況下光電檢測器沈上的光接收光斑。注意，在圖16(a)和(b)中，光接收光斑中示出的陰影部分指示來自盤上形成的凹坑的一次衍射光成分的重疊部分(推拉信號成分重疊區(qū)域)。首先，作為前提，在圖中的一對光接收器件A和B和一對光接收器件C和D各自是在與盤的半徑方向相對應(yīng)的方向上相鄰的對的情況下，推拉信號PP被計算為PP = (Ai+Bi) - (Ci+Di)...[式 1]。然而，在[式1]中，Ai、Bi、Ci和Di分別是光接收器件A、B、C、D的光接收信號?，F(xiàn)在，假定在對象凹坑列上準確跟蹤第二激光的束斑。在此情況下，如果在圖16(a)的未發(fā)生傾斜/透鏡偏移的理想狀態(tài)中，根據(jù)[式1] 計算的推拉信號PP的值為“0”。相反，在如圖16(b)所示伴隨著傾斜/透鏡偏移發(fā)生了接收光斑位置偏移的情況下，在式[1]中計算的推拉信號PP的值變成與應(yīng)當獲得的“0”不同的值，從而發(fā)生了差異。從這個我們可以理解，在推拉信號PP中發(fā)生了伴隨著傾斜/透鏡偏移的偏置。如果伴隨著這種傾斜和透鏡偏移的偏置成分是可以忽略的程度，則利用第一實施例描述的循軌誤差信號TE生成方法是有效的，但在第三實施例中，提出了能夠避免來自偏置成分的影響的循軌誤差信號TE生成方法，以便進一步提高循軌伺服控制的精度和穩(wěn)定性。傳統(tǒng)上，已知所謂的3光斑法作為循軌誤差檢測方法來避免伴隨著傾斜和透鏡偏移的偏置的影響，但3光斑法需要諸如光柵之類的額外光學(xué)部件，從而部件成本和調(diào)整成本可相應(yīng)地增大。另外，也已知DPP (Differential Push Pull，微分推拉)法作為用于避免偏置的影響的循軌誤差檢測方法，但DPP法也需要添加比如光柵，從而部件成本和調(diào)整成本可相應(yīng)地增大。在尋求解決這些傳統(tǒng)的循軌誤差檢測方法所具有的問題的同時，為了避免伴隨著傾斜和透鏡偏移的偏置的影響，在第三實施例中，通過以下所述的方法來生成循軌誤差信號。圖17是描述作為第三實施例的循軌誤差信號生成方法的示圖。
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注意，圖17示出了在全息圖記錄介質(zhì)HM上形成的各個凹坑列A至F、當循軌伺服處于被用于在其中的凹坑列D上跟蹤的狀態(tài)中時第二激光的光斑位置的移動軌跡(陰影部分)、以及伴隨著該第二激光的移動而獲得的加和信號加和的波形。如圖17中所示，例如，在第二激光的光斑在凹坑列D上準確跟蹤的情況下，加和信號加和的值在與凹坑列D上的凹坑形成位置匹配的定時(圖中的η)取最小值，并且伴隨著對凹坑列D的相位差 增大，該凹坑列的凹坑形成位置處的值可逐漸增大。此時，加和信號加和的值在與各自與凹坑列D相鄰(具有相同的相位差)的凹坑列C和凹坑列E中每一個的凹坑形成位置匹配的定時(圖中的η-1、η+1)取相同的值，并且在與各自與凹坑列D具有相同的相位差的凹坑列B和凹坑列F中每一個的凹坑形成位置匹配的定時(圖中的η-2、η+2)取相同的值?，F(xiàn)在，與圖中所示的狀態(tài)不同，我們可以看到，如果第二激光的光斑跟蹤相對于凹坑列D在半徑方向上有偏移的位置，則在與凹坑列D具有相同相位差的每個凹坑列對的各個凹坑形成位置處的加和信號加和的值中將發(fā)生偏移。也就是說，從這個我們也可以理解，配作為循軌伺服的對象的凹坑列具有相同相位差的每個凹坑列對的各個凹坑形成位置處的加和信號加和的值反映了對作為循軌伺服的對象的凹坑列的循軌方向上的誤差。具體而言，通過計算具有相同相位差的每個凹坑列對的各個凹坑形成位置處的加和信號加和的值的差分，可以獲得循軌誤差信息。基于這些點，在第三實施例中，執(zhí)行如下面將詳細描述的基于加和信號加和來生成循軌誤差信號TE。也就是說，首先，選擇與作為循軌伺服的對象的凹坑列具有相同相位差的兩個凹坑列。具體而言，在本示例的情況下，選擇各自與作為循軌伺服的對象的凹坑列相鄰的凹坑列。此外，在與所選擇的凹坑列的凹坑可形成位置相對應(yīng)的定時(圖中的η-1和η+1 適用)對加和信號加和的值采樣，并且計算所采樣的加和信號加和的差分。計算結(jié)果是循
軌誤差信號。現(xiàn)在，利用作為第三實施例的這種方法計算的循軌誤差信號被記作“循軌誤差信號TE-cl”，以指示與第一實施例的循軌誤差信號TE的區(qū)別。[3-2.記錄/再現(xiàn)裝置的構(gòu)造]圖18是示出作為第三實施例的記錄/再現(xiàn)裝置的內(nèi)部構(gòu)造的框圖。注意，在圖18中，以上的圖5和圖11中示出的調(diào)制控制單元27、數(shù)據(jù)再現(xiàn)單元28 和主軸電機29也被從圖中省略。通過比較這個圖18和以上的圖15我們可以看出，第三實施例的記錄/再現(xiàn)裝置與第二實施例的記錄/再現(xiàn)裝置的不同之處在于，取代矩陣電路30設(shè)置了矩陣電路45，并且取代選擇器信號生成/選擇電路32設(shè)置了選擇器信號生成電路46和選擇器信號選擇電路47。此外，在此情況下向記錄/再現(xiàn)裝置添加了采樣保持電路SH3、采樣保持電路SH4 和減法器48。矩陣電路45與以上的矩陣電路30不同，并且生成/輸出加和信號加和和聚焦誤差信號FE。聚焦誤差信號FE被提供到以上圖15中描述的采樣保持電路SH2，如圖所示。
另外，加和信號加和被提供到時鐘生成電路31和地址檢測電路33，并且還被提供到采樣保持電路SH3和采樣保持電路SH4。選擇器信號生成電路46被構(gòu)造為具有選擇器信號生成/選擇電路32所具有的功能之中的對每個選擇器信號的生成功能、以及基于來自控制單元35的調(diào)整信號ADJ對每個選擇器信號的相位調(diào)整功能。利用選擇器信號生成電路46生成的各個選擇器信號被提供給選擇器信號選擇電路47。選擇器信號選擇電路47從提供自選擇器信號生成電路46的各個選擇器信號中選擇/輸出由來自控制單元35的選擇信號SLCT指示的相位的選擇器信號，并且還選擇/輸出與如下兩個凹坑列中的每一個相對應(yīng)的選擇器信號這兩個凹坑列與對應(yīng)于由選擇信號 SLCT指示的相位的選擇器信號的凹坑列具有相同的相位差。具體而言，在本示例的情況下，除了由選擇信號SLCT指示的相位的選擇器信號以外，與各自與對應(yīng)于由選擇信號SLCT指示的選擇器信號的凹坑列相鄰的凹坑列相對應(yīng)的兩個選擇器信號也被選擇/輸出?，F(xiàn)在，在選擇器信號選擇電路47這樣選擇/輸出的選擇器信號之中，選擇信號 SLCT所指示的相位的選擇器信號被簡單稱為選擇器信號。另外，各自與對于與由選擇信號SLCT指示的相位的選擇器信號相對應(yīng)的凹坑列具有相同相位差的兩個凹坑列相對應(yīng)的選擇器信號被各自稱為SeleCtor_fV信號和 selector—bw 信號。選擇器信號選擇電路47輸出的選擇器信號被提供給地址檢測電路33。另外，選擇器信號選擇電路47輸出的SeleCt0r_fW信號被提供給采樣保持電路 SH3，并且seIectorJw信號被提供給采樣保持電路SH4。采樣保持電路SH3在SeleCt0r_fW信號所指示的定時使從矩陣電路45提供的加和信號加和的值經(jīng)歷采樣保持，并且將其結(jié)果輸出到減法器48。采樣保持電路SH4在selectorjm信號所指示的定時使從矩陣電路45提供的加和信號加和的值經(jīng)歷采樣保持，并且將其結(jié)果輸出到減法器48。減法器48從采樣保持電路SH3的采樣保持輸出值中減去采樣保持電路SH4的采樣保持輸出值，并且獲得循軌誤差信號TE-cl。循軌誤差信號TE-cl被提供給伺服電路34， 如圖所示。根據(jù)以上所述的第三實施例，可以避免來自由傾斜和透鏡偏移引起的偏置成分的影響，同時防止像使用傳統(tǒng)的3光斑法或DPP法的情況中那樣的制造成本/調(diào)整成本的增大，并且可以進一步提高循軌伺服控制的穩(wěn)定性和精度。另外，根據(jù)第三實施例，與以上的第二實施例中類似的方法被用作聚焦誤差檢測方法，但根據(jù)這個以及對作為第三實施例的循軌誤差檢測方法的使用，在解決由凹坑的噪聲成分與聚焦誤差信號重疊而引起的聚焦伺服功能降低的問題和伴隨著傾斜和透鏡偏移而發(fā)生的循軌伺服功能降低的問題兩者時，只需要設(shè)置如圖16所示的作為四分割檢測器的一個光電檢測器作為光接收單元的構(gòu)造，結(jié)果可以使光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)造非常簡單。也就是說，在解決聚焦/循軌伺服的各種問題時，與在光學(xué)系統(tǒng)中單獨設(shè)置用于接收側(cè)斑光的光柵或光接收器件的傳統(tǒng)構(gòu)造相比，可以使光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)造非常簡單。
<4.第四實施例〉[4-1.利用反射鏡單元處的推拉信號生成循軌誤差信號]
根據(jù)第四實施例，與第三實施例類似，提出了用于避免伴隨著傾斜和透鏡偏移而發(fā)生的循軌伺服功能降低的問題的循軌誤差檢測方法。具體而言，根據(jù)第四實施例，生成良好的循軌誤差信號，其中已通過從凹坑部分處的推拉信號PP中減去反射鏡單元處的推拉信號PP而去除了來自傾斜和透鏡偏移的影響。現(xiàn)在，從以上對圖16的描述我們可以理解，在凹坑部分處獲得的推拉信號PP包括對作為照射束斑的對象的凹坑列的半徑方向上的位置差異的成分，并且還包括傾斜和透鏡偏移的成分。相反，反射鏡部分的推拉信號PP不包括來自凹坑的衍射光成分，從而反射鏡部分的推拉信號PP只純粹表現(xiàn)了傾斜和透鏡偏移的成分。因此，通過如上所述從凹坑部分處的推拉信號PP中減去反射鏡單元處的推拉信號PP，可以獲得其中去除了來自傾斜和透鏡偏移的影響的良好的循軌誤差信號。利用如第四實施例中的方法生成的循軌誤差信號被記為循軌誤差信號TE-C2。[4-2.記錄/再現(xiàn)裝置的構(gòu)造]圖19是示出根據(jù)第四實施例的記錄/再現(xiàn)裝置的內(nèi)部構(gòu)造的框圖。注意，在圖19中，以上的圖5和圖11中示出的調(diào)制控制單元27、數(shù)據(jù)再現(xiàn)單元28 和主軸電機29也被從圖中省略。與以上的圖15中所示的第二實施例的記錄/再現(xiàn)裝置相比，根據(jù)第四實施例的記錄/再現(xiàn)裝置添加了采樣保持電路SH5和減法器49。如圖所示，由矩陣電路30輸出的推拉信號PP被提供給采樣保持電路SHl，并且還被提供給采樣保持電路SH5。來自時鐘生成電路31的時鐘CLK被輸入到采樣保持電路SH5中。采樣保持電路 SH5在時鐘CLK的基線定時使推拉信號PP的值經(jīng)歷采樣保持。從而，反射鏡部分處的推拉信號PP的值(傾斜+透鏡偏移的成分)被采樣。來自采樣保持電路SH5的采樣保持值和來自采樣保持電路SHl的采樣保持值(凹坑部分處的推拉信號PP的值循軌誤差+傾斜+透鏡偏移的成分)被輸入到減法器49中。 減法器49從采樣保持電路SHl的采樣保持值中減去采樣保持電路SH5的采樣保持值。從而，可以獲得循軌誤差信號TE-c2。如圖所示，循軌誤差信號TE-C2被提供給伺服電路34。根據(jù)這樣的第四實施例，可以簡化用于解決由傾斜和透鏡偏移引起的循軌伺服功能降低的問題的光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)造，并且可以防止如使用傳統(tǒng)的3斑法或DPP法的情況中那樣的制造成本和調(diào)整成本的增大。<5.第五實施例〉[5-1.利用反射鏡單元處的推拉信號進行傾斜檢測]根據(jù)第五實施例，利用反射鏡部分處的推拉信號PP的值來執(zhí)行傾斜檢測。如上所述，反射鏡部分處的推拉信號PP的值表達了傾斜+透鏡偏移的成分。從而， 根據(jù)第五實施例，單獨檢測物鏡15的透鏡偏移量，并且從反射鏡部分處的推拉信號PP的值中減去檢測到的透鏡偏移量的值，從而執(zhí)行傾斜檢測。
根據(jù)第五實施例，下面將例示一種方法，用于設(shè)置一位置傳感器來檢測物鏡15在循軌方向上的位置，以基于該位置傳感器的輸出來檢測透鏡偏移量。[5-2.記錄/再現(xiàn)裝置的構(gòu)造]圖20是示出作為第五實施例的記錄/再現(xiàn)裝置的內(nèi)部構(gòu)造的框圖。注意，在圖20中，調(diào)制控制單元27、數(shù)據(jù)再現(xiàn)單元觀和主軸電機四也被從圖中省略。通過與以上的圖19比較我們可以看出，根據(jù)第五實施例的記錄/再現(xiàn)裝置與第四實施例的記錄/再現(xiàn)裝置相比，添加了位置傳感器50、透鏡偏移量換算單元51以及減法器 52。位置傳感器50被設(shè)置在光學(xué)拾取器OPl中，以便能夠檢測物鏡15在循軌方向上的位置。利用位置傳感器50檢測到的物鏡15的位置信息被輸入到透鏡偏移量換算單元51 中。透鏡偏移量換算單元51基于由位置傳感器50檢測到的物鏡15的位置信息，獲得物鏡15的透鏡偏移量。在此情況下，透鏡偏移量換算單元51具有存儲器，其中存儲了示出物鏡15的位置信息與透鏡偏移量之間的關(guān)聯(lián)的表格信息，并且基于此表格信息，執(zhí)行從物鏡15的位置信息到透鏡偏移量的換算。注意，這種換算處理可通過使用指示物鏡15的位置信息與透鏡偏移量之間的關(guān)聯(lián)的函數(shù)的計算處理來實現(xiàn)。由以上的透鏡偏移量換算單元51獲得的物鏡15的透鏡偏移量的值和以上利用圖 19描述的采樣保持電路SH5的采樣保持值(傾斜+透鏡偏移)被輸入到減法器52中。減法器52從采樣保持電路SH5的采樣保持值中減去透鏡偏移量的值。從而，檢測到了半徑方向上的傾斜量(圖中的偏斜)。注意，這里例示了用于基于位置傳感器50的輸出來檢測透鏡偏移量的方法，但也可利用其他方法來檢測透鏡偏移量，例如根據(jù)循軌致動器16A的驅(qū)動信號估計(檢測)等寸。<6.第六實施例>[6-1.體型記錄介質(zhì)]接下來，將描述第六實施例。第六實施例不是將本發(fā)明的循軌伺服方法應(yīng)用到全息圖記錄介質(zhì)HM，而是應(yīng)用到所謂的體型光記錄介質(zhì)(以下稱為體型記錄介質(zhì))?，F(xiàn)在，關(guān)于在諸如⑶(壓縮盤)和DVD (數(shù)字多功能盤)和BD(Blu_ray Disc 注冊商標)之類的當前廣泛使用的光記錄介質(zhì)的下一代中將作為帶頭者的光記錄介質(zhì)，本申請人在參考文獻1和參考文獻2中提出了例如以下所述的所謂體型記錄介質(zhì)。參考文獻1...日本未實審專利申請公布2008-135144參考文獻2...日本未實審專利申請公布2008-176902體記錄是一種通過多層記錄來增大記錄容量的記錄方法，并且例如像圖21中所示，對至少具有覆蓋層61和體層(記錄層)62的光記錄介質(zhì)改變逐次焦點位置并執(zhí)行激光照射，并且在體層62內(nèi)的深度方向上選擇性地執(zhí)行標記記錄。
注意，在本說明書中，使用了“深度方向”一詞；深度方向指的是與照射在光記錄介質(zhì)上的激光的光軸平行的方向，即與聚焦方向平行的方向。關(guān)于這種體記錄，在參考文獻1中公開了被稱為所謂的微全息圖方法的記錄技術(shù)。微全息圖方法被大體劃分成正型微全息圖方法和負型微全息圖方法中，如接下來的圖22中所示。

根據(jù)微全息圖方法，所謂的全息圖記錄材料被用作體層62的記錄材料。例如，光合成型光敏聚合物等等被用作全息圖記錄材料。正型微全息圖方法是這樣一種方法如圖22(a)中所示，在相同位置收集兩個對向的光通量(光通量A、光通量B)并形成微細干涉圖案(全息圖)，并且將其用作記錄標記。另外，圖22(b)中所示的負型微全息圖方法是與正型微全息圖方法相反的概念， 并且是一種利用激光照射消去預(yù)先形成的干涉圖案并使用消去的部分作為記錄標記的方法。圖23是描述負型微全息圖方法的示圖。在負型微全息圖方法中，在執(zhí)行記錄操作之前，執(zhí)行用于預(yù)先對體層62形成干涉圖案的初始化處理，如圖23(a)中所示。具體而言，平行光中的光通量C和D如圖中所示被對向照射，并且其干涉圖案被形成在整個體層62上。在這樣利用初始化處理預(yù)先形成干涉圖案后，如圖23(b)中所示執(zhí)行通過形成消去標記來進行的信息記錄。具體而言，通過在將焦點設(shè)定在任選的層位置的狀態(tài)中根據(jù)記錄信息執(zhí)行激光照射，來執(zhí)行通過消去反射鏡來進行的信息記錄。另外，本申請?zhí)岢隽艘环N如參考文獻2中公開的形成空穴(空孔)的記錄方法，作為與微全息圖方法不同的體記錄方法?？昭ㄓ涗浄椒ㄊ沁@樣一種方法對利用諸如光合成型光敏聚合物之類的記錄材料構(gòu)造的體層62例如利用相對高的功率執(zhí)行激光照射，并且在體層62內(nèi)記錄空孔(空穴)。 如參考文獻2中所述，這樣形成的空孔部分成為了折射率與體層62中的其他部分不同的部分，并且在其邊界部分光反射率增大。因此，空孔部分充當記錄標記，因此實現(xiàn)了利用空孔標記的形成來進行的信息記錄。這種空穴記錄方法不形成全息圖，因此從一側(cè)執(zhí)行光照射就足以記錄了。也就是說，不必像在正型微全息圖方法的情況中那樣在相同位置收集兩個光通量并形成記錄標記。另外，與負型微全息圖方法相比，這具有不需要初始化處理的優(yōu)點。注意，在參考文獻2中描述了在執(zhí)行空穴記錄時在記錄之前執(zhí)行預(yù)固化光照射的示例，但即使省略這種預(yù)固化光的照射，也可進行空穴記錄?，F(xiàn)在，這是提出上述各類記錄方法的體型記錄介質(zhì)，但該體型記錄介質(zhì)的記錄層 (體層)在例如形成多個反射層這個意義上，并不具有明顯的多層構(gòu)造。也就是說，在體層 62中沒有設(shè)置如通常的多層盤所具有的用于每個記錄層的反射膜和引導(dǎo)溝槽。因此，在用以上圖21所示的體型記錄介質(zhì)的構(gòu)造的狀態(tài)中，在尚未形成標記時的記錄時無法執(zhí)行聚焦伺服和循軌伺服。因此，實際上，體型記錄介質(zhì)采取如接下來的圖24中所示的構(gòu)造。
如圖M中所示，在實際的體型記錄介質(zhì)(體型記錄介質(zhì)60)中設(shè)置了反射面(基準面Ref)。具體而言，在此情況下在體型記錄介質(zhì)60上按從上層側(cè)起的順序形成了覆蓋層 61、體層62、中間層63、反射層64和基板65。在基板65的上面?zhèn)韧ㄟ^形成凹坑列來形成引導(dǎo)溝槽。在本示例的情況下，在基板 65上形成的凹坑列成為了作為以上利用圖2和圖3描述的實施例的凹坑列。從而，反射膜64被形成在其上形成了作為實施例的凹坑列的基板65上。另外，其上這樣形成了反射膜64的基板65經(jīng)由由紫外線固化樹脂等等構(gòu)成的中間層63被粘合到體層62的下層側(cè)。[6-2.體型記錄介質(zhì)的記錄/再現(xiàn)方法]利用如上所述的介質(zhì)構(gòu)造，對體型記錄介質(zhì)60照射如接下來的圖25中所示的用于記錄(或再現(xiàn))標記的激光(以下稱為記錄激光，或者可簡稱為記錄光)還有作為用于位置控制的激光的伺服激光(也簡稱為伺服光)。如圖所示，記錄激光和伺服激光經(jīng)由共享的物鏡被照射到體型記錄介質(zhì)60上。此時，如果伺服激光和記錄激光具有相同的頻率，則當伺服激光行經(jīng)體層62時， 這可能不利地影響標記記錄。因此，在體記錄方法中，與傳統(tǒng)方法相比，具有與記錄激光不同的波長帶的激光被用作伺服激光。現(xiàn)在，就這樣各自具有不同波長的第一激光和第二激光經(jīng)由共享的物鏡被照射到記錄介質(zhì)上而言，利用先前實施例描述的全息圖記錄/再現(xiàn)方法和體記錄方法具有共通性。基于以上前提，將參考圖25來描述在對體型記錄介質(zhì)60進行標記記錄時的操作。首先，當對其上未形成引導(dǎo)溝槽和反射膜的體層62執(zhí)行多層記錄時，預(yù)先確定將用于記錄標記的層位置定位在體層62的深度方向上的何處。在圖中，例示了如下情況其中，第一信息記錄層位置Ll至第五信息記錄層位置L5這總共五個信息記錄層位置L被設(shè)定為在體層62內(nèi)形成標記的層位置(標記形成層位置也稱為信息記錄層位置)。如圖所示，第一信息記錄層位置Ll被設(shè)定在與其中形成引導(dǎo)溝槽的反射膜64 (基準面Ref)在深度方向上距離第一偏置of-Ll的量的位置。另外，第二信息記錄層位置L2、第三信息記錄層位置L3、第四信息記錄層位置L4和第五信息記錄層位置L5分別被設(shè)定為與基準面Ref距離第二偏置of-L2、第三偏置of-L3、第四偏置of-L4和第五偏置of_L5的量的位置。在尚未形成標記時的記錄時，無法執(zhí)行基于記錄激光的反射光以體層62內(nèi)的各個層位置為對象的聚焦伺服和循軌伺服。因此，記錄時的物鏡聚焦伺服控制和循軌伺服控制是基于伺服激光的反射光以使得伺服激光的光斑位置跟隨基準面Ref上的引導(dǎo)溝槽的方式來執(zhí)行的。然而，記錄激光必須使聚焦位置被設(shè)定在用于標記記錄的基準面Ref的上層側(cè)。 因此，在此情況下的光學(xué)系統(tǒng)中，設(shè)有用于獨立于物鏡的聚焦機構(gòu)地調(diào)整記錄激光的聚焦位置的記錄光聚焦機構(gòu)?，F(xiàn)在，在圖沈中示出了用于執(zhí)行體型記錄介質(zhì)60的記錄/再現(xiàn)的光學(xué)系統(tǒng)的概要，其包括用于獨立調(diào)整這種記錄光激光的聚焦位置的機構(gòu)。首先，在圖沈中，示出了在圖25中也示出的物鏡。物鏡被雙軸致動器維持為可在
3循軌方向和聚焦方向上位移。圖中的聚焦機構(gòu)(擴展器)是如上所述用于獨立調(diào)整記錄激光的聚焦位置的有關(guān)機構(gòu)。具體而言，作為聚焦機構(gòu)的擴展器由固定透鏡和可移動透鏡以及將可移動透鏡保持為可在與記錄激光的光軸平行的方向上位移的透鏡驅(qū)動單元構(gòu)成，并且通過可移動透鏡被透鏡驅(qū)動單元驅(qū)動，改變照射到圖中的物鏡中的記錄激光的準直，從而獨立于伺服激光地調(diào)整記錄激光的聚焦位置。另外，如上所述，記錄激光和伺服激光各自具有不同的波長帶，從而與此相對應(yīng)， 在此情況下的光學(xué)系統(tǒng)中，記錄激光和伺服激光的來自體型記錄介質(zhì)60的反射光可被圖中的分色鏡分離到各自的系統(tǒng)中(即，使得可以獨立執(zhí)行反射光檢測)。

另外，在考慮去路光的情況下，該分色鏡具有將記錄激光和伺服激光合成在同一軸上并照射到物鏡上的功能。具體而言，在此圖的示例的情況下，在如圖所示經(jīng)由擴展器被反射鏡反射后，記錄激光被分色鏡反射并照射到物鏡。另一方面，伺服激光透過分色鏡并被照射到物鏡上。圖27是描述在再現(xiàn)體型記錄介質(zhì)60時的伺服控制的示圖。在再現(xiàn)時，也與記錄時類似地執(zhí)行物鏡聚焦伺服控制和循軌伺服控制。也就是說， 在再現(xiàn)時，也是基于伺服激光的反射光，以使得伺服激光聚焦在基準面Ref并跟隨引導(dǎo)溝槽的方式來執(zhí)行物鏡聚焦伺服控制和循軌伺服控制。記錄激光被上述記錄光聚焦機構(gòu)所調(diào)整，以使得其聚焦位置匹配到可應(yīng)用的信息記錄層位置L。如上所述，在體記錄方法中，用于執(zhí)行標記記錄/再現(xiàn)的記錄激光和作為位置控制光的伺服激光經(jīng)由共享的物鏡(合成在同一光軸上)被照射到體型記錄介質(zhì)60，通過執(zhí)行物鏡聚焦伺服控制和循軌伺服控制以使得伺服激光跟隨基準面Ref的引導(dǎo)溝槽，并且利用記錄光聚焦機構(gòu)單獨調(diào)整記錄激光的聚焦位置，即使在體層62中未形成引導(dǎo)溝槽，也能夠?qū)w層62的必要位置(深度方向和循軌方向)進行記錄/再現(xiàn)。[6-3.記錄/再現(xiàn)裝置的構(gòu)造]圖28和圖29是描述作為第六實施例的記錄/再現(xiàn)裝置的內(nèi)部構(gòu)造的示圖，圖28 示出了根據(jù)第六實施例的記錄/再現(xiàn)裝置具有的光學(xué)拾取器0P2的內(nèi)部構(gòu)造，并且圖29示出了除光學(xué)拾取器0P2以外的部分的內(nèi)部構(gòu)造?，F(xiàn)在，從以上描述我們也可以理解，與用于全息圖記錄介質(zhì)HM的記錄/再現(xiàn)裝置的情況類似，即使在用于體型記錄介質(zhì)60的記錄/再現(xiàn)裝置中，也是通過基于第二激光 (用于位置控制的光)的反射光執(zhí)行物鏡的循軌伺服控制以使得第二激光跟隨在盤上形成的引導(dǎo)溝槽(凹坑列)，來控制第一激光(用于記錄/再現(xiàn)的光)在循軌方向上的記錄位置。從這個我們也可以理解，在根據(jù)第六實施例的記錄/再現(xiàn)裝置中，也與全息圖記錄介質(zhì)HM的情況類似，即使在記錄時對于某個凹坑列(地址)執(zhí)行了標記記錄，也可能發(fā)生這樣的問題，即實際記錄的標記列未被形成在對象凹坑列上。因此，作為根據(jù)第六實施例的記錄/再現(xiàn)裝置，也與這里描述的各種實施例的記錄/再現(xiàn)裝置的情況類似，在再現(xiàn)時根據(jù)記錄位置的偏移量來校正要基于第二激光的反射光執(zhí)行的循軌伺服的凹坑列。首先，將參考圖28來描述第六實施例的記錄/再現(xiàn)裝置的光學(xué)拾取器0P2的構(gòu)造。如圖所示，在光學(xué)拾取器0P2內(nèi)設(shè)有充當上述記錄/再現(xiàn)激光的光源的第一激光器2。另外，還設(shè)有充當上述伺服激光的光源的第二激光器20。從第一激光器2發(fā)射的記錄/再現(xiàn)激光在經(jīng)由準直透鏡70變成平行光后被照射到偏振分束器9中。偏振分束器9被構(gòu)造為使這樣從第一激光器2側(cè)照射來的記錄激光透過。透過了偏振分束器9的記錄激光被照射到由固定透鏡71、可移動透鏡72和透鏡驅(qū)動單元73構(gòu)成的記錄/再現(xiàn)光聚焦機構(gòu)中。記錄/再現(xiàn)光聚焦機構(gòu)具有部署在靠近作為光源的第一激光器2 —側(cè)的固定透鏡71，和部署在遠離第一激光器2 —側(cè)的可移動透鏡 72?？梢苿油哥R72被透鏡驅(qū)動單元73在與記錄/再現(xiàn)激光的光軸平行的方向上驅(qū)動，從而可以執(zhí)行獨立于記錄/再現(xiàn)激光的聚焦控制。透鏡驅(qū)動單元73基于由下文中描述的控制單元81 (圖29)指示的偏置of-L的值來進行驅(qū)動。經(jīng)過記錄/再現(xiàn)光聚焦機構(gòu)的記錄/再現(xiàn)激光被照射到分色鏡12中。分色鏡12 被構(gòu)造成使得具有與記錄/再現(xiàn)激光相同的波長帶的光被透過，而任何其他波長的光則被反射。因此，這樣照射的記錄/再現(xiàn)激光透過分色鏡12。透過了分色鏡12的記錄/再現(xiàn)激光如圖所示被反射鏡13反射，并且在行經(jīng)1/4 波長板14后，行經(jīng)物鏡15并且被照射到體型記錄介質(zhì)60。在此情況下，物鏡15被可在聚焦方向和循軌方向上使物鏡15位移的雙軸致動器 74維持。雙軸致動器74中設(shè)有聚焦線圈和循軌線圈，并且聚焦驅(qū)動信號FD和循軌驅(qū)動信號TD被提供給它們每一個，從而物鏡15可在聚焦方向和循軌方向的每一個上位移。在再現(xiàn)時，如上所述對60照射記錄/再現(xiàn)激光，從而從體型記錄介質(zhì)60 (體層62 中的標記列)獲得反射光。這樣獲得的記錄/再現(xiàn)激光的反射光經(jīng)由物鏡15 — 1/4波長板14 —反射鏡13被引導(dǎo)到分色鏡12，并且透過分色鏡12。透過了分色鏡12的記錄/再現(xiàn)激光的反射光在行經(jīng)上述的記錄/再現(xiàn)光聚焦機構(gòu)之后被照射到偏振分束器9中。從而，由于1/4波長板14的作用和體型記錄介質(zhì)60在反射時的作用，要照射到偏振分束器9中的記錄/再現(xiàn)激光的反射光(回路光)的偏振方向與從第一激光器2側(cè)照射到偏振分束器9中的記錄/再現(xiàn)激光(去路光)相差90度。因此，這樣照射的記錄/再現(xiàn)激光的反射光在偏振分束器9處被反射。在偏振分束器9處反射的記錄/再現(xiàn)激光的反射光經(jīng)由會聚透鏡75被收集在光電檢測器76的光接收面上?，F(xiàn)在，由光電檢測器76獲得的記錄/再現(xiàn)激光的反射光的光接收信號被稱為接收光信號D-rp。另外，從第二激光器20照射的伺服激光在經(jīng)由透鏡21 —準直透鏡22被變成平行光之后被照射到偏振分束器23中。偏振分束器23允許這樣從第二激光器20側(cè)照射的伺服激光(去路光)透過。透過了偏振分束器23的伺服激光被照射到分色鏡12中。分色鏡12被構(gòu)造為使具有與記錄/再現(xiàn)激光相同的波長帶的光透過并且反射具有任何其他波長的光，從而伺服激光被分色鏡12反射，被與記錄/ 再現(xiàn)激光合成在相同軸上，并且被引導(dǎo)到反射鏡13側(cè)。在反射鏡13之后，伺服激光直到照射到體型記錄介質(zhì)60上為止的光路與記錄/ 再現(xiàn)激光的情況類似。根據(jù)照射在體型記錄介質(zhì)60上的伺服激光，從基準面Ref獲得反射光。這樣獲得的伺服激光的反射光經(jīng)由物鏡15 — 1/4波長板14 —反射鏡13被分色鏡12反射，并且被照射到偏振分束器23中。與以上的記錄/再現(xiàn)激光的情況類似，由于1/4波長板14的作用和體型記錄介質(zhì) 60 (基準面Ref)在反射時的作用，這樣從體型記錄介質(zhì)60側(cè)照射的伺服激光的反射光(回路光)的偏振方向與去路光相差90度，并且作為回路光的伺服激光的反射光因此在偏振分束器23處被反射。在偏振分束器處被反射的伺服激光的反射光經(jīng)由會聚透鏡24 —柱面透鏡25被會聚在光電檢測器26的光接收面上。現(xiàn)在，雖然也從圖28中的圖示中省略了，但在此情況下的記錄/再現(xiàn)裝置中，也設(shè)有用于在循軌方向上對上述整個光學(xué)拾取器0P2進行滑動驅(qū)動的滑動單元，并且通過滑動驅(qū)動單元對光學(xué)拾取器0P2的驅(qū)動，激光的照射位置可在寬范圍上位移。接下來，將參考圖29來描述根據(jù)第六實施例的記錄/再現(xiàn)裝置的除光學(xué)拾取器 0P2以外的部分的構(gòu)造。首先，在圖中的記錄處理單元77中輸入要對體型記錄介質(zhì)60記錄的數(shù)據(jù)(圖中的記錄數(shù)據(jù))。記錄處理單元77對輸入的記錄數(shù)據(jù)執(zhí)行糾錯碼的附加和預(yù)定的記錄調(diào)制編碼等等，并且例如獲得在體型記錄介質(zhì)60上實際記錄的例如為“0” “1”的二值數(shù)據(jù)列的記錄調(diào)制數(shù)據(jù)列。此外，生成基于這樣生成的記錄調(diào)制數(shù)據(jù)列的記錄脈沖Rcp，并且基于記錄脈沖Rcp驅(qū)動光學(xué)拾取器0P2中的第一激光器2發(fā)光。另外，從光學(xué)拾取器0P2中的光電檢測器76獲得的接收光信號D_rp被提供給圖中的信號生成單元78。信號生成單元78基于接收光信號D-rp，生成與記錄在體層62上的標記列相應(yīng)的再現(xiàn)信號RF。對于由信號生成單元78獲得的再現(xiàn)信號RF，再現(xiàn)處理單元79例如執(zhí)行諸如糾錯處理和記錄調(diào)制碼的解碼處理之類的再現(xiàn)處理，并且獲得再現(xiàn)上述記錄數(shù)據(jù)的再現(xiàn)數(shù)據(jù)。另外，在地址檢測/誤差信號生成單元80中輸入從光學(xué)拾取器0P2中的光電檢測器26獲得的光接收信號D-pd。地址檢測/誤差信號生成單元80綜合示出了根據(jù)以上各種實施例描述的基于選擇器信號對地址信息的檢測系統(tǒng)、對循軌誤差信號TE或TE-cl或TE-c2的生成系統(tǒng)以及對聚焦誤差信號FE和FE-m的生成系統(tǒng)的構(gòu)造。例如，在應(yīng)用生成“TE-cl”作為循軌誤差信號并生成“FE-m”作為聚焦誤差信號的第三實施例的情況下，地址檢測/誤差信號生成單元 80由“矩陣電路45、采樣保持電路SH2、時鐘生成電路31、選擇器信號生成電路46、選擇器信號選擇電路47、地址檢測電路33、采樣保持電路SH3、采樣保持電路SH4和減法器48”構(gòu)成?；蛘?，在應(yīng)用執(zhí)行循軌誤差信號TE-c2的生成和基于TE-c2的傾斜檢測的第五實施例的情況下，地址檢測/誤差信號生成單元80由“矩陣電路30、時鐘生成電路31、選擇器信號生成/選擇電路32、地址檢測電路33、采樣保持電路SHl、采樣保持電路SH2、采樣保持電路 SH5、減法器49、透鏡偏移量換算單元51和減法器52”構(gòu)成。注意，此情況下，當然在光學(xué)拾取器0P2中設(shè)置了位置傳感器50。從而，地址檢測/誤差信號生成單元80的構(gòu)造元件對第六實施例根據(jù)哪種方法被應(yīng)用作為上述各種實施例的循軌誤差信號和聚焦誤差信號的生成方法而適當?shù)夭煌?。由地址檢測/誤差信號生成單元80生成的循軌誤差信號TE或TE-cl或TE_c2以及聚焦誤差信號FE或FE-m被提供給伺服電路34。在此情況下，伺服電路34基于從輸入的各個聚焦、循軌誤差信號生成的聚焦驅(qū)動信號FD和循軌驅(qū)動信號TD來驅(qū)動利用圖觀描述的雙軸致動器74中的聚焦線圈和循軌線圈的每一個。與在上述各種實施例中描述的控制單元35類似，控制單元81由微計算機構(gòu)成?？刂茊卧?1除了由控制單元35執(zhí)行的控制/處理(利用選擇信號SLCT對選擇器信號的選擇指示和利用調(diào)整信號ADJ的相位調(diào)整指示)以外，還執(zhí)行對光學(xué)拾取器0P2中的透鏡驅(qū)動單元73的驅(qū)動控制。具體而言，基于與作為記錄或再現(xiàn)的對象的信息記錄層位置L相對應(yīng)地預(yù)先設(shè)定的偏置of-L的值，通過驅(qū)動透鏡驅(qū)動單元73，使記錄/再現(xiàn)激光的聚焦位置與上述有關(guān)信息記錄層位置L相匹配。也就是說，選擇深度方向上的記錄/再現(xiàn)位置。<7.第七實施例>現(xiàn)在，在到此為止的描述中，再現(xiàn)位置的調(diào)整間隔是凹坑列形成間隔，然而可以執(zhí)行超越凹坑列形成間隔的更細微調(diào)整。注意，下面將描述對于以上第一實施例適用的示例，但也可類似應(yīng)用到第二至第六實施例。圖30示出了根據(jù)與按比凹坑列形成間隔更細的間距執(zhí)行對再現(xiàn)位置的調(diào)整的情況相對應(yīng)的第七實施例的記錄/再現(xiàn)裝置的內(nèi)部構(gòu)造。如圖30中所示，在根據(jù)第七實施例的記錄/再現(xiàn)裝置中，從采樣保持電路SHl輸出的循軌誤差信號TE被輸出到加法電路85。經(jīng)過加法電路85的循軌誤差信號TE隨后被提供給給伺服電路34。加法電路85被設(shè)置來對循軌誤差信號TE賦予必要的偏置。在此情況下，加法電路85向循軌誤差信號TE賦予的偏置值是控制單元35指定的值。此情況中的控制單元35指示被定義成使得再現(xiàn)位置的移動量不超越凹坑列形成間距的值作為對加法電路85指示的值。從而，可以對再現(xiàn)位置進行超越形成間距的精微調(diào)離
iF. ο現(xiàn)在，在執(zhí)行這種進一步超越凹坑形成間距的微調(diào)整的情況下，通過在再現(xiàn)前執(zhí)行的校準而獲得的“目標校正量”可以按超越凹坑列形成間距的單位來求得。具體而言，在此情況下的校準中，不是簡單地將再現(xiàn)位置劃撥到多個凹坑列，而是在以與從上述劃撥給凹坑列的位置的偏置值相應(yīng)的量劃撥的位置處檢測全息圖再現(xiàn)光量(第六實施例中的再現(xiàn)信號電平)。也就是說，此情況下的“目標校正量”變成了被表達為從凹坑列再現(xiàn)對象偏移的凹坑列數(shù)的組合的值。因此，控制單元35從利用校準獲得的上述“目標校正量”獲得由單獨的凹坑列和從其的偏置值表達的“目標地址”(目標半徑位置)，然后對選擇器信號生成/選擇電路32 執(zhí)行選擇器信號的選擇指示，并對加法電路85執(zhí)行偏置值指示，以使得位置控制激光的光斑被定位在“目標地址”處。
從而，可以實現(xiàn)超越凹坑列形成間距的精微再現(xiàn)位置調(diào)整，結(jié)果，可以以高精度執(zhí)行對實際記錄位置與再現(xiàn)位置之間的偏移的校正。<8.變形例 >以上已經(jīng)描述了根據(jù)本發(fā)明的實施例，但本發(fā)明并不限于這里迄今為止描述的具體示例。例如，在迄今為止的描述中，各自具有不同的凹坑列相位的多個凹坑列(總共六個)被設(shè)定為A至F，并且在半徑方向上，以這六個樣式(凹坑列相位)反復(fù)形成凹坑列，但多個凹坑列的數(shù)目不限于六個，而可以使用更多或更少列。另外，在迄今為止的描述中，例示了這樣一種情況，即凹坑列中的各處凹坑可形成位置的區(qū)間長度設(shè)定為3T的區(qū)間長度，并且凹坑列形成方向上各個凹坑可形成位置的邊緣之間的間隔也被設(shè)定為相同的長度3T，但這些僅是作為示例示出的。各個凹坑可形成位置的區(qū)間長度和凹坑列形成方向上各個凹坑可形成位置的邊緣之間的間隔可以被設(shè)定成滿足以上的1)和2)中記載的條件。另外，在迄今為止的描述中，關(guān)于各自具有不同的凹坑列相位的多個凹坑列，凹坑列被排列成使得，越朝著外周側(cè)凹坑列相位就越提前，而越朝著內(nèi)周側(cè)凹坑列相位就越延遲，但可以設(shè)定各種樣式，例如相反地排列成越朝著內(nèi)周側(cè)凹坑列相位就越提前，而越朝著外周側(cè)凹坑列相位就越延遲，其條件 是多個凹坑列的排列樣式在凹坑列形成方向上不超越光學(xué)極限。另外，在迄今為止的描述中，例示了以螺旋狀形成凹坑列的情況，但也可同心地形成凹坑列。另外，關(guān)于第六實施例，在以上的圖24中，例示了如下情況，即體型記錄介質(zhì)應(yīng)具有的基準面Ref (作為本發(fā)明的其上形成凹坑列的反射面)被形成在體層62的下層側(cè)，但本發(fā)明可良好地應(yīng)用到如接下來的圖31中所示的其中基準面Ref被形成在體層62的上層側(cè)的體型記錄介質(zhì)90。在圖31所示的示例中，如圖所示使用選擇反射膜91作為相當于基準面Ref的反射膜。在此情況下，記錄/再現(xiàn)激光需要到達體層62，因此選擇反射膜91被構(gòu)造為具有波長選擇性，使得記錄/再現(xiàn)激光被透過，而伺服激光被反射。體型記錄介質(zhì)90是通過如下方式形成的在例如由諸如聚碳酸酯之類的樹脂構(gòu)成的基板93 (在此情況下上層側(cè)的面是平坦面)上層疊體層62，通過旋轉(zhuǎn)涂布法等等利用紫外線固化樹脂涂布體層62的上層，通過在所涂布的紫外線固化樹脂的上面?zhèn)劝磯簤耗５臓顟B(tài)中執(zhí)行紫外線照射以形成凹坑列來形成中間層92，并且在中間層92上形成選擇反射膜91并將覆蓋層61層疊在選擇反射膜91上。另外，特別關(guān)于第一實施例，在以上描述中，推拉信號被用作表達循軌方法誤差的循軌誤差信號，但也可使用其他信號，例如DPD (微分相位檢測)循軌信號(相位差循軌信號)，只要該信號表達了光斑位置相對于凹坑位置的誤差方向即可。另外，在迄今為止的描述中，例示了根據(jù)本發(fā)明的盤狀記錄介質(zhì)被應(yīng)用到全息圖記錄介質(zhì)或體型記錄介質(zhì)的情況，但根據(jù)本發(fā)明的盤狀記錄介質(zhì)可被良好地應(yīng)用到其他記錄介質(zhì)，只要像這里的這些記錄介質(zhì)那樣，通過第一光的照射來執(zhí)行信息記錄/再現(xiàn)，并且通過由第二光的照射進行的位置控制來執(zhí)行對從第一光的信息記錄/再現(xiàn)位置的控制，即可。 另外，在迄今為止的描述中，例示了本發(fā)明的光斑位置控制裝置被應(yīng)用到全息圖記錄/再現(xiàn)方法和體記錄/再現(xiàn)方法的情況，但本發(fā)明的光斑位置控制裝置也可被良好地應(yīng)用到其他裝置，只要通過第一光的照射來執(zhí)行信息再現(xiàn)(和記錄)，并且基于照射第二光的結(jié)果來執(zhí)行對第一光的信息再現(xiàn)(和記錄)位置的控制，即可。標號列表
HM全息圖記錄介質(zhì)
LU61覆蓋層
L2記錄層
L3、L5、64反射膜
L4、63、92中間層
L6、65、93 基板
1記錄/再現(xiàn)裝置
2第一激光器
3隔離器
4 IS (圖像穩(wěn)定)功能單元
4A AOM
4B AOD
4C IS控制單元
5擴展器
6、7、13反射鏡
8 SLM (空間光調(diào)制器)
9、23偏振分束器
10、11、17、18中繼透鏡
12分色鏡
14 1/4波長板
15物鏡
16A循軌致動器
16B聚焦致動器
19圖像傳感器
20第二激光器
21透鏡
22、70準直透鏡
24、75會聚透鏡
25柱面透鏡
26、76光電檢測器
OPU 0P2光學(xué)拾取器
27調(diào)制控制單元
28數(shù)據(jù)再現(xiàn)單元29主軸電機
30、45矩陣電路
31時鐘生成電路
32選擇器信號生成/選擇電路
33地址檢測電路
34伺服電路
35,81控制單元
SHl至SH5采樣保持電路
40、42切削電路
41加和微分電路
43與門電路
44 PLL電路
46選擇器信號生成電路
47選擇器信號選擇電路
48、49、52減法器
50位置傳感器
51透鏡偏移量換算單元
60、90體型記錄介質(zhì)
62體層
71固定透鏡
72可移動透鏡
73透鏡驅(qū)動單元
74雙軸致動器
77記錄處理單元
78信號生成單元
79再現(xiàn)處理單元
80地址檢測/誤差信號生成單元
85加法電路
權(quán)利要求
1.一種盤狀記錄介質(zhì)，包括多個凹坑列相位，其中，以螺旋狀或同心狀形成凹坑列，這些凹坑列的一圈凹坑可形成位置之間的間隔受限于預(yù)定的第一間隔，在半徑方向上排列的凹坑列中，凹坑可形成位置在凹坑列形成方向上的間隔被設(shè)定到偏移了預(yù)定的第二間隔的位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的盤狀記錄介質(zhì)，其中，地址信息的記錄是利用在所述凹坑可形成位置處凹坑存在與否的樣式來執(zhí)行的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的盤狀記錄介質(zhì)，其中，對于凹坑列形成方向上的每一圈，凹坑列相位偏移了所述第二間隔的量。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的盤狀記錄介質(zhì)，所述盤狀記錄介質(zhì)是全息圖記錄介質(zhì)，該全息圖記錄介質(zhì)具有位置控制信息記錄層和全息圖記錄層，該位置控制信息記錄層上通過所述凹坑列來執(zhí)行所述地址信息的記錄，該全息圖記錄層處執(zhí)行全息圖記錄/再現(xiàn)。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的盤狀記錄介質(zhì)，所述盤狀記錄介質(zhì)是體型記錄介質(zhì)，該體型記錄介質(zhì)具有位置控制信息記錄層和體層，該位置控制信息記錄層上通過所述凹坑列來執(zhí)行所述地址信息的記錄，該體層上根據(jù)激光的照射而在深度方向上的所需層位置處選擇性地執(zhí)行標記記錄。
6.一種光斑位置控制裝置，包括第一光源，用于對本發(fā)明的盤狀記錄介質(zhì)照射第一光，該盤狀記錄介質(zhì)具有多個凹坑列相位，其中，以螺旋狀或同心狀形成凹坑列，這些凹坑列的一圈凹坑可形成位置之間的間隔受限于預(yù)定的第一間隔，在半徑方向上排列的凹坑列中，凹坑可形成位置在凹坑列形成方向上的間隔被設(shè)定到偏移了預(yù)定的第二間隔的位置；第二光源，用于對所述盤狀記錄介質(zhì)照射第二光；物鏡，所述第一光和所述第二光被輸入到該物鏡，該物鏡用作所述第一光和所述第二光對所述盤狀記錄介質(zhì)的輸出端；循軌控制機構(gòu)，被構(gòu)造成使經(jīng)由所述物鏡照射的第一光和第二光的光軸與所述盤狀記錄介質(zhì)之間在半徑方向上的相對位置關(guān)系改變，從而對所述第一光和第二光執(zhí)行循軌控制；光接收單元，用于接收所述第二光從所述盤狀記錄介質(zhì)反射的反射光；第一循軌誤差信號生成單元，用于基于從所述光接收單元獲得的接收信號來生成第一循軌誤差信號，該第一循軌誤差信號表示所述第二光的光斑相對于在所述盤狀記錄介質(zhì)上形成的凹坑而在所述半徑方向上的位置誤差；時鐘生成單元，用于基于從所述光接收單元獲得的光接收信號，來生成與所述凹坑可形成位置的間隔相應(yīng)的時鐘；定時選擇信號生成單元，用于基于由所述時鐘生成單元生成的時鐘來生成多個定時選擇信號，每個定時選擇信號表示在所述盤狀記錄介質(zhì)上形成的各自具有不同的凹坑列相位的多個凹坑列中每個凹坑列處的所述凹坑可形成位置的定時；第一定時選擇信號選擇單元，用于從所述多個定時選擇信號中選擇第一定時選擇信號；以及第一循軌伺服控制單元，用于基于根據(jù)由所述第一定時選擇信號選擇單元選擇的所述定時選擇信號所表示的定時而提取的、由所述第一循軌誤差信號生成單元生成的所述第一循軌誤差信號的部分區(qū)間的信號，來控制所述循軌控制機構(gòu)以執(zhí)行對所述第二光的光斑的循軌伺服。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光斑位置控制裝置，還包括偏置提供單元，用于對循軌伺服環(huán)提供基于所設(shè)定的校正量信息的偏置。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光斑位置控制裝置，其中，地址信息的記錄是利用在所述盤狀記錄介質(zhì)上的所述凹坑可形成位置處凹坑形成與否的樣式來執(zhí)行的，所述光斑位置控制裝置還包括凹坑存在與否反映信號生成單元，用于基于由所述光接收單元獲得的光接收信號來生成反映所述凹坑的存在與否的凹坑存在與否反映信號；以及地址檢測單元，用于基于根據(jù)由所述第一定時選擇信號選擇單元所選擇的所述定時選擇信號所表示的定時對所述凹坑存在與否反映信號的檢測結(jié)果，來檢測所述地址信息。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光斑位置控制裝置，其中，在所述盤狀記錄介質(zhì)上，所述凹坑列被形成為使得凹坑列相位在凹坑列形成方向上偏移了所述第二間隔的量，所述光斑位置控制裝置還包括相位調(diào)整單元，用于基于由所述地址檢測單元檢測到的地址信息，對于所述凹坑列的每一圈，調(diào)整所述定時選擇信號的相位。
10.一種光斑位置控制裝置，包括第一光源，用于對本發(fā)明的盤狀記錄介質(zhì)照射第一光，該盤狀記錄介質(zhì)具有多個凹坑列相位，其中，以螺旋狀或同心狀形成凹坑列，這些凹坑列的一圈凹坑可形成位置之間的間隔受限于預(yù)定的第一間隔，在半徑方向上排列的凹坑列中，凹坑可形成位置在凹坑列形成方向上的間隔被設(shè)定到偏移了預(yù)定的第二間隔的位置； 第二光源，用于對所述盤狀記錄介質(zhì)照射第二光；物鏡，所述第一光和所述第二光被輸入到該物鏡，該物鏡用作所述第一光和所述第二光對所述盤狀記錄介質(zhì)的輸出端；循軌控制機構(gòu)，被構(gòu)造成使經(jīng)由所述物鏡照射的第一光和第二光的光軸與所述盤狀記錄介質(zhì)之間在半徑方向上的相對位置關(guān)系改變，從而對所述第一光和第二光執(zhí)行循軌控制；光接收單元，用于接收所述第二光從所述盤狀記錄介質(zhì)反射的反射光； 凹坑存在與否反映信號生成單元，用于基于從所述光接收單元獲得的光接收信號，來生成反映所述盤狀記錄介質(zhì)上是否形成了凹坑的凹坑存在與否反映信號；時鐘生成單元，用于基于從所述光接收單元獲得的光接收信號，來生成與所述凹坑可形成位置的間隔相應(yīng)的時鐘；定時選擇信號生成單元，用于基于由所述時鐘生成單元生成的時鐘來生成多個定時選擇信號，每個定時選擇信號表示在所述盤狀記錄介質(zhì)上形成的、各自具有不同的凹坑列相位的多個凹坑列中的每個凹坑列處所述凹坑可形成位置的定時；第二定時選擇信號選擇單元，用于從所述多個定時選擇信號中選擇分別與兩個凹坑列相對應(yīng)的定時選擇信號，所述兩個凹坑列與作為循軌伺服的對象的凹坑列的相位差相同；凹坑存在與否反映信號采樣單元，用于在由所述第二定時選擇信號選擇單元選擇的所述定時選擇信號所表示的各個定時，對由所述凹坑存在與否反映信號生成單元生成的所述凹坑存在與否反映信號的值進行采樣；第二循軌誤差信號生成單元，用于通過計算由所述凹坑存在與否反映信號采樣單元采樣的各個凹坑存在與否反映信號值的差分，來生成第二循軌誤差信號，該第二循軌誤差信號表示所述第二光的光斑位置相對于所述作為循軌伺服的對象的凹坑列在所述半徑方向上的位置誤差；以及第二循軌伺服控制單元，用于基于由所述第二循軌誤差信號生成單元生成的所述第二循軌誤差信號，來控制所述循軌控制機構(gòu)以執(zhí)行對所述第二光的光斑的循軌伺服。
11. 一種光斑位置控制裝置，包括第一光源，用于對本發(fā)明的盤狀記錄介質(zhì)照射第一光，該盤狀記錄介質(zhì)具有多個凹坑列相位，其中，以螺旋狀或同心狀形成凹坑列，這些凹坑列的一圈凹坑可形成位置之間的間隔受限于預(yù)定的第一間隔，在半徑方向上排列的凹坑列中，凹坑可形成位置在凹坑列形成方向上的間隔被設(shè)定到偏移了預(yù)定的第二間隔的位置； 第二光源，用于對所述盤狀記錄介質(zhì)照射第二光；物鏡，所述第一光和所述第二光被輸入到該物鏡，且該物鏡用作所述第一光和所述第二光對所述盤狀記錄介質(zhì)的輸出端；循軌控制機構(gòu)，被構(gòu)造成使經(jīng)由所述物鏡照射的第一光和第二光的光軸與所述盤狀記錄介質(zhì)之間在半徑方向上的相對位置關(guān)系改變，從而對所述第一光和第二光執(zhí)行循軌控制；光接收單元，用于接收所述第二光從所述盤狀記錄介質(zhì)反射的反射光； 第一循軌誤差信號生成單元，用于基于從所述光接收單元獲得的接收信號來生成第一循軌誤差信號，該第一循軌誤差信號表示所述第二光的光斑相對于在所述盤狀記錄介質(zhì)上形成的凹坑在所述半徑方向上的位置誤差；時鐘生成單元，用于基于從所述光接收單元獲得的光接收信號，來生成與所述凹坑可形成位置的間隔相應(yīng)的時鐘；定時選擇信號生成單元，用于基于由所述時鐘生成單元生成的時鐘來生成多個定時選擇信號，每個定時選擇信號表示在所述盤狀記錄介質(zhì)上形成的、各自具有不同的凹坑列相位的多個凹坑列中每個凹坑列處所述凹坑可形成位置的定時；第一定時選擇信號選擇單元，用于從所述多個定時選擇信號中選擇第一定時選擇信號；凹坑部循軌誤差信號值采樣單元，用于在由所述第一定時選擇信號選擇單元選擇的所述定時選擇信號所表示的定時，對由所述第一循軌誤差信號生成單元生成的所述第一循軌誤差信號的值進行采樣；反射鏡部 循軌誤差信號值采樣單元，用于基于由所述時鐘生成單元生成的時鐘，在與反射鏡部相對應(yīng)的定時，對由所述第一循軌誤差信號生成單元生成的所述第一循軌誤差信號的值進行采樣，其中該反射鏡部是所述盤狀記錄介質(zhì)上不是所述凹坑可形成位置的部分；第三循軌誤差信號生成單元，用于通過從由所述凹坑部循軌誤差信號值采樣單元采樣的凹坑部循軌誤差信號值中減去由所述反射鏡部循軌誤差信號值采樣單元采樣的反射鏡部循軌誤差信號值，來生成第三循軌誤差信號；以及第三循軌伺服控制單元，用于基于由所述第三循軌誤差信號生成單元生成的所述第三循軌誤差信號，來控制所述循軌控制機構(gòu)以執(zhí)行對所述第二光的光斑的循軌伺服。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光斑位置控制裝置，還包括 透鏡偏移量檢測單元，用于檢測所述物鏡在所述半徑方向上的位移量并且獲得透鏡偏移量；以及傾斜檢測單元，用于通過從所述反射鏡部循軌誤差信號值中減去由所述透鏡偏移量檢測單元檢測到的透鏡偏移量的值，來執(zhí)行傾斜檢測。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的光斑位置控制裝置，其中，所述透鏡偏移量檢測單元基于位置傳感器的輸出信號來檢測所述透鏡偏移量，該位置傳感器檢測所述物鏡在半徑方向上的位置。
14.根據(jù)權(quán)利要求6或權(quán)利要求10或權(quán)利要求11所述的光斑位置控制裝置，還包括聚焦控制機構(gòu)，用于執(zhí)行對所述物鏡的聚焦控制；聚焦誤差信號生成單元，用于基于從所述光接收單元獲得的光接收信號，來通過象散法生成聚焦誤差信號；聚焦誤差值采樣單元，用于基于由所述時鐘生成單元生成的時鐘，在與反射鏡部相對應(yīng)的定時，對由所述聚焦誤差信號生成單元生成的所述聚焦誤差信號的值進行采樣，其中該反射鏡部是所述盤狀記錄介質(zhì)上不是所述凹坑可形成位置的部分；以及聚焦伺服控制單元，用于基于由所述聚焦誤差值采樣單元獲得的所述聚焦誤差值，來控制所述聚焦控制機構(gòu)以執(zhí)行對所述第二光的聚焦伺服。
15.一種用于光斑位置控制裝置的光斑位置控制方法，該光斑位置控制裝置具有第一光源，用于對本發(fā)明的盤狀記錄介質(zhì)照射第一光，該盤狀記錄介質(zhì)具有多個凹坑列相位， 其中，以螺旋狀或同心狀形成凹坑列，這些凹坑列的一圈凹坑可形成位置之間的間隔受限于預(yù)定的第一間隔，在半徑方向上排列的凹坑列中，凹坑可形成位置在凹坑列形成方向上的間隔被設(shè)定到偏移了預(yù)定的第二間隔的位置；第二光源，用于對所述盤狀記錄介質(zhì)照射第二光；物鏡，所述第一光和所述第二光被輸入到該物鏡，該物鏡用作所述第一光和所述第二光對所述盤狀記錄介質(zhì)的輸出端；循軌控制機構(gòu)，被構(gòu)造成使經(jīng)由所述物鏡照射的第一光和第二光的光軸與所述盤狀記錄介質(zhì)之間在半徑方向上的相對位置關(guān)系改變，從而對所述第一光和第二光執(zhí)行循軌控制；光接收單元，用于接收所述第二光從所述盤狀記錄介質(zhì)反射的反射光，所述光斑位置控制方法包括第一循軌誤差信號生成過程，用于基于從所述光接收單元獲得的接收信號來生成第一循軌誤差信號，該第一循軌誤差信號表示所述第二光的光斑相對于在所述盤狀記錄介質(zhì)上形成的凹坑在所述半徑方向上的位置誤差；時鐘生成過程，用于基于從所述光接收單元獲得的光接收信號，來生成與所述凹坑可形成位置的間隔相應(yīng)的時鐘；定時選擇信號生成過程，用于生成多個定時選擇信號，每個定時選擇信號表示在所述盤狀記錄介質(zhì)上形成的、各自具有不同的凹坑列相位的多個凹坑列中每個凹坑列處所述凹坑可形成位置的定時；定時選擇信號選擇過程，用于從所述多個定時選擇信號中選擇第一定時選擇信號；以及第一循軌伺服控制過程，用于基于根據(jù)在所述定時選擇信號選擇過程中選擇的所述定時選擇信號所表示的定時而提取的、在所述第一循軌誤差信號生成過程中生成的所述第一循軌誤差信號的部分區(qū)間的信號，來控制所述循軌控制機構(gòu)以執(zhí)行對所述第二光的光斑的循軌伺服。
16.一種用于光斑位置控制裝置的光斑位置控制方法，該光斑位置控制裝置具有第一光源，用于對本發(fā)明的盤狀記錄介質(zhì)照射第一光，該盤狀記錄介質(zhì)具有多個凹坑列相位， 其中，以螺旋狀或同心狀形成凹坑列，這些凹坑列的一圈凹坑可形成位置之間的間隔受限于預(yù)定的第一間隔，在半徑方向上排列的凹坑列中，凹坑可形成位置在凹坑列形成方向上的間隔被設(shè)定到偏移了預(yù)定的第二間隔的位置；第二光源，用于對所述盤狀記錄介質(zhì)照射第二光；物鏡，所述第一光和所述第二光被輸入到該物鏡，該物鏡用作所述第一光和所述第二光對所述盤狀記錄介質(zhì)的輸出端；循軌控制機構(gòu)，被構(gòu)造成使經(jīng)由所述物鏡照射的第一光和第二光的光軸與所述盤狀記錄介質(zhì)之間在半徑方向上的相對位置關(guān)系改變，從而對所述第一光和第二光執(zhí)行循軌控制；光接收單元，用于接收所述第二光從所述盤狀記錄介質(zhì)反射的反射光，所述光斑位置控制方法包括凹坑存在與否反映信號生成過程，用于基于由所述光接收單元獲得的光接收信號，來生成反映所述盤狀記錄介質(zhì)上形成的凹坑的存在與否的凹坑存在與否反映信號；時鐘生成過程，用于基于從所述光接收單元獲得的光接收信號，來生成與所述凹坑可形成位置的間隔相應(yīng)的時鐘；定時選擇信號生成過程，用于基于在所述時鐘生成過程中生成的時鐘，來生成多個定時選擇信號，每個定時選擇信號表示在所述盤狀記錄介質(zhì)上形成的、各自具有不同的凹坑列相位的多個凹坑列中每個凹坑列處所述凹坑可形成位置的定時；第二定時選擇信號選擇過程，用于從所述多個定時選擇信號中選擇分別與兩個凹坑列相對應(yīng)的定時選擇信號，所述兩個凹坑列與作為循軌伺服的對象的凹坑列的相位差相同；凹坑存在與否反映信號值采樣過程，用于在所述第二定時選擇信號選擇過程中選擇的所述定時選擇信號所表示的定時，對由所述凹坑存在與否反映信號生成過程生成的所述凹坑存在與否反映信號的值進行采樣；第二循軌誤差信號生成過程，用于通過計算在所述凹坑存在與否反映信號值采樣過程中采樣的各個凹坑存在與否反映信號值的差分，來生成第二循軌誤差信號，該第二循軌誤差信號表示所述第二光的光斑位置相對于所述作為循軌伺服的對象的凹坑列在所述半徑方向上的位置誤差；以及第二循軌伺服控制過程，用于基于在所述第二循軌誤差信號生成過程中生成的所述第二循軌誤差信號，來控制所述循軌控制機構(gòu)以執(zhí)行對所述第二光的光斑的循軌伺服。
17.一種用于光斑位置控制裝置的光斑位置控制方法，該光斑位置控制裝置具有第一光源，用于對本發(fā)明的盤狀記錄介質(zhì)照射第一光，該盤狀記錄介質(zhì)具有多個凹坑列相位， 其中，以螺旋狀或同心狀形成凹坑列，這些凹坑列的一圈凹坑可形成位置之間的間隔受限于預(yù)定的第一間隔，在半徑方向上排列的凹坑列中，凹坑可形成位置在凹坑列形成方向上的間隔被設(shè)定到偏移了預(yù)定的第二間隔的位置；第二光源，用于對所述盤狀記錄介質(zhì)照射第二光；物鏡，所述第一光和所述第二光被輸入到該物鏡，該物鏡用作所述第一光和所述第二光對所述盤狀記錄介質(zhì)的輸出端；循軌控制機構(gòu)，被構(gòu)造成使經(jīng)由所述物鏡照射的第一光和第二光的光軸與所述盤狀記錄介質(zhì)之間在半徑方向上的相對位置關(guān)系改變，從而對所述第一光和第二光執(zhí)行循軌控制；光接收單元，用于接收所述第二光從所述盤狀記錄介質(zhì)反射的反射光，所述光斑位置控制方法包括第一循軌誤差信號生成過程，用于基于由所述光接收單元獲得的光接收信號來生成第一循軌誤差信號，該第一循軌誤差信號表示所述第二光的光斑相對于所述盤狀記錄介質(zhì)上形成的凹坑在所述半徑方向上的位置誤差；時鐘生成過程，用于基于從所述光接收單元獲得的光接收信號，來生成與所述凹坑可形成位置的間隔相應(yīng)的時鐘；定時選擇信號生成過程，用于基于在所述時鐘生成過程中生成的時鐘，來生成多個定時選擇信號，每個定時選擇信號表示在所述盤狀記錄介質(zhì)上形成的、各自具有不同的凹坑列相位的多個凹坑列中每個凹坑列處所述凹坑可形成位置的定時；第一定時選擇信號選擇過程，用于從所述多個定時選擇信號中選擇第一定時選擇信號；凹坑部循軌誤差信號值采樣過程，用于在所述第一定時選擇信號選擇過程中選擇的所述定時選擇信號所表示的定時，對在所述第一循軌誤差信號生成過程中生成的所述第一循軌誤差信號的值進行采樣；反射鏡部循軌誤差信號值采樣過程，用于基于在所述時鐘生成過程中生成的時鐘，在與反射鏡部相對應(yīng)的定時，對在所述第一循軌誤差信號生成過程中生成的所述第一循軌誤差信號的值進行采樣，其中該反射鏡部是所述盤狀記錄介質(zhì)上不是所述凹坑可形成位置的部分；第三循軌誤差信號生成過程，用于通過從在所述凹坑部循軌誤差信號值采樣過程中采樣的凹坑部循軌誤差信號值中減去在所述反射鏡部循軌誤差信號值采樣過程中采樣的反射鏡部循軌誤差信號值，來生成第三循軌誤差信號；以及第三循軌伺服控制過程，用于基于在所述第三循軌誤差信號生成過程中生成的所述第三循軌誤差信號，來控制所述循軌控制機構(gòu)以執(zhí)行對所述第二光的光斑的循軌伺服。
全文摘要
本發(fā)明涉及盤狀記錄介質(zhì)、光斑位置控制裝置、光斑位置控制方法。在通過照射第一光在信息記錄層上執(zhí)行記錄和再現(xiàn)并通過對與信息記錄層分開設(shè)置的位置控制信息記錄層照射第二光來控制信息記錄層上的記錄和再現(xiàn)位置時，可高精度校正由第一和第二光光軸偏離引起的記錄和再現(xiàn)位置間偏離。凹坑可形成位置間隔限于預(yù)定第一間隔的凹坑列以螺旋或同心狀形成并布置在半徑方向，凹坑可形成位置在凹坑列形成方向上的間隔設(shè)定成偏離預(yù)定第二間隔以形成具有多個凹坑列相位的盤狀記錄介質(zhì)。從而可在傳統(tǒng)軌道寬度中布置多個凹坑列。因此在使用把循軌伺服應(yīng)用到根據(jù)再現(xiàn)位置的校正量而選擇的凹坑列的校正方法時，可進行比一個軌道寬度更窄的寬度的高精度校正。
文檔編號G11B7/0065GK102349105SQ201080011429
公開日2012年2月8日 申請日期2010年3月9日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月16日
發(fā)明者堀米順一 申請人:索尼光領(lǐng)公司