公差環(huán)及公差環(huán)的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種公差環(huán)，該公差環(huán)(8)呈沿著規(guī)定方向大致環(huán)繞一周的環(huán)狀，且設(shè)有多個(gè)凸部(81)，其中，通過使環(huán)繞方向上的端部(82、83)的曲率半徑比環(huán)繞方向上的除端部(82、83)以外的部分的曲率半徑小，能夠?qū)喝雽?duì)象容易地壓入。另外，當(dāng)將公差環(huán)(8)插入滑架的連結(jié)部時(shí)，能夠不損傷連結(jié)部的壁面地插入。因此，能夠抑制因公差環(huán)插入帶來的污染物的產(chǎn)生。
【專利說明】公差環(huán)及公差環(huán)的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及在硬盤裝置等中使用的公差環(huán)及公差環(huán)的制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]一直以來，在進(jìn)行計(jì)算機(jī)等的信息處理的機(jī)器中使用有硬盤裝置。直到近年來，該硬盤裝置不僅只是作為計(jì)算機(jī)的外部存儲(chǔ)裝置，還能夠搭載于電視機(jī)、攝像機(jī)等家電產(chǎn)品及汽車用的電子儀器類。
[0003]圖14所示的現(xiàn)有的硬盤裝置200在外殼主體201內(nèi)收納有驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)具有:作為記錄媒介的硬盤202、驅(qū)動(dòng)硬盤202旋轉(zhuǎn)的主軸203 (該主軸借助未圖示的馬達(dá)而旋轉(zhuǎn))、進(jìn)行向硬盤202的信息記錄及信息讀出的磁頭204、支承磁頭204且在硬盤202的表面上轉(zhuǎn)動(dòng)的滑架205、使滑架205精密地轉(zhuǎn)動(dòng)而控制磁頭204的掃描的VCM(Voice CoilMotor) 206、固定于外殼主體201且將滑架205連結(jié)的樞軸207。需要說明的是，樞軸207呈例如大致柱狀，且具有軸承的結(jié)構(gòu)。
[0004]滑架205以樞軸207的中心為中心軸而在硬盤202的表面上進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)。此時(shí)，滑架205與樞軸207之間的固定使用例如公差環(huán)。滑架205固定于樞軸207，由此防止基于VCM206的滑架205的轉(zhuǎn)動(dòng)所產(chǎn)生的動(dòng)力傳遞到外殼主體201。
[0005]公差環(huán)呈使平板狀的構(gòu)件沿著規(guī)定方向大致環(huán)繞一周的環(huán)狀。在將該公差環(huán)插入滑架205側(cè)的開口之后，向公差環(huán)的內(nèi)部壓入樞軸207。作為上述的公差環(huán)，公開有隆起接觸表面呈凸形狀的公差環(huán)(例如，參照專利文獻(xiàn)1、2)。另外，公開有外周面?zhèn)瘸什ㄐ涡螤畹墓瞽h(huán)(例如，參照專利文獻(xiàn)3、4)。對(duì)于專利文獻(xiàn)I?4所示的公差環(huán)，隆起接觸表面或波形形狀的突出部分壓接于滑架205或樞軸207中的任一方的側(cè)面，從而對(duì)滑架205與樞軸207之間進(jìn)行固定。
[0006]在先技術(shù)文獻(xiàn)
[0007]專利文獻(xiàn)
[0008]專利文獻(xiàn)1:日本特開平5-205413號(hào)公報(bào)
[0009]專利文獻(xiàn)2:日本特開2003-522912號(hào)公報(bào)
[0010]專利文獻(xiàn)3:日本特開2002-130310號(hào)公報(bào)
[0011]專利文獻(xiàn)4:日本特開2007-305268號(hào)公報(bào)
發(fā)明概要
[0012]發(fā)明要解決的課題
[0013]專利文獻(xiàn)I?4所示的現(xiàn)有的公差環(huán)的沿著環(huán)繞方向的形狀能夠呈與滑架側(cè)的開口大致相等的大致圓形地彈性變形。然而，實(shí)際上，從組裝時(shí)的操作方面考慮，需要公差環(huán)保持在滑架內(nèi)，因此公差環(huán)的曲率半徑設(shè)計(jì)得比滑架的開口的曲率半徑大。另外，從制造方面考慮，公差環(huán)的端部側(cè)打開，公差環(huán)的端部的曲率半徑有時(shí)比滑架的開口的曲率半徑大。由此，當(dāng)插入滑架的開口時(shí)，彈性變形后的公差環(huán)的沿著環(huán)繞方向的形狀呈橢圓形狀。此時(shí)，橢圓的長(zhǎng)徑比滑架的開口的直徑大，擔(dān)心在將公差環(huán)插入滑架的開口時(shí)擦傷滑架的側(cè)面。其結(jié)果是，公差環(huán)擦傷滑架的孔的內(nèi)部，存在成為污染物的產(chǎn)生原因的問題。另外，橢圓的短徑減小為相對(duì)于樞軸的半徑的壓入量以上，因此存在難以向公差環(huán)的內(nèi)部壓入樞軸這樣的問題。
[0014]
【發(fā)明內(nèi)容】

[0015]本發(fā)明鑒于上述情況而完成，其目的在于提供一種能夠?qū)喝雽?duì)象容易地壓入、且還能夠抑制污染物的產(chǎn)生的公差環(huán)及公差環(huán)的制造方法。
[0016]解決方案
[0017]為了解決上述課題而達(dá)成目的，本發(fā)明所涉及的公差環(huán)是呈沿著規(guī)定方向大致環(huán)繞一周的環(huán)狀且設(shè)有多個(gè)凸部的公差環(huán)，其特征在于，環(huán)繞方向上的端部的曲率半徑比所述環(huán)繞方向上的除所述端部以外的部分的曲率半徑小。
[0018]另外，本發(fā)明所涉及的公差環(huán)在上述發(fā)明的基礎(chǔ)上，其特征在于，曲率半徑隨著從除所述端部以外的部分朝向所述端部的方向而連續(xù)性地變小。
[0019]另外，本發(fā)明所涉及的公差環(huán)在上述發(fā)明的基礎(chǔ)上，其特征在于，所述多個(gè)凸部沿著所述環(huán)繞方向配置，沿著所述環(huán)繞方向配置的所述凸部中的、配置成一列的所述凸部的個(gè)數(shù)為偶數(shù)。
[0020]另外，本發(fā)明所涉及的公差環(huán)在上述發(fā)明的基礎(chǔ)上，其特征在于，所述配置成一列的所述凸部的個(gè)數(shù)為3的倍數(shù)。
[0021]另外，本發(fā)明所涉及的公差環(huán)的制造方法是配置于插入對(duì)象的構(gòu)件之間且對(duì)該構(gòu)件之間進(jìn)行固定的公差環(huán)的制造方法，其特征在于，所述公差環(huán)的制造方法包括:外形塑造步驟，在該外形塑造步驟中，通過將依次傳送的帶狀的母材塑造成由支承座連結(jié)的外形來成形基材的外形；成形步驟，在該成形步驟中，對(duì)于由所述外形塑造步驟成形出的基材成形凸部；彎曲步驟，在該彎曲步驟中，以成形有所述凸部的所述基材的環(huán)繞方向上的端部的曲率半徑比除所述端部以外的部分的曲率半徑小的方式使所述基材階段性地彎曲；修整步驟，在該修整步驟中，將由所述彎曲步驟進(jìn)行了彎曲的所述基材從所述支承座切落并對(duì)該公差環(huán)進(jìn)行修整。
[0022]發(fā)明效果
[0023]本發(fā)明所涉及的公差環(huán)及公差環(huán)的制造方法中，環(huán)繞方向上的兩端部的曲率半徑與滑架的連結(jié)部的開口的曲率半徑相等，環(huán)繞方向上的除兩端部以外的部分的曲率半徑比滑架的連結(jié)部的開口的曲率半徑大，因此能夠?qū)喝雽?duì)象容易地壓入，從而起到抑制污染物的產(chǎn)生這樣的效果。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0024]圖1是表示本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的硬盤裝置的概要結(jié)構(gòu)的立體圖。
[0025]圖2是表示圖1所示的硬盤裝置的主要部分的結(jié)構(gòu)的局部剖視圖。
[0026]圖3是表示圖1所示的硬盤裝置的主要部分的結(jié)構(gòu)的立體圖。
[0027]圖4是表示圖1所示的硬盤裝置的公差環(huán)的結(jié)構(gòu)的立體圖。
[0028]圖5是表示圖1所示的硬盤裝置的公差環(huán)的結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。
[0029]圖6是表示圖1所示的硬盤裝置的公差環(huán)的結(jié)構(gòu)的示意圖。[0030]圖7是表示本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的公差環(huán)的制造方法的一例的流程圖。
[0031]圖8是用于說明圖7所不的制造工序的不意圖。
[0032]圖9是用于說明圖7所不的制造工序的不意圖。
[0033]圖10是用于說明圖7所不的制造工序的不意圖。
[0034]圖11是用于說明圖7所示的制造工序的示意圖。
[0035]圖12是用于說明圖7所示的制造工序的示意圖。
[0036]圖13是表示本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的公差環(huán)的制造方法的示意圖。
[0037]圖14是表示現(xiàn)有的硬盤裝置的概要結(jié)構(gòu)的立體圖。
【具體實(shí)施方式】
[0038]以下，參照附圖對(duì)用于實(shí)施本發(fā)明的方式進(jìn)行詳細(xì)的說明。需要說明的是，本發(fā)明并不受以下的實(shí)施方式限定。另外，在以下的說明中參照的各圖只不過是在能夠理解本發(fā)明的內(nèi)容的程度下概要地示出形狀、大小、及位置關(guān)系。即，本發(fā)明并不僅是限定于在各圖中例示出的形狀、大小、及位置關(guān)系。需要說明的是，在以下的說明中，作為公差環(huán)的例子對(duì)硬盤裝置進(jìn)行說明。
[0039]圖1是表示本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的硬盤裝置的概要結(jié)構(gòu)的立體圖。圖1所示的硬盤裝置I在外殼主體2內(nèi)收納有驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)具有:作為記錄媒介的硬盤3、驅(qū)動(dòng)硬盤3旋轉(zhuǎn)的主軸4、支承進(jìn)行向硬盤3的信息記錄及信息讀出的磁頭部50且在硬盤3的表面上進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)的滑架5、使滑架5精密地轉(zhuǎn)動(dòng)而控制磁頭部50的掃描的VCM6、固定于外殼主體2且將滑架5連結(jié)的柱狀的樞軸7。需要說明的是，樞軸7呈例如大致柱狀，且具有軸承的結(jié)構(gòu)。
[0040]圖2是表示圖1所示的硬盤裝置I的主要部分的結(jié)構(gòu)的局部剖視圖。圖3是表示圖1所示的硬盤裝置I的主要部分的結(jié)構(gòu)的立體圖?；?具有:在硬盤3的表面上延伸且由前端保持磁頭部50的臂51 ;與樞軸7連結(jié)且具有剖面直徑比樞軸7的剖面的直徑略大的柱狀的中空空間的連結(jié)部52。如圖2所示，磁頭部50具有:借助由硬盤3的旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的空氣流而浮在硬盤3的表面上的懸架50a ;設(shè)于懸架50a的端部的、與臂51相連一側(cè)的不同側(cè)的端部且進(jìn)行信息記錄及信息讀出的磁頭50b。
[0041]VCM6具有與臂51側(cè)的不同端部側(cè)連結(jié)的線圈60和將線圈60夾在中間的兩個(gè)磁鐵61。VCM6利用由在線圈60中流動(dòng)的電流與磁場(chǎng)產(chǎn)生的力來驅(qū)動(dòng)滑架5。由此，滑架5借助來自VCM6的動(dòng)力而以樞軸7的中心為中心軸在硬盤3的表面上轉(zhuǎn)動(dòng)，并使磁頭部50在硬盤3的表面上轉(zhuǎn)動(dòng)。
[0042]此時(shí)，滑架5與樞軸7之間的固定使用有公差環(huán)8。公差環(huán)8插入滑架5的連結(jié)部52的中空空間，通過向內(nèi)部壓入樞軸7來對(duì)滑架5與樞軸7之間進(jìn)行固定。此時(shí)，滑架5以繞作為軸承的樞軸7的長(zhǎng)邊方向的中心軸轉(zhuǎn)動(dòng)自如的方式固定。滑架5固定于樞軸7，由此防止基于VCM6的滑架5的轉(zhuǎn)動(dòng)所涉及的動(dòng)力傳遞到外殼主體2。
[0043]圖4是表示公差環(huán)的結(jié)構(gòu)的立體圖。圖5是表示公差環(huán)的結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。如圖4、5所示，公差環(huán)8使用板狀的不銹鋼而形成，呈沿著規(guī)定方向大致環(huán)繞一周的環(huán)狀，并設(shè)有多個(gè)凸部81。凸部81在公差環(huán)8的外表面朝徑向呈大致矩形形狀地突出。另外，各凸部81沿著公差環(huán)8的環(huán)繞方向而設(shè)有兩列。公差環(huán)8在插入滑架5側(cè)的開口之后，向公差環(huán)8的內(nèi)部壓入樞軸7。此時(shí)，凸部81壓接于滑架5的連結(jié)部52的內(nèi)部壁面，從而對(duì)滑架5與樞軸7之間進(jìn)行固定。需要說明的是，公差環(huán)8的環(huán)繞方向的長(zhǎng)度優(yōu)選與連結(jié)部52的開口的外周的長(zhǎng)度相等。
[0044]另外，公差環(huán)8如圖5所示的側(cè)視圖那樣，環(huán)繞方向上的端部82、83的曲率半徑與環(huán)繞方向上的除端部82、83以外的部分的曲率半徑的值不同。具體地說，環(huán)繞方向上的端部82、83的曲率半徑與滑架5的連結(jié)部52的曲率半徑相等。另外，環(huán)繞方向上的除端部82,83以外的部分的曲率半徑比滑架5的連結(jié)部52的曲率半徑大。在圖5中，虛線Ptl表示環(huán)繞方向上的除端部82、83以外的部分的曲率半徑的圓形狀。由此，當(dāng)公差環(huán)8插入滑架5的連結(jié)部52時(shí)，在開口的端部82、83關(guān)閉的情況下，沿著環(huán)繞方向的形狀能夠呈與連結(jié)部52的曲率半徑大致相等的曲率半徑的圓形。在此，公差環(huán)8以曲率半徑隨著從除端部82、83以外的部分朝向端部82、83的方向而連續(xù)性地變小的方式彎曲。
[0045]圖6是將本實(shí)施方式所涉及的硬盤裝置I的公差環(huán)8在環(huán)繞方向上拉長(zhǎng)的示意圖。在本實(shí)施方式中，對(duì)在一列配置有12個(gè)凸部81的情況進(jìn)行說明。如圖6所示，公差環(huán)8的凸部81沿著主面的長(zhǎng)邊方向而排列為兩列。配置為一列的凸部81的數(shù)量為偶數(shù)，且配置為成為3的倍數(shù)的個(gè)數(shù)。通過將凸部81均等地配置為偶數(shù)個(gè)，在制作公差環(huán)8時(shí)，沿著環(huán)繞方向而在一分為二的位置不配置凸部81，因此能夠容易地彎曲，容易地制成為所希望的R形狀。另外，通過將凸部81配置為3的倍數(shù)個(gè)，與抵接側(cè)面以呈120°對(duì)稱的方式接觸，從而使施加于連結(jié)部52的側(cè)面的負(fù)載大致均勻，能夠高精度地維持軸承的動(dòng)作效率。另一方面，當(dāng)沿著環(huán)繞方向而在一份為二的位置配置凸部時(shí)(配置成一列的凸部81的數(shù)量為奇數(shù)個(gè))，位于彎曲部分的凸部的區(qū)域的剛性變高，在彎曲方向的相反方向的反作用力的作用下產(chǎn)生回彈，因此難以形成為所希望的R形狀。
[0046]根據(jù)上述的本實(shí)施方式所涉及的公差環(huán)8，周向上的端部82、83的曲率半徑與滑架5的連結(jié)部52的曲率半徑相等，周向上的除端部82、83以外的部分的曲率半徑比滑架5的連結(jié)部52的曲率半徑大，因此當(dāng)向滑架5的連結(jié)部52插入時(shí)，公差環(huán)8保持于連結(jié)部52內(nèi)部，并且能夠?qū)⒐瞽h(huán)8的環(huán)繞方向的形狀設(shè)為沿著連結(jié)部52的壁面的圓形。因此，當(dāng)將公差環(huán)8插入滑架5的連結(jié)部52時(shí)，能夠在不損傷連結(jié)部52的壁面的前提下插入。因此，能夠抑制因公差環(huán)插入而導(dǎo)致的污染物的產(chǎn)生。
[0047]另外，對(duì)于現(xiàn)有的公差環(huán)，當(dāng)向連結(jié)部插入時(shí)沿著環(huán)繞方向的形狀呈橢圓形狀，因此在將樞軸等壓入公差環(huán)內(nèi)部的情況下，樞軸的側(cè)面與公差環(huán)的橢圓形狀的短徑側(cè)的外緣接觸，公差環(huán)的外緣及/或樞軸的側(cè)面發(fā)生損傷，可能成為污染物的產(chǎn)生原因。然而，本實(shí)施方式所涉及的公差環(huán)中，沿著環(huán)繞方向的形狀呈沿著連結(jié)部52的壁面的圓形，因此當(dāng)向連結(jié)部52插入時(shí)，能夠在不損傷連結(jié)部52的壁面的前提下插入。另外，當(dāng)壓入樞軸7時(shí)，能夠在不損傷公差環(huán)8的內(nèi)周面及/或樞軸的側(cè)面的前提下壓入樞軸。因此，能夠抑制因公差環(huán)而導(dǎo)致的污染物的產(chǎn)生。
[0048]如上所述，本實(shí)施方式所涉及的公差環(huán)8能夠?qū)休S7容易地壓入公差環(huán)8內(nèi)部，并且借助凸部81的相對(duì)于連結(jié)部52的壁面的壓接而對(duì)滑架5與樞軸7之間可靠地進(jìn)行固定。
[0049]需要說明的是，雖然對(duì)上述的公差環(huán)8的配置成一列的凸部81的個(gè)數(shù)為偶數(shù)且成為3的倍數(shù)的整數(shù)個(gè)的情況進(jìn)行了說明，但也可以是僅設(shè)為偶數(shù)的條件的個(gè)數(shù)。雖然對(duì)凸部81的形狀從外表面呈大致矩形狀地突出的情況進(jìn)行了說明，但只要是滿足上述的個(gè)數(shù)且能夠固定構(gòu)件間的形狀，也可以是突出方向的外緣形狀呈大致圓形，也可以是從外表面的突出區(qū)域的外緣形狀呈大致圓形。另外，雖然對(duì)凸部81沿著公差環(huán)8的環(huán)繞方向設(shè)為兩列的情況進(jìn)行了說明，但并不局限于此，也可以設(shè)為一列或多列。
[0050]另外，雖然對(duì)上述的公差環(huán)以曲率半徑隨著從除端部以外的部分朝向端部82、83的方向而連續(xù)性地(多階段性地)變小的方式彎曲的情況進(jìn)行了說明，但也可以是端部的曲率半徑與除端部以外的部分的曲率半徑分兩階段彎曲。
[0051]圖7是表示本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的公差環(huán)的制造方法的一例的流程圖。圖8?12是用于說明圖7所示的制造工序的示意圖。首先，通過沖壓對(duì)呈平板狀地延伸的母材100進(jìn)行外形塑造處理(步驟S102:外形塑造工序)。如圖8所示，利用該外形塑造處理來塑造公差環(huán)8的外形(外緣)，從而成形呈公差環(huán)8的外形的基材84。需要說明的是，由于防止基材84從母材100脫離，因此利用支承座101來維持基材84與母材100之間的連結(jié)狀態(tài)。
[0052]接著，對(duì)在步驟102成形出的基材84進(jìn)行凸部81的成形處理(步驟S104:成形工序)。如圖9所示，通過沖壓在上述的位置分別成形凸部81。此時(shí)，凸部81以在附圖中朝向紙面里側(cè)突出的方式成形。
[0053]接著，對(duì)在步驟S104中成形有凸部81的基材84進(jìn)行彎曲處理(步驟S106:彎曲工序)。圖11是從向視A方向觀察圖10所示的基材84的示意圖。在該彎曲工序中，從兩端側(cè)沿著基材84的主面的長(zhǎng)邊方向而以凸部81成為外表面?zhèn)鹊姆绞诫A段性地使基材84彎曲，使環(huán)繞方向上的端部82、83的曲率半徑成形得比環(huán)繞方向上的除端部82、83以外的部分的曲率半徑小(參照?qǐng)D10、11)。此時(shí)，基材84優(yōu)選以曲率半徑隨著從除端部82、83以外的部分朝向端部82、83的方向而連續(xù)性地(多階段性地)變小的方式彎曲。
[0054]當(dāng)基于步驟S106的彎曲工序結(jié)束時(shí)，進(jìn)行修整處理(步驟S108:修整工序)。如圖11所示，通過從支承座101切落基材84，能夠獲得公差環(huán)8。需要說明的是，也可以在修整處理后，對(duì)獲得的公差環(huán)8的凸部81進(jìn)行負(fù)載最大使用應(yīng)力以上的應(yīng)力的處理(預(yù)應(yīng)力處理)。另外，預(yù)應(yīng)力處理優(yōu)選在步驟S104的凸部81的成形處理、步驟S106的彎曲處理之間且基材84彎曲之前的狀態(tài)下實(shí)施。
[0055]上述的公差環(huán)8的制造方法能夠通過對(duì)呈圖13所示那樣的帶狀地延伸的母材100依次實(shí)施上述工序的順序沖壓來實(shí)現(xiàn)。由此，能夠使用一個(gè)裝置來高效地制作公差環(huán)8。
[0056]產(chǎn)業(yè)上的可利用性
[0057]如上所述，本發(fā)明所涉及的公差環(huán)及公差環(huán)的制造方法對(duì)于能夠?qū)喝雽?duì)象容易地壓入、且抑制污染物的產(chǎn)生是有用的。
[0058]附圖標(biāo)記說明如下:
[0059]1、200 硬盤裝置
[0060]2、2OI 外殼主體
[0061]3,202 硬盤
[0062]4>203 主軸
[0063]5、205 滑架
[0064]6、206 VCM[0065]7、207樞軸
[0066]8公差環(huán)
[0067]50磁頭部
[0068]50a懸架
[0069]50b、204磁頭
[0070]51臂
[0071]52連結(jié)部
[0072]60線圈
[0073]61磁鐵
[0074]81凸部
[0075]82、83端部
[0076]100母材
[0077]101支承座。`
【權(quán)利要求】
1.一種公差環(huán)，該公差環(huán)呈沿著規(guī)定方向大致環(huán)繞一周的環(huán)狀，且設(shè)有多個(gè)凸部，其特征在于， 環(huán)繞方向上的端部的曲率半徑比所述環(huán)繞方向上的除所述端部以外的部分的曲率半徑小。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的公差環(huán)，其特征在于， 曲率半徑隨著從除所述端部以外的部分朝向所述端部的方向而連續(xù)性地變小。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的公差環(huán)，其特征在于， 所述多個(gè)凸部沿著所述環(huán)繞方向配置， 沿著所述環(huán)繞方向配置的所述凸部中的、配置成一列的所述凸部的個(gè)數(shù)為偶數(shù)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的公差環(huán)，其特征在于， 配置成所述一列的所述凸部的個(gè)數(shù)為3的倍數(shù)。
5.一種公差環(huán)的制造方法，該公差環(huán)的制造方法是配置于插入對(duì)象的構(gòu)件之間且對(duì)該構(gòu)件之間進(jìn)行固定的公差環(huán)的制造方法，其特征在于， 所述公差環(huán)的制造方法包括: 外形塑造步驟，在該外形塑造步驟中，通過將依次傳送的帶狀的母材塑造成由支承座連結(jié)的該公差環(huán)的外形來成形基材； 成形步驟，在該成形步驟中，對(duì)于由所述外形塑造步驟成形出的基材成形凸部； 彎曲步驟，在該彎曲步驟中，以成形有所述凸部的所述基材的環(huán)繞方向上的端部的曲率半徑比除所述端部以外的部分的曲率半徑小的方式使所述基材階段性地彎曲； 修整步驟，在該修整步驟中，將由所述彎曲步驟進(jìn)行了彎曲的所述基材從所述支承座切落并對(duì)該公差環(huán)進(jìn)行修整。
【文檔編號(hào)】G11B21/02GK103492734SQ201280019776
【公開日】2014年1月1日 申請(qǐng)日期:2012年4月20日 優(yōu)先權(quán)日:2011年4月22日
【發(fā)明者】田島典拓, 平間道信, 舌間淳 申請(qǐng)人:日本發(fā)條株式會(huì)社