專利名稱：記錄裝置和記錄方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本公開涉及對光記錄介質(zhì)執(zhí)行至少記錄的記錄裝置及其方法，該光記錄介質(zhì)包括基準面(reference face)和形成在與該基準面不同的深度位置處的記錄層，在該基準面上，包括半徑位置信息在內(nèi)的信息記錄是以CAV (Constant Angular Velocity，恒定角速度)的方式執(zhí)行的。
背景技術(shù)：
作為通過光的照射來記錄和再現(xiàn)信號的光記錄介質(zhì)，諸如CD (壓縮盤)、DVD (數(shù)字多功能盤)和BD(藍光盤注冊商標)之類的所謂光盤已經(jīng)投入了使用。關(guān)于在與當前普及的⑶、DVD和BD之類有關(guān)的光介質(zhì)的下一代中扮演重要角色的光記錄介質(zhì)，申請人提出了一種在日本未實審專利申請公布No. 2008-135144和 2008-176902中描述的所謂體記錄型(bulk recording type)(也簡稱為體型)光記錄介質(zhì)。例如，如圖21所示，體記錄是過在順次改變合焦(infocus)位置的同時執(zhí)行激光束照射來在體層102上執(zhí)行多層記錄，是一種用于實現(xiàn)大容量記錄的技術(shù)，并且涉及至少具有覆蓋層101和體層(記錄層)102的光記錄介質(zhì)(體型記錄介質(zhì)100)。關(guān)于這種體記錄，在日本未實審專利申請公布No. 2008-135144中，公開了一種記錄技術(shù)，即所謂的微全息圖(micro-hologram)方法。在微全息圖方法中，所謂的全息圖記錄材料被用作體層102的記錄材料。作為全息圖記錄材料，廣泛使用了光聚合型感光樹脂寸寸。微全息圖方法被大體劃分成兩種方法，即正型微全息圖方法和負型微全息圖方法。正型微全息圖方法是將兩個對向的光通量(光通量A和光通量B)聚集在同一位置處并且形成微型干涉圖案(全息圖)以使用該干涉圖案作為記錄標記(recording mark) 的方法。作為與正型微全息圖方法相反的概念，負型微全息圖方法是通過激光照射擦除預(yù)先形成的干涉圖案以使用擦除的部分作為記錄標記的方法。在負微全息圖方法中，必須有預(yù)先在體層102上形成干涉圖案的處理，作為初始化處理。作為與微全息圖方法不同的體記錄方法，申請人還提出了例如在日本未實審專利申請公布No. 2008-176902中公開的形成空穴(空孔或空包)作為記錄標記的記錄方法?？昭ㄓ涗浄椒ㄊ菍τ芍T如光聚合型感光樹脂之類的記錄材料形成的體層102以相對高的功率執(zhí)行激光照射，以在體層102中記錄空穴的方法。如日本未實審專利申請公布No. 2008-176902中所述，如上所述形成的空孔部分具有與體層102中的其他部分不同的折射率，并且有可能在這種邊界部分提高光的反射率。因此，空孔部分充當記錄標記，從而實現(xiàn)了基于空孔標記的形成的信息記錄。由于這種空穴記錄方法不形成全息圖，所以在記錄時可以執(zhí)行從一側(cè)的光照射。即，不必像正型微全息圖方法中那樣將兩個光通量聚集在同一位置以形成記錄標記。與負微全息圖方法相比，有不必進行初始化處理的優(yōu)點。在日本未實審專利申請公布No. 2008-176902中，描述了在執(zhí)行空穴記錄時在記錄前執(zhí)行預(yù)固化光的照射的示例。然而，即使在省略這種預(yù)固化光的照射時，空穴的記錄也是可能的。雖然其是如上所述已為其提出了各種記錄方法的體記錄型(簡稱為體型)光記錄介質(zhì)，但這種體型光記錄介質(zhì)的記錄層(體層)在例如形成多個反射膜這個意義上并不具有明顯的多層結(jié)構(gòu)。即，在體層102中，未設(shè)有一般的多層盤中設(shè)有的用于每個記錄層的反射膜和引導(dǎo)槽(guide groove) 0因此，在圖21所示的體型記錄介質(zhì)100的結(jié)構(gòu)的狀態(tài)中，在進行不形成標記的記錄時，可能不執(zhí)行聚焦伺服(focus servo)或循軌伺服(tracking servo)。由于此原因，在實踐中，體型記錄介質(zhì)100設(shè)有如圖22所示的具有引導(dǎo)槽的基準反射面(基準面)。具體而言，例如，通過在覆蓋層101的下面?zhèn)刃纬砂伎?pit)或溝槽(groove)來形成螺旋狀或同心圓狀的引導(dǎo)槽(位置引導(dǎo)(position guide))，并且在其上形成選擇性反射膜103。在如上所述形成了選擇性反射膜103的覆蓋層101的下層側(cè)，通過作為圖中的中間層104的諸如UV固化樹脂之類的粘合材料層壓體層102。通過如上所述利用凹坑或溝槽形成引導(dǎo)槽，記錄了諸如半徑位置信息和旋轉(zhuǎn)角度信息之類的絕對位置信息(地址信息)。在以下描述中，其上形成這種引導(dǎo)槽并且記錄絕對位置信息的面(在此情況下是選擇性反射膜103的形成面)被稱為“基準面Ref ”。在形成如上所述的介質(zhì)結(jié)構(gòu)之后，在體型記錄介質(zhì)100中，如圖23中所示，與用于記錄(或再現(xiàn))標記的激光(以下稱為記錄再現(xiàn)激光，或簡稱為記錄再現(xiàn)光)分開地，照射作為用于位置控制的激光的伺服激光(簡稱為伺服光)。如圖所示，經(jīng)由共同的物鏡，用記錄再現(xiàn)激光和伺服激光來照射體型記錄介質(zhì) 100。在此情況下，如果伺服激光到達體層102，則對于體層102中的標記記錄可能有不利影響。由于此原因，在現(xiàn)有技術(shù)的體記錄方法中，具有與記錄再現(xiàn)激光的波段不同的波段的激光被用作伺服激光，并且設(shè)置了具有如下波長選擇性的選擇性反射膜103作為形成在基準面Ref上的反射膜該波長選擇性使得伺服激光被反射，而記錄再現(xiàn)激光則透過。在上述假設(shè)下，將參考圖23來描述對體型記錄介質(zhì)100進行標記記錄時的操作。首先，當對其上沒有形成引導(dǎo)槽或反射膜的體層102執(zhí)行多層記錄時，預(yù)先確定在體層102中的深度方向上何處是用于記錄標記的層位置。在圖中，作為用于在體層102 中形成標記的層位置(標記形成層位置也稱為信息記錄層位置)，例示了設(shè)定第一信息記錄層位置Ll至第五信息記錄層位置L5這總共五個信息記錄層位置L的情況。如圖所示， 第一信息記錄層位置Ll被設(shè)定為與其上形成引導(dǎo)槽的選擇性反射膜103(基準面Ref)在聚焦方向(深度方向)上相隔第一偏置of-Ll的位置。第二信息記錄層位置L2、第三信息記錄層位置L3、第四信息記錄層位置L4和第五信息記錄層位置L5被設(shè)定為與基準面Ref 分別相隔第二偏置of-L2、第三偏置of_L3、第四偏置of-L4和第五偏置of_L5的位置。在不形成標記的記錄期間，可能不會執(zhí)行基于記錄再現(xiàn)激光的反射光的對體層102中的每個層位置的聚焦伺服和循軌伺服。因此，記錄期間對物鏡的聚焦伺服控制和循軌伺服控制是基于伺服激光的反射光，以使得伺服激光的光斑位置相對于基準面Ref追隨引導(dǎo)槽的方式來執(zhí)行的。然而，為了記錄標記，記錄再現(xiàn)激光應(yīng)當?shù)竭_比基準面Ref形成在更低側(cè)的體層 102。由于此原因，在此情況下的光學(xué)系統(tǒng)中，與物鏡的聚焦機構(gòu)分離地設(shè)有用于獨立調(diào)整記錄再現(xiàn)激光的合焦位置的記錄再現(xiàn)光聚焦機構(gòu)。具體而言，這種聚焦機構(gòu)設(shè)有改變輸入到物鏡的記錄再現(xiàn)激光的準直的擴展器 (expander)。即，通過改變輸入到物鏡的記錄再現(xiàn)激光的準直，可以獨立于伺服激光地調(diào)整記錄再現(xiàn)激光的合焦位置。通過設(shè)置用于這種記錄再現(xiàn)激光的聚焦機構(gòu)，通過基于來自基準面Ref的伺服激光的反射光執(zhí)行對物鏡的聚焦控制和循軌伺服控制，可以在體層102中的必要的信息記錄層位置L處調(diào)整記錄再現(xiàn)激光的合焦位置，并且可以在緊挨形成于基準面Ref的引導(dǎo)槽下方的位置處控制記錄再現(xiàn)激光的合焦位置。當對已經(jīng)被執(zhí)行了標記記錄的體型記錄介質(zhì)100執(zhí)行再現(xiàn)時，不必像記錄期間那樣基于伺服激光的反射光來控制物鏡的位置。即，在再現(xiàn)期間，物鏡的聚焦和循軌伺服控制可基于記錄再現(xiàn)激光的反射光、對作為再現(xiàn)對象的信息記錄層位置L(也稱為再現(xiàn)期間的信息記錄層L)處形成的標記列(mark row)執(zhí)行?，F(xiàn)有技術(shù)的示例在日本未實審專利申請公布No. 2001-118245中公開。如上所述，在對體型記錄介質(zhì)100進行記錄時，通過在用伺服激光對基準面Ref執(zhí)行聚焦伺服和循軌伺服的同時將記錄再現(xiàn)激光合焦在漲中的必要信息記錄層位置L，將標記列記錄在體層102中的期望位置處。如上所述，通過形成基于例如凹坑列(pit row)(標記列)或溝槽之類的位置引導(dǎo)來在基準面Ref上記錄諸如絕對值位置信息之類的信息。然而，考慮不用CLV (Constant Linear Velocity，恒定線速度)方法而是用CAV (恒定角速度)方法來對基準面Ref執(zhí)行
信息記錄。當如上所述用CAV方法來執(zhí)行對基準面Ref的信息記錄時，自然，體型記錄介質(zhì) 100是按CAV旋轉(zhuǎn)的(恒定速度旋轉(zhuǎn))。當體型記錄介質(zhì)100如上所述按CAV旋轉(zhuǎn)時，體層 102上的標記記錄也是通過CAV方法執(zhí)行的。然而，正如所公知的，基于CAV方法的記錄與基于CLV方法的記錄相比導(dǎo)致記錄密度的減小。由于此原因，難以避免體層102的記錄容量的減小。

發(fā)明內(nèi)容
希望對于包括通過CAV方法記錄了信息的基準面和設(shè)在與基準面不同的深度位置處的記錄層的光記錄介質(zhì)，提高記錄層上的標記的記錄密度并且增大記錄層的記錄容量。根據(jù)本公開的一個實施例，一種記錄裝置被如下配置。記錄裝置包括旋轉(zhuǎn)驅(qū)動單元，該旋轉(zhuǎn)驅(qū)動單元以恒定的速度旋轉(zhuǎn)光介質(zhì)，該光介質(zhì)具有基準面和記錄層，該基準面上通過CAV方法(恒定角速度)記錄了包括半徑位置信息在內(nèi)的信息，該記錄層形成在與該基準面不同的深度位置處；
記錄裝置包括光照射單元，該光照射單元經(jīng)由共同的物鏡利用第一光和第二光來照射光記錄介質(zhì)，該第一光將被照射到記錄層上，該第二光將被照射到基準面上。記錄裝置包括合焦位置調(diào)整單元，該合焦位置調(diào)整單元執(zhí)行調(diào)整以在第二光合焦在基準面上的情況下使第一光聚焦在記錄層中的必要位置處。記錄裝置包括光接收單元，該光接收單元接收第二光的來自基準面的反射光。記錄裝置包括再現(xiàn)時鐘生成單元，該再現(xiàn)時鐘生成單元基于由光接收單元獲得的光接收信號來生成再現(xiàn)時鐘。記錄裝置包括半徑位置檢測單元，該半徑位置檢測單元基于由光接收單元獲得的光接收信號和再現(xiàn)時鐘來檢測在基準面上記錄的半徑位置信息。記錄裝置包括頻率調(diào)整單元，該頻率調(diào)整單元根據(jù)由半徑位置檢測單元檢測到的半徑位置信息來改變輸入的基準信號的頻率。記錄裝置包括記錄單元，該記錄單元通過利用由頻率調(diào)整單元獲得的信號作為記錄時鐘驅(qū)動第一光的光源發(fā)光來對記錄層執(zhí)行標記記錄。在本公開中，假設(shè)具有按CAV記錄了包括半徑位置信息在內(nèi)的信息的基準面以及記錄層的光記錄介質(zhì)被以恒定的速度旋轉(zhuǎn)以對記錄層執(zhí)行標記記錄。在本公開中，在該假設(shè)下，基于通過根據(jù)在基準面上記錄的半徑位置信息改變基準信號的頻率而生成的記錄時鐘來對記錄層執(zhí)行標記記錄。如上所述，通過基于通過根據(jù)半徑位置信息改變頻率而生成的記錄時鐘執(zhí)行標記記錄，與單純根據(jù)光記錄介質(zhì)的恒定速度旋轉(zhuǎn)對記錄層執(zhí)行CAV記錄的情況相比，可以提高記錄層的標記記錄密度。根據(jù)本公開，在具有按CAV記錄了包括半徑位置信息在內(nèi)的信息的基準面以及記錄層的光記錄介質(zhì)被以恒定速度旋轉(zhuǎn)的假設(shè)下，基于通過根據(jù)半徑位置改變頻率而生成的記錄時鐘來執(zhí)行記錄層上的標記記錄，從而可以提高記錄層上的標記的記錄密度。結(jié)果，可以提高記錄層的記錄容量。


圖1是示出根據(jù)相關(guān)示例和實施例作為記錄和再現(xiàn)對象的體型記錄介質(zhì)的截面結(jié)構(gòu)的示圖。圖2是示出相關(guān)示例和實施例的記錄裝置的光學(xué)系統(tǒng)的配置的示圖。圖3A和圖;3B是示意性地示出由偏斜(skew)導(dǎo)致的記錄再現(xiàn)激光與伺服激光之間的光斑位置偏離(spot position deviation)的示圖。圖4A和圖4B是示意性地示出由透鏡偏移(lens shift)導(dǎo)致的記錄再現(xiàn)激光與伺服激光之間的光斑位置偏離的示圖。圖5是示出相關(guān)示例和實施例中使用的體型記錄介質(zhì)的基準面的部分放大表面的平面圖。圖6是示出整個基準面上的凹坑的形成形態(tài)的示圖。圖7A、圖7B和圖7C是示出地址信息格式的示圖。圖8是示意性地示出由于體型記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)引起的基準面上的伺服激光的光斑的移動以及在此時獲得的加和信號(sum signal)、加和差分信號(sum differentialsignal)和PP(push-pull，推-拉)信號的波形的關(guān)系的示圖。圖9是示出峰位置檢測的具體方法的示圖。圖10是示意性地示出根據(jù)表示峰定時的定時信號生成的時鐘、基于時鐘生成的每個選擇器信號的波形以及在基準面上形成的凹坑列(的一部分)的關(guān)系的示圖。圖IlA和圖IlB是示出光斑位置的校正的具體方法的示圖。圖12是示出作為相關(guān)示例的整個記錄裝置的內(nèi)部配置的框圖。圖13是示出時鐘生成單元的內(nèi)部配置的示圖。圖14是示出選擇器信號生成和選擇單元的內(nèi)部配置的示圖。圖15是示出相關(guān)示例的問題的示圖。圖16是示出作為實施例的整個記錄裝置的內(nèi)部配置的框圖。圖17是示出作為實施例的記錄方法的效果的示圖。圖18是示出作為修改例的記錄裝置的配置的示圖。圖19是示出作為另一修改例的記錄裝置的配置的示圖。圖20是示出作為修改例的光記錄介質(zhì)的截面結(jié)構(gòu)的示圖。圖21是示出體記錄方法的示圖。圖22是示出具有基準面的實際體型記錄介質(zhì)的截面結(jié)構(gòu)示例的示圖。圖23是示出對體型記錄介質(zhì)的標記記錄和再現(xiàn)方法的示圖。
具體實施例方式
下面，將描述用于實現(xiàn)本公開的優(yōu)選實施例(以下稱為實施例)。 在說明書中，在描述實施例之前，首先將描述申請人先前提出的相關(guān)示例。 描述將按以下順序執(zhí)行。
1.相關(guān)示例
1-1.作為記錄和再現(xiàn)對象的光記錄介質(zhì) 1-2.光學(xué)系統(tǒng)的配置 1-3.光斑位置偏離的問題 1-4.基準面的結(jié)構(gòu) 1-5.地址信息 1-6.循軌伺服的具體方法 1-7.具體的光斑位置偏離校正方法
1-8.記錄裝置的整體內(nèi)部配置
2.實施例
2-1.相關(guān)示例的問題 2-2.實施例的記錄裝置的配置
3.修改例 1.相關(guān)示例
1-1.作為記錄和再現(xiàn)對象的光介質(zhì)
圖1示出了根據(jù)相關(guān)示例(和實施例)作為記錄和再現(xiàn)對象的光記錄介質(zhì)的截[ 結(jié)構(gòu)示圖。
包括相關(guān)示例在內(nèi)，下文中將描述的實施例中作為記錄和再現(xiàn)對象的光記錄介質(zhì)是所謂的體記錄型光介質(zhì)，并且以下被稱為體型記錄介質(zhì)1。體型光介質(zhì)指的是用于所謂的體記錄的光記錄介質(zhì)。體記錄是通過順次地改變合焦位置對作為體層5的記錄層執(zhí)行激光照射以執(zhí)行不具有像一般多層光盤那樣形成多個記錄膜的多層結(jié)構(gòu)的多層記錄的技術(shù)。在圖1中，體型記錄介質(zhì)1是盤狀光記錄介質(zhì)，并且標記記錄(信息記錄)是通過對被驅(qū)動旋轉(zhuǎn)的體型記錄介質(zhì)1照射激光來執(zhí)行的。記錄信息的再現(xiàn)也是通過對被驅(qū)動旋轉(zhuǎn)的體型記錄介質(zhì)1照射激光來執(zhí)行的。光記錄介質(zhì)是通過光的照射來記錄和再現(xiàn)信息的記錄介質(zhì)的總稱。如圖所示，體型記錄介質(zhì)1按照從上層側(cè)起的順序設(shè)有覆蓋層2、選擇性反射膜3、 中間層4和體層5。在本說明書中，“上層側(cè)”指的是來自下文中將描述的記錄裝置(記錄和再現(xiàn)裝置 10) 一側(cè)的激光的入射面被設(shè)為上面時的上層側(cè)。在本說明書中，使用了“深度方向”。深度方向指的是與基于“上層側(cè)”的定義的上下方向一致的方向(即與來自記錄裝置側(cè)的激光的入射方向平行的方向聚焦方向)。在體型記錄介質(zhì)1中，覆蓋層2由諸如聚碳酸酯或壓克力之類的樹脂形成，并且作為用于引導(dǎo)記錄和再現(xiàn)位置的位置引導(dǎo)的、下文中將描述的凹坑列如圖所示形成在其下側(cè)，從而形成凹凸的截面形態(tài)。覆蓋層2是通過使用設(shè)有凹坑列的壓模進行注壓成型來生成的。體型記錄介質(zhì)1中的凹坑列的具體形成形態(tài)將在下文中描述。選擇性反射膜3形成在設(shè)有凹坑列的覆蓋層2的下面?zhèn)?。在參考圖23描述的體記錄方法中，用于基于諸如凹坑列之類的位置引導(dǎo)獲得循軌或聚焦誤差信號的光(伺服激光)與用于對作為記錄層的體層5執(zhí)行標記記錄和再現(xiàn)的光(記錄再現(xiàn)激光)是分開照射的。在此情況下，如果伺服激光到達體層5，則對于體層5中的標記記錄可能有不利影響。由于此原因，具有反射伺服激光并使記錄再現(xiàn)激光透過的選擇性的反射膜是必要的。在現(xiàn)有技術(shù)中，在體記錄方法中，具有不同波段的激光被用于記錄再現(xiàn)激光和伺服激光，從而具有反射與伺服激光相同波段的光并且使其他波長的光透過的波長選擇性的選擇性反射膜被用作選擇性反射膜3。作為記錄層的體層5例如通過由諸如UV固化樹脂之類的粘合材料形成的中間層 4被層壓(粘合)到選擇性反射膜3的下層側(cè)上。作為體層5的形成材料(記錄材料)，根據(jù)所采用的體記錄方法，例如上述的正型微全息圖方法、負型微全息圖方法、空穴記錄方法等等，可以采用適當?shù)淖罴巡牧?。對于本公開中對體層的標記記錄方法沒有特別限制，可以采用體記錄方法范圍內(nèi)的任意方法。作為以下描述的示例，例示了采用空穴記錄方法的情況。當對其上沒有形成引導(dǎo)槽或反射膜的體層5執(zhí)行多層記錄時，預(yù)先確定體層5中的深度方向上的何處是記錄標記的層位置(參見圖23)。在此情況下，與圖23的情況一樣， 作為在體層5中形成標記的層位置(標記形成位置也稱為信息記錄層位置)，也設(shè)定了諸如第一信息記錄層位置Ll至第五信息記錄層位置L5這樣的總共5個信息記錄層位置L。
在此情況下，從基準面Ref到信息記錄層位置L的偏置of_L的信息是由下文中將描述的記錄和再現(xiàn)裝置10(以及記錄和再現(xiàn)裝置50)中的控制器40設(shè)定的。1-2.光學(xué)系統(tǒng)的配置圖2是主要示出對如上所述的體記錄介質(zhì)1執(zhí)行記錄和再現(xiàn)的記錄裝置的光學(xué)系統(tǒng)的示圖。具體而言，主要示出了記錄和再現(xiàn)裝置10的光學(xué)讀取頭OP的內(nèi)部配置。在圖4A和4B中，加載在記錄和再現(xiàn)裝置10上的體型記錄介質(zhì)1被設(shè)為其中心孔箝夾在記錄和再現(xiàn)裝置10中的預(yù)定位置處，并且被利用未示出的主軸電機43 (圖1 保持為可旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)。光學(xué)讀取頭OP被提供來利用記錄再現(xiàn)激光和伺服激光照射被主軸電機43旋轉(zhuǎn)的體型記錄介質(zhì)1。光學(xué)讀取頭OP中設(shè)有記錄再現(xiàn)激光器11和伺服激光器對，其中記錄再現(xiàn)激光器 11是用于執(zhí)行基于標記的信息記錄和對用標記記錄的信息的再現(xiàn)的記錄再現(xiàn)激光的光源， 伺服激光器M是用于利用在基準面Ref上形成的位置引導(dǎo)執(zhí)行位置控制的伺服激光的光源。這里，如上所述，記錄再現(xiàn)激光和伺服激光具有不同的波長。在此示例的情況下， 記錄再現(xiàn)激光的波長大約為405nm (所謂的藍紫激光)，伺服激光的波長大約為640nm (紅激光)。光學(xué)讀取頭OP中設(shè)有物鏡20，其是向體型記錄介質(zhì)1輸出記錄再現(xiàn)激光和伺服激光的輸出端。設(shè)有用于接收記錄再現(xiàn)激光的來自體型記錄介質(zhì)1的反射光的記錄再現(xiàn)光接收單元23和用于接收伺服激光的來自體型記錄介質(zhì)1的反射光的伺服光接收單元四。光學(xué)讀取頭OP中設(shè)有一光學(xué)系統(tǒng)，用于把從記錄再現(xiàn)激光器11輸出的記錄再現(xiàn)激光導(dǎo)引至物鏡20，并且把從體型記錄介質(zhì)1輸入到物鏡20的記錄再現(xiàn)激光的反射光導(dǎo)引至記錄再現(xiàn)光接收單元23。具體而言，從記錄再現(xiàn)激光器11輸出的記錄再現(xiàn)激光經(jīng)由準直透鏡12成為了平行光，然后被輸入到偏振分束器13。偏振分束器13允許如上所述從記錄再現(xiàn)激光器11側(cè)輸入的記錄再現(xiàn)激光透過。透過偏振分束器13的記錄再現(xiàn)激光被輸入到由固定透鏡14、可移動透鏡15和透鏡驅(qū)動單元16形成的擴展器。擴展器對應(yīng)于記錄再現(xiàn)光聚焦機構(gòu)，擴展器的接近作為光源的記錄再現(xiàn)激光器11的一側(cè)被認為是固定透鏡14，可移動透鏡15設(shè)在遠離記錄再現(xiàn)激光器11的一側(cè)，并且可移動透鏡15被透鏡驅(qū)動單元16在與記錄再現(xiàn)激光的光軸平行的方向上驅(qū)動，從而對記錄再現(xiàn)激光執(zhí)行獨立的聚焦控制。如下文中將描述的，記錄再現(xiàn)聚焦機構(gòu)中的透鏡驅(qū)動單元16是由圖13中所示的控制器40根據(jù)與被設(shè)為對象的信息記錄層位置L相對應(yīng)地設(shè)定的偏置of-L的值來驅(qū)動的。經(jīng)過構(gòu)成記錄再現(xiàn)聚焦機構(gòu)的固定透鏡14和可移動透鏡15的記錄再現(xiàn)激光如圖所示被鏡子17反射，然后經(jīng)由1/4波片18被輸入到分色棱鏡19。在分色棱鏡19中，選擇性反射面反射與記錄再現(xiàn)激光在相同波段中的光并且允許具有其他波長的光透過。因此，如上所述輸入的記錄再現(xiàn)激光從分色棱鏡19反射。
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從分色棱鏡19反射的記錄再現(xiàn)激光如圖所示經(jīng)由物鏡20被照射到體型記錄介質(zhì) 1。物鏡20設(shè)有2軸致動器21，其將物鏡20保持為在聚焦方向(靠近和退離體型記錄介質(zhì)1的方向)和循軌方向(與聚焦方向垂直的方向體型記錄介質(zhì)1的半徑方向)上可改變位置。2軸致動器21設(shè)有聚焦線圈和循軌線圈，它們分別被提供以驅(qū)動信號(下文中將描述的驅(qū)動信號FD和TD)，從而在聚焦方向和循軌方向上改變物鏡20的位置。在再現(xiàn)期間，如上所述利用記錄再現(xiàn)激光照射體型記錄介質(zhì)1，從而可從體型記錄介質(zhì)1 (體層5中作為再現(xiàn)對象的信息記錄層位置L中記錄的標記列)獲得記錄再現(xiàn)激光的反射光。如上所述獲得的記錄再現(xiàn)激光的反射光經(jīng)由物鏡20被導(dǎo)引至分色棱鏡19，并且從分色棱鏡19反射。從分色棱鏡19反射的記錄再現(xiàn)激光的反射光經(jīng)過1/4波片18、鏡子17和記錄再現(xiàn)聚焦機構(gòu)(從可移動透鏡15到固定透鏡14)，然后被輸入到偏振分束器13。如上所述輸入到偏振分束器13的記錄再現(xiàn)激光的反射光(返回光)的偏振方向由于1/4波片18的作用和從體型記錄介質(zhì)1反射時的作用，相對于從記錄再現(xiàn)激光器11 側(cè)輸入到偏振分束器13的記錄再現(xiàn)激光(前向光)改變了 90°。結(jié)果，如上所述輸入的記錄再現(xiàn)激光的反射光從偏振分束器13反射。如上所述從偏振分束器13反射的記錄再現(xiàn)激光的反射光經(jīng)由聚光透鏡22被聚集在記錄再現(xiàn)光接收單元23的光接收面上。除了關(guān)于記錄再現(xiàn)激光的光學(xué)系統(tǒng)的配置以外，光學(xué)讀取頭OP中還設(shè)有用于把從伺服激光器M輸出的伺服激光導(dǎo)引至物鏡20并且把從體型記錄介質(zhì)1輸入到物鏡20 的伺服激光的反射光導(dǎo)引至伺服光接收單元四的光學(xué)系統(tǒng)。如圖所示，從伺服激光器M輸出的伺服激光經(jīng)由準直透鏡25成為平行光，然后被輸入到偏振分束器26。偏振分束器沈允許如上所述從伺服激光器M側(cè)輸入的伺服激光 (前向光)透過。透過偏振分束器沈的伺服激光經(jīng)由1/4波片27被輸入到分色棱鏡19。如上所述，由于分色棱鏡19反射與記錄再現(xiàn)激光在相同波段中的光并且允許具有其他波長的光透過，所以伺服激光透過分色棱鏡19并經(jīng)由物鏡20被照射到體型記錄介質(zhì)1。通過如上所述將伺服激光照射到體型記錄介質(zhì)1可獲得的伺服激光的反射光(來自基準面Ref的反射光)在經(jīng)過物鏡20之后經(jīng)過分色棱鏡19，并且經(jīng)由1/4波片27被輸入到偏振分束器26。與先前的記錄再現(xiàn)激光的情況一樣，由于如上所述的1/4波片27的作用和體型記錄介質(zhì)1中的反射期間的作用，從體型記錄介質(zhì)1側(cè)輸入的伺服激光的反射光(返回光) 的偏振方向相對于前向光有90°的不同，從而作為返回光的伺服激光的反射光從偏振分束器26反射。從偏振分束器沈反射的伺服激光的反射光經(jīng)由聚光透鏡觀被聚集在伺服光接收單元四的光接收面上。雖然在圖中沒有示出，但在實踐中，記錄和再現(xiàn)裝置10設(shè)有滑動驅(qū)動單元，其驅(qū)動上述光學(xué)讀取頭OP整體在循軌方向上滑動，并且激光的照射位置可通過驅(qū)動由該滑動驅(qū)動單元驅(qū)動的光學(xué)讀取頭OP來大幅改變。在此情況下，光學(xué)讀取頭OP設(shè)有位置傳感器30和偏斜傳感器31，但下文中將再次描述它們。1-3.光斑位置偏離的問題當采用上述體記錄方法時，由于所謂的偏斜(傾斜)的發(fā)生或者由盤偏心(disc eccentricity)導(dǎo)致的物鏡的透鏡偏移的發(fā)生，在記錄再現(xiàn)激光與伺服激光之間發(fā)生記錄面內(nèi)方向上的光斑位置偏離。圖3A和圖;3B示意性地示出了由偏斜的發(fā)生所導(dǎo)致的記錄再現(xiàn)激光與伺服激光之間的光斑位置偏離。在圖3A所示的無偏斜狀態(tài)中，伺服激光和記錄再現(xiàn)激光的光斑位置在記錄面內(nèi)方向上是一致的。相反，如圖3B所示，隨著偏斜的發(fā)生，在伺服激光與記錄再現(xiàn)激光之間發(fā)生光軸上的差異，并且圖中所示的光斑位置偏離ΔΧ發(fā)生。圖4Α和圖4Β示意性地示出了由透鏡偏移導(dǎo)致的記錄再現(xiàn)激光與伺服激光之間的光斑位置偏離。在圖4Α所示的無透鏡偏移的狀態(tài)中，物鏡20處于基準位置處，并且物鏡20的中心和入射到物鏡20的每個激光的光軸c是相互一致的。光學(xué)系統(tǒng)被設(shè)計成使得，在如上所述物鏡處于基準位置的狀態(tài)中，每個激光的在記錄面內(nèi)方向上的光斑位置是一致的。相反，當物鏡20當如圖20所示由于循軌伺服控制而從基準位置偏移以追隨盤偏心(在此情況下向紙面上的左方偏移)時，圖中所示的光斑位置偏離ΔΧ發(fā)生。由透鏡偏移導(dǎo)致的光斑位置偏離是由于伺服激光和記錄再現(xiàn)激光相對于物鏡的入射形態(tài)的差異導(dǎo)致的。具體而言，伺服激光按照基本平行的光入射到物鏡，而記錄再現(xiàn)激光按照非平行光入射。隨著由偏斜或透鏡偏移導(dǎo)致的伺服激光和記錄再現(xiàn)激光的光斑位置偏離的發(fā)生， 體層102中的信息記錄位置上的差異發(fā)生。即，從以上描述可知，記錄期間記錄再現(xiàn)激光的光斑位置是通過執(zhí)行基于伺服激光的反射光對物鏡20的循軌伺服控制來控制的，從而記錄可能由于上述的光斑位置偏離而不在體層102中的期望位置處執(zhí)行。此時，根據(jù)偏斜偏心量或軌道間距(位置引導(dǎo)的形成間隔)的設(shè)定，信息記錄位置在相鄰軌道之間可能是重疊的。具體而言，盤偏心或偏斜是由盤被箝夾到主軸電機43的方式引起的并且在每次盤被裝載時可能以不同的方式發(fā)生。因此，例如，如果對盤執(zhí)行基于盤切換的重寫，則在先前記錄時發(fā)生的偏斜偏心的形態(tài)和在重寫時發(fā)生的偏斜偏心的形態(tài)是不同的。結(jié)果，存在這樣的問題，即已記錄部分的標記列和重寫部分的標記列之間發(fā)生重疊，或者在一些情況下它們相互交叉。如果這樣，則難以對再現(xiàn)信號進行正確的再現(xiàn)。作為用于防止標記列的重疊或交叉的發(fā)生的一種方法，在基準面Ref上可將軌道間距設(shè)定得較寬。然而，當基準面Ref的軌道間距被加寬時，自然，體層102中的記錄容量減小了。為了防止信息記錄位置的偏離的發(fā)生，根據(jù)對偏斜或透鏡偏移的檢測結(jié)果來校正記錄再現(xiàn)激光的光斑位置偏離。
從圖3A、圖;3B、圖4A和圖4B可知，偏斜發(fā)生量和光斑位置偏離量以及透鏡偏移量和光斑位置偏離量各自具有關(guān)聯(lián)。據(jù)此，根據(jù)對偏斜量的檢測結(jié)果來計算由偏斜導(dǎo)致的光斑位置偏離的校正量，并且根據(jù)對透鏡偏移量的檢測結(jié)果來計算由透鏡偏移導(dǎo)致的光斑位置偏離的校正量，然后計算其加和，從而可以計算出用于對由偏斜和透鏡偏移兩者導(dǎo)致的光斑位置偏離進行校正的校正量。此外，可以基一獻計獻策上出的校正量來校正信息記錄位置的偏離。為了執(zhí)行對信息記錄位置的偏離的校正，記錄和再現(xiàn)裝置10設(shè)有圖2所示的位置傳感器30和偏斜傳感器31。在圖2中，位置傳感器30設(shè)在物鏡20附近，并且檢測物鏡20在循軌方向上的位置(相對于基準位置的偏離量)。即，檢測物鏡20的透鏡偏移量。位置傳感器30的位置檢測信號ps-ol被提供給下文中將描述的控制器41。除位置傳感器30以外，也可以設(shè)想其他各種手段來作為用于檢測透鏡偏移量的手段。偏斜傳感器31檢測體型記錄介質(zhì)1的傾斜(偏斜)。例如，在此情況下，偏斜傳感器31設(shè)有以預(yù)定角度的光照射體型記錄介質(zhì)1的光照射單元和接收由光照射單元照射的光的來自體型記錄介質(zhì)1的反射光的光接收單元，并且檢測光接收單元的反射光的光接收位置的偏離量來檢測體型記錄介質(zhì)1的傾斜量。由偏斜傳感器31檢測到的被提供給控制器40檢測信號(也稱為偏斜檢測信號 sk) ο檢測偏斜的具體配置不限于以上例示的配置。作為用于基于根據(jù)位置傳感器30或偏斜傳感器31的檢測結(jié)果獲得的信息記錄位置的偏離量來校正信息記錄位置的一種具體方法，例如有基于檢測到的偏離量來改變記錄再現(xiàn)激光的光軸的方法。具體而言，可以通過利用例如恒流鏡(galvano mirror)之類的改變記錄再現(xiàn)激光的光軸來校正信息記錄位置的偏離。然而，為了通過改變記錄再現(xiàn)激光的光軸的方法校正信息記錄位置的偏離，必須添加諸如恒流鏡之類的單獨配置，從而增加了組件的數(shù)目并且提高了生產(chǎn)成本。在相關(guān)示例(以及下文中將描述的實施例)中，對信息記錄位置的偏離的校正是通過使循軌伺服對象位置從原始對象位置(即要記錄的軌道)偏移來實現(xiàn)的。即，在如上所述基于伺服激光沿著位置引導(dǎo)對物鏡20的循軌伺服控制下，循軌伺服對象位置從要記錄的軌道偏移與校正量相對應(yīng)的程度。結(jié)果，可以控制信息記錄位置與要記錄的軌道位置一致。如上所述，通過使循軌伺服對象位置從原始對象位置偏移的方法，例如，用于調(diào)整記錄再現(xiàn)激光的光軸的單獨額外配置就不必要了，從而可以減少組件的數(shù)目并且降低生產(chǎn)成本。1-4.基準面的結(jié)構(gòu)信息記錄位置的校正是通過如上所述偏置基于伺服激光的循軌伺服對象位置來執(zhí)行，從而圖1所示的體型記錄介質(zhì)1在基準面Ref上設(shè)有下文中將描述的形態(tài)的凹坑列。圖5是部分放大體型記錄介質(zhì)1中的基準面Ref (選擇性反射膜幻的表面的平面圖。
在圖5中，紙面上從左到右的方向是凹坑列的形成方向，即軌道的形成方向。在此情況下，由于體型記錄介質(zhì)1的旋轉(zhuǎn)，伺服激光的光斑在紙面上從左到右移動。與凹坑列的形成方向垂直的方向(紙面的縱向)是體型記錄介質(zhì)1的半徑方向。在圖5中，圖中的白圓表示的A至F表示凹坑可形成位置。S卩，在基準面Ref中， 凹坑僅形成在凹坑可形成位置處，并且凹坑不形成在除凹坑可形成位置以外的位置處。圖中的A至F的符號的分類表示凹坑列的分類(在半徑方向上布置的凹坑列的分類)，而符號A至F所附的數(shù)字表示凹坑列上的凹坑可形成位置的分類。圖中的黑粗線表示的間隔表示在現(xiàn)有技術(shù)的體型記錄介質(zhì)1中可實現(xiàn)的最小軌道間距(現(xiàn)有技術(shù)的軌道間距)。由此可知，在此示例的體型記錄介質(zhì)1中，在半徑方向上， 在現(xiàn)有技術(shù)的極限1軌道寬度內(nèi)，布置了總共6個凹坑列A至F。然而，當單純在1軌道寬度的現(xiàn)有技術(shù)極限內(nèi)布置多個凹坑列時，凹坑的形成位置可能在凹坑列形成方向上重疊，從而在凹坑列形成方向上凹坑的間隔可能超過光學(xué)極限。在此示例中，確定以下條件，以使得在現(xiàn)有技術(shù)的極限1軌道寬度內(nèi)布置的凹坑列A至F之間在凹坑列形成方向上的間隔不超過光學(xué)極限，并且設(shè)定以下條件1)在凹坑列A至F中，將凹坑可形成位置的間隔限制于預(yù)定的第一間隔；以及2)受到上述限制的凹坑列A至F中每一個的凹坑可形成位置的間隔被布置成使得這些凹坑可形成位置在凹坑列形成方向上偏離預(yù)定的第二間隔(即，凹坑列的相位偏移第二間隔)。這里，在半徑方向上布置的凹坑列A至F中，凹坑可形成位置在凹坑列形成方向上的間隔(第二間隔)是η。在此情況下，凹坑列A至F全都被布置成滿足條件2、，凹坑列 A-B、凹坑列B-C、凹坑列C-D、凹坑列D-E、凹坑列E-F和凹坑列F-A的凹坑可形成位置的間隔如圖所示全是η。凹坑列A至F中的凹坑可形成位置的間隔(第一間隔)是6η，因為在此情況下實現(xiàn)了 A至F這總共6個凹坑列相位。在實施例中，基準面Ref上基于伺服激光的信息再現(xiàn)是在波長λ = 640并且數(shù)值孔徑NA = 0.65的條件下執(zhí)行的，這與DVD(數(shù)字多功能盤)的情況相同。相反，在此示例中，凹坑可形成位置的區(qū)間長度與DVD中的最短標記一樣是3Τ的區(qū)間長度(Τ是通道比特)，并且凹坑列形成方向上A至F的凹坑可形成位置的邊緣之間的間隔被設(shè)定成同樣的 3Τ的長度。換言之，是η = 6Τ。結(jié)果，滿足了條件1)和2)。這里，為了理解整個基準面Ref上的凹坑形成形態(tài)，將參考圖6來描述更具體的凹坑列形成方法。在圖6中，考慮如圖所示的情況，例示了只有三個種類(相位)的凹坑列的A至C 的情況。在圖中，黑圓表示凹坑可形成位置。參考圖6可見，在體型記錄介質(zhì)1的基準面Ref上，具有不同相位的多種凹坑列 (在圖6中是三種A至C，但實際上有六種A至F)是一個集合，并且多種凹坑列的一個集合被形成為螺旋形狀。
多種凹坑列中的一個必要凹坑列上的循軌伺服繼續(xù)，并且光斑位置描繪出螺旋狀軌跡。在基準面Ref上，凹坑是通過CAV (恒定角速度)方法形成的。由此，如圖所示，多種凹坑列中的每一種可在半徑方向上對齊在凹坑形成位置(凹坑可形成位置)相同的角度位置處。如上所述以CAV方法在基準面Ref上記錄凹坑的原因是因為，在盤上任何中區(qū)域都將保持如圖5所示的凹坑列A至F的相位關(guān)系。1-5.地址信息隨后，將參考圖7A、圖7B和圖7C來描述在基準面Ref上記錄的地址信息的格式的示例。首先，圖6A示意性地示出了具有不同的凹坑列相位的凹坑列(A至F)的凹坑可形成位置的關(guān)系。圖7A用“*”標記示出了凹坑可形成位置。如下文中將描述的，在實施例的記錄和再現(xiàn)裝置10中，從凹坑列A至F中選擇一個凹坑列，并且對作為對象的一個所選凹坑列執(zhí)行循軌伺服。然而，此情況中的一個問題是，凹坑列A至F在半徑方向上是以超過現(xiàn)有技術(shù)的光學(xué)極限的間隔布置的。即，在此情況下，由于通過在軌道上移動(掃描)束光斑獲得的循軌誤差信號是反映A至F的所有凹坑的信號，從而即使在基于該循軌誤差信號執(zhí)行循軌伺服時，也難以跟蹤一個所選凹坑列。由于此原因，如上所述，實施例的記錄和再現(xiàn)裝置10提取在所選凹坑列中的凹坑可形成位置的區(qū)間中的循軌誤差信號，并且基于所提取的循軌誤差信號(即間斷地)執(zhí)行循軌伺服。以相同的方式，當記錄地址信息時，提取所選凹坑列的凹坑可形成位置的區(qū)間的加和信號(下文中將描述的加和信號)，從而選擇性地僅讀取所選凹坑列中記錄的信息，并且采用了基于所提取的加和信號來檢測地址信息的方法。為了應(yīng)對這種檢測信息的方法，在實施例中，采用了根據(jù)在凹坑可形成位置處是否形成凹坑來表示通道數(shù)據(jù)(記錄標記)的“0”和“1”的格式。即，一個凹坑可形成位置負責一個通道比特的信息。數(shù)據(jù)比特的1比特由基于多個通道比特的“0”和“1”的數(shù)據(jù)模式來表示。具體而言，在此示例中，如圖7B所示，數(shù)據(jù)比特“0”和“1”由4個通道比特表示， 例如，4個通道比特的模式“1011”表示數(shù)據(jù)比特“0”，并且4個通道比特的模式“1101”表示數(shù)據(jù)比特“1”。在此情況下，重要的一點是，通道比特“0”是不連續(xù)的。S卩，通道比特“0”的連續(xù)意味著，當如上所述利用循軌誤差信號間斷地執(zhí)行伺服時，難以獲得誤差信號的時段是連續(xù)的。因此，很難確保循軌伺服的精度。由于此原因，在實施例中，例如，通過如上所述地定義數(shù)據(jù)比特，來滿足通道比特 “0”不連續(xù)的條件。即，通過如上所述地定義數(shù)據(jù)比特，將循軌伺服的精度降低抑制到最低限度。圖7C示出了 sync模式(同步模式)的示例。例如，在sync模式中，如圖所示，該模式由12個通道比特表示，前8個比特是不與數(shù)據(jù)比特的定義匹配的通道比特模式“11111111”，并且sync的分類(種類)由后4個通道比特的模式表示。具體而言，當8個比特之后的4個通道比特的模式是“1011”時，sync模式是Sync 1，而當該模式是“ 1101”時，sync模式是Sync2。在體型記錄介質(zhì)1中，如上所述在sync之后記錄地址信息。作為地址信息，至少絕對位置信息(半徑位置的信息，以及旋轉(zhuǎn)角度位置的信息) 被記錄。確認一下，在此示例中，多個凹坑列A至F被布置在現(xiàn)有技術(shù)的極限1軌道寬度內(nèi)，但是地址信息的記錄是如下執(zhí)行的為每個凹坑列分配單獨的信息，使得該凹坑列的半徑位置被單獨表示(凹坑列可被識別)。即，不為在現(xiàn)有技術(shù)的極限1軌道寬度內(nèi)布置的A 至F的每個凹坑列記錄相同的地址信息。從對圖7A、圖7B和圖7C的描述可知，凹坑被位置記錄在體型記錄介質(zhì)1的基準面 Ref上。位置記錄是這樣一種方法，其中凹坑(或標記)形成部分是“1”，其他部分是“0”。1-6.循軌伺服的具體方法以下將詳細描述對如上所述被形成為在現(xiàn)有技術(shù)的1軌道寬度內(nèi)布置多個凹坑列的凹坑列群組之中的作為對象的任意凹坑列執(zhí)行循軌伺服的方法。圖8示意性地示出了通過體型記錄介質(zhì)1的旋轉(zhuǎn)而移動基準面Ref上的伺服激光的光斑的狀態(tài)、此時可獲得的加和信號、加和差分信號和推-拉信號PP (也稱為PP信號) 的波形之間的關(guān)系。加和信號是作為圖2所示的伺服光接收單元四的多個光接收元件獲得的光接收信號DT-sv的加和信號，并且加和差分信號是通過對該加和信號取差分可獲得的信號。在此圖中，為了便于描述，假定凹坑形成在圖中的所有凹坑可形成位置處。如圖所示，伺服激光的束光斑由于體型記錄介質(zhì)1的旋轉(zhuǎn)而移動，從而加和信號的信號電平以與A至F的凹坑的凹坑列形成方向上的布置間隔相對應(yīng)的周形成峰。S卩，加和信號表明A至F的凹坑的凹坑列形成方向上的間隔(形成周)。在此圖的示例中，由于伺服激光的光斑沿著凹坑列A移動，所以當加和信號經(jīng)過凹坑列形成方向上凹坑A的形成位置時，加和信號的峰值變?yōu)樽畲?絕對值)，而在凹坑B 至凹坑D的各個形成位置中，該峰值趨向于逐漸減小。然后，該峰值按照凹坑E的形成位置到凹坑F的形成位置的順序變成增大趨勢，并且該峰值在再次到達凹坑A的形成位置時變得最大。即，由于與外周側(cè)相鄰的凹坑列E和F中的凹坑對于凹坑E和F在凹坑列形成方向上的形成位置有影響，所以加和信號的峰值按凹坑E和F的各形成位置的順序增大。作為通過對加和信號取差分而生成的加和差分信號和作為循軌誤差信號的PP信號，可以獲得如圖所示的波形。加和差分信號被用于根據(jù)凹坑列A至F的凹坑形成位置(嚴格地說是凹坑可形成位置)在凹坑列形成方向上的間隔來生成時鐘CLK。具體而言，通過使用加和差分信號作為CLK，生成了如下信號在該信號中，與每個凹坑的中央位置(峰位置)相對應(yīng)的位置是上升位置(定時)。作為生成時鐘CLK的方法，首先，生成通過按圖9所示的預(yù)定閾值Thl切削加和信號而獲得的信號以及類似地通過按預(yù)定閾值Th2切削加和差分信號而獲得的信號。通過取這兩個信號的“與”運算來生成具有與峰位置相對應(yīng)的上升定時的定時信號。
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時鐘CLK是通過執(zhí)行PLL (鎖相環(huán))處理來生成的，在該PLL處理中，如上所述生成的定時信號被認為是輸入信號(基準信號)。圖10示意性地示出通過該序列生成的時鐘CLK和基于時鐘CLK生成的選擇器信號的波形和在基準面Ref上形成的每個凹坑列(的一部分)之間的關(guān)系。從圖中清楚可見，時鐘CLK成為了具有周的信號，所述的周基于凹坑A至F的形成間隔。具體而言，它變成了這樣的信號該信號在凹坑A至F的峰位置處具有上升定時。在實施例中，從時鐘CLK生成6種選擇器信號，表示A至F的凹坑可形成位置中每一者的定時。具體而言，通過對時鐘CLK進行1/6分頻來生成選擇器信號，并且使每個相位偏離 1/6周。換言之，每個選擇器信號是通過在每個定時將時鐘CLK進行1/6分頻以使上升定時偏離1/6周來生成的。選擇器信號成為下述信號這些信號分別表明相應(yīng)的凹坑列A至F的凹坑可形成位置的定時。在相關(guān)示例和實施例中，在生成這些選擇器信號之后，選擇任意的選擇器信號，并且根據(jù)所選的選擇器信號表示的時段內(nèi)的循軌誤差信號來執(zhí)行循軌伺服控制，以跟蹤凹坑列A至F中的任意凹坑列上的伺服激光的束光斑。由于可以對凹坑列A至F中的任意凹坑列進行循軌伺服控制，所以至少可以以凹坑列A至F的間隔來執(zhí)行伺服激光的光斑位置的偏置，其中基于記錄再現(xiàn)激光的信息記錄位置的偏離將被校正。即，可以按比現(xiàn)有技術(shù)的一個軌道寬度更窄的間隔來精細地調(diào)整基于記錄再現(xiàn)激光的信息記錄位置。具體而言，可以按將現(xiàn)有技術(shù)的一個軌道寬度分成6個部分的精度來校正信息記錄位置。1-7.具體的光斑位置偏離校正方法實際上，當校正光斑位置偏離時，可以進行基于凹坑列的選擇的1/6寬度的精度的信息記錄位置的校正，于是可以以高精度進行校正。具體而言，偏置被應(yīng)到到循軌伺服環(huán)，例如，偏置被應(yīng)用到針對所選凹坑列的循軌誤差信號，并且超過1/6軌道寬度的額外精細調(diào)整成為了可能。將參考圖IlA和圖IlB來描述也包括對循軌伺服環(huán)的偏置應(yīng)用在內(nèi)的光斑位置偏離校正的具體方法。圖IlA和圖IlB中的每一個示出了布置基準面Ref上在半徑方向上布置的凹坑列以及伺服激光和記錄再現(xiàn)激光的光斑，其中圖IlA示出了未校正狀態(tài)，并且圖IlB示出了校正后的狀態(tài)。在圖IlA中，在未校正狀態(tài)中，基于伺服激光的反射光的循軌伺服控制是以使伺服激光的光斑位置在要記錄的軌道(凹坑列)上的方式來執(zhí)行的。由于偏斜或透鏡偏移的發(fā)生，記錄再現(xiàn)激光的光斑位置如圖所示在偏離要記錄的軌道的位置。具體而言，在圖中，例示了記錄再現(xiàn)激光的光斑位置偏離為8. 5個凹坑列的情況。記錄再現(xiàn)激光的光斑位置的偏離量可被圖2中所示的位置傳感30和偏斜傳感器 31檢測。換言之，基于位置傳感器30和偏斜傳感器31的檢測結(jié)果來計算用于對如上所述發(fā)生的記錄再現(xiàn)激光的光斑位置偏離進行校正的校正量。在此情況下，位置傳感器30的位置檢測信號ps-ol的值和偏斜傳感器31的偏斜檢測信號sk的值不直接表明如圖IlB所示的校正量的量。自然，位置檢測信號ps-ol的值和偏斜檢測信號sk的值被正規(guī)化以計算作為循軌伺服對象位置的偏置量的校正量的值。具體而言，在此示例中，用于對由偏斜和透鏡偏移導(dǎo)致的光斑位置偏離進行校正的校正量(循軌伺服對象位置的偏置量)AD_0FS是基于以下概念來計算的。首先，分別考慮用于對由偏斜導(dǎo)致的光斑位置偏離進行校正的校正量AD_SK和用于對由透鏡偏移導(dǎo)致的光斑位置偏離進行校正的校正量AD_SH。AD_SK = (sk-offset_SK) X gain_SK公式 1AD_SH = (ps-ol-offset_SH) Xgain_SH 公式 2在公式1中，off set_SK和gain_Sk是被設(shè)定來基于偏斜檢測信號sk的值計算對由偏斜導(dǎo)致的光斑位置偏離進行校正的校正量AD_SK的校正系數(shù)。類似地，在公式2中，offset_SH和gain_SH是被設(shè)定來基于位置檢測信號ps_ol 的值計算對由透鏡偏移導(dǎo)致的光斑位置偏離進行校正的校正量AD_SH的校正系數(shù)。分別考慮用于由偏斜導(dǎo)致的光斑位置偏離的校正量AD_SK和用于由透鏡偏移導(dǎo)致的光斑位置偏離的校正量AD_SH，并且通過以下的公式3來計算用于對由偏斜和透鏡偏移兩者導(dǎo)致的光斑位置偏離進行校正的校正量AD_0FS。AD_0FS = AD_SK+AD_SH+D_alm 公式 3在公式3中，D_alm是表示記錄再現(xiàn)激光和伺服激光的光軸位置的對準偏離的校正系數(shù)。如上所述，通過公式1至公式3的計算，根據(jù)偏斜傳感器31的偏斜檢測信號sk的值和位置傳感器30的位置檢測信號ps-ol的值來計算經(jīng)正規(guī)化的校正量AD_0FS。如上所述計算的校正量AD_0FS是距離信息。在上述示例中，由于光斑位置偏離的校正伴隨著對循軌伺服對象的凹坑列的選擇，必須執(zhí)行根據(jù)如上所述計算的校正量AD_0FS 的值來指定作為循軌伺服對象的凹坑列的處理。具體而言，將校正量AD_0FS的值除以凹坑列形成間距的值，以計算從圖IlA所示的要記錄的軌道偏置的凹坑列數(shù)。結(jié)果，指定了作為循軌伺服對象的凹坑列。通過除法的結(jié)果可獲得的值表明為了校正而要向循軌伺服環(huán)賦予的偏置的值，并且該值被獲取。具體而言，在圖IlA和圖IlB的示例中，1/2凹坑列形成間距的值是該偏置的值。在如上所述根據(jù)校正量AD_0FS的值指定作為循軌伺服對象的凹坑列的過程中可獲得的偏置的值(為了校正向循軌伺服環(huán)應(yīng)用的偏置的值)被稱為偏置ofs。如上所述根據(jù)校正量AD_0FS的值指定的凹坑列(為了校正而要作為循軌伺服對象的凹坑列)被稱為校正對象凹坑列。如上所述基于校正量AD_0FS指定校正對象凹坑列并且獲取偏置of s，然后基于該信息來偏置基于伺服激光的循軌伺服對象位置。具體而言，選擇表示校正對象凹坑列的凹坑可形成位置的定時的選擇器信號，在所選擇的選擇器信號所表示的定時執(zhí)行基于通過對推-拉信號PP進行采樣-保持可獲得的循軌誤差信號的循軌伺服控制，執(zhí)行針對校正對象凹坑列的循軌伺服控制，在該狀態(tài)中向循軌伺服環(huán)應(yīng)用所獲取的偏置Ofs，按校正量AD_ OFS來偏置循軌伺服對象位置。通過對校正對象凹坑列執(zhí)行循軌伺服控制并且將偏置ofs應(yīng)用到循軌伺服環(huán)中，對伺服激光的循軌伺服控制的目標值被偏置與計算出的校正量AD_0FS的值相對應(yīng)的程度。因此，如圖IlB所示，伺服激光的光斑位置從要記錄的軌道位置偏置校正量AD_0FS，而記錄再現(xiàn)激光的光斑位置與要記錄的軌道一致。結(jié)果，信息記錄位置的偏離得到了校正。確認一下，超過凹坑列形成間隔的高精度的校正是通過如上所述將根據(jù)校正量 AD_0FS計算出的偏置ofs應(yīng)用到循軌伺服環(huán)中來實現(xiàn)的。如圖IlA和圖IlB的示例中所示，當校正量AD_0FS是等于或大于現(xiàn)有技術(shù)的極限軌道的一半的值時(即，在此情況下，當其是等于或大于3個凹坑列的值時)，應(yīng)用跳躍脈沖以在校正對象凹坑列的方向上移動伺服激光的光斑位置，從而處于可以基于選擇器信號的選擇切換來進行循軌伺服對象凹坑列的選擇切換的狀態(tài)中。參考圖8和圖10可知，在對任何凹坑列執(zhí)行循軌伺服的狀態(tài)中通過選擇器信號的選擇切換而可選擇性地切換作為循軌伺服對象的凹坑列成為了與作為伺服對象的凹坑列的中心的距離小于現(xiàn)有技術(shù)的極限軌道的一半(3個凹坑列)的凹坑列。S卩，如圖IlA所示，在校正前的伺服對象的凹坑列是凹坑列A的狀態(tài)中，通過選擇器信號的選擇性切換而可選擇性地切換來作為循軌伺服對象凹坑列成為了凹坑列B、凹坑列C、凹坑列F和凹坑列 E。如圖IlA和圖IlB的示例中所示，當校正對象凹坑列位于與當前作為循軌伺服對象的凹坑列的距離為現(xiàn)有技術(shù)的極限軌道的一半以上的位置時，循軌伺服被瞬時關(guān)斷，然后在校正對象凹坑列的方向上應(yīng)用跳躍脈沖，以在校正對象凹坑列的方向上移動伺服激光的光斑位置。跳躍脈沖的幅度根據(jù)從作為當前循軌伺服對象的凹坑列到校正對象凹坑列的距離而改變。在應(yīng)用跳躍脈沖之后，選擇校正對象凹坑列的選擇器信號以獲得針對校正對象凹坑列的循軌誤差信號，從而執(zhí)行基于循軌誤差信號的循軌伺服。這樣，即使當校正量AD_0FS等于或大于現(xiàn)有技術(shù)的極限軌道的一半時，也可以將循軌伺服對象凹坑列切換到校正對象凹坑列。當計算出的校正量AD_0FS等于或大于現(xiàn)有技術(shù)的極限軌道的一半時對校正對象凹坑列執(zhí)行循軌伺服的方法不限于上述方法，而是也可以使用另外的方法，例如，作為循軌伺服對象的凹坑列被順次改變到相鄰凹坑列以到達校正對象凹坑列。在任何情況下，都實現(xiàn)了對光斑位置偏離的校正，并且不變的是，根據(jù)計算出的校正量AD_0FS對特定校正對象凹坑列執(zhí)行循軌伺服。1-8.記錄裝置的整體內(nèi)部配置圖12示出了作為相關(guān)示例的記錄和再現(xiàn)裝置10的整體內(nèi)部配置，其中通過上述方法執(zhí)行對光斑位置偏離的校正。在圖12中，通過僅提取圖2所示的配置的記錄再現(xiàn)激光器11、透鏡驅(qū)動單元16、2 軸致動器21和位置傳感器30來示出光學(xué)讀取頭OP的內(nèi)部配置。在圖12中，記錄和再現(xiàn)裝置10設(shè)有主軸電機43。主軸電機43設(shè)有TO (頻率發(fā)生器)電機，并且按恒定的速度(恒定的旋轉(zhuǎn)速度) 旋轉(zhuǎn)體型記錄介質(zhì)1。主軸電機43根據(jù)來自下文中將描述的控制器41指示來開始或停止旋轉(zhuǎn)。作為用于對體層5執(zhí)行記錄和再現(xiàn)或者在再現(xiàn)記錄標記時執(zhí)行物鏡20的聚焦和循軌控制(即，基于記錄再現(xiàn)激光的反射光的位置控制)的信號處理系統(tǒng)的配置，記錄和再現(xiàn)裝置10設(shè)有記錄處理單元32、記錄再現(xiàn)光矩陣電路33以及再現(xiàn)處理單元34。
要記錄在體型記錄介質(zhì)1上的數(shù)據(jù)(記錄數(shù)據(jù))被輸入到記錄處理單元32。記錄處理單元32向輸入的記錄數(shù)據(jù)添加糾錯符號，或者執(zhí)行預(yù)定的記錄調(diào)制編碼，以獲得記錄調(diào)制數(shù)據(jù)列，其是實際記錄在體型記錄介質(zhì)1上的例如“0”和“1”的二值數(shù)據(jù)列。記錄處理單元32輸入時鐘生成電路39生成的時鐘CLK(再現(xiàn)時鐘)作為記錄時鐘，并且基于該記錄時鐘根據(jù)所生成的記錄調(diào)制數(shù)據(jù)列生成記錄脈沖RCP。光學(xué)讀取頭OP 中的記錄再現(xiàn)激光器11的發(fā)光驅(qū)動是用記錄脈沖RCP來執(zhí)行的。記錄再現(xiàn)矩陣電路33設(shè)有與來自作為圖2所示的記錄再現(xiàn)光接收單元23的多個光接收元件的光接收信號DT-rp (輸出電流)相對應(yīng)的電流電壓轉(zhuǎn)換電路和矩陣運算和放大電路，并且通過矩陣運算處理生成必要的信號。具體而言，生成與通過對記錄調(diào)制數(shù)據(jù)列進行再現(xiàn)而獲得的再現(xiàn)信號相對應(yīng)的高頻信號(以下稱為再現(xiàn)信號RF)、用于聚焦伺服控制的聚焦誤差信號FE-rp和用于循軌伺服控制的循軌誤差信號TE-rp。在記錄再現(xiàn)矩陣電路33中生成的再現(xiàn)信號RF被提供給再現(xiàn)處理單元34。聚焦誤差信號FE-rp和循軌誤差信號TE_rp被提供給記錄再現(xiàn)光伺服電路35。再現(xiàn)處理單元34對再現(xiàn)信號RF執(zhí)行諸如二值化處理或記錄調(diào)制符號的解碼和糾錯處理之類的用于恢復(fù)記錄數(shù)據(jù)的再現(xiàn)處理，以獲得對記錄數(shù)據(jù)進行再現(xiàn)的再現(xiàn)數(shù)據(jù)。記錄再現(xiàn)光伺服電路35基于從矩陣電路33提供來的聚焦誤差信號FE_rp和循軌誤差信號TE-rp生成聚焦伺服信號FS-rp和循軌伺服信號TS_rp，并且基于根據(jù)聚焦伺服信號FS-rp和循軌伺服信號TS-rp的聚焦驅(qū)動信號FD_rp和循軌驅(qū)動信號TD_rp來驅(qū)動2軸致動器21的聚焦線圈和循軌線圈，以對記錄再現(xiàn)激光執(zhí)行聚焦伺服控制和循軌伺服控制。從描述可知，在再現(xiàn)期間執(zhí)行基于記錄再現(xiàn)激光的反射光對2軸致動器21 (物鏡 20)的伺服控制。根據(jù)再現(xiàn)期間來自控制器41的指示，記錄再現(xiàn)光伺服電路35在循軌伺服環(huán)被設(shè)定為OFF的情況下向循軌線圈應(yīng)用跳躍脈沖，以執(zhí)行軌道跳躍操作或執(zhí)行循軌伺服的引入控制。此外，執(zhí)行循軌伺服引入控制等等。記錄和再現(xiàn)裝置10設(shè)有伺服光矩陣電路36、地址檢測電路37、伺服光伺服電路 38、時鐘生成電路39、選擇器信號生成和選擇單元40、采樣保持電路SH、以及加法器42。伺服光矩陣電路36基于來自圖2所示的伺服光接收單元四中的多個光接收元件的光接收信號DT-sv生成必要的信號。具體而言，此情況下的伺服光矩陣電路36生成推-拉信號PP、加和信號和用于聚焦伺服控制的聚焦誤差信號FE-sv。如圖所示，推-拉信號PP被提供到采樣保持電路SH1。聚焦誤差信號FE-sv被提供到伺服光伺服電路38。加和信號被提供到地址檢測電路37和時鐘生成電路39。地址檢測電路37通過輸入由選擇器信號生成和選擇單元40以下文中描述的方式生成的選擇器信號，基于在由該選擇器信號表示的凹坑可形成位置的定時(在此情況下是在該選擇器信號處于高電平的區(qū)間)對來自伺服光矩陣電路36的加和信號的值采樣的結(jié)果，來檢測在基準面Ref上記錄的地址信息(至少包括半徑位置信息或旋轉(zhuǎn)角度位置信息的絕對位置信息)。
如參考圖7A、圖7B和圖7C所述，在實施例的情況下，在每個凹坑列的地址信息中， 記錄了在該凹坑列中的凹坑可形成位置處是否形成了凹坑，來作為一個通道比特的信息。 地址檢測電路37識別出在選擇器信號的上升定時處加和信號的值，以識別出一個通道比特的“0”或“1”的數(shù)據(jù)，并且基于該結(jié)果根據(jù)參考圖9描述的格式來執(zhí)行地址解碼處理，以執(zhí)行對所記錄的地址信息的檢測(再現(xiàn))。由地址檢測電路37檢測到的地址信息被提供給控制器41。時鐘生成電路39根據(jù)上述序列生成時鐘CLK。圖13示出了時鐘生成電路39的內(nèi)部配置。在圖13中，時鐘生成電路39中設(shè)有切削電路39A、加和差分電路39B、切削電路 39C、與門電路39D以及PLL電路39E。加和信號如圖所示被輸入到切削電路39A和加和差分電路39B。切削電路39A基于所設(shè)定的閾值Thl來切削加和信號，并且結(jié)果被輸入到與門電路39D。加和差分電路39B對加和信號取差分，以生成上述的加和差分信號。切削電路39C 基于所設(shè)定的閾值Th2對由加和差分電路39B生成的加和差分信號進行切削，并且將結(jié)果輸出到與門電路39D。與門電路39D取來自切削電路39A的輸出和來自切削電路39C的輸出的“與”，以生成上述的定時信號。PLL電路39E利用如上所述可由與門電路39D獲得的定時信號作為輸入信號來執(zhí)行PLL處理，以生成時鐘CLK。返回圖12，由時鐘生成電路45生成的時鐘CLK被提供給記錄處理單元32并且被提供給選擇器信號生成和選擇單元40。選擇器信號生成和選擇單元40基于時鐘CLK生成選擇器信號，并且選擇性地輸出所生成的選擇器信號中的所指示的選擇器信號。圖14示出了選擇器信號生成和選擇單元40的內(nèi)部配置。如圖所示，選擇器信號生成和選擇單元40設(shè)有選擇器信號生成電路45和選擇器信號選擇電路46。選擇器信號生成電路45基于時鐘CLK生成表示凹坑列A至F的凹坑可形成位置的定時的6種選擇器信號。具體而言，選擇器信號生成電路45生成相位偏移1/6周的信號， 作為通過對時鐘CLK進行1/6分頻而獲得的信號，從而獲得6種選擇器信號。6種選擇器信號被提供給選擇器信號選擇電路46。選擇器信號選擇電路46在6種輸入的選擇器信號之中選擇性地輸出具有從控制器41提供的選擇信號SLCT所指示的相位的選擇器信號。描述返回圖12。從選擇器信號選擇電路46輸出的選擇器信號如圖所示被提供給地址檢測電路37 并且被提供給采樣保持電路SHl。采樣保持電路SHl設(shè)有A/D轉(zhuǎn)換器，并且在選擇器信號的上升緣對從伺服光矩陣電路36提供來的推-拉信號PP進行采樣-保持。通過由采樣保持電路SHl根據(jù)選擇器信號對推-拉信號PP進行采樣-保持可獲得的循軌誤差信號以下被稱為循軌誤差信號TE-sv。
由采樣保持電路SHl獲得的循軌誤差信號TE-sv如圖所示經(jīng)由加法器42被提供給伺服光伺服電路38。循軌誤差信號TE-sv被提供給控制器41。伺服光伺服電路38基于聚焦誤差信號FE-sv和經(jīng)過加法器42的循軌誤差信號 TE-sv,生成聚焦伺服信號FS-sv和循軌伺服信號TS-sv。在記錄期間，根據(jù)來自控制器41的指示，基于根據(jù)聚焦伺服信號FS-sv和循軌伺服信號TS-sv生成的聚焦驅(qū)動信號FD-sv和循軌驅(qū)動信號TD-sv來驅(qū)動2軸致動器21的聚焦線圈和循軌線圈，以對伺服激光執(zhí)行聚焦伺服控制并對必要的凹坑列執(zhí)行循軌伺服控制。伺服光伺服電路38根據(jù)在記錄期間來自控制器40的指示，通過向認為循軌伺服環(huán)為OFF的2軸致動器21的循軌線圈應(yīng)用跳躍脈沖來執(zhí)行軌道跳躍操作(凹坑列之間的跳躍操作)。 控制器41由設(shè)有例如CPU (中央處理單元)和諸如ROM(只讀存儲器)和RAM(隨機訪問存儲器)之類的存儲器(存儲裝置)的微計算機形成，并且基于例如ROM中存儲的程序執(zhí)行控制處理，以控制整個記錄和再現(xiàn)裝置10。例如，控制器41基于如上所述的與每個層位置相對應(yīng)地設(shè)定的偏置Of-L的值，來執(zhí)行對記錄再現(xiàn)激光的合焦位置的控制(設(shè)定)。具體而言，基于與作為記錄對象的信息記錄層位置L相對應(yīng)地設(shè)定的偏置of-L的值來驅(qū)動光學(xué)讀取頭OP中的透鏡驅(qū)動單元16，以選擇深度方向上的記錄位置?？刂破?1還執(zhí)行用于實現(xiàn)如上所述的記錄和再現(xiàn)時的物鏡20的伺服控制切換的控制。具體而言，在記錄期間，控制器41指示伺服光伺服電路38輸出聚焦驅(qū)動信號 FD-sv和循軌驅(qū)動信號TD-sv，并且指示記錄再現(xiàn)光伺服電路35停止聚焦驅(qū)動信號FD_rp 和循軌驅(qū)動信號TD-rp的輸出。在再現(xiàn)期間，控制器41指示記錄再現(xiàn)光伺服電路35輸出聚焦驅(qū)動信號FD-rp和循軌驅(qū)動信號TD-rp，并且指示伺服光伺服電路38停止聚焦驅(qū)動信號FD-sv和循軌驅(qū)動信號TD-sv的輸出。控制器41還對伺服光伺服電路38執(zhí)行搜尋操作控制。即，控制器41對伺服電路 38執(zhí)行指示以將伺服激光的光斑位置移動到基準面Ref上的預(yù)定目標地址，并且對選擇器信號生成和選擇單元40 (選擇器信號選擇電路46)執(zhí)行基于選擇信號SLCT的選擇器信號的選擇指示。例如，此情況下的搜尋操作控制基本上是按以下序列執(zhí)行的1)通過利用上述的滑動驅(qū)動單元移動整個光學(xué)讀取頭OP來移動到目標地址附近；2)伺服激光的聚焦伺服ON ；3)生成基于加和信號的時鐘CLK并且生成選擇器信號；4)基于任意選擇的選擇器信號對任意凹坑列執(zhí)行循軌伺服控制；以及5)由于通過執(zhí)行上述4)中的循軌伺服能夠讀取地址信息(用于識別凹坑列的信息)，因此執(zhí)行從該地址到目標地址的凹坑列跳躍。
控制器41對伺服電路38執(zhí)行執(zhí)行指示，以執(zhí)行1)和2)的操作?？刂破?1利用選擇信號SLCT對選擇器信號生成和選擇單元40執(zhí)行基于預(yù)定相位的選擇器信號的選擇指示，以在上述4)中選擇任意的選擇器信號?？刂破?1根據(jù)基于上述4)的循軌伺服輸入由地址檢測電路37檢測到的地址信息以執(zhí)行5)的操作，基于該地址信息計算目標地址所需要的凹坑列的跳躍數(shù)目，并且按照該跳躍數(shù)目對伺服電路38執(zhí)行指示以執(zhí)行凹坑列跳躍操作?？刂破?1執(zhí)行以下處理來作為與上述的光斑位置偏離校正有關(guān)的控制處理。S卩，控制器41順次地獲取偏斜傳感器31的偏斜檢測信號的值和位置傳感器30的位置檢測信號ps-ol的值，并且利用偏斜檢測信號sk的值、位置檢測信號ps-ol的值、校正系數(shù)offset_SK、gain_SK、offset_SH、gain_SH和D_alm來執(zhí)行公式1至公式3的計算，以順次地計算校正量AD_0FS。基于將計算出的校正量AD_0FS的值除以凹坑列形成間距的值的結(jié)果被選擇來執(zhí)行校正量AD_0FS的校正的校正對象凹坑列被指定，并且要應(yīng)用到循軌誤差信號TE-sv的偏置ofs的值被獲取。利用選擇信號SLCT向選擇器信號生成和選擇單元40指示對表示指定的校正對象凹坑列的凹坑可形成位置的定時的選擇器信號的選擇，并且向加法器42輸出所獲取的偏置ofs的值以將偏置ofs應(yīng)用到循軌誤差信號TE-sv。如上所述，當計算出的校正量AD_0FS等于或大于現(xiàn)有技術(shù)的極限軌道的一半時， 在形成校正凹坑列的方向上向伺服光伺服電路38應(yīng)用跳躍脈沖?？刂破?1還執(zhí)行用于對地址信息的誤差進行校正的處理，該誤差是隨著通過光斑位置偏離校正操作將伺服激光的光斑位置從作為原始對象的凹坑列偏置而生成的。具體而言，在執(zhí)行光斑位置偏離校正操作的同時，根據(jù)伺服激光光斑位置的偏置量(從要記錄的軌道到實際作為伺服對象的凹坑列的凹坑列數(shù)目)來校正在地址檢測電路37中可獲得的地址信息2.實施例2-1.相關(guān)示例的問題在如上所述的相關(guān)示例中，當通過使循軌伺服對象位置從原始位置偏置來執(zhí)行如圖3A、圖;3B、圖4A和圖4B中所述的對信息記錄位置的偏離的校正時，在基準面Ref上形成了基于圖6 (和圖5)所示的格式的凹坑列，以執(zhí)行更高精度的校正。如上所述，在圖6所示的格式的情況下，通過CAV方法來記錄凹坑列，以在盤上的任何區(qū)域中保持圖5中所述的凹坑列A至F的相位關(guān)系。如上所述在基準面Ref上通過CAV記錄凹坑列，從而在對相關(guān)示例中的體層5進行記錄時，以恒定的速度旋轉(zhuǎn)體型記錄介質(zhì)1。即，在相關(guān)示例中，體層5上的標記記錄是按 CAV方法執(zhí)行的。然而，如上所述，在CAV記錄中，標記記錄密度與CLV記錄相比趨向于減小。具體而言，如圖15所示，由于記錄標記長度趨向于延伸到外周側(cè)，所以標記記錄密度也有相同程度的減小。如上所述，難以避免體層5的記錄容量的減小。2-2.作為實施例的記錄裝置的配置
在實施例中，提出了通過改進記錄和再現(xiàn)裝置10而獲得的圖16所示的記錄和再現(xiàn)裝置50來解決上述問題。在圖16中，向圖12中已經(jīng)描述的部分賦予相同的參考數(shù)字和符號，并且省略對其的描述。通過比較圖16與圖12可知，與作為相關(guān)示例的記錄和再現(xiàn)裝置10相比，實施例的記錄和再現(xiàn)裝置50額外地設(shè)有圖中的記錄時鐘調(diào)整單元51。由地址檢測電路37檢測到的地址信息(包括半徑位置信息)和在時鐘生成電路 39中生成的時鐘CLK被輸入到記錄時鐘調(diào)整單元51。記錄時鐘調(diào)整單元51基于作為地址信息而輸入的半徑位置信息來改變時鐘CLK 的頻率。通過基于半徑位置信息改變時鐘CLK的頻率而獲得的信號被輸出到記錄處理單元 32作為記錄時鐘。具體而言，隨著根據(jù)半徑位置信息指定的當前半徑位置變得更靠近外周側(cè)，記錄時鐘調(diào)整單元51使時鐘CLK的頻率變高。更具體而言，當記錄時鐘的頻率是f,，時鐘CLK的頻率是&，最內(nèi)周半徑位置是& 并且當前半徑位置是r時，通過按以下公式改變時鐘CLK的頻率來生成記錄時鐘fr = f0Xr/r0公式 4。記錄處理單元32根據(jù)按照公式4生成的記錄時鐘來執(zhí)行標記記錄操作，并且體層 5變得好像標記列是按CLV記錄的那樣。換言之，如圖17所示，在盤上的任何位置處，標記記錄密度可保持固定。根據(jù)如上所述的實施例的記錄和再現(xiàn)裝置50，當通過CAV方法根據(jù)基準面Ref上的信息記錄以恒定的角度旋轉(zhuǎn)體型記錄介質(zhì)1時，可以以固定的記錄密度在體層5中記錄標記。結(jié)果，可以將體層5中的標記的記錄密度提高到高于執(zhí)行CAV記錄的情況。由于可以提高標記的記錄密度，所以可以增大體層5的記錄容量。3.修改例以上已經(jīng)描述了本公開的實施例，但是本公開并不限于以上描述的具體示例。在描述示例時，根據(jù)半徑位置來連續(xù)改變時鐘頻率，但是體型記錄介質(zhì)1可被劃分成多個半徑區(qū)域，并且可以對每個半徑區(qū)域以臺階方式改變頻率。在任何情況下，當根據(jù)半徑位置改變時鐘頻率時，與單純對體層5執(zhí)行CAV記錄 (即，利用諸如時鐘CLK之類的固定頻率的信號作為記錄時鐘來執(zhí)行記錄)的情況相比，可以提高標記記錄密度，從而可以增大記錄容量。在描述中，利用re電機以恒定速度旋轉(zhuǎn)體型記錄介質(zhì)1，但是也可通過執(zhí)行基于時鐘CLK (再現(xiàn)時鐘)的旋轉(zhuǎn)速度控制來以恒定速度執(zhí)行旋轉(zhuǎn)。圖18示出了作為如上所述基于時鐘CLK以恒定速度執(zhí)行旋轉(zhuǎn)的修改例的記錄和再現(xiàn)裝置60的內(nèi)部配置。在圖18中，向圖12或圖16中已經(jīng)描述的部分賦予相同的參考數(shù)字和符號，并且省略對其的描述。通過比較圖18與圖16可知，在作為修改例的記錄和再現(xiàn)裝置60中，向記錄和再現(xiàn)裝置50添加了主軸伺服電路62，并且取代由TO電機形成的主軸電機43設(shè)有可變速度型主軸電機61。主軸伺服電路62通過輸入來自時鐘生成電路39的時鐘CLK作為當前盤旋轉(zhuǎn)速度信息來控制主軸電機61的旋轉(zhuǎn)速度，以使得時鐘CLK的頻率固定，從而以恒定速度旋轉(zhuǎn)體型記錄介質(zhì)1。在此情況下，控制器41指示主軸伺服電路62停止或開始旋轉(zhuǎn)，或者起動(kick) 或制動，并且主軸伺服電路62根據(jù)這種指示來控制主軸電機61的旋轉(zhuǎn)。在描述中，記錄時鐘是通過根據(jù)半徑位置改變基于來自基準面Ref的反射光生成的時鐘CLK來生成的，但記錄時鐘也可通過根據(jù)半徑位置改變由單獨設(shè)置的信號生成器生成的基于固定頻率的信號來生成。圖19示出了作為如上所述生成記錄時鐘的修改例(另一修改例)的記錄和再現(xiàn)裝置65的內(nèi)部配置。在圖19中，向圖12或圖16中已經(jīng)描述的部分賦予相同的參考數(shù)字和符號，并且省略對其的描述。通過比較圖19與圖16可知，在作為修改例的記錄和再現(xiàn)裝置65中，向記錄和再現(xiàn)裝置50添加了信號生成器66，并且取代記錄時鐘調(diào)整單元51設(shè)有記錄時鐘調(diào)整單元 67。信號生成器66生成基于固定頻率的信號。記錄時鐘調(diào)整單元67對于由信號生成器66生成的固定頻率的信號根據(jù)半徑位置改變頻率，以向記錄處理單元32給出記錄時鐘。作為如上所述的本公開中的生成記錄時鐘的方法，可根據(jù)半徑位置改變被生成為固定頻率的基準信號(例如由信號生成器66生成的基于固定頻率的信號或者實施例中的時鐘CLK(再現(xiàn)時鐘))的頻率，從而可以提高記錄層中的標記記錄密度。在描述中，例示了在基準面Ref中形成螺旋狀的凹坑列的情況，但是凹坑列也可形成為同心圓狀。當以同心圓狀記錄凹坑列時，執(zhí)行體層5上的標記記錄以獲得適當?shù)挠涗浢芏乳g距。例如，當標記列的記錄密度上的適當形成間距是現(xiàn)有技術(shù)的極限軌道間距(6個凹坑列)，有這樣一種方法，即在完成一周凹坑列的記錄之后在順次跳躍6個凹坑列的同時執(zhí)行標記列的記錄。即，標記列記錄是按如下順序執(zhí)行的任何凹坑列的一周記錄、跳躍6 個凹坑列、跳躍目標凹坑列的一周記錄、跳躍6個凹坑列……，換言之，接收同心圓狀。即使在同心圓狀的情況下，也可以通過逐漸跳躍凹坑列來實現(xiàn)螺旋狀記錄。具體而言，如下來執(zhí)行螺旋狀記錄。首先，在實現(xiàn)螺旋狀記錄時，在對任何凹坑列的循軌伺服的執(zhí)行期間，同時獲得伺服對象的凹坑列的外周側(cè)相鄰的凹坑列的循軌誤差信號TE-sv。在此情況下，設(shè)有在根據(jù)選擇器信號的定時對加和信號采樣以獲得循軌誤差信號TE-sv的至少兩個配置，并且可以將任何一方的輸出選擇性地輸出到加法器41。此外，在對任何凹坑列的循軌伺服的執(zhí)行期間，值逐漸變大的偏置被應(yīng)用到伺服環(huán)中。通過應(yīng)用這樣的偏置，使光斑位置向外周側(cè)逐漸偏移。通過應(yīng)用該偏置，光斑位置到達對象凹坑列和外周側(cè)相鄰的凹坑列之間的適當位置(例如中間位置)，伺服對象凹坑列被切換到外周側(cè)相鄰的凹坑列，并且應(yīng)用到伺服環(huán)中的偏置的極性被逆轉(zhuǎn)。在偏置的極性逆轉(zhuǎn)之后，偏置的值逐漸變大(絕對值逐漸變小)，并且光斑位置逐漸變得靠近切換后的對象凹坑列(因為從切換后的凹坑列來看，光斑位置位于偏向內(nèi)周側(cè)的位置)。然后，當持續(xù)應(yīng)用偏置時，光斑位置經(jīng)過切換后的對象凹坑列(此時，偏置為零)， 然后到達該凹坑列與更在外周側(cè)相鄰的凹坑列之間的適當位置。如上所述，光斑位置到達凹坑列和外周側(cè)相鄰的凹坑列之間的適當位置，如上所述作為伺服對象的凹坑列被切換成外周側(cè)相鄰的凹坑列，并且偏置的極性被逆轉(zhuǎn)。如上所述，基于應(yīng)用偏置和將伺服對象凹坑列切換到外周側(cè)相鄰的凹坑列的所謂 “凹坑列跳躍”被重復(fù)，以實現(xiàn)基于偏置的傾斜率(其值的增大率)的任何間距的螺旋狀記錄。在上述說明中，設(shè)定了總共6個凹坑列A至F作為具有不同凹坑列相位的多個凹坑列，并且在半徑方向上重復(fù)地形成基于6個模式(凹坑列相位)的凹坑列，但是凹坑列的數(shù)目并不限于6個，而可以是更多數(shù)目和更少數(shù)目的凹坑列。上文例示了這樣的情況凹坑列中的每個凹坑可形成位置的區(qū)間長度是3T的區(qū)間長度，并且凹坑形成方向上凹坑可形成位置的邊緣之間的間隔被設(shè)定為3T(即η = 6Τ) 的長度；但它們只是示例。每個凹坑可形成位置的區(qū)間長度和凹坑列形成方向上凹坑可形成位置的邊緣之間的間隔可被設(shè)定為滿足上述的1)和2、的條件。在上述說明中，在具有不同凹坑列相位的多個凹坑列中，這些凹坑列被布置成使得凹坑列相位前進達到外周側(cè)的程度并且凹坑列相位偏離達到內(nèi)周側(cè)的程度。然而，多個凹坑列的布置模式可在不超過凹坑列形成方向上的光學(xué)極限的條件下被設(shè)定成各種模式， 例如，凹坑列相位前進達到內(nèi)周側(cè)的程度，并且凹坑列相位偏離達到外周側(cè)的程度?；鶞拭嫔系奈恢靡龑?dǎo)是用凹坑形成的，但基準面上的位置引導(dǎo)也可通過標記的記錄來形成。基準面上的信息記錄的格式不限于圖5或圖6所示的格式，本公開的基準面上的信息記錄(至少包括半徑位置信息)可通過CAV方法來執(zhí)行。例如，當不采用圖5或圖6所示的格式時，可以用擺動溝槽(wobbiling groove) 來記錄半徑位置信息。本公開可以很適當?shù)貞?yīng)用于用擺溝槽來在基準面上記錄半徑位置信息的情況。在上述說明中，例示了光記錄介質(zhì)(作為本發(fā)明的記錄對象)是體型記錄介質(zhì)1 的情況，但是本公開也可很適當?shù)貞?yīng)用于例如如圖20所示的光記錄介質(zhì)(多層記錄介質(zhì) 70)，其中，取代體層5而設(shè)有具有帶多個記錄膜的多層結(jié)構(gòu)的記錄層。在圖20中，多層記錄介質(zhì)70與圖1所示的體型記錄介質(zhì)1的相同之處在于，按從上層側(cè)起的順序形成了覆蓋層2、選擇性反射膜3和中間層4，但在此情況下，取代體層5，層壓了具有如下層結(jié)構(gòu)的記錄層在該層結(jié)構(gòu)中，半透明的記錄膜71和中間層4被反復(fù)層壓預(yù)定次數(shù)。如圖所示，形成在最低層上的半透明記錄膜71被層壓在基板72上。全反射記錄膜可用作形成在最低層上的記錄膜。注意，半透明記錄膜71沒有由凹坑列或溝槽形成的位置引導(dǎo)。即，在多層記錄介質(zhì)70的情況下，螺旋狀或同心圓狀位置引導(dǎo)只形成在作為基準面Ref的一個層位置處。在多層記錄介質(zhì)70的記錄層中，由于形成了充當反射膜的半透明記錄膜71，所以即使在記錄期間也可以利用記錄再現(xiàn)激光的反射光來執(zhí)行聚焦控制。S卩，在此情況中的記錄期間，對于記錄再現(xiàn)激光的聚焦伺服控制是通過基于記錄再現(xiàn)激光的反射光驅(qū)動可移動透鏡15 (透鏡驅(qū)動單元16)以聚焦在作為記錄對象的半透明
26記錄膜71上來執(zhí)行的。同時，即使在此情況下，記錄期間的記錄再現(xiàn)激光的循軌伺服控制也是利用伺服激光執(zhí)行的。即，即使在此情況下的記錄期間，循軌伺服控制也是以如下方式來執(zhí)行的基于伺服激光的來自基準面Ref的反射光驅(qū)動物鏡20，并且使伺服激光的合焦位置跟蹤到基準面Ref的位置引導(dǎo)。即使在此情況下，在再現(xiàn)期間也可以基于已經(jīng)記錄的標記列來執(zhí)行記錄再現(xiàn)激光的循軌伺服控制。從描述可知，在再現(xiàn)期間，可以利用來自作為對象的半透明記錄膜71 (信息記錄層L)的反射光來執(zhí)行記錄再現(xiàn)激光的聚焦伺服控制。在此情況下，再現(xiàn)期間的伺服控制是以與實施例的情況相同的方法來執(zhí)行的。即， 再現(xiàn)期間的記錄再現(xiàn)激光的聚焦伺服控制是通過基于記錄再現(xiàn)激光的反射光驅(qū)動物鏡20 以聚焦到作為記錄再現(xiàn)激光伺服光的對象的信息記錄層L來執(zhí)行的，并且記錄再現(xiàn)激光的循軌伺服控制是通過基于記錄再現(xiàn)激光的反射光驅(qū)動物鏡20以使得記錄再現(xiàn)激光的合焦位置跟蹤已完成記錄的標記列來執(zhí)行的。在上述說明中，基準面被設(shè)在比記錄層的上層側(cè)，但是基準面也可設(shè)在記錄層的下層側(cè)。在本公開中，光記錄介質(zhì)可具有其上通過CAV方法執(zhí)行包括半徑位置信息在內(nèi)的信息的記錄的基準面，以及形成在與基準面不同的深度位置處的記錄層。在上述說明中，具有不同波長的光被用作伺服激光和記錄再現(xiàn)激光，但它們也可具有相同的波長。在此情況下，反射光可被另一光接收單元分光和導(dǎo)引，這例如可通過利用光的偏振執(zhí)行分束來進行，其中經(jīng)過了分色棱鏡19的分光。當記錄再現(xiàn)激光和伺服激光如上所述具有相同波長時，只提供一個光源即可。在上述說明中，例示出將本公開應(yīng)用到對光記錄介質(zhì)既執(zhí)行記錄也執(zhí)行再現(xiàn)的記錄和再現(xiàn)裝置的情況，但本公開也可很適當?shù)貞?yīng)用于僅能夠?qū)庥涗浗橘|(zhì)(記錄層)進行記錄的記錄專用裝置(記錄裝置)。本公開包含與2010年6月10日向日本專利局提交的日本優(yōu)先權(quán)專利申請JP 2010-132743中公開的主題相關(guān)的主題，特此通過引用并入該申請的全部內(nèi)容。本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)當理解，取決于設(shè)計要求和其他因素，可以進行各種修改、組合、子組合和變更，只要它們處于所附權(quán)利要求或其等同物的范圍之內(nèi)即可。
權(quán)利要求
1.一種記錄裝置，包括旋轉(zhuǎn)驅(qū)動單元，其以恒定的速度旋轉(zhuǎn)光介質(zhì)，該光介質(zhì)具有基準面和記錄層，該基準面上通過恒定角速度方法記錄了包括半徑位置信息在內(nèi)的信息，該記錄層形成在與該基準面不同的深度位置處；光照射單元，其經(jīng)由共同的物鏡利用第一光和第二光來照射所述光記錄介質(zhì)，該第一光將被照射到所述記錄層上，該第二光將被照射到所述基準面上；合焦位置調(diào)整單元，其執(zhí)行調(diào)整，以在所述第二光合焦在所述基準面上的情況下使所述第一光聚焦在所述記錄層中的必要位置處；光接收單元，其接收所述第二光的、來自所述基準面的反射光； 再現(xiàn)時鐘生成單元，其基于由所述光接收單元獲得的光接收信號，來生成再現(xiàn)時鐘； 半徑位置檢測單元，其基于由所述光接收單元獲得的光接收信號和所述再現(xiàn)時鐘，來檢測所述基準面上記錄的半徑位置信息；頻率調(diào)整單元，其根據(jù)由所述半徑位置檢測單元檢測到的半徑位置信息，來改變要輸入的基準信號的頻率；以及記錄單元，其通過利用由所述頻率調(diào)整單元獲得的信號作為記錄時鐘來驅(qū)動所述第一光的光源發(fā)光，從而對所述記錄層執(zhí)行標記記錄。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的記錄裝置，其中，所述半徑位置信息指示的半徑位置越靠外周側(cè)，所述頻率調(diào)整單元越使所述基準信號的頻率變高。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的記錄裝置，其中，所述頻率調(diào)整單元通過輸入所述再現(xiàn)時鐘作為所述基準信號，來根據(jù)所述半徑位置信息改變所述再現(xiàn)時鐘的頻率。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的記錄裝置，其中，所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動單元基于由所述再現(xiàn)時鐘生成單元生成的再現(xiàn)時鐘，來以恒定的速度旋轉(zhuǎn)所述記錄介質(zhì)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的記錄裝置，其中，所述記錄層是體層并且在所述體層中預(yù)先設(shè)有多個層位置，所述記錄裝置還包括控制單元，該控制單元控制所述合焦位置調(diào)整單元將所述第一光聚焦在所述體層中的一個必要層位置處。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的記錄裝置，其中，所述記錄層是具有多層結(jié)構(gòu)的記錄層，在該多層結(jié)構(gòu)中，多個記錄膜被形成在深度方向上的不同位置處，還設(shè)有控制單元，該控制單元控制所述合焦位置調(diào)整單元將所述第一光聚焦在所述記錄層中的一個必要記錄層處。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的記錄裝置，其中，所述基準面上以螺旋狀或同心圓狀形成凹坑列，在這些凹坑列中，一周中的凹坑可形成位置的間隔限于第一間隔，在半徑方向上布置的這些凹坑列中，凹坑可形成位置在凹坑列形成方向上的間隔被設(shè)定在偏離了預(yù)定的第二間隔的位置以具有多個凹坑列相位，通過在各個凹坑列上的凹坑可形成位置處是否形成凹坑的模式來把所述半徑位置信息記錄在每個所述凹坑列上，并且其中，所述半徑位置檢測單元包括定時選擇信號生成單元，該定時選擇信號生成單元基于由所述再現(xiàn)時鐘生成單元生成的再現(xiàn)時鐘來生成多個定時選擇信號，對于在所述基準面上形成的、具有不同凹坑列相位的多個凹坑列，這些定時選擇信號表示每個凹坑列的凹坑可形成位置的定時；定時選擇信號選擇單元，該定時選擇信號選擇單元從由所述定時選擇信號生成單元生成的多個定時選擇信號中選擇所指示的定時選擇信號；以及信息檢測單元，該信息檢測單元確定在由所述定時選擇信號選擇單元選擇的定時選擇信號所表示的凹坑列的定時基于所述光接收信號獲得的再現(xiàn)信號的通道數(shù)據(jù)值，并且基于該結(jié)果來檢測所述半徑位置信息。
8. 一種記錄方法，包括以恒定的速度旋轉(zhuǎn)光介質(zhì)，該光介質(zhì)具有基準面和記錄層，該基準面上通過恒定角速度方法記錄了包括半徑位置信息在內(nèi)的信息，該記錄層形成在與該基準面不同的深度位置處；經(jīng)由共同的物鏡利用第一光和第二光來照射所述光記錄介質(zhì)，該第一光將被照射到所述記錄層上，該第二光將被照射到所述基準面上；執(zhí)行調(diào)整，以在所述第二光合焦在所述基準面上的情況下使所述第一光聚焦在所述記錄層中的必要位置處；接收所述第二光的、來自所述基準面的反射光； 基于通過光接收可獲得的光接收信號，來生成再現(xiàn)時鐘；基于通過光接收可獲得的光接收信號和所述再現(xiàn)時鐘，來檢測在所述基準面上記錄的半徑位置信息；根據(jù)通過半徑位置檢測所檢測到的半徑位置信息，來改變輸入的基準信號的頻率； 通過利用通過頻率調(diào)整可獲得的信號作為記錄時鐘來驅(qū)動所述第一光的光源發(fā)光，從而對所述記錄層執(zhí)行標記記錄。
全文摘要
本發(fā)明提供了記錄裝置和記錄方法。記錄裝置包括旋轉(zhuǎn)驅(qū)動單元，其以恒定速度旋轉(zhuǎn)具有基準面和記錄層的光介質(zhì)；光照射單元，其經(jīng)由共同的物鏡利用第一光和第二光來照射光記錄介質(zhì)；合焦位置調(diào)整單元，其執(zhí)行調(diào)整以聚焦；光接收單元，其接收來自基準面的反射光；再現(xiàn)時鐘生成單元，其基于光接收信號來生成再現(xiàn)時鐘；半徑位置檢測單元，其基于光接收信號和再現(xiàn)時鐘位置信息來檢測半徑位置信息；頻率調(diào)整單元，其改變輸入的基準信號的頻率；以及記錄單元，其利用由頻率調(diào)整單元獲得的信號作為記錄時鐘對記錄層執(zhí)行標記記錄。
文檔編號G11B7/0045GK102280114SQ20111015674
公開日2011年12月14日 申請日期2011年6月3日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月10日
發(fā)明者堀米順一, 石本努 申請人:索尼公司